JP2010538145A - 明確なイソプレンおよびブタジエンの中間ブロックを有するブロックコポリマー、これを製造する方法、およびかかるブロックコポリマーの使用 - Google Patents
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Abstract
Description
A−I−B−I−A (1)または(A−I−B)n−X (2)
による分子構造を有する。
(a)I対Bの重量比は、30:70から70:30の範囲内であり;
(b)ブロックコポリマーの芳香族ビニル化合物含有量は、約14から約45%であり;
(c)Bブロックは、約20から約90モル%の範囲内の1,2−ビニル結合含有量を有し;
(d)Aブロックは、約5,000から約20,000の範囲内の見掛けの分子量を有し、IおよびBブロックは一緒に、約50,000から約200,000の範囲内の分子量を有する;
(e)カップリングされていないトリブロック、S−I−Bは約2%から約60%の範囲内である。
A−I−B−I−A (1)
または
(A−I−B)n−X (2)
上式において、各Aは独立に主に芳香族ビニル化合物のポリマーブロックであり、各Iは主にイソプレンのポリマーブロックであり、各Bは主にブタジエンである。さらに、nは2以上の整数、好ましくは約2から4であり、Xはカップリング剤の残基である。さらなる実施形態において、nは2、3または4である。イソプレンおよびブタジエンの間の重量比は約20:80から約80:20、好ましくは約30:70から約70:30の範囲内である。
RLin
の有機リチウム化合物であり、式中、Rは1から約20個の炭素原子を有する脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基またはアルキル置換芳香族炭化水素基であり、これらの中ではsec−ブチルが好ましく、nは1から4の整数である。有機リチウム開始剤は、これらの高められた温度における増大された安定性の故に、比較的高い温度における重合のために好ましい。
(a)本明細書において先に定義された式(I)または(2)のエラストマーブロックコポリマー;
(b)成分(a)および(b)の総重量に対して約1から約60重量%の1つ以上のエチレン性不飽和化合物;
(c)光硬化性組成物の総重量に対して約0.1から約10重量%の1つ以上の光開始剤または光開始剤系;および
(d)総光硬化性組成物に対して0から約40重量%の1つ以上の補助剤。
Claims (24)
- 一般式
A−I−B−I−A (1)または(A−I−B)n−X (2)
による分子構造を含み、式中、各Aは独立に主に芳香族ビニル化合物のポリマーブロックであり、各Iは主にイソプレンであり、各Bは主にブタジエンであり、nは2以上の整数であり、Xはカップリング剤の残基であり、ここで、
(i)I対Bの重量比は、30:70から70:30の範囲内であり;
(ii)ブロックコポリマーの芳香族ビニル化合物含有量は、14から45重量%であり;
(iii)Bブロックは、20から90モル%の範囲内の1,2−ビニル結合含有量を有し;
(iv)Aブロックは、5,000から20,000の範囲内の見掛けの分子量を有し、ならびにIおよびBブロックは一緒に、50,000から200,000の範囲内の見掛けの分子量を有し;ならびに
(v)(A−I−B)n−Xのカップリング効率は40%から98%の範囲である
エラストマーブロックコポリマー。 - 芳香族ビニル化合物が、主にポリスチレンである、請求項1のエラストマーブロックコポリマー。
- 1,2−ビニル結合含有量が、30から60モル%の範囲内である、請求項2のエラストマーブロックコポリマー。
- 1,2−ビニル結合含有量が、40モル%を超える、請求項2のエラストマーブロックコポリマー。
- IおよびBブロックが一緒に、75,000から200,000の範囲内の見掛けの分子量を有する、請求項2のエラストマーブロックコポリマー。
- ポリスチレン含有量が、14から25%である、請求項2のエラストマーブロックコポリマー。
- Aブロックの真の分子量が、5,000から18,000である、請求項2のエラストマーブロックコポリマー。
- (a) 一般式:
A−I−B−I−A (1)または(A−I−B)n−X (2)
による分子構造を含み、式中、各Aは独立に主に芳香族ビニル化合物のポリマーブロックであり、各Iは主にイソプレンであり、各Bは主にブタジエンであり、nは2以上の整数であり、ならびにXはカップリング剤の残基であり、ここで、
(i)I対Bの重量比は、30:70から70:30の範囲内であり;
(ii)ブロックコポリマーの芳香族ビニル化合物含有量は、14から45%であり;
(iii)Bブロックは、20から90モル%の範囲内の1,2−ビニル結合含有量を有し;
(iv)Aブロックは、5,000から20,000の範囲内の見掛けの分子量を有し、ならびにIおよびBブロックは一緒に考えて、50,000から20,000の範囲内の分子量を有し;
(v)(A−I−B)n−Xのカップリング効率は40%から98%の範囲である
エラストマーブロックコポリマー;
(b)不飽和化合物の重量に対して1から60重量%;
(c)成分(a)および(b)の重量に対して0.1から10重量%の、1つ以上の光開始剤または光開始剤系の1つ以上のエチレン性の総光硬化性組成物;および
(d)総光硬化性化合物に対して0から40重量%の1つ以上の補助剤
を含む光硬化性組成物。 - 請求項8に記載の光硬化性組成物から誘導される、フレキソ印刷版。
- 成分(a)が、成分(a)および(b)の合計重量に対して20から98.9重量%である、請求項8の光硬化性組成物。
- 成分(a)が、成分(a)および(b)の合計重量に対して少なくとも40重量%である、請求項8の光硬化性組成物。
- トリブロック含有量が、成分(a)および(b)の重量に対して最大で40%の含有量において生じる、請求項8の光硬化性組成物。
- エラストマーブロックコポリマーの芳香族ビニル化合物が、主に芳香族ビニル化合物である、請求項8の光硬化性組成物。
- エラストマーブロックコポリマーの1,2−ビニル結合含有量が、30から60モル%の範囲内である、請求項8の光硬化性組成物。
- エラストマーブロックコポリマーの1,2−ビニル結合含有量が、40モル%を超える、請求項8の光硬化性組成物。
- エラストマーブロックコポリマーのIおよびBブロックが一緒に、75,000から150,000の範囲内の見掛けの分子量を有する、請求項8の光硬化性組成物。
- エラストマーブロックコポリマーの芳香族ビニル含有量が、14から25%である、請求項8の光硬化性ブロックコポリマー。
- エラストマーブロックコポリマーのAブロックの真の分子量が、8,000から18,000である、請求項8の光硬化性ブロックコポリマー。
- 光硬化性組成物から誘導されるフレキソ印刷版であって、支持体層、
(a)成分(a)および(b)の重量に対して、20から98.0重量%の
一般式:
A−I−B−I−A (1)または(A−I−B)n−X (2)
による分子構造を含み、式中、各Aは独立に芳香族ビニル化合物のポリマーブロックであり、各Iは主にイソプレンであり、各Bは主にブタジエンであり、nは2以上の整数であり、ならびにXはカップリング剤の残基であり、ここで、
(i)I対Bの重量比は、30:70から70:30の範囲内であり;
(ii)ブロックコポリマーの芳香族ビニル含有量は、14から45%であり;
(iii)Bブロックは、20から90モル%の範囲内の1,2−ビニル結合含有量を有し;
(iv)Aブロックは、5,000から20,000の範囲内の見掛け分子量を有し、ならびにIおよびBブロックは一緒に、50,000から20,000の範囲内の分子量を有し;
(v)(A−I−B)n−Xのカップリング効率は40%から98%の範囲である
1つ以上のエラストマーブロックコポリマー、
(b)成分(a)および(b)の重量に対して1から60重量%の1つ以上のエチレン性不飽和化合物;
(c)光硬化性組成物の全重量に対して0.1から10重量%の1つ以上の光開始剤または光開始剤系;
(d)総光重合性組成物に対して0から40重量%の1つ以上の補助剤
を含む1つ以上の光硬化性層を含む、
前記フレキソ印刷版。 - 成分(a)が、成分(a)および(b)の重量の20から98.9%である、請求項19のフレキソ印刷版。
- 成分(a)が、成分(a)および(b)の重量に対して少なくとも40%である、請求項19のフレキソ印刷版。
- 一般式:
A−I−B−I−A (1)または(A−I−B)n−X (2)
を有し、式中、各Aは独立に主に芳香族ビニル化合物のポリマーブロックであり、各Iは主にイソプレンであり、各Bは主にブタジエンであり、nは2以上の整数であり、ならびにXはカップリング剤の残基であり、ここで、
(i)I対Bの重量比は、30:70から70:30の範囲内であり;
(ii)ブロックコポリマーの芳香族ビニル化合物含有量は、14から45重量%であり;
(iii)Bブロックは、20から90モル%の範囲内の1,2−ビニル結合含有量を有し;
(iv)Aブロックは5,000から20,000の範囲内の見掛けの分子量を有し、ならびにIおよびBブロックは一緒に、50,000から200,000の範囲内の分子量を有し;
(v)(A−I−B)n−Xのカップリング効率は40%から98%の範囲である
放射線感受性ブロックコポリマーを含む接着剤組成物。 - ホットメルト接着剤である、請求項22の接着剤組成物。
- 感圧接着剤である、請求項22の接着剤組成物。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US11/849,896 | 2007-09-04 | ||
| US11/849,896 US7704676B2 (en) | 2007-09-04 | 2007-09-04 | Block copolymers having distinct isoprene and butadiene midblocks, method for making same, and uses for such block copolymers |
| PCT/US2008/073144 WO2009032501A2 (en) | 2007-09-04 | 2008-08-14 | Block copolymers having distinct isoprene and butadiene midblocks, method for making same, and uses for such block copolymers |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010538145A true JP2010538145A (ja) | 2010-12-09 |
| JP5168606B2 JP5168606B2 (ja) | 2013-03-21 |
Family
ID=40408511
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010524083A Active JP5168606B2 (ja) | 2007-09-04 | 2008-08-14 | 明確なイソプレンおよびブタジエンの中間ブロックを有するブロックコポリマー、これを製造する方法、およびかかるブロックコポリマーの使用 |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7704676B2 (ja) |
| EP (1) | EP2195381B1 (ja) |
| JP (1) | JP5168606B2 (ja) |
| KR (1) | KR101176279B1 (ja) |
| CN (1) | CN101796130A (ja) |
| BR (1) | BRPI0816918A2 (ja) |
| ES (1) | ES2532009T3 (ja) |
| MX (1) | MX2010002161A (ja) |
| TW (1) | TWI477550B (ja) |
| WO (1) | WO2009032501A2 (ja) |
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2007
- 2007-09-04 US US11/849,896 patent/US7704676B2/en active Active
-
2008
- 2008-08-14 CN CN200880105507A patent/CN101796130A/zh active Pending
- 2008-08-14 KR KR1020107004797A patent/KR101176279B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2008-08-14 MX MX2010002161A patent/MX2010002161A/es active IP Right Grant
- 2008-08-14 BR BRPI0816918 patent/BRPI0816918A2/pt not_active Application Discontinuation
- 2008-08-14 WO PCT/US2008/073144 patent/WO2009032501A2/en not_active Ceased
- 2008-08-14 ES ES08829746.0T patent/ES2532009T3/es active Active
- 2008-08-14 EP EP08829746.0A patent/EP2195381B1/en active Active
- 2008-08-14 JP JP2010524083A patent/JP5168606B2/ja active Active
- 2008-08-25 TW TW097132398A patent/TWI477550B/zh active
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR101176279B1 (ko) | 2012-08-22 |
| EP2195381A4 (en) | 2010-11-10 |
| ES2532009T3 (es) | 2015-03-23 |
| TW200920786A (en) | 2009-05-16 |
| EP2195381A2 (en) | 2010-06-16 |
| WO2009032501A2 (en) | 2009-03-12 |
| TWI477550B (zh) | 2015-03-21 |
| JP5168606B2 (ja) | 2013-03-21 |
| MX2010002161A (es) | 2010-03-22 |
| KR20100053605A (ko) | 2010-05-20 |
| EP2195381B1 (en) | 2015-01-28 |
| US20090062420A1 (en) | 2009-03-05 |
| CN101796130A (zh) | 2010-08-04 |
| BRPI0816918A2 (pt) | 2015-03-17 |
| US7704676B2 (en) | 2010-04-27 |
| WO2009032501A3 (en) | 2009-09-03 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A521 | Request for written amendment filed |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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