JP2010535779A - 光活性組成物中の発色団含有有機分子の電子的励起をクエンチする方法 - Google Patents

Abstract

【課題】
【解決手段】 ＵＶ吸収分子からの電子的励起状態エネルギー（特に、一重項状態エネルギー）の光安定化は、化学式（Ｉ）および（Ｖ）のα−シアノジフェニルアクリル酸化合物に容易に移動する（によって受け入れられる）ことが、分かっている。前記α−シアノジフェニルアクリル酸化合物はアルコキシラジカルを有し、前記アルコキシラジカルは好適には、前記フェニル環の１つまたは両方の上の４（パラ）位置（本明細書中以下メトキシクリレン）にある。（Ｉ）ここで、Ｒ₁およびＲ₂のうちの少なくとも１つは直鎖または分枝鎖Ｃ₁−Ｃ₁₂アルコキシラジカル、好適にはＣ₁−Ｃ₈、より好適にはＣ₁−Ｃ₄、および最も好適にはメトキシであり、任意の非アルコキシラジカルＲ₁またはＲ₂は水素であり、Ｒ₃は直鎖または分枝鎖Ｃ₁−Ｃ_2,4アルキルラジカル、好適にはＣ₁₂−Ｃ_2,4、より好適にはＣ₂₀（ＩＩ）であり、ＡおよびＢは同一であるかまたは異なり、酸素、アミノおよび硫黄からなる群から選択され、Ｒ¹およびＲ³は同一であるかまたは異なり、Ｃ₁−Ｃ_3Oアルキル、Ｃ₂−Ｃ₃₀アルキレン、Ｃ₂−Ｃ₃₀アルキン、Ｃ₃−Ｃ₈シクロアルキル、Ｃ₁−Ｃ_3O置換アルキレン、Ｃ₂−Ｃ₃₀置換アルキン、アリール、置換アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクロアルキル、置換ヘテロアリールおよび置換ヘテロシクロアルキルからなる群から選択され、Ｒ²は、Ｃ₁−Ｃ₃₀アルキル、Ｃ₂−Ｃ₃₀アルキレン、Ｃ₂Ｃ₃₀アルキン、Ｃ₃−Ｃ₈シクロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₃₀置換アルキル、Ｃ₃−Ｃ₈置換シクロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₃₀置換アルキレン、Ｃ₂−Ｃ₃₀置換アルキンからなる群から選択され、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶およびＲ⁷は同一であるかまたは異なり、分岐上のＣ₁−Ｃ₃₀アルコキシ直鎖からなる群から選択され、ａ、ｂ、ｃおよびｄはそれぞれ、０または１のいずれかであり、ａ、ｂ、ｃおよびｄは合計で１、２、３、または４である。
【選択図】図１

Description

本発明は、光活性組成物中の発色団含有ＵＶ吸収有機分子の電子的励起状態（単数または複数）をクエンチする方法に関する。より詳細には、アルコキシラジカル（好適には、（双方のフェニル環上に交互にある）フェニル環のうちの１つの上のもの）を有するα−シアノ−β，βジフェニルアクリル酸（クリレン）は、励起状態エネルギー（一重項および時には三重項状態）を受け入れることにより発色団の励起状態をクエンチし、これにより前記ＵＶ吸収分子をその基底状態へと戻し、これにより前記発色団が例えば紫外線（ＵＶ）光からより多くの光子を吸収できるようにし、これによりＵＶ吸収発色団含有有機分子（特に、光活性組成物中のブチルメトキシジベンゾイルメタン（アヴォベンゾン）、メトキシケイ皮酸オクチル（オクチノキサート）、およびサリチル酸オクチル（オクチサレート））を光安定化させることが分かっている。

発色団含有有機分子によって紫外線光が吸収されると、発色団部分中の電子が励起して、初期に占有されている低エネルギー軌道から、以前は占有されていない軌道のより高いエネルギーへと変わる。前記吸収された光子のエネルギーにより、電子が活性化され、前記電子はより高いエネルギー軌道に「ジャンプ」する（Ｔｕｒｒｏ、Ｍｏｄｅｒｎ Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、１９９１を参照）。２個の励起電子状態は、ＵＶ光吸収によって生成される電子軌道構成から導出される。１つの状態においては、電子スピンが対をなし（逆平行）、他方の状態においては、電子スピンは不対化される（平行）。対を成したスピン状態ではスピン磁気モーメントは発生しないが、不対スピンの状態ではネットスピン磁気モーメントが発生する。対を成したスピン状態は、磁界の存在下で単一状態のままであり、これは一重項状態と呼ばれる。不対スピンの状態は磁界と相互作用して３つの量子化状態に分裂し、これは三重項状態と呼ばれる。

このような電子的励起状態において、発色団含有有機分子は、多数の公知の経路を介して劣化し易く、そのため、これ以上ＵＶ光をほとんどあるいは全く吸収できなくなる。十分なＵＶ保護を得るために、電子的に励起された発色団含有有機分子を光安定化するために、前記発色団含有有機分子がそのＵＶ吸収能力に対して破壊的な光化学反応を受ける前に、前記発色団含有有機分子を基底状態に戻す必要がある。公知の光安定化日焼け止め添加剤がある（例えば、本譲受人の米国特許第６１１３９３１号、６２８４９１６号、６５１８４５１号、および６５５１６０５号（これら全てをここに参考のため援用する）のオクトクリレン、メチルベンジリデンカンファー、およびナフタレンジカルボン酸のエステルまたはポリエステル）。これらは、励起三重項状態エネルギーをクエンチすることができる。驚くべきことに、アルコキシクリレン（特にメトキシクリレン）は、発色団含有有機分子（特に、ブチルメトキシジベンゾイルメタン（アヴォベンゾン）、メトキシケイ皮酸オクチル（オクチノキサート）およびサリチル酸オクチル（オクチサレート））を、電子励起一重項状態および励起三重項状態からその基底状態へと戻し、これにより前記ＵＶ吸収有機分子を光安定化させることが分かっている。

Ｄｅｆｌａｎｄｒｅの米国第５５７６３５４号は、主にα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリル酸を少なくとも１重量％含む化粧品用日焼け止め組成物を開示している。α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリル酸は、ジベンゾイルメタン誘導体（例えば、Ｐａｒｓｏｌ１７８９（アヴォベンゾン））を光安定化させる（ただし、前記組成物が脂肪相（例えば、グリセロールステアレート、ミリスチン酸イソプロピル等）を含み、かつ、前記ジベンゾイルメタン誘導体に対する前記α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリル酸のモ
ル比が少なくとも０．８である場合）。前記’３５４特許において好適でありかつ例中に開示されている化合物はオクトクリレンであり、オクトクリレンは、アルコキシラジカル（単数または複数）（ＵＶＩＮＵＬＮ５３９）；β，β−ｂｉｓ（４−メトキシフェニル）アクリレート（シアノラジカルは含まない）；および前記α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリル酸（これらは、アルコキシラジカル（単数または複数）を含まない）を含まない。

本譲受人の係属中の出願（シリアル番号１０／２４１３８８号、１０／３６１２２３号および１０／７８６５７９３号）中に記載されているように、α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリル酸化合物（例えば、オクトクリレン）は、励起光活性化合物の励起三重項状態エネルギーを、高速異性化の形態で前記エネルギーを動力学的に散逸させることによりクエンチする（受け入れる）ことが知られている。このプロセスを以下に示す。

前記α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリル酸化合物（構造Ａとして上記に示すオクトクリレン）は、光活性化合物からの三重項励起状態エネルギーを受け入れ、前記アクリレートのαおよびβ位置においてジラジカル（上記において構造Ａ＊として示す）を形成し、その結果二重結合が単一結合に変換され、フェニル基の自由回転が可能となる。この回転は高速に発生し、前記光活性化合物からの前記α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリル酸化合物によって受け入れられた、励起三重項状態エネルギーを全て効率的に散逸させる。

オクトクリレンは光活性化合物からの三重項励起状態エネルギーをクエンチする（受け入れる）ことで、ジベンゾイルメタン誘導体をある程度まで光安定化させる（Ｄｅｆｌａｎｄｒｅらの米国特許第５５７６３５４号の例１、４、６および８に示すような、ここに参考のため援用する）が、光活性組成物の分野において、光活性化合物からの一重項励起状態エネルギーをそして好適には三重項励起状態エネルギーもクエンチする（受け入れる）１つ以上の化合物を発見する必要が存在している。これは、オクトクリレンでは不可能である。

極めて驚くべきことに、アルコキシ置換α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリル酸（アルコキシクリレン）は、ＵＶ吸収化合物と比較してローディングが極めて低い場合でも、ＵＶ吸収有機分子（例えば、米国特許第５５７６３５４号のジベンゾイルメタン誘導体）の電子励起一重項状態エネルギーをクエンチすることが分かっている。

米国特許第６１１３９３１号 米国特許第６２８４９１６号 米国特許第６５１８４５１号 米国特許第６５５１６０５号 米国特許第５５７６３５４号

（要旨）
電子的励起状態エネルギー（特に、ＵＶ吸収分子からの一重項状態エネルギー）の光安定化は、化学式（Ｉ）を有するフェニル環のうちの１つまたは両方の上の４（パラ）位置にあるアルコキシラジカル（本明細書中以下「アルコキシクリレン」）を有するα−シアノジフェニルアクリル酸化合物に容易に移動される（によって受け入れられる）ことが分かっている。

式中、Ｒ₁およびＲ₂のうちの１つまたは両方は、直鎖または分枝鎖Ｃ₁−Ｃ₃₀アルコキシラジカル（好適にはＣ₁−Ｃ₈、より好適にはメトキシ）であり、任意の非アルコキシラジカルＲ₁またはＲ₂は水素であり、Ｒ₃は直鎖または分枝鎖Ｃ₁−Ｃ₃₀アルキルラジカル（好適にはＣ₂−Ｃ₂₀）である。

図１は、例１〜３の日焼け止め組成物（３５ＭＥＤのＵＶ放射により照射）の光安定性を示すグラフである。これらの日焼け止め組成物は、４．５％のオクチルドデシルメトキシクリレン（Ｃ２ＯＭＣ）および２．７５％のオクトクリレン（ＯＣ）によって得られる。これらの日焼け止め組成物は、ＵＶ照射前の光安定性および光安定化剤を含まない組成物と比較されている。 図２は、３５ＭＥＤのＵＶ放射の照射前後の例４の日焼け止め組成物の光安定性を示すグラフである。 図３は、３５ＭＥＤのＵＶ放射の照射前後の例５の日焼け止め組成物の光安定性を示すグラフである。 図４は、３５ＭＥＤのＵＶ放射の照射前後の例６の日焼け止め組成物の光安定性を示すグラフである。 図５は、３５ＭＥＤのＵＶ放射の照射前後の例７の日焼け止め組成物の光安定性を示すグラフである。

（好適な実施形態の詳細な説明）
本明細書中、範囲については、「約」または「およそ」の１つの特定の値からおよび／または「約」または「およそ」の別の特定の値へとして表され得る。このような範囲が表される場合、別の実施形態は、前記１つの特定の値からおよび／または他方の特定の値への範囲を含む。同様に、値を「約」という先行詞によって近似として表す場合、その特定の値は別の実施形態を形成することが理解される。

本明細書中、「アルコキシ」という用語は、化学式Ｏ−Ｒを有するフェニル環の１つまたは両方のパラ配位から延びたラジカルを指す。ここで、Ｒは、１〜３０個の炭素原子を有するアルキルラジカルの直鎖または分枝鎖であり、好適にはＲ＝Ｃ₁〜Ｃ₈であり、より好適にはＣ₂−Ｃ₂₀であり、最も好適には−Ｏ−ＣＨ₃（メトキシ）である。アルコキシラジカルの酸素原子は、好適には化学式（ＩＩ）または（ＩＩＩ）を有するフェニル環の１つまたは両方（好適にはフェニルのうちの１つのみ）のパラ炭素原子に共有結合する。

式中、Ｒ３は、上記において定義した通りである。

「クリレン」という用語は、本明細書中用いられるように、α−シアノ−β，β−ジフェニルプロパン酸エステルを含む発色部分を指す。

「シアノ」という用語は、本明細書中用いられるように、−Ｃ＝Ｎ基（「−ＣＮ」とも示す）を指す。

光活性組成物（例えば、日焼け止め組成物）は一般的には、化粧品用として受け入れることが可能なキャリア中のＵＶ−ＡおよびＵＶ−Ｂ光活性化合物を含み、必要に応じて添加剤（例えば、皮膚軟化剤、安定剤、乳化剤およびその組み合わせ）を含む。これらの添加剤を用いて、１つ以上の光活性化合物を含む組成物および１つ以上の有機溶媒および水を含む溶媒または溶媒の組み合わせとからエマルジョン（水中油型または油中水型）形態のＵＶフィルタ組成物を調製することができる。出来上がり時において、前記エマルジョンは好適には水中油型エマルジョンであり、その油相は主に前記ＵＶフィルタ化合物（単数または複数）および１つ以上の有機溶媒の混合物から形成される。

典型的な光活性組成物は、１つ以上の光活性化合物を含む。これらの光活性化合物において、光活性化合物（単数または複数）は、ＵＶ放射を吸収することで、基質（例えば、
ヒトの皮膚、樹脂、膜）をＵＶ放射の有害な影響から保護するよう機能する。この吸収プロセスに起因して、光活性化合物は励起状態となる。前記励起状態は、前記光活性化合物の基底状態と比較したとき、励起電子エネルギー（例えば、一重項状態エネルギーまたは三重項状態エネルギー）が存在することによって特徴付けられる。光活性化合物が励起状態に達すると、前記励起光活性化合物がその過剰なエネルギー（例えば、一重項および／または三重項エネルギー）を散逸させることが可能な複数の経路が存在する。しかし、これらの経路のうちの多くは、前記光活性化合物がさらにＵＶ放射を吸収する能力に対して悪影響を与える。本明細書中記載のアルコキシクリレン分子は、ＵＶ吸収剤（特にアヴォベンゾン、メトキシケイ皮酸オクチル（オクチノキサート）、およびサリチル酸オクチル（オクチサレート））からの電子的一重項励起状態エネルギーを受け入れる。アルコキシクリレンはまた、日焼け止め組成物中の他のＵＶ吸収化合物をクエンチする電子的一重項状態エネルギーを提供するだけではなく、極めて効果的なＵＶＡ吸収剤でもある。本明細書中記載されるアルコキシクリレン分子は、オキシベンゾンなどの１つ以上のさらなる電子的一重項励起状態クエンチ化合物と組み合わされた場合、特に効果的である。本明細書中記載されるアルコキシクリレン分子を含む日焼け止め組成物がメトキシケイ皮酸オクチルおよびアヴォベンゾンと共に用いられた場合、特に驚くべき光安定化が達成される。

光活性化合物は、光に対して光電的に反応するものである。本明細書中開示される組成物および光安定化方法において、光活性化合物は、ＵＶ放射に光電的に反応するものである。例えば、光活性化合物の光分解性によりＵＶ放射に光電的に応答する光活性化合物含有組成物は全て、本明細書中に記載されるアルコキシクリレン分子を含むことにより、大きな恩恵を受ける。本明細書中記載されるアルコキシクリレンは、Ｓｈａａｔｈ，Ｎａｄｉｍ，Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ ＵＶ ｆｉｌｔｅｒｓ、c２００７（ここに参考のため援用する）中に記載されている任意の単一のまたは組み合わされた光活性化合物と組み合わされると、有用な光安定化剤および／または光活性化合物となる。全てのＵＶフィルタはＵＶ放射に露出されると電子的一重項励起状態となるため、光安定性は全てのＵＶフィルタにとって問題となる。

以下のＵＶフィルタは、本明細書中記載されるアルコキシクリレン分子によって光安定化されると理論化され、以下のもの全てを含み（以下のうち任意の２つ以上の組み合わせを含む）、以下のカテゴリから（具体例と共に）選択された化合物を含む：ｐ−アミノ安息香酸、その塩およびその誘導体（エチル、イソブチル、グリセリルエステル；ｐ−ジメチルアミノ安息香酸）；アントラニル酸塩（ｏ−アミノ安息香酸エステル；メチル、メンチル、フェニル、ベンジル、フェニルエチル、リナリル、テルピニル、およびシクロヘキセニルエステル）；サリチル酸塩（オクチル、アミル、フェニル、ベンジル、メンチル（ホモサレート）、グリセリル、およびジプロピルエネグリコールエステル）；ケイ皮酸誘導体（メンチルおよびベンジルエステル、アルファ−フェニルケイ皮酸ニトリル；ブチルシンナモイルピルベート）；ジヒドロキシケイ皮酸誘導体（ウンベリフェロン、メチルウンベリフェロン、メチルアセト−ウンベリフェロン）；カンファー誘導体（３ベンジルイデン、４メチルベンジルイデン、ポリアクリルアミドメチルベンジルイデン、ベンザルコニウムメトサルフェート、ベンジルイデンカンファースルホン酸、およびテレフタリルイデンジカンフルスルホン酸）；トリヒドロキシケイ皮酸誘導体（エスクレチン、メチルエスクレチン、ダフネチン、およびグルコシド、エスクリンおよびダフニン）；炭化水素（ジフェニルブタジエン、スチルベン）；ジベンザールアセトン；ベンザルアセトフェノン；ナフトールスルホネート（２−ナフトール−３，６−ジスルホンのナトリウム塩および２−ナフトール−６，８−ジスルホン酸のナトリウム塩）；ジヒドロキシ−ナフトエ酸およびその塩；ｏ−およびｐ−ヒドロキシジフェニルジスルホネート；クマリン誘導体（７−ヒドロキシ、７−メチル、３−フェニル）；ジアゾール（２−アセチル−３−ブロモインダゾール、フェニルベンゾオキサゾール、メチルナフトオキサゾール、多様なアリールベンゾチアゾール）；キニーネ塩（重硫酸塩、硫酸塩、塩化物、オレイン酸塩、およびタ
ンニン酸塩）；キノリン誘導体（８−ヒドロキシキノリン塩、２−フェニルキノリン）；ヒドロキシ−またはメトキシ−置換ベンゾフェノン；尿酸誘導体；ビロ尿酸誘導体；タンニン酸およびその誘導体；ハイドロキノン；およびベンゾフェノン（オキシベンゾン、スリソベンゾン、ジオキシベンゾン、ベンゾレソルシノール、オクタベンゾン、４−イソプロピルジベンゾイルメタン、ブチルメトキシジベンゾイルメタン、エトクリレン、および４−イソプロピルジベンゾイルメタン）。

以下のＵＶフィルタは、本明細書中記載されるアルコキシクリレン分子によって特に光安定化されるべきである：２−エチルヘキシルｐ−メトキシケイ皮酸、４，４’−ｔ−ブチルメトキシジベンゾイルメタン、オクチルジメチルｐ−アミノ安息香酸エステル、ジガロイルトリオレエート、エチル４−［ｂｉｓ（ヒドロキシプロピル）］アミノ安息香酸エステル、２−エチルヘキシルサリチル酸塩、グリセロールｐ−アミノ安息香酸エステル、３，３，５−トリメチルシクロヘキシルサリチル酸塩、およびその組み合わせ。

本明細書中開示される光活性組成物は、多様な光活性化合物を含み得、好適には１つ以上のＵＶ−Ａ光活性化合物および１つ以上のＵＶ−Ｂ光活性化合物を含み得る。好適には、日焼け止め組成物は、Ｐ−アミノ安息香酸および塩およびその誘導体；アントラニル酸塩およびその誘導体；ジベンゾイルメタンおよびその誘導体；サリチル酸塩およびその誘導体；ケイ皮酸およびその誘導体；ジヒドロキシケイ皮酸およびその誘導体；カンファーおよび塩およびその誘導体；トリヒドロキシケイ皮酸およびその誘導体；ジベンザールアセトンナフトールスルホネートおよび塩およびその誘導体；ベンザルアセトフェノンナフトールスルホネートおよび塩およびその誘導体；ジヒドロキシ−ナフトエ酸およびその塩；ｏ−ヒドロキシジフェニルジスルホネートおよび塩およびその誘導体；ｐ−ヒドロキシジフェニルジスルホネートおよび塩およびその誘導体；クマリンおよびその誘導体；ジアゾール誘導体；キニーネ誘導体およびその塩；キノリン誘導体；尿酸誘導体；ビロ尿酸誘導体；タンニン酸およびその誘導体；ハイドロキノン；ジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシル安息香酸エステルおよび塩およびその誘導体；および上記の組み合わせからなる群から選択された光活性化合物を含む。

ＵＶＡ放射（約３２０ｎｍ〜約４００ｎｍ）は、皮膚（特に色白の皮膚または敏感な皮膚）へのダメージを引き起こす一因として認識されている。本明細書中開示される日焼け止め組成物は好適には、ＵＶ−Ａ光活性化合物を含む。好適には、本明細書中開示される日焼け止め組成物は、ジベンゾイルメタン誘導体ＵＶ−Ａ光活性化合物を含む。好適なジベンゾイルメタン誘導体を挙げると、２−メチルジベンゾイルメタン；４−メチルジベンゾイルメタン；４−イソプロピルジベンゾイルメタン；４−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾイルメタン；２，４−ジメチルジベンゾイルメタン；２，５−ジメチルジベンゾイルメタン；４，４’−ジイソプロピルジベンゾイルメタン；４，４’−ジメトキシジベンゾイルメタン；４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン；２−メチル−５−イソプロピル−４’−メトキシジベンゾイルメタン；２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン；２，４−ジメチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン；２、６−ジメチル−４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、およびその組み合わせがある。

米国において市販されている製品の場合、好適な化粧品用として受け入れることが可能な光活性化合物および濃度（これは、化粧品用日焼け止め組成物全量に対する重量パーセントとして報告される）を以下に挙げる：アミノ安息香酸（パラアミノ安息香酸およびＰＡＢＡとも呼ばれる；１５％以下）、アヴォベンゾン（ブチルメトキシジベンゾイルメタンとも呼ばれる；３％以下）、シノキサート（２エトキシエチルｐメトキシケイ皮酸とも呼ばれる；３％以下）、ジオキシベンゾン（ベンゾフェノン８とも呼ばれる；３％以下）、ホモサレート（（３，３，５−トリメチルシクロヘキシルサリチル酸塩とも呼ばれる、
１５％以下）、メンチルアントラニル酸塩（メンチル２アミノ安息香酸エステルとも呼ばれる；５％以下）、オクトクリレン（２エチルヘキシル２シアノ３，３ジフェニルアクリル酸とも呼ばれる；１０％以下）、メトキシケイ皮酸オクチル（７．５％以下）、サリチル酸オクチル（２エチルヘキシルサリチル酸塩とも呼ばれる；５％以下）、オキシベンゾン（ベンゾフェノン３とも呼ばれる；６％以下）、パジマートＯ（オクチルジメチルＰＡＢＡとも呼ばれる；８％以下）、フェニルベンズイミダゾールスルホン酸（水溶性；４％以下）、スリソベンゾン（ベンゾフェノン４とも呼ばれる；１０％以下）、二酸化チタン（２５％以下）、トロラミンサリチル酸塩（トリエタノールアミンサリチル酸塩とも呼ばれる；１２％以下）、および酸化亜鉛（２５％以下）。

他の好適な化粧品用として受け入れることが可能な光活性化合物および好適な濃度（化粧品用日焼け止め組成物全量に対する重量パーセント）を挙げると、ジエタノールアミンメトキシケイ皮酸（１０％以下）、エチル−［ｂｉｓ（ヒドロキシプロピル）］アミノ安息香酸エステル（５％以下）、グリセリルアミノ安息香酸エステル（３％以下）、４イソプロピルジベンゾイルメタン（５％以下）、４メチルベンジルイデンカンファー（６％以下）、テレフタリルイデンジカンフルスルホン酸（１０％以下）、およびスリソベンゾン（ベンゾフェノン４とも呼ばれる、１０％以下）がある。

欧州連合において市販されている製品の場合、好適な化粧品用として受け入れることが可能な光活性化合物および好適な濃度（これは、化粧品用日焼け止め組成物全量に対する重量パーセントとして報告される）を以下に挙げる：ＰＡＢＡ（５％以下）、カンファーベンザルコニウムメトサルフェート（６％以下）、ホモサレート（１０％以下）、ベンゾフェノン３（１０％以下）、フェニルベンズイミダゾールスルホン酸（８％以下、酸として表される）、テレフタルイデンジカンフルスルホン酸（１０％以下、酸として表される）、ブチルメトキシジベンゾイルメタン（５％以下）、ベンジルイデンカンファースルホン酸（６％以下、酸として表される）、オクトクリレン（１０％以下、酸として表される）、ポリアクリルアミドメチルベンジルイデンカンファー（６％以下）、エチルヘキシルメトキシケイ皮酸（１０％以下）、ＰＥＧ２５ＰＡＢＡ（１０％以下）、イソアミルｐメトキシケイ皮酸（１０％以下）、エチルヘキシルトリアゾン（５％以下）、ドロメトリゾールトリシロキサン（１５％以下）、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン（１０％以下）、４メチルベンジルイデンカンファー（４％以下）、３ベンジルイデンカンファー（２％以下）、エチルヘキシルサリチル酸塩（５％以下）、エチルヘキシルジメチルＰＡＢＡ（８％以下）、ベンゾフェノン４（５％、酸として表される）、メチレンｂｉｓベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール（１０％以下）、２ナトリウムフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸塩（１０％以下、酸として表される）、ｂｉｓエチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェノールトリアジン（１０％以下）、メチレンｂｉｓベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール（１０％以下、ＴＩＮＯＳＯＲＢ Ｍまたはビソクトリゾールとも呼ばれる）、ｂｉｓエチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン（１０％以下、ＴＩＮＯＳＯＲＢ Ｓまたはベモトリジノールとも呼ばれる）。

上記したＵＶフィルタは全て、市販されている。例えば、適切な市販されている有機ＵＶフィルタの商標名および供給業者を以下の表Ｉ中に示す。

（表Ｉ）

本出願と同一譲受人に譲渡された米国特許第６４８５７１３号および６５３７５２９号（本明細書中、同文献の開示内容を参考のため援用する）において、（例えば組成物の油相への極性溶媒の付加により）日焼け止め組成物中の光活性化合物の光安定性を増加させ
る組成物および方法についての記載がある。本明細書中記載されるアルコキシクリレン（例えば、メトキシクリレン）を含む日焼け止め組成物の油相の極性を増加させることにより、当該日焼け止め組成物の安定性は、オクトクリレンと比較して、驚くほど増加する。本明細書中開示される日焼け止め組成物において、好適には、１つ以上の極性の高い溶媒が組成物の油相中に存在する。好適には、十分な量の極性溶媒を前記日焼け止め組成物中に存在させて、前記組成物の油相の誘電率を少なくとも約７（好適には少なくとも約８）まで上昇させる。油相中に極性の高い溶媒が有る場合も無い場合も、本明細書中に記載のメトキシクリレン分子は、オクトクリレンと比較して予期しないほどの光安定性を示す。

光活性化合物が安定しているとみなすことができるのは、例えば、３０ＭＥＤ照射後に当該光活性化合物が、対象となる波長または波長範囲（例えば、光活性化合物がピーク吸光度（例えば、アヴォベンゾンの場合は３５０〜３７０ｎｍ）を持つ波長）においてその元々の吸光度のうち少なくとも約９０％を保持している状態を指す。同様に、日焼け止め組成物は、複数の光活性化合物を含み得、日焼け止め組成物は、以下の場合において、全体として安定しているとみなすことができる。すなわち、例えば、３０ＭＥＤ照射後に当該日焼け止め組成物がその１つ以上の対象波長において（例えば、主要光活性化合物のピーク吸光度波長またはその近隣において）元々の吸光度のうちの少なくとも約９０％を保持している場合、当該組成物が安定しているとみなすことができる。

１つの重要な実施形態によれば、化学式（Ｉ）のアルコキシクリレンは、日焼け止めまたは皮膚用処方中において水溶性ＵＶフィルタ化合物および／または広帯域フィルタ化合物と共に組み合わされ、必要に応じてそして好適には、ジベンゾイルメタン誘導体および／またはジアルキルナフタレートと共に用いられる。

本発明の目的のための有利な水溶性ＵＶフィルタ物質はスルホン化ＵＶフィルタであり、詳細には以下のものである。
フェニレン−１，４−ｂｉｓ（２−ベンゾイミダジル）−３，３’−５，５’−テトラスルホン酸。これは、以下の構造と、

その塩（特に、対応するナトリウム、カリウムまたはトリエタノールアンモニウム塩、詳細には、フェニレン−１，４−ｂｉｓ（２−ベンゾイミダジル）−−３，３’−５，５’−テトラスルホン酸ｂｉｓナトリウム塩）

ＩＮＣＩ名は、２ナトリウムフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸塩（ＣＡＳ
Ｎｏ．：１８０８９８−３７−７）。これは、例えば、Ｈａａｒｍａｎｎ＆Ｒｅｉｍｅｒから商標名Ｎｅｏ Ｈｅｌｉｏｐａｎ Ａ Ｐとして入手可能である。

本発明の目的のためのさらなる有利なスルホン化ＵＶフィルタは、２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホン酸の塩（例えば、そのナトリウム、カリウムまたはそのトリエタノールアンモニウム塩およびスルホン酸そのもの）である。

ＩＮＣＩ名はフェニルベンズイミダゾールスルホン酸（ＣＡＳＮｏ．２７５０３−８１−７）であり、例えば、Ｍｅｒｃｋからの商標名Ｅｕｓｏｌｅｘ２３２またはＨａａｒｍａｎｎ＆ＲｅｉｍｅｒからのＮｅｏ Ｈｅｌｉｏｐａｎ Ｈｙｄｒｏとして入手可能である。

本発明の目的のためのさらなる有利な水溶性ＵＶ−Ｂおよび／または広帯域フィルタ物質として、例えば３−ベンジルイデンカンファーのスルホン酸誘導体（例えば、４−（２−オキソ−３−ボルニルイデンメチル）ベンゼン−スルホン酸、２−メチル−５−（２−オキソ−３−ボルニルイデンメチル）スルホン酸およびその塩）がある。

最終的な化粧品用または皮膚用の調製物における１つ以上の水溶性ＵＶフィルタ物質の総量は有利には、各場合において調製物の総重量に基づいて、０．０１重量％〜２０重量％の範囲、好適には０．１〜１０重量％の範囲から選択される。

別の重要な実施形態によれば、化学式（Ｉ）のアルコキシクリレンは、日焼け止めまたは皮膚用処方においてヒドロキシベンゾフェノン化合物および／または広帯域フィルタ化合物と組み合わされ、必要に応じてそして好適には、ジベンゾイルメタン誘導体および／またはジアルキルナフタレートと共に用いられる。

アルコキシクリレンの使用により、他のＵＶ安定剤の使用（詳細には、エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸（オクトクリレン）または４−メチルベンジルイデンカンファーの使用）を不要にすることができる。

ヒドロキシベンゾフェノンは、以下の構造化学式によって特徴付けられる。

式中、互いに独立したＲ¹およびＲ²は、水素、Ｃ₁Ｃ₂₀−アルキル、Ｃ₃−Ｃ₁₀−シクロアルキルまたはＣ₃−Ｃ₁₀−シクロアルケニルであり、式中、置換基Ｒ¹およびＲ²ならびに置換基Ｒ¹およびＲ²が結合する窒素原子は、５環または６環を形成し得、Ｒ³はＣ₁−Ｃ₂₀アルキルラジカルである。

特に有利なヒドロキシベンゾフェノンは、２−（４’−ジエチルアミノ−２’−ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ヘキシルエステル（またはアミノベンゾフェノン）であり、これは、以下の構造によって特徴付けられる。

また、これは、Ｕｖｉｎｕｌ Ａ Ｐｌｕｓの名称でＢＡＳＦから入手可能である。

本発明によれば、化粧品用または皮膚用の調製物は、０．１〜２０重量％（有利には０．１〜１５重量％、特別に好適には０．１〜１０重量％）の１つ以上のヒドロキシベンゾフェノンを含む。

本発明の範囲内において、Ｒ¹および／またはＲ²が６〜１０個の炭素原子を有する分岐アルキル基を表すジアルキルナフタレートが有利である。本発明の範囲内において、ジエチルヘキシルナフタレートが特別に好適であり、例えばＣＰ Ｈａｌｌからの商標名Ｈａｌｌｂｒｉｔｅ ＴＱ（登録商標）またはＨ＆ＲからのＣｏｒａｐａｎ ＴＱ（登録商標）として入手可能である。

本発明の一実施形態によれば、化粧品用または皮膚用の調製物は有利には、１つ以上のジアルキルナフタレートを０．００１〜３０重量％、好適には０．０１〜２０重量％、特別に好適には０．５〜１５重量％含む。

本発明による化粧品用または皮膚用の遮光処方物は、通常通りに構成することができ、化粧品用または皮膚用の遮光に用いることができ、さらには皮膚および／または髪の治療、ケアおよびクレンジング用途にならびに美装目的の化粧品用の化粧品用生成物として用いることができる。

別の重要な実施形態によれば、化学式（Ｉ）のアルコキシクリレンは、日焼け止めまたは皮膚用処方において、ベンゾトリアゾール誘導体化合物および／または広帯域フィルタ化合物と組み合わされ、必要に応じてそして好適には、ジベンゾイルメタン誘導体および／またはジアルキルナフタレートと共に用いられる。

有利なベンゾトリアゾール誘導体は、２，２’−メチレンｂｉｓ（６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（ｌ，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール）であり、以下の化学構造の化学式を有する。

（ＩＮＣｌ：ｂｉｓオクチルトリアゾール）。これは、ＣＩＢＡ−Ｃｈｅｍｉｋａｌｉｅｎ ＧｍｂＨから商標名Ｔｉｎｏｓｏｒｂ（登録商標）として入手可能であり、良好なＵＶ吸収特性が際立っている。この物質の不利点は、触覚的に不快感を生じさせる、認識できないほど薄い膜を皮膚上に形成する特性である。

別の不利点として、このようなベンゾトリアゾール誘導体は、従来の油成分中において、もしあれば、不適切な溶解度しか示さないという点がある。周知の溶媒は、これらの化合物の最大１５重量％までしか溶解できず、これは、一般的には、完成した化粧品用または皮膚用の調製物中の溶解した（＝活性の）フィルタ物質の約１〜１．５重量％の濃度に相当する。

従って、先行技術の１つの不利点として、これらのフィルタ物質を用いた場合、一般的に比較的低い日焼け止め係数しか達成できない点がある。なぜならば、これらのフィルタ物質の処方中での溶解度または分散性が低すぎる（すなわち、これらのフィルタ物質をこのような処方と十分に均質混合させるのは困難か不可能である）からである。

溶解度が限定されている場合に特定のＵＶ保護を原則的に達成することができたとしても、別の問題（すなわち、再結晶化）が発生することが多い。

特に、溶解度が低い物質の場合、比較的高速で再結晶する。このような再結晶化は、温度変動または他の影響によって誘発され得る。しかし、ＵＶフィルタなどの調製物の実質的成分の再結晶化が制御できない場合、所与の調製物の特性に対して極めて不利な影響が発生し、特に所望の遮光に対して極めて不利な影響が発生する。

別の実施形態によれば、本明細書中記載されるアルコキシクリレン含有組成物は、化学式（Ｉ）のアルコキシクリレンと組み合わされた場合、より多くの含量の非対称置換型のトリアジン誘導体を含むことができ、これにより高い日焼け止め係数を得ることができる。

しかし、前記先行技術の不利点は遮光に効果的な活性成分の組み合わせにより改善され、これは、当業者にとって驚くべきことであり、また予測不可能でもある。この活性成分の組み合わせは、以下から構成される。
（ａ）ベンゾトリアゾール誘導体の群から選択された１つ以上のＵＶフィルタ物質、
（ｂ）化学式（Ｉ）のアルコキシクリレン、および必要に応じて
（ｃ）以下の構造化学式を有する１つ以上のジアルキルナフタレート。

Ｒ¹およびＲ²は、互いに独立しており、６〜２，４個の炭素原子を有する分岐および非分岐アルキル基の群から選択される。

本発明のこの実施形態の目的のための特に有利な遮光フィルタを挙げると、以下の構造化学式を有するベンゾトリアゾール化合物がある。

式中、Ｒ₁およびＲ₂は、互いに独立しており、Ｃ₅−Ｃ₁₂−シクロアルキルまたはアリールラジカルの分岐または非分岐Ｃ₁−Ｃ₁₈−アルキルラジカルの群から選択される。Ｃ₅−Ｃ₁₂−シクロアルキルまたはアリールラジカルは、必要に応じて１つ以上のＣ₁−Ｃ₄アルキル基と置換される。

好適なベンゾトリアゾール誘導体は、２，２’−メチレンｂｉｓ（６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（ｌ，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール）であり、以下の化学構造化学式によって特徴付けられる。

本発明の目的のための有利な広帯域フィルタは、さらに、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチル−６−［２−メチル−３−［１，３，３，３−テトラメチル−１−［（トリメチル−シリル）オキシ］ジシロキサニル］プロピル］フェノール（ＣＡＳＮｏ．：１５５６３３−５４−８）（ＩＮＣｌ名はドロメトリゾールトリシロキサン）であり、以下の化学構造化学式によって特徴付けられる。

１つ以上のベンゾトリアゾール誘導体（詳細には、２，２’−メチレンｂｉｓ（６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（ｌ，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール）および／または２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチル−６−［２−メチル−３−［１，３，３，３−テトラメチル−１（トリメチルシリル）オキシ］ジシロキサニル］プロピル］フェノール）の最終化粧品用または皮膚用の調製物中における総量は、調製物の総重量に基づいて、有利には０．１〜１５．０重量％、好適には０．５〜１０．０重量％の範囲から選択される。

本発明の化粧品用または皮膚用遮光処方は、従来の組成物を有し得、化粧品用または皮膚用遮光用途として、また、皮膚および／または髪の治療、ケアおよびクレンジング用途として、および美装目的の化粧品用におけるメークアップ製品として、用いることができる。

使用時には、当該化粧品用および皮膚用調製物を十分な量で通常の化粧品と同様の様式で皮膚および／または髪に塗布する。

本発明による化粧品用および皮膚用調製物は、化粧品用助剤（例えば、このような調製物において従来から用いられてきたもの）を含み得、そのようなものとして、例えば、防腐剤、殺菌剤、香料、消泡剤、染料、着色効果のある色素、増粘剤、湿潤剤および／または保湿剤、脂肪、油、ワックスまたは他の従来の化粧品用または皮膚用処方の構成物質（例えば、アルコール、ポリオール、ポリマー、泡安定剤、電解質、有機溶媒またはシリコーン誘導体）がある。

さらなる含量の酸化防止剤が一般的に好適である。本発明によれば、用いることが可能な好ましい酸化防止剤は、化粧品用および／または皮膚用用途において適切なまたは従来から用いられている任意の酸化防止剤である。

酸化防止剤は、アミノ酸（例えば、グリシン、ヒスチジン、チロシン、トリプトファン）およびその誘導体、イミダゾール（例えば、ウロカニン酸）およびその誘導体、ペプチド（例えば、Ｄ，Ｌ−カモシン、Ｄ−カルノシン、Ｌ−カルノシンおよびその誘導体（例えば、アンセリン））、カロテノイド、カロチン（例えば、．アルファ．−カロチン、．ベータ．−カロチン、リコピン）およびその誘導体、クロロゲン酸およびその誘導体、リポ酸およびその誘導体（例えば、ジヒドロリポ酸）、アウロチオグルコース、プロピルチオウラシルおよび他のチオール（例えば、チオレドキシン、グルタチオン、システイン、シスチン、シスタミンおよびグリコシル、Ｎ−アセチル、メチル、エチル、プロピル、アミル、ブチルおよびラウリル、パルミトイル、オレイル、．ガンマ．−リノレイル、コレステリルおよびそのグリセリルエステル）およびその塩、ジラウリルチオジプロピオン酸、ジステアリルチオジプロピオン酸、チオジプロピオン酸およびその誘導体（エステル、エーテル、ペプチド、脂質、ヌクレオチド、ヌクレオシドおよび塩）およびスルホキシミ
ン化合物（例えば、ブチオニンスルホキシミン、ホモシステインスルホキシミン、ブチオニンスルホン、ペンタ−、ヘキサ−、ヘプタチオミンスルホキシミン）を極めて低い耐量（例えば、ｐｍｏｌ〜．ｍｕ．ｍｏｌ／ｋｇ）で用いた物、ならびに（金属）キレート剤（例えば、．アルファ．−ヒドロキシ脂肪酸、パルミチン酸、フィチン酸、ラクトフェリン）、．アルファ．−ヒドロキシ酸（例えば、クエン酸、乳酸、リンゴ酸）、フミン酸、胆汁酸、胆汁エキス、ビリルビン、胆緑素、ＥＤＴＡ、ＥＧＴＡおよびその誘導体、不飽和脂肪酸およびその誘導体（例えば、．ガンマ．−リノレン酸、リノール酸、オレイン酸）、葉酸およびその誘導体、ユビキノンおよびユビキノールおよびその誘導体、ビタミンＣおよび誘導体（例えば、パルミチン酸アスコルビル、Ｍｇアスコルビン酸リン酸、アスコルビルアセテート）、トコフェロールおよび誘導体（例えば、ビタミンＥアセテート）、ビタミンＡおよび誘導体（ビタミンＡパルミチン酸）およびガムベンゾインのコニフェリル安息香酸エステル、レチノイン酸およびその誘導体、．アルファ．−グリコシルルチン、フェルラ酸、フルフリルイデングルシトール、カルノシン、ブチルヒドロキシトルエン、ブチルヒドロキシアニソール、ノルジヒドログアイアレチン酸、トリヒドロキシブチロ−フェノン、尿酸およびその誘導体、マンノースおよびその誘導体、亜鉛およびその誘導体（例えば、ＺｎＯ、ＺｎＳＯ₄）、セレニウムおよびその誘導体（例えば、セレノメチオニン）、スチルベンおよびその誘導体（例えば、スチルベンオキシド、トランス−スチルベンオキシド）および本発明に従って適切な上記活性成分の誘導体（塩、エステル、エーテル、糖、ヌクレオチド、ヌクレオシド、ペプチドおよび脂質）からなる群から特に有利に選択される。

別の重要な実施形態によれば、化学式（Ｉ）のアルコキシクリレンは、日焼け止めまたは皮膚用処方において親水性スキンケア活性成分および／または広帯域フィルタ化合物と組み合わされ、必要に応じてそして好適には、ジベンゾイルメタン誘導体と共に用いられる。

本発明によるアルコキシクリレンと共に用いられると安定化される（個別に用いられるかまたは任意に相互に組み合わされる）有利な親水性活性成分を以下に挙げる。
ビオチン；カルニチンおよび誘導体；クレアチンおよび誘導体；葉酸；ピリドキシン；ナイアシンアミド；ポリフェノール（特にフラボノイド、とりわけアルファ−グルコシルルチン）；アスコルビン酸および誘導体；マンサク；アロエベラ；パンテノール；アミノ酸。

本発明の目的のために特に有利な親水性の活性成分として、例えばビタミンなどの水溶性酸化防止剤もある。

調製物中の親水性活性成分量（１つ以上の化合物）は、前記調製物の総重量に基づいて、好適には０．０００１〜１０重量％、特に好適には０．００１〜５重量％である。

酸化防止剤を添加剤または活性成分として用いた場合、特に有利な調製物も得られる。本発明によれば、前記調製物は有利には、１つ以上の酸化防止剤を含む。好ましいがそれでも必要に応じて用いられる酸化防止剤として使用され得るものは、化粧品用および／または皮膚用用途において通常用いられるかまたは適切である全ての酸化防止剤がある。

調製物中の酸化防止剤（１つ以上の化合物）の量は、当該調製物の総重量に基づいて、好適には０．００１〜３０重量％、特に好適には０．０５〜２０重量％、詳細には０．１〜１０重量％である。

ビタミンＥおよび／またはその誘導体が酸化防止剤である場合、そのそれぞれの濃度を当該処方物の総重量に基づいて０．００１〜１０重量％の範囲から選択すると有利である
。

ビタミンＡまたはビタミンＡ誘導体、またはカロチンまたはその誘導体が酸化防止剤である場合、そのそれぞれの濃度を当該処方物の総重量に基づいて０．００１〜１０重量％の範囲から選択すると有利である。

本発明による化粧品用調製物がさらなる化粧品用または皮膚用活性成分を含むと特に有利であり、好適な活性成分として、皮膚を酸化的ストレスから保護する酸化防止剤がある。

有利なさらなる活性成分として、天然の活性成分および／またはその誘導体（例えば、ユビキノン、レチノイド、カロテノイド、クレアチン、タウリンおよび／または．ベータ．−アラニン）がある。

本発明による処方は、例えば、公知の抗しわ活性成分（例えば、フラボングリコシド（詳細には、．アルファ．−グリコシルルチン）、コエンザイムＱ１０、ビタミンＥおよび／または誘導体など）を含み、これらは、例えば皮膚老化（例えば、乾燥、荒れおよび乾燥しわの形成、かゆみ、（例えば洗浄後の）再脂肪化の低減、可視的血管拡張（毛細血管拡張性、キュペロシス）、弛緩およびしわ線の形成、局所的色素過剰、低色素沈着および異常色素沈着（例えば、染み）、機械的ストレスに対する感受性の増大（例えば、亀裂））などにおいて発生するような皮膚における美容観点または皮膚の変化の予防および治療のために特に有利に適している。さらに、これらは、有利なことに皮膚の乾燥または荒れの発生に対しても適している。

さらに別の重要な実施形態によれば、化学式（Ｉ）のアルコキシクリレンは、日焼け止めまたは皮膚用処方中において粒状ＵＶフィルタ物質および／または広帯域フィルタ化合物と組み合わされ、必要に応じてそして好適には、ジベンゾイルメタン誘導体および／またはジアルキルナフタレートと共に用いられる。

本発明の目的のための好適な粒状ＵＶフィルタ物質として、無機色素（特に、水中に若干可溶性または不溶性である金属酸化物および／または他の金属化合物）があり、特にチタン（ＴｉＯ₂）、亜鉛（ＺｎＯ）、鉄（例えば、Ｆｅ₂Ｏ₃）、ジルコニウム（ＺｒＯ₂）、シリコン（ＳｉＯ₂）、マンガン（例えば、ＭｎＯ）、アルミニウム（Ａｌ₂Ｏ₃）、セリウム（例えば、Ｃｅ₂Ｏ₃）、対応する金属の混合酸化物、およびこのような酸化物の混合物、およびバリウムの硫酸塩（ＢａＳＯ₄）がある。

本発明の目的のための酸化亜鉛は、市販されている油性または水性プレディスパージョンの形態でも用いられ得る。本発明に従って適切な酸化亜鉛粒子および酸化亜鉛粒子のプレディスパージョンは、一次粒径が＜３００ｎｍである点によって区別され、以下の商標名で以下表の企業から入手することができる。

本発明の目的のために特に好適な酸化亜鉛は、ＢＡＳＦからのＺ−ＣｏｔｅＨＰｌおよびＺ−ＣｏｔｅおよびＨａａｒｍａｎｎ＆Ｒｅｉｍｅｒからの酸化亜鉛ＮＤＭである。

本発明の二酸化チタン色素は、ルチルおよびアナターゼ結晶変態の双方の形態であり得、本発明の目的のために有利には表面処理（「コート」）され、その意図は、例えば親水性、両親媒性または疎水性特性を形成または維持することである。この表面処理は、それ自体が公知のプロセスによって薄肉の親水性および／または疎水性の無機かつ／または有機層に色素を提供する工程からなる。本発明の目的のための多様な表面コーティングは、水も含む。

本発明の目的のための無機表面コーティングは、酸化アルミニウム（Ａｌ．ｓｕｂ．２Ｏ．ｓｕｂ．３）、水酸化アルミニウムＡｌ（ＯＨ）．ｓｕｂ．３または酸化アルミニウム水和物（またはアルミナ、ＣＡＳＮｏ．：１３３３−８４−２）、ナトリウムヘキサメタホスフェート（ＮａＰＯ．ｓｕｂ．３）．ｓｕｂ．６、メタリン酸ナトリウム（ＮａＰＯ．ｓｕｂ．３）．ｓｕｂ．ｎ、二酸化ケイ素（ＳｉＯ．ｓｕｂ．２）（またはシリカ、ＣＡＳＮｏ．：７６３１−８６−９）、または酸化鉄（Ｆｅ．ｓｕｂ．２Ｏ．ｓｕｂ．３）からなり得る。これらの無機表面コーティングは、単独で、組み合わせて、かつ／または有機コーティング材料と組み合わせて用いてもよい。

本発明の目的のための有機表面コーティングは、植物または動物アルミニウムステアレート、植物または動物ステアリン酸、ラウリン酸、ジメチルポリシロキサン（またはジメチコーン）、メチルポリシロキサン（メチコーン）、シメチコン（ジメチルポリシロキサンと、平均鎖長が２００〜３５０のジメチルシロキサン単位およびシリカゲルとの混合物）またはアルギン酸から成り得る。これらの有機表面コーティングは、単独で、組み合わせてかつ／または無機コーティング材料と組み合わせて用いられ得る。

本発明のコートされた二酸化チタンおよびコートされていない二酸化チタンは、市販されている油性または水性プレディスパージョンの形態で用いられ得る。分散助剤および／または可溶性メディエーターを付加すると有利であり得る。

本発明の目的のための適切な二酸化チタン粒子および二酸化チタン粒子のプレディスパージョンは、以下の商標名で以下表の企業から入手可能である。

本発明の二酸化チタンは、一次粒径が１０ｎｍ〜１５０ｎｍである点によって、区別される。

本発明の目的のために特に好適な二酸化チタンはＴａｙｃａ ＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎからのＭＴ−１００ＺおよびＭＴ−１００ＴＶ、ＭｅｒｃｋからのＥｕｓｏｌｅｘ Ｔ−２０００およびＤｅｇｕｓｓａからの二酸化チタンＴ８０５である。

さらなる有利な色素は、ラテックス粒子である。本発明において有利なラテックス粒子について、以下の公開文献中に記載がある：米国特許第５，６６３，２１３号およびＥＰ０７６１２０１号。特に有利なラテックス粒子としては、水およびスチレン／アクリレートコポリマーから形成されたものがあり、例えば「Ａｌｌｉａｎｃｅ ＳｕｎＳｐｈｅｒｅ」という商標名でＲｏｈｍ＆Ｈａａｓから入手可能である。

本発明の目的のために有利な有機色素は、２，２’−メチレンｂｉｓ（６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（ｌ，１，３，３−テトラメチルブチル−）フェノール）（ＩＮＣＩ：ｂｉｓ−オクチルトリアゾール）であり、Ｔｉｎｏｓｏｒｂ（登録商標）Ｍという商標名でＣＩＢＡ−Ｃｈｅｍｉｋａｌｉｅｎ ＧｍｂＨから入手可能である。

既にプレディスパージョンの形態になっていない粒状ＵＶフィルタ物質を先ず本発明の１つ以上のジアルキルナフタレート中に分散させて、この基本分散物をさらに処理すると、本発明の目的のために特に有利である。市販のプレディスパージョンには、化粧品用または皮膚用処方物の他の物質との不要な相互作用を持ち得る助剤が安定化のために通常付加される。しかし、驚くべきことに、本発明の基本分散物を調製する場合、このような安定剤の付加が不要になる。

最終化粧品用または皮膚用調製物中の１つ以上の水溶性ＵＶフィルタ物質の総量は、各場合において当該調製物の総重量に基づいて、有利には０．０１重量％〜２０重量％、好適には０．１〜１０重量％から選択される。

さらに別の重要な実施形態によれば、化学式（Ｉ）のアルコキシクリレンは、日焼け止めまたは皮膚用処方中において、非対称置換型トリアジンＵＶフィルタ化合物および／または広帯域フィルタ化合物と組み合わされ、必要に応じてそして好適には、ジベンゾイルメタン誘導体と共に用いられる。

非対称置換型トリアジン誘導体は、良好な遮光効果を示す。しかし、その主な不利点として、その溶解度が従来の油成分中において低い点がある。周知の溶媒は、これらの化合物の最大１５重量％までしか溶解できず、これは、一般的には、完成した化粧品用または皮膚用の調製物中の溶解した（＝活性の）フィルタ物質の約１〜１．５重量％の濃度に相当する。

従って、先行技術の１つの不利点として、これらのフィルタ物質を用いた場合、一般的に比較的低い日焼け止め係数しか達成できない点がある。なぜならば、これらのフィルタ物質の処方中での溶解度または分散性は低すぎる（すなわち、これらのフィルタ物質をこのような処方と十分に均質混合させるのは困難か不可能である）からである。

溶解度が限定されている場合に特定のＵＶ保護を達成することが原則的にできたとしても、別の問題（すなわち、再結晶化）が発生することが多い。特に、溶解度が低い物質の場合、比較的高速で再結晶する。このような再結晶化は、温度変動または他の影響によって誘発され得る。しかし、ＵＶフィルタなどの調製物の実質的成分の再結晶化が制御できない場合、所与の調製物の特性に対して極めて不利な影響が発生し、特に所望の遮光に対して極めて不利な影響が発生する。

本発明の目的は、より多くの含量の非対称置換型トリアジン誘導体およびそれに対応する高い日焼け止め係数によって区別される調製物を簡潔な様態で得ることであった。

前記先行技術の不利点は、遮光に効果的な活性成分の組み合わせにより改善される。前記組み合わせは、以下から構成される。
（ａ）非対称置換型トリアジン誘導体の群から選択された１つ以上のＵＶフィルタ物質
（ｂ）構造化学式（Ｉ）を有する１つ以上のアルコキシクリレン、および
（ｃ）必要に応じてジベンゾイルメタン誘導体および／またはジアルキルナフタレート。

本発明のこの実施形態の意図内の有利な非対称置換型ｓ−トリアジン誘導体としては、例えばＥＰ−Ａ−５７０８３８中に記載されているものがあり、同文献の化学構造は、以下の一般化学式によって表される。

式中、Ｒは、分岐または非分岐Ｃ₁−Ｃ₁₈−アルキルラジカル、Ｃ₅−Ｃ₁₂−シクロアルキルラジカルであり、必要に応じて１つ以上のＣ₁−Ｃ₄−アルキル基と置換され、
Ｘは、酸素原子またはＮＨ基であり、
Ｒ₁は、分岐または非分岐Ｃ₁−Ｃ₁₈−アルキルラジカル、Ｃ₅−Ｃ₁₂−シクロアルキルラジカルであり、必要に応じて１つ以上のＣ₁−Ｃ₄−アルキル基、または水素原子、アルカリ金属原子、アンモニウム基または以下の化学式の基と置換される。

式中、Ａは、分岐または非分岐Ｃ₁−Ｃ₁₈−アルキルラジカル、Ｃ₅−Ｃ₁₂−シクロアルキルまたはアリールラジカルであり、必要に応じて１つ以上のＣ₁−Ｃ₄−アルキル基と置換される。
Ｒ₃は、水素原子またはメチル基であり、
ｎは１〜１０の数であり、
Ｒ₂は、分岐または非分岐Ｃ₁−Ｃ₁₈−アルキルラジカル、Ｃ₅−Ｃ₁₂−シクロアルキルラジカルであり、必要に応じて１つ以上のＣ₁−Ｃ₄−アルキル基と置換され、
Ｘが前記ＮＨ基で有る場合、
分岐または非分岐Ｃ₁−Ｃ₁₈−アルキルラジカル、Ｃ₅−Ｃ₁₂−シクロアルキルラジカルであり、必要に応じて、１つ以上のＣ₁−Ｃ₄−アルキル基、または水素原子、アルカリ金属原子、アンモニウム基または以下の化学式の基と置換される。

式中、Ａは、分岐または非分岐Ｃ₁−Ｃ₁₈−アルキルラジカル、Ｃ₅−Ｃ₁₂−シクロアルキルまたはアリールラジカルであり、１つ以上のＣ₁−Ｃ₄−アルキル基と必要に応じて置換され、
Ｒ₃は水素原子またはメチル基であり、
Ｘが酸素原子である場合、ｎは１〜１０の数である。

好適な形態のこのトリアジン実施形態において、前記組成物は日焼け止め用、化粧品用または皮膚用処方物であり、ある含量の少なくとも１つの非対称置換型ｓ−トリアジンを含む。この非対称置換型ｓ−トリアジンは、以下の構造化学式を有する物質の群から選択される。

全てのｂｉｓレソルシノールトリアジンは、本発明の目的のためのこの実施形態のために有利である。Ｒ₄およびＲ₅は、１〜１８個の炭素原子の分岐または非分岐アルキル基の群から選択されると特に有利である。アルキル基はここでも有利にはシリルオキシ基と置換され得る。

Ａ₁は、有利には、置換ホモ環状またはヘテロ環状芳香５員環または６員環である。

以下の化合物がとりわけ有利である。

式中、Ｒ₆は、水素原子または１〜１０個の炭素原子を有する分岐または非分岐アルキル基であり、詳細には、２，４−ｂｉｓ｛［４−（２−エチルヘキシルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン（ＩＮＣＩ：アニイソトリアジン）であり、これは、Ｔｉｎｏｓｏｒｂ（登録商標）Ｓという商標名でＣＩＢＡ−Ｃｈｅｍｉｋａｌｉｅｎ ＧｍｂＨから入手可能であり、以下の構造によって特徴付けられる。

他の有利点として、２，４−ｂｉｓ｛［４−（３−スルホナート−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジンナトリウム塩があり、これは以下の構造によって特徴付けられる。

他の有利点として、２，４−ｂｉｓ｛［４−（３−（２−プロピルオキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジンがあり、これは以下の構造によって特徴付けられる。

他の有利点として、２，４−ｂｉｓ｛［４−（２−エチルヘキシルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−［４−（２−メトキシエトキシカルボニル）フェニルアミノ］−１，３，５−トリアジンがあり、これは以下の構造によって特徴付けられる。

他の有利点として、２，４−ｂｉｓ｛［４−（３−（２−プロピルオキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−［４−（エトキシカルボニル）フェニルアミノ］−１，３，５−トリアジンがあり、これは以下の構造によって特徴付けられる。

他の有利点として、２，４−ｂｉｓ｛［４−（２−エチルヘキシルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（ｌ−メチルピロール−２−イル）１，３，５−トリアジンがあり、これは以下の構造によって特徴付けられる。

他の有利点として、２，４−ｂｉｓ｛［４−トリス（トリメチルシロキシシリルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジンがあり、これは以下の構造によって特徴付けられる。

他の有利点として、２，４−ｂｉｓ｛［４−（２−メチルプロペニルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジンがあり、これは以下の構造によって特徴付けられる。

他の有利点として、２，４−ｂｉｓ｛［４−（ｌ’，ｌ’，ｌ’，３’，５’，５’，５’−ヘプタメチルシロキシ−２−メチルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］−フェニル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジンがあり、これは以下の構造によって特徴付けられる。

特に好適な実施形態において、本発明は、ある含量の非対称置換型ｓ−トリアジンを含む化粧品用または皮膚用処方に関する。この非対称置換型ｓ−トリアジンの化学構造は、以下の化学式によって表される。

これを本明細書中以下ジオクチルブチルアミドトリアゾン（ＩＮＣＩ）とも呼び、これは、ＵＶＡＳＯＲＢ ＨＥＢという商標名でＳｉｇｍａ３Ｖから入手可能である。

本発明の非対称置換型ｓ−トリアジン誘導体（単数または複数）は、有利には、化粧品用または皮膚用処方の油相中に均質混合される。

１つ以上の非対称置換型ｓ−トリアジン誘導体（詳細には、ジオクチルブチルアミドトリアゾン）の最終化粧品用または皮膚用の調製物中における総量は、有利には、当該調製物の総重量に基づいて、０．１〜１５．０重量％、好適には０．５〜１０．０重量％から選択される。

本発明の化粧品用または皮膚用の遮光処方物は、化粧品用または皮膚用遮光に、および皮膚および／または髪の治療、ケアおよびクレンジングのために、および美装目的の化粧
品用のメークアップ製品として用いられる場合、従来の組成物を持ち得る。

重要な実施形態によれば、化学式（Ｉ）のアルコキシクリレンは、日焼け止めまたは皮膚用処方物において、脂溶性酸化または紫外線感受性のある活性成分（例えば、レチノイン酸およびその誘導体（例えば、トレチノインまたはイソトレチノイン））および／または広帯域フィルタ化合物と組み合わされ、必要に応じてそして好適にはジベンゾイルメタン誘導体と共に用いられる。

本発明によって使用した場合、優れた様態で安定化される有利な脂溶性活性成分は、ｌｏｇＰ計算値が３．５よりも高いものである。Ｐは分配係数であり、これは、実質的に相互に不混和性である２つの溶媒からなる二相系中の溶解物質の平衡濃度の比として定義される。これら２つの溶媒は、この場合、ｎ−オクタノールおよび水であり、すなわち以下のようになる。

本発明の目的のために、ユビキノンおよびプラストキノンからなる群から脂溶性活性成分を選択すると有利である。本発明の目的のため、ｌｏｇＰ計算値が約１５であるコエンザイムＱ１０がとりわけ有利である。

活性成分（単数または複数）をユビキノンの群のみから選択することにより本発明によるとりわけ有利な調製物を得ることができるという点は、特に驚くべきことである。

本発明に従って有利なさらなる脂溶性活性成分として、レチノイド（ビタミンＡ酸および／またはその誘導体）またはビタミンＡおよび／またはその誘導体がある。本発明に従って有利なレチノイドの群は、化粧品用としておよび／または薬学的に受け入れることが可能なレチノイド全て（例えば、レチノールおよびそのエステル、レチナールおよびレチノイン酸（ビタミンＡ酸）およびそのエステルを含む）を含むものとして定義される。本発明の目的のため、レチノール（ｌｏｇＰ計算値は約７）およびレチニルパルミチン酸（ｌｏｇＰ計算値は約１３）が特に有利である。

前記活性成分（単数または複数）をレチノイドの群のみから選択すると、とりわけ有利な調製物を本発明に従って得ることができるという点は、特に驚くべきであった。

さらなる本発明による有利な脂溶性酸成分として、カロテノイドがある。本発明の目的のため、例えばｌｏｇＰ計算値が１５である．ベータ．−カロチンが特に有利である。

本発明に従って有利なさらなる脂溶性活性成分として、リポ酸および誘導体、ビタミンＥおよび誘導体、ビタミンＦ、二酸［８−ヘキサデセン−１，１６−ジカルボン酸（ＣＡＳ登録番号２０７０１−６８−２）］がある。

調製物中の脂溶性活性成分（１つ以上の化合物）の量は、当該調製物の総重量に基づいて、好適には０．０００１〜１０重量％、特に好適には０．００１〜５重量％である。

メチルまたはエチル２−シアノ−３−（４’−メトキシフェニル）−３−フェニルプロペノアート（メチルまたはエチルメトキシクリレンまたはメチルまたはエチルＭｅＯクリレン）の合成

４−メトキシベンゾフェノン（ＭＷ＝１８２．２２ｇ／モル；５００ｇ；２．７４モル；１モル当量）およびメチルシアノアセテート（ＭＷ＝９９．０９ｇ／モル；３６７．０６ｇ；３．７０モル；１，３，５モル当量）を、メカニカルスターラーおよび窒素注入口を取り付けた１−Ｌ三ツ口フラスコ内に配置した。窒素注入口は、反応混合物を通じて窒素の連続流を提供する（窒素が反応混合物を通じてバブリングされる）。次に、トルエン（１２００ｍｌ）および酢酸（２，４０ｍｌ；トルエン／酢酸比＝５／１）を前記フラスコに付加し、その後アンモニウムアセテートを付加した（ＭＷ＝７７．０９ｇ／モル；２１．１２ｇ；０．２７４モル、０．１モル当量；反応時間中、触媒をこの量だけ４回付加する）。その後、前記フラスコにディーン−スタルク受器を取り付ける。このディーン−スタルク受器を通じて、反応水を連続的に除去する。
コメント：
１．アリコートの反応混合物を取り出して、反応完了率を確認する。
２．この反応から予測される水の量は４９．５ｍｌである。しかし、１２０ｍｌの水相が収集された。これは、前記水が水／酢酸／トルエンの混合物として蒸留されたからである。
３．前記反応混合物から前記メチルアセテートが失われるのを回避するために、ディーン−スタルク受器と前記フラスコとの間に短尺充填カラムを設けると有用である。

ワークアップ：
前記反応混合物を室温まで冷却し、エチルアセテートを付加して全ての固体を溶解させた後、粗混合物を水で数回洗浄して、酢酸および塩を除去する。その後、蒸留によって前記反応混合物から溶媒を除去する。前記粗固体生成物を熱メタノール（またはトルエン／メタノール混合物（ただし、これが好適な場合））から再結晶させる。

コメント：
最終生成物は、冷却される反応混合物から結晶化し始め、よってフィルタリング除去することができるものの、未だに極めて酸性であり、そのため、前記結晶を水／メタノール混合物で洗浄して、酢酸および塩残留物を全て洗い落とすべきである。よって、得られた生成物を再結晶させることができ、母液を水で洗浄し、乾燥させ、第２の収穫物の生成物を得ることができる。

アルキル２−シアノ−３−（４’−メトキシフェニル）−３−フェニルプロペノアートの合成

反応手順：
メチル（またはエチル）２−シアノ−３−（４’−メトキシフェニル）−３−フェニルプロペノアート（９００ｇ、３．０６モル；ＭＷ＝２９３．３２）、アルキルアルコール（３．８４モル；１．２５モル当量）、およびテゴカット２５０（全バッチ重量の０．０３％）を２Ｌの三ツ口丸底フラスコ内に配置し、１８５℃（３６５°Ｆ）に設定された温度まで加熱した。その際、充填カラムによる簡単な蒸留セットを介してこれを窒素でパージして、メタノール（またはエタノール）の形成を除去した。
３時間後、ＧＣによれば、メチル２−シアノ−３−（４’−メトキシフェニル）−３−フェニルプロペノアートは全て、所望の生成物に変換された。

ワークアップ：
未反応のアルキルアルコールを真空蒸留により完全に除去した。反応温度を１１０℃（２３０Ｆ）まで下げ、計算量（全バッチ重量の２％）のＳＳＰ（スズ除去剤）を付加した。この生成物をこの温度で２時間撹拌し、その後熱フィルタリングした。濾過直前に少量のセリットを付加して、前記濾過を向上させた。セリットにより、前記濾過の効率および速度が向上した。

結果
生成物の収率：化学量論量の９４％
最終生成物の純度：９９．８１％（面積カウント、ＧＣ）。

例
以下の組成物（表１）は、本明細書中に記載のアルコキシクリレンのアヴォベ
ンゾン（４．５ｗｔ．％）に対し、等モル量（２．７５ｗｔ．％）のオクトクリレンと比較して驚くほど優れた光安定化効果を付与するように、記載の手順に従って調製した。「メトキシクリレン」として示すこの化合物は、以下の化学式（ＩＶ）を有した。

（表１）

例１、表１の日焼け止め組成物（メトキシクリレンを含む）を先行技術のオクトクリレンと比較したときの驚くべき光安定性を図１中に示す。図１は、上記例１〜例３のデータおよび以下の例４〜６についてＳＰＦレポートのデータのグラフである。

（表２）

さらなるアルコキシクリレン分子について、表２中に示す手順に従って試験した。、式中、化学式（Ｉ）のアルコキシクリレンのラジカルＲ₃はＲ₃＝エチルヘキシル（化学式ＩＶ）である。

例４の日焼け止め組成物のデータを図２のグラフに示し、例５の組成物のデータを図３のグラフに示す。例４〜６について、例６のデータ（図４としてグラフに示す）は、７％のエチルヘキシルメトキシクリレン（化学式Ｖ）および１．８％のオクトクリレン（例４）と、アルコキシクリレンが無い８．８％のオクトクリレンとを比較している。図４のグラフおよび以下の例４〜６に関するＳＰＦレポートに示すように、本明細書中記載される
アルコキシクリレンは、オクトクリレンよりも予期しないほど良好な光安定化剤である。

例４〜６の前記した処方およびデータに示すように、アヴォベンゾン（ＵＶＡ）およびメトキシケイ皮酸オクチル（ＵＶＢ）の組み合わせは、安定量の化学式Ｉのアルコキシクリレンと組み合わされた際、特に驚くべき結果を示す。オクトクリレンはＵＶＢフィルタであるメトキシケイ皮酸オクチル（ＯＭＣ）を安定させるが、ＵＶＡフィルタであるアヴォベンゾンは光安定化させないことは周知である。本明細書中記載の組成物および方法によれば、化学式Ｉのアルコキシクリレンは、ＯＭＣよりもずっと良好にメトキシケイ皮酸オクチル（ＯＭＣ）を光安定化させ、アヴォベンゾンも光安定化させることが分かっている。そのため、アルコキシクリレンは、日焼け止め組成物を光安定化させることができる。従って、アルコキシクリレンを付加することにより、アヴォベンゾンおよびＯＭＣ双方を前記アルコキシクリレンによって光安定化させることができる。

例４（７％のアルコキシクリレンおよび１．８％のオクトクリレン）の場合、３５ＭＥＤ照射に露出された場合において、ＵＶＡの１８．２６％、ＵＶＢの６．４６％およびそのＳＰＭの７．４３％しか損失が無い。同一処方でアルコキシクリレンを含まない処方（例５）の場合、ＵＶＡの８０．４７％、ＵＶＢの５２．０１％、およびそのＳＰＦの７０．４２％が損失する。例６、８．８％のオクトクリレンを含みかつアルコキシクリレンを含まない場合、ＵＶＡの５５．９６％、ＵＶＢの４．５１％（オクトクリレンはＯＭＣを光安定化させるがアヴォベンゾンは光安定化させない）、およびそのＳＰＦの１６％を損失し、例４、５および６を図２、図３および図４中にグラフにより示す。

２−エチルヘキシルメトキシクリレンを０ｗｔ．％、３ｗｔ．％および５ｗｔ．％含むさらなる日焼け止め組成物を、表３の例７〜例１０中に示すように調製した。

（表３）

結果は以下の通りであり、日焼け止め処方物へのアルコキシクリレンの付加量が多いほ
ど、ＵＶＡフィルタおよびＵＶＢフィルタの光安定化が向上することが明らかに分かる。例７、ＭＯＣ量が最大（５％）でありかつＯＣ量が最小（５％）である場合、最も良好な結果が得られた。

２−エチルヘキシルメトキシクリレンを０、２，４および６ｗｔ．％含むさらなる日焼け止め組成物を調製して、アヴォベンゾンおよび他の光分解性ＵＶ吸収剤を光安定化させるメトキシクリレンの光安定化能力について試験した。詳細を表４中の例１１〜１４に示す。

（表４）

結果は以下のようになった。

例１１〜例１４の日焼け止め処方物中には、オクチルメトキシシンナマートまたは他の光安定化剤は含まれない点に留意されたい。例１１〜例１４のデータから、化学式Ｉのアルコキシクリレンは、アヴォベンゾンおよび他のジベンゾイルメタン誘導体を驚くほど有効に光安定化させることが明らかである。

表５中の例１５および例１６に示すように、２−エチルヘキシルメトキシクリレンを５ｗｔ．％含みかつＴｉｎｏｓｏｒｂ ＳまたはＴｉｎｏｓｏｒｂ Ｍを１．５ｗｔ．％含むかまたは含まないさらなる日焼け止め組成物を調製した。

（表５）

結果は以下のようになった。

例１５および例１６のＴｉｎｓｏｒｂ Ｓは、アヴォベンゾンおよびメトキシケイ皮酸オクチル双方の光安定化のための（ＵＶＡ範囲においてより効果的な）公知のＵＶＡおよびＵＶＢ光安定化剤である。驚くべきことに、例１５および例１６（これらの例はどちらとも、ＭＯＣを５％含む）のデータに示すように、例１６からＴｉｎｓｏｒｂ Ｓを省いた場合、アヴォベンゾンおよびＯＭＣの組み合わせの光安定化にほとんど差が無い。

ブチルオクチルメトキシクリレンを５ｗｔ．％およびトリアジン誘導体（Ｕｖｉｎｕｌ
Ｔ−１５０）、ベンゾフェノン誘導体（Ｕｖｉｎｕｌ Ａ Ｐｌｕｓ）、および３種類の水溶性ＵＶフィルタ（Ｍｅｘｏｎｙｌｓｘ、Ｎｅｏ Ｈｅｌｉｏｐａｎ ＡＰ、およびＮｅｏ Ｈｅｌｉｏｐａｎ Ｈｙｄｒｏ）を含むさらなる日焼け止め処方について試験した。その詳細を表６の例１７〜例２１に示す。

（表６）

さらに２種類の日焼け止め処方物（例２２および例２３）を調製した。これらの日焼け止め処方物はそれぞれブチルオクチルメトキシクリレンを含む。例２３は、Ｔｉｎｏｓｏｒｂ（登録商標）ＳおよびＴｉｎｏｓｏｒｂ（登録商標）Ｍも含む。結果に示すように、アルコキシクリレンと、ジベンゾイルメタン誘導体、ケイ皮酸エステル、Ｔｉｎａｓｏｒｂ（登録商標）ＳおよびＴｉｎａｓｏｒｂ（登録商標）Ｍ、アヴォベンゾンおよびメトキシケイ皮酸オクチルとの組み合わせは、特に光安定性が高い。

化学式（Ｉ）〜（Ｖ）の簡単なエステルアルコキシクリレン化合物に加えて、前記アルコキシクリレン成分は、１つ以上の末端成分としてポリエステル分子上に取り付けること
ができ、このようなポリエステル分子として、例えば、化学式（ＶＩ）に示すような本譲受人の米国特許第７，２３５，５８７号（‘５８７）（ここに参考のため援用する）に開示されたＤｉのアルコキシ誘導体（ＮＰＧクリレン）フマル酸エステルポリエステルがある。

式中、ＡおよびＢは同一であるかまたは異なり、酸素、アミノおよび硫黄からなる群から選択され、Ｒ¹およびＲ³は同一であるかまたは異なり、Ｃ₁−Ｃ₃₀アルキル、Ｃ₂−Ｃ₃₀アルキレン、Ｃ₂−Ｃ₃₀アルキン、Ｃ₃−Ｃ₈シクロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₃₀置換アルキレン、Ｃ₂−Ｃ₃₀置換アルキン、アリール、置換アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクロアルキル、置換ヘテロアリールおよび置換ヘテロシクロアルキルからなる群から選択され、Ｒ²は、Ｃ₁−Ｃ₃₀アルキル、Ｃ₂−Ｃ₃₀アルキレン、Ｃ₂−Ｃ₃₀アルキン、Ｃ₃−Ｃ₈シクロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₃₀置換アルキル、Ｃ₃−Ｃ₈置換シクロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₃₀置換アルキレン、Ｃ₂−Ｃ₃₀置換アルキンからなる群から選択され、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶およびＲ⁷は同一であるかまたは異なり、分岐上のＣ₁−Ｃ₃₀アルコキシ直鎖からなる群から選択され、ａ、ｂ、ｃおよびｄはそれぞれ、０または１のいずれかであり、ａ、ｂ、ｃおよびｄは合計１、２、３、または４となる。

Claims (101)

1. ＵＶ放射に晒された際に、一重項励起状態を発展させるか、または蛍光を発する光活性化合物と、一重項励起状態をクエンチする有効量の化学式（Ｉ）の化合物との混合物を含む光安定化された光活性組成物であって、
   

   

   Ｒ₁およびＲ₂のうち少なくとも１つは直鎖または分枝鎖Ｃ₁−Ｃ₃₀アルコキシラジカルであり、任意の非アルコキシＲ₁またはＲ₂は水素であり、Ｒ₃は直鎖または分枝鎖Ｃ₁−Ｃ₃₀アルキルラジカルである、
   光安定化された光活性組成物。
2. Ｒ₁はメトキシであり、Ｒ₂は水素である、請求項１に記載の光安定化された光活性組成物。
3. Ｒ₂はメトキシであり、Ｒ₁は水素である、請求項１に記載の光安定化された光活性組成物。
4. Ｒ₃はＣ₁₂−Ｃ₃₀直鎖または分枝鎖アルキルである、請求項２に記載の光安定化された光活性組成物。
5. 前記化学式（Ｉ）の化合物は、前記組成物の総重量に基づいて０．１％〜３０％の重量範囲で存在する、請求項１に記載の光安定化された光活性組成物。
6. 前記化学式（Ｉ）の化合物は、前記組成物の総重量に基づいて０．５％〜２０％の重量範囲で存在する、請求項５に記載の光安定化された光活性組成物。
7. 前記化学式（Ｉ）の化合物は、前記組成物の総重量に基づいて０．１％〜１０％の重量範囲で存在する、請求項６に記載の光安定化された光活性組成物。
8. 前記化学式（Ｉ）の化合物は、前記組成物の総重量に基づいて３％〜１０％の重量範囲で存在する、請求項７に記載の光安定化された光活性組成物。
9. 前記光活性化合物は、ｐ−アミノ安息香酸および塩およびその誘導体；アントラニル酸塩およびその誘導体；ジベンゾイルメタンおよびその誘導体；サリチル酸塩およびその誘導体；ケイ皮酸およびその誘導体；ジヒドロキシケイ皮酸およびその誘導体；カンファーおよび塩およびその誘導体；トリヒドロキシケイ皮酸およびその誘導体；ジベンザールアセトンナフトールスルホン酸塩および塩およびその誘導体；ベンザルアセトフェノンナフトールスルホネートおよび塩およびその誘導体；ジヒドロキシ−ナフトエ酸およびその塩；ｏ−ヒドロキシジフェニルジスルホネートおよび塩およびその誘導体；ｐ−ヒドロキシジフェニルジスルホネートおよび塩およびその誘導体；クマリンおよびその誘導体；ジアゾール誘導体；キニーネ誘導体およびその塩；キノリン誘導体；ヒドロキシル−置換ベンゾフェノン誘導体；ナフタレート誘導体；メトキシ−置換ベンゾフェノン誘導体；尿酸誘導体；ビロ尿酸誘導体；タンニン酸およびその誘導体；ハイドロキノン；ベンゾフェノン
   誘導体；１，３，５−トリアジン誘導体；２ナトリウムフェニルジベンズイミダゾールおよびその塩；テレフタリリデンジカンフルスルホン酸および塩およびその誘導体；メチレンｂｉｓ−ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノールおよび塩およびその誘導体；ｂｉｓ−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジンおよび塩、ジエチルアミノヒドロキシルベンゾイルおよびその誘導体；フェニルベンズイミダゾールスルホン酸およびその塩；テレフタリルイデンジカンフルスルホン酸およびその塩；および上記の組み合わせからなる群から選択される、請求項１に記載の光安定化された光活性組成物。
10. 前記光活性化合物はジベンゾイルメタン誘導体を含む、請求項１に記載の光安定化された光活性組成物。
11. ケイ皮酸エステルをさらに含む、請求項１０に記載の光安定化された光活性組成物。
12. 前記ケイ皮酸エステルはアルコキシケイ皮酸のエステルである、請求項１１に記載の光安定化された光活性組成物。
13. 前記アルコキシケイ皮酸エステルはメトキシケイ皮酸エステルである、請求項１２に記載の光安定化された光活性組成物。
14. 前記ケイ皮酸エステルは、２−エチルヘキシルｐ−メトキシケイ皮酸、イソアミルｐ−メトキシケイ皮酸、およびその組み合わせからなる群から選択される、請求項１１に記載の光安定化された光活性組成物。
15. 前記ケイ皮酸エステルは２−エチルヘキシルｐ−メトキシケイ皮酸である、請求項１２に記載の光安定化された光活性組成物。
16. 前記ジベンゾイルメタン誘導体はブチルメトキシジベンゾイルメタンを含む、請求項１３に記載の光安定化された光活性組成物。
17. ナフタレンジカルボン酸エステルを０．１〜１０ｗｔ．％さらに含む、請求項１に記載の光安定化された光活性組成物。
18. 前記ナフタレンジカルボン酸エステルは、ジエチルヘキシル２，６−ナフタレンジカルボン酸エステルを含む、請求項１５に記載の光安定化された光活性組成物。
19. サリチル酸塩またはその誘導体を０．１〜１０ｗｔ．％さらに含む、請求項１に記載の光安定化された光活性組成物。
20. サリチル酸塩またはその誘導体を０．１〜１０ｗｔ．％さらに含む、請求項１４に記載の光安定化された光活性組成物。
21. ベンゾフェノンまたはその誘導体を０．１〜１０ｗｔ．％さらに含む、請求項１に記載の光安定化された光活性組成物。
22. 前記ベンゾフェノンはベンゾフェノン−３を０．１〜１０ｗｔ．％含む、請求項１９に記載の光安定化された光活性組成物。
23. ｂｉｓ−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジンを０．１〜１０ｗｔ．％さらに含む、請求項１３に記載の光安定化された光活性組成物。
24. ジエチルヘキシルシリンギルイデンマロン酸を０．１〜１０ｗｔ．％さらに含む、請求項１３に記載の光安定化された光活性組成物。
25. 前記光活性化合物は、１，３，５−トリアジン誘導体を含む、請求項１に記載の光安定化された光活性組成物。
26. メチレンｂｉｓ−ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノールを０．１〜１０ｗｔ．％さらに含む、請求項１３に記載の光安定化された光活性組成物。
27. ジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシル安息香酸エステルを０．１〜１０ｗｔ．％さらに含む、請求項１３に記載の光安定化された光活性組成物。
28. ２ナトリウムフェニルジベンジルイミダゾールスルホン酸を０．１〜１０ｗｔ．％さらに含む、請求項１３に記載の光安定化された光活性組成物。
29. ２−（メチルベンジリデン−カンファーをさらに含む、請求項１３に記載の光安定化された光活性組成物。
30. フェニルベンズイミダゾールスルホン酸またはその塩を０．１〜１０ｗｔ．％さらに含む請求項１３に記載の光安定化された光活性組成物。
31. 前記光活性化合物は、２−メチルジベンゾイルメタン；４−メチルジベンゾイルメタン；４−イソプロピルジベンゾイルメタン；４−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾイルメタン；２，４−ジメチルジベンゾイルメタン；２−５−ジメチルジベンゾイルメタン；４，４−ジイソプロピルジベンゾイルメタン；４，４−ジメトキシジベンゾイルメタン；４−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシジベンゾイルメタン；２−メチル−５−イソプロピル−４−メトキシジベンゾイルメタン；２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシジベンゾイルメタン；２，４−ジメチル−４−メトキシジベンゾイルメタン；２，６−ジメチル−４−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシジベンゾイルメタン、およびその組み合わせからなる群から選択されたジベンゾイルメタン誘導体を含む、請求項１０に記載の光安定化された光活性組成物。
32. オクトクリレン、メチルベンジルイデンカンファー、ジエチルヘキシル２，６−ナフタレート、ジエチルヘキシルシリンギルイデンマロン酸、およびその組み合わせからなる群から選択される三重項クエンチャーを０．１〜１０ｗｔ．％さらに含む、
    請求項１に記載の光安定化された光活性組成物。
33. ベンゾフェノン−３を０．１〜１０ｗｔ．％さらに含む、請求項１５に記載の光安定化された光活性組成物。
34. サリチル酸オクチルを０．１〜１０ｗｔ．％さらに含む、請求項１５に記載の光安定化された光活性組成物。
35. 前記光活性化合物はケイ皮酸の誘導体を含む、請求項９に記載の光安定化された光活性組成物。
36. 前記光活性化合物は２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシケイ皮酸を含む、請求項１４に記載の光安定化された光活性組成物。
37. 前記光活性化合物はイソアミルメトキシケイ皮酸を含む、請求項１３に記載の光安定化された光活性組成物。
38. シアノジフェニルプロペン酸のエステルを含む、請求項１に記載の光安定化された光活性組成物。
39. 前記混合物はメチルベンジルイデンカンファーを含む、請求項１に記載の光安定化された光活性組成物。
40. 前記組成物は、メチレンｂｉｓ−ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール、塩およびその誘導体、ｂｉｓ−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジンおよび塩およびその誘導体からなる群から選択された化合物を含む、請求項１に記載の光安定化された光活性組成物。
41. 前記組成物は、ヒドロキシル−置換ベンゾフェノン誘導体またはメトキシ−置換ベンゾフェノン誘導体、またはその組み合わせを含む、請求項１に記載の光安定化された光活性組成物。
42. 化学式（ＩＩ）および（ＩＩＩ）の化合物ならびにその組み合わせからなる群から選択されたナフタレンジカルボン酸のジエステルまたはポリエステルをさらに含み、
    

    

    Ｒ₁およびＲ₂は同一であるかまたは異なり、Ｃ₁−Ｃ₂₂アルキル基、構造ＨＯ−Ｒ₄−ＯＨを有するジオール、および構造ＨＯ−Ｒ₃−（−Ｏ−Ｒ₄−）_n−ＯＨを有するポリグリコールからなる群から選択され、Ｒ₃およびＲ₄はそれぞれ同一であるかまたは異なり、Ｃ₁−Ｃ₆直鎖または分枝鎖アルキル基からなる群から選択され、ｍおよびｎはそれぞれ１〜１００の範囲にある、請求項１に記載の光安定化された光活性組成物。
43. 化学式（ＩＩＩ）のジエステルを含み、Ｒ₁およびＲ₂は２−エチルヘキシルである、請求項４２に記載の光安定化された光活性組成物。
44. 前記混合物は、化粧品用として受け入れることが可能なキャリアを含む、請求項１に記載の光安定化された光活性組成物。
45. 前記混合物は、誘電率が少なくとも約８である油相を含む、請求項１に記載の光安定化された光活性組成物。
46. （ａ）ジベンゾイルメタン誘導体および（ｂ）ケイ皮酸エステルを含む組成物のＵＶ吸
    収寿命を長くする方法であって、（ａ）と（ｂ）との反応を回避するためにまたは（ａ）および／または（ｂ）を光安定化させるようにするために有効な量の化学式（Ｉ）の化合物を付加する工程を含む、方法。
47. 前記光活性化合物は水溶性ＵＶ吸収化合物である、請求項１に記載の光安定化された光活性組成物。
48. 前記光活性化合物はスルホン化ＵＶ吸収化合物である、請求項４７に記載の光安定化された光活性組成物。
49. 前記スルホン化ＵＶ吸収化合物は、フェニレン−１，４−ｂｉｓ（２−ベンゾイミダジル）−３，３’−５，５’−テトラスルホン酸およびその対応する塩、２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホン酸およびその対応する塩およびその混合物からなる群から選択される、請求項４８に記載の光安定化された光活性組成物。
50. 前記光活性化合物は、以下の構造化学式のヒドロキシベンゾフェノンであり、
    

    

    Ｒ¹およびＲ²は、互いに独立しており、水素、Ｃ₁−Ｃ₂₀−アルキル、Ｃ₃−Ｃ₁₀−シクロアルキルまたはＣ₃−Ｃ₁₀−シクロアルケニルであり、前記置換基Ｒ¹およびＲ²は前記置換基Ｒ¹およびＲ²が結合する前記窒素原子とともに、５環または６環を形成することができ、Ｒ³はＣ₁−Ｃ₂₀−アルキルラジカルである、
    請求項１に記載の光安定化された光活性組成物。
51. 以下の構造化学式を含む少なくとも１つのジアルキルナフタレートをさらに含み、
    

    

    Ｒ¹およびＲ²は、独立して、６〜２，４個の炭素原子を有する分岐および非分岐アルキル基のうちの１つである、
    請求項５０に記載の光安定化された光活性組成物。
52. ジベンゾイルメタン誘導体および２，４−ｂｉｓ｛［４−（２−エチルヘキシルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジンのうちの少なくとも１つを含むさらなるＵＶＡフィルタ物質および／または広帯域フィルタを少なくとも１つ含む、請求項５０に記載の光安定化された光活性組成物。
53. ＵＶ−Ａフィルタ、ＵＶ−Ｂフィルタ、広帯域フィルタ、トリアジン、ベンゾトリアゾール、有機色素、無機色素およびその混合物からなる群から選択されるＵＶフィルタ物質を少なくとも１つさらに含む、請求項５０に記載の光安定化された光活性組成物。
54. 前記光活性化合物は、以下の構造を有するベンゾトリアゾール化合物を含み、
    

    

    Ｒ₁およびＲ₂は、互いに独立しており、分岐および非分岐の
    （ａ）Ｃ₁−Ｃ₁₈−アルキルラジカル；
    （ｂ）Ｃ₅−Ｃ₁₂−シクロアルキルまたはアリールラジカル
    からなる群から選択され、
    前記Ｒ¹およびＲ²は、１つ以上のＣ₁−Ｃ₄−アルキル基と必要に応じて置換される、
    請求項１に記載の光安定化された光活性組成物。
55. 前記ベンゾトリアゾールＵＶフィルタ化合物は以下の構造を有する、
    

    

    請求項５４に記載の光安定化された光活性組成物。
56. 前記ベンゾトリアゾール化合物は以下の構造を有する、
    

    

    請求項５４に記載の光安定化された光活性組成物。
57. ベンゾトリアゾール化合物を可溶化または安定化させる方法であって、可溶化または安定化させるために有効量の化学式Ｉのアルコキシクリレンを１つ以上付加する工程を含み
    、
    

    

    Ｒ₁およびＲ₂のうち少なくとも１つは直鎖または分枝鎖Ｃ₁−Ｃ₃₀アルコキシラジカルであり、任意の非アルコキシＲ₁またはＲ₂は水素であり、Ｒ₃は直鎖または分枝鎖Ｃ₁−Ｃ₃₀アルキルラジカルである、方法。
58. 前記光活性化合物は粒状ＵＶ吸収物質である、請求項１に記載の光安定化された光活性組成物。
59. 少なくとも１つの粒状ＵＶフィルタ物質は、微粉末化無機色素である、請求項５８に記載の光安定化された光活性組成物。
60. 前記微粉末化無機色素は、微粉末化金属酸化物である、請求項５９に記載の光安定化された光活性組成物。
61. 前記微粉末化金属酸化物は、チタン、亜鉛、鉄、ジルコニウム、シリコン、マンガン、アルミニウム、セリウム、およびその混合物からなる群から選択された金属の酸化物である、請求項６０に記載の光安定化された光活性組成物。
62. 前記微粉末化金属酸化物は、バリウム硫酸塩をさらに含む、請求項６０に記載の光安定化された光活性組成物。
63. 前記微粉末化金属酸化物の一次粒径は３００ｎｍ未満である、請求項６０に記載の光安定化された光活性組成物。
64. 前記微粉末化金属酸化物の一次粒径は１０〜１５０ｎｍである、請求項６３に記載の光安定化された光活性組成物。
65. 前記微粉末化金属酸化物は、表面処理された金属酸化物である、請求項６０に記載の光安定化された光活性組成物。
66. 前記粒状ＵＶ吸収物質は、前記組成物の総重量に基づいて、０．０１〜２０重量％の量存在する、請求項１に記載の光安定化された光活性組成物。
67. トリアジン、ベンゾトリアゾール、有機、無機色素、およびその混合物からなる群から選択されたさらなるＵＶフィルタ物質を少なくとも１つさらに含む、請求項５４に記載の光安定化された光活性組成物。
68. ＵＶ−Ａフィルタ物質または広帯域フィルタ物質を少なくとも１つさらに含む、請求項５４に記載の光安定化された光活性組成物。
69. 前記少なくとも１つのＵＶ−Ａフィルタ物質または広帯域フィルタ物質は、少なくとも１つのジベンゾイルメタン誘導体を含む、請求項６８に記載の光安定化された光活性組成物。
70. 前記ジベンゾイルメタン誘導体は、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２，４−ｂｉｓ｛［４−（２−エチルヘキシルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、およびその混合物からなる群から選択される、請求項６９に記載の光安定化された光活性組成物。
71. 前記光活性化合物は、
    （ａ）非対称置換型トリアジンＵＶフィルタ化合物、および
    （ｂ）以下の構造化学式を有する１つ以上のジアルキルナフタレート
    を含み、
    

    

    Ｒ¹およびＲ²は、互いに独立しており、６〜２，４個の炭素原子を有する分岐または非分岐アルキル基である、
    請求項１に記載の光安定化された光活性組成物。
72. 前記ジアルキルナフタレートはジエチルヘキシルナフタレートである、
    請求項１に記載の組成物。
73. 前記非対称置換型トリアジン化合物は、
    ２，４−ｂｉｓ｛［４−（２−エチルヘキシルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン；
    ２，４−ｂｉｓ｛［４−（３−スルホナート−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジンナトリウム塩；
    ２，４−ｂｉｓ｛［４−（３−（２−プロピルオキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン；
    ２，４−ｂｉｓ｛［４−（２−エチルヘキシルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−［（４−２−メトキシエトキシカルボニル）−フェニルアミノ］−１，３，５−トリアジン；
    ２，４−ｂｉｓ｛［４−（３−（２−プロピルオキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−［（４−エトキシカルボニル）フェニルアミノ］−１，３，５−トリアジン；
    ２，４−ｂｉｓ｛［４−（２−エチルヘキシルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（１−メチルピロール−２−イル）−１，３，５−トリアジン；
    ２，４−ｂｉｓ｛［４−ｔｒｉｓ（トリメチルシロキシシリルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン；
    ２，４−ｂｉｓ｛［４−（２−メチルプロペニルオキシ）−２−ヒドロキシル］フェニル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン；
    ２，４−ｂｉｓ｛［４−（１’，１’，１’，３’，５’，５’，５’−ヘプタメチルシロキシ−２−メチルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン；および
    ジオクチルブチルアミドトリアゾン、
    からなる群から選択される、請求項７１に記載の組成物。
74. 非対称置換型トリアジン化合物を可溶化または安定化させる方法であって、化学式Ｉのアルコキシクリレンを、可溶化または安定化させるために有効な量付加する工程を含み、
    

    

    Ｒ₁およびＲ₂のうち少なくとも１つは直鎖または分枝鎖Ｃ₁−Ｃ₃₀アルコキシラジカルであり、任意の非アルコキシＲ₁またはＲ₂は水素であり、Ｒ₃は直鎖または分枝鎖Ｃ₁−Ｃ₃₀アルキルラジカルである、方法。
75. 前記組成物は、コエンザイムＱ１０、ビタミンＡおよびその誘導体、ビタミンＥおよびその誘導体、リポ酸およびその誘導体およびカロテノイドからなる群から選択される酸化感受性のあるかまたは紫外線感受性のある成分を含む、請求項１に記載の光安定化された光活性組成物。
76. 前記少なくとも１つの酸化感受性のあるまたは紫外線感受性のある活性成分は、ビタミンＥまたはその誘導体を含む、請求項７５に記載の光安定化された光活性組成物。
77. トリアジン、ベンゾトリアゾール、室温において液状であるＵＶフィルタ、有機色素および無機色素からなる群から選択されるＵＶフィルタ物質を少なくとも１つさらに含む、請求項１に記載の光安定化された光活性組成物。
78. ２，４−ｂｉｓ｛［４−（２−エチルヘキシルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキシ−フェニル）−１，３，５−トリアジン、フェニレン−１、４−ｂｉｓ（２−ベンゾイミダジル）−３，３’−５，５’−テトラスルホン酸ｂｉｓ−ナトリウム塩、ベンゼン−１，４−ジ（２−オキソ−３−ボルニルイデンメチル−１０−スルホン酸、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチル−６−［２−メチル−３−［１，３，３，３−テトラメチル−１−［（トリメチルシリル）オキシ］ジシロキサニル］プロピル］フェノール、およびその混合物からなる群から選択されるＵＶ−Ａフィルタ物質または広帯域フィルタを少なくとも１つさらに含む、
    請求項１に記載の光安定化された光活性組成物。
79. 光子励起された光活性化合物からの一重項励起状態エネルギーを吸収することによって電子一重項状態励起エネルギーを受け入れて、前記光活性化合物を光安定化させる方法であって、前記光活性化合物を化学式（Ｉ）の化合物と混合する工程を含み、
    

    

    Ｒ₁およびＲ₂の１つまたは両方は直鎖または分枝鎖Ｃ₁−Ｃ₁₂アルコキシラジカルであり、Ｒ₃は直鎖または分枝鎖Ｃ₁−Ｃ_2,4アルキルラジカルであり、前記光活性化合物が電子一重項励起状態に達するのに十分な量だけ前記混合物をＵＶ放射に晒して、前記化学式（Ｉ）の化合物が前記励起された光活性化合物からの前記一重項励起状態エネルギーを受け
    入れ、これにより前記光活性化合物をその基底状態に戻して、前記光活性化合物がさらなるＵＶ放射を吸収できるようにする工程を含む、方法。
80. Ｒ₁はメトキシであり、Ｒ₂は水素である、請求項７９に記載の方法。
81. Ｒ₂はメトキシであり、Ｒ₁は水素である、請求項７９に記載の方法。
82. Ｒ₃はＣ₆−Ｃ_2,4直鎖または分枝鎖アルキルである、請求項８１に記載の方法。
83. 前記化学式（Ｉ）の化合物は、前記組成物の総重量に基づいて、０．１％〜２０％の重量範囲内の量存在する、請求項７９に記載の方法。
84. 前記化学式（Ｉ）の化合物は、前記組成物の総重量に基づいて、０．１％〜１０％の重量範囲内の量存在する、請求項８３に記載の方法。
85. 前記化学式（Ｉ）の化合物、前記組成物の総重量に基づいて、０．１％〜５％の重量範囲内の量存在する、請求項８４に記載の方法。
86. 前記化学式（Ｉ）の化合物の前記光活性化合物に対するモル比は０．８未満である、請求項７９に記載の方法。
87. 前記化学式（Ｉ）の化合物の前記光活性化合物に対する前記モル比は約０．１〜約０．６である、請求項８６に記載の方法。
88. 前記化学式（Ｉ）の化合物は、前記組成物の総重量に基づいて、３％〜８％の重量範囲内の量存在する、請求項８４に記載の方法。
89. 前記光活性化合物は、ｐ−アミノ安息香酸および塩およびその誘導体；アントラニル酸塩およびその誘導体；ジベンゾイルメタンおよびその誘導体；サリチル酸塩およびその誘導体；ケイ皮酸およびその誘導体；ジヒドロキシケイ皮酸およびその誘導体；カンファーおよび塩およびその誘導体；トリヒドロキシケイ皮酸およびその誘導体；ジベンザールアセトンナフトールスルホン酸塩および塩およびその誘導体；ベンザルアセトフェノンナフトールスルホネートおよび塩およびその誘導体；ジヒドロキシ−ナフトエ酸およびその塩；ｏ−ヒドロキシジフェニルジスルホネートおよび塩およびその誘導体；ｐ−ヒドロキシジフェニルジスルホネートおよび塩およびその誘導体；クマリンおよびその誘導体；ジアゾール誘導体；キニーネ誘導体およびその塩；キノリン誘導体；ヒドロキシル−置換ベンゾフェノン誘導体；メトキシ−置換ベンゾフェノン誘導体；尿酸誘導体；ビロ尿酸誘導体；タンニン酸およびその誘導体；ハイドロキノン；ベンゾフェノン誘導体；１，３，５−トリアジン誘導体；フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸塩および塩およびその誘導体；テレフタリリデンジカンフルスルホン酸および塩およびその誘導体；メチレンｂｉｓ−ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノールおよび塩およびその誘導体；ｂｉｓ−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジンおよび塩およびその誘導体；および上記の組み合わせからなる群から選択される、請求項７９に記載の方法。
90. 前記光活性化合物はジベンゾイルメタン誘導体を含む、請求項７９に記載の方法。
91. 前記光活性化合物はジベンゾイルメタン誘導体を含み、前記ジベンゾイルメタン誘導体は、２−メチルジベンゾイルメタン；４−メチルジベンゾイルメタン；４−イソプロピルジベンゾイルメタン；４−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾイルメタン；２，４−ジメチルジベ
    ンゾイルメタン；２−５−ジメチルジベンゾイルメタン；４、４−ジイソプロピルジベンゾイルメタン；４，４−ジメトキシジベンゾイルメタン；４−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシジベンゾイルメタン；２−メチル−５−イソプロピル−４−メトキシジベンゾイルメタン；２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシジベンゾイルメタン；２，４−ジメチル−４−メトキシジベンゾイルメタン；２，６−ジメチル−４−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシジベンゾイルメタン、およびその組み合わせからなる群から選択される、請求項８９に記載の方法。
92. 前記光活性化合物は、ケイ皮酸の誘導体およびジベンゾイルメタン誘導体の組み合わせを含む、請求項７９に記載の方法。
93. 前記ケイ皮酸の誘導体は、２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシケイ皮酸を含む、請求項９２に記載の方法。
94. 化学式（ＩＩ）および（ＩＩＩ）の化合物ならびにその組み合わせからなる群から選択さるナフタレンジカルボン酸のジエステルまたはポリエステルをさらに含み、
    

    

    Ｒ₁およびＲ₂は同一であるかまたは異なり、Ｃ₁−Ｃ₂₂アルキル基、構造ＨＯ−Ｒ₄−ＯＨを有するジオール、および構造ＨＯ−Ｒ₃−（−Ｏ−Ｒ₄−）ｎ−ＯＨを有するポリグリコールからなる群から選択され、Ｒ₃およびＲ₄はそれぞれ同一であるかまたは異なり、Ｃ₁−Ｃ₆直鎖または分枝鎖アルキル基からなる群から選択され、ｍおよびｎはそれぞれ１〜１００の範囲である、
    請求項７９に記載の方法。
95. 化学式（ＩＩＩ）のジエステルを含み、Ｒ₁およびＲ₂は２−エチルヘキサンである、請求項９４に記載の方法。
96. 前記混合物は、化粧品用として受け入れることが可能なキャリアを含む、請求項７９に記載の方法。
97. 前記混合物は、誘電率が少なくとも約８である油相を含む、請求項７９に記載の方法。
98. 光活性化合物および化学式（Ｖ）の化合物の混合物を含む光安定化された光活性組成物であって、
    

    

    ＡおよびＢは同一であるかまたは異なり、酸素、アミノおよび硫黄からなる群から選択され、Ｒ¹およびＲ³は同一であるかまたは異なり、Ｃ₁−Ｃ₃₀アルキル、Ｃ₂−Ｃ₃₀アルキレン、Ｃ₂−Ｃ₃₀アルキン、Ｃ₃−Ｃ₈シクロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₃₀置換アルキレン、Ｃ₂−Ｃ₃₀置換アルキン、アリール、置換アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクロアルキル、置換ヘテロアリールおよび置換ヘテロシクロアルキルからなる群から選択され、Ｒ²は、Ｃ₁−Ｃ₃₀アルキル、Ｃ₂−Ｃ₃₀アルキレン、Ｃ₂−Ｃ₃₀アルキン、Ｃ₃−Ｃ₈シクロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₃₀置換アルキル、Ｃ₃−Ｃ₈置換シクロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₃₀置換アルキレン、Ｃ₂−Ｃ₃₀置換アルキンからなる群から選択され、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶およびＲ⁷は同一であるかまたは異なり、分岐上のＣ₁−Ｃ₃₀アルコキシ直鎖からなる群から選択され、ａ、ｂ、ｃおよびｄはそれぞれ、０または１のいずれかであり、ａ、ｂ、ｃおよびｄは合計で１、２、３または４である、組成物。
99. 前記光活性化合物は、ジベンゾイルメタン誘導体、ケイ皮酸エステルおよびその組み合わせから選択される、請求項９８に記載の組成物。
100. 前記光活性化合物はサリチル酸オクチルを含む、請求項９９に記載の組成物。
101. 光子励起された光活性化合物からの電子一重項状態の励起エネルギー受け入れ、これにより前記光活性化合物を光安定化させる方法であって、前記光活性化合物を化学式（ＶＩ）の化合物と混合する工程を含み、
     

     

     ＡおよびＢは同一であるかまたは異なり、酸素、アミノおよび硫黄からなる群から選択され、Ｒ¹およびＲ³は同一であるかまたは異なり、Ｃ₁−Ｃ₃₀アルキル、Ｃ₂−Ｃ₃₀アルキレン、Ｃ₂−Ｃ₃₀アルキン、Ｃ₃−Ｃ₈シクロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₃₀置換アルキレン、Ｃ₂−Ｃ₃₀置換アルキン、アリール、置換アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクロアルキル、置換ヘテロアリールおよび置換ヘテロシクロアルキルからなる群から選択され、Ｒ²は、Ｃ₁−Ｃ₃₀アルキル、Ｃ₂−Ｃ₃₀アルキレン、Ｃ₂Ｃ₃₀アルキン、Ｃ₃−Ｃ₈シクロアルキル、Ｃ
     ₁−Ｃ₃₀置換アルキル、Ｃ₃−Ｃ₈置換シクロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₃₀置換アルキレン、Ｃ₂−Ｃ₃₀置換アルキンからなる群から選択され、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶およびＲ⁷は同一であるかまたは異なり、分岐上のＣ₁−Ｃ₃₀アルコキシ直鎖からなる群から選択され、ａ、ｂ、ｃおよびｄはそれぞれ、０または１のいずれかであり、ａ、ｂ、ｃおよびｄは合計で１、２、３または４であり、
     前記光活性化合物が電子一重項励起状態に達するのに十分なだけの量の前記混合物をＵＶ放射に晒し、これにより前記化学式（Ｖ）の化合物が前記励起された光活性化合物からの前記一重項励起状態エネルギーを受け入れ、これにより前記光活性化合物をその基底状態に戻して、これにより前記光活性化合物がさらなるＵＶ放射を吸収できるようにする工程を含む、方法。

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