[go: up one dir, main page]

JP2010238322A - Curable resin composition for optical disk, cured material thereof and optical disk - Google Patents

Curable resin composition for optical disk, cured material thereof and optical disk Download PDF

Info

Publication number
JP2010238322A
JP2010238322A JP2009087226A JP2009087226A JP2010238322A JP 2010238322 A JP2010238322 A JP 2010238322A JP 2009087226 A JP2009087226 A JP 2009087226A JP 2009087226 A JP2009087226 A JP 2009087226A JP 2010238322 A JP2010238322 A JP 2010238322A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
meth
acrylate
resin composition
curable resin
compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2009087226A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yuichi Kawada
雄一 川田
Yasuhiro Matsuda
安弘 松田
Hiromi Tachibana
裕己 橘
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Shokubai Co Ltd
Original Assignee
Nippon Shokubai Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Shokubai Co Ltd filed Critical Nippon Shokubai Co Ltd
Priority to JP2009087226A priority Critical patent/JP2010238322A/en
Publication of JP2010238322A publication Critical patent/JP2010238322A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/582Recycling of unreacted starting or intermediate materials

Landscapes

  • Graft Or Block Polymers (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a curable resin composition for an optical disk which can give a cured material in which permanent deformation of pressure welding marks, dents, or the like is sufficiently suppressed and achieve more reliable recording and reproducing, wherein warpage is remarkably small, and to provide a cured material obtained by curing the same, and an optical disk having a layer formed by curing such a resin composition. <P>SOLUTION: The curable resin composition for the optical disk includes (a) a (meta) acrylate compound having an alicyclic structure and/or an aliphatic heterocyclic structure, (b) at least one species of a compound selected from a group consisting of a urethane (meta) acrylate compound, a polyester (meta) acrylate compound, an epoxy (meta) acrylate compound, and oligomer and/or polymer having a (meta) acryloyl group at a side chain, (c) another (meta) acrylate compound, and further (d) a photopolymerization initiator. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、光ディスク用硬化性樹脂組成物、その硬化物及び光ディスクに関する。より詳しくは、ブルーレイディスク等の光ディスクに用いられる硬化性の樹脂組成物及びその硬化物、並びに、その樹脂組成物を用いてなる光ディスクに関する。 The present invention relates to a curable resin composition for optical discs, a cured product thereof, and an optical disc. More specifically, the present invention relates to a curable resin composition used for an optical disc such as a Blu-ray disc, a cured product thereof, and an optical disc using the resin composition.

近年、情報技術の発展により、音楽、画像、映像等の膨大なデジタル情報を長期間保存するための高密度大容量の光記録媒体(光ディスク)が要求されている。例えば、デジタルハイビジョン放送が始まったことで、フルハイビジョン対応の大画面の液晶やプラズマテレビが普及するようになったが、従来の光記録媒体であるDVD(digital versatile disc)では記録容量が小さく、高品位の動画像を長時間録画することができなかった。そこで、高密度大容量の光記録媒体の新規格として、青色レーザー光で情報を記録・再生するブルーレイディスクが開発され、販売されるようになった。 In recent years, with the development of information technology, a high-density and large-capacity optical recording medium (optical disk) for storing a large amount of digital information such as music, images and videos for a long period of time has been demanded. For example, the launch of digital high-definition broadcasting has led to the spread of large-screen LCDs and plasma televisions that are compatible with full high-definition, but DVD (digital versatile disc), which is a conventional optical recording medium, has a small recording capacity, High-quality moving images could not be recorded for a long time. Therefore, as a new standard for high-density and large-capacity optical recording media, Blu-ray discs that record and reproduce information with blue laser light have been developed and sold.

この新規格では、光記録媒体の大容量化のために波長405nmの青色レーザー光を採用し、記録・再生光学系対物レンズ(光学レンズ)の開口数(NA)を0.85に大きくして、記録・再生時のレーザービームスポット径をDVDの約0.44倍まで小さく、また信号が記録されるトラックピッチ(間隔)を約0.43倍に狭くすることにより、DVDの約5倍以上もの大容量化が実現されている。 In this new standard, blue laser light with a wavelength of 405 nm is used to increase the capacity of optical recording media, and the numerical aperture (NA) of the recording / reproducing optical system objective lens (optical lens) is increased to 0.85. The laser beam spot diameter during recording / playback is reduced to about 0.44 times that of DVD, and the track pitch (interval) at which signals are recorded is reduced to about 0.43 times, so that it is more than about 5 times that of DVD. Large capacity has been realized.

一般に、光ディスクには、レーザー入射側から見てディスク表面に、傷やホコリからの保護として透明な保護層(カバー層)が施されている。保護層の厚み(保護層の高さ;ディスク表面と信号の記録面との距離)は、DVDでは約600μmであったが、ブルーレイディスクでは、高NA化を実現するために約100μmと大幅に薄くなっており、これにより、ディスクの反り等による傾きで生じるレーザー光スポットの歪(ボケ)が抑えられ、信頼性の高い記録・再生が実現されるようになっている。 In general, a transparent protective layer (cover layer) is applied to the optical disk as a protection from scratches and dust on the optical disk surface as viewed from the laser incident side. The thickness of the protective layer (height of the protective layer; the distance between the disc surface and the signal recording surface) was about 600 μm for DVDs, but about 100 μm for Blu-ray discs to achieve high NA. As a result, the laser beam spot distortion (blurring) caused by tilting of the disk due to the warpage of the disk is suppressed, and highly reliable recording / reproduction is realized.

このような光ディスクの保護層に関し、特許文献1には、その厚みの均一性が情報の記録再生に大きな影響を与えるために、非常に高い均一性が要求される旨が記載されており、特許文献2には、ディスク表面から記録層までの厚さむらが±2μm公差をクリアする必要性が記載されている。また、特許文献3には、保護層として積層シートを用いた場合、積層シートを巻き取る際に生じる圧迫痕や凹み等の傷が原因でレーザー光のスポット位置が変動し、データの書き込みや読み出しのエラーが発生することが記載されている。 Regarding such a protective layer of an optical disk, Patent Document 1 describes that a very high uniformity is required because the uniformity of the thickness has a great influence on the recording and reproduction of information. Document 2 describes the necessity for the thickness unevenness from the disk surface to the recording layer to clear a tolerance of ± 2 μm. Further, in Patent Document 3, when a laminated sheet is used as a protective layer, the spot position of the laser beam fluctuates due to a scratch such as a compression mark or a dent generated when the laminated sheet is wound, and data writing or reading is performed. It is described that an error occurs.

また光ディスクの保護層等に用いられる樹脂組成物について、例えば、特許文献4には、少なくとも1層の樹脂層を含み、かつ引張降伏強さ及び引張降伏伸びが特定範囲にある光透過層が開示され、使用される樹脂として具体的には、2官能オリゴマー、単官能アクリルモノマー及び光重合開始剤を含む紫外線硬化型樹脂が開示されている。特許文献5には、反り抑制層、支持基体、反射膜、第2誘電体層、記録層、第1誘電体層及び光透過層をこの順に有する光記録媒体が開示され、反り抑制層及び光透過層を形成する樹脂として、アクリル系樹脂やエポキシ系樹脂が開示されている。特許文献6には、30℃での弾性率と膜厚との積が特定範囲にある光透過層が開示され、具体的には、ビスフェノールA型エポキシ(メタ)アクリレートやウレタン(メタ)アクリレートを含み、更に他の(メタ)アクリレート化合物及び光重合開始剤を含む紫外線硬化型組成物が開示されている。特許文献7には、光透過層を形成する組成物として、ウレタン(メタ)アクリレート、特定構造を有する(メタ)アクリレートを2種、光重合開始剤及びアミノエーテル光安定剤を含有する硬化性組成物が開示されている。特許文献8には、保護層を形成する組成物として、ウレタン(メタ)アクリレート化合物、それ以外のエチレン性不飽和化合物及び光重合開始剤を含む組成物が開示されている。 As for a resin composition used for a protective layer of an optical disk, for example, Patent Document 4 discloses a light transmission layer including at least one resin layer and having a tensile yield strength and a tensile yield elongation in a specific range. Specifically, an ultraviolet curable resin containing a bifunctional oligomer, a monofunctional acrylic monomer, and a photopolymerization initiator is disclosed as a resin to be used. Patent Document 5 discloses an optical recording medium having a warp suppression layer, a support base, a reflective film, a second dielectric layer, a recording layer, a first dielectric layer, and a light transmission layer in this order. An acrylic resin or an epoxy resin is disclosed as a resin for forming the transmission layer. Patent Document 6 discloses a light-transmitting layer in which the product of the elastic modulus at 30 ° C. and the film thickness is in a specific range. Specifically, bisphenol A type epoxy (meth) acrylate and urethane (meth) acrylate are used. In addition, an ultraviolet curable composition containing another (meth) acrylate compound and a photopolymerization initiator is disclosed. Patent Document 7 discloses a curable composition containing urethane (meth) acrylate, two types of (meth) acrylate having a specific structure, a photopolymerization initiator and an amino ether light stabilizer as a composition for forming a light transmission layer. Things are disclosed. Patent Document 8 discloses a composition containing a urethane (meth) acrylate compound, another ethylenically unsaturated compound and a photopolymerization initiator as a composition for forming a protective layer.

特開2006−351102号公報(第3頁等)JP 2006-351102 A (page 3 etc.) 特開2007−115356号公報(第2〜3頁等)JP 2007-115356 A (pages 2 to 3 etc.) 特開2008−126518号公報(第1〜2頁等)JP 2008-126518 A (pages 1 and 2 etc.) 特開2002−157782号公報(第2、8頁等)JP 2002-157782 A (2nd, 8th pages, etc.) 特開2003−132596号公報(第3頁、図1等)JP 2003-132596 A (3rd page, FIG. 1 etc.) 特開2007−102980号公報(第2、8、11〜14頁等)JP 2007-102980 (No. 2, 8, 11-14 pages, etc.) 特開2007−213744号公報(第2頁等)JP 2007-213744 A (2nd page etc.) 特開2005−158253号公報(第2頁等)Japanese Patent Laying-Open No. 2005-158253 (second page, etc.)

上記のように、種々の光ディスク用の樹脂組成物が開発されている。
ここで、光ディスクを構成する保護層の厚みにムラがあると、情報の記録・再生に影響を及ぼすため、保護層の厚みには均一性が求められており、厚みを100μm±2〜3μm内に制御する必要があるが、長期安定した情報の記録・再生の観点から、ディスク保存時に保護層の厚みの変化が小さいこともまた、要求される。また、ディスクへの圧迫痕や凹み等の傷(永久的な変形)があると、レーザースポット位置が変動し、この場合も情報の記録・再生に影響を及ぼすことがあるため、永久的な変形を充分に防止することが望まれる。
As described above, various resin compositions for optical disks have been developed.
Here, if the thickness of the protective layer constituting the optical disk is uneven, it affects information recording / reproduction. Therefore, the thickness of the protective layer is required to be uniform, and the thickness is within 100 μm ± 2 to 3 μm. However, from the viewpoint of stable information recording / reproduction for a long period of time, it is also required that the change in the thickness of the protective layer is small during disk storage. Also, if there are scratches (permanent deformation) such as compression marks or dents on the disc, the laser spot position will fluctuate, and this may also affect the recording / reproducing of information. It is desirable to sufficiently prevent this.

また保護層の形成方法としては、主に、ポリカーボネート製のシートを紫外線硬化型の接着剤で貼り合わせるシート接着法と、紫外線硬化型の樹脂をスピンコートで塗布し、紫外線を照射して樹脂を硬化させるスピンコート法との2つの手法があるが、現在はコストの面からスピンコート法が主流になっている。しかし、紫外線硬化型の樹脂を用いて保護層を形成する場合には、膜厚均一性が求められることに加えて、主に紫外線硬化型の樹脂の硬化収縮によって光ディスクに反りが生じることが多々ある。そのため、予めディスク基板を塗布面とは逆に反らすようにしたり、再生・記録装置での補正等が行われたりするが、許容範囲(補正可能な範囲)を超えた反りが発生すると、光ディスクへの正確なデータ記録や再生ができない場合や、再生・記録装置への出し入れができなくなる場合がある。 In addition, as a method for forming the protective layer, mainly a sheet bonding method in which a polycarbonate sheet is bonded with an ultraviolet curable adhesive, an ultraviolet curable resin is applied by spin coating, and the resin is irradiated with ultraviolet rays. There are two methods, ie, a spin coating method for curing, but at present, the spin coating method is mainly used from the viewpoint of cost. However, in the case where the protective layer is formed using an ultraviolet curable resin, in addition to being required to have a uniform film thickness, the optical disk is often warped mainly by curing shrinkage of the ultraviolet curable resin. is there. For this reason, the disk substrate is warped in advance opposite to the coated surface, or correction or the like is performed by a reproducing / recording device. However, if warpage exceeding an allowable range (correctable range) occurs, the optical disk is In some cases, accurate data recording and reproduction cannot be performed, and it is not possible to insert / remove to / from the reproduction / recording apparatus.

したがって、光ディスクの保護層等を構成する樹脂組成物には、硬化物とした際に、硬度が高く、かつ透明性や膜厚均一性に優れるとの特性に加えて、永久的な変形を充分に抑制するとともに、反りが著しく小さいという特性を充分に発揮することが望まれるが、従来の樹脂組成物にはこれらの特性を充分に両立できるものは未だない。 Therefore, the resin composition constituting the protective layer of the optical disk has sufficient permanent deformation in addition to the properties of high hardness and excellent transparency and film thickness uniformity when cured. In addition, it is desired to sufficiently exhibit the characteristics that the warpage is extremely small, but no conventional resin composition has yet been able to achieve both of these characteristics sufficiently.

本発明は、上記現状に鑑み、反りが著しく小さく、かつ圧接痕や凹み等の永久的な変形が充分に抑制された硬化物を与えることができ、より信頼性の高い記録・再生を実現できる光ディスク用硬化性樹脂組成物、及び、それを硬化して得られる硬化物、並びに、このような樹脂組成物を硬化させてなる層を有する光ディスクを提供することを目的とするものである。 In view of the above-mentioned present situation, the present invention can provide a cured product in which warpage is remarkably small and permanent deformation such as pressure marks and dents is sufficiently suppressed, and more reliable recording and reproduction can be realized. An object of the present invention is to provide a curable resin composition for an optical disc, a cured product obtained by curing the same, and an optical disc having a layer obtained by curing such a resin composition.

本発明者等は、ブルーレイディスク等の大容量光ディスクに用いられる硬化性樹脂組成物について種々検討したところ、(a)ホモポリマーの硬化物が特定のガラス転移温度(Tg)を示す脂環構造及び/又は脂肪族複素環構造を有する(メタ)アクリレート化合物と、(b)特定の構造を有し、かつ、単独の硬化物が特定のTg値及び弾性率を示す(メタ)アクリレート化合物と、(c)その他の(メタ)アクリレート化合物とを、特定の含有比で含み、更に、(d)光重合開始剤を含有する樹脂組成物とすると、その硬化物が透明性や硬度、残膜性に優れるのみならず、反りが著しく小さく、しかも圧接痕や凹み等による永久的な変形(永久変形)が充分に抑制されることを見いだし、長期保存安定性に著しく優れた硬化物が得られることを見いだした。また、このような硬化性樹脂組成物が、ブルーレイディスク等の高容量光ディスクにおける保護層等に特に有用なものとなることを見いだし、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。
なお、本発明において、反りが小さいとは、初期の反りが小さいことのみならず、長期安定性を確認する耐熱試験(加熱促進試験)時においても反りが増加しない(小さい)ことを意味し、長期保存安定性に優れるとは、初期の又は加熱促進試験時の低反り性や残膜性、圧接痕や凹み等の永久変形量が小さいことを意味する。
The present inventors have made various studies on curable resin compositions used for large-capacity optical discs such as Blu-ray discs, and (a) an alicyclic structure in which a cured product of a homopolymer exhibits a specific glass transition temperature (Tg) and (Or) a (meth) acrylate compound having an aliphatic heterocyclic structure, (b) a (meth) acrylate compound having a specific structure and a single cured product exhibiting a specific Tg value and elastic modulus, c) When the resin composition contains other (meth) acrylate compound in a specific content ratio and further contains (d) a photopolymerization initiator, the cured product has transparency, hardness and remaining film properties. Not only is it excellent, but it is found that the warpage is remarkably small and permanent deformation (permanent deformation) due to pressure marks or dents is sufficiently suppressed, and a cured product with extremely excellent long-term storage stability can be obtained. It was found. Further, the inventors have found that such a curable resin composition is particularly useful for a protective layer in a high-capacity optical disc such as a Blu-ray disc, and conceived that the above problems can be solved brilliantly. Has reached
In the present invention, the small warpage means not only that the initial warpage is small, but also that the warpage does not increase (small) during the heat resistance test (heating acceleration test) for confirming long-term stability, “Excellent long-term storage stability” means that the amount of permanent deformation such as low warpage, residual film property, pressure marks and dents at the initial stage or during the heating acceleration test is small.

すなわち本発明は、基板と、情報読み取り用のレーザー光を反射させる反射膜と、厚さ20〜150μmの保護層とをこの順に有する光ディスクに用いられる硬化性樹脂組成物であって、上記硬化性樹脂組成物は、(a)ホモポリマーの硬化物のガラス転移温度が50℃以上である、脂環構造及び/又は脂肪族複素環構造を有する(メタ)アクリレート化合物と、(b)ウレタン(メタ)アクリレート化合物、ポリエステル(メタ)アクリレート化合物、エポキシ(メタ)アクリレート化合物、及び、側鎖に(メタ)アクリロイル基を有するオリゴマー又はポリマーからなる群より選択される少なくとも1種の化合物であって、分子中にラジカル重合性不飽和基を2以上有し、単独の硬化物のガラス転移温度が15〜100℃であり、かつ25℃における弾性率が150〜2000MPaである化合物(但し、(a)成分に該当する化合物を除く。)と、(c)該(a)及び(b)成分以外の(メタ)アクリレート化合物とを、これら(a)、(b)及び(c)成分の総量100質量%に対し、各々、(a)20〜55質量%、(b)15〜65質量%、(c)5〜40質量%含んでなり、上記硬化性樹脂組成物は、更に(d)光重合開始剤を含有する光ディスク用硬化性樹脂組成物である。
本発明はまた、上記光ディスク用硬化性樹脂組成物を硬化して得られる硬化物でもある。
本発明は更に、上記光ディスク用硬化性樹脂組成物を硬化させてなる層を有する光ディスクでもある。
以下に本発明を詳述する。
That is, the present invention is a curable resin composition used for an optical disc having a substrate, a reflective film that reflects a laser beam for reading information, and a protective layer having a thickness of 20 to 150 μm in this order. The resin composition comprises (a) a (meth) acrylate compound having an alicyclic structure and / or an aliphatic heterocyclic structure, wherein the glass transition temperature of the homopolymer cured product is 50 ° C. or higher, and (b) urethane (meta ) At least one compound selected from the group consisting of an acrylate compound, a polyester (meth) acrylate compound, an epoxy (meth) acrylate compound, and an oligomer or polymer having a (meth) acryloyl group in the side chain, It has two or more radically polymerizable unsaturated groups in it, the glass transition temperature of a single cured product is 15 to 100 ° C., and 2 A compound having an elastic modulus at 150 ° C. of 150 to 2000 MPa (excluding a compound corresponding to the component (a)), and (c) a (meth) acrylate compound other than the components (a) and (b), (A) 20 to 55% by mass, (b) 15 to 65% by mass, and (c) 5 to 40% by mass with respect to the total amount of these (a), (b) and (c) components of 100% by mass. The curable resin composition is a curable resin composition for optical discs further containing (d) a photopolymerization initiator.
The present invention is also a cured product obtained by curing the above curable resin composition for optical disks.
The present invention is also an optical disc having a layer formed by curing the curable resin composition for an optical disc.
The present invention is described in detail below.

本発明の光ディスク用硬化性樹脂組成物は、基板と、情報読み取り用のレーザー光を反射させる反射膜と、厚さ20〜150μmの保護層とをこの順に有する光ディスクに用いられるものであり、基板、反射膜及び保護層を必須とする光ディスクである限り、更に他の機能層を有するものであってもよく、これらの各層の間に他の機能層を有するものであってもよい。 The curable resin composition for an optical disk of the present invention is used for an optical disk having a substrate, a reflective film that reflects a laser beam for reading information, and a protective layer having a thickness of 20 to 150 μm in this order. As long as it is an optical disc in which a reflective film and a protective layer are essential, it may have other functional layers, and may have other functional layers between these layers.

上記光ディスク用硬化性樹脂組成物(以下、単に「樹脂組成物」ともいう。)は、(a)ホモポリマーの硬化物のガラス転移温度が50℃以上である、脂環構造及び/又は脂肪族複素環構造を有する(メタ)アクリレート化合物と、(b)ウレタン(メタ)アクリレート化合物、ポリエステル(メタ)アクリレート化合物、エポキシ(メタ)アクリレート化合物、及び、側鎖に(メタ)アクリロイル基を有するオリゴマー又はポリマーからなる群より選択される少なくとも1種の化合物であって、分子中にラジカル重合性不飽和基を2以上有し、単独の硬化物のガラス転移温度が15〜100℃であり、かつ25℃における弾性率が150〜2000MPaである化合物(但し、(a)に該当する化合物を除く。)と、(c)該(a)及び(b)以外の(メタ)アクリレート化合物と、(d)光重合開始剤とを含むものである。なお、これらの必須成分は、各々1種又は2種以上使用してもよく、本発明の作用効果を損なわない限り、他の成分を更に含有していてもよい。
以下では、上記(a)の(メタ)アクリレート化合物を「(メタ)アクリレート化合物(a)」又は「(a)成分」、上記(b)の化合物を「化合物(b)」又は「(b)成分」、上記(c)の(メタ)アクリレート化合物を「(メタ)アクリレート化合物(c)」又は「(c)成分」とも称す。
The curable resin composition for optical disks (hereinafter, also simply referred to as “resin composition”) has an alicyclic structure and / or an aliphatic structure in which the glass transition temperature of (a) a homopolymer cured product is 50 ° C. or higher. (Meth) acrylate compound having a heterocyclic structure and (b) urethane (meth) acrylate compound, polyester (meth) acrylate compound, epoxy (meth) acrylate compound, and oligomer having (meth) acryloyl group in the side chain or At least one compound selected from the group consisting of polymers, having two or more radically polymerizable unsaturated groups in the molecule, the glass transition temperature of a single cured product being 15 to 100 ° C., and 25 A compound having an elastic modulus at 150 ° C. of 150 to 2000 MPa (excluding a compound corresponding to (a)), (c) the (a) and ( ) And other (meth) acrylate compounds, those containing a (d) a photopolymerization initiator. Each of these essential components may be used alone or in combination of two or more, and may further contain other components as long as the effects of the present invention are not impaired.
Hereinafter, the (meth) acrylate compound (a) is referred to as “(meth) acrylate compound (a)” or “(a) component”, and the compound (b) is referred to as “compound (b)” or “(b)”. The “component” and the (meth) acrylate compound (c) above are also referred to as “(meth) acrylate compound (c)” or “component (c)”.

上記光ディスク用硬化性樹脂組成物において、上記(a)、(b)及び(c)成分の含有割合としては、これらの総量100質量%に対し、各々、(a)20〜55質量%、(b)15〜65質量%、(c)5〜40質量%であることが適当である。このような範囲に設定することにより、硬化物の硬度が高く、かつ透明性や残膜性、膜厚均一性に優れるとの特性に加えて、永久的な変形を充分に抑制するとともに、反りが著しく小さいという特性を充分に発揮できるが、各成分の含有割合が上記範囲を外れると、このような効果が発揮できない。例えば、(a)成分の含有割合が上記範囲より少ないと、永久的な変形を充分に抑制できず、(c)成分の含有割合が上記範囲より少ないと、硬化後の反りを充分に抑制できず、長期保存安定性に優れる硬化物が得られないおそれがある。
上記(a)、(b)及び(c)成分の総量100質量%に対し、(a)成分の含有割合の好ましい範囲は30〜55質量%、より好ましくは30〜40質量%である。また、(b)成分の含有割合の好ましい範囲は20〜60質量%、より好ましくは30〜50質量%であり、(c)成分の含有割合の好ましい範囲は5〜30質量%、より好ましくは10〜30質量%、更に好ましくは10〜20質量%である。
In the curable resin composition for optical discs, the content ratios of the components (a), (b), and (c) are (a) 20 to 55% by mass with respect to the total amount of 100% by mass, ( b) 15 to 65% by mass and (c) 5 to 40% by mass are appropriate. By setting in such a range, in addition to the properties that the hardness of the cured product is high and excellent in transparency, residual film properties, and film thickness uniformity, permanent deformation is sufficiently suppressed and warpage is suppressed. However, if the content ratio of each component is out of the above range, such an effect cannot be exhibited. For example, if the content ratio of the component (a) is less than the above range, permanent deformation cannot be sufficiently suppressed, and if the content ratio of the component (c) is less than the above range, warping after curing can be sufficiently suppressed. Therefore, there is a possibility that a cured product having excellent long-term storage stability cannot be obtained.
The preferable range of the content of the component (a) is 30 to 55% by mass, and more preferably 30 to 40% by mass with respect to 100% by mass of the total amount of the components (a), (b) and (c). Moreover, the preferable range of the content rate of (b) component is 20-60 mass%, More preferably, it is 30-50 mass%, The preferable range of the content rate of (c) component is 5-30 mass%, More preferably It is 10-30 mass%, More preferably, it is 10-20 mass%.

上記(メタ)アクリレート化合物(a)は、分子中に脂環構造及び/又は脂肪族複素環構造を有するものであるが、脂環構造としては、炭素数3〜30の脂環構造であることが好ましい。より好ましくは炭素数6〜20である。また、脂肪族複素環構造としては、ヘテロ原子が酸素原子であることが好適であり、また、複素環の員数は4〜30であることが好ましく、より好ましくは員数6〜20である。
なお、(メタ)アクリレート化合物(a)は、単量体(モノマー)の形態であることが好適である。
The (meth) acrylate compound (a) has an alicyclic structure and / or an aliphatic heterocyclic structure in the molecule, and the alicyclic structure is an alicyclic structure having 3 to 30 carbon atoms. Is preferred. More preferably, it has 6 to 20 carbon atoms. Moreover, as an aliphatic heterocyclic structure, it is suitable that a hetero atom is an oxygen atom, and it is preferable that the number of members of a heterocyclic ring is 4-30, More preferably, it is 6-20.
The (meth) acrylate compound (a) is preferably in the form of a monomer (monomer).

上記(メタ)アクリレート化合物(a)はまた、そのホモポリマーの硬化物のガラス転移温度が50℃以上となる化合物であることが適当である。これにより、高硬度の硬化物を得ることができ、また、硬化物において、永久変形量を充分に抑制することが可能になる。より好ましくは60℃以上であり、更に好ましくは70℃以上である。また、反りをより充分に防止する観点から、300℃以下が好適であり、より好ましくは280℃以下、更に好ましくは250℃以下である。
上記ガラス転移温度は、ホモポリマーを硬化して得た硬化物について、下記測定条件の下、動的粘弾性測定法により求められる値であり、最大tanδ値の温度を採用するものとする。
<測定条件>
引っ張りモード、周波数1Hz、クランプ距離25mm、振幅0.1%、昇温速度5℃/分の条件で動的粘弾性の測定を行う。
The (meth) acrylate compound (a) is also suitably a compound having a glass transition temperature of 50 ° C. or higher of the homopolymer cured product. Thereby, a hardened | cured material can be obtained and it becomes possible to fully suppress the amount of permanent deformation in hardened | cured material. More preferably, it is 60 degreeC or more, More preferably, it is 70 degreeC or more. Further, from the viewpoint of sufficiently preventing warpage, 300 ° C. or lower is suitable, more preferably 280 ° C. or lower, and further preferably 250 ° C. or lower.
The glass transition temperature is a value obtained by a dynamic viscoelasticity measurement method under the following measurement conditions for a cured product obtained by curing a homopolymer, and the temperature of the maximum tan δ value is adopted.
<Measurement conditions>
The dynamic viscoelasticity is measured under the conditions of a tensile mode, a frequency of 1 Hz, a clamp distance of 25 mm, an amplitude of 0.1%, and a heating rate of 5 ° C./min.

上記(メタ)アクリレート化合物(a)として具体的には、例えば、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、1−アダマンチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート等の脂環構造を有する単官能(1官能)(メタ)アクリレート化合物;ジメチロール−トリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールルジ(メタ)アクリレート、シクロヘキサンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ノルボルナンジメタノールジ(メタ)アクリレート、p−メンタンー1,8−ジオールジ(メタ)アクリレート、p−メンタン−2,8−ジオールジ(メタ)アクリレート、p−メンタン−3,8−ジオールジ(メタ)アクリレート、ビシクロ[2.2.2]−オクタン−1−メチル−4−イソプロピル−5,6−ジメチロールジ(メタ)アクリレート等の脂環構造を有する多官能(メタ)アクリレート化合物;ジオキソランジアクリレート、4−(メタ)アクリロイルオキシメチル−2−メチル−2−エチル−1,3−ジオキソラン、4−(メタ)アクリロイルオキシメチル−2−メチル−2−イソブチル−1,3−ジオキソラン、4−(メタ)アクリロイルオキシメチル−2−シクロヘキシル−1,3−ジオキソラン、4−(メタ)アクリロイルオキシメチル−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン等のジオキソラン系(メタ)アクリレート化合物;下記式(3)で表される化合物(2−(メタ)アクリロイルオキシイソブチル−5−エチル−5−(メタ)アクリロイルオキシメチル−1,3−ジオキサン)等のジオキサン系(メタ)アクリレート化合物等の1種又は2種以上が好適である。 Specific examples of the (meth) acrylate compound (a) include, for example, cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, 1-adamantyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, and dicyclopentenyl (meth) acrylate. , Monofunctional (monofunctional) (meth) acrylate compounds having an alicyclic structure such as dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate; dimethylol-tricyclodecane di (meth) acrylate, penta Cyclopentadecane dimethanol di (meth) acrylate, cyclohexane dimethanol di (meth) acrylate, norbornane dimethanol di (meth) acrylate, p-menthane-1,8-diol di (meth) acrylate, p Menthane-2,8-diol di (meth) acrylate, p-menthane-3,8-diol di (meth) acrylate, bicyclo [2.2.2] -octane-1-methyl-4-isopropyl-5,6-dimethylol di Polyfunctional (meth) acrylate compounds having an alicyclic structure such as (meth) acrylate; dioxolane diacrylate, 4- (meth) acryloyloxymethyl-2-methyl-2-ethyl-1,3-dioxolane, 4- (meta ) Acryloyloxymethyl-2-methyl-2-isobutyl-1,3-dioxolane, 4- (meth) acryloyloxymethyl-2-cyclohexyl-1,3-dioxolane, 4- (meth) acryloyloxymethyl-2,2 -Dioxolane-based (meth) acrylate compounds such as dimethyl-1,3-dioxolane Dioxane-based (meth) acrylate compounds such as compounds represented by the following formula (3) (2- (meth) acryloyloxyisobutyl-5-ethyl-5- (meth) acryloyloxymethyl-1,3-dioxane), etc. One type or two or more types are preferable.

Figure 2010238322
Figure 2010238322

上記(メタ)アクリレート化合物(a)の中でも、単官能化合物と多官能化合物とを併用することが好適である。これにより、永久的な変形が更に充分に防止され、長期保存安定性により一層優れる硬化物を与えることが可能となる。このように、上記(メタ)アクリレート化合物(a)が、(a1)脂環構造及び/又は脂肪族複素環構造を有する単官能(メタ)アクリレート化合物と、(a2)脂環構造及び/又は脂肪族複素環構造を有する多官能(メタ)アクリレート化合物との混合物である形態もまた、本発明の好適な形態の1つである。なお、これら(a1)及び(a2)は各々1種又は2種以上を使用することができる。 Among the (meth) acrylate compounds (a), it is preferable to use a monofunctional compound and a polyfunctional compound in combination. Thereby, permanent deformation is further sufficiently prevented, and a cured product that is more excellent in long-term storage stability can be provided. Thus, the (meth) acrylate compound (a) comprises (a1) a monofunctional (meth) acrylate compound having an alicyclic structure and / or an aliphatic heterocyclic structure, and (a2) an alicyclic structure and / or a fat. A form that is a mixture with a polyfunctional (meth) acrylate compound having a heterocyclic group structure is also a preferred form of the present invention. In addition, these (a1) and (a2) can use 1 type (s) or 2 or more types, respectively.

上記単官能(メタ)アクリレート化合物(a1)としては、脂環構造及び/又は脂肪族複素環構造を有し、かつ分子中に1つの(メタ)アクリル酸エステル部位を有する化合物であればよく、また、多官能(メタ)アクリレート化合物(a2)としては、脂環構造及び/又は脂肪族複素環構造を有し、かつ分子中に2以上の(メタ)アクリル酸エステル部位を有する化合物であればよい。これらの化合物としては、例えば、上述した脂環構造を有する単官能又は多官能(メタ)アクリレート化合物や、ジオキサンやジオキサラン等の脂肪族複素環構造を有する単官能又は多官能(メタ)アクリレート化合物等が好ましく用いられる。 As said monofunctional (meth) acrylate compound (a1), what is necessary is just a compound which has an alicyclic structure and / or an aliphatic heterocyclic structure, and has one (meth) acrylic acid ester site | part in a molecule | numerator, Moreover, as a polyfunctional (meth) acrylate compound (a2), if it is a compound which has an alicyclic structure and / or an aliphatic heterocyclic structure, and has two or more (meth) acrylic acid ester site | parts in a molecule | numerator. Good. Examples of these compounds include monofunctional or polyfunctional (meth) acrylate compounds having the alicyclic structure described above, and monofunctional or polyfunctional (meth) acrylate compounds having an aliphatic heterocyclic structure such as dioxane or dioxalane. Is preferably used.

上記(メタ)アクリレート化合物(a)が単官能(メタ)アクリレート化合物(a1)と多官能(メタ)アクリレート化合物(a2)との混合物である場合、これらの含有割合は、(a1)及び(a2)の混合物である(a)成分と、(b)成分と、(c)成分との合計量100質量%に対し、各々、(a1)が10〜30質量%、(a2)が10〜25質量%であることが好適である。このような範囲に設定することによって、硬化物の硬度が高く、かつ透明性や膜厚均一性に優れるとの特性に加えて、永久的な変形を充分に抑制するとともに、反りが著しく小さいという優れた特性を更に充分に発揮できることになる。より好ましくは、(a)、(b)及び(c)成分の総量100質量%に対し、(a1)が15〜30質量%、(a2)が15〜25質量%である。 When the said (meth) acrylate compound (a) is a mixture of a monofunctional (meth) acrylate compound (a1) and a polyfunctional (meth) acrylate compound (a2), these content rates are (a1) and (a2). ) Is a mixture of (a), (b), and (c), and the total amount is 100% by mass, (a1) is 10 to 30% by mass, and (a2) is 10 to 25%, respectively. It is suitable that it is mass%. By setting in such a range, in addition to the property that the hardness of the cured product is high, and excellent in transparency and film thickness uniformity, the permanent deformation is sufficiently suppressed and the warpage is remarkably small. The excellent characteristics can be fully exhibited. More preferably, (a1) is 15 to 30% by mass and (a2) is 15 to 25% by mass with respect to 100% by mass of the total amount of the components (a), (b) and (c).

上記化合物(b)は、ウレタン(メタ)アクリレート化合物、ポリエステル(メタ)アクリレート化合物、エポキシ(メタ)アクリレート化合物、及び、側鎖に(メタ)アクリロイル基を有するオリゴマー又はポリマーからなる群より選択される少なくとも1種の化合物であって、1分子中にラジカル重合性不飽和基を2個以上有するものであり、かつ、上記(メタ)アクリレート化合物(a)に該当しない化合物である。
このような化合物(b)は、モノマー、オリゴマー又はポリマーのいずれの形態であってもよいが、オリゴマー又はポリマーであることが好適である。
The compound (b) is selected from the group consisting of urethane (meth) acrylate compounds, polyester (meth) acrylate compounds, epoxy (meth) acrylate compounds, and oligomers or polymers having a (meth) acryloyl group in the side chain. It is at least one compound, a compound having two or more radically polymerizable unsaturated groups in one molecule, and a compound not corresponding to the (meth) acrylate compound (a).
Such a compound (b) may be in the form of a monomer, oligomer or polymer, but is preferably an oligomer or polymer.

上記ウレタン(メタ)アクリレート化合物は、多価アルコールと、有機ポリイソシアネートと、水酸基含有(メタ)アクリレートとの反応で得られる化合物が好ましく用いられるが、この反応は通常の手法で行えばよい。
上記多価アルコールとしては、飽和化合物又は不飽和化合物のいずれであってもよく、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、1,4−ジメチロールベンゼン、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ポリテトラメチレングリコール、ポリエステルポリオール、ポリカプロラクトンポリオール等が挙げられる。
上記有機ポリイソシアネートとしては、例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等が挙げられる。
上記水酸基含有(メタ)アクリレートとしては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールモノ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
As the urethane (meth) acrylate compound, a compound obtained by a reaction of a polyhydric alcohol, an organic polyisocyanate, and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate is preferably used. This reaction may be performed by a usual method.
The polyhydric alcohol may be either a saturated compound or an unsaturated compound. For example, ethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, 3-methyl -1,5-pentanediol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, 1,4-dimethylolbenzene, glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, polytetramethylene glycol, polyester polyol, polycaprolactone polyol, and the like.
Examples of the organic polyisocyanate include tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, and the like.
Examples of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 1,4-butanediol mono (meth) acrylate, and the like.

上記ポリエステル(メタ)アクリレート化合物は、多塩基酸又はその無水物酸と、多価アルコールと、(メタ)アクリル酸との反応で得られる化合物が好ましく用いられるが、この反応は通常の手法で行えばよい。
上記多塩基酸又はその無水物酸としては、飽和化合物又は不飽和化合物のいずれであってもよく、例えば、マレイン酸、コハク酸、アジピン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒドロフタル酸等の他、これらの無水物酸が挙げられる。
上記多価アルコールについては、上述した化合物等が挙げられる。
As the polyester (meth) acrylate compound, a compound obtained by a reaction of a polybasic acid or an anhydride acid thereof, a polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid is preferably used. Just do it.
The polybasic acid or its anhydride acid may be either a saturated compound or an unsaturated compound, such as maleic acid, succinic acid, adipic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, tetrahydrophthalic acid, etc. In addition, these anhydride acids are mentioned.
About the said polyhydric alcohol, the compound etc. which were mentioned above are mentioned.

上記エポキシ(メタ)アクリレート化合物は、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸との反応で得られるエポキシポリ(メタ)アクリレートや、該エポキシ(メタ)アクリレートと多塩基酸無水物との反応で得られるカルボン酸変性エポキシ(メタ)アクリレートが好ましく使用されるが、この反応は通常の手法で行えばよい。
上記エポキシ樹脂としては、例えば、フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、ポリブタンジエン変性エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、臭素化フェノールノボラックエポキシ樹脂、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、アミノ基含有エポキシ樹脂等が挙げられる。
上記多塩基酸無水物としては、例えば、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸等が挙げられる。
The epoxy (meth) acrylate compound is an epoxy poly (meth) acrylate obtained by a reaction between an epoxy resin and (meth) acrylic acid, or a carboxyl obtained by a reaction between the epoxy (meth) acrylate and a polybasic acid anhydride. Although acid-modified epoxy (meth) acrylate is preferably used, this reaction may be performed by a usual method.
Examples of the epoxy resin include phenol novolac epoxy resin, cresol novolac epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, trisphenol methane type epoxy resin, polybutanediene modified epoxy resin, alicyclic epoxy resin, Examples thereof include brominated phenol novolac epoxy resins, brominated bisphenol A type epoxy resins, amino group-containing epoxy resins and the like.
Examples of the polybasic acid anhydride include maleic anhydride, succinic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and the like.

上記側鎖に(メタ)アクリロイル基を有するオリゴマー又はポリマーとは、側鎖に(メタ)アクリロイル基を有し、かつ分子中に重合性不飽和基を2以上有するオリゴマー又はポリマーであれば特に限定されないが、例えば、下記式(1): The oligomer or polymer having a (meth) acryloyl group in the side chain is particularly limited as long as it is an oligomer or polymer having a (meth) acryloyl group in the side chain and having two or more polymerizable unsaturated groups in the molecule. For example, the following formula (1):

Figure 2010238322
Figure 2010238322

(式中、Rは、同一又は異なって、炭素数2〜8のアルキレン基を表す。Rは、水素原子又はメチル基を表す。mは、正の整数である。)で表される繰り返し単位を有するビニル系重合体が好適であり、これにより、硬化物の硬度をより向上することができる。 (Wherein R 1 is the same or different and represents an alkylene group having 2 to 8 carbon atoms; R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group; m is a positive integer). A vinyl-based polymer having a repeating unit is suitable, whereby the hardness of the cured product can be further improved.

上記式(1)において、Rで表される炭素数2〜8のアルキレン基としては、例えば、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、シクロヘキシレン基、1,4−ジメチルシクロヘキサン−α,α’−ジイル基、1,3−ジメチルシクロヘキサン−α,α’−ジイル基、1,2−ジメチルシクロヘキサン−α,α’−ジイル基、1,4−ジメチルフェニル−α,α’−ジイル基、1,3−ジメチルフェニル−α,α’−ジイル基、1,2−ジメチルフェニル−α,α’−ジイル基等が挙げられる。なお、Rで表される置換基は、上記式(1)中にm個存在するが、同一であっても異なっていてもよい。 In the above formula (1), examples of the alkylene group having 2 to 8 carbon atoms represented by R 1 include an ethylene group, a trimethylene group, a propylene group, a tetramethylene group, a pentamethylene group, a hexamethylene group, and a heptamethylene group. , Octamethylene group, cyclohexylene group, 1,4-dimethylcyclohexane-α, α′-diyl group, 1,3-dimethylcyclohexane-α, α′-diyl group, 1,2-dimethylcyclohexane-α, α ′ -Diyl group, 1,4-dimethylphenyl-α, α'-diyl group, 1,3-dimethylphenyl-α, α'-diyl group, 1,2-dimethylphenyl-α, α'-diyl group, etc. Can be mentioned. In addition, although there are m substituents represented by R 1 in the above formula (1), they may be the same or different.

上記式(1)において、mは、ROで表されるオキシアルキレン基の平均付加モル数を表し、正の整数である。好ましくは1〜20の整数、より好ましくは1〜10の整数、更に好ましくは1〜5の整数である。
なお、上記式(1)で表される繰り返し単位の数は、正の整数であればよいが、5〜600の整数であることが好適である。より好ましくは20〜300の整数、更に好ましくは40〜200の整数である。
In said formula (1), m represents the average addition mole number of the oxyalkylene group represented by R < 1 > O, and is a positive integer. Preferably it is an integer of 1-20, More preferably, it is an integer of 1-10, More preferably, it is an integer of 1-5.
In addition, although the number of the repeating units represented by the said Formula (1) should just be a positive integer, it is suitable that it is an integer of 5-600. More preferably, it is an integer of 20 to 300, and further preferably an integer of 40 to 200.

上記式(1)で表されるビニル系重合体としては、数平均分子量(Mn)が500以上であることが好適であり、また、20000以下であることが好適である。500未満であると、硬化速度や硬化物の強度が充分なものとはならないおそれがある。また、20000を超えると、基材との濡れ性や樹脂組成物を調整する際の混合時間、高粘性による塗工時の作業性等の点において、より好適なものとはならないおそれがあり、更に、例えばプラスチック基材に塗布し硬化させて得られた積層体の反りを充分に低減することができないおそれがある。上記数平均分子量は、より好ましくは1000〜20000、更に好ましくは1500〜10000の範囲内である。 The vinyl polymer represented by the above formula (1) preferably has a number average molecular weight (Mn) of 500 or more, and preferably 20000 or less. If it is less than 500, the curing rate and the strength of the cured product may not be sufficient. In addition, if it exceeds 20000, there is a possibility that it may not be more suitable in terms of wettability with the substrate, mixing time when adjusting the resin composition, workability at the time of coating due to high viscosity, Furthermore, for example, there is a possibility that warpage of a laminate obtained by applying and curing to a plastic substrate cannot be sufficiently reduced. The number average molecular weight is more preferably in the range of 1000 to 20000, still more preferably 1500 to 10,000.

本明細書中、数平均分子量(Mn)、重量平均分子量(Mw)及び分子量分布(Mw/Mn)は、テトラヒドロフラン(THF)を移動相とし、温度40℃、流速0.3mL/minの条件下で、東ソー社製のカラム TSK−gel SuperHM−H 2本、TSK−gel SuperH2000 1本を用い、東ソー社製のゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)装置 HLC−8220GPCにより求め、標準ポリスチレン換算した値である。 In the present specification, the number average molecular weight (Mn), the weight average molecular weight (Mw) and the molecular weight distribution (Mw / Mn) are obtained under the conditions of tetrahydrofuran (THF) as a mobile phase, a temperature of 40 ° C., and a flow rate of 0.3 mL / min. Thus, using a column TSK-gel SuperHM-H made by Tosoh Corporation and one TSK-gel SuperH2000, a gel permeation chromatography (GPC) apparatus made by Tosoh Corporation HLC-8220 GPC is a value converted to standard polystyrene. .

上記式(1)で表されるビニル系重合体としてはまた、固体状の単量体含有量が多い重合体の場合を除き、液状粘性体として得ることができる。液状粘性体であれば、(メタ)アクリレート系単量体等への溶解性が良いので、樹脂組成物を調整する際に作業効率の向上化が図れる。
上記式(1)で表されるビニル系重合体は、例えば、下記式(2):
The vinyl polymer represented by the above formula (1) can also be obtained as a liquid viscous material except in the case of a polymer having a high solid monomer content. If it is a liquid viscous body, since the solubility to a (meth) acrylate type monomer etc. is good, the improvement of work efficiency can be aimed at when adjusting a resin composition.
The vinyl polymer represented by the above formula (1) is, for example, the following formula (2):

Figure 2010238322
Figure 2010238322

(式中、R、R及びmは、各々上記式(1)と同意義である。)で表されるビニル系単量体(「異種重合性モノマー」ともいう。)の1種又は2種以上を用いて、通常のカチオン重合手法により調製することが可能である。また、このビニル系単量体の1種又は2種以上を用い、特開2006−241189号公報に記載された方法でリビングカチオン重合することにより、容易に調製することもできる。なお、上記式(2)で表されるビニル系単量体を2種以上を併用する場合、得られる共重合体は、ランダム共重合体、交互共重合体、周期的共重合体、ブロック共重合体又はその組み合わせのいずれであってもよく、また、グラフト共重合体であってもよい。 (Wherein R 1 , R 2 and m have the same meanings as those in the above formula (1), respectively) or a vinyl monomer (also referred to as “heterogeneous polymerizable monomer”) or It can be prepared by a normal cationic polymerization technique using two or more kinds. Moreover, it can also prepare easily by carrying out living cation polymerization by the method described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-241189 using 1 type, or 2 or more types of this vinyl-type monomer. When two or more vinyl monomers represented by the above formula (2) are used in combination, the resulting copolymer is a random copolymer, an alternating copolymer, a periodic copolymer, or a block copolymer. Either a polymer or a combination thereof, or a graft copolymer may be used.

上記式(2)で表されるビニル系単量体の具体例としては、例えば、下記化合物等が挙げられる。
(メタ)アクリル酸2−ビニロキシエチル、(メタ)アクリル酸3−ビニロキシプロピル、(メタ)アクリル酸2−ビニロキシプロピル、(メタ)アクリル酸1−ビニロキシプロピル、(メタ)アクリル酸1−メチル−2−ビニロキシエチル、(メタ)アクリル酸4−ビニロキシブチル、(メタ)アクリル酸3−ビニロキシブチル、(メタ)アクリル酸2−ビニロキシブチル、(メタ)アクリル酸1−メチル−3−ビニロキシプロピル、(メタ)アクリル酸2−メチル−3−ビニロキシプロピル、(メタ)アクリル酸1−メチル−2−ビニロキシプロピル、(メタ)アクリル酸1,1−ジメチル−2−ビニロキシエチル、(メタ)アクリル酸6−ビニロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸4−ビニロキシシクロヘキシル、(メタ)アクリル酸4−ビニロキシメチルシクロヘキシルメチル、(メタ)アクリル酸3−ビニロキシメチルシクロヘキシルメチル、(メタ)アクリル酸2−ビニロキシメチルシクロヘキシルメチル、(メタ)アクリル酸4−ビニロキシメチルフェニルメチル、(メタ)アクリル酸3−ビニロキシメチルフェニルメチル、(メタ)アクリル酸2−ビニロキシメチルフェニルメチル、
Specific examples of the vinyl monomer represented by the above formula (2) include the following compounds.
(Meth) acrylic acid 2-vinyloxyethyl, (meth) acrylic acid 3-vinyloxypropyl, (meth) acrylic acid 2-vinyloxypropyl, (meth) acrylic acid 1-vinyloxypropyl, (meth) acrylic acid 1-methyl 2-vinyloxyethyl, 4-vinyloxybutyl (meth) acrylate, 3-vinyloxybutyl (meth) acrylate, 2-vinyloxybutyl (meth) acrylate, 1-methyl-3-vinyloxypropyl (meth) acrylate, (meth) 2-methyl-3-vinyloxypropyl acrylate, 1-methyl-2-vinyloxypropyl (meth) acrylate, 1,1-dimethyl-2-vinyloxyethyl (meth) acrylate, 6-vinyl (meth) acrylate Roxyhexyl, (meth) acrylic acid 4-vinyloxycyclohexyl, (meth) acrylic acid -Vinyloxymethylcyclohexylmethyl, (meth) acrylic acid 3-vinyloxymethylcyclohexylmethyl, (meth) acrylic acid 2-vinyloxymethylcyclohexylmethyl, (meth) acrylic acid 4-vinyloxymethylphenylmethyl, (meth) acrylic 3-vinyloxymethylphenylmethyl acid, 2-vinyloxymethylphenylmethyl (meth) acrylate,

(メタ)アクリル酸2−(2−ビニロキシエトキシ)エチル、(メタ)アクリル酸2−(2−ビニロキシイソプロポキシ)エチル、(メタ)アクリル酸2−(2−ビニロキシエトキシ)プロピル、(メタ)アクリル酸2−(2−ビニロキシイソプロポキシ)プロピル、(メタ)アクリル酸2−(2−ビニロキシエトキシ)イソプロピル、(メタ)アクリル酸2−(2−ビニロキシイソプロポキシ)イソプロピル、(メタ)アクリル酸2−{2−(2−ビニロキシエトキシ)エトキシ}エチル、(メタ)アクリル酸2−{2−(2−ビニロキシイソプロポキシ)エトキシ}エチル、(メタ)アクリル酸2−{2−(2−ビニロキシイソプロポキシ)イソプロポキシ}エチル、(メタ)アクリル酸2−{2−(2−ビニロキシエトキシ)エトキシ}プロピル、(メタ)アクリル酸2−{2−(2−ビニロキシエトキシ)イソプロポキシ}プロピル、(メタ)アクリル酸2−{2−(2−ビニロキシイソプロポキシ)エトキシ}プロピル、(メタ)アクリル酸2−{2−(2−ビニロキシイソプロポキシ)イソプロポキシ}プロピル、(メタ)アクリル酸2−{2−(2−ビニロキシエトキシ)エトキシ}イソプロピル、(メタ)アクリル酸2−{2−(2−ビニロキシエトキシ)イソプロポキシ}イソプロピル、(メタ)アクリル酸2−{2−(2−ビニロキシイソプロポキシ)エトキシ}イソプロピル、(メタ)アクリル酸2−{2−(2−ビニロキシイソプロポキシ)イソプロポキシ}イソプロピル、(メタ)アクリル酸2−[2−{2−(2−ビニロキシエトキシ)エトキシ}エトキシ]エチル、(メタ)アクリル酸2−[2−{2−(2−ビニロキシイソプロポキシ)エトキシ}エトキシ]エチル、(メタ)アクリル酸2−(2−[2−{2−(2−ビニロキシエトキシ)エトキシ}エトキシ]エトキシ)エチル。 2- (2-vinyloxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, 2- (2-vinyloxyisopropoxy) ethyl (meth) acrylate, 2- (2-vinyloxyethoxy) propyl (meth) acrylate, ( 2- (2-vinyloxyisopropoxy) propyl (meth) acrylate, 2- (2-vinyloxyethoxy) isopropyl (meth) acrylate, 2- (2-vinyloxyisopropoxy) isopropyl (meth) acrylate, ( 2- (2- (2-vinyloxyethoxy) ethoxy} ethyl (meth) acrylate, 2- {2- (2-vinyloxyisopropoxy) ethoxy} ethyl (meth) acrylate, 2-{(meth) acrylic acid 2- (2-vinyloxyisopropoxy) isopropoxy} ethyl, (meth) acrylic acid 2- {2- (2-vinyloxyethoxy) ethoxy Propyl, 2- (2- (2-vinyloxyethoxy) isopropoxy} propyl (meth) acrylate, 2- {2- (2-vinyloxyisopropoxy) ethoxy} propyl (meth) acrylate, (meth) acryl Acid 2- {2- (2-vinyloxyisopropoxy) isopropoxy} propyl, (meth) acrylic acid 2- {2- (2-vinyloxyethoxy) ethoxy} isopropyl, (meth) acrylic acid 2- {2- (2-vinyloxyethoxy) isopropoxy} isopropyl, (meth) acrylic acid 2- {2- (2-vinyloxyisopropoxy) ethoxy} isopropyl, (meth) acrylic acid 2- {2- (2-vinyloxyiso) Propoxy) isopropoxy} isopropyl, (meth) acrylic acid 2- [2- {2- (2-vinyloxyethoxy) ethoxy} Xyl] ethyl, 2- (2- {2- (2-vinyloxyisopropoxy) ethoxy} ethoxy] ethyl (meth) acrylate, 2- (2- [2- {2- (2- Vinyloxyethoxy) ethoxy} ethoxy] ethoxy) ethyl.

これらのビニル系単量体の中でも、(メタ)アクリル酸2−ビニロキシエチル、(メタ)アクリル酸3−ビニロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−ビニロキシプロピル、(メタ)アクリル酸1−メチル−2−ビニロキシエチル、(メタ)アクリル酸4−ビニロキシブチル、(メタ)アクリル酸6−ビニロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸4−ビニロキシシクロヘキシル、(メタ)アクリル酸4−ビニロキシメチルシクロヘキシルメチル、(メタ)アクリル酸2−(2−ビニロキシエトキシ)エチル、(メタ)アクリル酸2−(2−ビニロキシイソプロポキシ)プロピル、(メタ)アクリル酸2−{2−(2−ビニロキシエトキシ)エトキシ}エチルが好適である。 Among these vinyl monomers, 2-vinyloxyethyl (meth) acrylate, 3-vinyloxyethyl (meth) acrylate, 2-vinyloxypropyl (meth) acrylate, 1-methyl-2- (meth) acrylate Vinyloxyethyl, 4-vinyloxybutyl (meth) acrylate, 6-vinyloxyhexyl (meth) acrylate, 4-vinyloxycyclohexyl (meth) acrylate, 4-vinyloxymethylcyclohexylmethyl (meth) acrylate, (meth) acryl 2- (2-vinyloxyethoxy) ethyl acid, 2- (2-vinyloxyisopropoxy) propyl (meth) acrylate, 2- {2- (2-vinyloxyethoxy) ethoxy} ethyl (meth) acrylate Is preferred.

上記式(2)で表されるビニル系単量体は、通常の手法により製造することができる。例えば、上記式(2)において、Rがエチレン基、mが1である場合、(メタ)アクリル酸の金属塩と、2−ハロゲノエチルビニルエーテルとを縮合させるか、(メタ)アクリル酸メチルと、2−ヒドロキシエチルビニルエーテルとをエステル交換させるか、又は、(メタ)アクリル酸ハライドと、2−ヒドロキシエチルビニルエーテルとを縮合させることにより、製造することができる。また、上記式(2)において、Rがエチレン基、mが2である場合、(メタ)アクリル酸の金属塩と、2−(2−ハロゲノエトキシ)エチルビニルエーテルとを縮合させるか、(メタ)アクリル酸メチルと、2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチルビニルエーテルとをエステル交換させるか、又は、(メタ)アクリル酸ハライドと、2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチルビニルエーテルとを縮合させることにより、製造することができる。 The vinyl monomer represented by the above formula (2) can be produced by a usual method. For example, in the above formula (2), when R 1 is an ethylene group and m is 1, a metal salt of (meth) acrylic acid and 2-halogenoethyl vinyl ether are condensed, or methyl (meth) acrylate and , 2-hydroxyethyl vinyl ether can be transesterified, or (meth) acrylic acid halide and 2-hydroxyethyl vinyl ether can be condensed. In the above formula (2), when R 1 is an ethylene group and m is 2, a metal salt of (meth) acrylic acid and 2- (2-halogenoethoxy) ethyl vinyl ether are condensed or (meta ) By transesterifying methyl acrylate with 2- (2-hydroxyethoxy) ethyl vinyl ether or condensing (meth) acrylic acid halide with 2- (2-hydroxyethoxy) ethyl vinyl ether, Can be manufactured.

上記式(1)で示されるビニル系重合体はまた、カチオン重合可能なモノマーに由来する構造単位を有する共重合体であってもよい。このような共重合体は、上記式(2)で示されるビニル系単量体と、カチオン重合可能なモノマーとを、カチオン重合又はリビングカチオン重合することにより、容易に調製することができる。この際、各モノマーは、それぞれ単独で又は2種以上を併用してもよく、得られる共重合体は、ランダム共重合体、交互共重合体、周期的共重合体、ブロック共重合体又はその組み合わせのいずれであってもよく、グラフト共重合体であってもよい。 The vinyl polymer represented by the above formula (1) may also be a copolymer having a structural unit derived from a monomer capable of cationic polymerization. Such a copolymer can be easily prepared by cationic polymerization or living cationic polymerization of a vinyl monomer represented by the above formula (2) and a cationically polymerizable monomer. In this case, each monomer may be used alone or in combination of two or more, and the copolymer obtained is a random copolymer, an alternating copolymer, a periodic copolymer, a block copolymer or its copolymer. Any of the combinations may be used, and a graft copolymer may be used.

上記カチオン重合可能なモノマーとしては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、n−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、t−ブチルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、ジヒドロフラン等のビニルエーテル化合物;スチレン、4−メチルスチレン、3−メチルスチレン、2−メチルスチレン、2,5−ジメチルスチレン、2,4−ジメチルスチレン、2,4,6−トリメチルスチレン、4−t−ブチルスチレン、2−クロロスチレン、3−クロロスチレン、4−クロロスチレン、4−メトキシスチレン、4−クロロメチルスチレン等のスチレン誘導体;N−ビニルカルバゾール、N−ビニルピロリドン等のN−ビニル化合物;イソプロペニルスチレン、ケイ皮酸2−ビニロキシエチル、ソルビン酸2−ビニロキシエチル等のジビニル化合物やトリビニル化合物等が挙げられる。中でも、イソブチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ジヒドロフラン、2−エチルヘキシルビニルエーテル等のビニルエーテル化合物が好適である。 Examples of the monomer capable of cationic polymerization include methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, n-propyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, t-butyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, octadecyl vinyl ether, 2 -Vinyl ether compounds such as chloroethyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, dihydrofuran; styrene, 4-methylstyrene, 3-methylstyrene, 2-methylstyrene, 2,5-dimethylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, 2 , 4,6-trimethylstyrene, 4-t-butylstyrene, 2-chlorostyrene, 3-chlorostyrene, 4-chlorostyrene, 4 Styrene derivatives such as methoxystyrene and 4-chloromethylstyrene; N-vinyl compounds such as N-vinylcarbazole and N-vinylpyrrolidone; divinyl compounds such as isopropenylstyrene, 2-vinyloxyethyl cinnamate and 2-vinyloxyethyl sorbate; A trivinyl compound etc. are mentioned. Among these, vinyl ether compounds such as isobutyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, dihydrofuran, and 2-ethylhexyl vinyl ether are preferable.

上記式(2)で示されるビニル系単量体とカチオン重合可能なモノマーとを重合する場合、これらのモル比(カチオン重合可能なモノマー/上記式(2)で示されるビニル系単量体)としては、0.1〜10の範囲内であることが好ましい。このような範囲に調整することによって、硬化性に優れ、硬化物の架橋密度が高く表面硬度に優れ、かつ硬化収縮の少ない共重合体を得ることが可能となる。より好ましくは0.5〜8、更に好ましくは0.8〜5である。 When polymerizing a vinyl monomer represented by the above formula (2) and a monomer capable of cationic polymerization, these molar ratios (monomer capable of cationic polymerization / vinyl monomer represented by the above formula (2)) Is preferably in the range of 0.1-10. By adjusting to such a range, it is possible to obtain a copolymer having excellent curability, high cross-linking density of the cured product, excellent surface hardness, and low curing shrinkage. More preferably, it is 0.5-8, More preferably, it is 0.8-5.

なお、上記式(2)で示されるビニル系単量体は、ラジカル重合性又はアニオン重合性の(メタ)アクリロイル基と、カチオン重合性のビニルエーテル基とを同時に有するため、重合方法を選択することにより、(メタ)アクリロイル基又はビニルエーテル基をペンダント基として有するポリマーを得ることができる。したがって、上記式(2)で表されるビニル系単量体のビニルエーテル基を、単独で、又は、カチオン重合可能なモノマーと共に、カチオン重合若しくはリビングカチオン重合させることによって、(メタ)アクリルロイル基をペンダント基として有する、上記式(1)で表されるビニル系重合体を得ることができる。 The vinyl monomer represented by the above formula (2) has a radically polymerizable or anionically polymerizable (meth) acryloyl group and a cationically polymerizable vinyl ether group at the same time, so the polymerization method should be selected. Thus, a polymer having a (meth) acryloyl group or a vinyl ether group as a pendant group can be obtained. Therefore, by subjecting the vinyl ether group of the vinyl monomer represented by the above formula (2) to cation polymerization or living cation polymerization alone or together with a monomer capable of cation polymerization, a (meth) acryloyl group is formed. A vinyl polymer represented by the above formula (1) having a pendant group can be obtained.

上記化合物(b)はまた、単独の硬化物のガラス転移温度が15〜100℃となるものである。15℃未満では、圧迫痕や凹み等の永久的な変形を充分に抑制することができず、100℃よりも大きいと、反りを充分に防止することができず、いずれの場合も長期保存安定性に優れた硬化物が得られないおそれがある。好ましくは35℃以上、より好ましくは40℃以上であり、また、より好ましくは90℃以下、より好ましくは80℃以下である。
ここでのガラス転移温度は、上記化合物(b)を単独で硬化して得た硬化物について、上述したのと同様に、上記測定条件の下で動的粘弾性測定法により求められる値であり、最大tanδ値の温度を採用するものとする。
In the compound (b), the glass transition temperature of a single cured product is 15 to 100 ° C. If it is less than 15 ° C, permanent deformation such as compression marks and dents cannot be sufficiently suppressed, and if it is greater than 100 ° C, warping cannot be sufficiently prevented, and in any case, long-term storage stability is achieved. There is a possibility that a cured product having excellent properties cannot be obtained. Preferably it is 35 degreeC or more, More preferably, it is 40 degreeC or more, More preferably, it is 90 degreeC or less, More preferably, it is 80 degreeC or less.
The glass transition temperature here is a value obtained by a dynamic viscoelasticity measurement method under the above measurement conditions in the same manner as described above for a cured product obtained by curing the above compound (b) alone. The temperature of the maximum tan δ value is adopted.

上記化合物(b)は更に、単独の硬化物の25℃における弾性率が150〜2000MPaとなるものである。150MPa未満では、圧迫痕や凹み等の永久的な変形を充分に抑制することができず、2000MPaよりも大きいと、反りを充分に防止することができず、いずれの場合も長期保存安定性に優れた硬化物が得られないおそれがある。好ましくは300MPa以上、より好ましくは700MPa以上である。また、好ましくは1700MPa以下、より好ましくは1500MPa以下、更に好ましくは1300MPa以下である。
ここでの弾性率は、貯蔵弾性率(25℃)を意味し、上記ガラス転移温度と同様に、上記化合物(b)を単独で硬化して得た硬化物について、上記測定条件の下で動的粘弾性測定法により求められる値である。
The compound (b) further has an elastic modulus at 25 ° C. of a single cured product of 150 to 2000 MPa. If it is less than 150 MPa, permanent deformation such as compression marks and dents cannot be sufficiently suppressed, and if it is greater than 2000 MPa, warping cannot be sufficiently prevented, and in either case, long-term storage stability is achieved. There is a possibility that an excellent cured product cannot be obtained. Preferably it is 300 MPa or more, More preferably, it is 700 MPa or more. Moreover, Preferably it is 1700 MPa or less, More preferably, it is 1500 MPa or less, More preferably, it is 1300 MPa or less.
Here, the elastic modulus means storage elastic modulus (25 ° C.), and similarly to the glass transition temperature, the cured product obtained by curing the compound (b) alone is operated under the measurement conditions. It is a value obtained by a dynamic viscoelasticity measurement method.

上記(メタ)アクリレート化合物(c)は、上記(a)及び(b)成分以外の(メタ)アクリレート化合物であれば特に限定されないが、上記(a)及び/又は(b)成分と共硬化可能な化合物であることが好ましく、単量体(モノマー)の形態であることが好適である。例えば、上述した一般式(2)で表されるビニル系単量体や、下記化合物等が挙げられる。
メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートテトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、ブトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、パーフルオロオクチルエチル(メタ)アクリレート等の1官能(メタ)アクリレート化合物;
The (meth) acrylate compound (c) is not particularly limited as long as it is a (meth) acrylate compound other than the components (a) and (b), but can be co-cured with the components (a) and / or (b). Preferably, the compound is in the form of a monomer (monomer). For example, the vinyl monomer represented by the general formula (2) described above, the following compounds, and the like can be given.
Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2- Hydroxypropyl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, methoxydiethylene glycol (meth) acrylate, butoxydiethylene glycol (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, trifluoroethyl (meth) Monofunctional (meth) acrylate compounds such as acrylate and perfluorooctylethyl (meth) acrylate;

エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、3−メチル−1,5−ペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテルのジ(メタ)アクリル酸付加物等の2官能(メタ)アクリレート化合物;トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の3官能以上の(メタ)アクリレート化合物等の(メタ)アクリル酸系誘導体; Ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 3- Such as methyl-1,5-pentanediol di (meth) acrylate, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol di (meth) acrylate, di (meth) acrylic acid adduct of bisphenol A diglycidyl ether, etc. Bifunctional (meth) acrylate compounds; trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (Meth) acrylic acid derivatives such as trifunctional or more (meth) acrylate compound of meth) acrylate;

メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−メトキシ−2−メチルエチル(メタ)アクリレート、2−メトキシ−1−メチルエチル(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシ−2−メチルエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシ−1−メチルエチル(メタ)アクリレート、プロポキシエチル(メタ)アクリレート、プロポキシプロピル(メタ)アクリレート、イソプロポキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸2−ビニロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−(2−ビニロキシエトキシ)エチル、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンのエチレンオキシド付加物のトリ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのエチレンオキシド付加物のジ(メタ)アクリレート等のエーテル構造を有する(メタ)アクリル系誘導体; Methoxyethyl (meth) acrylate, 2-methoxy-2-methylethyl (meth) acrylate, 2-methoxy-1-methylethyl (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxy-2-methylethyl (meth) ) Acrylate, 2-ethoxy-1-methylethyl (meth) acrylate, propoxyethyl (meth) acrylate, propoxypropyl (meth) acrylate, isopropoxyethyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid 2-vinyloxyethyl, 2- (2-vinyloxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate , Tri (meth) acrylate of ethylene oxide adduct of trimethylolpropane, (meth) acrylic derivative having an ether structure such as di (meth) acrylate of ethylene oxide adduct of bisphenol A;

上記(メタ)アクリレート化合物(c)としては、上述した化合物の中でも、通常使用されるポリカーボネート基板との密着性が良好な点から、上記一般式(2)で表されるビニル系単量体を含むことが好適である。 As the (meth) acrylate compound (c), among the compounds described above, the vinyl monomer represented by the general formula (2) is used from the viewpoint of good adhesion to a commonly used polycarbonate substrate. It is preferable to include.

本発明ではまた、上記(a)〜(c)成分に加え、その他の共硬化可能な成分として、下記の不飽和化合物等の1種又は2種以上含んでいてもよい。
スチレン、ビニルトルエン、4−t−ブチルスチレン、α−メチルスチレン、4−クロロスチレン、4−メチルスチレン、4−クロロメチルスチレン、ジビニルベンゼン等のスチレン系モノマー;フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、シアヌル酸トリアリル、イソシアヌル酸トリアリル等のアリルエステル系モノマー;トリエチレングリコールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ドデシルビニルエーテル等のビニルエーテル系モノマー;トリメチロールプロパンジアリルエーテル、ペンタエリスリトールトリアリルエーテル、アリルグリシジルエーテル、メチロールメラミンのアリルエーテル、グリセリンジアリルエーテルのアジピン酸エステル、アリルアセタール、メチロールグリオキザールウレインのアリルエーテル等のアリルエーテル系モノマー;マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジブチル等のマレイン酸エステル系モノマー;フマル酸ジブチル、フマル酸ジオクチル等のフマル酸エステル系モノマー;(メタ)アクリロイルモルホリン;N−ビニルホルムアミド;N−ビニルピロリドン等。
これら不飽和化合物の含有割合は、上記(a)、(b)及び(c)成分と不飽和化合物との総量100質量%に対し、0〜30質量%であることが好適である。より好ましくは20質量%以下、更に好ましくは10質量%以下である。
なお、以下では、上記(a)、(b)及び(c)成分と上記不飽和化合物とを総称して「重合性成分」と称す。すなわち、重合性成分とは、上記(a)、(b)及び(c)成分からなり、更に上記不飽和化合物を含んでもよいものである。言い換えると、本発明の上記光ディスク用硬化性樹脂組成物が上記不飽和化合物を含まない場合は、上記(a)、(b)及び(c)成分からなる成分を意味し、上記不飽和化合物を含む場合は、上記(a)、(b)及び(c)成分と、上記不飽和化合物との混合物を意味する。
In the present invention, in addition to the components (a) to (c), one or more of the following unsaturated compounds may be included as other co-curable components.
Styrene monomers such as styrene, vinyltoluene, 4-t-butylstyrene, α-methylstyrene, 4-chlorostyrene, 4-methylstyrene, 4-chloromethylstyrene, divinylbenzene; diallyl phthalate, diallyl isophthalate, cyanuric Allyl ester monomers such as triallyl acid and triallyl isocyanurate; vinyl ether monomers such as triethylene glycol divinyl ether, cyclohexane dimethanol divinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, dodecyl vinyl ether; trimethylolpropane diallyl ether, pentaerythritol triallyl ether, allyl Glycidyl ether, allyl ether of methylol melamine, adipic acid ester of glyceryl diallyl ether, allyl acetal Allyl ether monomers such as allyl ether of methylol glyoxalurein; Maleic acid ester monomers such as diethyl maleate and dibutyl maleate; Fumarate monomers such as dibutyl fumarate and dioctyl fumarate; (meth) acryloylmorpholine; N-vinylformamide; N-vinylpyrrolidone and the like.
The content ratio of these unsaturated compounds is preferably 0 to 30% by mass with respect to 100% by mass of the total amount of the components (a), (b) and (c) and the unsaturated compound. More preferably, it is 20 mass% or less, More preferably, it is 10 mass% or less.
Hereinafter, the components (a), (b) and (c) and the unsaturated compound are collectively referred to as “polymerizable component”. That is, the polymerizable component is composed of the components (a), (b) and (c), and may further contain the unsaturated compound. In other words, when the curable resin composition for optical disc of the present invention does not contain the unsaturated compound, it means a component comprising the components (a), (b) and (c), and the unsaturated compound is When included, it means a mixture of the components (a), (b) and (c) and the unsaturated compound.

本発明の光ディスク用硬化性樹脂組成物は、必須成分として、上述した(a)、(b)及び(c)成分に加えて(d)光重合開始剤を含有するが、光重合開始剤を含むことにより、光照射によって速やかに硬化させることができるという効果を奏する。
上記(d)光重合開始剤としては、光線の照射により重合開始ラジカルを発生する光ラジカル重合開始剤や、光線の照射により重合開始カチオンを発生する光カチオン重合開始剤が好適であり、これらの1種又は2種以上を用いることができる。
The curable resin composition for optical disks of the present invention contains (d) a photopolymerization initiator as an essential component in addition to the components (a), (b) and (c) described above. By including, there exists an effect that it can be hardened rapidly by light irradiation.
As the above (d) photopolymerization initiator, a photo radical polymerization initiator that generates a polymerization initiating radical by irradiation with light and a photo cationic polymerization initiator that generates a polymerization initiating cation by irradiation with light are suitable. 1 type (s) or 2 or more types can be used.

上記光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンジルジメチルケタール、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン、2−ベンジルー2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)ブタノン、オリゴ{2−ヒドロキシ−2−メチル−1−[4−(1−メチルビニル)フェニル]プロパノン}、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチルプピオニル)ベンジル]フェニル}−2−メチルプロパン−1−オン等のアセトフェノン類;ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン類;ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4−フェニルベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチル−ジフェニルサルファイド、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、4−ベンゾイル−N,N−ジメチル−N−[2−(1−オキソ−2−プロペニルオキシ)エチル]ベンゼンメタナミニウムブロミド、(4−ベンゾイルベンジル)トリメチルアンモニウムクロリド等のベンゾフェノン類;2−イソプロピルチオキサントン、4−イソプロピルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、2−(3−ジメチルアミノ−2−ヒドロキシ)−3,4−ジメチル−9H−チオキサントン−9−オンメソクロリド等のチオキサントン類等が挙げられる。 Examples of the photo radical polymerization initiator include diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethyl ketal, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy -2-propyl) ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4 -Morpholinophenyl) butanone, oligo {2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propanone}, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2) Acetophenones such as -methylpionyl) benzyl] phenyl} -2-methylpropan-1-one Benzoins such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether; benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyl-diphenyl sulfide, 3, 3 ′, 4,4′-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, 4-benzoyl-N, N-dimethyl-N- [2- (1-oxo-2-propenyl) Benzophenones such as (oxy) ethyl] benzenemethananium bromide, (4-benzoylbenzyl) trimethylammonium chloride; 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthio Thioxanthones such as xanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, 2- (3-dimethylamino-2-hydroxy) -3,4-dimethyl-9H-thioxanthone-9-one mesochloride Etc.

上記光ラジカル重合開始剤の中でも、アセトフェノン類が好適であり、具体的には1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、オリゴ{2−ヒドロキシ−2−メチル−1−[4−(1−メチルビニル)フェニル]プロパノン}、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチルプピオニル)ベンジル]フェニル}−2−メチルプロパン−1−オンが好適である。その中でも、光ディスク用硬化性樹脂組成物を保護層として用いた光ディスクの耐久性を向上させ、耐熱試験時の反りの増加を抑制するとの理由から、オリゴ{2−ヒドロキシ−2−メチル−1−[4−(1−メチルビニル)フェニル]プロパノン}が特に好適である。 Among the radical photopolymerization initiators, acetophenones are preferable. Specifically, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, oligo {2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] Propanone}, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methylpropionyl) benzyl] phenyl} -2-methylpropane -1-one is preferred. Among them, oligo {2-hydroxy-2-methyl-1- is preferable because it improves the durability of an optical disk using the curable resin composition for an optical disk as a protective layer and suppresses an increase in warpage during a heat resistance test. [4- (1-methylvinyl) phenyl] propanone} is particularly preferred.

上記光カチオン重合開始剤としては、例えば、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等のアリールスルフォニウム塩;ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、(トリルクミル)ヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート等のアリールヨウドニウム塩;フェニルジアゾニウムテトラフルオロボレート等のアリールジアゾニウム塩が挙げられる。中でも、アリールスルフォニウム塩、ジアゾニウム塩が好適であり、特に、(トリルクミル)ヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートが好ましい。 Examples of the photocationic polymerization initiator include arylsulfonium salts such as triphenylsulfonium hexafluorophosphate and triphenylsulfonium hexafluoroantimonate; diphenyliodonium hexafluoroantimonate, diphenyliodonium hexafluorophosphate, and (tricumyl) iodonium. Examples include aryliodonium salts such as tetrakis (pentafluorophenyl) borate; aryldiazonium salts such as phenyldiazonium tetrafluoroborate. Of these, arylsulfonium salts and diazonium salts are preferable, and (trilcumyl) iodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate is particularly preferable.

上記光ディスク用硬化性樹脂組成物中、上記(d)光重合開始剤の含有量としては、上記重合性成分の総量100重量部に対し、0.1〜10重量部であることが好適である。0.1重量部未満であると、樹脂組成物が充分に硬化しないおそれがあり、10重量部を超えると、臭気発生や硬化物の着色を充分に抑制できないおそれや、樹脂組成物のリサイクル性や硬化物の長期保存安定性が良好なものとはならないおそれがある。より好ましくは1〜8重量部、更に好ましくは1〜5重量部である。 In the curable resin composition for optical disks, the content of the photopolymerization initiator (d) is preferably 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the polymerizable components. . If the amount is less than 0.1 parts by weight, the resin composition may not be sufficiently cured. If the amount exceeds 10 parts by weight, odor generation or coloring of the cured product may not be sufficiently suppressed, and the recyclability of the resin composition may be reduced. Or the long-term storage stability of the cured product may not be good. More preferably, it is 1-8 weight part, More preferably, it is 1-5 weight part.

本発明の光ディスク用硬化性樹脂組成物は、上述した(a)〜(d)の必須成分に加えて、紫外線吸収剤や熱重合開始剤を含んでもよい。紫外線吸収剤を含む場合には、樹脂組成物のリサイクル性を高め、硬化速度を調整し光ディスクの反りを低減できるという効果をより充分に発揮することが可能になる。熱重合開始剤を含む場合には、樹脂組成物を紫外線で硬化させる場合に発生する熱を利用し、更に硬化を進めることができるという効果を奏する。 In addition to the essential components (a) to (d) described above, the curable resin composition for optical disks of the present invention may contain an ultraviolet absorber and a thermal polymerization initiator. In the case where the ultraviolet absorber is included, it is possible to enhance the recyclability of the resin composition, to sufficiently exhibit the effects of adjusting the curing speed and reducing the warpage of the optical disk. When the thermal polymerization initiator is included, the heat generated when the resin composition is cured with ultraviolet rays is utilized, and the effect of further curing can be achieved.

上記紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸系紫外線吸収剤、無機酸化物系紫外線吸収剤等が挙げられ、1種又は2種以上を使用することができる。具体的には、フェニルサリチレート、(2,2’−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−ヒドロキシベンゾフェノン、サリチル酸グリコール、t−ブチルメトキシジベンゾイルメタン、メトキシケイヒ酸エチルヘキシル、ジメチルPABA(para-aminobenzoic acid)オクチル、ジメチルPABAエチルヘキシル等が挙げられ、例えば、2−(2−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール(商品名「TINUBIN PS」、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)、2−{2−ヒドロキシ−4−(1−オクチルオキシカルボニルエトキシ)フェニル}−4,6−ビス(4−フェニルフェニル)−1,3,5−トリアジン(商品名「TINUBIN 479」、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)、2−{2−ヒドロキシ−5−(2−メタクリロイルオキシエチル)フェニル}ベンゾトリアゾール(商品名「RUVA93」、大塚化学社製)、オクチル−3−{3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−yl)フェニル}プロピオン酸・2−エチルヘキシル−3−{3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−yl)フェニル}プロピオン酸(商品名「TINUBIN 109」、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)等が好ましく使用される。 Examples of the ultraviolet absorber include benzotriazole ultraviolet absorbers, hydroxyphenyltriazine ultraviolet absorbers, benzophenone ultraviolet absorbers, salicylic acid ultraviolet absorbers, and inorganic oxide ultraviolet absorbers. Or 2 or more types can be used. Specifically, phenyl salicylate, (2,2′-hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazole, 2-hydroxybenzophenone, glycol salicylate, t-butylmethoxydibenzoylmethane, ethylhexyl methoxycinnamate, dimethyl PABA ( para-aminobenzoic acid) octyl, dimethyl PABA ethylhexyl, etc., for example, 2- (2-hydroxy-5-t-butylphenyl) -2H-benzotriazole (trade name “TINUBIN PS”, Ciba Specialty Chemicals) 2- {2-hydroxy-4- (1-octyloxycarbonylethoxy) phenyl} -4,6-bis (4-phenylphenyl) -1,3,5-triazine (trade name “TINUBIN 479”, Ciba Specialty Chemical 2- {2-hydroxy-5- (2-methacryloyloxyethyl) phenyl} benzotriazole (trade name “RUVA93”, manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.), octyl-3- {3-t-butyl-4- Hydroxy-5- (5-chloro-2H-benzotriazole-2-yl) phenyl} propionic acid 2-ethylhexyl-3- {3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (5-chloro-2H-benzo Triazole-2-yl) phenyl} propionic acid (trade name “TINUBIN 109”, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) is preferably used.

上記紫外線吸収剤の添加量は、上記重合性成分の総量100重量部に対し、0.03〜0.4重量部であることが好ましい。より好ましくは0.03〜0.3重量部、更に好ましくは0.05〜0.2重量部である。 It is preferable that the addition amount of the said ultraviolet absorber is 0.03-0.4 weight part with respect to 100 weight part of total amounts of the said polymeric component. More preferably, it is 0.03-0.3 weight part, More preferably, it is 0.05-0.2 weight part.

上記熱重合開始剤としては、加熱により重合開始ラジカルを発生する熱ラジカル重合開始剤と、加熱により重合開始カチオンを発生する熱カチオン重合開始剤が好適である。
上記熱ラジカル重合開始剤としては、例えば、下記の有機過酸化物系開始剤やアゾ系開始剤等が挙げられ、これらの1種又は2種以上を用いることができる。
メチルエチルケトンペルオキシド、シクロヘキサノンペルオキシド、メチルシクロヘキサノンペルオキシド、メチルアセトアセテートペルオキシド、アセチルアセテートペルオキシド、1,1−ビス(t−ヘキシルペルオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ヘキシルペルオキシ)−シクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルペルオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルペルオキシ)−2−メチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルペルオキシ)−シクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルペルオキシ)シクロドデカン、1,1−ビス(t−ブチルペルオキシ)ブタン、2,2−ビス(4,4−ジ−t−ブチルペルオキシシクロヘキシル)プロパン、p−メンタンヒドロペルオキシド、ジイソプロピルベンゼンヒドロペルオキシド、1,1,3,3−テトラメチルブチルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、t−ヘキシルヒドロペルオキシド、t−ブチルヒドロペルオキシド、α,α’−ビス(t−ブチルペルオキシ)ジイソプロピルベンゼン、ジクミルペルオキシド、2,5−ジメチル−2,5−ビス(t−ブチルペルオキシ)ヘキサン、
t−ブチルクミルペルオキシド、ジ−t−ブチルペルオキシド、2,5−ジメチル−2,5−ビス(t−ブチルペルオキシ)ヘキシン−3、イソブチリルペルオキシド、3,5,5−トリメチルヘキサノイルペルオキシド、オクタノイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、ステアロイルペルオキシド、スクシン酸ペルオキシド、m−トルオイルベンゾイルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、ジ−n−プロピルペルオキシジカーボネート、ジイソプロピルペルオキシジカーボネート、ビス(4−t−ブチルシクロヘキシル)ペルオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシエチルペルオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシヘキシルペルオキシジカーボネート、ジ−3−メトキシブチルペルオキシジカーボネート、ジ−s−ブチルペルオキシジカーボネート、ジ(3−メチル−3−メトキシブチル)ペルオキシジカーボネート、
As the thermal polymerization initiator, a thermal radical polymerization initiator that generates a polymerization initiating radical by heating and a thermal cationic polymerization initiator that generates a polymerization initiating cation by heating are suitable.
Examples of the thermal radical polymerization initiator include the following organic peroxide initiators and azo initiators, and one or more of these can be used.
Methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, methyl cyclohexanone peroxide, methyl acetoacetate peroxide, acetyl acetate peroxide, 1,1-bis (t-hexylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-hexylperoxy) ) -Cyclohexane, 1,1-bis (t-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-butylperoxy) -2-methylcyclohexane, 1,1-bis (t- Butylperoxy) -cyclohexane, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclododecane, 1,1-bis (t-butylperoxy) butane, 2,2-bis (4,4-di-t-butylperoxycyclohexyl) ) Propane, p- Tantalum hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, t-hexyl hydroperoxide, t-butyl hydroperoxide, α, α′-bis (t-butylperoxy) ) Diisopropylbenzene, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-bis (t-butylperoxy) hexane,
t-butylcumyl peroxide, di-t-butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-bis (t-butylperoxy) hexyne-3, isobutyryl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide , Octanoyl peroxide, lauroyl peroxide, stearoyl peroxide, succinic acid peroxide, m-toluoyl benzoyl peroxide, benzoyl peroxide, di-n-propyl peroxydicarbonate, diisopropyl peroxydicarbonate, bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxydi Carbonate, di-2-ethoxyethyl peroxydicarbonate, di-2-ethoxyhexyl peroxydicarbonate, di-3-methoxybutyl peroxydicarbonate, di-s-butyl Oxy dicarbonate, di (3-methyl-3-methoxybutyl) peroxydicarbonate,

α,α’−ビス(ネオデカノイルペルオキシ)ジイソプロピルベンゼン、クミルペルオキシネオデカノエート、1,1,3,3−テトラメチルブチルペルオキシネオデカノエート、1−シクロヘキシル−1−メチルエチルペルオキシネオデカノエート、t−ヘキシルペルオキシネオデカノエート、t−ブチルペルオキシネオデカノエート、t−ヘキシルペルオキシピバレート、t−ブチルペルオキシピバレート、1,1,3,3−テトラメチルブチルペルオキシ2−エチルヘキサノエート、2,5−ジメチル−2,5−ビス(2−エチルヘキサノイルペルオキシ)ヘキサノエート、1−シクロヘキシル−1−メチルエチルペルオキシ2−エチルヘキサノエート、t−ヘキシルペルオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ヘキシルペルオキシソプロピルモノカーボネート、t−ブチルペルオキシソブチレート、t−ブチルペルオキシマレート、t−ブチルペルオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルペルオキシラウレート、t−ブチルペルオキシソプロピルモノカーボネート、t−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネート、t−ブチルペルオキシアセテート、t−ブチルペルオキシ−m−トルイルベンゾエート、t−ブチルペルオキシベンゾエート、ビス(t−ブチルペルオキシ)イソフタレート、2,5−ジメチル−2,5−ビス(m−トルイルペルオキシ)ヘキサン、t−ヘキシルペルオキシベンゾエート、2,5−ジメチル−2,5−ビス(ベンゾイルペルオキシ)ヘキサン、t−ブチルペルオキシアリルモノカーボネート、t−ブチルトリメチルシリルペルオキシド、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、2,3−ジメチル−2,3−ジフェニルブタン等の有機過酸化物系開始剤; α, α′-bis (neodecanoylperoxy) diisopropylbenzene, cumylperoxyneodecanoate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyneodecanoate, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxyneo Decanoate, t-hexylperoxyneodecanoate, t-butylperoxyneodecanoate, t-hexylperoxypivalate, t-butylperoxypivalate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2- Ethyl hexanoate, 2,5-dimethyl-2,5-bis (2-ethylhexanoylperoxy) hexanoate, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxy 2-ethylhexanoate, t-hexylperoxy-2-ethyl Hexanoate, t-butylperoxy-2 -Ethylhexanoate, t-hexylperoxysopropyl monocarbonate, t-butylperoxysobutyrate, t-butylperoxymalate, t-butylperoxy-3,5,5-trimethylhexanoate, t-butylperoxy Laurate, t-butylperoxysopropyl monocarbonate, t-butylperoxy-2-ethylhexyl monocarbonate, t-butylperoxyacetate, t-butylperoxy-m-toluylbenzoate, t-butylperoxybenzoate, bis (t-butyl Peroxy) isophthalate, 2,5-dimethyl-2,5-bis (m-toluylperoxy) hexane, t-hexylperoxybenzoate, 2,5-dimethyl-2,5-bis (benzoylperoxy) hexane, t-butyl Organic peroxides such as ruperoxyallyl monocarbonate, t-butyltrimethylsilyl peroxide, 3,3 ′, 4,4′-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2,3-dimethyl-2,3-diphenylbutane System initiators;

2−フェニルアゾ−4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル、1−[(1−シアノ−1−メチルエチル)アゾ]ホルムアミド、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチル−4−メトキシバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミジン)二塩酸塩、2,2’−アゾビス(2−メチル−N−フェニルプロピオンアミジン)二塩酸塩、2,2’−アゾビス[N−(4−クロロフェニル)−2−メチルプロピオンアミジン]]二塩酸塩、2,2’−アゾビス[N−(4−ヒドロフェニル)−2−メチルプロピオンアミジン]]二塩酸塩、2,2’−アゾビス[2−メチル−N−(フェニルメチル)プロピオンアミジン]二塩酸塩、2,2’−アゾビス[2−メチル−N−(2−プロペニル)プロピオンアミジン]二塩酸塩、2,2’−アゾビス[N−(2−ヒドロキシエチル)−2−メチルプロピオンアミジン]]二塩酸塩、2,2’−アゾビス[2−(5−メチル−2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]二塩酸塩、2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]二塩酸塩、2,2’−アゾビス[2−(4,5,6,7−テトラヒドロ−1H−1,3−ジアゼピン−2−イル)プロパン]二塩酸塩、2,2’−アゾビス[2−(3,4,5,6−テトラヒドロピリミジン−2−イル)プロパン]二塩酸塩、2,2’−アゾビス[2−(5−ヒドロキシ−3,4,5,6−テトラヒドロピリミジン−2−イル)プロパン]二塩酸塩、2,2’−アゾビス{2−[1−(2−ヒドロキシエチル)−2−イミダゾリン−2−イル]プロパン}二塩酸塩、2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]、2,2’−アゾビス{2−メチル−N−[1,1−ビス(ヒドロキシメチル)−2−ヒドロキシエチル]プロピオンアミド}、2,2’−アゾビス{2−メチル−N−[1,1−ビス(ヒドロキシメチル)エチル]プロピオンアミド}、2,2’−アゾビス[2−メチル−N−(2−ヒドロキシエチル)プロピオンアミド]、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミド)、2,2’−アゾビス(2,4,4−トリメチルペンタン)、2,2’−アゾビス(2−メチルプロパン)、2,2−アゾビス(2−メチルプロピオン酸)ジメチル、4,4’−アゾビス(4−シアノペンタン酸)、2,2’−アゾビス[2−(ヒドロキシメチル)プロピオニトリル]等のアゾ系開始剤等。 2-phenylazo-4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile, 1-[(1-cyano-1-methylethyl) azo] formamide, 1,1′-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), 2, 2'-azobis (2-methylbutyronitrile), 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis (2, 4-dimethyl-4-methoxyvaleronitrile), 2,2′-azobis (2-methylpropionamidine) dihydrochloride, 2,2′-azobis (2-methyl-N-phenylpropionamidine) dihydrochloride, 2 , 2′-azobis [N- (4-chlorophenyl) -2-methylpropionamidine]] dihydrochloride, 2,2′-azobis [N- (4-hydrophenyl) -2-me Lupropionamidine]] dihydrochloride, 2,2′-azobis [2-methyl-N- (phenylmethyl) propionamidine] dihydrochloride, 2,2′-azobis [2-methyl-N- (2-propenyl) ) Propionamidine] dihydrochloride, 2,2′-azobis [N- (2-hydroxyethyl) -2-methylpropionamidine]] dihydrochloride, 2,2′-azobis [2- (5-methyl-2) -Imidazolin-2-yl) propane] dihydrochloride, 2,2'-azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) propane] dihydrochloride, 2,2'-azobis [2- (4,5 , 6,7-Tetrahydro-1H-1,3-diazepin-2-yl) propane] dihydrochloride, 2,2′-azobis [2- (3,4,5,6-tetrahydropyrimidin-2-yl) Propane] dihydrochloride, 2 2′-azobis [2- (5-hydroxy-3,4,5,6-tetrahydropyrimidin-2-yl) propane] dihydrochloride, 2,2′-azobis {2- [1- (2-hydroxyethyl) ) -2-imidazolin-2-yl] propane} dihydrochloride, 2,2′-azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) propane], 2,2′-azobis {2-methyl-N— [1,1-bis (hydroxymethyl) -2-hydroxyethyl] propionamide}, 2,2′-azobis {2-methyl-N- [1,1-bis (hydroxymethyl) ethyl] propionamide}, 2 , 2′-azobis [2-methyl-N- (2-hydroxyethyl) propionamide], 2,2′-azobis (2-methylpropionamide), 2,2′-azobis (2,4,4-trimethyl) pen Tan), 2,2′-azobis (2-methylpropane), 2,2-azobis (2-methylpropionic acid) dimethyl, 4,4′-azobis (4-cyanopentanoic acid), 2,2′-azobis An azo initiator such as [2- (hydroxymethyl) propionitrile].

これらの熱ラジカル開始剤の中でも、メチルエチルケトンペルオキシド、シクロヘキサノンペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、t−ブチルペルオキシベンゾエート、ベンゾイルペルオキシド等の、金属石鹸及び/又はアミン化合物等の触媒作用により効率的にラジカルを発生させることができる化合物や、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)が好適である。 Among these thermal radical initiators, radicals are efficiently generated by the catalytic action of metal soaps and / or amine compounds such as methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, cumene hydroperoxide, t-butylperoxybenzoate, and benzoyl peroxide. And 2,2′-azobisisobutyronitrile and 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) are preferable.

上記熱カチオン重合開始剤としては、下記の化合物等が挙げられ、これらの1種又は2種以上を用いることができる。
ルイス酸(例えば、三フッ化ホウ素、塩化第一チタン、塩化第二チタン、塩化第一鉄、塩化第二鉄、塩化亜鉛、臭化亜鉛、塩化第一スズ、塩化第二スズ、臭化第一スズ、臭化第二スズ、二塩化ジブチル第二スズ、二臭化ジブチル第二スズ、テトラエチルスズ、テトラブチルスズ、トリエチルアルミニウム、塩化ジエチルアルミニウム、二塩化エチルアルミニウム等)と、電子供与性化合物(例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド、ジメチルスルホキシド、リン酸トリメチル、リン酸トリエチル等)との錯体;
プロトン酸(例えば、ハロゲノカルボン酸類、スルホン酸類、硫酸モノエステル類、リン酸モノエステル類、リン酸ジエステル類、ポリリン酸エステル類、ホウ酸モノエステル類、ホウ酸ジエステル類等)を塩基(例えば、アンモニア、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ピペリジン、アニリン、モルホリン、シクロヘキシルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ブチルアミン等)により中和した化合物。
これらの中でも、各種プロトン酸のアミン錯体が、可使時間の調整が容易であるので好適である。
Examples of the thermal cationic polymerization initiator include the following compounds, and one or more of them can be used.
Lewis acid (eg, boron trifluoride, titanium chloride, titanium chloride, ferrous chloride, ferric chloride, zinc chloride, zinc bromide, stannous chloride, stannic chloride, bromide Stannous, stannic bromide, dibutylstannic dichloride, dibutylstannic dibromide, tetraethyltin, tetrabutyltin, triethylaluminum, diethylaluminum chloride, ethylaluminum dichloride, etc.) and electron donating compounds ( For example, complexes with N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, hexamethylphosphoric triamide, dimethyl sulfoxide, trimethyl phosphate, triethyl phosphate, etc.);
Protic acids (for example, halogenocarboxylic acids, sulfonic acids, sulfuric acid monoesters, phosphoric acid monoesters, phosphoric acid diesters, polyphosphoric acid esters, boric acid monoesters, boric acid diesters, etc.) as bases (for example, Ammonia, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, pyridine, piperidine, aniline, morpholine, cyclohexylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, butylamine, etc.)
Among these, amine complexes of various proton acids are preferable because the pot life can be easily adjusted.

ここで、上記熱ラジカル重合開始剤を用いる場合には、熱ラジカル重合開始剤の分解温度を低下させるために、熱重合開始剤の分解を促進して有効にラジカルを発生させることができる熱重合促進剤を用いることができる。
上記熱重合促進剤としては、例えば、コバルト、銅、錫、亜鉛、マンガン、鉄、ジルコニウム、クロム、バナジウム、カルシウム、カリウム等の金属石鹸、1級、2級、3級のアミン化合物、4級アンモニウム塩、チオ尿素化合物、ケトン化合物等が挙げられ、これらの1種又は2種以上を用いることができる。中でも、オクチル酸コバルト、ナフテン酸コバルト、オクチル酸銅、ナフテン酸銅、オクチル酸マンガン、ナフテン酸マンガン、ジメチルアニリン、トリエタールアミン、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド、ジ(2−ヒドロキシエチル)p−トルイジン、エチレンチオ尿素、アセチルアセトン、アセト酢酸メチルが好適である。
上記熱重合促進剤の配合量は、上記重合性成分の総量100重量部に対し、0.001〜10重量部であることが好適である。熱重合促進剤の配合量がこのような範囲内であれば、樹脂組成物の硬化性、硬化物の物性、経済性の点で好ましい。より好ましくは0.01〜5重量部、更に好ましくは0.05〜3重量部である。
Here, in the case of using the thermal radical polymerization initiator, in order to lower the decomposition temperature of the thermal radical polymerization initiator, thermal polymerization that can effectively generate radicals by promoting the decomposition of the thermal polymerization initiator Accelerators can be used.
Examples of the thermal polymerization accelerator include metal soaps such as cobalt, copper, tin, zinc, manganese, iron, zirconium, chromium, vanadium, calcium, and potassium, primary, secondary, tertiary amine compounds, and quaternary. An ammonium salt, a thiourea compound, a ketone compound, etc. are mentioned, These 1 type (s) or 2 or more types can be used. Among them, cobalt octylate, cobalt naphthenate, copper octylate, copper naphthenate, manganese octylate, manganese naphthenate, dimethylaniline, trietalamine, triethylbenzylammonium chloride, di (2-hydroxyethyl) p-toluidine, ethylenethio Urea, acetylacetone and methyl acetoacetate are preferred.
The blending amount of the thermal polymerization accelerator is preferably 0.001 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the polymerizable components. When the blending amount of the thermal polymerization accelerator is within such a range, it is preferable in terms of curability of the resin composition, physical properties of the cured product, and economical efficiency. More preferably, it is 0.01-5 weight part, More preferably, it is 0.05-3 weight part.

上記光ディスク用硬化性樹脂組成物にはまた、必要に応じ、光増感剤、光重合促進剤、金属酸化物粒子、表面機能調整剤、溶剤等の1種又は2種以上を使用することができる。
上記光増感剤とは、光励起により生じた励起状態から光重合開始剤に励起エネルギーを移し、光重合開始剤の分解を促進して有効にラジカルを発生させることができるものであり、例えば、2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン等の1種又は2種以上を用いることができる。
上記光増感剤の配合量は、上記重合性成分の総量100重量部に対し、0.05〜20重量部が好適である。光増感剤の配合量がこのような範囲内であれば、樹脂組成物の硬化性、硬化物の物性、経済性の点で好ましい。より好ましくは0.1〜15重量部、更に好ましくは0.2〜10重量部である。
If necessary, the curable resin composition for optical disks may use one or more of photosensitizers, photopolymerization accelerators, metal oxide particles, surface function modifiers, solvents and the like. it can.
The photosensitizer is one that can transfer excitation energy from an excited state generated by photoexcitation to a photopolymerization initiator and promote the decomposition of the photopolymerization initiator to effectively generate radicals. One or more of 2-chlorothioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone and the like can be used.
0.05-20 weight part is suitable for the compounding quantity of the said photosensitizer with respect to 100 weight part of total amounts of the said polymeric component. If the compounding quantity of a photosensitizer is in such a range, it is preferable at the point of sclerosis | hardenability of a resin composition, the physical property of hardened | cured material, and economical efficiency. More preferably, it is 0.1-15 weight part, More preferably, it is 0.2-10 weight part.

上記光重合促進剤とは、光重合開始剤の分解を促進して有効にラジカルを発生させることができるものであり、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、4−ジメチルアミノ安息香酸−2−n−ブトキシエチル、安息香酸2−ジメチルアミノエチル、N,N−ジメチルパラトルイジン、4,4’−ジメチルアミノベンゾフェノン、4,4’−ジエチルアミノベンゾフェノン等の1種又は2種以上を用いることができる。中でも、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミンが好適である。
上記光重合促進剤の配合量は、上記重合性成分の総量100重量部に対し、0.05〜20重量部が好適である。光重合促進剤の配合量がこのような範囲内であれば、樹脂組成物の硬化性、硬化物の物性、経済性の点で好ましい。より好ましくは0.1〜15重量部、更に好ましくは0.2〜10重量部である。
The photopolymerization accelerator is an agent that can promote the decomposition of the photopolymerization initiator and effectively generate radicals. For example, triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine, 4-dimethylaminobenzoic acid. Methyl, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-dimethylaminobenzoate-2-n-butoxyethyl, 2-dimethylaminoethyl benzoate, N, N-dimethylparatoluidine, 4, 1 type (s) or 2 or more types, such as 4'- dimethylamino benzophenone and 4,4'- diethylamino benzophenone, can be used. Of these, triethanolamine, methyldiethanolamine, and triisopropanolamine are preferable.
The blending amount of the photopolymerization accelerator is preferably 0.05 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the polymerizable components. When the blending amount of the photopolymerization accelerator is within such a range, it is preferable in terms of curability of the resin composition, physical properties of the cured product, and economical efficiency. More preferably, it is 0.1-15 weight part, More preferably, it is 0.2-10 weight part.

上記金属酸化物粒子とは、金属酸化物からなる粒子を意味し、好ましくは金属酸化物からなる微粒子である。このような金属酸化物粒子を含有する場合には、上記樹脂組成物から形成される硬化物の硬度が向上し、より傷つきにくく、低反射性のコーティング膜が得られるという効果を奏するため、好適である。
上記粒子を構成する金属酸化物は、Si、Ti、Zr、Zn、Sn、In、La及びYよりなる群から選択される少なくとも1種の金属元素を含む酸化物であることが好適である。金属酸化物は、これらの元素を含む単独の酸化物であってもよいし、これらの元素を含む複合酸化物であってもよい。
上記粒子を構成する金属酸化物の具体例としては、例えば、SiO、SiO、TiO、ZrO、ZnO、SnO、In、La、Y、SiO−Al、SiO−Zr、SiO−Ti、Al−ZrO、TiO−ZrO等が挙げられ、これらの1種又は2種以上を用いることができる。中でも、SiO、TiO、ZrO、ZnOが好適である。
The metal oxide particles mean particles made of a metal oxide, preferably fine particles made of a metal oxide. In the case of containing such metal oxide particles, the hardness of the cured product formed from the resin composition is improved, and it is less likely to be damaged, and it is advantageous in that a low-reflective coating film can be obtained. It is.
The metal oxide constituting the particles is preferably an oxide containing at least one metal element selected from the group consisting of Si, Ti, Zr, Zn, Sn, In, La, and Y. The metal oxide may be a single oxide containing these elements or a complex oxide containing these elements.
Specific examples of the metal oxides constituting the particles, for example, SiO, SiO 2, TiO 2 , ZrO 2, ZnO, SnO 2, In 2 O 3, La 2 O 3, Y 2 O 3, SiO 2 - Al 2 O 3 , SiO 2 —Zr 2 O 3 , SiO 2 —Ti 2 O 3 , Al 2 O 3 —ZrO 2 , TiO 2 —ZrO 2 and the like may be used, and one or more of these may be used. Can do. Of these, SiO 2 , TiO 2 , ZrO 2 , and ZnO 2 are preferable.

上記金属酸化物粒子の平均粒子径は、1〜300nmであることが好適である。300nmを超えると、硬化物の透明性が充分とはならないおそれがある。より好ましくは1〜300nm、更に好ましくは1〜50nmである。
なお、ここでいう粒子の平均粒子径とは、動的光散乱式粒径分布測定装置を用いて測定することにより求められる体積平均粒子径を意味する。
上記金属酸化物粒子の配合量は、上記重合性成分の総量100重量部に対し、0〜80重量部であることが好適である。80重量部を超えると、硬化物が脆くなるおそれがある。より好ましくは0〜50重量部である。
The average particle diameter of the metal oxide particles is preferably 1 to 300 nm. If it exceeds 300 nm, the cured product may not have sufficient transparency. More preferably, it is 1-300 nm, More preferably, it is 1-50 nm.
In addition, the average particle diameter of a particle here means the volume average particle diameter calculated | required by measuring using a dynamic light scattering type particle size distribution measuring apparatus.
The compounding amount of the metal oxide particles is preferably 0 to 80 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the polymerizable components. If it exceeds 80 parts by weight, the cured product may be brittle. More preferably, it is 0-50 weight part.

上記表面機能調整剤を含有することにより、耐指紋除去性が良好になるが、表面機能調整剤としては、一般的には、フッ素系化合物やシリコーン系化合物が用いられる。本発明では、用途に応じ、例えば、ポリエーテル変性フッ素系化合物、反応性基(例えば(メタ)アクリレート)を有するポリエーテル変性フッ素系化合物、非反応性シリコーン、反応性(例えば(メタ)アクリレート)シリコーン、高分子シリコーン、マクロモノマー系シリコーンのいずれも用いることができる。 The anti-fingerprint removal property is improved by containing the surface function adjusting agent, but as the surface function adjusting agent, a fluorine-based compound or a silicone-based compound is generally used. In the present invention, for example, a polyether-modified fluorine-based compound, a polyether-modified fluorine-based compound having a reactive group (for example, (meth) acrylate), a non-reactive silicone, and a reactive (for example, (meth) acrylate) Any of silicone, polymer silicone, and macromonomer silicone can be used.

上記溶剤とは、揮発性を有するか又は低沸点のいわゆる有機溶剤を意味し、例えば、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素;ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族又は脂環式炭化水素;四塩化炭素、クロロホルム、二塩化エチレン等のハロゲン化炭化水素;ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物;ジエチルエーテル、メチルt−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等のエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸アミル等のエステル類;ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類等の1種又は2種以上を使用することができる。 The above-mentioned solvent means a so-called organic solvent having volatility or a low boiling point, for example, an aromatic hydrocarbon such as benzene, toluene and chlorobenzene; an aliphatic or alicyclic such as pentane, hexane, cyclohexane and heptane Hydrocarbons; halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, chloroform, and ethylene dichloride; nitro compounds such as nitromethane and nitrobenzene; ethers such as diethyl ether, methyl t-butyl ether, tetrahydrofuran, and 1,4-dioxane; methyl acetate; Esters such as ethyl acetate, isopropyl acetate and amyl acetate; alcohols such as dimethylformamide, methanol, ethanol and propanol; one or more ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone are used. It is possible.

上記光ディスク用硬化性樹脂組成物には更に、必要に応じ、添加物として、無機充填剤、低収縮化剤(反応性オリゴマー又はポリマー、非反応性オリゴマー又はポリマー)、着色顔料、可塑剤、連鎖移動剤、重合禁止剤、近赤外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、難燃化剤、艶消し剤、染料、消泡剤、レベリング剤、帯電防止剤、分散剤、スリップ剤、表面改質剤、揺変化剤、揺変助剤等の1種又は2種以上を使用することができる。なお、これらの添加物の存在は、特に本発明の効果に影響を及ぼすものではない。
上記添加物の配合量は、添加物の種類や使用目的、組成物の用途や使用方法等に応じて適宜設定すればよく、特に限定されるものではない。例えば、無機充填剤の配合量は、上記重合性成分の総量100重量部に対し、好ましくは1〜80重量部、より好ましくは10〜60重量部、更に好ましくは20〜50重量部である。低収縮化剤、着色顔料、可塑剤又は援変化剤の配合量は、上記重合性成分の総量100重量部に対し、好ましくは1〜40重量部、より好ましくは5〜30重量部、更に好ましくは10〜25重量部である。重合禁止剤、酸化防止剤、艶消し剤、染料、消泡剤、レベリング剤、帯電防止剤、分散剤、スリップ剤、表面改質剤又は援変助剤の配合量は、上記重合性成分の総量100重量部に対し、好ましくは0.0001〜10重量部、より好ましくは0.001〜5重量部、更に好ましくは0.01〜3重量部である。
The optical disk curable resin composition may further include, as necessary, inorganic fillers, low shrinkage agents (reactive oligomers or polymers, non-reactive oligomers or polymers), color pigments, plasticizers, chains as necessary. Transfer agent, polymerization inhibitor, near infrared absorber, light stabilizer, antioxidant, flame retardant, matting agent, dye, defoaming agent, leveling agent, antistatic agent, dispersant, slip agent, surface modification 1 type (s) or 2 or more types, such as a quality agent, a thixotropic agent, a thixotropic agent, can be used. The presence of these additives does not particularly affect the effects of the present invention.
What is necessary is just to set the compounding quantity of the said additive suitably according to the kind and use purpose of an additive, the use of a composition, a usage method, etc., and it is not specifically limited. For example, the blending amount of the inorganic filler is preferably 1 to 80 parts by weight, more preferably 10 to 60 parts by weight, and still more preferably 20 to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the polymerizable components. The blending amount of the low shrinkage agent, the color pigment, the plasticizer or the auxiliary change agent is preferably 1 to 40 parts by weight, more preferably 5 to 30 parts by weight, still more preferably with respect to 100 parts by weight of the total amount of the polymerizable components. Is 10 to 25 parts by weight. The polymerization inhibitor, antioxidant, matting agent, dye, antifoaming agent, leveling agent, antistatic agent, dispersant, slip agent, surface modifier or auxiliary agent are blended in the above polymerizable components. Preferably it is 0.0001-10 weight part with respect to 100 weight part of total amounts, More preferably, it is 0.001-5 weight part, More preferably, it is 0.01-3 weight part.

本発明の光ディスク用硬化性樹脂組成物は、上述した(a)〜(d)の必須成分と、更に必要に応じて含まれる上記成分とを配合し、通常の手法により混合・攪拌することにより得ることができる。
このような樹脂組成物の粘度は、25℃において、800〜3500mPa・sであることが好適である。この範囲外であると、例えば上記樹脂組成物を用いて光ディスクの保護層を形成した場合に、保護層の厚みを100μm±2μmに制御できないおそれがある。具体的には、中心部の保護層の厚みがより薄くなったり、端部の保護層の厚みが厚くなったりするおそれがある。より好ましくは900〜3000mPa・s、更に好ましくは1000〜2500mPa・sである。
なお、上記樹脂組成物の粘度は、温度25℃の条件下で、B型粘度計(型式「RB80L」:東機産業社製)を用いて算出することができる。
The curable resin composition for an optical disk of the present invention comprises the above-described essential components (a) to (d) and the above-mentioned components included as necessary, and is mixed and stirred by a usual method. Obtainable.
The viscosity of such a resin composition is preferably 800 to 3500 mPa · s at 25 ° C. If it is outside this range, for example, when a protective layer of an optical disk is formed using the resin composition, the thickness of the protective layer may not be controlled to 100 μm ± 2 μm. Specifically, there is a possibility that the thickness of the protective layer at the center portion becomes thinner or the thickness of the protective layer at the end portion becomes thicker. More preferably, it is 900-3000 mPa * s, More preferably, it is 1000-2500 mPa * s.
The viscosity of the resin composition can be calculated using a B-type viscometer (model “RB80L” manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.) under a temperature of 25 ° C.

上記光ディスク用硬化性樹脂組成物は、紫外線を照射することで硬化させることができる。ここでいう硬化とは、流動性のない状態にすることを意味する。
使用する紫外線の波長は、150〜450nmの範囲内であればよい。このような波長を発する光源としては、例えば、太陽光線、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライド灯、ガリウム灯、キセノン灯、フラッシュ型キセノン灯、カーボンアーク灯等が挙げられる。照射積算光量は、好ましくは0.1〜3J/cm、より好ましくは0.2〜2.0J/cm、更に好ましくは0.3〜1.0J/cmの範囲内である。
The curable resin composition for optical disks can be cured by irradiating with ultraviolet rays. The term “curing” as used herein means that there is no fluidity.
The wavelength of the ultraviolet rays used may be in the range of 150 to 450 nm. Examples of the light source that emits such a wavelength include sunlight, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a gallium lamp, a xenon lamp, a flash type xenon lamp, and a carbon arc lamp. Irradiation integrated light quantity is preferably 0.1~3J / cm 2, more preferably 0.2~2.0J / cm 2, more preferably in the range of 0.3~1.0J / cm 2.

上記樹脂組成物はまた、光照射による硬化と共に加熱による硬化を行ってもよい。この場合は、上述した光源と共に、赤外線、遠赤外線、熱風、高周波加熱等を用いればよい。加熱温度は、基材の種類等に応じて適宜調節すればよく、特に限定されるものではないが、好ましくは80〜200℃、より好ましくは90〜180℃、更に好ましくは100〜170℃の範囲内である。加熱時間は、塗布面積等に応じて適宜調節すればよく、特に限定されるものではないが、好ましくは1分間〜24時間、より好ましくは10分間〜12時間、更に好ましくは30分間〜6時間の範囲内である。 The resin composition may be cured by heating as well as by light irradiation. In this case, infrared light, far infrared light, hot air, high-frequency heating, or the like may be used together with the light source described above. The heating temperature may be appropriately adjusted according to the type of the substrate and the like, and is not particularly limited, but is preferably 80 to 200 ° C, more preferably 90 to 180 ° C, and still more preferably 100 to 170 ° C. Within range. The heating time may be appropriately adjusted according to the application area and the like, and is not particularly limited, but is preferably 1 minute to 24 hours, more preferably 10 minutes to 12 hours, and even more preferably 30 minutes to 6 hours. Is within the range.

上記樹脂組成物は更に、光照射による硬化と共に電子線照射による硬化を行ってもよい。この場合、加速電圧は、好ましくは0〜500kV、より好ましくは20〜300kV、更に好ましくは30〜200kVの範囲内である電子線を用いればよい。また、照射量は、好ましくは2〜500kGy、より好ましくは3〜300kGy、更に好ましくは4〜200kGyの範囲内である。 The resin composition may be further cured by irradiation with an electron beam as well as by irradiation with light. In this case, the acceleration voltage is preferably 0 to 500 kV, more preferably 20 to 300 kV, and even more preferably 30 to 200 kV. The irradiation amount is preferably in the range of 2 to 500 kGy, more preferably 3 to 300 kGy, and still more preferably 4 to 200 kGy.

上記光ディスク用硬化性樹脂組成物を硬化して得られる硬化物もまた、本発明の1つであるが、該硬化物は、透明性や硬度、残膜性に優れるのみならず、反りが著しく小さく、しかも圧接痕や凹み等による永久的な変形(永久変形)が充分に抑制されて、長期保存安定性に著しく優れたものである。そのため、この硬化物は、光ディスクを構成する層(硬化膜)として特に有用なものである。このように上記光ディスク用硬化性樹脂組成物を硬化させてなる層を有する光ディスクもまた、本発明の1つである。 A cured product obtained by curing the above curable resin composition for optical disks is also one aspect of the present invention. The cured product is not only excellent in transparency, hardness, and remaining film properties, but also has a significant warpage. It is small, and permanent deformation (permanent deformation) due to pressure marks, dents and the like is sufficiently suppressed, and remarkably excellent in long-term storage stability. Therefore, the cured product is particularly useful as a layer (cured film) constituting the optical disc. An optical disk having a layer obtained by curing the curable resin composition for an optical disk as described above is also one aspect of the present invention.

上記光ディスクは、基板と、情報読み取り用のレーザー光を反射させる反射膜と、厚さ20〜150μmの保護層とをこの順に有するものであるが、基板、反射膜及び保護層を必須とする光ディスクである限り、更に他の機能層を有するものであってもよく、これらの各層の間に他の機能層を有するものであってもよい。このような光ディスクとしては、特にブルーレイディスクであることが好適である。
上記光ディスクとしては、例えば、基板(又は基板上に形成された機能層)上に形成された反射膜上に、本発明の光ディスク用硬化性樹脂組成物を硬化させてなる保護層を有することで得ることができるが、ここでいう「反射膜上」とは、反射膜に直接保護層を積層する形態だけでなく、反射膜上に機能層が積層され、その機能層上に保護層が積層される形態も意味する。
The optical disc has a substrate, a reflective film for reflecting laser light for reading information, and a protective layer having a thickness of 20 to 150 μm in this order. The optical disc requires the substrate, the reflective film, and the protective layer in this order. As long as it is, it may have another functional layer, and may have another functional layer between these layers. As such an optical disc, a Blu-ray disc is particularly preferable.
As the optical disk, for example, a protective layer formed by curing the curable resin composition for an optical disk of the present invention is formed on a reflective film formed on a substrate (or a functional layer formed on the substrate). The term “on the reflective film” as used herein means not only a form in which a protective layer is directly laminated on the reflective film, but also a functional layer laminated on the reflective film, and the protective layer is laminated on the functional layer. It also means the form.

上記光ディスクにおいて、本発明の光ディスク用硬化性樹脂組成物は、光透過層を形成する材料として好適に用いることができるが、中でも、保護層の形成に特に好ましく用いられる。この場合、低反り性(低収縮性)、透明性(光透過性)、基板(例えば、ポリカーボネート基板等)との密着性、低腐食性、リサイクル性、速硬化性(生産性)、防汚性、寸法安定性、長期保存安定性(加熱促進試験時の反りの変化、残膜性、圧接痕や凹み等の永久変形量が小さいこと)等の特性を全て満たす保護層を実現することが可能になる。 In the above optical disc, the curable resin composition for optical discs of the present invention can be suitably used as a material for forming a light transmission layer, but is particularly preferably used for forming a protective layer. In this case, low warpage (low shrinkage), transparency (light transmission), adhesion to the substrate (for example, polycarbonate substrate, etc.), low corrosion, recyclability, fast curability (productivity), antifouling Realize a protective layer that satisfies all of the properties such as stability, dimensional stability, long-term storage stability (warping change during heating acceleration test, residual film property, small amount of permanent deformation such as pressure marks and dents) It becomes possible.

また近年では、光ディスクの記録容量を上げるために情報記録層を2層以上有する多層構造の光ディスクも開発されており、このような光ディスクにおいては、情報記録層間に透明な紫外線硬化型樹脂を紫外線にて硬化させた中間層が形成されている。本発明の光ディスク用硬化性樹脂組成物は、保護層を形成する材料として特に好ましいが、この中間層を形成する材料として用いることも好適である。すなわち、上記光ディスク用硬化性樹脂組成物を硬化させてなる保護層及び/又は中間層を有する光ディスクは、本発明の好適な実施形態の1つである。 In recent years, in order to increase the recording capacity of an optical disc, a multilayer optical disc having two or more information recording layers has been developed. In such an optical disc, a transparent ultraviolet curable resin is used as an ultraviolet ray between information recording layers. A cured intermediate layer is formed. The curable resin composition for an optical disk of the present invention is particularly preferable as a material for forming a protective layer, but it is also preferable to use it as a material for forming this intermediate layer. That is, an optical disc having a protective layer and / or an intermediate layer obtained by curing the curable resin composition for an optical disc is one of the preferred embodiments of the present invention.

なお、上記樹脂組成物を用いることにより、硬化塗膜が傷つきにくい光ディスク(光記録媒体)の透明保護層(透明カバー層)を形成することができるが、更に性能向上が求められる場合は、保護層の上に、帯電防止層、撥水層、撥油層、ハードコート層等の層を形成してもよい。 In addition, by using the above resin composition, a transparent protective layer (transparent cover layer) of an optical disk (optical recording medium) that is hard to damage a cured coating film can be formed. A layer such as an antistatic layer, a water repellent layer, an oil repellent layer, or a hard coat layer may be formed on the layer.

上記樹脂組成物を硬化して得られる硬化物(硬化させてなる層)は、25℃における貯蔵弾性率E’が1200〜2100MPaとなるものであることが好適である。2100MPaより大きいと、硬化物の反りをより充分に抑制することができないおそれがあり、また1200MPa未満であると、圧接痕や凹み等による永久変形をより充分に抑制できないおそれがある。より好ましくは1400MPa以上、更に好ましくは1600MPa以上、特に好ましくは1700MPa以上、最も好ましくは1800MPa以上である。また、2000MPa以下であることがより好適である。 The cured product (layer obtained by curing) of the resin composition is preferably such that the storage elastic modulus E ′ at 25 ° C. is 1200 to 2100 MPa. If it is greater than 2100 MPa, the warpage of the cured product may not be sufficiently suppressed, and if it is less than 1200 MPa, permanent deformation due to pressure marks or dents may not be sufficiently suppressed. More preferably, it is 1400 MPa or more, More preferably, it is 1600 MPa or more, Especially preferably, it is 1700 MPa or more, Most preferably, it is 1800 MPa or more. Moreover, it is more suitable that it is 2000 MPa or less.

上記硬化物(硬化させてなる層)はまた、25℃における損失正接tanδが0.03〜0.12となるものであることが好適である。0.12よりも大きいと、硬化物の長期保存安定性がより充分とはならず、圧接痕や凹み等による永久変形を更に充分に抑制できないおそれがあり、0.03未満であると、硬化物の反りをより充分に抑制することができないおそれがある。より好ましくは0.1以下、更に好ましくは0.09以下、特に好ましくは0.07以下である。 The cured product (layer obtained by curing) preferably has a loss tangent tan δ at 25 ° C. of 0.03 to 0.12. If it is greater than 0.12, the long-term storage stability of the cured product may not be sufficient, and permanent deformation due to pressure marks or dents may not be sufficiently suppressed, and if it is less than 0.03, curing may occur. There is a possibility that the warping of the object cannot be sufficiently suppressed. More preferably, it is 0.1 or less, More preferably, it is 0.09 or less, Most preferably, it is 0.07 or less.

上記硬化物(硬化させてなる層)は更に、ガラス転移温度(Tg)が60〜85℃となるものであることが好適である。85℃より大きいと、硬化物の反りをより充分に抑制することができないおそれがあり、また60℃未満であると、圧接痕や凹み等による永久変形を更に充分に抑制できないおそれがある。より好ましくは65℃以上、更に好ましくは70℃以上、特に好ましくは74℃以上である。 It is preferable that the cured product (layer formed by curing) further has a glass transition temperature (Tg) of 60 to 85 ° C. If it is higher than 85 ° C., the warpage of the cured product may not be sufficiently suppressed, and if it is lower than 60 ° C., there is a possibility that permanent deformation due to pressure marks or dents cannot be further sufficiently suppressed. More preferably, it is 65 degreeC or more, More preferably, it is 70 degreeC or more, Most preferably, it is 74 degreeC or more.

ここで、上記貯蔵弾性率E’、損失正接tanδ及びガラス転移温度は、光ディスク用硬化性樹脂組成物を下記硬化方法によって硬化して得た硬化物について、下記測定条件の下、動的粘弾性の測定を行い、得られた25℃における値を採用する。なお、ガラス転移温度は、最大tanδ値の温度を採用するものとする。
<硬化方法>
厚さ1.1mm、直径120mmのポリカーボネート基板(PC基板)上に、スピンコーターにて光ディスク用硬化性樹脂組成物を厚さ100μm設定で塗布する。得られたPC基板を、キセノンフラッシュUVランプを有するUV照射機(米国キセノン社製 形式RC−742)を用いて、窒素雰囲気下、初めにランプ高さ2cmでフラッシュを2回照射し、次にランプ高さ2cmでフラッシュを30回照射させて硬化を完結させる。
<測定条件>
引っ張りモード、周波数1Hz、クランプ距離25mm、振幅0.1%、昇温速度5℃/分の条件で動的粘弾性の測定を行う。
Here, the storage elastic modulus E ′, loss tangent tan δ, and glass transition temperature are dynamic viscoelasticity of the cured product obtained by curing the curable resin composition for optical disks by the following curing method under the following measurement conditions. And the value obtained at 25 ° C. is adopted. In addition, the glass transition temperature shall employ the temperature of the maximum tan δ value.
<Curing method>
On a polycarbonate substrate (PC substrate) having a thickness of 1.1 mm and a diameter of 120 mm, a curable resin composition for an optical disk is applied with a thickness of 100 μm using a spin coater. The obtained PC board was first irradiated with a flash twice at a lamp height of 2 cm under a nitrogen atmosphere using a UV irradiator having a xenon flash UV lamp (model RC-742, manufactured by Xenon, USA). The flash is irradiated 30 times at a lamp height of 2 cm to complete the curing.
<Measurement conditions>
The dynamic viscoelasticity is measured under the conditions of a tensile mode, a frequency of 1 Hz, a clamp distance of 25 mm, an amplitude of 0.1%, and a heating rate of 5 ° C./min.

上記硬化物(硬化させてなる層)はまた、厚さ100μmでの405nmにおける光線透過率が85%以上となることが好適である。85%未満であると透明性が充分ではなく、記録された情報の読み出し時にエラーが増加するおそれがあるため、光ディスクにより好適なものとすることができないおそれがある。より好ましくは88%以上、更に好ましくは89%以上である。
上記光線透過率は、分光光度計により測定することができる。
The cured product (cured layer) is also preferably such that the light transmittance at 405 nm at a thickness of 100 μm is 85% or more. If it is less than 85%, the transparency is not sufficient, and errors may increase when reading recorded information, so that there is a possibility that the optical disk cannot be made more suitable. More preferably, it is 88% or more, More preferably, it is 89% or more.
The light transmittance can be measured with a spectrophotometer.

上記硬化物(硬化させてなる層)はまた、70℃のオーブン中で100時間保持させた場合の質量減量(質量減少)率が、0.1〜2質量%となることが好適である。なお、質量減少は、未架橋の重合性モノマー成分、開始剤の残渣やその分解生成物、低分子量の添加剤等が原因と考えられるが、2質量%より大きい場合には、揮発成分の硬化物表面へのブリードアウトや、保護層の厚み変化により記録された情報の読み出し時のエラー発生を充分に低減することができず、光ディスクの長期保存安定性が良好とはならないおそれがある。また、質量減少率を0.1質量%未満とするためには、硬化物の乾燥(減圧)工程等が必要なためコストアップとなる。すなわち、質量減量率を上記範囲に設定することにより、例えば、光ディスクにおいて経時的な表面精度の低下が少なく保存安定性が向上するのみならず、自動車内等での使用や保存がより可能となる。より好ましくは1.5質量%以下、更に好ましくは1質量%以下である。
上記質量減少率は、厚みが100μ±2μmの硬化物について測定するものとする。
The cured product (a layer obtained by curing) preferably has a mass loss (mass loss) rate of 0.1 to 2% by mass when held in an oven at 70 ° C. for 100 hours. The mass decrease is considered to be caused by uncrosslinked polymerizable monomer components, initiator residues and decomposition products thereof, low molecular weight additives, etc., but when the content is larger than 2% by mass, the volatile components are cured. There is a possibility that the error generation at the time of reading information recorded due to bleed-out to the surface of the object or a change in the thickness of the protective layer cannot be sufficiently reduced, and the long-term storage stability of the optical disk may not be good. Further, in order to make the mass reduction rate less than 0.1% by mass, a drying (decompression) step of the cured product is required, resulting in an increase in cost. That is, by setting the weight loss rate within the above range, for example, the optical disk is less likely to have a decrease in surface accuracy over time and storage stability is improved, and can be used and stored in an automobile or the like. . More preferably, it is 1.5 mass% or less, More preferably, it is 1 mass% or less.
The mass reduction rate is measured for a cured product having a thickness of 100 μ ± 2 μm.

上記硬化物(硬化させてなる層)は、20〜150μmの厚みを有する。厚みの上限値は、好ましくは120μm、より好ましくは105μmであり、下限値は、好ましくは50μm、更に好ましくは70μmである。すなわち、上記光ディスクにおける保護層等の厚みは20〜150μmであればよいが、50〜105μmであることがより好ましく、70〜120μmであることが更に好ましい。
上記硬化物(硬化させてなる層)はまた、本発明の光ディスク用硬化性樹脂組成物から形成されるものであるため、硬化後の厚み変化を±2μm内に制御することができる。
The said hardened | cured material (layer formed by hardening) has a thickness of 20-150 micrometers. The upper limit value of the thickness is preferably 120 μm, more preferably 105 μm, and the lower limit value is preferably 50 μm, and more preferably 70 μm. That is, the thickness of the protective layer or the like in the optical disc may be 20 to 150 μm, more preferably 50 to 105 μm, and still more preferably 70 to 120 μm.
Since the cured product (layer formed by curing) is also formed from the curable resin composition for optical disks of the present invention, the thickness change after curing can be controlled within ± 2 μm.

本発明の光ディスク用硬化性樹脂組成物は、上述のような構成であり、透明性に優れるとともに、反りが著しく小さく、かつ圧接痕や凹み等の永久的な変形が充分に抑制され、長期安定性に優れる硬化物を与えることができるものである。このような樹脂組成物を光ディスクに用いれば、より信頼性の高い記録・再生を実現できるため、特に、ブルーレイディスク等の各種光ディスクを構成する保護層や中間層等の層形成材料として有用である。 The curable resin composition for an optical disk of the present invention has the above-described configuration, is excellent in transparency, has extremely small warpage, and sufficiently suppresses permanent deformation such as a press-contact mark and a dent, and is stable for a long time. A cured product having excellent properties can be provided. If such a resin composition is used for an optical disc, more reliable recording / reproduction can be realized, and therefore it is particularly useful as a layer forming material for protective layers and intermediate layers constituting various optical discs such as Blu-ray discs. .

以下に実施例を掲げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」は「重量部」を、「%」は「質量%」を意味するものとする。
下記製造例において、重合体の数平均分子量(Mn)、分子量分布(Mw/Mn)、ガラス転移温度及び弾性率は、各々上述した方法にて測定した。また、実施例及び比較例における各種物性の評価は、下記方法にて行った。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. However, the present invention is not limited to these examples. Unless otherwise specified, “part” means “part by weight” and “%” means “mass%”.
In the following production examples, the number average molecular weight (Mn), molecular weight distribution (Mw / Mn), glass transition temperature and elastic modulus of the polymer were measured by the methods described above. Further, various physical properties in Examples and Comparative Examples were evaluated by the following methods.

<各種物性の評価方法>
(1)樹脂組成物粘度
得られた樹脂組成物を、温度25℃の条件下で、B型粘度計(型式「RB80L」、東機産業社製)を用いて測定した値を採用した。
(2)保護層の透明性
得られた基板/保護層の積層体から保護層(樹脂組成物の硬化膜(硬化物))のみを所定の寸法で剥がし取り、405nmにおける光線透過率を、分光光度計(型式UV−3100、島津製作所社製)を用いて測定した。空気をブランクとして採用した。次いで、算出された光線透過率の値について下記の基準により評価した。
◎:透過率が89%以上
○:透過率が85%以上
×:透過率が85%未満
<Evaluation methods for various physical properties>
(1) Resin Composition Viscosity The value obtained by measuring the obtained resin composition using a B-type viscometer (model “RB80L”, manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.) under the condition of a temperature of 25 ° C. was adopted.
(2) Transparency of protective layer Only the protective layer (cured film (cured product) of the resin composition) is peeled off from the obtained substrate / protective layer laminate with a predetermined dimension, and the light transmittance at 405 nm is measured by spectroscopy. Measurement was performed using a photometer (model UV-3100, manufactured by Shimadzu Corporation). Air was employed as a blank. Next, the calculated light transmittance value was evaluated according to the following criteria.
◎: Transmittance is 89% or more ○: Transmittance is 85% or more ×: Transmittance is less than 85%

(3)保護層の質量減量率(質量減少率)
得られた基板/保護層の積層体から保護層(樹脂組成物の硬化膜(硬化物))のみを所定の寸法で剥がし取り、加熱促進試験(70℃のオーブン中で100時間保持)前後の質量減量率(%)を、〔(試験前の質量−試験後の質量)/試験前の質量×100〕で算出した。次いで、算出された光線透過率の値について下記の基準により評価した。
◎:質量減量率が1.0%以下
○:質量減量率が1.0%を超えて2.0%以下
×:質量減量率が2.0%を超える。
(4)保護層の残膜性
加熱促進試験(70℃のオーブン中で100時間保持)前後の保護層の厚みを、レーザーフォーカス変位計を用いて測定し、残膜率(%)を〔(加熱促進試験後の膜厚/加熱促進試験前の膜厚)×100〕で算出し、以下の基準で残膜性を評価した。
○:残膜率が98.0%以上、102%未満
×:残膜率が98.0%未満又は102%以上
(3) Mass loss rate of protective layer (mass reduction rate)
Only the protective layer (cured film (cured product) of the resin composition) was peeled off from the obtained substrate / protective layer laminate at a predetermined size, and before and after the heating acceleration test (held in an oven at 70 ° C. for 100 hours). The weight loss rate (%) was calculated by [(mass before test−mass after test) / mass before test × 100]. Next, the calculated light transmittance value was evaluated according to the following criteria.
A: The weight loss rate is 1.0% or less. O: The weight loss rate exceeds 1.0% and is 2.0% or less. X: The weight loss rate exceeds 2.0%.
(4) Protective layer residual film heating acceleration test (held in an oven at 70 ° C. for 100 hours) The thickness of the protective layer was measured using a laser focus displacement meter, and the residual film ratio (%) was determined as [( Film thickness after heating acceleration test / film thickness before heating acceleration test) × 100], and the remaining film property was evaluated according to the following criteria.
○: Remaining film ratio is 98.0% or more and less than 102% ×: Remaining film ratio is less than 98.0% or 102% or more

(5)初期の反り増加量
得られた基板/保護層の積層体を、保護層(樹脂組成物の硬化膜(硬化物))が上面側になるように水平なガラス板上に置いた後、日本触媒社製のレーザー変位読取方式の反り角測定装置を使い、温度25℃、相対湿度50%環境下にて、半径58mm位置におけるラジアルチルト値を測定した。なお、積層体を得る前のポリカーボネート基板のみのラジアルチルト値は、−0.8°であり、保護層と反対側に反っていた。初期の反り増加量としては、塗布前後の反り変化量を採用した。
(6)加熱促進試験後の反り増加量
得られた基板/保護層の積層体を、70℃のオーブン中で100時間保持させ、更に、温度25℃、相対湿度50%環境下に24時間放置したときの反り値を、初期の反り増加量と同様にしてラジアルチルト値を測定した。
(7)反り総合評価
初期の反り増加量と加熱促進試験後の反り増加量とを合算し、得られた反り量を以下の基準で評価した。
○:0.8°未満
×:0.8°以上
なお、0.8°以上反りがあれば、製造工程の工夫や透明カバー樹脂の改良を実施しても、反り規格内への改善は困難となるおそれがある。
(5) After placing the obtained substrate / protective layer laminate on a horizontal glass plate so that the protective layer (cured film (cured product) of the resin composition) is on the upper surface side. The radial tilt value at a radius of 58 mm was measured using a laser displacement reading type warpage angle measuring device manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd. under an environment of a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 50%. In addition, the radial tilt value of only the polycarbonate substrate before obtaining the laminate was −0.8 °, and warped on the side opposite to the protective layer. As the initial warpage increase amount, the warpage change amount before and after coating was adopted.
(6) Increase in warpage after heating acceleration test The obtained substrate / protective layer laminate was held in an oven at 70 ° C. for 100 hours, and further allowed to stand in an environment at 25 ° C. and 50% relative humidity for 24 hours. The radial tilt value was measured in the same manner as the initial warpage increase.
(7) Warpage Comprehensive Evaluation The warpage increase amount at the initial stage and the warpage increase amount after the heating acceleration test were added together, and the obtained warpage amount was evaluated according to the following criteria.
○: Less than 0.8 ° ×: 0.8 ° or more If there is a warp of 0.8 ° or more, it is difficult to improve to the warp standard even if the manufacturing process is improved or the transparent cover resin is improved. There is a risk of becoming.

(8)保護層 25℃における貯蔵弾性率E’
得られた基板/保護層の積層体から、保護層(樹脂組成物の硬化膜(硬化物))のみを所定の寸法で剥がし取り、引っ張りモード、周波数1Hz、クランプ距離25mm、振幅0.1%、昇温速度5℃/分の条件で動的粘弾性の測定を行い、得られた25℃における貯蔵弾性率E’の値を採用した。
(9)保護層 25℃における損失正接tanδ
25℃における貯蔵弾性率E’と同様の測定方法及び条件により得られた値を採用した。
(10)保護層 ガラス点移転温度(Tg)
25℃における貯蔵弾性率E’ と同様の測定方法及び条件により得られた値であり、最大tanδ値の温度を採用した。
(11)永久変形量(μm)
得られた基板/保護層の積層体を用いて、微小圧縮試験機(島津製作所製、型式MCT−W500)により、試験条件として、使用平面圧子50μm径、負荷速度20mN/秒、最大荷重300mN、最大荷重での保持時間90秒、徐荷速度20mN/秒、完全徐荷後の保持時間90秒とした場合の、積層体に残る変形量を測定した値を採用した。
なお、この試験により永久変形量が1μmを超える場合には、圧接痕や凹み等により長期保存安定性に劣る場合がある。
(8) Protective layer Storage elastic modulus E ′ at 25 ° C.
Only the protective layer (cured film (cured product) of the resin composition) is peeled off from the obtained substrate / protective layer laminate with predetermined dimensions, and the tensile mode, the frequency is 1 Hz, the clamp distance is 25 mm, and the amplitude is 0.1%. Then, the dynamic viscoelasticity was measured under the condition of a heating rate of 5 ° C./min, and the obtained value of the storage elastic modulus E ′ at 25 ° C. was adopted.
(9) Protective layer Loss tangent tan δ at 25 ° C
The value obtained by the same measurement method and conditions as the storage elastic modulus E ′ at 25 ° C. was adopted.
(10) Protective layer Glass point transfer temperature (Tg)
This is a value obtained by the same measurement method and conditions as the storage elastic modulus E ′ at 25 ° C., and the temperature of the maximum tan δ value was adopted.
(11) Permanent deformation (μm)
Using the obtained substrate / protective layer laminate, using a micro-compression tester (manufactured by Shimadzu Corporation, model MCT-W500), as test conditions, a used flat indenter diameter of 50 μm, a load speed of 20 mN / sec, a maximum load of 300 mN, A value obtained by measuring the amount of deformation remaining in the laminate when the holding time at the maximum load was 90 seconds, the unloading speed was 20 mN / sec, and the holding time after complete unloading was 90 seconds was adopted.
In addition, when the amount of permanent deformation exceeds 1 μm by this test, the long-term storage stability may be inferior due to pressure marks or dents.

製造例1
攪拌棒、温度計、滴下ライン、窒素/空気混合ガス導入管を取り付けた4つ口フラスコに酢酸エチル150gを加え、45℃へ昇温した。昇温後、アクリル酸2−(2−ビニロキシエトキシ)エチル(VEEA、日本触媒社製)100g及びシクロヘキシルビニルエーテル(CHVE)100gの混合物と、酢酸エチル25g及びリンタングステン酸13mgとの混合溶解物とを、それぞれ3時間かけて滴下し重合を行った。重合終了後はトリエチルアミンを加えて反応を終了した。次いで、エバポレーターで濃縮した後、ビニル系重合体(「P(VEEA−CHVE)−1」と称する。)を得た。単量体の反応率は、反応停止後の混合液をガスクロマトグラフィー(GC)で分析することにより、99.5%であること、更に、酢酸エチルの含有量は0.1%であることが判明した。また、得られたビニル系重合体の数平均分子量(Mn)は2840、分子量分布(Mw/Mn)は1.62、ガラス転移温度は50℃、弾性率は1110MPaであった。
Production Example 1
150 g of ethyl acetate was added to a four-necked flask equipped with a stir bar, thermometer, dropping line, and nitrogen / air mixed gas introduction tube, and the temperature was raised to 45 ° C. After heating, a mixture of 100 g of 2- (2-vinyloxyethoxy) ethyl acrylate (VEEA, Nippon Shokubai Co., Ltd.) and 100 g of cyclohexyl vinyl ether (CHVE), 25 g of ethyl acetate and 13 mg of phosphotungstic acid, Were respectively added dropwise over 3 hours to carry out polymerization. After completion of the polymerization, the reaction was terminated by adding triethylamine. Subsequently, after concentrating with an evaporator, a vinyl polymer (referred to as “P (VEEA-CHVE) -1”) was obtained. The reaction rate of the monomer is 99.5% by analyzing the mixed solution after stopping the reaction by gas chromatography (GC), and the content of ethyl acetate is 0.1%. There was found. Further, the number average molecular weight (Mn) of the obtained vinyl polymer was 2840, the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 1.62, the glass transition temperature was 50 ° C., and the elastic modulus was 1110 MPa.

製造例2
攪拌棒、温度計、滴下ライン、窒素/空気混合ガス導入管を取り付けた4つ口フラスコに酢酸エチル150gを加え、50℃へ昇温した。昇温後、アクリル酸2−(2−ビニロキシエトキシ)エチル(VEEA、日本触媒社製)200gと、酢酸エチル25g及びリンタングステン酸13mgとの混合溶解物を、それぞれ3時間かけて滴下し重合を行った。重合終了後はトリエチルアミンを加えて反応を終了した。次いで、エバポレーターで濃縮した後、ビニル系重合体(「P(VEEA)−1」と称する。)を得た。単量体の反応率は、反応停止後の混合液をガスクロマトグラフィー(GC)で分析することにより、99.6%であること、更に、酢酸エチルの含有量は0.1%であることが判明した。また、得られたビニル系重合体の数平均分子量(Mn)は2210、分子量分布(Mw/Mn)は1.60、ガラス転移温度は74℃、弾性率は1660MPaであった。
Production Example 2
150 g of ethyl acetate was added to a four-necked flask equipped with a stir bar, thermometer, dropping line, and nitrogen / air mixed gas introduction tube, and the temperature was raised to 50 ° C. After the temperature increase, 200 g of 2- (2-vinyloxyethoxy) ethyl acrylate (VEEA, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.), a mixed solution of 25 g of ethyl acetate and 13 mg of phosphotungstic acid was added dropwise over 3 hours and polymerized. Went. After completion of the polymerization, the reaction was terminated by adding triethylamine. Subsequently, after concentrating with an evaporator, a vinyl polymer (referred to as “P (VEEA) -1”) was obtained. The reaction rate of the monomer is 99.6% by analyzing the mixed solution after the reaction is stopped by gas chromatography (GC), and the content of ethyl acetate is 0.1%. There was found. Further, the number average molecular weight (Mn) of the obtained vinyl polymer was 2210, the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 1.60, the glass transition temperature was 74 ° C., and the elastic modulus was 1660 MPa.

実施例1
ウレタンアクリレート(商品名「紫光UV−7000B」、日本合成化学工業社製)50重量部、トリシクロデカンジアクリレート(商品名「ライトアクリレートDCP−A」、共栄社化学社製)20重量部、イソボルニルアクリレート(商品名「ライトアクリレートIB−X」、共栄社化学社製)20重量部、アクリル酸2−(2−ビニロキシエトキシ)エチル(VEEA、日本触媒社製)10重量部、及び、光重合開始剤としてオリゴ{2−ヒドロキシ−2−メチル−1−[4−(1−メチルビニル)フェニル]プロパノン}(商品名「エスキュアONE」、ランベルティ社製)2重量部を、混合・攪拌して、光ディスク用硬化性樹脂組成物を調製した。
Example 1
50 parts by weight of urethane acrylate (trade name “purple UV-7000B”, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.), 20 parts by weight of tricyclodecane diacrylate (trade name “light acrylate DCP-A”, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Isobol Nyl acrylate (trade name “light acrylate IB-X”, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 20 parts by weight, 2- (2-vinyloxyethoxy) ethyl acrylate (VEEA, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.), 10 parts by weight, and photopolymerization As an initiator, 2 parts by weight of oligo {2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propanone} (trade name “Escure ONE”, manufactured by Lamberti Co.) was mixed and stirred. Thus, a curable resin composition for optical disks was prepared.

次に、厚さ1.1mm、直径120mmのポリカーボネート基板(PC基板)上に、スピンコーターにて光ディスク用硬化性樹脂組成物を厚さ100μm設定で塗布した。得られたPC基板を、キセノンフラッシュUVランプを有するUV照射機(米国キセノン社製 形式RC−742)を用いて、窒素雰囲気下、初めにランプ高さ2cmでフラッシュを2回照射し、次にランプ高さ2cmでフラッシュを30回照射させて硬化を完結させた。なお、320〜390nmにおける照射積算光量は約0.9J/cmであった。保護層の厚さをレーザーフォーカス変位計を用いて測定したところ、100±2μmであった。
得られた光ディスク用硬化性樹脂組成物、及び、基板/保護層の積層体の評価を行った。結果を表1−1に示す。
Next, a curable resin composition for an optical disk was applied on a polycarbonate substrate (PC substrate) having a thickness of 1.1 mm and a diameter of 120 mm with a spin coater at a thickness of 100 μm. The obtained PC board was first irradiated with a flash twice at a lamp height of 2 cm under a nitrogen atmosphere using a UV irradiator having a xenon flash UV lamp (model RC-742, manufactured by Xenon, USA). Curing was completed by irradiating a flash 30 times at a lamp height of 2 cm. In addition, the irradiation integrated light quantity in 320-390 nm was about 0.9 J / cm < 2 >. When the thickness of the protective layer was measured using a laser focus displacement meter, it was 100 ± 2 μm.
The obtained curable resin composition for optical disks and the substrate / protective layer laminate were evaluated. The results are shown in Table 1-1.

実施例2〜13、比較例1〜9
実施例1と同様にして、各成分を表1−1〜1−3に示した割合で混合・撹拌して、光ディスク用硬化性樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物を上記評価方法により評価した。評価結果を表1−1〜1−3に示す。
Examples 2-13, Comparative Examples 1-9
In the same manner as in Example 1, the components were mixed and stirred at the ratios shown in Tables 1-1 to 1-3 to obtain a curable resin composition for optical disks. The obtained resin composition was evaluated by the above evaluation method. The evaluation results are shown in Tables 1-1 to 1-3.

Figure 2010238322
Figure 2010238322

Figure 2010238322
Figure 2010238322

Figure 2010238322
Figure 2010238322

表1−1〜1−3の略称は以下のとおりである。なお、下記化合物中、括弧書きにて示したTgは、モノマーの場合は、そのホモポリマー(単独重合体)の硬化物のTgを意味し、オリゴマー又はポリマーの場合は、それを単独で硬化した硬化物のTgを意味する。また、オリゴマー又はポリマーの弾性率は、その単独の硬化物の貯蔵弾性率を意味する。
IB−XA:イソボルニルアクリレート(商品名「ライトアクリレートIB−XA」、共栄社化学社製、Tg:88℃)
IB−XM:イソボルニルメタクリレート(商品名「ライトエステルIB−X」、共栄社化学社製、Tg:110℃)
DCP−A:トリシクロデカンジアクリレート(商品名「ライトアクリレートDCP−A」、共栄社化学社製、Tg:187℃)
DCP−M:トリシクロデカンジメタクリレート(商品名「ライトエステルDCP−M」、共栄社化学社製、Tg:214℃)
CD−536:上記式(3)で表される化合物(2−(メタ)アクリロイルオキシイソブチル−5−エチル−5−(メタ)アクリロイルオキシメチル−1,3−ジオキサン、サートマー社製、Tg:78℃)
Abbreviations in Tables 1-1 to 1-3 are as follows. In the following compounds, the Tg shown in parentheses means the Tg of the cured product of the homopolymer (homopolymer) in the case of a monomer, and in the case of an oligomer or polymer, it was cured alone. It means Tg of the cured product. The elastic modulus of the oligomer or polymer means the storage elastic modulus of the single cured product.
IB-XA: Isobornyl acrylate (trade name “Light acrylate IB-XA”, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Tg: 88 ° C.)
IB-XM: Isobornyl methacrylate (trade name “Light Ester IB-X”, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Tg: 110 ° C.)
DCP-A: Tricyclodecane diacrylate (trade name “light acrylate DCP-A”, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Tg: 187 ° C.)
DCP-M: Tricyclodecane dimethacrylate (trade name “Light Ester DCP-M”, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Tg: 214 ° C.)
CD-536: Compound represented by the above formula (3) (2- (meth) acryloyloxyisobutyl-5-ethyl-5- (meth) acryloyloxymethyl-1,3-dioxane, manufactured by Sartomer, Tg: 78 ℃)

UV−7000B:ウレタンアクリレート(日本合成化学工業製、Tg:50℃、弾性率:870MPa)
CN−9893:ウレタンアクリレート(サートマー社製、Tg:40℃、弾性率:370MPa)
CN−981:ウレタンアクリレート(サートマー社製、Tg:37℃、弾性率:770MPa)
UV−6640B:ウレタンアクリレート(日本合成化学工業製、Tg:34℃、弾性率:130MPa)
UV−6100B:ウレタンアクリレート(日本合成化学工業製、Tg:12℃、弾性率:250MPa)
CN−2302:ポリエステルアクリレート(サートマー社製、Tg:47℃、弾性率:780MPa)
CN−9009:ウレタンアクリレート(サートマー社製、Tg:44℃、弾性率:1260MPa)
P(VEEA−CHVE)−1:製造例1で得たビニル系重合体(硬化物のTg:50℃、弾性率:1110MPa)
P(VEEA)−1:製造例2で得たビニル系重合体(硬化物のTg:74℃、弾性率:1660MPa)
UV-7000B: urethane acrylate (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry, Tg: 50 ° C., elastic modulus: 870 MPa)
CN-9893: Urethane acrylate (Sartomer, Tg: 40 ° C., elastic modulus: 370 MPa)
CN-981: Urethane acrylate (Sartomer, Tg: 37 ° C., elastic modulus: 770 MPa)
UV-6640B: urethane acrylate (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry, Tg: 34 ° C., elastic modulus: 130 MPa)
UV-6100B: urethane acrylate (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry, Tg: 12 ° C., elastic modulus: 250 MPa)
CN-2302: Polyester acrylate (manufactured by Sartomer, Tg: 47 ° C., elastic modulus: 780 MPa)
CN-9090: Urethane acrylate (Sartomer, Tg: 44 ° C., elastic modulus: 1260 MPa)
P (VEEA-CHVE) -1: Vinyl polymer obtained in Production Example 1 (Tg of cured product: 50 ° C., elastic modulus: 1110 MPa)
P (VEEA) -1: Vinyl polymer obtained in Production Example 2 (Tg of cured product: 74 ° C., elastic modulus: 1660 MPa)

Bis4EO−A:ビスフェノールAのエチレンオキシド付加物のジアクリレート(商品名「ライトアクリレートBP−4EA」、共栄社化学社製)
BP4PO−A:ビスフェノールAのプロピレンオキシド付加物のジアクリレート(商品名「ライトアクリレートBP−4PA」、共栄社化学社製)
Bis10EO−A:ビスフェノールAのエチレンオキシド付加物のジアクリレート(商品名「SR−602」、サートマー社製)
Bis4EO−M:ビスフェノールAのエチレンオキシド付加物のジメタクリレート(商品名「BPE−200」、新中村化学社製)
Bis6EO−M:ビスフェノールAのエチレンオキシド付加物のジメタクリレート(商品名「SR−541」、サートマー社製)
HX−620:ヒドロキシピバリン酸ネオペングリコールのε−カプロラクトン4モル付加物のジアクリレート(商品名「カヤラッドHX−620」、日本化薬社製)
AA−6:メタクリレート系反応性オリゴマー低収縮化剤(東亜合成社製)
VEEA:アクリル酸2−(2−ビニロキシエトキシ)エチル(日本触媒社製)
Bis4EO-A: Diacrylate of ethylene oxide adduct of bisphenol A (trade name “Light acrylate BP-4EA”, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
BP4PO-A: Diacrylate of propylene oxide adduct of bisphenol A (trade name “Light acrylate BP-4PA”, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
Bis10EO-A: Diacrylate of ethylene oxide adduct of bisphenol A (trade name “SR-602”, manufactured by Sartomer)
Bis4EO-M: Dimethacrylate of ethylene oxide adduct of bisphenol A (trade name “BPE-200”, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
Bis6EO-M: Dimethacrylate of ethylene oxide adduct of bisphenol A (trade name “SR-541”, manufactured by Sartomer)
HX-620: Diacrylate of ε-caprolactone 4 mol adduct of hydroxypivalic acid neopen glycol (trade name “Kayarad HX-620”, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
AA-6: Methacrylate-based reactive oligomer reducing agent (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.)
VEEA: 2- (2-vinyloxyethoxy) ethyl acrylate (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.)

Irg184:1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(商品名「イルガキュア184D」、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
Esacure−one:オリゴ{2−ヒドロキシ−2−メチル−1−[4−(1−メチルビニル)フェニル]プロパノン}(商品名「エスキュアONE」、ランベルティ社製)
Irg184: 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (trade name “Irgacure 184D”, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
Esacure-one: oligo {2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propanone} (trade name “Escure ONE”, manufactured by Lamberti)

表1−1〜1−3の実施例及び比較例から、本発明の光ディスク用硬化性樹脂組成物を、(a)ホモポリマーの硬化物のガラス転移温度が50℃以上である、脂環構造及び/又は脂肪族複素環構造を有する(メタ)アクリレート化合物と、(b)ウレタン(メタ)アクリレート化合物、ポリエステル(メタ)アクリレート化合物、エポキシ(メタ)アクリレート化合物、及び、側鎖に(メタ)アクリロイル基を有するオリゴマー又はポリマーからなる群より選択される少なくとも1種の化合物であって、分子中にラジカル重合性不飽和基を2以上有し、単独の硬化物のガラス転移温度が15〜100℃であり、かつ25℃における弾性率が150〜2000MPaである化合物(但し、(a)に該当する化合物を除く。)と、(c)該(a)及び(b)以外の(メタ)アクリレート化合物とを、これら(a)、(b)及び(c)成分の総量100質量%に対し、各々、(a)20〜55質量%、(b)15〜65質量%、(c)5〜40質量%含み、更に(d)光重合開始剤を含有するという構成にすることによって、硬化後の反り及び永久変形量の点において有利な効果を発揮し、それが顕著であることが確認された。以下に説明する。 From Examples and Comparative Examples in Tables 1-1 to 1-3, the curable resin composition for an optical disk of the present invention is obtained by using (a) a homopolymer cured product having a glass transition temperature of 50 ° C. or higher. And / or (meth) acrylate compound having an aliphatic heterocyclic structure, (b) urethane (meth) acrylate compound, polyester (meth) acrylate compound, epoxy (meth) acrylate compound, and (meth) acryloyl in the side chain It is at least one compound selected from the group consisting of an oligomer or polymer having a group, the molecule has two or more radically polymerizable unsaturated groups, and the glass transition temperature of a single cured product is 15 to 100 ° C. And a compound having an elastic modulus at 25 ° C. of 150 to 2000 MPa (excluding a compound corresponding to (a)), and (c) the (a) And (meth) acrylate compounds other than (b) with respect to 100% by mass of the total amount of these components (a), (b) and (c), respectively (a) 20 to 55% by mass, (b) 15 -65% by mass, (c) 5-40% by mass, and (d) a composition containing a photopolymerization initiator exhibits advantageous effects in terms of warpage after curing and permanent deformation. It was confirmed that it is remarkable. This will be described below.

すなわち、実施例1〜13の樹脂組成物はいずれも、上記形態の樹脂組成物であるが、透明性及び残膜性に優れ、かつ質量減少率が著しく改善されたものであるうえ、更に永久変形量は0.23〜0.88μm、反り増加量の合計量は0.4〜0.7°となり、反りが著しく小さく、かつ圧接痕や凹み等の永久的な変形が充分に抑制された硬化物を与えるものであることが分かる。 That is, all of the resin compositions of Examples 1 to 13 are the resin compositions of the above-mentioned form, but are excellent in transparency and residual film property and have a significantly improved mass reduction rate, and are further permanent. The amount of deformation was 0.23 to 0.88 μm, and the total amount of warpage increase was 0.4 to 0.7 °, the warpage was extremely small, and permanent deformation such as pressure marks and dents was sufficiently suppressed. It turns out that it gives a hardened | cured material.

これに対し、比較例1、4、5、6及び7の樹脂組成物は、(a)成分の含有割合が本発明の数値範囲の下限値未満で、かつ(c)成分の含有割合が本発明の数値範囲の上限値を超える例であり、更に比較例1、5及び7は、(b)成分の単独硬化物の弾性率が本発明の範囲の下限値を下回る例である。この場合、反りの増加量の合計量はいずれも小さいものの、永久変形量が2.70〜3.42μmと著しく大きく、実施例1〜13の樹脂組成物により得られる硬化物に比較して、長期保存安定性が顕著に劣ることが分かる。 On the other hand, in the resin compositions of Comparative Examples 1, 4, 5, 6 and 7, the content ratio of the component (a) is less than the lower limit value of the numerical range of the present invention, and the content ratio of the component (c) is It is an example exceeding the upper limit of the numerical range of the invention, and Comparative Examples 1, 5, and 7 are examples in which the elastic modulus of the single cured product of the component (b) is lower than the lower limit of the range of the present invention. In this case, although the total amount of the increase in warpage is small, the permanent deformation is extremely large as 2.70 to 3.42 μm, compared with the cured products obtained by the resin compositions of Examples 1 to 13, It can be seen that the long-term storage stability is significantly inferior.

比較例2の樹脂組成物は、(b)成分の単独硬化物の弾性率が本発明の範囲の下限値を下回る例であり、比較例3の樹脂組成物は、(b)成分の単独硬化物のガラス転移温度が本発明の範囲の下限値を下回る例である。これらの場合も、反りの増加量の合計量は小さいものの、永久変形量が2.92〜4.48μmと非常に大きい。したがって、いずれの場合も、実施例1〜13の樹脂組成物により得られる硬化物に比較して、長期保存安定性が顕著に劣ることが分かる。 The resin composition of Comparative Example 2 is an example in which the elastic modulus of the single cured product of component (b) is below the lower limit of the range of the present invention, and the resin composition of Comparative Example 3 is a single cured component of component (b). This is an example in which the glass transition temperature of the product falls below the lower limit of the range of the present invention. In these cases as well, the total amount of increase in warpage is small, but the amount of permanent deformation is very large at 2.92 to 4.48 μm. Therefore, it turns out that long-term storage stability is remarkably inferior compared with the hardened | cured material obtained by the resin composition of Examples 1-13 in any case.

比較例8及び9の樹脂組成物は、(c)成分を含まない例であるが、この場合は、永久変形量は小さいものの、反りの増加量の合計量が1.2〜1.3°と著しく大きく、製造工程の工夫や保護樹脂の改良を実施しても、反り規格内への改善が困難と予想されるため、実用化できるレベルにない。 The resin compositions of Comparative Examples 8 and 9 are examples that do not contain the component (c). In this case, although the amount of permanent deformation is small, the total amount of increase in warpage is 1.2 to 1.3 °. Even if the manufacturing process is devised and the protective resin is improved, it is expected that it will be difficult to improve the warpage.

以上より、上記構成の樹脂組成物とすることによって初めて、透明性及び残膜性に優れ、かつ質量減少率が低減されたものであるだけでなく、反りが著しく小さく、かつ圧接痕や凹み等の永久的な変形が充分に抑制された硬化物を与えることができるという格別顕著な効果を発揮できることが確認されたといえる。 As described above, for the first time by making the resin composition of the above configuration, not only is it excellent in transparency and residual film properties and the mass reduction rate is reduced, but also warpage is remarkably small, and pressure marks and dents, etc. It can be said that it was confirmed that a particularly remarkable effect that a cured product in which the permanent deformation of the material was sufficiently suppressed can be provided can be exhibited.

Claims (5)

基板と、情報読み取り用のレーザー光を反射させる反射膜と、厚さ20〜150μmの保護層とをこの順に有する光ディスクに用いられる硬化性樹脂組成物であって、
該硬化性樹脂組成物は、
(a)ホモポリマーの硬化物のガラス転移温度が50℃以上である、脂環構造及び/又は脂肪族複素環構造を有する(メタ)アクリレート化合物と、
(b)ウレタン(メタ)アクリレート化合物、ポリエステル(メタ)アクリレート化合物、エポキシ(メタ)アクリレート化合物、及び、側鎖に(メタ)アクリロイル基を有するオリゴマー又はポリマーからなる群より選択される少なくとも1種の化合物であって、分子中にラジカル重合性不飽和基を2以上有し、単独の硬化物のガラス転移温度が15〜100℃であり、かつ25℃における弾性率が150〜2000MPaである化合物(但し、(a)成分に該当する化合物を除く。)と、
(c)該(a)及び(b)成分以外の(メタ)アクリレート化合物とを、
これら(a)、(b)及び(c)成分の総量100質量%に対し、各々、(a)20〜55質量%、(b)15〜65質量%、(c)5〜40質量%含んでなり、
該硬化性樹脂組成物は、更に(d)光重合開始剤を含有する
ことを特徴とする光ディスク用硬化性樹脂組成物。
A curable resin composition used for an optical disc having a substrate, a reflective film that reflects a laser beam for reading information, and a protective layer having a thickness of 20 to 150 μm in this order,
The curable resin composition is
(A) a (meth) acrylate compound having an alicyclic structure and / or an aliphatic heterocyclic structure, wherein the homopolymer cured product has a glass transition temperature of 50 ° C. or higher;
(B) At least one selected from the group consisting of urethane (meth) acrylate compounds, polyester (meth) acrylate compounds, epoxy (meth) acrylate compounds, and oligomers or polymers having (meth) acryloyl groups in the side chains. A compound having two or more radically polymerizable unsaturated groups in the molecule, a glass transition temperature of a single cured product of 15 to 100 ° C., and an elastic modulus at 25 ° C. of 150 to 2000 MPa ( However, the compound corresponding to (a) component is excluded.)
(C) (meth) acrylate compounds other than the components (a) and (b)
(A) 20 to 55% by mass, (b) 15 to 65% by mass, and (c) 5 to 40% by mass with respect to the total amount of these (a), (b) and (c) components of 100% by mass. And
The curable resin composition further comprises (d) a photopolymerization initiator.
前記(a)の(メタ)アクリレート化合物は、(a1)脂環構造及び/又は脂肪族複素環構造を有する単官能(メタ)アクリレート化合物と、(a2)脂環構造及び/又は脂肪族複素環構造を有する多官能(メタ)アクリレート化合物との混合物である
ことを特徴とする請求項1に記載の光ディスク用硬化性樹脂組成物。
The (meth) acrylate compound (a) includes (a1) a monofunctional (meth) acrylate compound having an alicyclic structure and / or an aliphatic heterocyclic structure, and (a2) an alicyclic structure and / or an aliphatic heterocyclic ring. The curable resin composition for an optical disk according to claim 1, which is a mixture with a polyfunctional (meth) acrylate compound having a structure.
前記硬化性樹脂組成物は、25℃における粘度が800〜3500mPa・sである
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の光ディスク用硬化性樹脂組成物。
The curable resin composition for optical disks according to claim 1, wherein the curable resin composition has a viscosity at 25 ° C. of 800 to 3500 mPa · s.
請求項1〜3のいずれかに記載の光ディスク用硬化性樹脂組成物を硬化して得られる
ことを特徴とする硬化物。
A cured product obtained by curing the curable resin composition for an optical disk according to claim 1.
請求項1〜3のいずれかに記載の光ディスク用硬化性樹脂組成物を硬化させてなる層を有する
ことを特徴とする光ディスク。
An optical disc comprising a layer obtained by curing the curable resin composition for an optical disc according to claim 1.
JP2009087226A 2009-03-31 2009-03-31 Curable resin composition for optical disk, cured material thereof and optical disk Pending JP2010238322A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009087226A JP2010238322A (en) 2009-03-31 2009-03-31 Curable resin composition for optical disk, cured material thereof and optical disk

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009087226A JP2010238322A (en) 2009-03-31 2009-03-31 Curable resin composition for optical disk, cured material thereof and optical disk

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2010238322A true JP2010238322A (en) 2010-10-21

Family

ID=43092507

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009087226A Pending JP2010238322A (en) 2009-03-31 2009-03-31 Curable resin composition for optical disk, cured material thereof and optical disk

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2010238322A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012229405A (en) * 2011-04-13 2012-11-22 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The Resin molding, and laminate produced using the same
JP2013228726A (en) * 2012-03-30 2013-11-07 Nitto Denko Corp Polarizing film, optical film and image display device
JP2016020489A (en) * 2014-06-20 2016-02-04 三洋化成工業株式会社 Active energy line hardening resin composition

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012229405A (en) * 2011-04-13 2012-11-22 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The Resin molding, and laminate produced using the same
JP2013228726A (en) * 2012-03-30 2013-11-07 Nitto Denko Corp Polarizing film, optical film and image display device
US9829605B2 (en) 2012-03-30 2017-11-28 Nitto Denko Corporation Polarized film, optical film, and image display device
JP2016020489A (en) * 2014-06-20 2016-02-04 三洋化成工業株式会社 Active energy line hardening resin composition

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2011173981A (en) Curable resin composition for optical recording medium, cured product and optical recording medium
WO2010064610A1 (en) Curable resin composition for optical disk, and optical disk
JP2010155409A (en) Laminate
JP2011198434A (en) Curable resin composition for optical recording medium, cured product, and optical recording medium
JP2010282682A (en) Curable resin composition for optical disk, cured product thereof, and optical disk
JP2009108211A (en) Curable composition and hardened material
JP2010238322A (en) Curable resin composition for optical disk, cured material thereof and optical disk
JP2011074266A (en) Curable resin composition for optical disk, cured product thereof, and optical disk
JP5133116B2 (en) Curable composition and optical information medium
WO2010109615A1 (en) Curable resin composition for optical disks, and optical disk
JP4977807B2 (en) Blu-ray disc, ultraviolet curable resin composition therefor, and cured product
JP2009073901A (en) Method for producing cured product, cured product and optical recording medium
JP2011074265A (en) Curable resin composition for optical disk, cured product thereof, and optical disk
JP2010157295A (en) Curable resin composition for optical disk, and optical disk
JP2009221475A (en) Curable resin composition and cured product
JP2010238321A (en) Curable resin composition for optical disk, cured material thereof and optical disk
JP2011192342A (en) Optical recording medium
JP5278345B2 (en) Ultraviolet curable composition for optical disc and optical disc
JP2009173716A (en) Resin composition and optical recording medium
JP2009272025A (en) Optical recording medium and resin composition for optical recording medium
JP2010198719A (en) Curable resin composition for optical disk
JP2010176788A (en) Curable resin composition for optical disk, and optical disk
JP2011210335A (en) Photopolymerized resin composition for optical recording medium, cured material, and optical recoding medium
JP2011175699A (en) Optical recording medium
JP2008214452A (en) Resin composition and optical recording medium