JP2010238292A - Laminate forming apparatus, laminate forming method, glass substrate manufacturing method, glass substrate and magnetic recording medium - Google Patents
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Abstract
【課題】 積層体の形成を自動化できる装置を提供する
【解決手段】積層体形成装置200はガラス基材載置部21とスペーサ載置部18を有し、ガラス基材載置部21とスペーサ載置部18の間には積層体載置部17を有している。
ガラス基材載置部21にはエアシリンダ20および電動アクチュエータ19が設けられ、これらの装置によってB1、B2、C1、C2の向きに移動可能である。
また、積層体形成装置200は側壁4がE1、E2の向きに移動可能に設けられている。
さらに、側壁4には側壁8が移動可能に設けられている。
また、側壁8にはガラスチャック10およびスペーサチャック13がD1、D2の向きに移動可能に設けられている。
【選択図】 図5PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus capable of automating the formation of a laminated body. A laminated body forming apparatus 200 has a glass substrate placing part 21 and a spacer placing part 18, and the glass substrate placing part 21 and the spacer are provided. Between the mounting parts 18, a stacked body mounting part 17 is provided.
An air cylinder 20 and an electric actuator 19 are provided on the glass substrate mounting portion 21 and can be moved in the directions of B1, B2, C1, and C2 by these devices.
Moreover, the laminated body formation apparatus 200 is provided so that the side wall 4 can move in the directions of E1 and E2.
Further, a side wall 8 is movably provided on the side wall 4.
Further, a glass chuck 10 and a spacer chuck 13 are provided on the side wall 8 so as to be movable in the directions of D1 and D2.
[Selection] Figure 5
Description
本発明は積層体形成装置、積層体形成方法、ガラス基板の製造方法、ガラス基板および磁気記録媒体に関するものである。 The present invention relates to a laminate forming apparatus, a laminate forming method, a glass substrate manufacturing method, a glass substrate, and a magnetic recording medium.
近年、情報化技術の高度化に伴い、情報記録技術、特に磁気記録技術は著しく進歩している。 In recent years, with the advancement of information technology, information recording technology, particularly magnetic recording technology, has made remarkable progress.
このような磁気記録技術のひとつであるHDD(ハードディスクドライブ)等の磁気記録媒体用基板としては、かつてはアルミニウム基板が広く用いられてきた。 An aluminum substrate has been widely used as a substrate for a magnetic recording medium such as an HDD (Hard Disk Drive) which is one of such magnetic recording techniques.
しかしながら、磁気ディスクの小型化、薄板化、および高密度記録化に伴い、近年は、アルミニウム基板に比べ基板表面の平坦性及び基板強度に優れたガラス基板の需要が高まっている。 However, with the downsizing, thinning, and high-density recording of magnetic disks, in recent years, there has been an increasing demand for glass substrates that have superior substrate surface flatness and substrate strength compared to aluminum substrates.
ガラス基板は、従来、例えば、特許文献1の段落〔0004〕に示すように、ガラスを円盤状に形成して面取りを行い、端面および主表面を研磨し、その後に耐衝撃性や耐振動性を向上させるための化学強化処理を施すことにより製造されていた(特許文献1)。 Conventionally, for example, as shown in paragraph [0004] of Patent Document 1, a glass substrate is chamfered by forming glass into a disk shape, and end faces and main surfaces are polished, and then impact resistance and vibration resistance are obtained. It has been manufactured by applying a chemical strengthening treatment for improving (Patent Document 1).
ここで、端面を研磨する方法としては、一枚ずつ研磨していると手間がかかるため、例えば特許文献2の図4のように、スペーサを介してガラス基板を複数枚積層させ、ブラシを用いて複数のガラス基板の端面を一度に自動研磨する方法がある(特許文献2)。 Here, as a method of polishing the end face, since it takes time to polish one by one, for example, as shown in FIG. 4 of Patent Document 2, a plurality of glass substrates are laminated through a spacer and a brush is used. There is a method of automatically polishing the end surfaces of a plurality of glass substrates at once (Patent Document 2).
なお、スペーサは、端面の研磨残りを防止するため、ならびに、端面研磨時に積層体を固定するためにガラス基板を締め付けることにより発生する締め付け力によってガラス基板が破損するのを防止するために設けられている。 The spacer is provided to prevent the end surface from being polished and to prevent the glass substrate from being damaged by the tightening force generated by tightening the glass substrate to fix the laminate during the end surface polishing. ing.
特許文献2に記載の端面研磨方法は、複数枚のガラスを一度に自動研磨できるという点では非常に有用な発明である。 The end surface polishing method described in Patent Document 2 is a very useful invention in that a plurality of glasses can be automatically polished at one time.
しかしながら、特許文献2に記載の端面研磨を行う場合、基板とスペーサの積層体を事前に用意する必要があるが、積層体の形成は自動化されておらず、これが自動化できればより望ましい。 However, when performing end face polishing described in Patent Document 2, it is necessary to prepare a laminate of a substrate and a spacer in advance, but formation of the laminate is not automated, and it is more desirable if this can be automated.
本発明は上記の問題に鑑みてなされたものであり、その目的は、積層体の形成を自動化できる装置を提供することにある。 This invention is made | formed in view of said problem, The objective is to provide the apparatus which can automate formation of a laminated body.
上記課題を解決するため、本発明は以下の構成を有する。 In order to solve the above problems, the present invention has the following configuration.
(構成1)ガラス基材が載置されるガラス基材載置部と、前記ガラス基材を前記ガラス基材載置部に移動させる移動アームと、スペーサが載置されるスペーサ載置部と、前記ガラス基材載置部と前記スペーサ載置部の間に設けられ、前記ガラス基材と前記スペーサが交互に積層された積層体を載置する積層体載置部と、前記ガラス基材をチャックして積層体載置部に載置するガラス基材チャック手段と、前記スペーサをチャックして前記積層体載置部に載置するスペーサチャック手段と、前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段とが交互に前記ガラス基材と前記スペーサを前記積層体載置部に載置することにより前記積層体を形成する形成手段と、を有することを特徴とする積層体形成装置。 (Configuration 1) A glass substrate placement portion on which a glass substrate is placed, a moving arm that moves the glass substrate to the glass substrate placement portion, and a spacer placement portion on which a spacer is placed A laminated body placing portion that is provided between the glass substrate placing portion and the spacer placing portion and places a laminated body in which the glass substrate and the spacer are alternately laminated; and the glass substrate. Glass substrate chuck means for chucking and placing the spacer on the laminate placing portion, spacer chuck means for chucking the spacer and placing on the laminate placing portion, and the glass substrate chuck means and the spacer A laminate forming apparatus comprising: a forming unit configured to form the laminate by alternately placing the glass base material and the spacer on the laminate placing unit.
(構成2)前記ガラス基材が収納されたガラス収納部をさらに有し、前記移動アームは、前記ガラス基材載置部を前記ガラス収納部に移動させるアーム移動手段と、前記ガラス基材をチャックするチャック手段と、を有することを特徴とする構成1記載の積層体形成装置。 (Configuration 2) It further includes a glass storage portion in which the glass base material is stored, and the moving arm includes an arm moving means for moving the glass base material placement portion to the glass storage portion, and the glass base material. A laminate forming apparatus according to Configuration 1, further comprising chuck means for chucking.
(構成3)前記ガラス基材チャック手段および/または前記スペーサチャック手段は、前記ガラス基材および/またはスペーサを吸着する手段を有することを特徴とする構成1記載の積層体形成装置。 (Structure 3) The laminate forming apparatus according to Structure 1, wherein the glass substrate chuck means and / or the spacer chuck means has means for adsorbing the glass substrate and / or spacer.
(構成4)前記スペーサ載置部、前記積層体載置部、前記ガラス基材載置部は平面状の配置形状が一列になるように配置されていることを特徴とする構成1〜3のいずれかに記載の積層体形成装置。 (Configuration 4) In the configurations 1 to 3, wherein the spacer mounting portion, the laminate mounting portion, and the glass substrate mounting portion are arranged so that a planar arrangement shape is in a line. The laminated body formation apparatus in any one.
(構成5)前記ガラス基材載置部と前記積層体載置部、および、前記積層体載置部と前記スペーサ載置部は、それぞれ等間隔に配置されていることを特徴とする構成1記載の積層体形成装置。 (Configuration 5) Configuration 1 in which the glass substrate placement section and the laminate placement section, and the laminate placement section and the spacer placement section are arranged at equal intervals, respectively. The laminated body formation apparatus of description.
(構成6)前記形成手段は、前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段を、前記ガラス基材載置部、前記積層体載置部、前記スペーサ載置部のうち2つの上方に、一体となって移動させる第1の移動手段と、前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段を前記ガラス基材載置部、前記積層体載置部、前記スペーサ載置部のうち2つに向けて一体となって移動させる第2の移動手段と、を有することを特徴とする構成1記載の積層体形成装置。 (Structure 6) The forming unit is configured such that the glass substrate chuck unit and the spacer chuck unit are integrated with two of the glass substrate mounting unit, the stacked body mounting unit, and the spacer mounting unit. And moving the glass substrate chuck unit and the spacer chuck unit toward two of the glass substrate mounting unit, the laminate mounting unit, and the spacer mounting unit. And a second moving means for moving the integrated body as a unit.
(構成7)前記移動アームを用いて前記ガラス基材を前記ガラス基材載置部に載置する制御手段(a)と、前記第1の移動手段を用いて、前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段をそれぞれ前記ガラス基材載置部および前記積層体載置部の上方に移動させる制御手段(b)と、前記第2の移動手段を用いて前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段をそれぞれ前記ガラス基材載置部および前記積層体載置部に向けて移動させ、前記ガラス基材チャック手段を用いて前記ガラス基材をチャックする制御手段(c)と、前記第2の移動手段を用いて前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段をそれぞれ前記ガラス基材載置部および前記積層体載置部から離れる方向に向けて移動させる制御手段(d)と、前記第1の移動手段を用いて、前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段をそれぞれ前記積層体載置部および前記スペーサ載置部の上方に移動させる制御手段(e)と、前記第2の移動手段を用いて前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段をそれぞれ前記積層体載置部および前記スペーサ載置部に向けて移動させ、前記ガラス基材を前記積層体載置部に載置し、かつ前記スペーサチャック手段を用いて前記スペーサをチャックする制御手段(f)と、前記第1の移動手段を用いて、前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段をそれぞれ前記積層体載置部および前記スペーサ載置部から離れる方向に向けて移動させる制御手段(g)と、前記制御手段(a)〜(g)をこの順番で繰り返す制御手段(h)と、を有することを特徴とする構成6記載の積層体形成装置。 (Configuration 7) Control means (a) for placing the glass base material on the glass base material placing portion using the moving arm, and the glass base material chuck means using the first moving means, Control means (b) for moving the spacer chuck means above the glass substrate placement portion and the laminate placement portion, respectively, and the glass substrate chuck means and the spacer using the second movement means Control means (c) for moving the chuck means toward the glass substrate placing portion and the laminate placing portion, respectively, and chucking the glass substrate using the glass substrate chuck means, and the second Control means (d) for moving the glass substrate chuck means and the spacer chuck means in a direction away from the glass substrate mounting portion and the laminate mounting portion, respectively. And a control means (e) for moving the glass substrate chuck means and the spacer chuck means above the stacked body placing portion and the spacer placing portion, respectively, using the first moving means, Using the second moving means, the glass substrate chuck means and the spacer chuck means are moved toward the laminate placing portion and the spacer placing portion, respectively, and the glass substrate is moved to the laminate placing portion. And the glass substrate chuck means and the spacer chuck means using the spacer chuck means and the glass substrate chuck means and the spacer chuck means, respectively, using the spacer moving means and the first moving means. Control means (g) for moving in a direction away from the body placing portion and the spacer placing portion, and the control means (a) to (g) are repeated in this order. And control means (h), the laminate forming apparatus constructed 6, wherein it has a.
(構成8)前記制御手段(c)は、前記スペーサチャック手段が前記スペーサをチャックした状態では、前記第2の移動手段を用いて前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段をそれぞれ前記ガラス基材載置部および前記積層体載置部に向けて移動させ、前記ガラス基材チャック手段を用いて前記ガラス基材をチャックするとともに、前記スペーサを前記積層体載置部に載置する手段であることを特徴とする構成7記載の積層体形成装置。
(Configuration 8) In the state where the spacer chuck means chucks the spacer, the control means (c) uses the second moving means to move the glass substrate chuck means and the spacer chuck means to the glass base, respectively. Means for moving toward the material placement portion and the laminate placement portion, chucking the glass substrate using the glass substrate chuck means, and placing the spacer on the laminate placement portion. 8. The laminate forming apparatus according to
(構成9)構成1〜8のいずれかに記載の積層体形成装置を用いたことを特徴とする積層体形成方法。 (Configuration 9) A laminate forming method using the laminate forming apparatus according to any one of Configurations 1 to 8.
(構成10)構成9記載の積層体形成方法を工程に含むことを特徴とするガラス基板の製造方法。
(Structure 10) A method for producing a glass substrate, comprising the step of forming a laminate according to
(構成11)請求項10記載のガラス基板の製造方法により製造されたことを特徴とするガラス基板。 (Structure 11) A glass substrate manufactured by the method for manufacturing a glass substrate according to claim 10.
(構成12)構成11記載のガラス基板と、前記磁気ディスク用基板の表面に設けられた下地層、磁性層、保護層、潤滑層を有することを特徴とする磁気記録媒体。
(Structure 12) A magnetic recording medium comprising the glass substrate according to
本発明によれば、積層体の形成を自動化できる装置を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the apparatus which can automate formation of a laminated body can be provided.
以下、図面に基づき、本発明の実施形態を詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
まず、図1を参照して、本実施形態に係る積層体形成装置200を用いたガラス基板の製造方法を用いて製造されるガラス基板31の構造について簡単に説明する。
First, with reference to FIG. 1, the structure of the
図1(a)に示すように、ガラス基板31は、円板形状を有する本体83を有し、本体83の中心には内孔85が形成されている。
As shown in FIG. 1A, the
図1(b)に示すように、本体83は、実質的に平滑な主表面87a、87bを有している。 As shown in FIG. 1B, the main body 83 has substantially smooth main surfaces 87a and 87b.
主表面87a、87bは、情報を記録再生するための層が形成される面であり、例えば図1(c)に示すように、主表面87a、87bの一方または両方に、下地層98a、磁性層98b、保護層98c、潤滑層98dを設けることにより、ガラス基板31は、磁気記録媒体100となる(少なくとも磁性層98bは記録層として必要)。
The main surfaces 87a and 87b are surfaces on which a layer for recording / reproducing information is formed. For example, as shown in FIG. 1C, one or both of the main surfaces 87a and 87b are provided with an underlayer 98a and magnetic layers. By providing the layer 98b, the protective layer 98c, and the lubricating layer 98d, the
また、図1(b)に示すように、本体83は主表面87a、87bに対して直交している内周端面91および外周端面89を有している。 As shown in FIG. 1B, the main body 83 has an inner peripheral end surface 91 and an outer peripheral end surface 89 that are orthogonal to the main surfaces 87a and 87b.
内周端面91および外周端面89は面取されており、それぞれ内周面取面93および外周面取面95が設けられている。 The inner peripheral end face 91 and the outer peripheral end face 89 are chamfered, and an inner peripheral chamfered face 93 and an outer peripheral chamfered face 95 are provided, respectively.
さらに、本体83は表面に化学強化層87が形成されている。 Further, the main body 83 has a chemical strengthening layer 87 formed on the surface thereof.
化学強化層87の詳細については後述するが、例えば、ガラス基板31の原料となるガラスのイオンの一部を、よりイオン半径の大きいイオンに置換し、圧縮応力層とした層である。
Although details of the chemical strengthening layer 87 will be described later, for example, a part of glass ions that are the raw material of the
次に、図2〜図14を参照して、ガラス基板31の製造方法について説明する。
Next, with reference to FIGS. 2-14, the manufacturing method of the
なお、以下の説明では、製造工程中におけるガラスを「ガラス基材31a」と称し、完成品を「ガラス基板31」と称することにする。
In the following description, the glass in the manufacturing process is referred to as “
まず、図2に示すように、原料となるガラスを円板状に成形してガラス基材31aを製造する(ステップ101)。
First, as shown in FIG. 2, the glass used as a raw material is shape | molded in disk shape, and the
次に、図2に示すように、ガラス基材31aの板厚調整のため、主表面87a、87bを研削(第1ラッピング)する(ステップ102)。
Next, as shown in FIG. 2, the main surfaces 87a and 87b are ground (first lapping) in order to adjust the plate thickness of the
次に、図2に示すように、ガラス基材31aの中心に内孔85(図1参照)を形成する(ステップ103)。
Next, as shown in FIG. 2, an inner hole 85 (see FIG. 1) is formed in the center of the
次に、図2に示すように、ガラス基材31aの端面のクラックを除去するため、内周端面91および外周端面89の面取を行う(ステップ104)。
Next, as shown in FIG. 2, the inner peripheral end face 91 and the outer peripheral end face 89 are chamfered to remove cracks on the end face of the
なお、面取後に主表面87a、87bを研削(第2ラッピング)する工程を追加してもよい。これにより、内孔85の形成や面取によって生じた凹凸を研削でき、研磨の際の負担を軽減できる。 In addition, you may add the process of grinding (2nd lapping) main surface 87a, 87b after chamfering. Thereby, the unevenness | corrugation which arose by formation and chamfering of the inner hole 85 can be ground, and the burden at the time of grinding | polishing can be reduced.
次に、図2に示すように、ガラス基材31aの内周端面91および外周端面89の研磨、即ち端面研磨を行う(ステップ105)。
Next, as shown in FIG. 2, the inner peripheral end face 91 and the outer peripheral end face 89 of the
ここで、ステップ105の詳細について説明する。
Details of
まず、ステップ105における端面研磨に用いられる装置および方法について詳細に説明する。
First, the apparatus and method used for end face polishing in
まず、端面を研磨するための端面研磨装置101の構造について、図3を参照して説明する。
First, the structure of the end
図3に示すように、端面研磨装置101は、ガラス基材31aの端面を、複数枚が(スペーサ32を介して)積層された積層体33の状態で複数枚を同時に研磨する装置であり、積層体33を固定する固定部122と、積層体33を研磨する研磨体124と、研磨体124を駆動する研磨駆動部118と、研磨液を供給する研磨液供給部141を含んで構成されている。
As shown in FIG. 3, the end
積層体33は、ガラス基材31aとスペーサ32とを交互に積層したものである。
The
固定部122は、積層体33を収納する基板ケース130と、基板ケース130に嵌合され、カラー136を介して積層体33を締め付けて固定する締め付けカバー132と、基板ケース130を固定保持し、回動する回転保持台134とを有している。
The fixing portion 122 holds the substrate case 130 for housing the
研磨体124は、積層体33のガラス基材31aに直交し、ガラス基材31aの内孔85の中心軸に一致し、当該研磨体124の回転中心となる回転軸を有し、研磨本体140と、研磨本体140側壁に設けられた複数の研磨布126とを有している。
The polishing body 124 is orthogonal to the
端面研磨装置101を用いて端面を研磨する場合は、研磨体124(の研磨布126)を積層体33のガラス基材31aの内周端面91および内周面取面93に接触させ、内周端面91と研磨体124との間に研磨液供給部141から研磨液を供給し、研磨体124を、回転軸を中心に回転して、内周端面91および内周面取面93を研磨する。
When the end surface is polished using the end
なお、図3では内周端面を研磨する装置のみを開示しているが、外周端面を研磨する装置も構成は基本的に同一である。 In FIG. 3, only the apparatus for polishing the inner peripheral end face is disclosed, but the apparatus for polishing the outer peripheral end face is basically the same in configuration.
即ち、積層体を固定する固定部と、研磨体と、研磨体を回転させる駆動部とを有しており、固定部で積層体を固定した状態で研磨体を回転させて積層体中のガラス基材31aの外周端面89および外周面取面95を研磨する。
That is, it has a fixing part for fixing the laminated body, a polishing body, and a driving part for rotating the polishing body, and the glass in the laminated body is rotated by rotating the polishing body in a state where the laminated body is fixed by the fixing part. The outer peripheral end face 89 and the outer peripheral chamfered surface 95 of the
このように、端面研磨装置101は積層体33の状態にてガラス基材31aの端面を研磨するため、研磨前に積層体33を形成する必要がある。
Thus, since the end
次に、積層体形成装置200の構成および動作について、図4〜図14を参照して説明する。
Next, a structure and operation | movement of the laminated
まず、積層体形成装置200の構成について、図4Aおよび図4Bを参照して説明する。
First, the structure of the laminated
図4Aに示すように、積層体形成装置200は板状の台座22を有し、さらに、台座22に隣接してガラス基材31aを載置するガラス基材載置部21を有している。
As shown in FIG. 4A, the laminated
台座22には、スペーサ32(が積層されたスペーサ積層体34)を載置するスペーサ載置部18が設けられ、ガラス基材載置部21とスペーサ載置部18の間には積層体33が載置される積層体載置部17が設けられている。
The
スペーサ載置部18、積層体載置部17は図4Aでは棒状の形状を有しており、それぞれスペーサ32、積層体33の孔を挿入することにより、これらは各載置部に固定される。
The
またガラス基材載置部21にはチャック手段としての突起21aが設けられており、ガラス基材31aの内孔85に突起21aを挿入することにより、ガラス基材載置部21にガラス基材31aが固定(チャック)される。
Further, the glass
さらに、ガラス基材載置部21にはエアシリンダ20が移動アームおよびアーム移動手段として台座22の面方向に平行に設けられており、ガラス基材載置部21はエアシリンダ20によって図4AのC1、C2の向きに移動可能である。
Furthermore, an
また、エアシリンダ20には台座22の法線方向に電動アクチュエータ19が設けられており、ガラス基材載置部21は電動アクチュエータ19によって図4AのB1、B2の向きに移動可能である。
Further, the
なお、各載置部の形状は、スペーサ32、ガラス基材31a、積層体33を固定可能で、かつ後述するガラスチャック10およびスペーサチャック13の動作の邪魔にならない形状であれば、特に上記した形状には限定されない。
In addition, the shape of each mounting portion is particularly described above as long as the
また、ガラス基材載置部21、スペーサ載置部18、積層体載置部17は平面状の配置形状が一列になるように等間隔に配置されている。
Moreover, the glass base
一方、台座22には、ガラス基材載置部21、スペーサ載置部18、積層体載置部17の配置形状が形成する列に平行になるようにして、レール3が設けられており、レール3上には当該列に平行になるようにして板状の側壁4が設けられている。
On the other hand, the
側壁4にはアダプタ2を介して第1の移動手段としてのエアシリンダ1が設けられており、側壁4は、エアシリンダ1によってレール3上を図4AのE1、E2の向きに移動可能である。
The
側壁4には台座22の法線方向にレール5が設けられており、レール5には側壁4と対向するようにして側壁8が設けられている。
A
側壁8にはアダプタ7を介して第2の移動手段としてのエアシリンダ6が設けられており、側壁8はエアシリンダ6によってレール5上を図4AのD1、D2の向きに移動可能である。
The
側壁8には台座22の法線方向に2本のレール9が設けられており、レール9にはガラスチャック10(ガラス基材チャック手段)およびスペーサチャック13(スペーサチャック手段)がガラス基材載置部21、スペーサ載置部18、積層体載置部17の間隔と同じ間隔で設けられている。
Two
ガラスチャック10およびスペーサチャック13はレール9上を図4AのD1、D2の向きに移動可能であり、かつエアシリンダ6によって(側壁8の移動に応じて)D1、D2の向きに移動可能である。
The glass chuck 10 and the
ガラスチャック10の下面にはガラス基材31aを吸着する吸着パッド11が吸着手段として設けられている。
On the lower surface of the glass chuck 10, a
スペーサチャック13の下面にはスペーサ32を吸着する吸着パッド14が吸着手段として設けられている。スペーサチャック13はさらに、スペーサ載置部18の中心軸方向に向けて配置された噴出孔を持つエアブローノズル16が設けられている。
A
一方、積層体形成装置200は台座22と平行に、かつガラス基材載置部21、スペーサ載置部18、積層体載置部17を挟んで側壁4と対向するように台座27が設けられている。
On the other hand, the laminated
台座27にはレール3と平行にレール25が設けられており、レール25上には台座27と平行に台座26がガラス収納部として設けられている。
A
台座26は、ガラス基材31aが収納されたプロセスカセット35を載置可能に構成されている。
The
プロセスカセット35は、図2における各工程間でガラス基材1aを搬送する際にガラス基材1aを収納する部材であり、少なくとも一面が開放された箱型の形状を有している。
The
プロセスカセット35は、通常は横置き(開放面を上にした状態)で取り扱われるが、図4Aでは開放面がガラス基材載置部21、スペーサ載置部18、積層体載置部17を挟んで側壁4と対向するように、複数個が縦置きにされてレール25に沿って設けられている。
The
また、台座27には、当該開放面を塞ぐようにしてガラス基材1aの落下防止のための衝立28が設けられている。
The
台座26はアダプタ24を介して電動アクチュエータ23に接続可能であり、電動アクチュエータ23によって図4AのA1、A2の向きに移動することにより、プロセスカセット35をA1、A2の向きに移動させることが可能である。
The
このように、積層体形成装置200はプロセスカセット35を台座26に直接載置して、プロセスカセット35から直にガラス基材1aを引き抜ける構造となっている。
Thus, the laminated
そのため、別途、ガラス基材1aを収納する容器を用意して、プロセスカセット35からガラス基材1aを容器に入れ替えるような作業は不要である。
Therefore, it is not necessary to prepare a container for storing the glass substrate 1a separately and replace the glass substrate 1a from the
さらに、図4Bに示すように、積層体形成装置200はコンピュータ等で構成された制御部49を有し、制御部49はエアシリンダ1、エアシリンダ6、吸着パッド11、吸着パッド14、エアシリンダ20、電動アクチュエータ19、エアブローノズル16および電動アクチュエータ23に接続され、後述するように、これらの駆動を制御している。
Further, as shown in FIG. 4B, the
また、制御部49は、エアシリンダ1、エアシリンダ6、ガラスチャック10の吸着パッド11、スペーサチャック13の吸着パッド14、エアシリンダ20、電動アクチュエータ19、エアブローノズル16および電動アクチュエータ23の駆動を制御するための制御手段(制御プログラム)として、プログラム(a)〜(h)を有している。これらの役割は後述する。
The
次に、積層体形成装置200を用いた積層体33の形成方法について、図4A〜図14を参照して説明する。
Next, a method for forming the
なお、以下の説明では、図4Aに示すように、積層体33の最上面にスペーサ32が載置され、ガラスチャック10とスペーサチャック13は何もチャックしておらず、ガラス基材載置部21上にガラス基材31aが載置されておらず、かつ、プロセスカセット35のうち、一番右側のプロセスカセット35のみが開放面が衝立28で塞がれておらず、ガラス基材載置部21と対向している状態からの各部材の動作について説明する。
In the following description, as shown in FIG. 4A, the
まず、制御部49はプログラム(a)を用いてガラス基材31aをガラス基材載置部21上に載置する。
First, the
具体的には、図5に示すようにエアシリンダ20を用いてガラス基材載置部21をC1の向きに移動させてプロセスカセット35内に挿入し、電動アクチュエータ19をB2、B1の向きに移動させてガラス基材31aの内孔85に突起21aを挿入し、下からすくいあげるようにしてガラス基材31aをチャックし、ガラス基材載置部21上に載置する。
Specifically, as shown in FIG. 5, the glass
ここで、前述のように、プロセスカセット35は縦置の状態で配置されている。
Here, as described above, the
即ち、ガラス基材1aは、プロセスカセット35に収納された状態で、その主表面が、スペーサ載置部18や、積層体載置部17と平行になっている。
That is, the glass substrate 1 a is stored in the
そのため、プロセスカセット35を横置きの状態で配置した場合と異なり、チャックしたガラス基材1aを回転させる等して、ガラス基材1aの主表面の角度をスペーサ載置部18や、積層体載置部17の角度に合わせるように調整する機構を省略できる。
Therefore, unlike the case where the
その後、図6に示すように、エアシリンダ20を用いてガラス基材載置部21をC2の向きに移動させて図4の位置に戻す。
Then, as shown in FIG. 6, the glass base
次に、制御部49はプログラム(b)を用いてエアシリンダ1を制御して側壁4、8を図4のE1、E2の向きに移動させ、ガラスチャック10とスペーサチャック13がそれぞれガラス基材載置部21と積層体載置部17の上方に配置されるように移動させる(図6参照)。
Next, the
次に、制御部49はプログラム(c)を用いてエアシリンダ6を制御し、側壁8(ガラスチャック10とスペーサチャック13)を図7のD1の向きに移動させ(即ち、ガラス基材載置部21と積層体載置部17に向かって移動させ)、ガラスチャック10とスペーサチャック13がそれぞれガラス基材載置部21のガラス基材31aと積層体載置部17の積層体33と接触するように移動させる。
Next, the
このとき、制御部49はプログラム(c)を用いてガラスチャック10の吸着パッド11でガラス基材載置部21のガラス基材31aをチャックする。
At this time, the
次に、図8に示すように、制御部49はプログラム(d)を用いてエアシリンダ6を制御し、側壁8(ガラスチャック10とスペーサチャック13)を図8のD2の向き(ガラスチャック10とスペーサチャック13がガラス基材載置部21と積層体載置部17から離れる向き)に移動させる。
Next, as shown in FIG. 8, the
次に、図9に示すように、制御部49はプログラム(e)を用いてエアシリンダ1を制御し、側壁4、8を図9のE1の向きに移動させ、ガラスチャック10とスペーサチャック13がそれぞれ積層体載置部17とスペーサ載置部18の上方に配置されるように移動させる。
Next, as shown in FIG. 9, the
次に、図10に示すように、制御部49はプログラム(f)を用いてエアシリンダ6を制御し、側壁8(ガラスチャック10とスペーサチャック13)を図10のD1の向きに移動させ(即ち、積層体載置部17とスペーサ載置部18に向かって移動させ)、ガラスチャック10とスペーサチャック13をそれぞれ積層体載置部17の積層体33とスペーサ載置部18のスペーサ32と接触させる。
Next, as shown in FIG. 10, the
なお、ガラスチャック10とスペーサチャック13は拘束されておらず、レール9に沿ってD1、D2の向きに移動するため、積層体載置部17の積層体33とスペーサ載置部18のスペーサ32の高さが異なる場合であっても、それぞれの高さに対応した位置にガラスチャック10とスペーサチャック13を配置することができる。
Since the glass chuck 10 and the
このとき、制御部49はプログラム(f)を用いてガラスチャック10のガラス基材31aをデチャックし、ガラス基材31aを積層体33のスペーサ32上に載置する。
At this time, the
また、制御部49はプログラム(f)を用いてスペーサチャック13の吸着パッド14でスペーサ載置部18のスペーサ32のうち、最上面のスペーサ32をチャックする。
Further, the
次に、図11に示すように、制御部49はプログラム(g)を用いてエアシリンダ6を制御し、側壁8(ガラスチャック10とスペーサチャック13)を図11のD2の向き(ガラスチャック10とスペーサチャック13が積層体載置部17とスペーサ載置部18から離れる向き)に移動させる。
Next, as shown in FIG. 11, the
このとき、制御部49はプログラム(g)を用いてエアブローノズル16からチャックしたスペーサ32にエアを吹き付ける。これは、スペーサチャック13がチャックしたスペーサ32の下面に別のスペーサ32が張り付いている場合に、張り付いたスペーサ32を分離するためである。
At this time, the
以下はプログラム(h)を用いて、プログラム(a)〜プログラム(g)をこの順番で繰り返し実行し、あらかじめ定められた枚数だけガラス基材31aが積層されるまで上記した動作を繰り返す。
In the following, program (a) to program (g) are repeatedly executed in this order using program (h), and the above-described operation is repeated until a predetermined number of
即ち、図12および図13に示すように、制御部49はプログラム(a)を用いてガラス基材31aをガラス基材載置部21上に載置する。
That is, as shown in FIGS. 12 and 13, the
なお、一番右側のプロセスカセット35の基板が全て取り出されていた場合、電動アクチュエータ23をA1方向に移動させて2番目のプロセスカセット35をガラス基材載置部21の正面(対向する位置)に移動させてからガラス基材31aをガラス基材載置部21上に載置する。
When all the substrates of the
次に、制御部49はプログラム(b)を用いてエアシリンダ1を制御して側壁4、8を図4のE1、E2の向きに移動させ、ガラスチャック10とスペーサチャック13がそれぞれガラス基材載置部21と積層体載置部17の上方に配置されるように移動させる。
Next, the
次に、制御部49はプログラム(c)を用いてエアシリンダ6を制御し、側壁8(ガラスチャック10とスペーサチャック13)を図7のD1の向きに移動させ(即ち、ガラス基材載置部21と積層体載置部17に向かって移動させ)、ガラスチャック10とスペーサチャック13がそれぞれガラス基材載置部21のガラス基材31aと積層体載置部17の積層体33と接触するように移動させる。
Next, the
このとき、制御部49はプログラム(c)を用いてガラスチャック10でガラス基材載置部21のガラス基材31aをチャックし、スペーサチャック13のスペーサ32をデチャックして積層体33のガラス基材31a上に載置する。以下の動作は記載が重複するため省略する。
At this time, the
このように、積層体形成装置200はエアシリンダ1とエアシリンダ6を用いてガラスチャック10とスペーサチャック13を左右(E1、E2)上下(D2、D1)に移動させ、交互にガラス基材31aとスペーサ32をチャックして積層する構造としている。
Thus, the laminated
そのため、従来は手作業で行っていた積層体33の形成を自動化できる。
Therefore, it is possible to automate the formation of the stacked
また、積層体形成装置200は、エアシリンダ1とエアシリンダ6を用いてガラスチャック10とスペーサチャック13を同時に移動させて積層体33を形成している。
In addition, the laminated
そのため、ガラスチャック10とスペーサチャック13を独立駆動させる場合と比べてアクチュエータの数を減らすことができ、また制御プログラムも簡略化できる。
Therefore, the number of actuators can be reduced and the control program can be simplified as compared with the case where the glass chuck 10 and the
以上がステップ105の詳細である。
The details of
次に、図2に示すように、ガラス基材31aに化学強化を行い、化学強化層87を形成する(ステップ106)。
Next, as shown in FIG. 2, the
具体的には、化学強化液にガラス基材31aを浸漬し、化学強化液に含まれているイオンと、ガラス基材31aに含まれているイオンとをイオン交換する。
Specifically, the
この際、ガラス基材31aに含まれているイオンよりもイオン半径が大きいイオンとイオン交換が生じることにより、化学強化層87は圧縮応力層となり、ガラス基材31aの表面の強度が上昇する。
At this time, ion exchange occurs with ions having an ionic radius larger than the ions contained in the
次に、化学強化が終わると、ガラス基材31aを洗浄して表面の化学強化液を除去した後、図2に示すように、ガラス基材31aの主表面87a、87bの平坦度と表面粗さを調整する(実質的に平滑にする)ため、主表面87a、87bを研磨する(ステップ107)。
Next, after the chemical strengthening is finished, the
また、研磨は2段階に分けて行っても良い。 Polishing may be performed in two stages.
具体的には、例えば、研磨液に含まれる砥粒として、粒径が異なる2種類の砥粒を用い、まず粒径が相対的に大きい砥粒を用いて第1研磨を行い、次に粒径が相対的に小さい砥粒を用いて第2研磨を行う。 Specifically, for example, as abrasive grains contained in the polishing liquid, two types of abrasive grains having different particle diameters are used, and first polishing is performed using abrasive grains having a relatively large particle diameter, and then the grains Second polishing is performed using abrasive grains having a relatively small diameter.
研磨が終了すると、ガラス基材31aを洗浄し、製造中に表面に付着した研磨剤や不純物を除去する(ステップ108)。
When the polishing is completed, the
具体的にはスクラブ洗浄、超音波洗浄等の物理的な洗浄や、フッ化物、有機酸、過酸化水素、界面活性剤等を用いた薬液洗浄が挙げられる。 Specific examples include physical cleaning such as scrub cleaning and ultrasonic cleaning, and chemical cleaning using a fluoride, organic acid, hydrogen peroxide, surfactant, and the like.
最後に、製品検査(例えば主表面87a、87bの表面粗さやパーティクルの量の検査)を行う(ステップ109)。 Finally, product inspection (for example, inspection of the surface roughness of the main surfaces 87a and 87b and the amount of particles) is performed (step 109).
具体的には、例えばODT(Optical Defect Tester)やOSA(Optical Surface Analyzer)を用いて欠陥検査を行う。 Specifically, defect inspection is performed using, for example, ODT (Optical Defect Tester) or OSA (Optical Surface Analyzer).
以上の工程により、ガラス基板31が完成する。
The
このように、本実施形態によれば、積層体形成装置200はエアシリンダ1とエアシリンダ6を用いてガラスチャック10とスペーサチャック13を左右(E1、E2)上下(D2、D1)に移動させ、交互にガラス基材31aとスペーサ32をチャックして積層する構造としている。
Thus, according to the present embodiment, the
そのため、従来は手作業で行っていた積層体33の形成を自動化できる。
Therefore, it is possible to automate the formation of the stacked
また、本実施形態によれば、積層体形成装置200は、エアシリンダ1とエアシリンダ6を用いてガラスチャック10とスペーサチャック13を同時に移動させて積層体33を形成している。
Further, according to the present embodiment, the laminated
そのため、ガラスチャック10とスペーサチャック13を独立駆動させる場合と比べてアクチュエータの数を減らすことができ、また制御プログラムも簡略化できる。
Therefore, the number of actuators can be reduced and the control program can be simplified as compared with the case where the glass chuck 10 and the
上述した実施形態では、本発明を磁気記録媒体用のガラス基板31を製造する製造工程に適用した場合について説明したが、本発明は何らこれに限定されることなく、基板とスペーサを交互に積層する必要がある全ての装置に適用できる。
In the above-described embodiment, the case where the present invention is applied to the manufacturing process for manufacturing the
また、上述した実施形態ではガラス基材31aに化学強化を行っているが、化学強化の代わりにエッチングを行っても良い。
In the above-described embodiment, the
さらに、上述した実施形態ではガラス基材31aに化学強化を行った後に研磨を行っているが、研磨を行った後に化学強化を行ってもよい。
Further, in the above-described embodiment, polishing is performed after chemically strengthening the
1……………エアシリンダ
6……………エアシリンダ
10…………ガラスチャック
13…………スペーサチャック
17…………積層体載置部
18…………スペーサ載置部
21…………ガラス基材載置部
31…………ガラス基板
31a………ガラス基材
49…………制御部
83…………本体
85…………内孔
87a………主表面
101………端面研磨装置
200………積層体形成装置
1 …………
Claims (12)
前記ガラス基材を前記ガラス基材載置部に移動させる移動アームと、
スペーサが載置されるスペーサ載置部と、
前記ガラス基材載置部と前記スペーサ載置部の間に設けられ、前記ガラス基材と前記スペーサが交互に積層された積層体を載置する積層体載置部と、
前記ガラス基材をチャックして積層体載置部に載置するガラス基材チャック手段と、
前記スペーサをチャックして前記積層体載置部に載置するスペーサチャック手段と、
前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段とが交互に前記ガラス基材と前記スペーサを前記積層体載置部に載置することにより前記積層体を形成する形成手段と、
を有することを特徴とする積層体形成装置。 A glass substrate mounting portion on which the glass substrate is mounted;
A moving arm that moves the glass substrate to the glass substrate mounting portion;
A spacer placement portion on which the spacer is placed;
A laminated body placing part for placing a laminated body provided between the glass substrate placing part and the spacer placing part, wherein the glass substrate and the spacer are alternately laminated;
Glass substrate chuck means for chucking the glass substrate and placing it on the laminate mounting portion,
Spacer chuck means for chucking the spacer and mounting the spacer on the stacked body mounting portion;
Forming means for forming the laminate by alternately placing the glass substrate and the spacer on the laminate placing portion, the glass substrate chuck means and the spacer chuck means;
A laminated body forming apparatus comprising:
前記移動アームは、
前記ガラス基材載置部を前記ガラス収納部に移動させるガラス基材載置部移動手段と、
前記ガラス基材をチャックするチャック手段と、
を有することを特徴とする請求項1記載の積層体形成装置。 A glass storage part in which the glass substrate is stored;
The moving arm is
A glass substrate placement unit moving means for moving the glass substrate placement unit to the glass storage unit;
Chuck means for chucking the glass substrate;
The laminate forming apparatus according to claim 1, comprising:
前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段を、前記ガラス基材載置部、前記積層体載置部、前記スペーサ載置部のうち2つの上方に、一体となって移動させる第1の移動手段と、
前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段を、前記ガラス基材載置部、前記積層体載置部、前記スペーサ載置部のうち2つに向けて一体となって移動させる第2の移動手段と、
を有することを特徴とする請求項1記載の積層体形成装置。 The forming means includes
A first movement for moving the glass substrate chuck means and the spacer chuck means integrally above two of the glass substrate placement portion, the laminate placement portion, and the spacer placement portion. Means,
A second movement for moving the glass substrate chuck unit and the spacer chuck unit integrally toward two of the glass substrate mounting unit, the laminate mounting unit, and the spacer mounting unit. Means,
The laminate forming apparatus according to claim 1, comprising:
前記第1の移動手段を用いて、前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段をそれぞれ前記ガラス基材載置部および前記積層体載置部の上方に移動させる制御手段(b)と、
前記第2の移動手段を用いて前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段をそれぞれ前記ガラス基材載置部および前記積層体載置部に向けて移動させ、前記ガラス基材チャック手段を用いて前記ガラス基材をチャックする制御手段(c)と、
前記第2の移動手段を用いて前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段をそれぞれ前記ガラス基材載置部および前記積層体載置部から離れる方向に向けて移動させる制御手段(d)と、
前記第1の移動手段を用いて、前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段をそれぞれ前記積層体載置部および前記スペーサ載置部の上方に移動させる制御手段(e)と、
前記第2の移動手段を用いて前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段をそれぞれ前記積層体載置部および前記スペーサ載置部に向けて移動させ、前記ガラス基材を前記積層体載置部に載置し、かつ前記スペーサチャック手段を用いて前記スペーサをチャックする制御手段(f)と、
前記第1の移動手段を用いて、前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段をそれぞれ前記積層体載置部および前記スペーサ載置部から離れる方向に向けて移動させる制御手段(g)と、
前記制御手段(a)〜(g)をこの順番で繰り返す制御手段(h)と、
を有することを特徴とする請求項6記載の積層体形成装置。 Control means (a) for placing the glass substrate on the glass substrate placing part using the moving arm;
Control means (b) for moving the glass base material chuck means and the spacer chuck means above the glass base material placement part and the laminate placement part, respectively, using the first moving means,
Using the second moving unit, the glass substrate chuck unit and the spacer chuck unit are moved toward the glass substrate mounting unit and the laminate mounting unit, respectively, and the glass substrate chuck unit is used. Control means (c) for chucking the glass substrate;
Control means (d) for moving the glass substrate chuck means and the spacer chuck means in the direction away from the glass substrate mounting portion and the laminate mounting portion, respectively, using the second moving means; ,
Control means (e) for moving the glass substrate chuck means and the spacer chuck means above the stacked body placing portion and the spacer placing portion, respectively, using the first moving means,
Using the second moving means, the glass substrate chuck means and the spacer chuck means are moved toward the laminate placing portion and the spacer placing portion, respectively, and the glass substrate is placed on the laminate placing portion. A control means (f) mounted on a portion and chucking the spacer using the spacer chuck means;
Control means (g) for moving the glass substrate chuck means and the spacer chuck means in a direction away from the laminate placing portion and the spacer placing portion, respectively, using the first moving means,
Control means (h) for repeating the control means (a) to (g) in this order;
The laminate forming apparatus according to claim 6, further comprising:
前記磁気ディスク用基板の表面に設けられた下地層、磁性層、保護層、潤滑層を有することを特徴とする磁気記録媒体。 A glass substrate according to claim 11;
A magnetic recording medium comprising an underlayer, a magnetic layer, a protective layer, and a lubricating layer provided on the surface of the magnetic disk substrate.
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