JP2010232249A - 多層プリント配線板とその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】導電性ペーストによる層間接続部材とメッキ導体から成る層間接続部材との接続部の、熱衝撃等に対する電気的接続の信頼性を向上させた多層プリント配線板とその製造方法を提供する。
【解決手段】第一の絶縁層12と第二の絶縁層22を有し、各層に設けられた回路配線14,15が、第一、第二のビアホール16,28を介して各々電気的に接続する。第一の絶縁層12は、第一のビアホール16に、導電性ペースト17による第一の層間接続部材18を有する。第二の絶縁層22は、レーザ光により第二の絶縁層22及びその回路配線26を貫通して形成された第二のビアホール28を有する。レーザ光により、第一の層間接続部材18に凹部18aが形成されている。第二のビアホール28内、及び第一の層間接続部材18の凹部18aには、金属メッキによる第二の層間接続部材30を有する。凹部18aで、第一、第二の層間接続部材18,30が接続している。
【選択図】図1
【解決手段】第一の絶縁層12と第二の絶縁層22を有し、各層に設けられた回路配線14,15が、第一、第二のビアホール16,28を介して各々電気的に接続する。第一の絶縁層12は、第一のビアホール16に、導電性ペースト17による第一の層間接続部材18を有する。第二の絶縁層22は、レーザ光により第二の絶縁層22及びその回路配線26を貫通して形成された第二のビアホール28を有する。レーザ光により、第一の層間接続部材18に凹部18aが形成されている。第二のビアホール28内、及び第一の層間接続部材18の凹部18aには、金属メッキによる第二の層間接続部材30を有する。凹部18aで、第一、第二の層間接続部材18,30が接続している。
【選択図】図1
Description
この発明は、複数の回路配線が絶縁層を挟んで積層され、各層の回路配線がビアホールの層間接続部を介して接続された多層プリント配線板とその製造方法に関する。
従来、多層プリント配線板において絶縁層で絶縁された各回路配線を電気的に接続するため、内部に導電材が設けられたビアホールが絶縁層を貫通して形成されている。この層間接続構造は、絶縁層に形成されたビアホール内に、銅メッキや導電性ペーストを充填する方法が用いられている。特に、導電性ペーストを用いた層間接続方法は、環境負荷が小さく製造方法も簡易である点で優れている。
この層間接続構造は、レーザ光により絶縁層にビアホールを形成し、このビアホールの一方の側に金属箔による回路配線のランド部やメッキ層による層間接続部が位置し、ビアホール内には導電性ペーストが充填され、そのビアホール内の導電性ペーストによる層間接続部と、さらに他層の回路配線のランド部等の層間接続部とが接続されたものとなっている。
しかしながら、金属箔やメッキ層に樹脂バインダの導電性ペーストが接続した層間接続構造は、接着性が悪く、接続部の剥離が生じ電気的接続の信頼性が低いものであった。そこで層間接続部の電気的信頼性を高めた多層プリント配線板として、特許文献1〜4に開示されたものがある。
特許文献1に開示された層間接続構造は、導電性ペースト中の錫(Sn)原子が銅箔内に拡散し拡散層を形成するようにして、ビアホール内の導電性ペースト部と銅箔のランド部との接続を確実にしているものである。また、特許文献2は、銅箔により一方の開口部が塞がれたブラインドビアホール内に導電性ペーストを充填する場合に、ビアホール内に気泡が残らないように多孔質の絶縁層を用いてビアホールを形成して、導電性ペーストが確実にビアホール内に充填されるようにして、表面の銅箔ランド等と確実に接続するようにしたものである。
さらに、特許文献3には、多層プリント配線板の絶縁層にレーザ光によりビアホールを形成する際に、レーザ光が導電性ペーストを浸食しないように、ビアホールの一方の側の導電性ペースを覆う導体層を設けた多層プリント配線板も提案されている。
特許文献4には、プリント配線板を積層する場合に、ビアホールから突出した導電性ペーストと、金属メッキによる層間接続が確実に行われるように、金属メッキによる層間接続部を凹状に形成して、導電性ペーストと金属メッキの接続部の電気的信頼性を高くするようにした多層プリント基板が開示されている。
しかしながら、上記特許文献1〜4に開示された層間接続構造においても、金属メッキによる層間接続部材と導電性ペーストの層間接続部材は、金属と導電性ペーストの樹脂との熱膨張係数の違い等により、ヒートサイクルや熱衝撃による接続界面での剥離が生じ、電気抵抗の増加や断線が生じる恐れがあった。
この発明は、上記背景技術に鑑みて成されたもので、導電性ペーストによる層間接続部材とメッキ導体から成る層間接続部材との接続部の、熱衝撃等に対する電気的接続の信頼性を向上させた多層プリント配線板とその製造方法を提供することを目的とする。
この発明は、少なくとも第一の絶縁層と第二の絶縁層を有し、各層に設けられた回路配線がビアホールに設けられた層間接続部材を介して電気的に接続された多層プリント配線板であって、前記第一の絶縁層には、第一のビアホールに導電性ペーストが充填されて形成された第一の層間接続部材が設けられ、さらに前記第二の絶縁層が積層され、レーザ光により前記第二の絶縁層及びその回路配線を貫通して前記第二のビアホールが設けられ、さらに前記レーザ光により前記第一の層間接続部材に凹部が形成され、前記第二のビアホール内及び前記第一の層間接続部材の凹部には、金属メッキによる第二の層間接続部材が設けられ、前記凹部で前記第一、第二の層間接続部材が接続して成る多層プリント配線板である。
前記導電性ペーストは、金属粒子として錫を含有しているものである。さらに、前記導電性ペースト中の錫が前記金属メッキによる第二の層間接続部材中に拡散しているものである。また、前記第一の絶縁層はポリイミドであり、前記第二の絶縁層はガラスエポキシである。
またこの発明は、各層に回路配線を形成した少なくとも第一の絶縁層と第二の絶縁層を積層し、各層の前記回路配線を、ビアホールに設けられた層間接続部材を介して電気的に接続する多層プリント配線板の製造方法であって、前記回路配線を形成するための銅箔が設けられた前記第一の絶縁層に第一のビアホールを形成し、この第一のビアホールに導電性ペーストから成る第一の層間接続部材を充填し、前記第一の絶縁層に前記銅箔による前記回路配線を形成し、前記第一の絶縁層の前記第一の層間接続部材が露出した面に、前記回路配線を形成するための銅箔が設けられた前記第二の絶縁層を積層し、この後、レーザ光を用いて前記第二の絶縁層に第二のビアホールを形成し、同時に前記レーザ光により前記導電性ペーストによる第一の層間接続部材の表面に凹部を形成し、前記第二のビアホール内及び前記第一の層間接続部材の前記凹部に金属メッキによる第二の層間接続部材を形成し、この後、前記第二の絶縁層の前記銅箔をエッチングして前記回路配線を形成し、前記第二の層間接続部材により、第二の絶縁層を挟んで設けられた前記各回路配線を接続する多層プリント配線板の製造方法である。
前記レーザ光は、前記第二の絶縁層の表側に位置した前記回路配線のランド部の銅箔及び前記第二の絶縁層を貫通して、前記第一の層間接続部材に凹部を形成するものである。特に、前記レーザ光は、前記第一の層間接続部材中の樹脂成分をより多く蒸発させるものである。
この発明の多層プリント配線板とその製造方法によれば、導電性ペーストによる層間接続部材と金属メッキから成る層間接続部材との接続部の接合強度が高く、ヒートサイクルや熱衝撃等に対する電気的接続の信頼性が向上し、電子機器の耐環境性能や耐久性を向上させ、しかも、コストの増加も少ないものである。
以下、この発明の多層プリント配線板の一実施形態について、図1、図2を基にして説明する。この実施形態の多層プリント配線板10は、図2に示すように、複数層に積層された絶縁基板の一つの層である絶縁層12を有している。絶縁層12は、ポリイミド等の絶縁性の基板から成り、両面に銅箔13が貼り付けられたものである。絶縁層12の表裏面の銅箔13は、所定の回路パターンに形成され接続用のランド部14a,15a等を有した回路配線14,15を構成している。絶縁層12には、表裏の回路配線14,15間を電気的に接続するためのビアホール16が形成され、導電性ペースト17による第一の層間接続部材18が充填されて、表裏の回路配線14,15を接続している。
絶縁層12の表裏面には、絶縁層22,24が積層されている。絶縁層22には、ポリイミド等のカバーレイ22aが回路配線14に積層され、さらにガラスエポキシ樹脂等から成り片面銅張り板の絶縁基板22bが積層されて構成されている。絶縁層24も同様に、ポリイミド等のカバーレイ24aが裏面側の回路配線15に積層され、さらに片面銅張り板のガラスエポキシ樹脂等の絶縁基板24bが積層されて構成されている。
絶縁層22の絶縁基板22bの外側には、銅箔による回路配線26が形成され、絶縁層12との間の回路配線14と電気的に接続するビアホール28が貫通して形成され、回路配線14の回路パターンのランド部14aと繋がっている。ビアホール28の内壁、ビアホール28に露出した第一の層間接続部材18表面、及び回路配線26のランド部26aの表面には、連続して銅メッキによる第二の層間接続部材30が形成され、回路配線14と回路配線26を電気的に繋いでいる。
絶縁層24の絶縁基材24bの外側にも回路配線27が設けられ、絶縁層12との間の回路配線15と電気的に接続するためのビアホール32が貫通して形成され、回路配線15のランド部15aが、ビアホール32に露出している。ビアホール32の内周面、ビアホール32内に露出したランド部15a、及び回路配線27のランド部27aの表面には、連続して銅メッキによる層間接続部材34が形成され、回路配線15と回路配線27を電気的に繋いでいる。
ここで充填する導電性ペースト17は、熱可塑性樹脂中に高融点金属と低融点金属の金属粒子が混合され、後の加熱処理で合金化するもの等である。例えば、高融点金属は、少なくとも銅を含み、銅単体の粒子、又は銅と金、銀、亜鉛、及びニッケルの内1つ以上の金属とを含む合金の粒子である。また、これら金属粒子の表面は、金、銀、亜鉛、又はニッケル、又はそれらの合金がメッキ等により被覆されていてもよい。これらの金属粒子の平均粒径は、6〜10μm例えば8μmである。また、低融点金属は、Sn、又はSnを含む合金(例えば、ハンダ)の粒子である。ハンダとしては、Sn−Cu系ハンダ、Sn−Ag系ハンダ、Sn−Ag−Cu系ハンダ、これらにIn、Zn、Biのいずれか一つ以上を添加し、さらに適宜混合して用いても良い。導電性ペースト36のバインダ樹脂は、熱可塑性樹脂である。例えば、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアクリル、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリビニルブチラールなどの熱可塑性樹脂を用いることが出来る。
次に、この実施形態の多層プリント配線板10製造方法について、図1を基にして説明する。先ず、図1(a)に示すように、ポリイミド等の両面銅張り板36の銅箔13が形成された一側面側から、レーザ光L1を照射しビアホール16を形成する。このとき、裏面側の銅箔13は貫通させないようにレーザ光L1を照射する。この後、ビアホール内をデスミア処理し、図1(b)に示すように、導電性ペースト17をビアホール16内に充填する。充填方法は、スクリーン印刷、インクジェット印刷等の印刷などの方法が使用できる。また、剥離性のフィルムをマスク材としてスクイーズにより充填する方法も用いることができる。
次に、両面銅張り板36を熱プレスして導電性ペースト17を溶融・硬化させて、導体層間の電気的接続を図る。その後、回路配線14,15を形成する表裏面の銅箔13に、エッチングレジストのドライフィルムを貼り付け、所定の回路パターンに露光してエッチングし、図1(c)に示すように、回路配線14,15を形成する。この後、カバーレイ22aを回路配線14に被せ、さらに、銅箔23が片面に設けられたガラスエポキシ基板22bの片面銅張り板38を積層する。そして、図1(d)に示すように、所定の温度と圧力でプレスして各基板を貼り合わせ一体にする。
この後、炭酸ガスレーザやYAGレーザ、エキシマレーザ等を用いたレーザ光L2により、図1(e)に示すように、銅箔23及び絶縁層22に、貫通孔であるビアホール28を形成する。このとき、レーザ光L2は、ランド部26a,14aを貫通して、導電性ペースト17による第一の層間接続部材18に、凹部18aを形成する程度の強さに調節する。この場合、まず銅箔23のビアホール形成位置をエッチングにより開口し、その後レーザ光L2を照射して、絶縁層22に貫通孔のビアホール28を形成しても良い。
この後、デスミア処理によりレーザ加工によるスミアを除去して、図1(f)に示すように、銅箔23、ビアホール28の内周面、ランド部26a,14a、及び第一の層間接続部材18の凹部18a内に銅メッキを施し、ビアホール28に層間接続部材30を形成する。銅メッキの形成は、無電解メッキの後、電解メッキにより所定の厚さに形成する。銅メッキによる層間接続部材30は、導電性ペースト17の凹面18aにより、導電性ペースト17による第一の層間接続部材18と、銅メッキによる第二の層間接続部材30との接続強度が増して、ヒートサイクルや熱衝撃による層間剥離に対して強くなり、ランド部14a,26aの電気的接続の信頼性が向上する。
さらに、図2に示すように、所定の絶縁層24を形成するために、絶縁層12の裏面側にカバーレイ24aを貼り付け、片面銅張り板であるガラスエポキシ基板24bの銅箔のない方の面をカバーレイ23aに貼り合わせる。そして、レーザ光によりビアホール32を形成し、デスミア処理の後、ビアホール32内、ランド部15aに銅メッキによる層間接続部材34を形成し、ランド部15aとガラスエポキシ基板24bの銅箔とを接続する。この後、表裏面のガラスエポキシ基板22b,24bの銅箔23にマスキングフィルムを施して、所定のパターンに露光し、エッチングして、図2に示すように、表裏面に回路配線26,27の回路パターンやランド部26a,27aを形成する。
この実施形態の多層プリント配線板10によれば、導電性ペースト17による層間接続部材18の表面に、レーザ光により凹部18aが形成され、銅メッキによる層間接続部材30との接続部の結合強度が高くなり、熱衝撃等に対する電気的接続の信頼性が向上し、使用する電子機器の耐環境性能や耐久性を向上させ、しかも、コストの増加も少ないものである。
なお、この発明の多層プリント配線板とその製造方法は、上記実施形態に限定されるものではなく、図3に示すように、ビアホール28に施される銅メッキは、ビアホール28を埋めるフィルドメッキでも良く、フィルドメッキにより、ビアホール28に露出した第一の層間接続部材18表面、ランド部14a、及び回路配線26のランド部26aを接続する。また、絶縁層の厚みや材質も適宜設定可能なものであり、レーザの種類や照射径や方法も適宜設定可能なものである。
10 多層プリント配線板
12,22,24 絶縁層
14,15,26,27 回路配線
17 導電性ペースト
16,28,32 ビアホール
18,30,34 層間接続部材
36 両面銅張り板
38 片面倒張り板
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38 片面倒張り板
Claims (6)
- 少なくとも第一の絶縁層と第二の絶縁層を有し、各層に設けられた回路配線がビアホールに設けられた層間接続部材を介して電気的に接続された多層プリント配線板において、
前記第一の絶縁層には、第一のビアホールに導電性ペーストが充填されて形成された第一の層間接続部材が設けられ、さらに前記第二の絶縁層が積層され、レーザ光により前記第二の絶縁層及びその回路配線を貫通して前記第二のビアホールが設けられ、さらに前記レーザ光により前記第一の層間接続部材に凹部が形成され、前記第二のビアホール内及び前記第一の層間接続部材の凹部には、金属メッキによる第二の層間接続部材が設けられ、前記凹部で前記第一、第二の層間接続部材が接続して成ることを特徴とする多層プリント配線板。 - 前記導電性ペーストは、金属粒子として錫を含有している請求項1記載の多層プリント配線板。
- 前記導電性ペースト中の錫が前記金属メッキによる第二の層間接続部材中に拡散している請求項2記載の多層プリント配線板。
- 前記第一の絶縁層はポリイミドであり、前記第二の絶縁層はガラスエポキシである請求項1記載の多層プリント配線板。
- 各層に回路配線を形成した少なくとも第一の絶縁層と第二の絶縁層を積層し、各層の前記回路配線を、ビアホールに設けられた層間接続部材を介して電気的に接続する多層プリント配線板の製造方法において、
前記回路配線を形成するための銅箔が設けられた前記第一の絶縁層に第一のビアホールを形成し、この第一のビアホールに導電性ペーストから成る第一の層間接続部材を充填し、前記第一の絶縁層に前記銅箔による前記回路配線を形成し、前記第一の絶縁層の前記第一の層間接続部材が露出した面に、前記回路配線を形成するための銅箔が設けられた前記第二の絶縁層を積層し、この後、レーザ光を用いて前記第二の絶縁層に第二のビアホールを形成し、同時に前記レーザ光により前記導電性ペーストによる第一の層間接続部材の表面に凹部を形成し、前記第二のビアホール内及び前記第一の層間接続部材の前記凹部に金属メッキによる第二の層間接続部材を形成し、この後、前記第二の絶縁層の前記銅箔をエッチングして前記回路配線を形成し、前記第二の層間接続部材により、第二の絶縁層を挟んで設けられた前記各回路配線を接続することを特徴とする多層プリント配線板の製造方法。 - 前記レーザ光は、前記第二の絶縁層の表側に位置した前記回路配線のランド部の銅箔及び前記第二の絶縁層を貫通して、前記第一の層間接続部材に凹部を形成する請求項5記載の多層プリント配線板の製造方法。
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Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102300397A (zh) * | 2011-06-30 | 2011-12-28 | 深南电路有限公司 | 金属基电路板及其制造方法 |
| KR101231362B1 (ko) * | 2011-06-10 | 2013-02-07 | 엘지이노텍 주식회사 | 인쇄회로기판 및 그의 제조 방법 |
| US20180031938A1 (en) * | 2016-07-29 | 2018-02-01 | Japan Display Inc. | Electronic apparatus and method for manufacturing the same |
| US20180035542A1 (en) * | 2016-07-29 | 2018-02-01 | Japan Display Inc. | Electronic device and manufacturing method thereof |
| CN107665636A (zh) * | 2016-07-29 | 2018-02-06 | 株式会社日本显示器 | 电子设备的制造方法 |
| US20180210262A1 (en) * | 2017-01-26 | 2018-07-26 | Japan Display Inc. | Display device and inter-substrate conducting structure |
| CN110914055A (zh) * | 2018-06-28 | 2020-03-24 | 法国圣戈班玻璃厂 | 具有可电切换的光学性能和改进的电接触的多层薄膜 |
| US11018000B2 (en) | 2016-07-29 | 2021-05-25 | Japan Display Inc. | Electronic apparatus and manufacturing method of the same |
| US11249354B2 (en) * | 2017-12-01 | 2022-02-15 | Japan Display Inc. | Display device and inter-substrate conducting structure |
-
2009
- 2009-03-26 JP JP2009075583A patent/JP2010232249A/ja active Pending
Cited By (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101231362B1 (ko) * | 2011-06-10 | 2013-02-07 | 엘지이노텍 주식회사 | 인쇄회로기판 및 그의 제조 방법 |
| CN102300397A (zh) * | 2011-06-30 | 2011-12-28 | 深南电路有限公司 | 金属基电路板及其制造方法 |
| US10401696B2 (en) * | 2016-07-29 | 2019-09-03 | Japan Display Inc. | Electronic apparatus and method for manufacturing the same |
| US10624212B2 (en) | 2016-07-29 | 2020-04-14 | Japan Display Inc. | Electronic device |
| JP2018017983A (ja) * | 2016-07-29 | 2018-02-01 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 電子機器及びその製造方法 |
| CN107665636A (zh) * | 2016-07-29 | 2018-02-06 | 株式会社日本显示器 | 电子设备的制造方法 |
| US11587785B2 (en) | 2016-07-29 | 2023-02-21 | Japan Display Inc. | Electronic apparatus |
| US10405428B2 (en) * | 2016-07-29 | 2019-09-03 | Japan Display Inc. | Electronic device and manufacturing method thereof |
| US20180031938A1 (en) * | 2016-07-29 | 2018-02-01 | Japan Display Inc. | Electronic apparatus and method for manufacturing the same |
| CN107665636B (zh) * | 2016-07-29 | 2020-02-07 | 株式会社日本显示器 | 电子设备的制造方法 |
| US11018000B2 (en) | 2016-07-29 | 2021-05-25 | Japan Display Inc. | Electronic apparatus and manufacturing method of the same |
| US20180035542A1 (en) * | 2016-07-29 | 2018-02-01 | Japan Display Inc. | Electronic device and manufacturing method thereof |
| US10571759B2 (en) * | 2017-01-26 | 2020-02-25 | Japan Display Inc. | Display device and inter-substrate conducting structure |
| US20180210262A1 (en) * | 2017-01-26 | 2018-07-26 | Japan Display Inc. | Display device and inter-substrate conducting structure |
| US11249354B2 (en) * | 2017-12-01 | 2022-02-15 | Japan Display Inc. | Display device and inter-substrate conducting structure |
| CN110914055A (zh) * | 2018-06-28 | 2020-03-24 | 法国圣戈班玻璃厂 | 具有可电切换的光学性能和改进的电接触的多层薄膜 |
| CN110914055B (zh) * | 2018-06-28 | 2023-08-25 | 法国圣戈班玻璃厂 | 具有可电切换的光学性能和改进的电接触的多层薄膜 |
| US12115756B2 (en) | 2018-06-28 | 2024-10-15 | Saint-Gobain Glass France | Multilayer film with electrically switchable optical properties and improved electrical contacting |
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