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JP2010219244A - Semiconductor device and manufacturing method for semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device and manufacturing method for semiconductor device Download PDF

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JP2010219244A
JP2010219244A JP2009063376A JP2009063376A JP2010219244A JP 2010219244 A JP2010219244 A JP 2010219244A JP 2009063376 A JP2009063376 A JP 2009063376A JP 2009063376 A JP2009063376 A JP 2009063376A JP 2010219244 A JP2010219244 A JP 2010219244A
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JP
Japan
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lead
circuit
inductor
semiconductor device
back surface
Prior art date
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Application number
JP2009063376A
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Japanese (ja)
Inventor
Takashi Omika
孝 大美賀
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Sanken Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanken Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Sanken Electric Co Ltd filed Critical Sanken Electric Co Ltd
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  • Dc-Dc Converters (AREA)

Abstract

【課題】回路素子やインダクタを複合一体化し、インダクタで発生する熱に対して放熱機能を有する半導体装置を提供する。

【解決手段】第1リード10と、第1リード10と分離配置された第2リード12と、第1リード10の表面に搭載されるインダクタLと、第2リード12に搭載され、第1リード10及び第2リード12のアウターリードにてインダクタLと電気的に接続される回路素子と、第1リード10の裏面と第2リードの素子搭載部裏面の一部を露出し、インダクタL及び回路素子を封止する第1封止体20とを備える。

【選択図】図1
Provided is a semiconductor device in which circuit elements and an inductor are combined and integrated and have a heat dissipation function for heat generated by the inductor.

A first lead, a second lead separated from the first lead, an inductor mounted on a surface of the first lead, and a second lead are mounted on the first lead. 10 and the outer lead of the second lead 12 and the circuit element electrically connected to the inductor L, the back surface of the first lead 10 and a part of the back surface of the element mounting portion of the second lead are exposed, the inductor L and the circuit And a first sealing body 20 that seals the element.

[Selection] Figure 1

Description

本発明は、半導体装置に関し、特に、インダクタを内蔵するモールドパッケージの半導体装置及び半導体装置製造方法に関する。
The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly, to a mold package semiconductor device incorporating an inductor and a semiconductor device manufacturing method.

ノート型パソコン、携帯電話、及び携帯情報端末等の携帯型電子機器においては、電源として電池を用いるものが多く、電源電圧を所定の動作電圧に変換する電力変換装置としてDC−DCコンバータを備えている。
Many portable electronic devices such as notebook computers, mobile phones, and portable information terminals use batteries as a power source, and include a DC-DC converter as a power conversion device that converts a power supply voltage into a predetermined operating voltage. Yes.

DC−DCコンバータは、入力された直流電圧を所望の直流電圧に変換して出力する装置である。このようなDC−DCコンバータは、各種電子機器の小型化、多機能化に伴い、回路基板上における形成面積の小面積化が強く求められている。そのような要求に対して、半導体集積回路(IC)等の回路素子やインダクタを1パッケージに複合一体化して小型化することが従来技術として知られている。(例えば、特許文献1参照)
A DC-DC converter is a device that converts an input DC voltage into a desired DC voltage and outputs the desired DC voltage. Such DC-DC converters are strongly demanded to reduce the formation area on the circuit board as the various electronic devices become smaller and more multifunctional. In response to such demands, it is known as a prior art to downsize a circuit element such as a semiconductor integrated circuit (IC) and an inductor in a single package. (For example, see Patent Document 1)

特開2007−173712号公報JP 2007-173712 A

しかしながら、従来技術は、回路素子やインダクタを1パッケージに複合一体化すると、回路素子やインダクタが近接して配置されることが多く、近接して配置された場合には、インダクタで発生した熱が回路素子であるIC等の温度を上昇させてしまい誤動作を起こすという課題がある。
However, in the prior art, when circuit elements and inductors are combined and integrated in one package, the circuit elements and inductors are often arranged close to each other. There is a problem that the temperature of an IC or the like, which is a circuit element, is raised to cause a malfunction.

従って、本発明は、回路素子やインダクタを複合一体化し、回路素子やインダクタで発生する熱に対して放熱機能を有する半導体装置及び半導体装置製造方法を提供することを目的とする。
Accordingly, it is an object of the present invention to provide a semiconductor device and a semiconductor device manufacturing method in which circuit elements and inductors are combined and integrated and have a heat dissipation function with respect to heat generated by the circuit elements and inductors.

上記の課題を解決するために、本発明は、以下に掲げる構成とした。

本発明の半導体装置は、第1リードと、第1リードと分離配置された第2リードと、第1リードの表面に搭載されるインダクタと、第2リードに搭載され、第1リード及び第2リードのアウターリードにてインダクタと電気的に接続される回路素子と、第1リードの裏面と第2リードの素子搭載部裏面の一部を露出し、インダクタ及び回路素子を封止する第1封止体とを備えることを特徴とする。

また、第1リードの裏面と第2リードの素子搭載部裏面の一部は、放熱機能を有することを特徴とする。

また、第1リードのインダクタを搭載する面及び第2リードの素子搭載部裏面の一部と、第2リードの回路素子を搭載する面とは、高さ位置が異なることを特徴とする。

また、本発明の半導体装置製造方法は、 金属板に所望の回路パターンをパターンニングして、第1リード及び第2リードを形成する工程と、第2リードにアップセット加工を施して、第2リードをガルウィング状に形成する工程と、第1リードの表面にインダクタを配置し、前記第2リードの表面に回路素子を配置する工程と、第1リードとインダクタ、第2リードと回路素子をそれぞれ電気的に接続する工程と、第1リードの裏面と第2リードの素子搭載部裏面の一部を露出し、インダクタ及び回路素子を第1封止体によって封止する工程とを含むことを特徴とする。
In order to solve the above-described problems, the present invention is configured as follows.

The semiconductor device according to the present invention is mounted on the first lead, the second lead separated from the first lead, the inductor mounted on the surface of the first lead, and the second lead. A circuit element electrically connected to the inductor by an outer lead of the lead, a first seal that exposes a part of the back surface of the first lead and the back surface of the element mounting portion of the second lead, and seals the inductor and the circuit element. And a stop body.

Further, the back surface of the first lead and a part of the back surface of the element mounting portion of the second lead have a heat dissipation function.

In addition, a height position of a surface on which the inductor of the first lead and a part of the back surface of the element mounting portion of the second lead are mounted differs from a surface on which the circuit element of the second lead is mounted.

In addition, the semiconductor device manufacturing method of the present invention includes a step of patterning a desired circuit pattern on a metal plate to form a first lead and a second lead, an upset process on the second lead, A step of forming a lead in a gull wing, a step of disposing an inductor on a surface of the first lead, a circuit element on a surface of the second lead, a first lead and an inductor, and a second lead and a circuit element, respectively. And a step of electrically connecting, a step of exposing a back surface of the first lead and a back surface of the element mounting portion of the second lead, and sealing the inductor and the circuit element with a first sealing body. And

本発明によれば、回路素子やインダクタを複合一体化し、回路素子やインダクタで発生する熱に対して放熱機能を有する半導体装置及び半導体装置製造方法を提供することができる効果を奏する。
Advantageous Effects of Invention According to the present invention, it is possible to provide a semiconductor device and a method for manufacturing a semiconductor device, in which circuit elements and inductors are combined and integrated and have a heat dissipation function with respect to heat generated by the circuit elements and inductors.

本発明の実施例1に係る半導体装置の平面図である。It is a top view of the semiconductor device concerning Example 1 of the present invention. 図1に示したA−A線における断面図である。It is sectional drawing in the AA line shown in FIG. 図1に示したB−B線における断面図である。It is sectional drawing in the BB line shown in FIG. 図1に示したC−C線における断面図である。It is sectional drawing in the CC line shown in FIG. 本発明の実施例1に係る半導体装置であるDC−DCコンバータの原理構成と外部接続構成を示す図である。It is a figure which shows the principle structure and external connection structure of the DC-DC converter which is a semiconductor device which concerns on Example 1 of this invention. 本発明の実施例1に係る半導体装置であるDC−DCコンバータにおけるMICの具体的構成を示す図である。It is a figure which shows the specific structure of MIC in the DC-DC converter which is a semiconductor device which concerns on Example 1 of this invention. 本発明の実施例1に係る半導体装置製造方法を示す工程断面図である。It is process sectional drawing which shows the semiconductor device manufacturing method which concerns on Example 1 of this invention. 本発明の実施例1に係る半導体装置の製造過程の一部を示す平面図である。It is a top view which shows a part of manufacturing process of the semiconductor device which concerns on Example 1 of this invention. 本発明の実施例1に係る半導体装置の裏面を示す平面図である。It is a top view which shows the back surface of the semiconductor device which concerns on Example 1 of this invention.

以下、本発明の実施の形態について、詳細に説明する。以下の図面の記載において、同一又は類似の部分には同一又は類似の符号で表している。但し、図面は模式的なものであり、厚みと平面寸法との関係、各層の厚みの比率等は現実のものとは異なる。したがって、具体的な厚みや寸法は以下の説明を照らし合わせて判断するべきものである。また、図面相互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれていることは勿論である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. In the following description of the drawings, the same or similar parts are denoted by the same or similar reference numerals. However, the drawings are schematic, and the relationship between the thickness and the planar dimensions, the ratio of the thickness of each layer, and the like are different from the actual ones. Therefore, specific thicknesses and dimensions should be determined in light of the following description. Moreover, it is a matter of course that portions having different dimensional relationships and ratios are included between the drawings.

本発明の実施の形態に係る半導体装置の一例であるDC−DCコンバー タ1は、図1に示すように、第1リード10と、第1リード10と分離配置された第2リード12と、第1リード10の表面に搭載されるインダクタLと、第2リード12に搭載され、第1リード10及び第2リード12のアウターリードにてインダクタLと電気的に接続される回路素子と、第1リード10の裏面と第2リード12の素子搭載部120裏面の一部を露出し、インダクタL及び回路素子を封止する第1封止体20とを備える。ここで、回路素子とは、半導体集積回路(IC)32、コンデンサC1〜C5、抵抗R2,R3、ダイオードD1等のインダクタLの駆動に寄与する素子である。また、第2リード12の素子搭載部120に搭載される部品は、半導体集積回路(IC)32とダイオードD1である。DC−DCコンバータは、スイッチング素子、制御回路を含む半導体集積回路32、ダイオードD1等の能動素子と、コンデンサC1〜C5、抵抗R2,R3等の受動素子とによる回路素子と、インダクタLとによって構成される。
As shown in FIG. 1, a DC-DC converter 1 as an example of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention includes a first lead 10, a second lead 12 separated from the first lead 10, An inductor L mounted on the surface of the first lead 10; a circuit element mounted on the second lead 12 and electrically connected to the inductor L at the outer leads of the first lead 10 and the second lead 12; A first sealing body 20 that exposes a part of the back surface of the first lead 10 and the rear surface of the element mounting portion 120 of the second lead 12 and seals the inductor L and the circuit element is provided. Here, the circuit element is an element that contributes to driving the inductor L such as the semiconductor integrated circuit (IC) 32, the capacitors C1 to C5, the resistors R2 and R3, and the diode D1. The components mounted on the element mounting portion 120 of the second lead 12 are a semiconductor integrated circuit (IC) 32 and a diode D1. The DC-DC converter includes a semiconductor integrated circuit 32 including a switching element and a control circuit, a circuit element including active elements such as a diode D1, passive elements such as capacitors C1 to C5 and resistors R2 and R3, and an inductor L. Is done.

第1リード10は、図1のA−A線における断面図である図2、及び図1のB−B線における断面図である図3に示すように、表面10aにインダクタLを搭載する。第1リード10の表面10aに対向する裏面10bは、露出されていて、インダクタLで発生した熱を放熱する放熱機能を有する。また、図2に示すように、第2リードの素子搭載部裏面の表面120aにダイオードD1を搭載する。第2リード12の素子搭載部120の表面120aに対向する裏面120bは、露出されていて、ダイオードD1で発生した熱を放熱する放熱機能を有する。半導体集積回路(IC)32(図示せず)を搭載においても、同様の放熱機能を有する。
As shown in FIG. 2 which is a sectional view taken along the line AA in FIG. 1 and FIG. 3 which is a sectional view taken along the line BB in FIG. The back surface 10b facing the front surface 10a of the first lead 10 is exposed and has a heat radiation function for radiating heat generated by the inductor L. Further, as shown in FIG. 2, the diode D1 is mounted on the front surface 120a of the back surface of the element mounting portion of the second lead. The back surface 120b facing the front surface 120a of the element mounting portion 120 of the second lead 12 is exposed and has a heat dissipation function for radiating heat generated by the diode D1. Even when a semiconductor integrated circuit (IC) 32 (not shown) is mounted, it has a similar heat dissipation function.

第2リード12は、図1のA−A線における断面図である図2、及び図1のC−C線における断面図である図4に示すように、回路素子(図ではコンデンサC1、C4)を搭載する面の高さ位置が、第1リード10のインダクタLを搭載する面(表面10a)と異なる。第2リード12は、アップセット加工によって形成され、図4で示したように、ガルウィング状に成形されている。また、第2リード12の素子搭載部120は第1リード10と同じ面の高さ位置である。半導体装置の裏面状態を図9に示す。
As shown in FIG. 2 which is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 1 and FIG. 4 which is a cross-sectional view taken along line CC in FIG. ) Is different from the surface (surface 10a) on which the inductor L of the first lead 10 is mounted. The second lead 12 is formed by upset processing and is formed in a gull wing shape as shown in FIG. Further, the element mounting portion 120 of the second lead 12 is at the same height as the first lead 10. FIG. 9 shows a back surface state of the semiconductor device.

第1リード10及び第2リード12は、例えば、銅(Cu)、銅合金、アロイ材(Fe−Ni)等のような金属薄板の表面に、パラジウム合金(Ni−Pd−Au)、銀(Ag)、及びニッケル(Ni)メッキが施された材料等が用いられる。
The first lead 10 and the second lead 12 are formed on a surface of a thin metal plate such as copper (Cu), copper alloy, alloy material (Fe—Ni), palladium alloy (Ni—Pd—Au), silver ( Ag) and nickel (Ni) plated material or the like is used.

インダクタLには、第1リード10の表面10a上に実装可能なモールドタイプ等の面実装タイプのインダクタを採用することができる。モールドタイプのインダクタLは、内部にインダクタを形成するライン電極を備え、側面側には、このライン電極と接続する一対の端子電極を備える。またインダクタLの裏面側には、第1リード10と接続する裏面電極を備える。そして、第1リード10と端子電極及び裏面電極とが導電性樹脂、はんだ、導電性金属ペースト等の接続部材(図示せず)によって、電気的、機械的に接続される。
As the inductor L, a surface mount type inductor such as a mold type that can be mounted on the surface 10a of the first lead 10 can be adopted. The mold-type inductor L includes a line electrode that forms an inductor therein, and a pair of terminal electrodes connected to the line electrode on the side surface side. In addition, a back surface electrode connected to the first lead 10 is provided on the back surface side of the inductor L. And the 1st lead | read | reed 10 and a terminal electrode and a back surface electrode are electrically and mechanically connected by connection members (not shown), such as conductive resin, solder, and a conductive metal paste.

また、インダクタLは、端子電極及び裏面電極を露出させ、強磁性体である第2封止体(図示せず)によって封止されている。第2封止体の線膨張係数(線膨張率)は、第1封止体20の線膨張係数と略同一であることが好ましい。第1封止体20及び第2封止体の線膨張係数が略同一であれば、温度の上昇に対応する長さの変化する割合が略同一となり、温度上昇による歪み等を防ぐことができるためである。第1封止体20の線膨張係数としては10〜30ppm/℃、第2封止体の線膨張係数としては10〜30ppm/℃の樹脂等を採用することができる。第1封止体20には、エポキシ樹脂、アクリル樹脂等を用いることができる。
Further, the inductor L exposes the terminal electrode and the back electrode, and is sealed with a second sealing body (not shown) that is a ferromagnetic body. The linear expansion coefficient (linear expansion coefficient) of the second sealing body is preferably substantially the same as the linear expansion coefficient of the first sealing body 20. If the linear expansion coefficients of the first sealing body 20 and the second sealing body are substantially the same, the rate of change in length corresponding to the temperature increase is substantially the same, and distortion due to the temperature increase can be prevented. Because. As the linear expansion coefficient of the first sealing body 20, a resin having a linear expansion coefficient of 10 to 30 ppm / ° C. can be used. An epoxy resin, an acrylic resin, or the like can be used for the first sealing body 20.

インダクタLは、ポリイミド、ラバー、ゲル等の保護材によって第2封止体の表面が被覆されている。保護材は、第2封止体の剥離防止、及び応力緩和等の機能を有する。
The inductor L has the surface of the second sealing body covered with a protective material such as polyimide, rubber, or gel. The protective material has functions such as prevention of peeling of the second sealing body and stress relaxation.

次に、本発明の実施の形態に係るDC−DCコンバータ1の回路について図5及び図6を参照しながら説明する。図5の回路図は、DC−DCコンバータ1の原理構成と外部接続構成を示す図である。
Next, a circuit of the DC-DC converter 1 according to the embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The circuit diagram of FIG. 5 is a diagram illustrating a principle configuration and an external connection configuration of the DC-DC converter 1.

DC−DCコンバータ1は、降圧方式の定電圧定電流型DC−DCコンバータであり、直流電源30からの入力電圧Vdd1をインダクタLで所定の電圧に変換して異なる電位の出力電圧Vdd2を出力する回路である。DC−DCコンバータ1は、インダクタンス素子としてのインダクタL、インダクタLの一方の端子と接地点との間に接続され、出力電圧Vdd2を平滑するコンデンサC2、インダクタLの他方の端子と接地点との間に接続されたダイオードD1、インダクタLに向かって駆動電流を流し込むモノリシック集積回路(MIC)32、入力電圧Vdd1を平滑するコンデンサC1を備える。DC−DCコンバータ1は、入力側には直流電圧である入力電圧Vdd1を印加する直流電源30、出力側には負荷Loadが接続されている。
The DC-DC converter 1 is a step-down type constant voltage constant current type DC-DC converter, which converts an input voltage Vdd1 from the DC power supply 30 into a predetermined voltage by an inductor L and outputs an output voltage Vdd2 having a different potential. Circuit. The DC-DC converter 1 is connected between an inductor L as an inductance element, one terminal of the inductor L, and the ground point, and a capacitor C2 that smoothes the output voltage Vdd2, and the other terminal of the inductor L and the ground point. A diode D1 connected between them, a monolithic integrated circuit (MIC) 32 for flowing a drive current toward the inductor L, and a capacitor C1 for smoothing the input voltage Vdd1 are provided. The DC-DC converter 1 has a DC power supply 30 for applying an input voltage Vdd1 that is a DC voltage on the input side, and a load Load on the output side.

また、DC−DCコンバータ1は、入力電圧端子Vin、イネーブル端子EN、ソフトスタート端子SS、コンパレータ端子COMP、グランド端子Gnd、フィードバック端子FB、ブートストラップ端子BS、スイッチ端子SW、出力電圧端子OUTを備える。
The DC-DC converter 1 includes an input voltage terminal Vin, an enable terminal EN, a soft start terminal SS, a comparator terminal COMP, a ground terminal Gnd, a feedback terminal FB, a bootstrap terminal BS, a switch terminal SW, and an output voltage terminal OUT. .

MIC32は、DC−DCコンバータ1全体の制御を行う回路である。MIC32は、DC−DCコンバータ1の動作の開始又は停止を指示するための動作信号が入力を受け付けて、動作信号がハイ(H)レベルのとき動作し、ロー(L)レベルのとき動作を停止するようになっている。
The MIC 32 is a circuit that controls the entire DC-DC converter 1. The MIC 32 receives an input of an operation signal for instructing the start or stop of the operation of the DC-DC converter 1, and operates when the operation signal is at a high (H) level and stops when the operation signal is at a low (L) level. It is supposed to be.

ダイオードD1は、金属と半導体との接触からできているショットキーバリアダイオード(SBD)にて構成される。ダイオードD1は、MIC32からのスイッチ信号に応じてインダクタLに蓄えられたエネルギーを放出させる。
The diode D1 is composed of a Schottky barrier diode (SBD) made of contact between a metal and a semiconductor. The diode D1 releases the energy stored in the inductor L in response to the switch signal from the MIC 32.

図6の回路図は、DC−DCコンバータ1におけるMIC32の具体的構成を示す図である。
The circuit diagram of FIG. 6 is a diagram illustrating a specific configuration of the MIC 32 in the DC-DC converter 1.

MIC32は、スイッチ制御回路41、基準電圧回路42、電流検出アンプ43、加算回路44、ブートストラップ(Boot REG)回路45、誤差増幅回路50、発振回路51、パルス幅変調(PWM)コンパレータ52、PWM回路53、ドライブ回路54、低入力時誤作動防止(UVLO)回路60、保護回路61、ソフトスタート回路62等を備える。
The MIC 32 includes a switch control circuit 41, a reference voltage circuit 42, a current detection amplifier 43, an addition circuit 44, a bootstrap (Boot REG) circuit 45, an error amplification circuit 50, an oscillation circuit 51, a pulse width modulation (PWM) comparator 52, a PWM. A circuit 53, a drive circuit 54, a low input malfunction prevention (UVLO) circuit 60, a protection circuit 61, a soft start circuit 62, and the like are provided.

また、MIC32は、スイッチングトランジスタTr1〜Tr3、整流用トランジスタTr4、出力電圧検出用の抵抗R1,R2、インダクタL、平滑用のコンデンサC1、ノイズフィルタをなすコンデンサC2、位相補償用の抵抗R3及びコンデンサC3、ソフトスタート(SS)制御用のコンデンサC5等に接続されている。スイッチングトランジスタTr3 と整流用トランジスタTr4は、入力端子INと接地点との間に直列に設けられている。インダクタLは、スイッチ端子SWと出力電圧端子OUTとの間に設けられている。抵抗R1,R2及びコンデンサC2は、出力電圧端子OUTと接地点との間に直列に設けられている。
The MIC 32 includes switching transistors Tr1 to Tr3, a rectifying transistor Tr4, resistors R1 and R2 for detecting output voltage, an inductor L, a smoothing capacitor C1, a capacitor C2 forming a noise filter, a resistor R3 for phase compensation, and a capacitor. C3 is connected to a capacitor C5 for soft start (SS) control. The switching transistor Tr3 and the rectifying transistor Tr4 are provided in series between the input terminal IN and the ground point. The inductor L is provided between the switch terminal SW and the output voltage terminal OUT. The resistors R1 and R2 and the capacitor C2 are provided in series between the output voltage terminal OUT and the ground point.

スイッチ制御回路41は、イネーブル端子ENに接続され、MIC32の出力のオン/オフの切替に用いられるHレベルとLレベルの出力信号を作成し、基準電圧回路42及びソフトスタート回路62に出力する。
The switch control circuit 41 is connected to the enable terminal EN, generates H level and L level output signals used for switching on / off the output of the MIC 32, and outputs the output signals to the reference voltage circuit 42 and the soft start circuit 62.

基準電圧回路42は、入力端子IN及びスイッチ制御回路41に接続され、定電圧(P.REG)回路42aと、基準電圧発生(VREF)回路42bとから構成される。定電圧回路42aは、入力端子INから入力される入力電圧Vdd1を降圧して、MIC32の各種回路の動作電圧(内部電源電圧Vddi:5v)を出力する。VREF回路42bは、入力端子INから入力される入力電圧Vdd1から、所定の基準電圧Vref(0.5v)を生成して出力する。
The reference voltage circuit 42 is connected to the input terminal IN and the switch control circuit 41, and includes a constant voltage (P.REG) circuit 42a and a reference voltage generation (VREF) circuit 42b. The constant voltage circuit 42a steps down the input voltage Vdd1 input from the input terminal IN and outputs operating voltages (internal power supply voltage Vddi: 5v) of various circuits of the MIC 32. The VREF circuit 42b generates and outputs a predetermined reference voltage Vref (0.5 v) from the input voltage Vdd1 input from the input terminal IN.

電流検出アンプ43は、電流経路に置かれた抵抗器における電圧降下を測定することによって電圧を計測する回路である。電流検出アンプ43は、入力端子INに接続され、検出された電圧を増幅した出力信号Vaを生成し加算回路44に出力する。電流検出アンプ43に内蔵されている過電流保護(OCP)回路43aは、直流出力がなんらかの原因によって短絡したときや負荷を想定以上の電流から保護する機能を有する。
The current detection amplifier 43 is a circuit that measures a voltage by measuring a voltage drop in a resistor placed in a current path. The current detection amplifier 43 is connected to the input terminal IN, generates an output signal Va obtained by amplifying the detected voltage, and outputs the output signal Va to the addition circuit 44. The overcurrent protection (OCP) circuit 43a built in the current detection amplifier 43 has a function of protecting the load from an unexpected current when the DC output is short-circuited for some reason.

加算回路44は、電流検出アンプ43で出力された出力信号Vaと、発振回路51で出力された三角波信号TWを加算処理して出力信号Vtwを生成しPWMコンパレータ52に出力する。
The adder circuit 44 adds the output signal Va output from the current detection amplifier 43 and the triangular wave signal TW output from the oscillation circuit 51 to generate an output signal Vtw and outputs it to the PWM comparator 52.

ブートストラップ回路45は、入力端子INに接続され、入力端子INから入力される入力電圧Vdd1にバイアスをかけて、一定の電圧を得てNチャネルMOSFET(絶縁ゲート型電界効果トランジスタ)からなるスイッチングトランジスタTr2,Tr3、整流用トランジスタTr4のベースドライブ用の電圧信号をドライブ回路54に出力する。
The bootstrap circuit 45 is connected to the input terminal IN, biases the input voltage Vdd1 input from the input terminal IN, obtains a constant voltage, and is a switching transistor formed of an N-channel MOSFET (insulated gate field effect transistor). Voltage signals for base drive of Tr2, Tr3 and rectifying transistor Tr4 are output to the drive circuit 54.

誤差増幅回路50は、出力電圧検出用の抵抗R1,R2によって出力電圧Voutを分圧してフィードバック端子FBを介して入力された分圧電圧Vfbと、内部電源電圧Vddiと、基準電圧Vrefとを比較して、電位差を増幅して出力信号EA1を生成しPWMコンパレータ52に出力する。また、誤差増幅回路50はコンパレータ端子COMPと接続され、コンパレータ端子COMPと接地点との間には、コンデンサC3及び抵抗R3の直列回路である位相補償回路が設けられている。
The error amplifier circuit 50 divides the output voltage Vout by the output voltage detection resistors R1 and R2 and compares the divided voltage Vfb input via the feedback terminal FB with the internal power supply voltage Vddi and the reference voltage Vref. Then, the potential difference is amplified to generate an output signal EA1 and output to the PWM comparator 52. The error amplifier circuit 50 is connected to the comparator terminal COMP, and a phase compensation circuit, which is a series circuit of a capacitor C3 and a resistor R3, is provided between the comparator terminal COMP and the ground point.

発振回路51は、所定の周波数の三角波信号TWを生成して加算回路44に出力する。また、発振回路51は、HレベルとLレベルを繰り返すクロック信号CLを生成してPWM回路53に出力する。
The oscillation circuit 51 generates a triangular wave signal TW having a predetermined frequency and outputs it to the adding circuit 44. The oscillation circuit 51 generates a clock signal CL that repeats the H level and the L level, and outputs the clock signal CL to the PWM circuit 53.

PWMコンパレータ52は、加算回路44で出力された出力信号Vtwと、誤差増幅回路50で出力された出力信号EA1とを比較して出力信号EA2を生成しPWM回路53に出力する。
The PWM comparator 52 compares the output signal Vtw output from the adder circuit 44 with the output signal EA1 output from the error amplifier circuit 50 to generate an output signal EA2 and output it to the PWM circuit 53.

PWM回路53は、PWMコンパレータ52で出力された出力信号EA2からPWM制御を行うためのパルス信号Spwを生成してドライブ回路54に出力する。
The PWM circuit 53 generates a pulse signal Spw for performing PWM control from the output signal EA2 output from the PWM comparator 52, and outputs the pulse signal Spw to the drive circuit 54.

ドライブ回路54は、入力されたパルス信号SpwからスイッチングトランジスタTr2,Tr3、整流用トランジスタTr4をドライブするためのドライブ信号Sd2〜Sd4を生成して、スイッチングトランジスタTr2,Tr3のゲート及び整流用トランジスタTr4のゲートに出力する。
The drive circuit 54 generates drive signals Sd2 to Sd4 for driving the switching transistors Tr2 and Tr3 and the rectifying transistor Tr4 from the input pulse signal Spw, and the gates of the switching transistors Tr2 and Tr3 and the rectifying transistor Tr4. Output to the gate.

UVLO回路60は、電源投入時の過渡状態や、不慮の事故等による電源ラインの瞬時低下時に、MIC32の内部回路が不安定動作にならない様に電源電圧レベルを検出し、出力トランジスタをオフすること事で誤動作を防止する。UVLO回路60は、MIC32の内部回路に入力する電源電圧の高低変化を監視して、その電源電圧が所定値以下となったときは、ソフトスタート回路62に電圧出力動作を停止させる出力信号を出力する。
The UVLO circuit 60 detects the power supply voltage level and turns off the output transistor so that the internal circuit of the MIC 32 does not operate in an unstable state when the power supply line is instantaneously lowered due to a transient state when the power is turned on or an unexpected accident. To prevent malfunction. The UVLO circuit 60 monitors the level change of the power supply voltage input to the internal circuit of the MIC 32, and outputs an output signal that causes the soft start circuit 62 to stop the voltage output operation when the power supply voltage falls below a predetermined value. To do.

保護回路61は、過電圧保護(OVP)回路61aと、過熱保護(TSD)回路61bとから構成されている。OVP回路61aは、MIC32の入力電圧の規定範囲を超えた電圧が入力された場合、超過電圧を外部に放電して、MIC32の破壊を防ぐ回路である。TSD回路61bは、MIC32自身の発熱を監視して、動作不安定温度になる前にMIC32の動作を停止させて、MIC32を熱破壊から保護する回路である。TSD回路61bは、MIC32自身の発熱を監視して、その発熱による温度上昇が所定値以上となったときは、ソフトスタート回路62に電圧出力動作を停止させる出力信号を出力する。
The protection circuit 61 includes an overvoltage protection (OVP) circuit 61a and an overheat protection (TSD) circuit 61b. The OVP circuit 61a is a circuit that prevents the destruction of the MIC 32 by discharging the excess voltage to the outside when a voltage exceeding the specified range of the input voltage of the MIC 32 is input. The TSD circuit 61b is a circuit that monitors the heat generation of the MIC 32 itself, stops the operation of the MIC 32 before reaching an unstable operation temperature, and protects the MIC 32 from thermal destruction. The TSD circuit 61b monitors the heat generation of the MIC 32 itself, and outputs an output signal for stopping the voltage output operation to the soft start circuit 62 when the temperature rise due to the heat generation exceeds a predetermined value.

ソフトスタート回路62は、入力としてスイッチ制御回路41、UVLO回路60、TSD回路61bと接続され、スイッチングトランジスタTr1をドライブするためのドライブ信号Sd1を生成して、スイッチングトランジスタTr1のゲートに出力する。トランジスタTr1は、NチャネルMOSFETで構成され、ソース端子は接地点に接続され、ドレイン端子は定電圧回路42aに接続されている。このトランジスタTr1のドレイン端子と定電圧回路42aとの接続ノードはコンデンサC5を介して接地点に接続されている。
The soft start circuit 62 is connected to the switch control circuit 41, the UVLO circuit 60, and the TSD circuit 61b as inputs, generates a drive signal Sd1 for driving the switching transistor Tr1, and outputs it to the gate of the switching transistor Tr1. The transistor Tr1 is composed of an N-channel MOSFET, the source terminal is connected to the ground point, and the drain terminal is connected to the constant voltage circuit 42a. A connection node between the drain terminal of the transistor Tr1 and the constant voltage circuit 42a is connected to a ground point via a capacitor C5.

次に、本発明の実施の形態に係る半導体装置の一例であるDC−DCコンバータ1の製造方法について、図7の工程断面図を参照しながら説明する。
Next, a method for manufacturing the DC-DC converter 1 which is an example of the semiconductor device according to the embodiment of the present invention will be described with reference to the process cross-sectional view of FIG.

(イ)まず、図7(a)に示すように、第1リード10及び第2リード12を形成するための金属板を用意する。そして、用意した金属板に所望の回路パターン(回路設計)をパターンニングすることで、第1リード10及び第2リード12を形成する。第1リード10及び第2リード12からなるリードフレームは、図8に示すように、1枚の金属板から複数個(例えば、5×9個)形成することができる。
(A) First, as shown in FIG. 7A, a metal plate for forming the first lead 10 and the second lead 12 is prepared. Then, the first lead 10 and the second lead 12 are formed by patterning a desired circuit pattern (circuit design) on the prepared metal plate. As shown in FIG. 8, a plurality of (for example, 5 × 9) lead frames made of the first lead 10 and the second lead 12 can be formed from one metal plate.

(ロ)次に、図7(b)に示すように、アップセット加工を施すことによって、第2リード12をガルウィング状に形成する。第2リード12がアップセット加工されることで、第1リード10のインダクタLを搭載する面と、第2リード12の回路素子を搭載する面の高さ位置が異なる。ただし、第2リード12の素子搭載部120はアップセット加工を施さず、第1リード10のインダクタLを搭載する面の高さ位置を同じにしている。
(B) Next, as shown in FIG. 7B, by performing an upset process, the second lead 12 is formed in a gull wing shape. When the second lead 12 is upset, the height position of the surface on which the inductor L of the first lead 10 is mounted is different from the height position of the surface on which the circuit element of the second lead 12 is mounted. However, the element mounting portion 120 of the second lead 12 is not subjected to upset processing, and the height position of the surface on which the inductor L of the first lead 10 is mounted is the same.

(ハ)次に、図7(c)に示すように、第1リード10の表面にインダクタLを配置し、第2リード12の表面に回路素子(図ではコンデンサC1、抵抗R2)、及び第2リード12の素子搭載部120の表面に回路素子(図では半導体集積回路(IC)32)を配置する。インダクタLと回路素子は、第1リード10及び第2リード12のアウターリードにて電気的に接続される。
(C) Next, as shown in FIG. 7C, an inductor L is arranged on the surface of the first lead 10, a circuit element (capacitor C1, resistor R2 in the figure), and a second lead 12 on the surface. A circuit element (semiconductor integrated circuit (IC) 32 in the figure) is arranged on the surface of the element mounting portion 120 of the two leads 12. The inductor L and the circuit element are electrically connected by outer leads of the first lead 10 and the second lead 12.

(ニ)次に、図7(d)に示すように、第1リード10とインダクタL、第2リード12と回路素子をそれぞれ電気的に接続する。電気的に接続する方法としては、はんだ付け及びワイヤーボンディング等がある。
(D) Next, as shown in FIG. 7D, the first lead 10 and the inductor L, and the second lead 12 and the circuit element are electrically connected. Examples of the electrical connection method include soldering and wire bonding.

(ホ)次に、図7(e)に示すように、第1リード10の裏面と第2リードの素子搭載部120の裏面を露出し、インダクタL及び回路素子を第1封止体20によって封止する。第1リード10の裏面と第2リードの素子搭載部120の裏面は、第1封止20によって封止されないので、放熱機能を有する
(E) Next, as shown in FIG. 7 (e), the back surface of the first lead 10 and the back surface of the element mounting portion 120 of the second lead are exposed, and the inductor L and the circuit element are removed by the first sealing body 20. Seal. Since the back surface of the first lead 10 and the back surface of the element mounting portion 120 of the second lead are not sealed by the first seal 20, they have a heat dissipation function.

(へ)次に、図7(f)に示すように、ダイシングブレード等の金属板にて切断する器具を用いて、半導体装置の端部となる個所(図7(f)に示す矢印個所)をダイシングする。ダイシングによって、図8で示した1枚の金属板からなる複数個の半導体装置が、装置単位毎に分割される。
(F) Next, as shown in FIG. 7 (f), using a tool that cuts with a metal plate such as a dicing blade, the part that becomes the end of the semiconductor device (the arrow shown in FIG. 7 (f)) Dicing. By dicing, a plurality of semiconductor devices made of one metal plate shown in FIG. 8 are divided into device units.

以上の工程により、図1に示した実施の形態に係る半導体装置が完成する。
Through the above steps, the semiconductor device according to the embodiment shown in FIG. 1 is completed.

本発明の実施の形態に係る半導体装置によれば、回路素子やインダクタLを1パッケージに複合一体化しても、インダクタLが配置される第1リード10と回路素子が配置される第2リード12とは分離配置されているので、第1リード10及び第2リード12を介してそれぞれで発熱した熱を伝導することがない。
According to the semiconductor device according to the embodiment of the present invention, even if the circuit element and the inductor L are combined and integrated in one package, the first lead 10 on which the inductor L is disposed and the second lead 12 on which the circuit element is disposed. Since they are separated from each other, the heat generated by the first lead 10 and the second lead 12 is not conducted through the first lead 10 and the second lead 12, respectively.

また、本発明の実施の形態に係る半導体装置によれば、インダクタLが配置される第1リード10の裏面10bは樹脂によって封止されていないので、インダクタLで発生した熱は放熱機能を有する裏面10bから放熱される。したがって、インダクタLで発生した熱が回路素子であるIC等の温度を上昇させてしまうことはない。同様に、第2リード12の素子搭載部120の裏面120bからも放熱される。
Further, according to the semiconductor device according to the embodiment of the present invention, the back surface 10b of the first lead 10 on which the inductor L is disposed is not sealed with resin, so that the heat generated in the inductor L has a heat dissipation function. Heat is radiated from the back surface 10b. Therefore, the heat generated in the inductor L does not increase the temperature of an IC or the like that is a circuit element. Similarly, heat is radiated from the back surface 120 b of the element mounting portion 120 of the second lead 12.

また、本発明の実施の形態に係る半導体装置をプリント基板等に実装する場合は、外部端子の接合と同様に、露出した裏面からはんだ等を介して、実装する基板へ効率よく放熱することが可能となる。また、回路素子と基板の絶縁が必要な場合には、第2リード12の素子搭載部120の裏面120b部に絶縁シートの接着や絶縁接着剤が使用できる。
In addition, when mounting the semiconductor device according to the embodiment of the present invention on a printed circuit board or the like, it is possible to efficiently dissipate heat from the exposed back surface to the mounted substrate through solder or the like, similar to the joining of the external terminals. It becomes possible. When insulation between the circuit element and the substrate is required, an insulating sheet or an insulating adhesive can be used for the back surface 120b of the element mounting portion 120 of the second lead 12.

上記のように、本発明は実施の形態によって記載したが、この開示の一部をなす記述及び図面はこの発明を限定するものであると理解するべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施の形態、実施例及び運用技術が明らかになるはずである。
As described above, the present invention has been described according to the embodiment. However, it should not be understood that the description and drawings constituting a part of this disclosure limit the present invention. From this disclosure, various alternative embodiments, examples and operational techniques should be apparent to those skilled in the art.

例えば、実施の形態において、インダクタLは、モールドタイプを用いて説明したが、フェライトコアとフェライトコア外周に巻回される電線とから構成されているフェライトコアタイプ、メタルコンポジットモールドタイプ、ダストコアタイプであっても構わない。
For example, in the embodiment, the inductor L has been described using a mold type. However, the inductor L is a ferrite core type, a metal composite mold type, or a dust core type that includes a ferrite core and an electric wire wound around the outer periphery of the ferrite core. It does not matter.

また、実施の形態における半導体装置製造方法において、強磁性体を含有する第2封止体によってインダクタLを封止する工程を更に含ませても構わない。

Moreover, in the semiconductor device manufacturing method according to the embodiment, a step of sealing the inductor L with a second sealing body containing a ferromagnetic material may be further included.

また、実施の形態における半導体装置製造方法において、保護材によってインダクタLの表面を被覆する工程を更に含ませても構わない。
In the semiconductor device manufacturing method according to the embodiment, a step of covering the surface of the inductor L with a protective material may be further included.

この様に、本発明はここでは記載していない様々な実施の形態等を包含するということを理解すべきである。したがって、本発明はこの開示から妥当な特許請求の範囲の発明特定事項によってのみ限定されるものである。
Thus, it should be understood that the present invention includes various embodiments and the like not described herein. Therefore, the present invention is limited only by the invention specifying matters in the scope of claims reasonable from this disclosure.

C1〜C5…コンデンサ
D1…ダイオード
L…インダクタ
Load…負荷
R1〜R3…抵抗
1…DC−DCコンバータ
Tr1〜Tr4…トランジスタ
10…第1リード
12…第2リード
20…第1封止体
30…直流電源
32…MIC
41…スイッチ制御回路
42…基準電圧回路
42a…定電圧回路
42b…基準電圧発生回路
43…電流検出アンプ
43a…過電流保護回路
44…加算回路
45…ブートストラップ回路
50…誤差増幅回路
51…発振回路
52…PWMコンパレータ
53…PWM回路
54…ドライブ回路
60…低入力時誤作動防止回路
61…保護回路
61a…過電圧保護回路
61b…過熱保護回路
62…ソフトスタート回路
C1 to C5 ... Capacitor D1 ... Diode L ... Inductor Load ... Load R1-R3 ... Resistance 1 ... DC-DC converter Tr1-Tr4 ... Transistor 10 ... First lead 12 ... Second lead 20 ... First sealing body 30 ... DC Power supply 32 ... MIC
DESCRIPTION OF SYMBOLS 41 ... Switch control circuit 42 ... Reference voltage circuit 42a ... Constant voltage circuit 42b ... Reference voltage generation circuit 43 ... Current detection amplifier 43a ... Overcurrent protection circuit 44 ... Adder circuit 45 ... Bootstrap circuit 50 ... Error amplification circuit 51 ... Oscillation circuit 52 ... PWM comparator 53 ... PWM circuit 54 ... Drive circuit 60 ... Low input malfunction prevention circuit 61 ... Protection circuit 61a ... Overvoltage protection circuit 61b ... Overheat protection circuit 62 ... Soft start circuit

Claims (4)

第1リードと、前記第1リードと分離配置された第2リードと、前記第1リードの表面に搭載されるインダクタと、前記第2リードに搭載され、前記第1リード及び前記第2リードのアウターリードにて前記インダクタと電気的に接続される回路素子と、前記第1リードの裏面と前記第2リードの素子搭載部裏面の一部を露出し、前記インダクタ及び前記回路素子を封止する第1封止体とを備えることを特徴とする半導体装置。
A first lead; a second lead separated from the first lead; an inductor mounted on a surface of the first lead; and a second lead mounted on the second lead, wherein the first lead and the second lead A circuit element electrically connected to the inductor by an outer lead, a part of a back surface of the first lead and a back surface of the element mounting portion of the second lead are exposed, and the inductor and the circuit element are sealed. A semiconductor device comprising: a first sealing body.
前記第1リードの裏面と前記第2リードの素子搭載部裏面の一部は、放熱機能を有することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein a part of a back surface of the first lead and a back surface of the element mounting portion of the second lead has a heat dissipation function.
前記第1リードの前記インダクタを搭載する面及び前記第2リードの前記素子搭載部裏面の一部と、前記第2リードの前記回路素子を搭載する面とは、高さ位置が異なることを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体装置。
A height position of a surface of the first lead on which the inductor is mounted and a part of the back surface of the element mounting portion of the second lead are different from a surface of the second lead on which the circuit element is mounted. The semiconductor device according to claim 1 or 2.
金属板に所望の回路パターンをパターンニングして、第1リード及び第2リードを形成する工程と、前記第2リードにアップセット加工を施して、第2リードをガルウィング状に形成する工程と、前記第1リードの表面にインダクタを配置し、前記第2リードの表面に回路素子を配置する工程と、前記第1リードと前記インダクタ、前記第2リードと前記回路素子をそれぞれ電気的に接続する工程と、前記第1リードの裏面と前記第2リードの素子搭載部裏面の一部を露出し、前記インダクタ及び前記回路素子を第1封止体によって封止する工程とを含むことを特徴とする半導体装置製造方法。   Patterning a desired circuit pattern on a metal plate to form a first lead and a second lead; and performing an upset process on the second lead to form a second lead in a gull wing shape; Disposing an inductor on the surface of the first lead and disposing a circuit element on the surface of the second lead, and electrically connecting the first lead and the inductor and the second lead and the circuit element, respectively. And a step of exposing a part of the back surface of the first lead and the back surface of the element mounting portion of the second lead, and sealing the inductor and the circuit element with a first sealing body. A semiconductor device manufacturing method.
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