JP2010218975A - Insulating sheet, laminated plate, and multilayer laminated plate - Google Patents
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Abstract
【課題】硬化物の表面に導体層が形成されたときに、導体層の接着強度を高めることができる絶縁シートを提供する。
【解決手段】表面の算術平均粗さRaが0.1μm以上、3μm以下であり、重量平均分子量が1万以上であるポリマー(A)と、重量平均分子量が1万未満であるエポキシ樹脂(B1)及び重量平均分子量が1万未満であるオキセタン樹脂(B2)の内の少なくとも一方の樹脂(B)と、硬化剤(C)と、平均粒子径が0.1〜5μmの範囲内であるフィラー(D)とを含み、絶縁シート100体積%中の前記フィラー(D)の含有量が20〜90体積%の範囲内である絶縁シート。
【選択図】図1An insulating sheet capable of increasing the adhesive strength of a conductor layer when the conductor layer is formed on the surface of a cured product.
A polymer (A) having a surface arithmetic average roughness Ra of 0.1 μm or more and 3 μm or less and a weight average molecular weight of 10,000 or more, and an epoxy resin (B1 having a weight average molecular weight of less than 10,000) ) And at least one of the oxetane resins (B2) having a weight average molecular weight of less than 10,000 (B2), a curing agent (C), and a filler having an average particle size in the range of 0.1 to 5 μm. (D), and the content of the said filler (D) in 100 volume% of insulating sheets is in the range of 20-90 volume%.
[Selection] Figure 1
Description
本発明は、多層積層板などの絶縁層を形成するのに用いられる絶縁シートに関し、より詳細には、硬化物の表面に導体層が形成されたときに、導体層の接着強度を高めることができる絶縁シート、並びに該絶縁シートを用いた積層板及び多層積層板に関する。 The present invention relates to an insulating sheet used to form an insulating layer such as a multilayer laminate, and more specifically, when the conductor layer is formed on the surface of a cured product, the adhesive strength of the conductor layer can be increased. The present invention relates to an insulating sheet that can be formed, and a laminated board and a multilayer laminated board using the insulating sheet.
近年、携帯電話及びコンピューター等の電子機器では、小型化及び情報処理の高速化が進行している。このため、上記電子機器に用いられるプリント配線板では、多層化及び薄膜化が進行しており、かつ電子部品の実装密度が高くなってきている。 In recent years, electronic devices such as mobile phones and computers have been reduced in size and speeded up information processing. For this reason, in the printed wiring board used for the said electronic device, multilayering and a thin film are progressing, and the mounting density of an electronic component is increasing.
従来、多層プリント配線板の製造方法としては、絶縁接着層としてのプリプレグシートを数枚介して、回路が形成された内層回路板と銅箔とを積層プレスする方法が用いられている。上記プリプレグシートは、一般的には、ガラスクロスにエポキシ樹脂を含浸させてBステージ化したシートである。しかし、上記方法では、積層プレスに長時間を要し、さらに大掛かりな設備も必要となるため、製造コストが高くなる。このため、近年、内層回路板の導体層上に絶縁層を交互に積み上げるビルドアップ方式の多層プリント配線板の製造方法が広く採用されてきている。 Conventionally, as a method for producing a multilayer printed wiring board, a method of laminating and pressing an inner circuit board on which a circuit is formed and a copper foil through several prepreg sheets as an insulating adhesive layer is used. The prepreg sheet is generally a sheet that is made into a B-stage by impregnating a glass cloth with an epoxy resin. However, the above method requires a long time for the laminating press and further requires a large facility, which increases the manufacturing cost. For this reason, in recent years, a build-up type multilayer printed wiring board manufacturing method in which insulating layers are alternately stacked on a conductor layer of an inner circuit board has been widely adopted.
上記ビルドアップ方式に用いる絶縁シートには、室温でのハンドリング性と、内層回路を良好にラミネートするために適度な流動性とが求められる。 The insulating sheet used for the build-up method is required to have handling properties at room temperature and appropriate fluidity to satisfactorily laminate the inner layer circuit.
上記絶縁シートの一例として、下記の特許文献1には、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂用硬化剤、硬化促進剤、エラストマー及び無機充填剤を含有する接着剤組成物を、ガラスクロスに含浸させた絶縁接着シートが開示されている。また、下記の特許文献2には、1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂と、フェノール樹脂組成物と、ゴム成分と、硬化促進剤とを含むエポキシ樹脂組成物が開示されている。上記フェノール樹脂組成物は、フェノール類とトリアジン環を有する化合物とアルデヒド類との混合物又は縮合物であり、該混合物又は縮合物は、未反応アルデヒド類及びメチロール基を実質的に含まない。
As an example of the insulating sheet, the following Patent Document 1 discloses an insulating adhesive in which a glass cloth is impregnated with an adhesive composition containing an epoxy resin, an epoxy resin curing agent, a curing accelerator, an elastomer, and an inorganic filler. A sheet is disclosed.
特許文献1に記載の絶縁シートは、ガラスクロスが用いられているため、柔軟性が低かった。このため、内層回路を良好にラミネートすることができなかった。また、ガラスクロスを用いた場合には、薄膜化が困難であったり、レーザー加工性に劣ったり、ガラスクロス自体の熱伝導率が低いことにより十分な放熱性が得られなかったりすることがあった。 The insulating sheet described in Patent Document 1 has low flexibility because a glass cloth is used. For this reason, the inner layer circuit could not be laminated satisfactorily. In addition, when glass cloth is used, it may be difficult to reduce the film thickness, the laser processability may be inferior, or sufficient heat dissipation may not be obtained due to the low thermal conductivity of the glass cloth itself. It was.
また、特許文献2には、上記エポキシ樹脂組成物を熱硬化するだけで、表面に微小な凹凸を形成できることが記載されている。このため、上記エポキシ樹脂組成物によりプリント配線板の絶縁層を形成し、かつ絶縁層の表面に導体層を形成した場合に、絶縁層と導体層との接着強度が高くなる。しかしながら、上記エポキシ樹脂組成物が用いられた場合でも、絶縁層と導体層との接着強度が充分に高くならないことがあった。また、特許文献2に記載の絶縁シートは、高い熱伝導率を有するフィラーが充填されていないために、放熱性が低いことがあった。
本発明の目的は、硬化物の表面に導体層が形成されたときに、導体層の接着強度を高めることができる絶縁シート、並びに該絶縁シートを用いた積層板及び多層積層板を提供することである。 An object of the present invention is to provide an insulating sheet capable of increasing the adhesive strength of a conductor layer when a conductor layer is formed on the surface of a cured product, and a laminated board and a multilayer laminated board using the insulating sheet. It is.
本発明によれば、表面の算術平均粗さRaが0.1μm以上、3μm以下であり、重量平均分子量が1万以上であるポリマー(A)と、重量平均分子量が1万未満であるエポキシ樹脂(B1)及び重量平均分子量が1万未満であるオキセタン樹脂(B2)の内の少なくとも一方の樹脂(B)と、硬化剤(C)と、平均粒子径が0.1〜5μmの範囲内であるフィラー(D)とを含み、絶縁シート100体積%中の前記フィラー(D)の含有量が20〜90体積%の範囲内である、絶縁シートが提供される。 According to the present invention, the polymer (A) having a surface arithmetic average roughness Ra of 0.1 μm or more and 3 μm or less and a weight average molecular weight of 10,000 or more, and an epoxy resin having a weight average molecular weight of less than 10,000 (B1) and at least one of the oxetane resins (B2) having a weight average molecular weight of less than 10,000 (B2), a curing agent (C), and an average particle diameter within a range of 0.1 to 5 μm. An insulating sheet is provided which contains a filler (D) and the content of the filler (D) in 100% by volume of the insulating sheet is in the range of 20 to 90% by volume.
上記フィラー(D)は、アルミナ、結晶性シリカ、合成マグネサイト、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素、酸化亜鉛及び酸化マグネシウムからなる群から選択された少なくとも1種であることが好ましい。この場合には、絶縁硬化シートの放熱性をより一層高くすることができる。 The filler (D) is preferably at least one selected from the group consisting of alumina, crystalline silica, synthetic magnesite, boron nitride, aluminum nitride, silicon nitride, silicon carbide, zinc oxide and magnesium oxide. In this case, the heat dissipation of the insulating cured sheet can be further enhanced.
本発明に係る絶縁シートのある特定の局面では、前記フィラー(D)は破砕状、略多面体状又は板状である。 In a specific aspect of the insulating sheet according to the present invention, the filler (D) is crushed, substantially polyhedral, or plate-shaped.
本発明に係る絶縁シートの他の特定の局面では、前記硬化剤(C)は、フェノール樹脂、又は芳香族骨格もしくは脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物もしくは該酸無水物の変性物である。 In another specific aspect of the insulating sheet according to the present invention, the curing agent (C) is a phenol resin, an acid anhydride having an aromatic skeleton or an alicyclic skeleton, a water additive of the acid anhydride, or the It is a modified product of an acid anhydride.
上記硬化剤(C)は、メラミン骨格もしくはトリアジン骨格を有するフェノール樹脂、又はアリル基を有するフェノール樹脂であることがより好ましい。この好ましい硬化剤(C)の使用により、絶縁層と導体層との密着性をより一層高くすることができる。また、絶縁シートの柔軟性及び難燃性をより一層高めることができる。 The curing agent (C) is more preferably a phenol resin having a melamine skeleton or a triazine skeleton, or a phenol resin having an allyl group. By using this preferable curing agent (C), the adhesion between the insulating layer and the conductor layer can be further enhanced. Moreover, the softness | flexibility and flame retardance of an insulating sheet can be improved further.
上記硬化剤(C)は、多脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物もしくは該酸無水物の変性物、又はテルペン系化合物と無水マレイン酸との付加反応により得られた脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物もしくは該酸無水物の変性物であることも好ましい。また、上記硬化剤(C)は、下記式(1)〜(3)の内のいずれかで表される酸無水物であることがより好ましい。これらの好ましい硬化剤(C)の使用により、絶縁シートの柔軟性、耐湿性又は接着性をより一層高めることができる。 The curing agent (C) is obtained by an addition reaction between an acid anhydride having a polyalicyclic skeleton, a water addition of the acid anhydride or a modification of the acid anhydride, or a terpene compound and maleic anhydride. The acid anhydride having an alicyclic skeleton, a water addition of the acid anhydride, or a modified product of the acid anhydride is also preferable. The curing agent (C) is more preferably an acid anhydride represented by any of the following formulas (1) to (3). Use of these preferable hardening | curing agents (C) can further improve the softness | flexibility of a insulating sheet, moisture resistance, or adhesiveness.
上記式(3)中、R1及びR2はそれぞれ水素、炭素数1〜5のアルキル基又は水酸基を示す。 In said formula (3), R1 and R2 show hydrogen, a C1-C5 alkyl group, or a hydroxyl group, respectively.
本発明に係る絶縁シートの他の特定の局面では、樹脂粒子(E)がさらに含まれている。 In another specific aspect of the insulating sheet according to the present invention, resin particles (E) are further included.
本発明に係る絶縁シートのさらに他の特定の局面では、前記ポリマー(A)は、芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が3万以上であるポリマーである。上記ポリマー(A)は、フェノキシ樹脂であることが好ましい。フェノキシ樹脂の使用により、絶縁硬化シートの耐熱性をより一層高めることができる。また、上記フェノキシ樹脂のガラス転移温度は、95℃以上であることが好ましい。この場合には、樹脂の熱劣化をより一層抑制できる。 In still another specific aspect of the insulating sheet according to the present invention, the polymer (A) is a polymer having an aromatic skeleton and having a weight average molecular weight of 30,000 or more. The polymer (A) is preferably a phenoxy resin. Use of the phenoxy resin can further enhance the heat resistance of the insulating cured sheet. Moreover, it is preferable that the glass transition temperature of the said phenoxy resin is 95 degreeC or more. In this case, the thermal deterioration of the resin can be further suppressed.
本発明に係る絶縁シートの別の特定の局面では、前記樹脂(B)は、芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が600以下であるエポキシモノマー(B1b)及び芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が600以下であるオキセタンモノマー(B2b)の内の少なくとも一方のモノマーを含む。 In another specific aspect of the insulating sheet according to the present invention, the resin (B) has an aromatic skeleton, and has an epoxy monomer (B1b) having a weight average molecular weight of 600 or less and an aromatic skeleton, And at least one of oxetane monomers (B2b) having a weight average molecular weight of 600 or less.
本発明に係る絶縁シートのさらに別の特定の局面では、前記ポリマー(A)と、前記樹脂(B)と、前記硬化剤(C)とを含む絶縁シート中の樹脂成分の合計100重量%中、前記ポリマー(A)の含有量が20〜60重量%、前記樹脂(B)の含有量が10〜60重量%、かつ前記ポリマー(A)と前記樹脂(B)との合計の含有量が100重量%未満である。 In still another specific aspect of the insulating sheet according to the present invention, in a total of 100% by weight of the resin components in the insulating sheet including the polymer (A), the resin (B), and the curing agent (C). The content of the polymer (A) is 20 to 60% by weight, the content of the resin (B) is 10 to 60% by weight, and the total content of the polymer (A) and the resin (B) is Less than 100% by weight.
本発明に係る積層板は、絶縁層と、該絶縁層の少なくとも一方の面に積層された導体層とを備え、前記絶縁層が、本発明に従って構成された絶縁シートを硬化させた絶縁硬化シートにより形成されている。 The laminated board according to the present invention comprises an insulating layer and a conductor layer laminated on at least one surface of the insulating layer, and the insulating cured sheet is obtained by curing the insulating sheet configured according to the present invention. It is formed by.
本発明に係る多層積層板は、積層された複数の絶縁層と、前記複数の絶縁層の間に配置された導体層とを備え、前記絶縁層が、本発明に従って構成された絶縁シートを硬化させた絶縁硬化シートにより形成されている。 A multilayer laminate according to the present invention includes a plurality of laminated insulating layers and a conductor layer disposed between the plurality of insulating layers, and the insulating layer cures an insulating sheet configured according to the present invention. It is formed with the insulation hardening sheet made to make.
本発明に係る多層積層板のある特定の局面では、前記導体層がめっきにより形成されている。 On the specific situation with the multilayer laminated board which concerns on this invention, the said conductor layer is formed by plating.
本発明は、上記(A)〜(C)成分とともに、平均粒子径0.1〜5μmのフィラー(D)を含む絶縁シートであり、表面の算術平均粗さRaが0.1μm以上、3μm以下であるので、硬化物の表面に導体層が形成されたときに、硬化物と導体層との接着強度を充分に高くすることができる。 The present invention is an insulating sheet containing a filler (D) having an average particle size of 0.1 to 5 μm together with the components (A) to (C), and has an arithmetic average roughness Ra of 0.1 μm or more and 3 μm or less. Therefore, when the conductor layer is formed on the surface of the cured product, the adhesive strength between the cured product and the conductor layer can be sufficiently increased.
本発明に係る積層板及び多層積層板は絶縁層と導体層とを備え、該絶縁層が本発明に従って構成された絶縁シートを硬化させた絶縁硬化シートにより形成されているので、絶縁層と導体層との接着強度を充分に高くすることができる。 The laminate and multilayer laminate according to the present invention include an insulating layer and a conductor layer, and the insulating layer is formed of an insulating cured sheet obtained by curing an insulating sheet configured according to the present invention. Adhesive strength with the layer can be sufficiently increased.
以下、本発明の詳細を説明する。 Details of the present invention will be described below.
本発明に係る絶縁シートは、重量平均分子量が1万以上であるポリマー(A)と、重量平均分子量が1万未満であるエポキシ樹脂(B1)及び重量平均分子量が1万未満であるオキセタン樹脂(B2)の内の少なくとも一方の樹脂(B)と、硬化剤(C)と、平均粒子径が0.1〜5μmの範囲内であるフィラー(D)とを含む。 The insulating sheet according to the present invention comprises a polymer (A) having a weight average molecular weight of 10,000 or more, an epoxy resin (B1) having a weight average molecular weight of less than 10,000, and an oxetane resin having a weight average molecular weight of less than 10,000 ( B2) includes at least one resin (B), a curing agent (C), and a filler (D) having an average particle diameter in the range of 0.1 to 5 μm.
(ポリマー(A))
本発明に係る絶縁シートに含まれている上記ポリマー(A)は、重量平均分子量が1万以上であれば特に限定されない。ポリマー(A)は、芳香族骨格を有することが好ましい。この場合には、絶縁硬化シートの耐熱性をより一層高めることができる。ポリマー(A)が芳香族骨格を有する場合には、芳香族骨格をポリマー全体の中に有していればよく、主鎖骨格内に有していてもよく、側鎖中に有していてもよい。ポリマー(A)は、芳香族骨格を主鎖骨格内に有することが好ましい。この場合には、絶縁硬化シートの耐熱性をさらに一層高めることができる。ポリマー(A)は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
(Polymer (A))
The polymer (A) contained in the insulating sheet according to the present invention is not particularly limited as long as the weight average molecular weight is 10,000 or more. The polymer (A) preferably has an aromatic skeleton. In this case, the heat resistance of the insulating cured sheet can be further enhanced. When the polymer (A) has an aromatic skeleton, the aromatic skeleton may be included in the whole polymer, may be included in the main chain skeleton, and may be included in the side chain. Also good. The polymer (A) preferably has an aromatic skeleton in the main chain skeleton. In this case, the heat resistance of the insulating cured sheet can be further enhanced. As for a polymer (A), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.
上記芳香族骨格は特に限定されない。上記芳香族骨格の具体例としては、ナフタレン骨格、フルオレン骨格、ビフェニル骨格、アントラセン骨格、ピレン骨格、キサンテン骨格、アダマンタン骨格又はビスフェノールA型骨格等が挙げられる。なかでも、ビフェニル骨格又はフルオレン骨格が好ましい。この場合には、絶縁硬化シートの耐熱性をより一層高めることができる。 The aromatic skeleton is not particularly limited. Specific examples of the aromatic skeleton include naphthalene skeleton, fluorene skeleton, biphenyl skeleton, anthracene skeleton, pyrene skeleton, xanthene skeleton, adamantane skeleton, and bisphenol A skeleton. Of these, a biphenyl skeleton or a fluorene skeleton is preferable. In this case, the heat resistance of the insulating cured sheet can be further enhanced.
上記ポリマー(A)として、熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂等を用いることができる。 As said polymer (A), a thermoplastic resin, a thermosetting resin, etc. can be used.
上記熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂は、特に限定されない。上記熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂としては、例えば、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン又はポリエーテルケトン等の熱可塑性樹脂が挙げられる。また、上記熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂として、熱可塑性ポリイミド、熱硬化性ポリイミド、ベンゾオキサジン、又はポリベンゾオキサゾールとベンゾオキサジンとの反応物などのスーパーエンプラと呼ばれている耐熱性樹脂群等を使用できる。上記熱可塑性樹脂及び上記熱硬化性樹脂はそれぞれ、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂の内のいずれか一方が用いられてもよく、熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂とが併用されてもよい。 The thermoplastic resin and thermosetting resin are not particularly limited. Examples of the thermoplastic resin and thermosetting resin include thermoplastic resins such as polyphenylene sulfide, polyarylate, polysulfone, polyethersulfone, polyetheretherketone, and polyetherketone. In addition, as the thermoplastic resin and the thermosetting resin, a heat-resistant resin group called a super engineering plastic such as thermoplastic polyimide, thermosetting polyimide, benzoxazine, or a reaction product of polybenzoxazole and benzoxazine, etc. Can be used. As for the said thermoplastic resin and the said thermosetting resin, only 1 type may respectively be used and 2 or more types may be used together. Either one of a thermoplastic resin and a thermosetting resin may be used, and a thermoplastic resin and a thermosetting resin may be used in combination.
上記ポリマー(A)は、スチレン系重合体、(メタ)アクリル系重合体又はフェノキシ樹脂であることが好ましく、フェノキシ樹脂であることがより好ましい。この場合には、絶縁硬化シートの酸化劣化を防止でき、かつ耐熱性をより一層高めることができる。 The polymer (A) is preferably a styrene polymer, a (meth) acrylic polymer, or a phenoxy resin, and more preferably a phenoxy resin. In this case, the oxidative deterioration of the insulating cured sheet can be prevented and the heat resistance can be further enhanced.
上記スチレン系重合体として、具体的には、スチレン系モノマーの単独重合体、又はスチレン系モノマーとアクリル系モノマーとの共重合体等を用いることができる。中でも、スチレン−メタクリル酸グリシジルの構造を有するスチレン系重合体が好ましい。 Specifically, a homopolymer of a styrene monomer, a copolymer of a styrene monomer and an acrylic monomer, or the like can be used as the styrene polymer. Among these, a styrene polymer having a styrene-glycidyl methacrylate structure is preferable.
上記スチレン系モノマーとしては、例えば、スチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−メトキシスチレン、p−フェニルスチレン、p−クロロスチレン、p−エチルスチレン、p−n−ブチルスチレン、p−tert−ブチルスチレン、p−n−ヘキシルスチレン、p−n−オクチルスチレン、p−n−ノニルスチレン、p−n−デシルスチレン、p−n−ドデシルスチレン、2,4−ジメチルスチレン又は3,4−ジクロロスチレン等が挙げられる。 Examples of the styrene monomer include styrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, p-methoxystyrene, p-phenylstyrene, p-chlorostyrene, p-ethylstyrene, and pn-. Butyl styrene, p-tert-butyl styrene, pn-hexyl styrene, pn-octyl styrene, pn-nonyl styrene, pn-decyl styrene, pn-dodecyl styrene, 2,4-dimethyl Examples include styrene and 3,4-dichlorostyrene.
上記アクリル系モノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸−2−エチルヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸−2−エチルヘキシル、メタクリル酸グリシジル、β−ヒドロキシアクリル酸エチル、γ−アミノアクリル酸プロピル、メタクリル酸ステアリル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル又はメタクリル酸ジエチルアミノエチル等が挙げられる。 Examples of the acrylic monomer include acrylic acid, methacrylic acid, methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, acrylate-2-ethylhexyl, cyclohexyl acrylate, phenyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, Examples include butyl methacrylate, hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, glycidyl methacrylate, ethyl β-hydroxyacrylate, propyl γ-aminoacrylate, stearyl methacrylate, dimethylaminoethyl methacrylate or diethylaminoethyl methacrylate. It is done.
上記フェノキシ樹脂は、具体的には、例えばエピハロヒドリンと2価フェノール化合物とを反応させて得られる樹脂、又は2価のエポキシ化合物と2価のフェノール化合物とを反応させて得られる樹脂である。 Specifically, the phenoxy resin is, for example, a resin obtained by reacting an epihalohydrin and a divalent phenol compound, or a resin obtained by reacting a divalent epoxy compound and a divalent phenol compound.
上記フェノキシ樹脂は、ビスフェノールA型骨格、ビスフェノールF型骨格、ビスフェノールA/F混合型骨格、ナフタレン骨格、フルオレン骨格、ビフェニル骨格、アントラセン骨格、ピレン骨格、キサンテン骨格、アダマンタン骨格及びジシクロペンタジエン骨格からなる群から選択された少なくとも1つの骨格を有することが好ましい。中でも、上記フェノキシ樹脂は、ビスフェノールA型骨格、ビスフェノールF型骨格、ビスフェノールA/F混合型骨格、ナフタレン骨格、フルオレン骨格及びビフェニル骨格からなる群から選択された少なくとも1種の骨格を有することがより好ましく、フルオレン骨格及びビフェニル骨格の内の少なくとも一方を有することが更に好ましい。これらの好ましい骨格を有するフェノキシ樹脂の使用により、絶縁硬化シートの耐熱性をより一層高めることができる。 The phenoxy resin comprises a bisphenol A skeleton, a bisphenol F skeleton, a bisphenol A / F mixed skeleton, a naphthalene skeleton, a fluorene skeleton, a biphenyl skeleton, an anthracene skeleton, a pyrene skeleton, a xanthene skeleton, an adamantane skeleton, and a dicyclopentadiene skeleton. It is preferred to have at least one skeleton selected from the group. Among these, the phenoxy resin preferably has at least one skeleton selected from the group consisting of a bisphenol A skeleton, a bisphenol F skeleton, a bisphenol A / F mixed skeleton, a naphthalene skeleton, a fluorene skeleton, and a biphenyl skeleton. Preferably, it has at least one of a fluorene skeleton and a biphenyl skeleton. By using the phenoxy resin having these preferable skeletons, the heat resistance of the insulating cured sheet can be further enhanced.
上記フェノキシ樹脂は、主鎖中に多環式芳香族骨格を有することが好ましい。また、上記フェノキシ樹脂は、下記式(4)〜(9)で表される骨格の内の少なくとも1つの骨格を主鎖中に有することがより好ましい。 The phenoxy resin preferably has a polycyclic aromatic skeleton in the main chain. Moreover, it is more preferable that the phenoxy resin has at least one skeleton of the skeletons represented by the following formulas (4) to (9) in the main chain.
上記式(4)中、R1は互いに同一であっても異なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基又はハロゲン原子であり、X1は単結合、炭素数1〜7の2価の炭化水素基、−O−、−S−、−SO2−、又は−CO−である。 In the above formula (4), R 1 may be the same or different from each other, and is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a halogen atom, and X 1 is a single bond, having 1 to 1 carbon atoms. 7 divalent hydrocarbon group, —O—, —S—, —SO 2 —, or —CO—.
上記式(5)中、R1aは互いに同一であっても異なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基又はハロゲン原子であり、R2は、水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基又はハロゲン原子であり、R3は、水素原子又は炭素数1〜10の炭化水素基であり、mは0〜5の整数である。 In the above formula (5), R 1a may be the same as or different from each other, and is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogen atom, and R 2 is a hydrogen atom, carbon number 1 10 is a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a halogen atom, R 3 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and m is an integer of 0 to 5.
上記式(6)中、R1bは互いに同一であっても異なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基又はハロゲン原子であり、R4は互いに同一であっても異なっていてもよく水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基又はハロゲン原子であり、lは0〜4の整数である。 In the above formula (6), R 1b may be the same or different from each other, and is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a halogen atom, and R 4 is the same or different from each other. It is a hydrogen atom, a C1-C10 hydrocarbon group, or a halogen atom, and l is an integer of 0-4.
上記式(8)中、R5及びR6は水素原子、炭素数1〜5のアルキル基又はハロゲン原子であり、X2は−SO2−、−CH2−、−C(CH3)2−、又は−O−であり、kは0又は1である。 In the formula (8), R 5 and R 6 is a hydrogen atom, an alkyl group or a halogen atom having 1 to 5 carbon atoms, X 2 is -SO 2 -, - CH 2 - , - C (CH 3) 2 -Or -O-, and k is 0 or 1.
上記ポリマー(A)として、例えば、下記式(10)又は下記式(11)で表されるフェノキシ樹脂が好適に用いられる。 As the polymer (A), for example, a phenoxy resin represented by the following formula (10) or the following formula (11) is preferably used.
上記式(10)中、A1は上記式(4)〜(6)の内のいずれかで表される構造を有し、かつその構成は上記式(4)で表される構造が0〜60モル%、上記式(5)で表される構造が5〜95モル%、及び上記式(6)で表される構造が5〜95モル%であり、A2は水素原子、又は上記式(7)で表される基であり、n1は平均値で25〜500の数である。 In the above formula (10), A 1 has a structure represented by any one of the above formulas (4) to (6), and the structure thereof is 0 to 0. 60 mol%, the structure represented by the above formula (5) is 5 to 95 mol%, and the structure represented by the above formula (6) is 5 to 95 mol%, and A 2 is a hydrogen atom or the above formula (7) a group represented, n 1 is a number of 25 to 500 in average.
上記式(11)中、A3は上記式(8)又は上記式(9)で表される構造を有し、n2は少なくとも21以上の値である。 In the above formula (11), A 3 has a structure represented by the above formula (8) or the above formula (9), and n 2 is a value of at least 21 or more.
上記ポリマー(A)のガラス転移温度Tgは、60〜200℃の範囲内にあることが好ましく、90〜180℃の範囲内にあることがより好ましい。ポリマー(A)のTgが低すぎると、樹脂が熱劣化することがある。ポリマー(A)のTgが高すぎると、ポリマー(A)と他の樹脂との相溶性が悪くなる。この結果、未硬化状態の絶縁シートのハンドリング性、並びに絶縁硬化シートの耐熱性が低下することがある。 The glass transition temperature Tg of the polymer (A) is preferably in the range of 60 to 200 ° C, and more preferably in the range of 90 to 180 ° C. If the Tg of the polymer (A) is too low, the resin may be thermally deteriorated. If the Tg of the polymer (A) is too high, the compatibility between the polymer (A) and the other resin is deteriorated. As a result, the handling properties of the uncured insulating sheet and the heat resistance of the insulating cured sheet may be reduced.
上記ポリマー(A)がフェノキシ樹脂である場合には、フェノキシ樹脂のガラス転移温度Tgは、95℃以上であることが好ましく、110〜200℃の範囲内にあることがより好ましく、110〜180℃の範囲内にあることがさらに好ましい。フェノキシ樹脂のTgが低すぎると、樹脂が熱劣化することがある。フェノキシ樹脂のTgが高すぎると、フェノキシ樹脂と他の樹脂との相溶性が悪くなる。この結果、未硬化状態の絶縁シートのハンドリング性、並びに絶縁硬化シートの耐熱性が低下することがある。 When the polymer (A) is a phenoxy resin, the glass transition temperature Tg of the phenoxy resin is preferably 95 ° C. or higher, more preferably in the range of 110 to 200 ° C., and 110 to 180 ° C. More preferably, it is in the range. If the Tg of the phenoxy resin is too low, the resin may be thermally deteriorated. If the Tg of the phenoxy resin is too high, the compatibility between the phenoxy resin and the other resin is deteriorated. As a result, the handling properties of the uncured insulating sheet and the heat resistance of the insulating cured sheet may be reduced.
上記ポリマー(A)の重量平均分子量は、10,000以上である。ポリマー(A)の重量平均分子量は、30,000以上であることが好ましく、30,000〜1,000,000の範囲内にあることがより好ましく、40,000〜250,000の範囲内にあることがさらに好ましい。ポリマー(A)の重量平均分子量が小さすぎると、絶縁硬化シートが熱劣化することがある。ポリマー(A)の重量平均分子量が大きすぎると、ポリマー(A)と他の樹脂との相溶性が悪くなる。この結果、未硬化状態の絶縁シートのハンドリング性、並びに絶縁硬化シートの耐熱性が低下することがある。 The polymer (A) has a weight average molecular weight of 10,000 or more. The weight average molecular weight of the polymer (A) is preferably 30,000 or more, more preferably in the range of 30,000 to 1,000,000, and in the range of 40,000 to 250,000. More preferably it is. If the weight average molecular weight of the polymer (A) is too small, the insulating cured sheet may be thermally deteriorated. When the weight average molecular weight of the polymer (A) is too large, the compatibility between the polymer (A) and another resin is deteriorated. As a result, the handling properties of the uncured insulating sheet and the heat resistance of the insulating cured sheet may be reduced.
ポリマー(A)と、樹脂(B)と、硬化剤(C)とを含む絶縁シートに含まれている全樹脂成分の合計100重量%中に、ポリマー(A)は20〜60重量%の範囲内で含まれている。ポリマー(A)は上記範囲内で、ポリマー(A)と樹脂(B)との合計の含有量が100重量%未満であるように含まれている。全樹脂成分の合計100重量%中のポリマー(A)の含有量の好ましい下限は30重量%であり、好ましい上限は50重量%である。ポリマー(A)の含有量が少なすぎると、未硬化状態の絶縁シートのハンドリング性が低下することがある。ポリマー(A)の含有量が多すぎると、フィラー(D)の分散が困難になることがある。なお、全樹脂成分とは、ポリマー(A)、エポキシ樹脂(B1)、オキセタン樹脂(B2)、硬化剤(C)及び必要に応じて添加される他の樹脂成分の総和をいう。 The polymer (A) is in the range of 20 to 60% by weight in 100% by weight of the total resin components contained in the insulating sheet containing the polymer (A), the resin (B), and the curing agent (C). Contained within. The polymer (A) is contained within the above range so that the total content of the polymer (A) and the resin (B) is less than 100% by weight. The minimum with preferable content of the polymer (A) in 100 weight% of total of all the resin components is 30 weight%, and a preferable upper limit is 50 weight%. When there is too little content of a polymer (A), the handleability of an uncured insulating sheet may fall. When there is too much content of a polymer (A), dispersion | distribution of a filler (D) may become difficult. The total resin component means the sum of the polymer (A), the epoxy resin (B1), the oxetane resin (B2), the curing agent (C), and other resin components added as necessary.
(樹脂(B))
本発明に係る絶縁シートは、エポキシ樹脂(B1)及びオキセタン樹脂(B2)の内の少なくとも一方の樹脂(B)を含有する。樹脂(B)として、エポキシ樹脂(B1)のみが用いられてもよく、オキセタン樹脂(B2)のみが用いられてもよく、エポキシ樹脂(B1)とオキセタン樹脂(B2)との双方が用いられてもよい。
(Resin (B))
The insulating sheet according to the present invention contains at least one of the epoxy resin (B1) and the oxetane resin (B2) (B). As the resin (B), only the epoxy resin (B1) may be used, or only the oxetane resin (B2) may be used, and both the epoxy resin (B1) and the oxetane resin (B2) are used. Also good.
上記エポキシ樹脂(B1)の重量平均分子量は1万未満である。エポキシ樹脂(B1)は重量平均分子量が1万未満であれば特に限定されない。エポキシ樹脂(B1)として、芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が600以下であるエポキシモノマー(B1b)が好適に用いられる。 The epoxy resin (B1) has a weight average molecular weight of less than 10,000. The epoxy resin (B1) is not particularly limited as long as the weight average molecular weight is less than 10,000. As the epoxy resin (B1), an epoxy monomer (B1b) having an aromatic skeleton and having a weight average molecular weight of 600 or less is suitably used.
上記エポキシ樹脂(B1)の具体例としては、ビスフェノール骨格を有するエポキシモノマー、ジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシモノマー、ナフタレン骨格を有するエポキシモノマー、アダマンテン骨格を有するエポキシモノマー、フルオレン骨格を有するエポキシモノマー、ビフェニル骨格を有するエポキシモノマー、バイ(グリシジルオキシフェニル)メタン骨格を有するエポキシモノマー、キサンテン骨格を有するエポキシモノマー、アントラセン骨格を有するエポキシモノマー、又はピレン骨格を有するエポキシモノマー等が挙げられる。エポキシ樹脂(B1)は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。 Specific examples of the epoxy resin (B1) include an epoxy monomer having a bisphenol skeleton, an epoxy monomer having a dicyclopentadiene skeleton, an epoxy monomer having a naphthalene skeleton, an epoxy monomer having an adamantene skeleton, an epoxy monomer having a fluorene skeleton, and biphenyl. Examples thereof include an epoxy monomer having a skeleton, an epoxy monomer having a bi (glycidyloxyphenyl) methane skeleton, an epoxy monomer having a xanthene skeleton, an epoxy monomer having an anthracene skeleton, and an epoxy monomer having a pyrene skeleton. As for an epoxy resin (B1), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.
上記ビスフェノール骨格を有するエポキシモノマーとしては、例えば、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型又はビスフェノールS型のビスフェノール骨格を有するエポキシモノマー等が挙げられる。 Examples of the epoxy monomer having a bisphenol skeleton include an epoxy monomer having a bisphenol A type, bisphenol F type, or bisphenol S type bisphenol skeleton.
上記ジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシモノマーとしては、ジシクロペンタジエンジオキシド、又はジシクロペンタジエン骨格を有するフェノールノボラックエポキシモノマー等が挙げられる。 Examples of the epoxy monomer having a dicyclopentadiene skeleton include dicyclopentadiene dioxide and a phenol novolac epoxy monomer having a dicyclopentadiene skeleton.
上記ナフタレン骨格を有するエポキシモノマーとしては、1−グリシジルナフタレン、2−グリシジルナフタレン、1,2−ジグリシジルナフタレン、1,5−ジグリシジルナフタレン、1,6−ジグリシジルナフタレン、1,7−ジグリシジルナフタレン、2,7−ジグリシジルナフタレン、トリグリシジルナフタレン、又は1,2,5,6−テトラグリシジルナフタレン等が挙げられる。 Examples of the epoxy monomer having a naphthalene skeleton include 1-glycidylnaphthalene, 2-glycidylnaphthalene, 1,2-diglycidylnaphthalene, 1,5-diglycidylnaphthalene, 1,6-diglycidylnaphthalene, 1,7-diglycidyl. Naphthalene, 2,7-diglycidylnaphthalene, triglycidylnaphthalene, 1,2,5,6-tetraglycidylnaphthalene, and the like can be given.
上記アダマンテン骨格を有するエポキシモノマーとしては、1,3−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)アダマンテン、又は2,2−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)アダマンテン等が挙げられる。 Examples of the epoxy monomer having an adamantene skeleton include 1,3-bis (4-glycidyloxyphenyl) adamanten, 2,2-bis (4-glycidyloxyphenyl) adamanten, and the like.
上記フルオレン骨格を有するエポキシモノマーとしては、9,9−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−クロロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−ブロモフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−フルオロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−メトキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3,5−ジメチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3,5−ジクロロフェニル)フルオレン、又は9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3,5−ジブロモフェニル)フルオレン等が挙げられる。 Examples of the epoxy monomer having a fluorene skeleton include 9,9-bis (4-glycidyloxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-glycidyloxy-3-methylphenyl) fluorene, and 9,9-bis (4- Glycidyloxy-3-chlorophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-glycidyloxy-3-bromophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-glycidyloxy-3-fluorophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-Glycidyloxy-3-methoxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-glycidyloxy-3,5-dimethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-glycidyloxy-3,5-dichlorophenyl) Fluorene or 9,9-bis (4-glycidyloxy-3,5-dibromophenyl) Fluorene, and the like.
上記ビフェニル骨格を有するエポキシモノマーとしては、4,4’−ジグリシジルビフェニル、又は4,4’−ジグリシジル−3,3’,5,5’−テトラメチルビフェニル等が挙げられる。 Examples of the epoxy monomer having a biphenyl skeleton include 4,4'-diglycidylbiphenyl, 4,4'-diglycidyl-3,3 ', 5,5'-tetramethylbiphenyl, and the like.
上記バイ(グリシジルオキシフェニル)メタン骨格を有するエポキシモノマーとしては、1,1’−バイ(2,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,8’−バイ(2,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,1’−バイ(3,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,8’−バイ(3,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,1’−バイ(3,5−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,8’−バイ(3,5−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,2’−バイ(2,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,2’−バイ(3,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、又は1,2’−バイ(3,5−グリシジルオキシナフチル)メタン等が挙げられる。 Examples of the epoxy monomer having a bi (glycidyloxyphenyl) methane skeleton include 1,1′-bi (2,7-glycidyloxynaphthyl) methane, 1,8′-bi (2,7-glycidyloxynaphthyl) methane, 1,1′-bi (3,7-glycidyloxynaphthyl) methane, 1,8′-bi (3,7-glycidyloxynaphthyl) methane, 1,1′-bi (3,5-glycidyloxynaphthyl) methane 1,8'-bi (3,5-glycidyloxynaphthyl) methane, 1,2'-bi (2,7-glycidyloxynaphthyl) methane, 1,2'-bi (3,7-glycidyloxynaphthyl) Examples include methane or 1,2′-bi (3,5-glycidyloxynaphthyl) methane.
上記キサンテン骨格を有するエポキシモノマーとしては、1,3,4,5,6,8−ヘキサメチル−2,7−ビス−オキシラニルメトキシ−9−フェニル−9H−キサンテン等が挙げられる。 Examples of the epoxy monomer having a xanthene skeleton include 1,3,4,5,6,8-hexamethyl-2,7-bis-oxiranylmethoxy-9-phenyl-9H-xanthene.
上記オキセタン樹脂(B2)の重量平均分子量は1万未満である。オキセタン樹脂(B2)は重量平均分子量が1万未満であれば特に限定されない。オキセタン樹脂(B2)として、芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が600以下であるオキセタンモノマー(B2b)が好適に用いられる。 The oxetane resin (B2) has a weight average molecular weight of less than 10,000. The oxetane resin (B2) is not particularly limited as long as the weight average molecular weight is less than 10,000. As the oxetane resin (B2), an oxetane monomer (B2b) having an aromatic skeleton and having a weight average molecular weight of 600 or less is preferably used.
上記オキセタン樹脂(B2)の具体例としては、例えば、4,4’−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]ビフェニル、1,4−ベンゼンジカルボン酸ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メチル]エステル、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]ベンゼン、又はオキセタン化フェノールノボラック等が挙げられる。オキセタン樹脂(B2)は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。 Specific examples of the oxetane resin (B2) include, for example, 4,4′-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] biphenyl, 1,4-benzenedicarboxylate bis [(3-ethyl-3 -Oxetanyl) methyl] ester, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] benzene, or oxetated phenol novolak. As for oxetane resin (B2), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.
エポキシ樹脂(B1)及びオキセタン樹脂(B2)の重量平均分子量、すなわち樹脂(B)の重量平均分子量は、1万未満である。樹脂(B)の重量平均分子量は、600以下であることが好ましい。樹脂(B)の重量平均分子量の好ましい下限は200、より好ましい上限は550である。樹脂(B)の重量平均分子量が小さすぎると、樹脂(B)の揮発性が高すぎて絶縁シートの取扱い性が低下することがある。樹脂(B)の重量平均分子量が大きすぎると、絶縁シートが固くかつ脆くなったり、絶縁硬化シートの接着性が低下したりすることがある。 The weight average molecular weight of the epoxy resin (B1) and the oxetane resin (B2), that is, the weight average molecular weight of the resin (B) is less than 10,000. The weight average molecular weight of the resin (B) is preferably 600 or less. The minimum with a preferable weight average molecular weight of resin (B) is 200, and a more preferable upper limit is 550. If the weight average molecular weight of the resin (B) is too small, the volatility of the resin (B) may be too high and the handleability of the insulating sheet may be lowered. If the weight average molecular weight of the resin (B) is too large, the insulating sheet may be hard and brittle, or the adhesiveness of the insulating cured sheet may be lowered.
ポリマー(A)と、樹脂(B)と、硬化剤(C)とを含む絶縁シートに含まれている全樹脂成分の合計100重量%中に、樹脂(B)は10〜60重量%の範囲内で含まれていることが好ましい。上記全樹脂成分の合計100重量%中に、樹脂(B)は10〜40重量%の範囲内で含まれていることがより好ましい。樹脂(B)は上記範囲内で、ポリマー(A)と樹脂(B)との合計の含有量が100重量%未満であるように含まれていることが好ましい。樹脂(B)の含有量が少なすぎると、絶縁硬化シートの接着性及び耐熱性が低下することがある。樹脂(B)の含有量が多すぎると、絶縁シートの取扱い性が低下することがある。 In a total of 100% by weight of all resin components contained in the insulating sheet containing the polymer (A), the resin (B), and the curing agent (C), the resin (B) is in the range of 10 to 60% by weight. It is preferable that it is contained within. It is more preferable that the resin (B) is contained within a range of 10 to 40% by weight in a total of 100% by weight of all the resin components. The resin (B) is preferably contained so that the total content of the polymer (A) and the resin (B) is less than 100% by weight within the above range. When there is too little content of resin (B), the adhesiveness and heat resistance of an insulation hardening sheet may fall. When there is too much content of resin (B), the handleability of an insulating sheet may fall.
上記樹脂(B)は、芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が600以下であるエポキシモノマー(B1b)、及び芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が600以下であるオキセタンモノマー(B2b)の内の少なくとも一方のモノマーを含むことが好ましい。 The resin (B) has an aromatic skeleton and an epoxy monomer (B1b) having a weight average molecular weight of 600 or less, and an oxetane monomer (B2b) having an aromatic skeleton and a weight average molecular weight of 600 or less. It is preferable that at least one of the monomers is included.
樹脂(B)は、芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が600以下であるエポキシモノマー(B1b)及び芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が600以下であるオキセタンモノマー(B2b)の内の少なくとも一方のモノマーを40〜100重量%の範囲内で含むことが好ましく、60〜100重量%の範囲内で含むことがより好ましく、80〜100重量%の範囲内で含むことが特に好ましい。エポキシモノマー(B1b)及びオキセタンモノマー(B2b)の含有量が上記好ましい範囲内にある場合には、絶縁シートの柔軟性、並びに絶縁硬化シートの接着性及び耐熱性をより一層高めることができる。 The resin (B) is an epoxy monomer (B1b) having an aromatic skeleton and having a weight average molecular weight of 600 or less and an oxetane monomer (B2b) having an aromatic skeleton and having a weight average molecular weight of 600 or less. It is preferable to contain at least one of the monomers within the range of 40 to 100% by weight, more preferably within the range of 60 to 100% by weight, and particularly preferably within the range of 80 to 100% by weight. . When content of an epoxy monomer (B1b) and an oxetane monomer (B2b) exists in the said preferable range, the softness | flexibility of an insulating sheet and the adhesiveness and heat resistance of an insulation hardening sheet can be improved further.
(硬化剤(C))
本発明に係る上記絶縁シートに含まれている硬化剤(C)は特に限定されない。硬化剤(C)は、フェノール樹脂、又は芳香族骨格もしくは脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物もしくは該酸無水物の変性物であることが好ましい。この好ましい硬化剤(C)の使用により、耐熱性、耐湿性及び電気物性のバランスに優れた絶縁硬化シートを得ることができる。硬化剤(C)は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
(Curing agent (C))
The curing agent (C) contained in the insulating sheet according to the present invention is not particularly limited. The curing agent (C) is preferably a phenol resin, or an acid anhydride having an aromatic skeleton or an alicyclic skeleton, a water additive of the acid anhydride, or a modified product of the acid anhydride. By using this preferable curing agent (C), an insulating cured sheet having an excellent balance of heat resistance, moisture resistance and electrical properties can be obtained. As for a hardening | curing agent (C), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.
上記フェノール樹脂は、特に限定されない。上記フェノール樹脂の具体例としては、フェノールノボラック、o−クレゾールノボラック、p−クレゾールノボラック、t−ブチルフェノールノボラック、ジシクロペンタジエンクレゾール、ポリパラビニルフェノール、ビスフェノールA型ノボラック、キシリレン変性ノボラック、デカリン変性ノボラック、ポリ(ジ−o−ヒドロキシフェニル)メタン、ポリ(ジ−m−ヒドロキシフェニル)メタン、又はポリ(ジ−p−ヒドロキシフェニル)メタン等が挙げられる。なかでも、メラミン骨格を有するフェノール樹脂、トリアジン骨格を有するフェノール樹脂、又はアリル基を有するフェノール樹脂が好ましく、トリアジン骨格を有するフェノール樹脂であることがより好ましい。この場合には、絶縁硬化シートと導体層との密着性をより一層高めることができる。さらに、絶縁シート又は絶縁硬化シートの柔軟性及び難燃性をより一層高めることができる。 The phenol resin is not particularly limited. Specific examples of the phenol resin include phenol novolak, o-cresol novolak, p-cresol novolak, t-butylphenol novolak, dicyclopentadiene cresol, polyparavinylphenol, bisphenol A type novolak, xylylene modified novolak, decalin modified novolak, Examples include poly (di-o-hydroxyphenyl) methane, poly (di-m-hydroxyphenyl) methane, and poly (di-p-hydroxyphenyl) methane. Among these, a phenol resin having a melamine skeleton, a phenol resin having a triazine skeleton, or a phenol resin having an allyl group is preferable, and a phenol resin having a triazine skeleton is more preferable. In this case, the adhesion between the insulating cured sheet and the conductor layer can be further enhanced. Furthermore, the softness | flexibility and flame retardance of an insulating sheet or an insulation hardening sheet can be improved further.
上記フェノール樹脂の市販品としては、MEH−8005、MEH−8010及びNEH−8015(以上いずれも明和化成社製)、YLH903(ジャパンエポキシレジン社製)、LA―7052、LA−7054、LA−7751、LA−1356及びLA−3018−50P(以上いずれも大日本インキ社製)、並びにPS6313及びPS6492(群栄化学社製)等が挙げられる。 Commercially available products of the phenol resin include MEH-8005, MEH-8010 and NEH-8015 (all of which are manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.), YLH903 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), LA-7052, LA-7054, and LA-7751. LA-1356 and LA-3018-50P (all manufactured by Dainippon Ink, Inc.), PS6313 and PS6492 (manufactured by Gunei Chemical Co., Ltd.), and the like.
芳香族骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物は、特に限定されない。芳香族骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物としては、例えば、スチレン/無水マレイン酸コポリマー、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、ピロメリット酸無水物、トリメリット酸無水物、4,4’−オキシジフタル酸無水物、フェニルエチニルフタル酸無水物、グリセロールビス(アンヒドロトリメリテート)モノアセテート、エチレングリコールビス(アンヒドロトリメリテート)、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、又はトリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸等が挙げられる。なかでも、メチルナジック酸無水物又はトリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸が好ましい。メチルナジック酸無水物又はトリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸の使用により、絶縁硬化シートの耐水性を高めることができる。 An acid anhydride having an aromatic skeleton, a water additive of the acid anhydride, or a modified product of the acid anhydride is not particularly limited. Examples of the acid anhydride having an aromatic skeleton, a water addition of the acid anhydride, or a modified product of the acid anhydride include, for example, a styrene / maleic anhydride copolymer, benzophenone tetracarboxylic acid anhydride, pyromellitic acid anhydride, Trimellitic anhydride, 4,4'-oxydiphthalic anhydride, phenylethynylphthalic anhydride, glycerol bis (anhydrotrimellitate) monoacetate, ethylene glycol bis (anhydrotrimellitate), methyltetrahydrophthalic anhydride Examples include acid, methylhexahydrophthalic anhydride, or trialkyltetrahydrophthalic anhydride. Of these, methyl nadic acid anhydride or trialkyltetrahydrophthalic anhydride is preferable. By using methyl nadic acid anhydride or trialkyltetrahydrophthalic anhydride, the water resistance of the insulation cured sheet can be increased.
上記芳香族骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物の市販品としては、SMAレジンEF30、SMAレジンEF40、SMAレジンEF60及びSMAレジンEF80(以上いずれもサートマー・ジャパン社製)、ODPA−M及びPEPA(以上いずれもマナック社製)、リカジットMTA−10、リカジットMTA−15、リカジットTMTA、リカジットTMEG−100、リカジットTMEG−200、リカジットTMEG−300、リカジットTMEG−500、リカジットTMEG−S、リカジットTH、リカジットHT−1A、リカジットHH、リカジットMH−700、リカジットMT−500、リカジットDSDA及びリカジットTDA−100(以上いずれも新日本理化社製)、並びにEPICLON B4400、EPICLON B650、及びEPICLON B570(以上いずれも大日本インキ化学社製)等が挙げられる。 Examples of commercially available acid anhydrides having an aromatic skeleton, water additives of the acid anhydrides, or modified products of the acid anhydrides include SMA Resin EF30, SMA Resin EF40, SMA Resin EF60, and SMA Resin EF80 (any of the above Is also manufactured by Sartomer Japan), ODPA-M and PEPA (all of which are manufactured by Manac), Rikagit MTA-10, Rikagit MTA-15, Rikagit TMTA, Rikagit TMEG-100, Rikagit TMEG-200, Rikagit TMEG-300, Rikagit TMEG-500, Rikagit TMEG-S, Rikagit TH, Rikagit HT-1A, Rikagit HH, Rikagit MH-700, Rikagit MT-500, Rikagit DSDA and Rikagit TDA-100 (all of which are manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.), and PICLON B4400, EPICLON B650, and (any more than Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.) EPICLON B570, and the like.
上記脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物は、多脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物もしくは該酸無水物の変性物、又はテルペン系化合物と無水マレイン酸との付加反応により得られる脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物であることが好ましい。この場合には、絶縁シート又は絶縁硬化シートの柔軟性、耐湿性又は接着性をより一層高めることができる。また、上記脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物としては、マレイン化テルピネン、メチルナジック酸無水物、ジシクロペンタジエン骨格を有する酸無水物又は該酸無水物の変性物等も挙げられる。 The acid anhydride having an alicyclic skeleton, a water additive of the acid anhydride, or a modified product of the acid anhydride is an acid anhydride having a polyalicyclic skeleton, a water additive of the acid anhydride, or the A modified product of an acid anhydride, or an acid anhydride having an alicyclic skeleton obtained by addition reaction of a terpene compound and maleic anhydride, a water additive of the acid anhydride, or a modified product of the acid anhydride It is preferable. In this case, the flexibility, moisture resistance, or adhesiveness of the insulating sheet or the insulating cured sheet can be further enhanced. Examples of the acid anhydride having an alicyclic skeleton, a water addition of the acid anhydride, or a modified product of the acid anhydride include maleated terpinene, methyl nadic acid anhydride, and acid anhydride having a dicyclopentadiene skeleton. Or a modified product of the acid anhydride.
上記脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物の市販品としては、リカジットHNA及びリカジットHNA−100(以上いずれも新日本理化社製)等が挙げられる。 Examples of commercially available acid anhydrides having the alicyclic skeleton, water additions of the acid anhydrides, or modified products of the acid anhydrides include Rikagit HNA and Rikagit HNA-100 (all manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.) Etc.
また、上記硬化剤(C)は、下記式(1)〜(3)の内のいずれかで表される酸無水物であることがより好ましい。この好ましい硬化剤(C)の使用により、絶縁シート又は絶縁硬化シートの柔軟性、耐湿性又は接着性をより一層高めることができる。 The curing agent (C) is more preferably an acid anhydride represented by any of the following formulas (1) to (3). By using this preferable hardening | curing agent (C), the softness | flexibility, moisture resistance, or adhesiveness of an insulating sheet or an insulation hardening sheet can be improved further.
上記式(3)中、R1及びR2はそれぞれ水素、炭素数1〜5のアルキル基又は水酸基を示す。 In said formula (3), R1 and R2 show hydrogen, a C1-C5 alkyl group, or a hydroxyl group, respectively.
硬化速度又は絶縁硬化シートの物性などを調整するために、上記硬化剤と硬化促進剤とを併用してもよい。 In order to adjust the curing rate or the physical properties of the insulating cured sheet, the curing agent and the curing accelerator may be used in combination.
上記硬化促進剤は特に限定されない。硬化促進剤の具体例としては、例えば、3級アミン、イミダゾール類、イミダゾリン類、トリアジン類、有機リン系化合物、4級ホスホニウム塩類又は有機酸塩等のジアザビシクロアルケン類等が挙げられる。また、上記硬化促進剤としては、有機金属化合物類、4級アンモニウム塩類又は金属ハロゲン化物等が挙げられる。上記有機金属化合物類としては、オクチル酸亜鉛、オクチル酸錫又はアルミニウムアセチルアセトン錯体等が挙げられる。 The said hardening accelerator is not specifically limited. Specific examples of the curing accelerator include tertiary amines, imidazoles, imidazolines, triazines, organic phosphorus compounds, quaternary phosphonium salts, diazabicycloalkenes such as organic acid salts, and the like. Examples of the curing accelerator include organometallic compounds, quaternary ammonium salts, metal halides, and the like. Examples of the organometallic compounds include zinc octylate, tin octylate, and aluminum acetylacetone complex.
上記硬化促進剤として、高融点のイミダゾール硬化促進剤、高融点の分散型潜在性硬化促進剤、マイクロカプセル型潜在性硬化促進剤、アミン塩型潜在性硬化促進剤、又は高温解離型かつ熱カチオン重合型潜在性硬化促進剤等を使用できる。上記硬化促進剤は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。 As the above-mentioned curing accelerator, a high melting point imidazole curing accelerator, a high melting point dispersion type latent curing accelerator, a microcapsule type latent curing accelerator, an amine salt type latent curing accelerator, or a high temperature dissociation type and thermal cation A polymerization type latent curing accelerator or the like can be used. As for the said hardening accelerator, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.
上記高融点の分散型潜在性促進剤としては、ジシアンジアミド又はアミンがエポキシモノマー等に付加されたアミン付加型促進剤等が挙げられる。上記マイクロカプセル型潜在性促進剤としては、イミダゾール系、リン系又はホスフィン系の促進剤の表面がポリマーにより被覆されたマイクロカプセル型潜在性促進剤が挙げられる。上記高温解離型かつ熱カチオン重合型潜在性硬化促進剤としては、ルイス酸塩又はブレンステッド酸塩等が挙げられる。 Examples of the high melting point dispersion type latent accelerator include amine addition type accelerators in which dicyandiamide or amine is added to an epoxy monomer or the like. Examples of the microcapsule type latent accelerator include a microcapsule type latent accelerator in which the surface of an imidazole, phosphorus or phosphine accelerator is coated with a polymer. Examples of the high temperature dissociation type and thermal cationic polymerization type latent curing accelerator include Lewis acid salt or Bronsted acid salt.
上記硬化促進剤は、高融点のイミダゾール系硬化促進剤であることが好ましい。高融点のイミダゾール系硬化促進剤が用いられた場合には、反応系を容易に制御でき、かつ絶縁シートの硬化速度、及び絶縁硬化シートの物性などをより一層容易に調整できる。融点100℃以上の高融点の硬化促進剤は、取扱性に優れている。従って、硬化促進剤の融点は100℃以上であることが好ましい。 The curing accelerator is preferably a high melting point imidazole curing accelerator. When an imidazole curing accelerator having a high melting point is used, the reaction system can be easily controlled, and the curing speed of the insulating sheet and the physical properties of the insulating cured sheet can be more easily adjusted. A high-melting-point curing accelerator having a melting point of 100 ° C. or higher is excellent in handleability. Accordingly, the melting accelerator preferably has a melting point of 100 ° C. or higher.
ポリマー(A)と、樹脂(B)と、硬化剤(C)とを含む絶縁シートに含まれている全樹脂成分の合計100重量%中に、硬化剤(C)は10〜40重量%の範囲内で含まれていることが好ましい。上記全樹脂成分の合計100重量%中の硬化剤(C)の含有量のより好ましい下限は12重量%であり、より好ましい上限は25重量%である。硬化剤(C)の含有量が少なすぎると、絶縁シートを充分に硬化させることが困難になることがある。硬化剤(C)の含有量が多すぎると、硬化に関与しない余剰な硬化剤が発生したり、絶縁シートの硬化の際に、架橋が充分に進行しなかったりすることがある。このため、絶縁硬化シートの耐熱性及び接着性が充分に高められないことがある。 In a total of 100% by weight of all resin components contained in the insulating sheet containing the polymer (A), the resin (B), and the curing agent (C), the curing agent (C) is 10 to 40% by weight. It is preferable that it is contained within the range. The minimum with more preferable content of the hardening | curing agent (C) in the total 100 weight% of the said all resin component is 12 weight%, and a more preferable upper limit is 25 weight%. If the content of the curing agent (C) is too small, it may be difficult to sufficiently cure the insulating sheet. When there is too much content of a hardening | curing agent (C), the excess hardening agent which does not participate in hardening may generate | occur | produce, or bridge | crosslinking may not fully advance in the case of hardening of an insulating sheet. For this reason, the heat resistance and adhesiveness of an insulation hardening sheet may not fully be improved.
(フィラー(D))
本発明に係る絶縁シートに、平均粒子径0.1〜5μmのフィラー(D)が含まれていることにより、絶縁シートの表面の算術平均粗さRaを0.1μm以上、3μm以下とすることができ、該絶縁シートを硬化した絶縁硬化シートの表面の算術平均粗さRaを0.1μm以上、3μm以下とすることができる。このため、絶縁シート又は該絶縁硬化シート上にメッキにより形成される導体層との接着強度を高めることができる。フィラー(D)の平均粒子径の好ましい下限は0.2μmであり、より好ましい下限は0.3μmである。フィラー(D)の平均粒子径(D)の好ましい上限は4μmであり、より好ましい上限は3μmである。フィラー(D)の平均粒子径がこれらの好ましい下限又は上限を満たす場合には、絶縁硬化シートと導体層との接着強度をより一層高めることができる。なお、フィラー(D)の平均粒子径が小さすぎると、絶縁シートの表面に形成される凹凸が小さすぎて、絶縁硬化シートと導体層との密着性の向上にフィラー(D)が寄与しなかったり、フィラー(D)を高密度で充填させることが困難なことがあったりする。フィラー(D)の平均粒子径が大きすぎると、絶縁硬化シートの絶縁破壊特性が低下することがある。
(Filler (D))
By including the filler (D) having an average particle diameter of 0.1 to 5 μm in the insulating sheet according to the present invention, the arithmetic average roughness Ra of the surface of the insulating sheet is set to 0.1 μm or more and 3 μm or less. The arithmetic average roughness Ra of the surface of the insulating cured sheet obtained by curing the insulating sheet can be 0.1 μm or more and 3 μm or less. For this reason, the adhesive strength with the conductor sheet formed by plating on the insulating sheet or the insulating cured sheet can be increased. The minimum with a preferable average particle diameter of a filler (D) is 0.2 micrometer, and a more preferable minimum is 0.3 micrometer. The upper limit with a preferable average particle diameter (D) of a filler (D) is 4 micrometers, and a more preferable upper limit is 3 micrometers. When the average particle diameter of the filler (D) satisfies these preferable lower limits or upper limits, the adhesive strength between the insulating cured sheet and the conductor layer can be further increased. In addition, when the average particle diameter of a filler (D) is too small, the unevenness | corrugation formed on the surface of an insulating sheet is too small, and a filler (D) does not contribute to the adhesive improvement of an insulation hardening sheet and a conductor layer. Or it may be difficult to fill the filler (D) at a high density. When the average particle diameter of the filler (D) is too large, the dielectric breakdown characteristics of the insulating cured sheet may be deteriorated.
上記「平均粒子径」とは、レーザー回折式粒度分布測定装置により測定した体積平均での粒度分布測定結果から求められる平均粒子径である。 The “average particle diameter” is an average particle diameter obtained from a volume average particle size distribution measurement result measured by a laser diffraction particle size distribution measuring apparatus.
上記フィラー(D)は、平均粒子径が0.1〜5μmの範囲内であれば特に限定されない。フィラー(D)は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。フィラー(D)は、アルミナ、結晶性シリカ、合成マグネサイト、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素、酸化亜鉛及び酸化マグネシウムからなる群から選択された少なくとも1種であることが好ましい。これらの好ましいフィラー(D)の使用により、絶縁硬化シートの放熱性をより一層高めることができる。 The filler (D) is not particularly limited as long as the average particle diameter is in the range of 0.1 to 5 μm. As for a filler (D), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together. The filler (D) is preferably at least one selected from the group consisting of alumina, crystalline silica, synthetic magnesite, boron nitride, aluminum nitride, silicon nitride, silicon carbide, zinc oxide and magnesium oxide. By using these preferable fillers (D), the heat dissipation of the insulating cured sheet can be further enhanced.
上記フィラー(D)の形状は、破砕状、略多面体状又は板状であることが好ましく、破砕状又は略多面体状であることが好ましい。フィラー(D)がこの好ましい形状を有する場合には、絶縁シートの表面に凹凸をより一層高密度に形成できる。このため、絶縁硬化シートと導体層との接着強度をさらに一層高めることができる。 The shape of the filler (D) is preferably crushed, substantially polyhedral or plate-like, and is preferably crushed or substantially polyhedral. When the filler (D) has this preferable shape, irregularities can be formed on the surface of the insulating sheet at a higher density. For this reason, the adhesive strength of an insulation hardening sheet and a conductor layer can be raised further.
破砕されたフィラーとしては、破砕アルミナ等が挙げられる。破砕されたフィラーは、例えば、一軸破砕機、二軸破砕機、ハンマークラッシャー又はボールミル等を用いて、塊状の無機物質を破砕することにより得られる。 Examples of the crushed filler include crushed alumina. The crushed filler can be obtained, for example, by crushing a massive inorganic substance using a uniaxial crusher, a biaxial crusher, a hammer crusher, a ball mill, or the like.
破砕されたフィラーのアスペクト比は、特に限定されない。破砕されたフィラーのアスペクト比は、1.5〜20の範囲内にあることが好ましい。破砕されたフィラーのアスペクト比は、例えば、デジタル画像解析方式粒度分布測定装置(商品名:FPA、日本ルフト社製)を用いて、フィラーの破砕面を測定することにより求めることができる。 The aspect ratio of the crushed filler is not particularly limited. The aspect ratio of the crushed filler is preferably in the range of 1.5-20. The aspect ratio of the crushed filler can be determined, for example, by measuring the crushed surface of the filler using a digital image analysis type particle size distribution measuring device (trade name: FPA, manufactured by Nippon Luft).
絶縁シート100体積%中、上記フィラー(D)は20〜90体積%の範囲内で含まれていることが好ましい。フィラー(D)の含有量が上記範囲内にあることにより、絶縁硬化シートと導体層との接着強度を充分に高くすることができる。絶縁シート100体積%中のフィラー(D)の含有量のより好ましい下限は30体積%であり、さらに好ましい下限は35体積%であり、より好ましい上限は85体積%であり、さらに好ましい上限は80体積%である。フィラー(D)の含有量が少なすぎると、絶縁シートの放熱性が充分に高められなかったり、表面に凹凸が効果的に形成されず、絶縁硬化シートと導体層との密着性が低くなったりすることがある。フィラー(D)の含有量が多すぎると、絶縁シートの柔軟性及び接着性が著しく低下しやすくなったり、フィラー(D)の新モース硬度が高い場合にはドリルや打ち抜きプレスによる絶縁硬化シートの加工性が悪くなったりすることがある。 In 100% by volume of the insulating sheet, the filler (D) is preferably contained within a range of 20 to 90% by volume. When the content of the filler (D) is within the above range, the adhesive strength between the insulating cured sheet and the conductor layer can be sufficiently increased. A more preferable lower limit of the content of the filler (D) in 100% by volume of the insulating sheet is 30% by volume, a further preferable lower limit is 35% by volume, a more preferable upper limit is 85% by volume, and a further preferable upper limit is 80%. % By volume. If the content of the filler (D) is too small, the heat dissipation of the insulating sheet cannot be sufficiently increased, or unevenness is not effectively formed on the surface, resulting in low adhesion between the insulating cured sheet and the conductor layer. There are things to do. If the content of the filler (D) is too large, the flexibility and adhesion of the insulating sheet will be remarkably lowered, or if the new Mohs hardness of the filler (D) is high, the insulation cured sheet by drilling or punching press Workability may be deteriorated.
フィラー(D)の熱伝導率は、10W/m・K以上であることが好ましい。熱伝導率が10W/m・K以下であると、絶縁硬化シートの放熱性が十分に発現しないことがある。絶縁硬化シートの放熱性をより一層高めることができるので、フィラー(D)の熱伝導率は20W/m・K以上であることがより好ましく、30W/m・K以上であることがさらに好ましい。 The thermal conductivity of the filler (D) is preferably 10 W / m · K or more. When the thermal conductivity is 10 W / m · K or less, the heat dissipation of the insulating cured sheet may not be sufficiently exhibited. Since the heat dissipation of the insulating cured sheet can be further enhanced, the thermal conductivity of the filler (D) is more preferably 20 W / m · K or more, and further preferably 30 W / m · K or more.
上記フィラー(D)は、化学式MgCO3で示される結晶水を含まない炭酸マグネシウム無水塩(D1d1)、及び該炭酸マグネシウム無水塩(D1d1)の表面が、有機樹脂、シリコーン樹脂又はシリカにより被覆されている被覆体(D2d1)の内の少なくとも一方のフィラー(Dd1)であってもよい。このようなフィラー(Dd1)の使用により、絶縁硬化シートの熱伝導率及び耐熱性を充分に確保しつつ、絶縁硬化シートの加工性を高めることができる。本発明の絶縁シートは、加工性に優れているため、例えば、絶縁硬化シートの加工時に使用する設備の摩耗を抑制できる。従って、絶縁シートを長期に渡り安定的に生産できる。 In the filler (D), anhydrous magnesium carbonate (D1d1) not containing water of crystallization represented by the chemical formula MgCO 3 and the surface of the anhydrous magnesium carbonate (D1d1) are coated with an organic resin, silicone resin or silica. The filler (Dd1) may be at least one of the covered bodies (D2d1). By using such a filler (Dd1), it is possible to improve the workability of the insulating cured sheet while sufficiently ensuring the thermal conductivity and heat resistance of the insulating cured sheet. Since the insulating sheet of the present invention is excellent in workability, for example, it is possible to suppress wear of equipment used when processing the insulating cured sheet. Therefore, the insulating sheet can be stably produced over a long period.
上記化学式MgCO3で示される結晶水を含まない炭酸マグネシウム無水塩(D1d1)は、熱伝導率が15W/m・Kと比較的良好であり、モース硬度も3.5と低い。さらに、上記炭酸マグネシウム無水塩(D1d1)は、窒化物と比べて安価である。従って、上記炭酸マグネシウム塩(D1d1)又は該炭酸マグネシウム塩を含む上記被覆体(D2d1)の使用により、絶縁シートの生産コストを低減できる。 The anhydrous magnesium carbonate (D1d1) containing no water of crystallization represented by the above chemical formula MgCO 3 has a relatively good thermal conductivity of 15 W / m · K and a low Mohs hardness of 3.5. Furthermore, the anhydrous magnesium carbonate (D1d1) is less expensive than nitride. Therefore, the production cost of the insulating sheet can be reduced by using the magnesium carbonate salt (D1d1) or the covering (D2d1) containing the magnesium carbonate salt.
上記化学式MgCO3で示される結晶水を含まない炭酸マグネシウム無水塩(D1d1)は、例えば化学式4MgCO3・Mg(OH2)・4H2Oで表されるヒドロキシ炭酸マグネシウムとは異なる。このヒドロキシ炭酸マグネシウムは、単に炭酸マグネシウムと呼ばれることもある。このヒドロキシ炭酸マグネシウムは100℃前後に加熱されると、結晶水を放出する。このため、ヒドロキシ炭酸マグネシウムは、例えば高いはんだ耐熱性が要求される用途には適さない。 Formula MgCO 3 magnesium carbonate does not contain crystal water represented by anhydrous salt (D1d1), for example different from the hydroxy magnesium carbonate of Formula 4MgCO 3 · Mg (OH 2) · 4H 2 O. This hydroxy magnesium carbonate is sometimes simply referred to as magnesium carbonate. When this hydroxy magnesium carbonate is heated to around 100 ° C., it releases crystal water. For this reason, magnesium magnesium carbonate is not suitable for applications requiring high solder heat resistance, for example.
また、上記化学式MgCO3で示される結晶水を含まない炭酸マグネシウム無水塩(D1d1)として、天然品及び合成品が存在する。天然品は不純物を含むため、天然品が用いられた場合には、耐熱性などの物性が安定しない可能性がある。このため、上記炭酸マグネシウム無水塩(D1d1)は、合成品であることが望ましい。 Moreover, there exist a natural product and a synthetic product as anhydrous magnesium carbonate (D1d1) containing no crystal water represented by the chemical formula MgCO 3 . Since natural products contain impurities, physical properties such as heat resistance may not be stable when natural products are used. For this reason, the anhydrous magnesium carbonate (D1d1) is preferably a synthetic product.
上記被覆体(D2d1)は、炭酸マグネシウム無水塩(D1d1)をコアとし、有機樹脂、シリコーン樹脂又はシリカにより形成された被覆層をシェルとするコア/シェル構造を有する。上記被覆体(D2d1)は、上記被覆層を有するので、樹脂への分散性が高い。さらに上記被覆層を有する上記被覆体(D2d1)の使用により、絶縁硬化シートの耐酸性をより一層高めることができる。 The covering body (D2d1) has a core / shell structure having magnesium carbonate anhydrous salt (D1d1) as a core and a covering layer formed of an organic resin, silicone resin or silica as a shell. Since the said covering (D2d1) has the said coating layer, the dispersibility to resin is high. Furthermore, the use of the covering body (D2d1) having the covering layer can further increase the acid resistance of the insulating cured sheet.
上記炭酸マグネシウム無水塩(D1d1)の表面を上記被覆層により被覆する方法は特に限定されない。この方法としては、例えば、有機樹脂、シリコーン樹脂又はシリカ原料であるシランカップリング剤が溶解されている溶液中に炭酸マグネシウム無水塩(D1d1)を分散させた分散液をスプレー乾燥する方法、有機樹脂又はシリコーン樹脂が溶解された溶液中に炭酸マグネシウム無水塩(D1d1)を分散させた後、有機樹脂又はシリコーン樹脂の貧溶媒を添加することにより、炭酸マグネシウム無水塩(D1d1)の表面に有機樹脂又はポリシロキサンを析出させる方法、炭酸マグネシウム無水塩(D1d1)が分散された媒体中でアクリル樹脂、スチレン樹脂又は低分子量シラン等の重合性単量体を反応させ、高分子量化し媒体中に溶けきれなくなった有機樹脂、シリコーン樹脂又はシリカを炭酸マグネシウム無水塩(D1d1)の表面に析出させる方法等が挙げられる。 The method for coating the surface of the magnesium carbonate anhydrous salt (D1d1) with the coating layer is not particularly limited. As this method, for example, a method of spray-drying a dispersion in which magnesium carbonate anhydrous (D1d1) is dispersed in a solution in which a silane coupling agent that is an organic resin, a silicone resin, or a silica raw material is dissolved, or an organic resin Alternatively, after the magnesium carbonate anhydrous salt (D1d1) is dispersed in the solution in which the silicone resin is dissolved, the organic resin or the poor solvent of the silicone resin is added to the surface of the magnesium carbonate anhydrous salt (D1d1). Method of depositing polysiloxane, reacting a polymerizable monomer such as acrylic resin, styrene resin or low molecular weight silane in a medium in which anhydrous magnesium carbonate (D1d1) is dispersed to make it high molecular weight and cannot be dissolved in the medium A table of anhydrous magnesium carbonate (D1d1) made of organic resin, silicone resin or silica The method and the like to be deposited on.
上記有機樹脂は、炭酸マグネシウム無水塩(D1d1)の表面を被覆できれば特に限定されない。上記有機樹脂は、硬化物に耐酸性を付与できる樹脂であることが好ましい。上記有機樹脂は、熱硬化性樹脂であってもよく、熱可塑性樹脂であってもよい。 The said organic resin will not be specifically limited if the surface of magnesium carbonate anhydrous salt (D1d1) can be coat | covered. The organic resin is preferably a resin that can impart acid resistance to the cured product. The organic resin may be a thermosetting resin or a thermoplastic resin.
上記有機樹脂の具体例としては、(メタ)アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、フェノール系樹脂、熱可塑性ウレタン系樹脂、熱硬化性ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、熱可塑性ポリイミド系樹脂、熱硬化性ポリイミド系樹脂、アミノアルキド系樹脂、フェノキシ樹脂、フタレート樹脂、ポリアミド系樹脂、ケトン系樹脂、ノルボルネン系樹脂、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、熱可塑性ポリイミド、熱硬化性ポリイミド、ベンゾオキサジン、又はポリベンゾオキサゾールとベンゾオキサジンとの反応物等が挙げられる。この中でも単量体の種類が豊富であり、被覆層を幅広く設計でき、かつ熱又は光等により反応を容易に制御できるため、(メタ)アクリル系樹脂又はスチレン系樹脂が好ましい。 Specific examples of the organic resin include (meth) acrylic resin, styrene resin, urea resin, melamine resin, phenolic resin, thermoplastic urethane resin, thermosetting urethane resin, epoxy resin, thermoplastic polyimide. Resins, thermosetting polyimide resins, aminoalkyd resins, phenoxy resins, phthalate resins, polyamide resins, ketone resins, norbornene resins, polyphenylene sulfide, polyarylate, polysulfone, polyethersulfone, polyetheretherketone, Examples include polyether ketone, thermoplastic polyimide, thermosetting polyimide, benzoxazine, or a reaction product of polybenzoxazole and benzoxazine. Among these, (meth) acrylic resins or styrene resins are preferred because there are many types of monomers, the covering layer can be designed widely, and the reaction can be easily controlled by heat or light.
エッチング時の耐酸性を高めることができるので、上記有機樹脂は、分子中に反応基を2つ以上有する架橋性モノマーを含有することが好ましい。 Since the acid resistance at the time of etching can be improved, the organic resin preferably contains a crosslinkable monomer having two or more reactive groups in the molecule.
上記被覆層の厚みは、10nm〜1μmの範囲内にあることが好ましい。被覆層の厚みが10nm未満であると、被覆体(D2d1)の樹脂への分散性の向上効果、及び絶縁硬化シートの耐酸性の向上効果が十分に得られないことがある。被覆層の厚みが1μmを超えると、被覆体(D2d1)の熱伝導性が著しく低下することがある。 The thickness of the coating layer is preferably in the range of 10 nm to 1 μm. When the thickness of the coating layer is less than 10 nm, the effect of improving the dispersibility of the cover (D2d1) in the resin and the effect of improving the acid resistance of the insulating cured sheet may not be sufficiently obtained. When the thickness of the coating layer exceeds 1 μm, the thermal conductivity of the coated body (D2d1) may be significantly reduced.
フィラー(Dd1)は、化学式MgCO3で示される結晶水を含まない球状の炭酸マグネシウム無水塩(D1d2)、及び該球状の炭酸マグネシウム無水塩(D1d2)の表面が、有機樹脂、シリコーン樹脂又はシリカにより被覆されている被覆体(D2d2)の内の少なくとも一方のフィラー(Dd2)であることが好ましい。なお、球状の炭酸マグネシウム無水塩(D1d2)の表面を、有機樹脂、シリコーン樹脂又はシリカにより被覆することにより、被覆体(D2d2)を球状にできる。また、フィラー(Dd2)は、球状であることが好ましい。球状の場合には、絶縁シート中にフィラー(Dd2)を高密度で充填させることができ、従って絶縁硬化シートの放熱性を高めることができる。さらに、絶縁硬化シートの絶縁破壊特性を高めることができる。 The filler (Dd1) includes spherical magnesium carbonate anhydrous salt (D1d2) not containing water of crystallization represented by the chemical formula MgCO 3 , and the surface of the spherical magnesium carbonate anhydrous salt (D1d2) is made of organic resin, silicone resin or silica. It is preferable that the filler (Dd2) is at least one of the coated bodies (D2d2). The surface of the spherical magnesium carbonate anhydrous salt (D1d2) is coated with an organic resin, a silicone resin, or silica to make the coated body (D2d2) spherical. The filler (Dd2) is preferably spherical. In the case of a spherical shape, the insulating sheet can be filled with the filler (Dd2) at a high density, and therefore the heat dissipation of the insulating cured sheet can be enhanced. Furthermore, the dielectric breakdown characteristics of the insulating cured sheet can be enhanced.
なお、球状は、真球状に限られない。球状には、真球がわずかに扁平していたり、歪んでいたりしている形状が含まれる。例えば、球状には、アスペクト比が1〜1.5の範囲内にある形状、又は表面の多くの部分例えば表面の30%以上の部分が平面等ではなく曲面であり、表面の一部の部分例えば表面の70%未満の部分が曲面ではなく、平面等である形状が含まれる。表面の50%以上の部分が曲面である形状がより好ましく、表面の70%以上の部分が曲面である形状がさらに好ましい。 The spherical shape is not limited to a true spherical shape. The spherical shape includes a shape in which the true sphere is slightly flattened or distorted. For example, a spherical shape has a shape with an aspect ratio in the range of 1 to 1.5, or many parts of the surface, for example, 30% or more of the surface is not a flat surface but a curved surface, and a part of the surface For example, a shape in which less than 70% of the surface is not a curved surface but a flat surface or the like is included. A shape in which 50% or more of the surface is a curved surface is more preferable, and a shape in which a portion of 70% or more of the surface is a curved surface is more preferable.
また、上記球状の炭酸マグネシウム無水塩(D1d2)、該球状の炭酸マグネシウム無水塩を用いた上記被覆体(D2d2)又は球状のフィラー(Dd2)は、ジェットミル又は回転するローターとステーターとを有する粉砕−表面処理装置により球状化処理されたものであることが好ましい。このような球状化処理により、球形度を高くすることができ、かつ真球状又は真球状に近い形状にすることができる。さらに、上記球状化処理により、フィラー(Dd2)の凝集物を砕くことができる。従って、上記フィラー(Dd2)を、絶縁シート中に高密度で充填させることができる。このため、絶縁硬化シートの放熱性をより一層高めることができる。さらに、絶縁硬化シートの絶縁破壊特性をより一層高めることができる。 The spherical magnesium carbonate anhydrous salt (D1d2), the coated body (D2d2) or the spherical filler (Dd2) using the spherical magnesium carbonate anhydrous salt is pulverized by a jet mill or a rotating rotor and a stator. -It is preferable that it is spheroidized by a surface treatment apparatus. By such a spheronization treatment, the sphericity can be increased, and a spherical shape or a shape close to a spherical shape can be obtained. Furthermore, the aggregate of filler (Dd2) can be crushed by the spheroidizing treatment. Therefore, the filler (Dd2) can be filled in the insulating sheet at a high density. For this reason, the heat dissipation of an insulation hardening sheet can be improved further. Furthermore, the dielectric breakdown characteristics of the insulating cured sheet can be further enhanced.
絶縁シート中に細密充填構造を形成して、絶縁硬化シートの放熱性を高めるために、形状が異なる2種以上のフィラー(Dd1)が用いられてもよく、粒径が異なる2種以上のフィラー(Dd1)が用いられてもよい。 Two or more types of fillers (Dd1) having different shapes may be used to form a densely packed structure in the insulating sheet to enhance the heat dissipation of the insulating cured sheet, and two or more types of fillers having different particle sizes. (Dd1) may be used.
上記フィラー(Dd1)は、化学式MgCO3で示される結晶水を含まない略多面体状の炭酸マグネシウム無水塩(D1d3)、及び該略多面体状の炭酸マグネシウム無水塩(D1d3)の表面が、有機樹脂、シリコーン樹脂又はシリカにより被覆されている被覆体(D2d3)の内の少なくとも一方のフィラー(Dd3)であることも好ましい。なお、略多面体状の炭酸マグネシウム無水塩(D1d3)の表面を、有機樹脂、シリコーン樹脂又はシリカにより被覆することにより、被覆体(D2d3)を略多面体状にできる。また、フィラー(Dd3)は、略多面体状であることが好ましい。また、フィラー(Dd3)が略多面体状である場合に、上記フィラー(Dd3)以外の他のフィラーがさらに含まれており、該他のフィラーが板状フィラーであることが好ましい。 The filler (Dd1) has a substantially polyhedral magnesium carbonate anhydrous salt (D1d3) not containing water of crystallization represented by the chemical formula MgCO 3 , and the surface of the substantially polyhedral magnesium carbonate anhydrous salt (D1d3) is an organic resin, It is also preferable that it is at least one filler (Dd3) in the covering (D2d3) covered with silicone resin or silica. The surface of the substantially polyhedral magnesium carbonate anhydrous salt (D1d3) is coated with an organic resin, silicone resin, or silica, whereby the coated body (D2d3) can be formed into a substantially polyhedral shape. The filler (Dd3) is preferably substantially polyhedral. In addition, when the filler (Dd3) has a substantially polyhedral shape, other fillers other than the filler (Dd3) are further included, and the other fillers are preferably plate-like fillers.
フィラー(Dd3)が略多面体状であり、板状フィラーが含まれている場合には、絶縁シート中でフィラー(Dd3)と板状フィラーとが点接触ではなく面接触し、フィラー(Dd3)と板状フィラーとの接触面積が大きくなる。また、絶縁シート中に距離を隔てて分散されている複数のフィラー(Dd3)同士が、板状フィラーを介して接触又は近接することで、絶縁シート中の各フィラーが橋掛け又は効率的に近接された構造となる。このため、絶縁硬化シートの熱伝導性をより一層高くすることができる。 When the filler (Dd3) is substantially polyhedral and includes a plate-like filler, the filler (Dd3) and the plate-like filler are not in point contact but in surface contact in the insulating sheet, and the filler (Dd3) and The contact area with the plate filler is increased. In addition, a plurality of fillers (Dd3) dispersed at a distance in the insulating sheet contact or approach each other via the plate-like filler, so that each filler in the insulating sheet is bridged or efficiently approached. It becomes the structure made. For this reason, the heat conductivity of an insulation hardening sheet can be made still higher.
上記板状フィラーの平均長径は0.1〜5μmの範囲内にある。上記フィラー(Dd3)及び板状フィラーの使用により、絶縁シート中で上記フィラー(Dd3)と板状フィラーとを充分に接触させることができる。このため、絶縁硬化シートの熱伝導性をより一層高くすることができる。なお、フィラー(D)が板状フィラーの場合には、フィラー(D)の平均粒子径は、平均長径を示す。 The average major axis of the plate-like filler is in the range of 0.1 to 5 μm. By using the filler (Dd3) and the plate filler, the filler (Dd3) and the plate filler can be sufficiently brought into contact with each other in the insulating sheet. For this reason, the heat conductivity of an insulation hardening sheet can be made still higher. In addition, when a filler (D) is a plate-shaped filler, the average particle diameter of a filler (D) shows an average major axis.
なお、「略多面体状」とは、一般的な多面体の定義である平面によってのみ構成される多面体状だけでなく、平面と一定割合以下の曲面を有する形状も含まれる。略多面体状には、例えば表面の10%以下の曲面と、表面の90%以上の平面により構成される形状が含まれる。略多面体状は、略立方体状又は略直方体状であることが好ましい。 The “substantially polyhedral shape” includes not only a polyhedron shape constituted only by a plane, which is a general definition of a polyhedron, but also a shape having a curved surface with a plane and a certain ratio or less. The substantially polyhedral shape includes, for example, a shape constituted by a curved surface of 10% or less of the surface and a plane of 90% or more of the surface. The substantially polyhedral shape is preferably a substantially cubic shape or a substantially rectangular parallelepiped shape.
上記板状フィラーの平均長径が0.1μm未満であると、板状フィラーの充填が困難であったり、板状フィラーによって略多面体状のフィラー(Dd3)間を効率的かつ十分に橋かけさせることができなかったりすることがある。板状フィラーの平均長径のより好ましい下限は0.5μmであり、さらに好ましい下限は1μmである。 When the average major axis of the plate-like filler is less than 0.1 μm, it is difficult to fill the plate-like filler, or the plate-like filler is used to bridge the substantially polyhedral filler (Dd3) efficiently and sufficiently. May not be possible. A more preferable lower limit of the average major axis of the plate-like filler is 0.5 μm, and a more preferable lower limit is 1 μm.
上記板状フィラーの平均厚みは、100nm以上であることが好ましい。板状フィラーの厚みが100nm以上の場合には、硬化物の熱伝導率をさらに一層高くすることができる。また、上記板状フィラーのアスペクト比は2〜50の範囲内にあることが好ましい。板状フィラーのアスペクト比が50を超えると、板状フィラーの充填が困難なことがある。板状フィラーのアスペクト比は、3〜45の範囲内にあることがより好ましい。 The average thickness of the plate-like filler is preferably 100 nm or more. When the thickness of the plate filler is 100 nm or more, the thermal conductivity of the cured product can be further increased. The aspect ratio of the plate filler is preferably in the range of 2-50. When the aspect ratio of the plate filler exceeds 50, it may be difficult to fill the plate filler. The aspect ratio of the plate filler is more preferably in the range of 3 to 45.
また、上記板状フィラーは、アルミナ及び窒化ホウ素の内の少なくとも一方であることが好ましい。この場合には、絶縁硬化シートの熱伝導性をさらに一層高くすることができる。特に、上記フィラー(Dd3)とアルミナ及び窒化ホウ素の内の少なくとも一方との併用により、絶縁硬化シートの熱伝導性をさらに一層高くすることができる。 The plate-like filler is preferably at least one of alumina and boron nitride. In this case, the thermal conductivity of the insulating cured sheet can be further increased. In particular, the combined use of the filler (Dd3) and at least one of alumina and boron nitride can further increase the thermal conductivity of the insulating cured sheet.
フィラー(Dd1)とフィラー(Dd1)以外の他のフィラーとが併用される場合には、その配合量は、フィラー(Dd1)及び他のフィラーのそれぞれの種類、粒径及び形状により適宜最適なように決定される。絶縁シート100体積%中に、フィラー(Dd1)と他のフィラーとの合計の含有量は、60〜90体積%の範囲内であることが好ましい。フィラー(Dd1)と他のフィラーとの合計の含有量が60体積%未満であると、硬化物の放熱性を充分に高めることができないことがある。フィラー(Dd1)と他のフィラー(D)との合計の含有量が90体積%を超えると、絶縁シートの柔軟性又は接着性が著しく低下するおそれがある。 When the filler (Dd1) and other fillers other than the filler (Dd1) are used in combination, the blending amount seems to be optimal depending on the type, particle size and shape of the filler (Dd1) and other fillers. To be determined. The total content of the filler (Dd1) and other fillers in 100% by volume of the insulating sheet is preferably in the range of 60 to 90% by volume. If the total content of the filler (Dd1) and other fillers is less than 60% by volume, the heat dissipation of the cured product may not be sufficiently improved. When the total content of the filler (Dd1) and the other filler (D) exceeds 90% by volume, the flexibility or adhesiveness of the insulating sheet may be significantly reduced.
フィラー(Dd1)と他のフィラーとが併用される場合には、絶縁シート100体積%中、上記フィラー(Dd1)の含有量は、20〜80体積%の範囲内であることがより好ましい。 When the filler (Dd1) and other fillers are used in combination, the content of the filler (Dd1) in 100% by volume of the insulating sheet is more preferably in the range of 20 to 80% by volume.
絶縁シート中に、上記略多面体状のフィラー(Dd3)と上記板状フィラーとは体積比で70:30〜99:1で含まれていることが好ましい。また、絶縁シート100体積%中に、上記略多面体状のフィラー(Dd3)と上記板状フィラーとの合計の含有量は60〜90体積%の範囲内であることが好ましい。また、絶縁シート中に上記フィラー(Dd3)と上記板状フィラーとの含有量は体積比で70:30〜99:1であり、かつ絶縁シート100体積%中に上記フィラー(Dd3)と上記板状フィラーとの合計の含有量は60〜90体積%の範囲内であることがより好ましい。上記フィラー(Dd3)及び上記板状フィラーの含有量がそれぞれ上記好ましい範囲内にある場合には、絶縁硬化シートの加工性及び熱伝導性をより一層高くすることができる。 In the insulating sheet, the substantially polyhedral filler (Dd3) and the plate filler are preferably contained in a volume ratio of 70:30 to 99: 1. The total content of the substantially polyhedral filler (Dd3) and the plate filler in 100% by volume of the insulating sheet is preferably in the range of 60 to 90% by volume. The content of the filler (Dd3) and the plate-like filler in the insulating sheet is 70:30 to 99: 1 by volume, and the filler (Dd3) and the plate are contained in 100% by volume of the insulating sheet. The total content with the filler is more preferably in the range of 60 to 90% by volume. When content of the said filler (Dd3) and the said plate-shaped filler exists in the said preferable range, respectively, the workability and heat conductivity of an insulation hardening sheet can be made still higher.
(樹脂粒子(E))
本発明に係る絶縁シートは、樹脂粒子(E)を含むことが好ましい。絶縁シートが樹脂粒子(E)を含むことにより、絶縁硬化シートの耐熱信頼性をより一層高くすることができる。また、上記樹脂粒子(E)を用いた場合、プリント配線板の製造工程における薬液処理、洗浄の繰り返しの際に、樹脂粒子部分が脱落し、表面にさらに一層微細な凹凸が形成され、絶縁硬化シートと導体層との密着が高められることがある。
(Resin particles (E))
The insulating sheet according to the present invention preferably contains resin particles (E). When the insulating sheet contains the resin particles (E), the heat resistance reliability of the insulating cured sheet can be further increased. In addition, when the resin particles (E) are used, the resin particle portions are dropped off during repeated chemical treatment and cleaning in the printed wiring board manufacturing process, and finer irregularities are formed on the surface. The adhesion between the sheet and the conductor layer may be enhanced.
上記樹脂粒子(E)は特に限定されない。樹脂粒子(E)としては、例えば、アクリルゴム、ブタジエンゴム、イソプレンゴム、アクリロニトリルブタジエンゴム、スチレンブタジエンゴム、スチレンイソプレンゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴム又は天然ゴム等が挙げられる。なかでも、樹脂粒子(E)は、アクリルゴム粒子又はシリコーンゴム粒子であることが好ましく、シリコーンゴム粒子であることがより好ましい。これらの好ましい樹脂粒子(E)の使用により、絶縁硬化シートの表面に凹凸をより一層微細にすることができ、また絶縁硬化シートの応力緩和性を高めることができ、絶縁硬化シートの柔軟性を高めることができ、かつ絶縁硬化シートの耐熱性の低下を抑制できる。また、樹脂粒子(E)の性状は特に限定されない。 The resin particles (E) are not particularly limited. Examples of the resin particles (E) include acrylic rubber, butadiene rubber, isoprene rubber, acrylonitrile butadiene rubber, styrene butadiene rubber, styrene isoprene rubber, urethane rubber, silicone rubber, fluorine rubber, or natural rubber. Especially, it is preferable that the resin particle (E) is an acrylic rubber particle or a silicone rubber particle, and it is more preferable that it is a silicone rubber particle. By using these preferable resin particles (E), it is possible to make the unevenness on the surface of the insulating cured sheet much finer, and to increase the stress relaxation property of the insulating cured sheet, thereby improving the flexibility of the insulating cured sheet. It can be increased, and a decrease in heat resistance of the insulating cured sheet can be suppressed. Further, the properties of the resin particles (E) are not particularly limited.
上記樹脂粒子(E)と上記フィラー(D)との併用により、絶縁硬化シートの線熱膨張率を低くすることができるとともに、絶縁硬化シートの応力緩和性を発現させることができる。さらに、高温条件又は冷熱サイクル条件において、絶縁硬化シートの剥離又はクラック等がより一層生じ難くなる。 By the combined use of the resin particles (E) and the filler (D), the coefficient of linear thermal expansion of the insulating cured sheet can be lowered and the stress relaxation property of the insulating cured sheet can be expressed. Furthermore, peeling or cracking of the insulating cured sheet is further less likely to occur under high temperature conditions or cooling cycle conditions.
絶縁シート100重量%中に、樹脂粒子(E)は0.1〜40重量%の範囲内で含まれていることが好ましい。絶縁シート100重量%中の樹脂粒子(E)の含有量のより好ましい下限は0.3重量%であり、より好ましい上限は20重量%である。樹脂粒子(E)の含有量が少なすぎると、絶縁硬化シートの応力緩和性が十分に発現しないことがある。樹脂粒子(E)の含有量が多すぎると、絶縁硬化シートの接着性が低くなることがある。 The resin particles (E) are preferably contained within a range of 0.1 to 40% by weight in 100% by weight of the insulating sheet. The minimum with more preferable content of the resin particle (E) in 100 weight% of insulating sheets is 0.3 weight%, and a more preferable upper limit is 20 weight%. When there is too little content of the resin particle (E), the stress relaxation property of an insulation hardening sheet may not fully express. When there is too much content of the resin particle (E), the adhesiveness of an insulation hardening sheet may become low.
(他の成分)
本発明に係る絶縁シートは、分散剤(F)を含んでいてもよい。分散剤(F)の使用により、絶縁硬化シートの熱伝導性及び絶縁破壊特性をより一層高めることができる。上記分散剤(F)の上記水素結合性を有する水素原子を含む官能基としては、例えば、カルボキシル基(pKa=4)、リン酸基(pKa=7)、又はフェノール基(pKa=10)等が挙げられる。
(Other ingredients)
The insulating sheet according to the present invention may contain a dispersant (F). By using the dispersant (F), the thermal conductivity and dielectric breakdown characteristics of the insulating cured sheet can be further enhanced. Examples of the functional group containing the hydrogen atom having hydrogen bonding property of the dispersant (F) include a carboxyl group (pKa = 4), a phosphoric acid group (pKa = 7), and a phenol group (pKa = 10). Is mentioned.
上記分散剤(F)の上記水素結合性を有する水素原子を含む官能基のpKaは、2〜10の範囲内にあることが好ましく、3〜9の範囲内にあることがより好ましい。上記官能基のpKaが2未満であると、分散剤(F)の酸性度が高くなりすぎて、原料樹脂成分中のエポキシ成分及びオキセタン成分の反応が促進されやすくなることがある。従って、未硬化状態の絶縁シートが貯蔵された場合に、絶縁シートの貯蔵安定性が低下することがある。上記官能基のpKaが10を超えると、分散剤としての機能が充分に果たされず、絶縁硬化シートの熱伝導性及び絶縁破壊特性が充分に高められないことがある。 The pKa of the functional group containing the hydrogen atom having hydrogen bonding property of the dispersant (F) is preferably in the range of 2 to 10, and more preferably in the range of 3 to 9. When the pKa of the functional group is less than 2, the acidity of the dispersant (F) becomes too high, and the reaction of the epoxy component and the oxetane component in the raw resin component may be facilitated. Therefore, when the uncured insulating sheet is stored, the storage stability of the insulating sheet may be reduced. When pKa of the said functional group exceeds 10, the function as a dispersing agent may not fully be fulfilled, but the heat conductivity and dielectric breakdown characteristic of an insulation hardening sheet may not fully be improved.
上記水素結合性を有する水素原子を含む官能基は、カルボキシル基又はリン酸基であることが好ましい。この場合には、絶縁硬化シートの熱伝導性及び絶縁破壊特性をさらに一層高めることができる。 The functional group containing a hydrogen atom having hydrogen bonding properties is preferably a carboxyl group or a phosphate group. In this case, the thermal conductivity and dielectric breakdown characteristics of the insulating cured sheet can be further enhanced.
上記分散剤(F)としては、具体的には、例えば、ポリエステル系カルボン酸、ポリエーテル系カルボン酸、ポリアクリル系カルボン酸、脂肪族系カルボン酸、ポリシロキサン系カルボン酸、ポリエステル系リン酸、ポリエーテル系リン酸、ポリアクリル系リン酸、脂肪族系リン酸、ポリシロキサン系リン酸、ポリエステル系フェノール、ポリエーテル系フェノール、ポリアクリル系フェノール、脂肪族系フェノール又はポリシロキサン系フェノール等が挙げられる。分散剤(F)は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。 Specific examples of the dispersant (F) include polyester carboxylic acid, polyether carboxylic acid, polyacrylic carboxylic acid, aliphatic carboxylic acid, polysiloxane carboxylic acid, polyester phosphoric acid, Polyether phosphoric acid, polyacrylic phosphoric acid, aliphatic phosphoric acid, polysiloxane phosphoric acid, polyester phenol, polyether phenol, polyacrylic phenol, aliphatic phenol or polysiloxane phenol It is done. As for a dispersing agent (F), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.
絶縁シート100重量%中に、分散剤(F)は0.01〜20重量%の範囲内で含まれていることが好ましい。絶縁シート100重量%中の分散剤(F)の含有量のより好ましい下限は0.1重量%であり、より好ましい上限は10重量%である。分散剤(F)の含有量が上記範囲内にある場合には、上記フィラー(D)の凝集を抑制でき、かつ絶縁硬化シートの熱伝導性及び絶縁破壊特性を充分に高めることができる。 The dispersant (F) is preferably contained within a range of 0.01 to 20% by weight in 100% by weight of the insulating sheet. The minimum with more preferable content of the dispersing agent (F) in 100 weight% of insulating sheets is 0.1 weight%, and a more preferable upper limit is 10 weight%. When content of a dispersing agent (F) exists in the said range, aggregation of the said filler (D) can be suppressed and the heat conductivity and dielectric breakdown characteristic of an insulation hardening sheet can fully be improved.
上記絶縁シートは、基材物質を含まないことが好ましく、特にガラスクロスを含まないことが好ましい。絶縁シートが上記基材物質を含まない場合には、絶縁シートの厚みを薄くすることができ、かつ絶縁シートの熱伝導性をより一層高めることができる。さらに、絶縁シートが上記基材物質を含まない場合には、必要に応じて絶縁硬化シートにレーザー加工又はドリル穴開け加工等の各種加工を容易に行うこともできる。なお、自立性とは、PETフィルム又は銅箔などの支持体が存在しなくても、未硬化状態であっても、シートの形状を保持し、シートとして取扱うことができることをいう。 The insulating sheet preferably does not contain a base material, and particularly preferably does not contain glass cloth. When the insulating sheet does not contain the base material, the thickness of the insulating sheet can be reduced, and the thermal conductivity of the insulating sheet can be further increased. Furthermore, when an insulating sheet does not contain the said base material, various processes, such as a laser processing or a drill drilling process, can also be easily performed to an insulation hardening sheet as needed. In addition, self-supporting means that the shape of a sheet can be maintained and handled as a sheet even when a support such as a PET film or copper foil is not present or in an uncured state.
また、本発明の絶縁シートは、必要に応じて、添加剤を含んでいてもよい。添加剤としては、例えば硫酸バリウム、タルク、マイカ、クレー、カオリン、珪藻土又は炭酸カルシウムなどのチキソ性付与剤、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、リン系難燃剤などの難燃剤、シリコーン系、フッ素系又は高分子系の消泡剤、シリコーン系、フッ素系又は高分子系のレベリング剤、フタロシアニン・ブルー、フタロシアニン・グリーン、アイオジン・グリーン、ジスアゾイエロー、酸化チタン及びカーボンブラックなどの着色剤等が挙げられる。 Moreover, the insulating sheet of this invention may contain the additive as needed. Examples of additives include thixotropic agents such as barium sulfate, talc, mica, clay, kaolin, diatomaceous earth, or calcium carbonate, flame retardants such as aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, and phosphorus flame retardants, silicones, and fluorines. Or polymer-based antifoaming agents, silicone-based, fluorine-based or polymer-based leveling agents, phthalocyanine blue, phthalocyanine green, iodin green, disazo yellow, titanium oxide, carbon black and other colorants. .
(絶縁シート)
本発明に係る絶縁シートの製造方法は特に限定されない。絶縁シートは、例えば、上述した材料を混合した混合物を溶剤キャスト法又は押し出し成膜法等の方法でシート状に成形することにより得ることができる。シート状に成形する際に、脱泡することが好ましい。
(Insulating sheet)
The manufacturing method of the insulating sheet which concerns on this invention is not specifically limited. The insulating sheet can be obtained, for example, by forming a mixture obtained by mixing the above-described materials into a sheet shape by a method such as a solvent casting method or an extrusion film forming method. Defoaming is preferred when forming into a sheet.
絶縁シートの厚みは特に限定されない。絶縁シートの厚みは、10〜300μmの範囲内にあることが好ましい。絶縁シートの厚みのより好ましい下限は20μmであり、さらに好ましい下限は30μmであり、より好ましい上限は200μmであり、さらに好ましい上限は120μmである。厚みが薄すぎると、絶縁硬化シートの絶縁性が低下することがある。厚みが厚すぎると、絶縁硬化シートの放熱性が低下することがある。 The thickness of the insulating sheet is not particularly limited. The thickness of the insulating sheet is preferably in the range of 10 to 300 μm. A more preferable lower limit of the thickness of the insulating sheet is 20 μm, a further preferable lower limit is 30 μm, a more preferable upper limit is 200 μm, and a further preferable upper limit is 120 μm. If the thickness is too thin, the insulating property of the insulating cured sheet may be lowered. When thickness is too thick, the heat dissipation of an insulation hardening sheet may fall.
未硬化状態の絶縁シートのガラス転移温度Tgは、25℃以下であることが好ましい。ガラス転移温度が25℃を超えると、室温において固く、かつ脆くなることがある。このため、未硬化状態の絶縁シートのハンドリング性が低下することがある。 The glass transition temperature Tg of the uncured insulating sheet is preferably 25 ° C. or lower. When the glass transition temperature exceeds 25 ° C., it may be hard and brittle at room temperature. For this reason, the handleability of the uncured insulating sheet may be reduced.
上記絶縁シートの硬化を進行させることにより、絶縁硬化シートを得ることができる。 By curing the insulating sheet, an insulating cured sheet can be obtained.
上記絶縁シートの硬化を進行させる際には、絶縁シートを硬化又は半硬化させる。絶縁硬化シートには、硬化が完了した硬化物だけでなく、半硬化状態の半硬化物も含まれる。 When the curing of the insulating sheet proceeds, the insulating sheet is cured or semi-cured. The insulating cured sheet includes not only a cured product that has been cured, but also a semi-cured product in a semi-cured state.
上記絶縁シートの硬化を進行させる際の加熱温度は特に限定されない。加熱温度の好ましい下限は130℃であり、より好ましい下限は150℃であり、好ましい上限は240℃である。加熱温度が低すぎると、絶縁シートが充分に硬化されないため、絶縁硬化シートの耐熱性又は耐薬品性が劣ることがある。加熱温度が高すぎると、硬化時に樹脂の劣化が発生することがある。 The heating temperature when the curing of the insulating sheet proceeds is not particularly limited. The minimum with a preferable heating temperature is 130 degreeC, a more preferable minimum is 150 degreeC, and a preferable upper limit is 240 degreeC. If the heating temperature is too low, the insulating sheet is not sufficiently cured, so that the heat resistance or chemical resistance of the insulating cured sheet may be inferior. If the heating temperature is too high, the resin may be deteriorated during curing.
本発明に係る絶縁シートの算術平均粗さRaは0.1μm以上、3μm以下である。このため、絶縁シートを硬化させた絶縁硬化シートの表面に導体層が形成されたときに、絶縁硬化シートと導体層との接着強度を充分に高くすることができる。算術平均粗さRaの好ましい下限は0.2μmである。算術平均粗さRaの好ましい上限は2μmであり、より好ましい上限は1μmである。算術平均粗さRaが大きすぎると、絶縁層の絶縁性が低くなることがあったり、微細な配線を形成した際に導体損失が大きくなったりすることがある。算術平均粗さRaは、JIS B0601:2001に準拠した測定法により求めることができる。 The arithmetic average roughness Ra of the insulating sheet according to the present invention is not less than 0.1 μm and not more than 3 μm. For this reason, when the conductor layer is formed on the surface of the insulating cured sheet obtained by curing the insulating sheet, the adhesive strength between the insulating cured sheet and the conductor layer can be sufficiently increased. A preferable lower limit of the arithmetic average roughness Ra is 0.2 μm. A preferable upper limit of the arithmetic average roughness Ra is 2 μm, and a more preferable upper limit is 1 μm. If the arithmetic average roughness Ra is too large, the insulating property of the insulating layer may be lowered, or the conductor loss may be increased when fine wiring is formed. The arithmetic average roughness Ra can be obtained by a measurement method based on JIS B0601: 2001.
絶縁硬化シートの熱伝導率は、0.5W/m・K以上であることが好ましい。絶縁硬化シートの熱伝導率は、1.0W/m・K以上であることがより好ましく、3.0W/m・K以上であることがさらに好ましい。熱伝導率が低すぎると、絶縁硬化シートの放熱性が低くなることがある。 The heat conductivity of the insulating cured sheet is preferably 0.5 W / m · K or more. The thermal conductivity of the insulating cured sheet is more preferably 1.0 W / m · K or more, and further preferably 3.0 W / m · K or more. If the thermal conductivity is too low, the heat dissipation of the insulating cured sheet may be lowered.
絶縁硬化シートの絶縁破壊電圧は、30kV/mm以上であることが好ましい。絶縁硬化シートの絶縁破壊電圧は、40kV/mm以上であることがより好ましく、50kV/mm以上であることがさらに好ましく、80kV/mm以上であることがさらに好ましく、100kV/mm以上であることが最も好ましい。絶縁破壊電圧が低すぎると、絶縁硬化シートが例えば電力素子用のような大電流用途に用いられた場合に、絶縁性が低くなることがある。 The dielectric breakdown voltage of the insulating cured sheet is preferably 30 kV / mm or more. The dielectric breakdown voltage of the insulating cured sheet is more preferably 40 kV / mm or more, further preferably 50 kV / mm or more, further preferably 80 kV / mm or more, and 100 kV / mm or more. Most preferred. If the dielectric breakdown voltage is too low, the insulation may be lowered when the insulation-cured sheet is used for large current applications such as for power elements.
未硬化状態の絶縁シートの反応率は10%以下であることが好ましい。未硬化状態の絶縁シートの反応率が10%を超えると、未硬化状態の絶縁シートが固くかつ脆くなり、未硬化状態の絶縁シートの室温でのハンドリング性が低下したり、絶縁硬化シートの接着性が低下したりすることがある。絶縁シートの反応率は、示差走査型熱量測定装置を用いて、絶縁シートを120℃1時間、次に200℃1時間の2段階で硬化させた時に発生する熱量から計算することにより求められる。 The reaction rate of the uncured insulating sheet is preferably 10% or less. When the reaction rate of the uncured insulating sheet exceeds 10%, the uncured insulating sheet becomes hard and brittle, and the handling property of the uncured insulating sheet at room temperature decreases, or the insulating cured sheet adheres. May deteriorate. The reaction rate of the insulating sheet is obtained by calculating from the amount of heat generated when the insulating sheet is cured in two stages of 120 ° C. for 1 hour and then 200 ° C. for 1 hour using a differential scanning calorimeter.
未硬化状態の絶縁シートの25℃での曲げ弾性率は、10〜1,000MPaの範囲内にあることが好ましく、20〜500MPaの範囲内にあることがより好ましい。未硬化状態の絶縁シートの25℃での曲げ弾性率が10MPa未満であると、未硬化状態の絶縁シートの室温での自立性が著しく低下し、未硬化状態の絶縁シートのハンドリング性が低下することがある。未硬化状態の絶縁シートの25℃での曲げ弾性率が1,000MPaを超えると、加熱接着時に弾性率が充分に低くならないため、絶縁硬化シートが接着対象物に充分に密着しないことがあり、かつ絶縁硬化シートと接着対象物との接着性が低下することがある。 The bending elastic modulus at 25 ° C. of the uncured insulating sheet is preferably in the range of 10 to 1,000 MPa, and more preferably in the range of 20 to 500 MPa. When the bending elastic modulus at 25 ° C. of the uncured insulating sheet is less than 10 MPa, the self-supporting property of the uncured insulating sheet at room temperature is remarkably lowered, and the handling property of the uncured insulating sheet is degraded. Sometimes. If the bending elastic modulus at 25 ° C. of the uncured insulating sheet exceeds 1,000 MPa, the insulating cured sheet may not sufficiently adhere to the object to be bonded because the elastic modulus is not sufficiently lowered during heat bonding. And the adhesiveness of an insulation hardening sheet and an adhesion target object may fall.
絶縁シートが硬化されたときに、絶縁硬化シートの25℃での曲げ弾性率は、1,000〜50,000MPaの範囲内にあることが好ましく、5,000〜30,000MPaの範囲内にあることがより好ましい。絶縁硬化シートの25℃での曲げ弾性率が低すぎると、例えば、絶縁シートを用いて、厚みの薄い積層基板又は両面に銅回路が設けられた積層板等の積層体を作製した場合に、積層体がたわみやすくなる。このため、折れや曲げ等により積層体が破損しやすくなる。絶縁硬化シートの25℃での曲げ弾性率が高すぎると、絶縁硬化シートが固くかつ脆くなりすぎて、絶縁硬化シートにクラック等が生じやすくなることがある。 When the insulating sheet is cured, the flexural modulus at 25 ° C. of the insulating cured sheet is preferably in the range of 1,000 to 50,000 MPa, and is in the range of 5,000 to 30,000 MPa. It is more preferable. When the bending elastic modulus at 25 ° C. of the insulating cured sheet is too low, for example, when using an insulating sheet to produce a laminated body such as a thin laminated board or a laminated board provided with copper circuits on both sides, The laminate is easy to bend. For this reason, a laminated body becomes easy to be damaged by bending, bending, etc. When the bending elastic modulus at 25 ° C. of the insulating cured sheet is too high, the insulating cured sheet becomes too hard and brittle, and the insulating cured sheet may be easily cracked.
上記曲げ弾性率は、例えば、万能試験機RTC−1310A(オリエンテック社製)を用いて、JIS K 7111に準拠し、長さ8cm、幅1cm及び厚み4mmの試験片を用いて、支点間距離6cm及び速度1.5mm/分の各条件で測定できる。また、絶縁硬化シートの曲げ弾性率を測定する際に、絶縁硬化シートは、120℃で1時間、次に200℃で1時間の2段階の温度により硬化させることにより得られる。 The bending elastic modulus is, for example, a universal tester RTC-1310A (made by Orientec Co., Ltd.), based on JIS K 7111, using a test piece having a length of 8 cm, a width of 1 cm and a thickness of 4 mm, and the distance between fulcrums. It can be measured under conditions of 6 cm and a speed of 1.5 mm / min. Moreover, when measuring the bending elastic modulus of an insulation hardening sheet, an insulation hardening sheet is obtained by making it harden | cure by the temperature of two steps of 120 degreeC for 1 hour and then 200 degreeC for 1 hour.
本発明に係る絶縁シートは、回転型動的粘弾性測定装置を用いて測定された25℃での未硬化状態の絶縁シートのtanδが0.1〜1.0の範囲内にあり、かつ未硬化状態の絶縁シートを25℃から250℃まで昇温させた場合の絶縁シートのtanδの最大値が1.0〜5.0の範囲内にあることが好ましい。上記絶縁シートのtanδは、0.1〜0.5の範囲内にあることがより好ましい。上記絶縁シートのtanδの最大値は、1.5〜4.0の範囲内にあることがより好ましい。 In the insulating sheet according to the present invention, the tan δ of the uncured insulating sheet at 25 ° C. measured using a rotary dynamic viscoelasticity measuring device is in the range of 0.1 to 1.0 and It is preferable that the maximum value of tan δ of the insulating sheet when the cured insulating sheet is heated from 25 ° C. to 250 ° C. is in the range of 1.0 to 5.0. The tan δ of the insulating sheet is more preferably in the range of 0.1 to 0.5. The maximum value of tan δ of the insulating sheet is more preferably in the range of 1.5 to 4.0.
上記25℃での未硬化状態の絶縁シートのtanδが0.1未満であると、未硬化状態の絶縁シートの柔軟性が低くなり、未硬化状態の絶縁シートが破損しやすくなる。上記25℃での未硬化状態の絶縁シートのtanδが1.0以上であると、未硬化状態の絶縁シートが柔らかすぎるため、未硬化状態の絶縁シートのハンドリング性が低下することがある。上記未硬化状態の絶縁シートを25℃から250℃まで昇温させた場合の絶縁シートのtanδの最大値が1.0未満であると、加熱接着時に絶縁シートが接着対象物に充分に密着しないことがある。上記絶縁シートのtanδの最大値が5.0を超えると、絶縁シートの流動性が高すぎて、加熱接着時に絶縁シートの厚みが薄くなり、所望の絶縁破壊特性が得られないことがある。上記25℃での未硬化状態の絶縁シートのtanδは、回転型動的粘弾性測定装置VAR−100(レオロジカ・インスツルメンツ社製)を用いて、直径2cmの円板状の未硬化状態の絶縁シートを用いて、直径2cmのパラレル型プレートにより、25℃にて、オシレーション歪み制御モード、開始応力10Pa、周波数1Hz及び歪み1%の各条件で測定できる。また、未硬化状態の絶縁シートを25℃から250℃まで昇温させた場合の絶縁シートのtanδの最大値は、上記未硬化状態の絶縁シートを、上記測定条件に加え、昇温速度30℃/分で、25℃から250℃まで昇温させることにより測定できる。上記曲げ弾性率及びtanδが上記特定の範囲内にある場合には、製造時及び使用時に、未硬化状態の絶縁シートのハンドリング性が顕著に高くなる。さらに、絶縁シートと銅箔など接着強度が顕著に高くなる。また、内層回路などの凹凸に対する追従性を高めることができる。このため、接着界面に空隙が形成され難くなり、従って放熱性がより高くなる。 When the tan δ of the uncured insulating sheet at 25 ° C. is less than 0.1, the flexibility of the uncured insulating sheet is lowered, and the uncured insulating sheet is easily damaged. When the tan δ of the uncured insulating sheet at 25 ° C. is 1.0 or more, the uncured insulating sheet may be too soft, and the handleability of the uncured insulating sheet may be reduced. When the maximum value of tan δ of the insulating sheet when the uncured insulating sheet is heated from 25 ° C. to 250 ° C. is less than 1.0, the insulating sheet does not sufficiently adhere to the object to be bonded during heat bonding Sometimes. When the maximum value of tan δ of the insulating sheet exceeds 5.0, the fluidity of the insulating sheet is too high, and the thickness of the insulating sheet becomes thin at the time of heat bonding, and desired dielectric breakdown characteristics may not be obtained. The tan δ of the uncured insulating sheet at 25 ° C. is a disk-shaped uncured insulating sheet having a diameter of 2 cm, using a rotary dynamic viscoelasticity measuring device VAR-100 (manufactured by Rheologicala Instruments). Can be measured at 25 ° C. with an oscillation strain control mode, a starting stress of 10 Pa, a frequency of 1 Hz, and a strain of 1% using a parallel plate having a diameter of 2 cm. In addition, the maximum value of tan δ of the insulating sheet when the uncured insulating sheet is heated from 25 ° C. to 250 ° C. is obtained by adding the uncured insulating sheet to the measurement conditions described above, and the heating rate is 30 ° C. It can be measured by raising the temperature from 25 ° C. to 250 ° C./min. When the flexural modulus and tan δ are within the specific ranges, the handleability of the uncured insulating sheet is significantly enhanced during manufacturing and use. Further, the adhesive strength such as the insulating sheet and the copper foil is remarkably increased. Moreover, the followability with respect to unevenness | corrugations of an inner layer circuit etc. can be improved. For this reason, it becomes difficult to form a space | gap in an adhesion | attachment interface, therefore heat dissipation becomes higher.
(積層板及び多層積層板)
本発明に係る絶縁シートは、積層板及び多層積層板の絶縁層を形成するために好適に用いられる。
(Laminated board and multilayer laminated board)
The insulating sheet which concerns on this invention is used suitably in order to form the insulating layer of a laminated board and a multilayer laminated board.
図1に、本発明の一実施形態に係る絶縁シートを用いた積層板を示す。 In FIG. 1, the laminated board using the insulating sheet which concerns on one Embodiment of this invention is shown.
図1に示す積層板1は基板2を備える。基板2の上面2aの一部の領域には、導体層3が設けられている。基板2の上面2aに、導体層3を覆うように絶縁層4が積層されている。絶縁層4の上面4aの一部の領域に、導体層5が設けられている。従って、積層板1は、絶縁層4と、絶縁層4の両面に積層された導体層3,5とを備える。導体層3及び導体層5は、図示しないビアホール接続により接続されている。
A laminated plate 1 shown in FIG. A
積層板1では、絶縁層4が、本発明の一実施形態に係る絶縁シートを硬化させた絶縁硬化シートにより形成されている。従って、導体層3,5により熱が発生しても、絶縁層4により熱を効率的に放散させることができる。
In the laminated board 1, the insulating
図2に示す多層積層板11では、基板12の上面12aに、複数の絶縁層13〜15が積層されている。基板12の上面12aの一部の領域には、導体層16が設けられている。最上層の絶縁層15以外の絶縁層13,14の上面13a,14aの一部の領域にそれぞれ、導体層17,18が設けられている。従って、多層積層板11は、積層された複数の絶縁層13〜15と、絶縁層13,14間に配置された導電層17と、絶縁層14,15間に配置された導電層18とを備える。導体層16〜18は、図示しないビアホール接続により接続されている。
In the
多層積層板11では、絶縁層13〜15が、本発明の一実施形態に係る絶縁シートを硬化させた絶縁硬化シートにより形成されている。従って、導体層16〜18により熱が発生しても、絶縁層13〜15により熱を効率的に放散させることができる。
In the multilayer laminated
また、絶縁層4及び絶縁層13〜15が、上記絶縁シートを硬化させた絶縁硬化シートにより形成されているので、絶縁層4と導体層3,5との接着強度及び絶縁層13〜15と導体層16〜18との接着強度を高くすることができる。従って、絶縁層4と導体層3,5との界面、及び絶縁層13〜15と導体層16〜18との界面での電気信号の損失を小さくすることができる。
Further, since the insulating
本発明に従って構成された絶縁シートを硬化させた絶縁硬化シートにより絶縁層が形成されている場合には、絶縁層を粗化処理しなくても、絶縁層と導体層との接着強度を充分に高くすることができる。ただし、絶縁層は粗化処理されていてもよい。粗化処理により絶縁層の表面により一層微細な孔を形成できる。従って、絶縁層の表面に微細な配線を形成でき、かつ該配線における信号伝送速度を速くすることができる。 In the case where the insulating layer is formed of an insulating cured sheet obtained by curing the insulating sheet configured according to the present invention, sufficient adhesion strength between the insulating layer and the conductor layer can be obtained without roughening the insulating layer. Can be high. However, the insulating layer may be roughened. By the roughening treatment, finer holes can be formed on the surface of the insulating layer. Therefore, fine wiring can be formed on the surface of the insulating layer, and the signal transmission speed in the wiring can be increased.
また、上記導体層は配線回路であることが好ましい。配線回路の場合には、絶縁層と導体層との接着強度を高めることができるので、回路の信頼性を高めることができる。 The conductor layer is preferably a wiring circuit. In the case of a wiring circuit, since the adhesive strength between the insulating layer and the conductor layer can be increased, the reliability of the circuit can be increased.
上記導体層を形成する材料として、金属箔もしくは金属めっき、又は回路保護用に用いるめっき材料を使用できる。上記導体層はめっきにより形成されていることが好ましい。上記導体層はめっき層であることが好ましい。導体層がめっきにより形成されためっき層である場合には、絶縁層と導体層との接着強度を充分に高くすることができる。 As a material for forming the conductor layer, a metal foil or metal plating, or a plating material used for circuit protection can be used. The conductor layer is preferably formed by plating. The conductor layer is preferably a plating layer. When the conductor layer is a plating layer formed by plating, the adhesive strength between the insulating layer and the conductor layer can be sufficiently increased.
上記めっき材料としては、例えば、金、銀、銅、ロジウム、パラジウム、ニッケル又は錫などが挙げられる。これらの2種類以上の合金を用いてもよい。なかでも、導体層は、銅層であることが好ましく、銅めっき層であることがより好ましい。 Examples of the plating material include gold, silver, copper, rhodium, palladium, nickel, and tin. Two or more kinds of these alloys may be used. Especially, it is preferable that a conductor layer is a copper layer, and it is more preferable that it is a copper plating layer.
上記導体層を形成する前に、絶縁層の表面に微細な凹凸を形成するために、絶縁層の表面を粗化液により粗化処理してもよい。絶縁層の少なくとも一部の表面が粗化液により粗化されており、粗化された表面に導体層がめっきにより形成されていることが好ましい。 Before forming the conductor layer, the surface of the insulating layer may be roughened with a roughening solution in order to form fine irregularities on the surface of the insulating layer. It is preferable that at least a part of the surface of the insulating layer is roughened with a roughening solution, and a conductor layer is formed on the roughened surface by plating.
粗化処理される前に、膨潤処理されることが好ましい。ただし、上記膨潤処理は必ずしも行われなくてもよい。 It is preferable to swell before the roughening treatment. However, the swelling treatment is not necessarily performed.
上記膨潤処理方法として、例えば、エチレングリコールなどを主成分とする化合物の水溶液又は有機溶媒分散溶液などにより、上記絶縁層の表面を処理する方法が用いられる。上記膨潤処理には、40重量%エチレングリコール水溶液が好適に用いられる。 As the swelling treatment method, for example, a method of treating the surface of the insulating layer with an aqueous solution or an organic solvent dispersion solution of a compound mainly composed of ethylene glycol or the like is used. For the swelling treatment, a 40% by weight ethylene glycol aqueous solution is suitably used.
上記粗化処理には、例えば、マンガン化合物、クロム化合物又は過硫酸化合物などの化学酸化剤等の粗化液が用いられる。これらの化学酸化剤は、例えば、水又は有機溶剤が添加された後、水溶液又は有機溶媒分散溶液として用いられる。 For the roughening treatment, for example, a roughening solution such as a chemical oxidizing agent such as a manganese compound, a chromium compound, or a persulfuric acid compound is used. These chemical oxidizing agents are used as an aqueous solution or an organic solvent dispersion after, for example, water or an organic solvent is added.
上記マンガン化合物としては、過マンガン酸カリウム又は過マンガン酸ナトリウム等が挙げられる。上記クロム化合物としては、重クロム酸カリウム又は無水クロム酸カリウム等が挙げられる。上記過硫酸化合物としては、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム又は過硫酸アンモニウム等が挙げられる。 Examples of the manganese compound include potassium permanganate and sodium permanganate. Examples of the chromium compound include potassium dichromate and anhydrous potassium chromate. Examples of the persulfate compound include sodium persulfate, potassium persulfate, and ammonium persulfate.
上記粗化処理方法は特に限定されない。上記粗化処理には、例えば、30〜90g/L過マンガン酸もしくは過マンガン酸塩溶液、又は30〜90g/L水酸化ナトリウム溶液が好適に用いられる。 The roughening treatment method is not particularly limited. For the roughening treatment, for example, 30 to 90 g / L permanganic acid or permanganate solution or 30 to 90 g / L sodium hydroxide solution is preferably used.
(積層構造体)
本発明に係る絶縁シートは、熱伝導率が10W/m・K以上の熱伝導体を導電層に接着するのにも用いられる。
(Laminated structure)
The insulating sheet according to the present invention is also used for bonding a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more to a conductive layer.
図3に、本発明の一実施形態に係る絶縁シートを用いた積層構造体を示す。 In FIG. 3, the laminated structure using the insulating sheet which concerns on one Embodiment of this invention is shown.
図3に示す積層構造体21は、熱伝導体22と、熱伝導体22の一方の面22aに積層された絶縁層23と、絶縁層23の熱伝導体22が積層された面とは反対側の面に積層された導電層24とを備える。絶縁層23は、本発明の一実施形態に係る絶縁シートを硬化させた絶縁硬化シートにより形成されている。熱伝導体22の熱伝導率は10W/m・K以上である。
The
熱伝導体22の少なくとも一方の面22aに、絶縁層23と導電層24とがこの順に積層されていればよく、熱伝導体22の他方の面22bにも、絶縁層と導電層とがこの順に積層されていてもよい。
It is sufficient that the insulating
積層構造体21では、絶縁層23が高い熱伝導率を有するので、導電層24側からの熱が絶縁層23を介して熱伝導体22に伝わりやすい。積層構造体21では、熱伝導体22によって熱を効率的に放散させることができる。
In the
上記熱伝導率が10W/m・K以上の熱伝導体は特に限定されない。上記熱伝導率が10W/m・K以上の熱伝導体として、例えば、アルミニウム、銅、アルミナ、ベリリア、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化アルミニウム又はグラファイトシート等が挙げられる。中でも、上記熱伝導率が10W/m・K以上の熱伝導体は、銅又はアルミニウムであることが好ましい。銅又はアルミニウムは、放熱性に優れている。 The heat conductor having the heat conductivity of 10 W / m · K or more is not particularly limited. Examples of the heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more include aluminum, copper, alumina, beryllia, silicon carbide, silicon nitride, aluminum nitride, and a graphite sheet. Especially, it is preferable that the heat conductor whose said heat conductivity is 10 W / m * K or more is copper or aluminum. Copper or aluminum is excellent in heat dissipation.
以下、本発明の具体的な実施例及び比較例を挙げることにより、本発明を明らかにする。なお、本発明は以下の実施例に限定されない。 Hereinafter, the present invention will be clarified by giving specific examples and comparative examples of the present invention. The present invention is not limited to the following examples.
以下の材料を用意した。 The following materials were prepared.
[ポリマー(A)]
(1)ビスフェノールA型フェノキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、商品名:E1256、Mw=51,000、Tg=98℃)
(2)高耐熱フェノキシ樹脂(東都化成社製、商品名:FX−293、Mw=43,700、Tg=163℃)
(3)エポキシ基含有スチレン樹脂(日本油脂社製、商品名:マープルーフG−1010S、Mw=100,000、Tg=93℃)
[Polymer (A)]
(1) Bisphenol A-type phenoxy resin (trade name: E1256, Mw = 51,000, Tg = 98 ° C., manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.)
(2) High heat resistance phenoxy resin (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., trade name: FX-293, Mw = 43,700, Tg = 163 ° C.)
(3) Epoxy group-containing styrene resin (manufactured by NOF Corporation, trade name: Marproof G-1010S, Mw = 100,000, Tg = 93 ° C.)
[エポキシ樹脂(B1)]
(1)ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、商品名:エピコート828US、Mw=370)
(2)ビスフェノールF型液状エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、商品名:エピコート806L、Mw=370)
(3)3官能グリシジルジアミン型液状エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、商品名:エピコート630、Mw=300)
(4)フルオレン骨格エポキシ樹脂(大阪ガスケミカル社製、商品名:オンコートEX1011、Mw=486)
(5)ナフタレン骨格液状エポキシ樹脂(大日本インキ化学社製、商品名:EPICLON HP−4032D、Mw=304)
(6)ビスフェノールA型固体状エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、商品名:1003、Mw=1,300)
(7)エポキシ基含有アクリル樹脂(日本油脂社製、商品名:マープルーフG−013S、Mw=9,000、Tg=69℃)
[Epoxy resin (B1)]
(1) Bisphenol A type liquid epoxy resin (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., trade name: Epicoat 828US, Mw = 370)
(2) Bisphenol F type liquid epoxy resin (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., trade name: Epicoat 806L, Mw = 370)
(3) Trifunctional glycidyldiamine type liquid epoxy resin (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., trade name: Epicoat 630, Mw = 300)
(4) Fluorene skeleton epoxy resin (manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd., trade name: ONCOAT EX1011, Mw = 486)
(5) Naphthalene skeleton liquid epoxy resin (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd., trade name: EPICLON HP-4032D, Mw = 304)
(6) Bisphenol A type solid epoxy resin (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., trade name: 1003, Mw = 1,300)
(7) Epoxy group-containing acrylic resin (manufactured by NOF Corporation, trade name: Marproof G-013S, Mw = 9,000, Tg = 69 ° C.)
[オキセタン樹脂(B2)]
(1)ベンゼン骨格含有オキセタン樹脂(宇部興産社製、商品名:エタナコールOXTP、Mw=362.4)
[Oxetane resin (B2)]
(1) Oxetane resin containing benzene skeleton (manufactured by Ube Industries, trade name: etanacol OXTP, Mw = 362.4)
[硬化剤(C)]
(1)脂環式骨格酸無水物(新日本理化社製、商品名:MH−700)
(2)芳香族骨格酸無水物(サートマー・ジャパン社製、商品名:SMAレジンEF60)
(3)多脂環式骨格酸無水物(新日本理化社製、商品名:HNA−100)
(4)テルペン系骨格酸無水物(上記式(1)で表される酸無水物)
(5)ビフェニル骨格フェノール樹脂(明和化成社製、商品名:MEH−7851−S)
(6)アリル基含有骨格フェノール樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、商品名:YLH−903)
(7)トリアジン骨格系フェノール樹脂(大日本インキ化学社製、商品名:フェノライトKA−7052−L2)
(8)メラミン骨格系フェノール樹脂(群栄化学工業社製、商品名:PS−6492)
(9)イソシアヌル変性固体分散型イミダゾール(イミダゾール系硬化促進剤、四国化成社製、商品名:2MZA−PW)
[Curing agent (C)]
(1) Alicyclic skeleton acid anhydride (manufactured by Shin Nippon Chemical Co., Ltd., trade name: MH-700)
(2) Aromatic skeleton acid anhydride (manufactured by Sartomer Japan, trade name: SMA resin EF60)
(3) Polyalicyclic skeleton acid anhydride (manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd., trade name: HNA-100)
(4) Terpene-based skeleton acid anhydride (acid anhydride represented by the above formula (1))
(5) Biphenyl skeleton phenolic resin (Madewa Kasei Co., Ltd., trade name: MEH-7851-S)
(6) Allyl group-containing skeletal phenol resin (manufactured by Japan Epoxy Resin, trade name: YLH-903)
(7) Triazine skeleton phenolic resin (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd., trade name: Phenolite KA-7052-L2)
(8) Melamine skeleton phenolic resin (manufactured by Gunei Chemical Industry Co., Ltd., trade name: PS-6492)
(9) Isocyanur-modified solid dispersion type imidazole (imidazole curing accelerator, manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd., trade name: 2MZA-PW)
[フィラー(D)]
(1)破砕アルミナ1(日本軽金属社製、商品名:LS−242C、平均粒子径2μm)
(2)破砕アルミナ2(日本軽金属社製、商品名:LS−250、平均粒子径0.6μm)
(3)板状窒化ホウ素(昭和電工社製、商品名:UHP−S1、平均長径1μm)
(4)窒化アルミ(東洋アルミ社製、商品名:TOYALNITE―Super JA、平均粒子径0.8μm)
(5)結晶性シリカ(龍森社製、商品名:クリスタライトCMC−12、平均粒子径5μm)
(6)合成マグネサイト(神島化学社製、商品名:MSS、平均粒子径1μm)
(7)板状アルミナ(キンセイマテック社製、商品名:セラフ02025、平均長径2μm、アスペクト比20〜30)
[Filler (D)]
(1) Crushed alumina 1 (manufactured by Nippon Light Metal Co., Ltd., trade name: LS-242C,
(2) Crushed alumina 2 (Nippon Light Metal Co., Ltd., trade name: LS-250, average particle size 0.6 μm)
(3) Plate-form boron nitride (manufactured by Showa Denko KK, trade name: UHP-S1, average major axis 1 μm)
(4) Aluminum nitride (trade name: TOYALNITE-Super JA, average particle size 0.8 μm, manufactured by Toyo Aluminum Co., Ltd.)
(5) Crystalline silica (manufactured by Tatsumori Co., Ltd., trade name: Crystallite CMC-12,
(6) Synthetic magnesite (Kamishima Chemical Co., Ltd., trade name: MSS, average particle size 1 μm)
(7) Plate-like alumina (manufactured by Kinsei Matec Co., Ltd., trade name: Seraph 02025, average
[フィラー(D)以外のフィラー]
(1)球状アルミナ(電気化学工業社製、商品名:DAM−45、平均粒子径45μm)
[Fillers other than filler (D)]
(1) Spherical alumina (manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., trade name: DAM-45, average particle size 45 μm)
[樹脂粒子(E)]
(1)0.1μm粒子(コアシェル型シリコーン−アクリル粒子、旭化成ワッカーシリコーン社製、商品名:P22、平均粒子径0.1μm、コアシェル構造を有する、ケイ素原子に酸素原子が直接結合された骨格を有する化合物を含むコア層と有機物を含む)
[Resin particles (E)]
(1) 0.1 μm particles (core-shell type silicone-acrylic particles, manufactured by Asahi Kasei Wacker Silicone Co., Ltd., trade name: P22, average particle size 0.1 μm, having a core-shell structure, a skeleton in which oxygen atoms are directly bonded to silicon atoms (Including core layer containing compound and organic matter)
[分散剤(F)]
(1)アクリル系分散剤(ビックケミージャパン社製、商品名:Disperbyk−2070、pKaが4のカルボキシル基を有する)
(2)ポリエーテル系分散剤(楠本化成社製、商品名:ED151、pKaが7のリン酸基を有する)
[Dispersant (F)]
(1) Acrylic dispersant (manufactured by Big Chemie Japan, trade name: Disperbyk-2070, pKa has a carboxyl group of 4)
(2) Polyether-based dispersant (manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd., trade name: ED151, pKa has 7 phosphate groups)
[添加剤]
(1)エポキシシランカップリング剤(信越化学工業社製、商品名:KBE403)
(2)マイカ(山口雲母工業所社製、商品名:SJ005、平均粒子径5μm)
(3)タルク(日本タルク社製、商品名:K−1、平均粒子径8μm)
(4)水酸化アルミニウム(日本軽金属社製、商品名:B−103、平均粒子径8μm)
(5)水酸化マグネシウム(タテホ化学工業社製、商品名:PZ−1、平均粒子径1.2μm、)
[Additive]
(1) Epoxysilane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: KBE403)
(2) Mica (manufactured by Yamaguchi Mica Industry Co., Ltd., trade name: SJ005,
(3) Talc (Nippon Talc Co., Ltd., trade name: K-1, average particle size 8 μm)
(4) Aluminum hydroxide (manufactured by Nippon Light Metal Co., Ltd., trade name: B-103, average particle size 8 μm)
(5) Magnesium hydroxide (manufactured by Tateho Chemical Industry Co., Ltd., trade name: PZ-1, average particle size 1.2 μm)
[溶剤]
(1)メチルエチルケトン
[solvent]
(1) Methyl ethyl ketone
(実施例1〜34及び比較例1〜4)
ホモディスパー型攪拌機を用いて、下記の表1〜5に示す割合(配合単位は重量部)で各原料を配合し、混練し、絶縁材料を調製した。
(Examples 1-34 and Comparative Examples 1-4)
Using a homodisper type stirrer, each raw material was blended in the proportions shown in Tables 1 to 5 below (the blending unit is parts by weight) and kneaded to prepare an insulating material.
厚み50μmの離型PETシートに、上記絶縁材料を50μmの厚みになるように塗工し、90℃のオーブン内で30分乾燥して、PETシート上に絶縁シートを作製した。 The insulating material was applied to a release PET sheet having a thickness of 50 μm so as to have a thickness of 50 μm, and dried in an oven at 90 ° C. for 30 minutes to produce an insulating sheet on the PET sheet.
(評価)
(1)ハンドリング性
PETシートと、該PETシート上に形成された絶縁シートとを有する積層シートを460mm×610mmの平面形状に切り出して、テストサンプルを得た。得られたテストサンプルを用いて、室温(23℃)でPETシートから未硬化状態の絶縁シートを剥離したときのハンドリング性を下記の基準で判定した。
(Evaluation)
(1) Handling property A laminate sheet having a PET sheet and an insulating sheet formed on the PET sheet was cut into a flat shape of 460 mm x 610 mm to obtain a test sample. Using the obtained test sample, the handling property when the uncured insulating sheet was peeled from the PET sheet at room temperature (23 ° C.) was determined according to the following criteria.
[ハンドリング性の判定基準]
〇:絶縁シートの変形がなく、容易に剥離可能
△:絶縁シートを剥離できるものの、シート伸びや破断が発生する
×:絶縁シートを剥離できない
(2)ガラス転移温度
示差走査熱量測定装置「DSC220C」(セイコーインスツルメンツ社製)を用いて、3℃/分の昇温速度で未硬化状態の絶縁シートのガラス転移温度を測定した。
[Handling criteria]
◯: Insulation sheet is not deformed and can be easily peeled Δ: Insulation sheet can be peeled, but sheet elongation or breakage occurs ×: Insulation sheet cannot be peeled (2) Glass transition temperature Differential scanning calorimeter “DSC220C” The glass transition temperature of the uncured insulating sheet was measured at a rate of temperature increase of 3 ° C./min using (Seiko Instruments Inc.).
(3)算術平均粗さRa
東京精密社製の型式SURFCOM 1400Dを用い、JIS B 0601:2001に準拠して、絶縁シートの算術平均粗さRaを測定した。測定条件は下記のようにした。
(3) Arithmetic mean roughness Ra
The arithmetic average roughness Ra of the insulating sheet was measured according to JIS B 0601: 2001 using model SURFCOM 1400D manufactured by Tokyo Seimitsu. Measurement conditions were as follows.
カットオフ値:0.8mm
評価長さ:4mm
測定速度:0.3mm/s
触針先端半径:R 2μm
Cut-off value: 0.8mm
Evaluation length: 4mm
Measurement speed: 0.3 mm / s
Tip radius of stylus:
(4)熱伝導率
絶縁シートを120℃のオーブン内で1時間、その後200℃のオーブン内で1時間加温処理し、絶縁シートを硬化させた。絶縁硬化シートの熱伝導率を、京都電子工業社製熱伝導率計「迅速熱伝導率計QTM−500」を用いて測定した。
(4) Thermal conductivity The insulating sheet was heated in an oven at 120 ° C. for 1 hour and then in an oven at 200 ° C. for 1 hour to cure the insulating sheet. The thermal conductivity of the insulating cured sheet was measured using a thermal conductivity meter “rapid thermal conductivity meter QTM-500” manufactured by Kyoto Electronics Industry Co., Ltd.
(5)絶縁破壊電圧
絶縁シートを100mm×100mmの平面形状に切り出して、テストサンプルを得た。得られたテストサンプルを120℃のオーブン内で1時間、更に200℃のオーブン内で1時間硬化させ、絶縁硬化シートを得た。耐電圧試験器(MODEL7473、EXTECH Electronics社製)を用いて、絶縁硬化シート間に、1kV/秒の速度で電圧が上昇するように、交流電圧を印加した。絶縁硬化シートが破壊した電圧を、絶縁破壊電圧とした。
(5) Dielectric breakdown voltage The insulation sheet was cut out into a planar shape of 100 mm × 100 mm to obtain a test sample. The obtained test sample was cured in an oven at 120 ° C. for 1 hour and further in an oven at 200 ° C. for 1 hour to obtain an insulating cured sheet. Using a withstand voltage tester (MODEL7473, manufactured by EXTECH Electronics), an AC voltage was applied between the insulating cured sheets so that the voltage increased at a rate of 1 kV / sec. The voltage at which the insulation cured sheet was broken was defined as the dielectric breakdown voltage.
(6)半田耐熱試験
厚み35μmの銅箔が両面に積層されたガラスエポキシ両面銅張積層板を用いて、内層回路基板を作製した。真空ラミネーターにより、温度100℃、9.8N/cm2及び気圧5mmHg以下の条件で、PETシートと該PETシート上に形成された絶縁シートとを有する積層シートを絶縁シート側から、内層回路基板の両面にラミネートした。次に、離型PETシートを剥離した。200℃で60分加熱し、絶縁シートを硬化させ、絶縁層を形成した。その後、レーザーによりビアホール用の穴をあけた。過マンガン酸塩のアルカリ性酸化剤(アトテックジャパン社製薬液)で絶縁層の表面を粗化処理した後、無電解及び電解めっきし、サブトラクティブ法に従って4層プリント配線板を得た。さらに、200℃で30分加熱しアニール処理を行った。アニール処理されたプリント配線板を300℃の半田浴に銅箔側を下に向けて浮かべて、銅箔の膨れ又は剥がれが発生するまでの時間を測定し、以下の基準で判定した。
(6) Solder heat resistance test The inner layer circuit board was produced using the glass epoxy double-sided copper clad laminated board in which the 35-micrometer-thick copper foil was laminated | stacked on both surfaces. A laminated sheet having a PET sheet and an insulating sheet formed on the PET sheet is formed from the insulating sheet side on the inner circuit board by a vacuum laminator under conditions of a temperature of 100 ° C., 9.8 N / cm 2 and an atmospheric pressure of 5 mmHg or less Laminated on both sides. Next, the release PET sheet was peeled off. It heated at 200 degreeC for 60 minutes, the insulating sheet was hardened, and the insulating layer was formed. After that, holes for via holes were made with a laser. The surface of the insulating layer was roughened with an alkaline oxidizer of permanganate (Atotech Japan Co., Ltd.), then electrolessly and electroplated, and a four-layer printed wiring board was obtained according to the subtractive method. Further, annealing was performed by heating at 200 ° C. for 30 minutes. The annealed printed wiring board was floated in a 300 ° C. solder bath with the copper foil side facing down, the time until the copper foil swelled or peeled off was measured, and the following criteria were used.
[半田耐熱試験の判定基準]
◎:10分経過しても膨れ及び剥が発生しない
〇:3分経過後、かつ10分経過する前に膨れ又は剥離が発生
△:1分経過後、かつ3分経過する前に膨れ又は剥離が発生
×:1分経過する前に膨れ又は剥離が発生
[Criteria for solder heat resistance test]
◎: Swelling and peeling do not occur even after 10 minutes 〇: Swelling or peeling occurs after 3 minutes and before 10 minutes △: Swelling or peeling after 1 minute and before 3 minutes have passed Generation ×: Swelling or peeling occurs before 1 minute elapses
(7)接着強度(引き剥がし強さ)
厚み35μmの銅箔が両面に積層されたガラスエポキシ両面銅張積層板を用いて、内層回路基板を作製した。真空ラミネーターにより、温度100℃、9.8N/cm2及び気圧5mmHg以下の条件で、PETシートと該PETシート上に形成された絶縁シートとを有する積層シートを絶縁シート側から、内層回路基板の両面にラミネートした。次に、離型PETシートを剥離した。200℃で60分加熱し、絶縁シートを硬化させ、絶縁層を形成した。その後、過マンガン酸塩のアルカリ性酸化剤(アトテックジャパン社製薬液)で絶縁層の表面を粗化処理した後、無電解及び電解めっきにより幅10mmの導体層の帯を形成した。次に、200℃で30分加熱しアニール処理を行い、絶縁層と導体層との積層体を得た。得られた積層体の導体層のピール強度を、硬化物に対して90℃の角度及び50mm/分の引っ張り速度で、測定した。
(7) Adhesive strength (stripping strength)
An inner-layer circuit board was produced using a glass epoxy double-sided copper-clad laminate in which a 35 μm thick copper foil was laminated on both sides. A laminated sheet having a PET sheet and an insulating sheet formed on the PET sheet is formed from the insulating sheet side on the inner circuit board by a vacuum laminator under conditions of a temperature of 100 ° C., 9.8 N / cm 2 and an atmospheric pressure of 5 mmHg or less Laminated on both sides. Next, the release PET sheet was peeled off. It heated at 200 degreeC for 60 minutes, the insulating sheet was hardened, and the insulating layer was formed. Thereafter, the surface of the insulating layer was roughened with an alkaline oxidizer of permanganate (Atotech Japan Co., Ltd.), and then a conductor layer band having a width of 10 mm was formed by electroless and electrolytic plating. Next, annealing was performed by heating at 200 ° C. for 30 minutes to obtain a laminate of an insulating layer and a conductor layer. The peel strength of the conductor layer of the obtained laminate was measured with respect to the cured product at an angle of 90 ° C. and a pulling speed of 50 mm / min.
(8)加工性
絶縁シートを厚み1.5mmのアルミ板と厚み35μmの電解銅箔との間に挟み、真空プレス機で4MPaの圧力を保持しながら120℃で1時間、更に200℃で1時間、絶縁シートをプレス硬化し、銅張り積層板を形成した。得られた銅張り積層板を直径2.0mmのドリル(ユニオンツール社製、RA series)を用いて、回転数30000及びテーブル送り速度0.5m/分の条件でルーター加工した。ばりが発生するまでの加工距離を測定し、加工性を以下の基準で評価した。
(8) Workability An insulating sheet is sandwiched between an aluminum plate having a thickness of 1.5 mm and an electrolytic copper foil having a thickness of 35 μm, and maintained at a pressure of 4 MPa with a vacuum press machine at 120 ° C. for 1 hour, and further at 200 ° C. The insulating sheet was press cured for a time to form a copper-clad laminate. The obtained copper-clad laminate was router-processed using a drill with a diameter of 2.0 mm (Union Tool, RA series) under conditions of a rotation speed of 30000 and a table feed speed of 0.5 m / min. The processing distance until the flash was generated was measured, and the workability was evaluated according to the following criteria.
[加工性の判定基準]
○:ばりが発生することなく5m以上加工可能
△:ばりが発生することなく1m以上、5m未満加工可能
×:1m未満の加工によりばりが発生
[Criteria for workability]
○: Can be processed 5 m or more without burring △: Can be processed 1 m or more but less than 5 m without burring × Burr is generated by processing less than 1 m
(9)積層プレス時のはみ出し量
PETシートと、該PETシート上に形成された絶縁シートとを有する積層シートを13cm×5cmの平面形状に切り出した後、絶縁シートをPETシートから剥離した。また、13cm×5cmの平面形状のアルミニウム板(エンジニアリングテストサービス社製、JIS H4000 A5052P、最大高さ粗さRz=1.1)と、13cm×5cmの平面形状の銅箔(福田金属箔粉工業社製、電解銅箔、CT−T8)とを用意した。
(9) Extrusion amount at the time of laminating press After a laminated sheet having a PET sheet and an insulating sheet formed on the PET sheet was cut into a 13 cm × 5 cm planar shape, the insulating sheet was peeled from the PET sheet. Also, a 13 cm × 5 cm flat aluminum plate (Engineering Test Service, JIS H4000 A5052P, maximum height roughness Rz = 1.1) and a 13 cm × 5 cm flat copper foil (Fukuda Metal Foil Powder Industry) Made by the company, electrolytic copper foil, CT-T8).
アルミニウム板の粗面と銅箔の粗面との間に絶縁シートを挟んで積層体を得た後、温度120℃及び圧力4MPaで10分間加熱プレスした。プレス後に積層体の側面からはみ出た絶縁シートの重量を測定し、下記の式により絶縁シートのはみ出し量を求めた。はみ出し量を、下記の基準で判定した。 After a laminated body was obtained by sandwiching an insulating sheet between the rough surface of the aluminum plate and the rough surface of the copper foil, the laminate was heated and pressed at a temperature of 120 ° C. and a pressure of 4 MPa for 10 minutes. The weight of the insulating sheet which protruded from the side surface of the laminated body after pressing was measured, and the amount of protrusion of the insulating sheet was determined by the following formula. The amount of protrusion was determined according to the following criteria.
はみ出し量=(プレス後に積層体の側面からはみ出た絶縁シートの重量)/(プレス前の絶縁シートの重量)×100 Amount of protrusion = (weight of insulating sheet protruding from side surface of laminate after pressing) / (weight of insulating sheet before pressing) × 100
[積層プレス時のはみ出し量の判定基準]
○:絶縁シートのはみ出し量が7%未満
△:絶縁シートのはみ出し量が7%を超え、10%未満
×:絶縁シートのはみ出し量が10%以上
[Criteria for protruding amount during laminating press]
○: The amount of protrusion of the insulating sheet is less than 7% △: The amount of protrusion of the insulating sheet is more than 7% and less than 10% ×: The amount of protrusion of the insulating sheet is 10% or more
(10)自立性
上記(1)ハンドリング性の評価において、PETシートから剥離された後の未硬化状態の絶縁シートを用意した。この未硬化状態の絶縁シートの四角を固定して、該四角が水平方向と平行な方向に位置するように絶縁シートを宙吊りにし、23℃で10分間放置した。放置後の絶縁シートの変形を観察し、自立性を下記の基準で判定した。
(10) Self-supporting property In the evaluation of the above (1) handling properties, an uncured insulating sheet after being peeled from the PET sheet was prepared. The square of the uncured insulating sheet was fixed, and the insulating sheet was suspended in the air so that the square was positioned in a direction parallel to the horizontal direction, and left at 23 ° C. for 10 minutes. The deformation of the insulating sheet after being left was observed, and the self-supporting property was determined according to the following criteria.
[自立性の判定基準]
○:絶縁シートが下方に向かってたわんでおり、絶縁シートの鉛直方向におけるたわみ距離(変形度合い)が5cm以内
△:絶縁シートが下方に向かってたわんでおり、絶縁シートの鉛直方向におけるたわみ距離(変形度合い)が5cmを超える
×:絶縁シートが破れた
[Independence criteria]
○: The insulation sheet is bent downward, and the insulation sheet is bent in the vertical direction (degree of deformation) within 5 cm. Δ: The insulation sheet is bent downward, and the insulation sheet is bent in the vertical direction ( Deformation degree) exceeds 5 cm ×: The insulating sheet was torn
(11)放熱性
厚み1mmのアルミ板と厚み35μmの電解銅箔との間に絶縁シートを挟み、真空プレス機で4MPaの圧力を保持しながら120℃で1時間、更に200℃で1時間絶縁シートをプレス硬化し、銅張り積層板を形成した。得られた銅張り積層板の銅箔面を、同じサイズの60℃に制御された表面平滑な発熱体に196N/cm2の圧力で押し付けた。アルミ板の表面の温度を熱伝対により測定し、放熱性を下記の基準で判定した。
(11) Heat dissipation Insulation sheet is sandwiched between an aluminum plate with a thickness of 1 mm and an electrolytic copper foil with a thickness of 35 μm. The sheet was press cured to form a copper clad laminate. The copper foil surface of the obtained copper-clad laminate was pressed against a heating element with a smooth surface controlled to 60 ° C. of the same size at a pressure of 196 N / cm 2 . The temperature of the surface of the aluminum plate was measured with a thermocouple, and the heat dissipation was determined according to the following criteria.
[放熱性の判定基準]
◎:発熱体とアルミ板の表面の温度差が3℃以下
○:発熱体とアルミ板の表面の温度差が3℃を超え、6℃以下
△:発熱体とアルミ板の表面の温度差が6℃を超え、10℃以下
×:発熱体をアルミ板の表面の温度差が10℃を超える
[Criteria for heat dissipation]
A: Temperature difference between the heating element and the aluminum plate surface is 3 ° C or less. ○: Temperature difference between the heating element and the aluminum plate surface exceeds 3 ° C and less than 6 ° C. Δ: Temperature difference between the heating element and the aluminum plate surface. Exceeding 6 ° C. and 10 ° C. or less ×: Temperature difference between the surface of the aluminum plate and the heating element exceeds 10 ° C.
(12)曲げ弾性率
万能試験機RTC−1310A(オリエンテック社製)を用いて、JIS K7111に準拠し、長さ8cm、幅1cm及び厚み4mmの試験片を、支点間距離6cm及び速度1.5mm/分の各条件で測定することにより、未硬化状態の絶縁シートの25℃での曲げ弾性率を測定した。
(12) Flexural modulus Using a universal testing machine RTC-1310A (manufactured by Orientec Co., Ltd.), a test piece having a length of 8 cm, a width of 1 cm and a thickness of 4 mm in accordance with JIS K7111, a fulcrum distance of 6 cm and a speed of 1. By measuring under each condition of 5 mm / min, the flexural modulus at 25 ° C. of the uncured insulating sheet was measured.
また、絶縁シートを120℃で1時間、その後200℃で1時間硬化させ、絶縁硬化シートを得た。未硬化状態の絶縁シートと同様に万能試験機(オリエンテック社製)を用いて、JIS K 7111に準拠し、長さ8cm、幅1cm及び厚み4mmの試験片を、支点間距離6cm及び速度1.5mm/分の各条件で測定することにより、得られた絶縁硬化シートの25℃での曲げ弾性率を測定した。 The insulating sheet was cured at 120 ° C. for 1 hour and then at 200 ° C. for 1 hour to obtain an insulating cured sheet. Using a universal testing machine (made by Orientec Co., Ltd.) in the same manner as the uncured insulating sheet, a test piece having a length of 8 cm, a width of 1 cm and a thickness of 4 mm was obtained from a fulcrum distance of 6 cm and a speed of 1 according to JIS K 7111. The bending elastic modulus at 25 ° C. of the obtained insulating cured sheet was measured by measuring under each condition of 0.5 mm / min.
(13)弾性率
回転型動的粘弾性測定装置VAR−100(レオロジカ・インスツルメンツ社製)を用いて、直径2cmの円板状の未硬化状態の絶縁シートサンプルを使用し、直径2cmのパラレル型プレートにより、オシレーション歪み制御モード、開始応力10Pa、周波数1Hz及び歪み1%の各条件で、未硬化状態の絶縁シートの25℃でのtanδを測定した。また、未硬化状態の絶縁シートを25℃から250℃まで昇温させた場合の絶縁シートのtanδの最大値は、上記未硬化状態の絶縁シートサンプルを、上記測定条件に加え、昇温速度30℃/分で、25℃から250℃まで昇温させることにより測定した。
(13) Modulus of elasticity Using a rotary dynamic viscoelasticity measuring device VAR-100 (manufactured by Rheologicala Instruments Co., Ltd.), using a disk-shaped uncured insulating sheet sample with a diameter of 2 cm, a parallel type with a diameter of 2 cm Using the plate, the tan δ at 25 ° C. of the uncured insulating sheet was measured under the conditions of the oscillation strain control mode, the starting stress of 10 Pa, the frequency of 1 Hz, and the strain of 1%. In addition, the maximum value of tan δ of the insulating sheet when the uncured insulating sheet is heated from 25 ° C. to 250 ° C. is obtained by adding the uncured insulating sheet sample to the above measurement conditions and increasing the heating rate 30 It was measured by raising the temperature from 25 ° C. to 250 ° C. at a rate of ° C./min.
(14)反応率
セイコーインスツルメンツ社製の示差走査型熱量測定装置「DSC220C」を用いて、測定開始温度30℃及び昇温速度8℃/分で、得られた絶縁シートを120℃まで昇温し1時間保持した後、昇温速度8℃/分で200℃までさらに昇温し1時間保持した。この2段階で絶縁シートを硬化させた時に発生する熱量(以下、熱量Aと記載する)を測定した。
(14) Reaction rate Using a differential scanning calorimeter “DSC220C” manufactured by Seiko Instruments Inc., the obtained insulating sheet was heated to 120 ° C. at a measurement start temperature of 30 ° C. and a heating rate of 8 ° C./min. After holding for 1 hour, the temperature was further raised to 200 ° C. at a heating rate of 8 ° C./min and held for 1 hour. The amount of heat generated when the insulating sheet was cured in these two stages (hereinafter referred to as heat amount A) was measured.
次に、厚み50μmの離型PETシートに、実施例及び比較例の絶縁シートの作製に際し用意した絶縁材料を厚み50μmとなるように塗工し、23℃及び0.01気圧の常温真空条件において1時間乾燥したこと以外は実施例及び比較例と同様にして得られた非加熱で乾燥された未硬化状態の絶縁シートを用意した。上記の熱量Aの測定と同様にして、2段階で硬化させた時に発生する熱量(以下、熱量Bと記載する)を測定した。得られた熱量A及び熱量Bから、下記の式により、未硬化状態の絶縁シートの反応率を求めた。 Next, on the release PET sheet having a thickness of 50 μm, the insulating material prepared in the preparation of the insulating sheets of Examples and Comparative Examples was applied so as to have a thickness of 50 μm. An uncured insulating sheet dried without heating was prepared in the same manner as in the examples and comparative examples except that it was dried for 1 hour. Similarly to the measurement of the amount of heat A, the amount of heat generated when cured in two stages (hereinafter referred to as the amount of heat B) was measured. From the obtained heat quantity A and heat quantity B, the reaction rate of the uncured insulating sheet was determined by the following formula.
反応率(%)=[1−(熱量A/熱量B)]×100
結果を下記の表1〜5に示す。
Reaction rate (%) = [1- (heat amount A / heat amount B)] × 100
The results are shown in Tables 1 to 5 below.
1…積層板
2…基板
2a…上面
3…導体層
4…絶縁層
4a…上面
5…導体層
11…多層積層板
12…基板
12a…上面
13〜15…絶縁層
13a,14a…上面
16〜18…導体層
21…積層構造体
22…熱伝導体
22a…一方の面
22b…他方の面
23…絶縁層
24…導電層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ...
Claims (16)
重量平均分子量が1万以上であるポリマー(A)と、重量平均分子量が1万未満であるエポキシ樹脂(B1)及び重量平均分子量が1万未満であるオキセタン樹脂(B2)の内の少なくとも一方の樹脂(B)と、硬化剤(C)と、平均粒子径が0.1〜5μmの範囲内であるフィラー(D)とを含み、
絶縁シート100体積%中の前記フィラー(D)の含有量が20〜90体積%の範囲内である、絶縁シート。 The arithmetic average roughness Ra of the surface is 0.1 μm or more and 3 μm or less,
At least one of a polymer (A) having a weight average molecular weight of 10,000 or more, an epoxy resin (B1) having a weight average molecular weight of less than 10,000, and an oxetane resin (B2) having a weight average molecular weight of less than 10,000 A resin (B), a curing agent (C), and a filler (D) having an average particle diameter in the range of 0.1 to 5 μm,
The insulating sheet whose content of the said filler (D) in 100 volume% of insulating sheets exists in the range of 20-90 volume%.
前記絶縁層が、請求項1〜13のいずれか1項に記載の絶縁シートを硬化させた絶縁硬化シートにより形成されている、積層板。 An insulating layer, and a conductor layer laminated on at least one surface of the insulating layer,
The laminated board in which the said insulating layer is formed with the insulation hardening sheet which hardened the insulating sheet of any one of Claims 1-13.
前記絶縁層が、請求項1〜13のいずれか1項に記載の絶縁シートを硬化させた絶縁硬化シートにより形成されている、多層積層板。 A plurality of laminated insulating layers, and a conductor layer disposed between the plurality of insulating layers,
The multilayer laminated board in which the said insulating layer is formed with the insulation hardening sheet which hardened the insulating sheet of any one of Claims 1-13.
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