JP2010202801A - 熱硬化性シリコーン樹脂用組成物 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】(A)オルガノハイドロジェンポリシロキサン、(B)アルケニル基含有エポキシ化合物、(C)アルケニル基含有環状シロキサン、及び(D)ヒドロシリル化触媒を含有してなる、熱硬化性シリコーン樹脂用組成物。
【選択図】なし
Description
〔1〕 (A)オルガノハイドロジェンポリシロキサン、(B)アルケニル基含有エポキシ化合物、(C)アルケニル基含有環状シロキサン、及び(D)ヒドロシリル化触媒を含有してなる、熱硬化性シリコーン樹脂用組成物、
〔2〕 (A)オルガノハイドロジェンポリシロキサンと、(B)アルケニル基含有エポキシ化合物とを(D)ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させた後、得られた反応物と、さらに、(C)アルケニル基含有環状シロキサンとを(D)ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させることにより得られる、熱硬化性シリコーン樹脂組成物、
〔3〕 (A)オルガノハイドロジェンポリシロキサンと、(B)アルケニル基含有エポキシ化合物とを(D)ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させる工程〔工程(1)〕、及び、前記工程(1)で得られた反応物と(C)アルケニル基含有環状シロキサンとを(D)ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させる工程〔工程(2)〕を含む、熱硬化性シリコーン樹脂組成物の製造方法、
〔4〕 前記〔2〕記載の熱硬化性シリコーン樹脂組成物を含有してなる、光半導体素子封止材料、ならびに
〔5〕 前記〔2〕記載の熱硬化性シリコーン樹脂組成物又は前記〔4〕記載の光半導体素子封止材料を用いて光半導体素子を封止してなる光半導体装置
に関する。
本発明におけるオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、式(I):
で表わされる化合物が好ましい。
アルケニル基含有エポキシ化合物としては、分子内にアルケニル基とエポキシ基を有する化合物であれば特に限定されないが、反応性、及び取り扱い性の観点から、アルケニル基とエポキシ基のモル比(アルケニル基/エポキシ基)は、10/1〜0.1/1が好ましく、3/1〜0.3/1がより好ましく、実質的に当量(1/1)であることがさらに好ましい。
アルケニル基含有環状シロキサンとしては、分子内に2個以上のケイ素原子結合アルケニル基を有し、かつ、4員環から16員環の環状シロキサンが好ましい。なお、該アルケニル基が結合するケイ素原子は、同一であっても異なっていてもよい。
本発明におけるヒドロシリル化触媒としては、ヒドロシラン化合物とアルケンとのヒドロシリル化反応を触媒する化合物であれば特に限定はなく、白金黒、塩化白金、塩化白金酸、白金−1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン錯体等の白金−オレフィン錯体、白金−カルボニル錯体、白金−アセチルアセテート等の白金触媒;パラジウム触媒、ロジウム触媒等が例示される。なかでも、相溶性、光透過性及び触媒活性の観点から、白金−オレフィン錯体が好ましく、白金−1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン錯体がより好ましい。
ゲルろ過クロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算にて求める。
オルガノハイドロジェンポリシロキサン〔式(I)中のRが全てメチル基、m=40、n=4で表わされる化合物、平均分子量3400、SiH基当量1.2mmol/g〕20gと、アリル(グリシジル)エーテル0.92g〔8.1mmol、アルケニル基とエポキシ基のモル比(アルケニル基/エポキシ基)=1/1、オルガノハイドロジェンポリシロキサンのSiH基とアルケニル基含有エポキシ化合物のアルケニル基とのモル比(SiH基/アルケニル基)=10/3.4〕の混合物に、ヒドロシリル化触媒として白金−1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン錯体溶液(白金濃度2重量%)50mg(白金含有量はオルガノハイドロジェンポリシロキサン100重量部に対して0.5×10-2重量部)を加え、80℃で1時間攪拌した。得られた無色透明のオイルを1H−NMR測定したところ、アリル(グリシジル)エーテルの残存アルケニル基量に関するピークが認められず、反応が完結したことを確認した。
実施例1において、アリル(グリシジル)エーテルの量を0.92g(8.1mmol)から0.55g〔4.8mmol、オルガノハイドロジェンポリシロキサンのSiH基とアルケニル基含有エポキシ化合物のアルケニル基とのモル比(SiH基/アルケニル基)=10/2〕に、1,3,5,7-テトラビニル-1,3,5,7-テトラメチルシクロテトラシロキサンの量を1.4g(4.1mmol)から1.6g〔4.6mmol、オルガノハイドロジェンポリシロキサンのSiH基と、アルケニル基含有エポキシ化合物及びアルケニル基含有環状シロキサンの全アルケニル基とのモル比(SiH基/全アルケニル基)=10/9.7〕に変更した以外は、実施例1と同様にして、樹脂組成物の調製とLED装置の作製を行った。
実施例1において、オルガノハイドロジェンポリシロキサン〔式(I)中のRが全てメチル基、m=40、n=4で表わされる化合物、平均分子量3400、SiH基当量1.2mmol/g〕20gを用いる代わりに、オルガノハイドロジェンポリシロキサン〔式(I)中のRが全てメチル基、m=160、n=4で表わされる化合物、平均分子量12300、SiH基当量0.33mmol/g〕73gを用いる以外は実施例1と同様にして、樹脂組成物の調製とLED装置の作製を行った。なお、オルガノハイドロジェンポリシロキサンのSiH基とアルケニル基含有エポキシ化合物のアルケニル基とのモル比(SiH基/アルケニル基)は10/3.4、オルガノハイドロジェンポリシロキサンのSiH基と、アルケニル基含有エポキシ化合物及びアルケニル基含有環状シロキサンの全アルケニル基とのモル比(SiH基/全アルケニル基)は10/10であった。
実施例1において、アリル(グリシジル)エーテルを0.92g(8.1mmol)用いる代わりに、ビニルシクロヘキセンオキシド1.0g〔8.1mmol、アルケニル基とエポキシ基のモル比(アルケニル基/エポキシ基)=1/1、オルガノハイドロジェンポリシロキサンのSiH基とアルケニル基含有エポキシ化合物のアルケニル基とのモル比(SiH基/アルケニル基)=10/3.4〕を用いた以外は、実施例1と同様にして、樹脂組成物の調製とLED装置の作製を行った。
オルガノハイドロジェンポリシロキサン〔式(I)中のRが全てメチル基、m=40、n=4で表わされる化合物、平均分子量3400、SiH基当量1.2mmol/g〕20gと、以下の式(II)で表わされるメチルビニルポリシロキサン(平均分子量3200、ビニル基当量2.5mmol/g)9.6gの混合物に、ヒドロシリル化触媒として白金−1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン錯体溶液(白金濃度2重量%)50mg(白金含有量はオルガノハイドロジェンポリシロキサン100重量部に対して0.5×10-2重量部)を加えて攪拌した後、2軸延伸ポリエステルフィルム(三菱化学ポリエステル社製、50μm)上に400μmの厚さに塗工し、100℃で2時間、150℃で5時間加熱して、樹脂組成物(全硬化物)を調製した。
実施例1において、アリル(グリシジル)エーテル0.92g(8.1mmol)を用いない以外は、実施例1と同様にして、樹脂組成物の調製とLED装置の作製を行った。
各全硬化物の波長450nmにおける光透過率(%)を、分光光度計(U−4100、日立ハイテク社製)を用いて測定して、光透過性を評価した。
各LED装置から封止材をプッシュプルゲージを用いて剥離させ、その際の荷重を接着性とした。比較例1の接着性を1としたときの相対値を示す。
各LED装置に450mAの電流を流してLED素子を点灯させ、試験開始直後の輝度を瞬間マルチ測光システム(MCPD-3000、大塚電子社製)により測定した。その後、LED素子を点灯させた状態で放置し、300時間経過後の輝度を同様にして測定し、試験開始直後の輝度と比べて変化がなかったものを「○」、低下したものを「×」とした。
各全硬化物を、重量を測定後、200℃の温風型乾燥機内に静置し、72時間経過後の全硬化物の重量を測定し、加熱前の重量で割った値を百分率(%)したものを加熱減量(%)として算出する。加熱減量が5%以下であれば、良好な耐熱性を示すと判断する。また、各全硬化物を200℃の温風型乾燥機内に静置し、24時間経過後の全硬化物の外観(耐熱変色性)を目視で観察し、保存前の状態から変色のないものを「○」、変色したものを「×」とした。
各全硬化物の引っ張り弾性率を、オートグラフ(AGS−J、島津製作所社製)を用いて測定して、機械的強度を評価する。引っ張り弾性率が5MPa以上であれば、良好な機械的強度を示すと判断する。
Claims (8)
- (A)オルガノハイドロジェンポリシロキサン、(B)アルケニル基含有エポキシ化合物、(C)アルケニル基含有環状シロキサン、及び(D)ヒドロシリル化触媒を含有してなる、熱硬化性シリコーン樹脂用組成物。
- (B)アルケニル基含有エポキシ化合物における、アルケニル基とエポキシ基のモル比(アルケニル基/エポキシ基)が10/1〜0.1/1である、請求項1又は2記載の熱硬化性シリコーン樹脂用組成物。
- (C)アルケニル基含有環状シロキサンが、分子内に2個以上のアルケニル基を有する化合物である、請求項1〜3いずれか記載の熱硬化性シリコーン樹脂用組成物。
- (A)オルガノハイドロジェンポリシロキサンと、(B)アルケニル基含有エポキシ化合物とを(D)ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させた後、得られた反応物と、さらに、(C)アルケニル基含有環状シロキサンとを(D)ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させることにより得られる、熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
- (A)オルガノハイドロジェンポリシロキサンと、(B)アルケニル基含有エポキシ化合物とを(D)ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させる工程〔工程(1)〕、及び、前記工程(1)で得られた反応物と(C)アルケニル基含有環状シロキサンとを(D)ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させる工程〔工程(2)〕を含む、熱硬化性シリコーン樹脂組成物の製造方法。
- 請求項5記載の熱硬化性シリコーン樹脂組成物を含有してなる、光半導体素子封止材料。
- 請求項5記載の熱硬化性シリコーン樹脂組成物又は請求項7記載の光半導体素子封止材料を用いて光半導体素子を封止してなる光半導体装置。
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