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JP2010283138A - Solar cell lead wire, manufacturing method thereof, and solar cell using the same - Google Patents

Solar cell lead wire, manufacturing method thereof, and solar cell using the same Download PDF

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JP2010283138A
JP2010283138A JP2009135131A JP2009135131A JP2010283138A JP 2010283138 A JP2010283138 A JP 2010283138A JP 2009135131 A JP2009135131 A JP 2009135131A JP 2009135131 A JP2009135131 A JP 2009135131A JP 2010283138 A JP2010283138 A JP 2010283138A
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solar cell
lead wire
strip
conductive material
molten solder
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Application number
JP2009135131A
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Japanese (ja)
Inventor
Takumi Sato
佐藤  巧
Hajime Nishi
甫 西
Takeshi Takahashi
高橋  健
Hiromitsu Kuroda
洋光 黒田
Hiroshi Okikawa
寛 沖川
Masao Shirato
正夫 白土
Chu Bando
宙 坂東
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Hitachi Cable Ltd
Hitachi Cable Fine Tech Ltd
Original Assignee
Hitachi Cable Ltd
Hitachi Cable Fine Tech Ltd
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    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy

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Abstract

【課題】セル割れ抑制効果および接合信頼性が高く、変換効率の低下を抑えた太陽電池用リード線およびその製造方法並びにそれを用いた太陽電池を提供する。
【解決手段】帯板状導電材の表面に溶融はんだを供給して溶融はんだめっき層13a、13bを形成した太陽電池用リード線10(又は20)において、横断面形状で隅部分が面取りされた帯板状導電材12(又は21)を形成し、該帯板状導電材12(又は21)の上下面に溶融はんだを供給すると共にその上下の溶融はんだめっき層13a、13b(又は22a、22b)を平坦に形成したものである。
【選択図】図1
The present invention provides a lead wire for a solar cell, which has a high cell cracking suppressing effect and a high bonding reliability, and suppresses a decrease in conversion efficiency, a manufacturing method thereof, and a solar cell using the same.
In a solar cell lead wire (or 20) in which molten solder is supplied to the surface of a strip-like conductive material to form molten solder plating layers 13a and 13b, corner portions are chamfered in a cross-sectional shape. The strip-shaped conductive material 12 (or 21) is formed, molten solder is supplied to the upper and lower surfaces of the strip-shaped conductive material 12 (or 21), and the upper and lower molten solder plating layers 13a and 13b (or 22a and 22b) are provided. ) Is formed flat.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、太陽電池用リード線に係り、特に、太陽電池セルとの接合性(強度、短時間接合、信頼性)に優れた太陽電池用リード線及びその製造方法並びにそれを用いた太陽電池に関するものである。   The present invention relates to a solar cell lead wire, and in particular, a solar cell lead wire excellent in bondability (strength, short-time bonding, reliability) with a solar battery cell, a manufacturing method thereof, and a solar cell using the same. It is about.

太陽電池には、半導体基板として多結晶及び単結晶のSiセルが用いられる。   In solar cells, polycrystalline and single crystal Si cells are used as semiconductor substrates.

図8(a)、図8(b)に示されるように、太陽電池100は、半導体基板102の所定の領域、すなわち半導体基板102の表面に設けられた表面電極104と裏面に設けられた裏面電極105に、太陽電池用リード線103a、103bをはんだで接合して製造される。半導体基板102内で発電された電力を太陽電池用リード線103を通じて外部へ伝送する。   As shown in FIGS. 8A and 8B, the solar cell 100 includes a predetermined region of the semiconductor substrate 102, that is, a front surface electrode 104 provided on the surface of the semiconductor substrate 102 and a back surface provided on the back surface. The solar cell lead wires 103a and 103b are joined to the electrode 105 with solder. The electric power generated in the semiconductor substrate 102 is transmitted to the outside through the solar cell lead wire 103.

図9(a)、図9(b)に示されるように、従来の太陽電池用リード線103a(又は103b)は、横断面形状が長方形の帯板状導電材112とその帯板状導電材112の上下面に形成された溶融はんだめっき層113とを備える。帯板状導電材112は、例えば、円形断面の導体を圧延加工して帯板状にしたものであり、平角導体、平角線とも呼ばれる。   As shown in FIGS. 9A and 9B, a conventional solar cell lead wire 103a (or 103b) includes a strip-shaped conductive material 112 having a rectangular cross-sectional shape and the strip-shaped conductive material. 112 and a molten solder plating layer 113 formed on the upper and lower surfaces of 112. The strip-shaped conductive material 112 is, for example, a strip-shaped conductor formed by rolling a conductor having a circular cross section, and is also referred to as a flat conductor or a flat wire.

溶融はんだめっき層113は、帯板状導電材112の上下面に、溶融めっき法により溶融はんだを供給して形成したものである。   The molten solder plating layer 113 is formed by supplying molten solder to the upper and lower surfaces of the strip-like conductive material 112 by a hot dipping method.

溶融めっき法は、酸洗等により帯板状導電材112の上下面112a、112bを清浄化し、その帯板状導電材112を、溶融はんだ浴に通すことにより、帯板状導電材112の上下面112a、112bにはんだを積層していく方法である。溶融はんだめっき層113は、帯板状導電材112の上下面112a、112bに付着した溶融はんだが凝固する際に表面張力の作用によって、図9(b)に示されるように、幅方向側部から中央部にかけて膨らんだ形状、いわゆる山形に形成される。   In the hot dipping method, the upper and lower surfaces 112a and 112b of the strip plate-like conductive material 112 are cleaned by pickling or the like, and the strip plate-like conductive material 112 is passed through a molten solder bath, thereby In this method, solder is laminated on the lower surfaces 112a and 112b. As shown in FIG. 9B, the molten solder plating layer 113 is formed on the side portions in the width direction by the action of surface tension when the molten solder adhering to the upper and lower surfaces 112a and 112b of the strip plate-like conductive material 112 solidifies. It is formed in a so-called mountain shape that swells from the center to the center.

図9(a)、図9(b)に示した従来の太陽電池用リード線103a(又は103b)は、帯板状導電材112の上下面112a、112bに山形に膨らんだ溶融はんだめっき層113が形成される。この太陽電池用リード線103は溶融はんだめっき層113が山形に膨らんでいるため、ボビンに巻き取る際に安定した積層状態が得られ難く、巻き崩れが起こりやすい。また、巻き崩れによりリード線が絡まり、引き出されなくなることがある。   The conventional solar cell lead wire 103a (or 103b) shown in FIGS. 9A and 9B has a molten solder plating layer 113 swelled in a mountain shape on the upper and lower surfaces 112a and 112b of the strip-like conductive material 112. FIG. Is formed. In this solar cell lead wire 103, since the molten solder plating layer 113 swells in a chevron shape, it is difficult to obtain a stable laminated state when it is wound around a bobbin, and it is likely to collapse. In addition, the lead wire may become entangled due to collapse, and may not be pulled out.

この太陽電池用リード線103を所定の長さに切断し、エアで吸着して半導体基板102の表面電極104の上に移動し、半導体基板102の表面電極104にはんだ接合する。表面電極104には、表面電極104と導通する電極帯(図示せず)が、あらかじめ形成されている。この表面電極104に太陽電池用リード線103aの溶融はんだめっき層113を接触させ、その状態ではんだ付けし接合を行う。太陽電池用リード線103bを半導体基板102の裏面電極105に接合する場合も同様である。   The solar cell lead wire 103 is cut into a predetermined length, adsorbed by air, moved onto the surface electrode 104 of the semiconductor substrate 102, and soldered to the surface electrode 104 of the semiconductor substrate 102. An electrode strip (not shown) that is electrically connected to the surface electrode 104 is formed on the surface electrode 104 in advance. The surface electrode 104 is brought into contact with the molten solder plating layer 113 of the solar cell lead wire 103a, and soldered and joined in this state. The same applies to the case where the solar cell lead wire 103 b is joined to the back electrode 105 of the semiconductor substrate 102.

このとき、図9(a)、図9(b)の太陽電池用リード線103は、溶融はんだめっき層113が膨らみ偏肉化しているため、エア吸着治具との接触面積が小さく吸着力が不十分で、移動の際に落下する問題がある。また、表面電極104と溶融はんだめっき層113との接触面積が小さくなる。表面電極104と溶融はんだめっき層113との接触面積が小さいと、半導体基板102から溶融はんだめっき層113への熱伝導が不十分になり、はんだ付け不良が生じる。一般にはんだ付けではリード線端部(エッジ部)に形成されるはんだフィレットが接合信頼性に影響を及ぼすが、リード線の幅方向に山形を形成している従来技術によるリード線でははんだフィレット形成が不十分と成り得る。逆にフィレットを十分に形成させようとするとより接合時間を要することになる。さらにフィレット形成分だけ、接合面積は増加することになるため、半導体基板102の太陽光受光面積の減少に繋がり、発電効率が低下する懸念がある。   At this time, the solar cell lead wire 103 in FIGS. 9A and 9B has a small contact area with the air adsorption jig and a small adsorption force because the molten solder plating layer 113 swells and becomes uneven. Insufficient, there is a problem of falling when moving. Further, the contact area between the surface electrode 104 and the molten solder plating layer 113 is reduced. When the contact area between the surface electrode 104 and the molten solder plating layer 113 is small, heat conduction from the semiconductor substrate 102 to the molten solder plating layer 113 becomes insufficient, resulting in poor soldering. Generally, in soldering, the solder fillet formed at the end of the lead wire (edge portion) affects the bonding reliability. However, in the lead wire according to the prior art in which the chevron is formed in the width direction of the lead wire, the solder fillet is formed. Can be inadequate. Conversely, if sufficient fillets are to be formed, more bonding time is required. Furthermore, since the bonding area is increased by the amount of fillet formation, there is a concern that the solar light receiving area of the semiconductor substrate 102 is reduced and the power generation efficiency is reduced.

また、表面電極104と溶融はんだめっき層113との接触面積が小さいことは、半導体基板102の表裏両面に太陽電池用リード線103a、103bを接合する場合に、表面電極104にはんだ付けする太陽電池用リード線103aと裏面電極105にはんだ付けする太陽電池用リード線103bとの間に位置ズレを生じさせ、その位置ズレが原因でセル割れ(半導体基板102が割れること)が発生する。半導体基板102は高価であるので、セル割れは好ましくない。   Further, the contact area between the surface electrode 104 and the molten solder plating layer 113 is small because the solar cell soldered to the surface electrode 104 when the solar cell lead wires 103a and 103b are bonded to the front and back surfaces of the semiconductor substrate 102. A positional misalignment is generated between the lead wire 103a for solar cell and the lead wire 103b for solar cell soldered to the back electrode 105, and the cell misalignment (semiconductor substrate 102 is cracked) due to the misalignment. Since the semiconductor substrate 102 is expensive, cell cracking is not preferable.

表面電極104と太陽電池用リード線103とのはんだ付け性を向上させるために、帯板状導電材112に凹部を形成し、これを溶融めっきすることで凹部にはんだを充填させ、リード線幅方向にめっきの山形が形成されるのを防止し、太陽電池組み立て時の配線歩留を向上させる方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。また帯板状導電材112の太陽電池接合面を粗くし、高い接着力を得ようとした方法が提案されている(例えば、特許文献2参照)。   In order to improve the solderability between the surface electrode 104 and the solar cell lead wire 103, a concave portion is formed in the strip-like conductive material 112, and this is hot-plated to fill the concave portion with solder so that the lead wire width There has been proposed a method for preventing the formation of plating chevron in the direction and improving the wiring yield at the time of assembling a solar cell (see, for example, Patent Document 1). Further, a method has been proposed in which the solar cell bonding surface of the strip-shaped conductive material 112 is roughened to obtain a high adhesive force (see, for example, Patent Document 2).

図10に示されるように、特許文献1の太陽電池用リード線30は、帯板状導電材31に、ロールなどにより凹部を形成した後、溶融めっきを実施することにより成る。このような太陽電池用リード線30を半導体基板102の表面電極104又は裏面電極105に対して溶融はんだめっき層32をはんだ付けすると、リード線の位置ズレもなく高歩留での配線が可能となる。また、図11に示されるように特許文献2の太陽電池用リード線50では、帯板状導電材51の太陽電池接合面は研磨もしくはエッチングにより粗面が形成される。これにより実質的な接合面積は広くなるため、太陽電池用リード線50が半導体基板102に強固に接合されることになり、耐久性に優れる。   As shown in FIG. 10, the solar cell lead wire 30 of Patent Document 1 is obtained by forming a concave portion in a strip-shaped conductive material 31 with a roll or the like and then performing hot dipping. When such a solar cell lead wire 30 is soldered to the front surface electrode 104 or the back surface electrode 105 of the semiconductor substrate 102 with the molten solder plating layer 32, the lead wire can be wired with a high yield without positional deviation. Become. Moreover, as shown in FIG. 11, in the solar cell lead wire 50 of Patent Document 2, the solar cell joint surface of the strip-shaped conductive material 51 is roughened by polishing or etching. As a result, the substantial bonding area is increased, so that the solar cell lead wire 50 is firmly bonded to the semiconductor substrate 102, and the durability is excellent.

国際公開WO2004/105141号パンフレットInternational Publication WO2004 / 105141 Pamphlet 国際公開WO2006/128203号パンフレットInternational Publication WO2006 / 128203 Pamphlet

前述のように、特許文献1の太陽電池用リード線30によれば、導電材断面に凹加工がされているため、幅方向側部から中央部にかけての溶融はんだめっき層32も平坦なため、電極に対する位置ズレも生じにくく、位置ズレによるセル割れは起こりにくい。しかし、導電材幅方向の中央部にはんだがより多く留まるため、導電材端部のはんだフィレット形成は小さく、接合信頼性上はリード線剥がれによる、モジュール出力が低下する問題が完全に解決されたわけではない。また、特許文献2の太陽電池用リード線50によれば帯板状導電材51に粗面加工がされているため、帯板状導電材51と、帯板状導電材51−太陽電池表面電極104、105間に存在するはんだなどのろう材との接合性の向上は期待できるが、フィレット形成に伴う太陽光受光面積の減少の問題は解決されていない。   As described above, according to the solar cell lead wire 30 of Patent Document 1, since the conductive material cross-section is recessed, the molten solder plating layer 32 from the side in the width direction to the center is also flat. Misalignment with respect to the electrodes hardly occurs, and cell cracks due to misalignment hardly occur. However, since more solder stays in the center in the width direction of the conductive material, solder fillet formation at the end of the conductive material is small, and the problem that the module output decreases due to peeling of the lead wire is completely solved in terms of bonding reliability. is not. In addition, according to the solar cell lead wire 50 of Patent Document 2, since the strip plate-like conductive material 51 is roughened, the strip plate-like conductive material 51 and the strip plate-like conductive material 51-solar cell surface electrode. Although the improvement of the joining property with the brazing material such as solder existing between 104 and 105 can be expected, the problem of the reduction of the sunlight receiving area due to the fillet formation has not been solved.

太陽電池のコストの大半を半導体基板102が占めるため、半導体基板102の薄型化が検討されているが、薄型化された半導体基板102は電極への太陽電池用リード線の接合時に反りやすく、割れやすい。例えば、半導体基板102の厚みが200μm以下になると反りによるセル割れや平角線の剥離が生じる割合が大きくなる。太陽電池用リード線が原因で半導体基板102にセル割れや平角線の剥離によるモジュール出力の低下が発生するようでは、半導体基板102の薄型化は望めない。   Since the semiconductor substrate 102 occupies most of the cost of the solar cell, the semiconductor substrate 102 has been considered to be thin. However, the thinned semiconductor substrate 102 is easily warped and cracked when the solar cell lead wire is bonded to the electrode. Cheap. For example, when the thickness of the semiconductor substrate 102 is 200 μm or less, the rate at which cell cracking due to warping or flat wire peeling occurs increases. If the module output is reduced due to cell cracking or peeling of the flat wire due to the solar cell lead wire, the semiconductor substrate 102 cannot be thinned.

そこで、本発明の目的は、上記課題を解決し、セル割れ抑制効果及び接合信頼性が高くかつセルの太陽光受光面積の減少を最小限に抑え、短時間で配線可能な太陽電池用リード線及びその製造方法並びにそれを用いた太陽電池を提供することにある。   SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, and to provide a solar cell lead wire that has a high effect of suppressing cell cracking and has high bonding reliability, minimizes a decrease in the solar light receiving area of the cell, and can be wired in a short time. And a manufacturing method thereof and a solar cell using the same.

本発明は上記目的を達成するために創案されたものであり、請求項1の発明は、帯板状導電材の表面に溶融はんだを供給して溶融はんだめっき層を形成した太陽電池用リード線において、横断面形状で隅部分が面取りされた帯板状導電材を形成し、該帯板状導電材の上下面に溶融はんだを供給すると共にその上下の溶融はんだめっき層を平坦に形成した太陽電池用リード線である。   The present invention has been devised to achieve the above object, and the invention of claim 1 is a solar cell lead wire in which a molten solder plating layer is formed by supplying molten solder to the surface of a strip-like conductive material. In which a strip-shaped conductive material having a cross-sectional shape with chamfered corners is formed, molten solder is supplied to the upper and lower surfaces of the strip-shaped conductive material, and the upper and lower molten solder plating layers are formed flat. This is a battery lead wire.

請求項2の発明は、めっき温度を使用はんだの液相線温度+120℃以下にし、前記溶融はんだめっき層表面の酸化膜の厚さを7nm以下にした請求項1に記載の太陽電池用リード線である。   The invention according to claim 2 is the lead wire for solar cell according to claim 1, wherein the plating temperature is set to the liquidus temperature of the used solder + 120 ° C. or less, and the thickness of the oxide film on the surface of the molten solder plating layer is set to 7 nm or less. It is.

請求項3の発明は、前記帯板状導電材は、体積抵抗率が50μΩ・mm以下の平角線である請求項1又は2に記載の太陽電池用リード線である。   A third aspect of the present invention is the solar cell lead according to the first or second aspect, wherein the strip-shaped conductive material is a rectangular wire having a volume resistivity of 50 μΩ · mm or less.

請求項4の発明は、引張試験における0.2%耐力値が90MPa以下である請求項1〜3のいずれかに記載の太陽電池用リード線である。   Invention of Claim 4 is a lead wire for solar cells in any one of Claims 1-3 whose 0.2% yield strength value in a tensile test is 90 Mpa or less.

請求項5の発明は、前記帯板状導電材は、Cu、Al、Ag、Auのいずれかからなる請求項1〜4のいずれかに記載の太陽電池用リード線である。   A fifth aspect of the present invention is the solar cell lead according to any one of the first to fourth aspects, wherein the strip-like conductive material is made of any one of Cu, Al, Ag, and Au.

請求項6の発明は、前記帯板状導電材は、タフピッチCu、低酸素Cu、無酸素Cu、リン脱酸Cu、純度99.9999%以上の高純度Cuのいずれかからなる請求項1〜4のいずれかに記載の太陽電池用リード線である。   According to a sixth aspect of the present invention, the strip-shaped conductive material comprises any one of tough pitch Cu, low oxygen Cu, oxygen free Cu, phosphorus deoxidized Cu, and high purity Cu having a purity of 99.9999% or more. 4. The solar cell lead wire according to claim 4.

請求項7の発明は、前記溶融はんだめっき層は、Sn系はんだ、又は、第1成分としてSnを用い、第2成分としてPb、In、Bi、Sb、Ag、Zn、Ni、Cuから選択される少なくとも1つの元素を0.1mass%以上含むSn系はんだ合金からなる請求項1〜6のいずれかに記載の太陽電池用リード線である。   In the invention of claim 7, the molten solder plating layer is selected from Sn solder, Sn as the first component, and Pb, In, Bi, Sb, Ag, Zn, Ni, Cu as the second component. It is a lead wire for solar cells in any one of Claims 1-6 which consists of Sn type solder alloy which contains 0.1 mass% or more of at least 1 element.

請求項8の発明は、素線を圧延もしくはダイス引き加工することにより横断面の隅が面取りされた形状の帯板状導電材を形成し、該帯板状導電材を連続通電加熱炉又は連続式加熱炉又はバッチ式加熱設備で熱処理し、その後、溶融はんだを供給して前記帯板状導電材に、はんだめっきすると共に、そのめっきした帯板状導電材をはんだ溶融状態において、平ロールで挟むことにより、溶融はんだめっき層に平坦部を形成する太陽電池用リード線の製造方法である。   The invention of claim 8 is to form a strip-shaped conductive material having a chamfered corner in the cross section by rolling or dicing the strand, and the strip-shaped conductive material is continuously energized or heated continuously. Heat treatment in a batch-type heating furnace or batch-type heating equipment, and then supply molten solder and solder-plating the strip-shaped conductive material, and the plated strip-shaped conductive material is in a molten state with a flat roll. It is the manufacturing method of the lead wire for solar cells which forms a flat part in a molten solder plating layer by pinching.

請求項9の発明は、請求項1〜7のいずれかに記載の太陽電池用リード線を、その溶融はんだめっき層のはんだによって半導体基板の表面電極及び裏面電極にはんだ付けした太陽電池である。   The invention of claim 9 is a solar cell in which the lead wire for solar cell according to any one of claims 1 to 7 is soldered to the front electrode and the back electrode of the semiconductor substrate by the solder of the molten solder plating layer.

本発明によれば、セル割れ抑制効果および接合信頼性が高くかつセルの太陽光受光面積の減少を最小限に抑え、短時間で配線可能な太陽電池用リード線を得ることができるという優れた効果を発揮するものである。   According to the present invention, it is possible to obtain a solar cell lead wire that has a high effect of suppressing cell cracking and high bonding reliability, minimizes a decrease in the solar light receiving area of the cell, and can be wired in a short time. It is effective.

本発明の一実施形態を示す太陽電池用リード線の図であり、(a)は上面図、(b)はA−A線断面図である。It is a figure of the lead wire for solar cells which shows one Embodiment of this invention, (a) is a top view, (b) is an AA sectional view. 本発明において、帯板状導電材の製造に用いる圧延ロールの概略図である。In this invention, it is the schematic of the rolling roll used for manufacture of a strip-shaped electroconductive material. 図1の太陽電池用リード線の材料となる帯板状導電材の図であり、(a)は上面図、(b)はB−B線断面図である。It is a figure of the strip | belt-plate-shaped electrically conductive material used as the material of the lead wire for solar cells of FIG. 1, (a) is a top view, (b) is a BB sectional drawing. 本発明において、溶融はんだめっき層を形成する溶融めっき設備の概略図である。In this invention, it is the schematic of the hot dipping equipment which forms a hot-dip solder plating layer. 本発明の他の実施形態を示す太陽電池用リード線の図であり、(a)は上面図、(b)はC−C線断面図である。It is a figure of the lead wire for solar cells which shows other embodiment of this invention, (a) is a top view, (b) is CC sectional view taken on the line. 図5の太陽電池用リード線の材料となる帯板状導電材の図であり、(a)は上面図、(b)はD−D線断面図である。It is a figure of the strip | belt-plate-shaped electrically conductive material used as the material of the lead wire for solar cells of FIG. 5, (a) is a top view, (b) is DD sectional view taken on the line. 本発明の太陽電池を示し、(a)は太陽電池の上面図、(b)は横断面図である。The solar cell of this invention is shown, (a) is a top view of a solar cell, (b) is a cross-sectional view. 従来の太陽電池を示し、(a)は太陽電池の上面図、(b)は横断面図である。A conventional solar cell is shown, (a) is a top view of the solar cell, and (b) is a cross-sectional view. 従来の太陽電池用リード線を示す図であり、(a)は上面図、(b)はE−E線断面図である。It is a figure which shows the conventional lead wire for solar cells, (a) is a top view, (b) is EE sectional view taken on the line. 従来の太陽電池用リード線の横断面図である。It is a cross-sectional view of a conventional solar cell lead wire. 従来の太陽電池用リード線の横断面図である。It is a cross-sectional view of a conventional solar cell lead wire.

以下、本発明の好適な一実施の形態を添付図面に基づいて詳述する。   A preferred embodiment of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.

図1(a)、図1(b)に示されるように、本発明に係る太陽電池用リード線10は、あらかじめ、素線を圧延もしくはダイス引き加工して、横断面形状で四隅部分が面取りされた帯板状導電材12を形成し、その帯板状導電材12の上下面に溶融はんだを供給し、はんだ浴出口でめっきした帯板状導電材12をはんだが溶融した状態で、平ロールではさみ、めっき厚を調整しつつ、上下の溶融はんだめっき層13a、13bに平面部を形成したものである。   As shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b), a solar cell lead wire 10 according to the present invention is obtained by rolling or dicing a strand in advance to form a cross-sectional shape with four corners chamfered. The strip-shaped conductive material 12 is formed, molten solder is supplied to the upper and lower surfaces of the strip-shaped conductive material 12, and the strip-shaped conductive material 12 plated at the solder bath outlet is melted in a flat state. A flat part is formed on the upper and lower molten solder plating layers 13a and 13b while adjusting the plating thickness with a roll.

帯板状導電材12は、素線(断面円形状の線材)を例えば圧延加工することにより形成されるが、この時、導体横断面の四隅部が面取りされた形状を得るために、圧延ロールには例えば図2の形状の圧延ロール14が使用される。その後、形成(圧延)された導体を連続通電加熱炉又は連続式加熱炉又はバッチ式加熱設備で熱処理して形成される。   The strip-shaped conductive material 12 is formed, for example, by rolling an element wire (wire having a circular cross section). At this time, in order to obtain a shape in which the four corners of the conductor cross section are chamfered, a rolling roll For example, a rolling roll 14 having the shape shown in FIG. 2 is used. Thereafter, the formed (rolled) conductor is formed by heat treatment in a continuous energizing heating furnace, a continuous heating furnace, or a batch-type heating facility.

図3(a)、図3(b)は、帯板状導電材12を示したもので、上面12aと下面12bとが平坦面にされ、側面12c、12dは斜面を形成し、横断面では丁度四隅部分が面取りされた形状となる。端面12eが適時の長さにカットされて形成される。   3 (a) and 3 (b) show the strip-like conductive material 12, the upper surface 12a and the lower surface 12b are flat, the side surfaces 12c and 12d form slopes, The shape is just chamfered at the four corners. The end surface 12e is formed by being cut to a suitable length.

図4は、溶融はんだめっき層13a、13bに平坦部を形成するための溶融めっき設備を示し、はんだ浴15内に帯板状導電材12を反転させて上方に向く反転ローラ16が設けられ、そのローラ16の上方に位置したはんだ浴15の上方に、上下一対のロール17a、17b、18a、18bを設け、その上方に引き上げローラ19を設けて構成される。全てのローラは平坦な表面形状を有している。   FIG. 4 shows a hot dipping apparatus for forming flat portions in the hot solder plating layers 13a and 13b, and a reversing roller 16 is provided in the solder bath 15 so as to reverse the strip plate-like conductive material 12 and to face upward. A pair of upper and lower rolls 17a, 17b, 18a, 18b is provided above the solder bath 15 located above the roller 16, and a pulling roller 19 is provided above the pair. All the rollers have a flat surface shape.

横断面四隅部分が面取り形状とされた帯板状導電材12は、はんだ浴15に浸漬されることで上下面12a、12bにはんだが供給され、反転ローラ16で反転されて上方に向い、下部ロール17a、17bで、めっき層が挟まれて平坦部が形成される。上部ロール18a、18bで心材(Cu)の位置を調整することによって、図1(a)、図1(b)に示すように溶融はんだめっき層13a、13bに平坦部を形成し、且つ帯板状導電材の横断面四隅部分には平坦部よりはんだめっき量の多い太陽電池用リード線10が製造される。   The strip-shaped conductive material 12 having the chamfered shape at the four corners of the cross section is immersed in the solder bath 15 so that the solder is supplied to the upper and lower surfaces 12a and 12b, reversed by the reversing roller 16 and directed upward. The plating layer is sandwiched between the rolls 17a and 17b to form a flat portion. By adjusting the position of the core material (Cu) with the upper rolls 18a and 18b, flat portions are formed in the molten solder plating layers 13a and 13b as shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b), and the belt plate The solar cell lead wire 10 having a larger amount of solder plating than the flat portion is manufactured at the four corners of the cross section of the conductive material.

帯板状導電材12に平坦部を有する溶融はんだめっき層13a、13bを形成する為の上下のロール17a、17b、18a、18bは、めっき浴15の出口で帯板状導電材12の上下面を挟むように配置され、その上下のロール17a、17b、18a、18bの間隔を微調整することで、溶融はんだめっき層13a、13bのめっき厚およびその溶融はんだめっき層13a、13bの横断面形状を調整することができる。   The upper and lower rolls 17a, 17b, 18a, 18b for forming the molten solder plating layers 13a, 13b having flat portions on the strip-like conductive material 12 are the upper and lower surfaces of the strip-like conductive material 12 at the outlet of the plating bath 15. Are arranged so as to sandwich the upper and lower rolls 17a, 17b, 18a, 18b, and finely adjust the distance between the molten solder plating layers 13a, 13b and the cross-sectional shape of the molten solder plating layers 13a, 13b. Can be adjusted.

図5は、本発明に係る太陽電池用リード線の他の形状を示したものである。   FIG. 5 shows another shape of the solar cell lead wire according to the present invention.

図5の太陽電池用リード線20は、素線の圧延加工の際、図6に示すように、横断面四隅部分にR形状がつくようなロールを用いて加工して帯板状導電材21を形成したのち、溶融はんだめっきを行って溶融めっきはんだ層22a、22bを形成したものである。   As shown in FIG. 6, the solar cell lead wire 20 in FIG. 5 is processed by using a roll having R shapes at the four corners of the cross section, as shown in FIG. Then, hot-dip solder plating is performed to form hot-dip solder layers 22a and 22b.

これらの形状は、素線の圧延加工の際、圧延ロールの形状を変えることと溶融はんだめっきの量と上下のロール17a、17b、18a、18bの間隔とその位置を調整することで形成できる。   These shapes can be formed by changing the shape of the rolling roll, adjusting the amount of molten solder plating, the distance between the upper and lower rolls 17a, 17b, 18a, and 18b, and the position thereof when the wire is rolled.

すなわち、図4の溶融めっき設備で、帯板状導電材12(又は21)の上下面に溶融はんだめっき層13a、13b(又は22a、22b)が形成される際、帯板状導電材12(又は21)の上下に走行する経路は、反転ローラ16と引き上げローラ19とで決定され、その経路に対して上下の各ロール17a、17b、18a、18bの位置と間隔を微調整することで、上部溶融はんだめっき層13a(又は22a)の層厚と下部溶融はんだめっき層13b(又は22b)の層厚が調整できると共に全体の層厚が調整でき、また平坦部の層厚および横断面四隅部分の層厚は、下部のロール17a、17bの間隔で決定され、上部のロール18a、18bの間隔で心材である帯板状導電材12(又は21)の位置が決定される。   That is, when the molten solder plating layers 13a and 13b (or 22a and 22b) are formed on the upper and lower surfaces of the strip-shaped conductive material 12 (or 21) in the hot-dip plating facility of FIG. 4, the strip-shaped conductive material 12 ( Or 21) is determined by the reversing roller 16 and the pulling roller 19, and the position and interval of the upper and lower rolls 17a, 17b, 18a, 18b are finely adjusted with respect to the path. The layer thickness of the upper molten solder plating layer 13a (or 22a) and the layer thickness of the lower molten solder plating layer 13b (or 22b) can be adjusted and the entire layer thickness can be adjusted. The layer thickness is determined by the interval between the lower rolls 17a and 17b, and the position of the strip-like conductive material 12 (or 21) as the core material is determined by the interval between the upper rolls 18a and 18b.

はんだめっき炉に対するロールの高さは、はんだめっきが完全に凝固しない位置に固定しているので溶融状態ではんだめっきに平坦部を形成するため、心材である帯板状導電材12(又は21)は加工硬化せず、その0.2%耐力を低く維持できる。   The height of the roll with respect to the solder plating furnace is fixed at a position where the solder plating is not completely solidified, so that a flat portion is formed in the solder plating in the molten state. Is not work hardened and its 0.2% proof stress can be kept low.

このように本発明に係る太陽電池用リード線10、20は、半導体基板の表面電極及び裏面電極への設置が容易となるよう、及び充分な接合性が確保されるように導体横断面四隅部分を面取り形状とし、当該部分の溶融はんだめっき量を積極的に確保したものである。さらに、はんだ溶融状態でめっき層13a、13b、22a、22bに平坦部を形成するため心材が加工硬化せず、低い0.2%耐力を維持でき、セルへの接続時にセル反りが生じにくい。セル反りが生じにくいため、セルが反った際のリード線の剥離が生じにくい。また、導体横断面四隅部分に溶融はんだが十分に存在するため、迅速なフィレット形成が可能となり、表面電極及び裏面電極に対して強固でかつ接合後の導体幅方向のはんだ広がりを抑えた接合(導体面取り部にフィレットを形成)を可能にする。   As described above, the solar cell lead wires 10 and 20 according to the present invention are provided at the four corners of the conductor cross section so that the semiconductor substrate can be easily installed on the front and back electrodes of the semiconductor substrate and sufficient bonding properties are ensured. Is a chamfered shape, and the amount of molten solder plating in the portion is positively secured. Furthermore, since the flat portions are formed in the plating layers 13a, 13b, 22a, and 22b in the molten state of the solder, the core material is not work-hardened, can maintain a low 0.2% proof stress, and is less likely to warp the cell when connected to the cell. Since cell warpage is unlikely to occur, lead wires are less likely to peel when the cell is warped. In addition, since there is sufficient molten solder at the four corners of the conductor cross section, rapid fillet formation is possible, and bonding with a strong and suppressed solder spread in the conductor width direction after bonding to the front and back electrodes ( Forming a fillet on the conductor chamfered portion).

また、溶融はんだめっき層13a、13b、22a、22bが平坦なためエア吸着治具との密着性が高く移動時の落下が起こりにくい。さらに、溶融はんだめっき層13a、13b、22a、22bが平坦なことでボビンに巻き取る際に安定した積層状態が得られ易く、巻き崩れが起こりにくい。よって、巻き崩れにより太陽電池用リード線が絡まって引き出されなくなる問題も解消される。   In addition, since the molten solder plating layers 13a, 13b, 22a, and 22b are flat, the adhesiveness with the air suction jig is high, and falling during movement is unlikely to occur. Furthermore, since the molten solder plating layers 13a, 13b, 22a, and 22b are flat, a stable laminated state is easily obtained when winding on the bobbin, and the collapse is not likely to occur. Therefore, the problem that the solar cell lead wires are tangled and cannot be pulled out due to the collapse of winding is also solved.

帯板状導電材12、21には、例えば、体積抵抗率が50μΩ・mm以下の素線(断面円形状の線材)を用いる。この素線を圧延もしくはダイス引き加工することによって図3(b)、図6(b)のような横断面形状の帯板状導電材12、21を得ることができる。   For the strip-like conductive materials 12 and 21, for example, an element wire (wire material having a circular cross section) having a volume resistivity of 50 μΩ · mm or less is used. By rolling or dicing this strand, the strip-like conductive materials 12 and 21 having a cross-sectional shape as shown in FIGS. 3B and 6B can be obtained.

帯板状導電材12、21は、Cu、Al、Ag、Auのいずれか、あるいは、タフピッチCu、低酸素Cu、無酸素Cu、リン脱酸Cu、純度99.9999%以上の高純度Cuのいずれかからなる。   The strip-like conductive materials 12 and 21 are made of Cu, Al, Ag, or Au, or tough pitch Cu, low oxygen Cu, oxygen free Cu, phosphorus deoxidized Cu, high purity Cu having a purity of 99.9999% or more. Consists of either.

溶融はんだめっき層13a、13b、22a、22bとしては、Sn系はんだ(Sn系はんだ合金)を用いる。Sn系はんだは、成分重量が最も重い第1成分としてSnを用い、第2成分としてPb、In、Bi、Sb、Ag、Zn、Ni、Cuから選択される少なくとも1つの元素を0.1mass%以上含むものである。   As the molten solder plating layers 13a, 13b, 22a, and 22b, Sn-based solder (Sn-based solder alloy) is used. Sn-based solder uses Sn as the first component having the heaviest component weight, and 0.1 mass% of at least one element selected from Pb, In, Bi, Sb, Ag, Zn, Ni, and Cu as the second component. Including the above.

次に、本発明の作用を説明する。   Next, the operation of the present invention will be described.

図1(a)、図1(b)に示した太陽電池用リード線10を、図7に示す半導体基板42の表面電極44及び裏面電極45に接合するに際し、太陽電池用リード線10や半導体基板42の加熱温度は、溶融はんだめっき層13a、13bのはんだの融点付近に制御される。その理由は、太陽電池用リード線10の帯板状導電材12(例えば、Cu)の熱膨張率と半導体基板(Si)の熱膨張率が大きく相違するためである。熱膨張率の相違によって半導体基板42に反り及びクラックを発生させる原因となる熱応力が生じる。この熱応力を小さくするには、リード線の0.2%耐力を小さくすればよい。これにより、接合の際に加熱されたリード線が冷却する際に、セルに生じる圧縮応力を下げられるためセルの反りが低減され、セル反りによって発生するリード線の剥離を防ぐことができる。よって、リード線の0.2%耐力は90MPa以下であることが望ましい。また、接合時の熱膨張歪みを小さくするため、接合温度は可能な限り低温で行うのがよい。よって、太陽電池用リード線10や半導体基板42の加熱温度は、溶融はんだめっき層13a、13bのはんだの融点付近の温度に制御される。   When the solar cell lead wire 10 shown in FIGS. 1A and 1B is joined to the front electrode 44 and the back electrode 45 of the semiconductor substrate 42 shown in FIG. 7, the solar cell lead wire 10 and the semiconductor The heating temperature of the substrate 42 is controlled in the vicinity of the melting point of the solder of the molten solder plating layers 13a and 13b. The reason is that the thermal expansion coefficient of the strip-like conductive material 12 (for example, Cu) of the solar cell lead wire 10 and the thermal expansion coefficient of the semiconductor substrate (Si) are greatly different. The difference in thermal expansion coefficient causes thermal stress that causes warpage and cracks in the semiconductor substrate 42. In order to reduce this thermal stress, the 0.2% yield strength of the lead wire may be reduced. Thereby, when the lead wire heated at the time of bonding is cooled, the compressive stress generated in the cell can be lowered, so that the warpage of the cell is reduced and the peeling of the lead wire caused by the cell warpage can be prevented. Therefore, the 0.2% yield strength of the lead wire is desirably 90 MPa or less. Moreover, in order to reduce the thermal expansion distortion at the time of joining, it is good to perform joining temperature as low as possible. Therefore, the heating temperature of the solar cell lead wire 10 and the semiconductor substrate 42 is controlled to a temperature near the melting point of the solder of the molten solder plating layers 13a and 13b.

上記接合時の加熱方法は、例えば、半導体基板42をホットプレート上に設置し、このホットプレートからの加熱と半導体基板42に設置された太陽電池用リード線10の上方からの加熱とを併用するものである。   As the heating method at the time of bonding, for example, the semiconductor substrate 42 is placed on a hot plate, and heating from the hot plate and heating from above the solar cell lead wire 10 placed on the semiconductor substrate 42 are used in combination. Is.

半導体基板42の表面電極44及び裏面電極45と太陽電池用リード線10との接合強度を上げるためには太陽電池用リード線10の横断面四隅部分を面取り形状とし、これにはんだめっきを施し、半導体基板42の表面電極44及び裏面電極45との接合時に、導体面取り部分に積極的にフィレット13cが形成できるようにするのが良い。そして、セル反りによるリード線の剥離を防ぐためには、太陽電池用リード線10の0.2%耐力が90MPa以下でなければならない。   In order to increase the bonding strength between the front electrode 44 and the rear electrode 45 of the semiconductor substrate 42 and the solar cell lead wire 10, the four corners of the cross section of the solar cell lead wire 10 are chamfered, and this is subjected to solder plating. It is preferable that the fillet 13c can be positively formed at the conductor chamfered portion when the front surface electrode 44 and the rear surface electrode 45 of the semiconductor substrate 42 are joined. And in order to prevent peeling of the lead wire due to cell warpage, the 0.2% yield strength of the solar cell lead wire 10 must be 90 MPa or less.

しかし、図10に示した従来の太陽電池用リード線30は、リード線横断面中央部にはんだが留まっているため、リード線端部のフィレット形成は充分ではなく、半導体基板42の表面電極44及び裏面電極45と太陽電池用リード線30との接合強度は十分に確保されているとは言い難いため、太陽電池用リード線30と半導体基板42との間で剥離が生じ、十分な導通が得られなくなり、モジュール出力が低下してしまう。一方、本発明の太陽電池用リード線10は半導体基板42の表面電極44及び裏面電極45と太陽電池用リード線10との接合強度を十分確保するため、リード線端部のはんだフィレット形成が迅速且つ十分に出来るようにリード線横断面四隅部分に面取りを施した形状となっている。   However, in the conventional solar cell lead wire 30 shown in FIG. 10, since the solder remains in the central portion of the cross section of the lead wire, the fillet formation at the end portion of the lead wire is not sufficient, and the surface electrode 44 of the semiconductor substrate 42 is formed. In addition, since it is difficult to say that the bonding strength between the back electrode 45 and the solar cell lead wire 30 is sufficiently secured, peeling occurs between the solar cell lead wire 30 and the semiconductor substrate 42, and sufficient conduction is achieved. The module output cannot be obtained and the module output is reduced. On the other hand, since the solar cell lead wire 10 of the present invention sufficiently secures the bonding strength between the front electrode 44 and back electrode 45 of the semiconductor substrate 42 and the solar cell lead wire 10, the formation of solder fillets at the end of the lead wire is quick. In addition, the four corners of the cross section of the lead wire are chamfered so that they can be sufficiently formed.

本発明は、溶融めっきを高速で行う際に生ずるめっき層の偏肉化をロール17、18で溶融はんだを絞り落とすことによって抑制できるため、所定のめっき厚形成を従来よりも高速で行うことができ、量産性にも優れている。また、本方式でめっきを行うことによって導体四隅部分のめっき厚が厚く出来る。その結果、本発明は、セルの太陽光受光面積の減少を最小限に抑え、短時間で配線可能でセル割れ抑制および接続信頼性に最も効果を有する太陽電池用リード線10を提供することができる。ここでは、太陽電池用リード線10の効果について述べたが、太陽電池用リード線20も同様の効果を得られる。   According to the present invention, uneven thickness of the plating layer that occurs when hot-dipping is performed at high speed can be suppressed by squeezing the molten solder with the rolls 17 and 18, so that a predetermined plating thickness can be formed at a higher speed than before. It is excellent in mass productivity. Moreover, the plating thickness of the four corners of the conductor can be increased by plating with this method. As a result, the present invention can provide a solar cell lead wire 10 that minimizes the reduction in the solar light receiving area of the cell, can be wired in a short time, and has the most effective effects on cell crack suppression and connection reliability. it can. Although the effect of the solar cell lead wire 10 has been described here, the solar cell lead wire 20 can also achieve the same effect.

次に、本発明に用いる帯板状導電材12、21の材料の物性を表1に示す。   Next, Table 1 shows the physical properties of the material of the strip-like conductive materials 12 and 21 used in the present invention.

Figure 2010283138
Figure 2010283138

帯板状導電材12、21は、体積抵抗率が比較的小さい材料であることが好ましい。表1のように、帯板状導電材12、21にはCu、Al、Ag、Auなどが用いられる。   The strip-like conductive materials 12 and 21 are preferably materials having a relatively small volume resistivity. As shown in Table 1, Cu, Al, Ag, Au, or the like is used for the strip-like conductive materials 12 and 21.

Cu、Al、Ag、Auのうち体積抵抗率が最も低いのはAgである。従って、帯板状導電材12、21としてAgを用いると、太陽電池用リード線10、20を用いた太陽電池の発電効率を最大限にすることができる。帯板状導電材12、21としてCuを用いると、太陽電池用リード線10、20を低コストにすることができる。帯板状導電材12、21としてAlを用いると、太陽電池用リード線10、20の軽量化を図ることができる。   Among Cu, Al, Ag, and Au, Ag has the lowest volume resistivity. Therefore, when Ag is used as the strip-like conductive materials 12 and 21, the power generation efficiency of the solar cell using the solar cell lead wires 10 and 20 can be maximized. When Cu is used as the strip-like conductive materials 12 and 21, the solar cell lead wires 10 and 20 can be reduced in cost. When Al is used as the strip-like conductive materials 12 and 21, the solar cell lead wires 10 and 20 can be reduced in weight.

帯板状導電材12、21としてCuを用いる場合、そのCuには、タフピッチCu、低酸素Cu、無酸素Cu、リン脱酸Cu、純度99.9999%以上の高純度Cuのいずれを用いてもよい。帯板状導電材12、21の0.2%耐力を最も小さくするためには、純度が高いCuを用いるのが有利である。よって、純度99.9999%以上の高純度Cuを用いると、帯板状導電材12、21の0.2%耐力を小さくすることができる。タフピッチCu又はリン脱酸Cuを用いると、太陽電池用リード線10、20を低コストにすることができる。   When Cu is used for the strip-shaped conductive materials 12 and 21, any of tough pitch Cu, low oxygen Cu, oxygen free Cu, phosphorus deoxidized Cu, and high purity Cu having a purity of 99.9999% or more is used as the Cu. Also good. In order to minimize the 0.2% proof stress of the strip-shaped conductive materials 12 and 21, it is advantageous to use Cu having a high purity. Therefore, when high-purity Cu having a purity of 99.9999% or more is used, the 0.2% proof stress of the strip-shaped conductive materials 12 and 21 can be reduced. When tough pitch Cu or phosphorus deoxidized Cu is used, the solar cell lead wires 10 and 20 can be reduced in cost.

溶融はんだめっき層13a、13bに用いるはんだとしては、Sn系はんだ、又は、第1成分としてSnを用い、第2成分としてPb、In、Bi、Sb、Ag、Zn、Ni、Cuから選択される少なくとも1つの元素を0.1mass%以上含むSn系はんだ合金が挙げられる。これらのはんだは、第3成分として1000ppm以下の微量元素を含んでいてもよい。   The solder used for the molten solder plating layers 13a and 13b is selected from Sn-based solder or Sn as the first component and Pb, In, Bi, Sb, Ag, Zn, Ni, Cu as the second component. An Sn-based solder alloy containing 0.1 mass% or more of at least one element can be used. These solders may contain a trace element of 1000 ppm or less as the third component.

次に、本発明の太陽電池用リード線10の製造方法を説明する。   Next, the manufacturing method of the lead wire 10 for solar cells of this invention is demonstrated.

まず、原料の断面円形状の線材(図示せず)を図2に示す様な圧延ロール14を使用して圧延加工することにより、横断面四隅部分が面取り形状を持つ帯板状導電材12を形成する。この帯板状導電材12を連続通電加熱炉又は連続式加熱炉又はバッチ式加熱設備で熱処理する。その後、図4のような溶融めっき設備を用いて溶融はんだを供給して、溶融はんだめっき層13a、13bに平坦部を形成する。   First, by rolling a wire rod (not shown) having a circular cross section as a raw material using a rolling roll 14 as shown in FIG. Form. This strip-like conductive material 12 is heat-treated in a continuous energizing heating furnace, a continuous heating furnace, or a batch type heating facility. Thereafter, a molten solder is supplied using a hot dipping equipment as shown in FIG. 4 to form flat portions in the hot solder plated layers 13a and 13b.

原料を帯板状導電材12に加工する加工方法としては、圧延加工、ダイス引き加工のいずれも適用可能である。圧延加工とは、丸線を圧延して所定の断面形状を得る方式である。圧延加工により帯板状導電材を形成すると、長尺で長手方向に断面形状が均一なものが形成できる。ダイス引き加工は丸線を所望断面形状のダイスに通す加工法であり、本加工法も長尺で長手方向に断面形状が均一なものが形成できる。いずれの加工法でも、帯板状導電材12の横断面四隅部分が面取り形状となるような圧延ロール、ダイスなどを用いて整形する。   As a processing method for processing the raw material into the strip-like conductive material 12, both rolling and dicing are applicable. Rolling is a method of rolling a round wire to obtain a predetermined cross-sectional shape. When a strip-shaped conductive material is formed by rolling, a long and uniform cross-sectional shape in the longitudinal direction can be formed. Die drawing is a processing method in which a round wire is passed through a die having a desired cross-sectional shape, and this processing method can also form a long and uniform cross-sectional shape in the longitudinal direction. In any of the processing methods, the strip plate-shaped conductive material 12 is shaped using a rolling roll, a die or the like in which the four corners of the cross section are chamfered.

帯板状導電材12を熱処理することにより、帯板状導電材12の軟化特性を向上させることができる。帯板状導電材12の軟化特性を向上させることは、0.2%耐力を低減させるのに有効である。熱処理方法としては、連続通電加熱、連続式加熱、バッチ式加熱がある。連続して長尺にわたって熱処理するには、連続通電加熱、連続式加熱が好ましい。安定した熱処理が必要な場合には、バッチ式加熱が好ましい。酸化を防止する観点から、窒素などの不活性ガス雰囲気あるいは水素還元雰囲気の炉を用いるのが好ましい。   By heat-treating the strip-shaped conductive material 12, the softening characteristics of the strip-shaped conductive material 12 can be improved. Improving the softening characteristics of the strip-shaped conductive material 12 is effective in reducing the 0.2% proof stress. Examples of the heat treatment method include continuous energization heating, continuous heating, and batch heating. For continuous heat treatment over a long length, continuous energization heating and continuous heating are preferred. Batch heating is preferred when stable heat treatment is required. From the viewpoint of preventing oxidation, it is preferable to use a furnace having an inert gas atmosphere such as nitrogen or a hydrogen reducing atmosphere.

不活性ガス雰囲気あるいは水素還元雰囲気の炉は、連続通電加熱炉又は連続式加熱炉又はバッチ式加熱設備により提供される。   A furnace having an inert gas atmosphere or a hydrogen reduction atmosphere is provided by a continuous energizing heating furnace, a continuous heating furnace, or a batch heating facility.

ここでは、太陽電池用リード線10の製造方法について述べたが、太陽電池用リード線20も横断面四隅部分がR形状となる圧延ロール、ダイスを用いる以外は同様の製造方法により得られる。   Here, although the manufacturing method of the lead wire 10 for solar cells was described, the lead wire 20 for solar cells is obtained by the same manufacturing method except using the rolling roll and die | dye whose cross-sectional four corner parts become R shape.

次に、本発明の太陽電池について詳しく説明する。   Next, the solar cell of the present invention will be described in detail.

図7(a)及び図7(b)に示されるように、本発明の太陽電池40は、これまで説明した太陽電池用リード線10を溶融はんだめっき層13a、13bのはんだによって半導体基板42の表面電極44及び裏面電極45に接合したものである。ただし、はんだ接合の場合には、はんだめっき表面の酸化膜厚を7nm以下とすることが望ましい。一般に、酸化膜の厚さが7nmを超えると、セル上の電極44、45に太陽電池用リード線をはんだ接合する際、酸化膜の除去が難しくなり、電極44、45に対する太陽電池用リード線のはんだ付けが不十分になる。酸化膜の厚さは例えばオージェ分析によって得られるデプスプロファイルにおいて、スパッタレートをSiO2換算とし、酸素ピーク値が半減する時間で定義することができる。はんだめっき表面の酸化膜厚を7nm以下とする方法としては、めっき温度を使用はんだの液相線温度+120℃以下に設定して溶融めっきを行う方法がある。 As shown in FIG. 7A and FIG. 7B, the solar cell 40 of the present invention has the above-described solar cell lead wire 10 formed on the semiconductor substrate 42 by soldering the molten solder plating layers 13a and 13b. It is joined to the front electrode 44 and the back electrode 45. However, in the case of solder bonding, it is desirable that the oxide film thickness on the surface of the solder plating is 7 nm or less. In general, when the thickness of the oxide film exceeds 7 nm, it becomes difficult to remove the oxide film when the solar cell lead wires are soldered to the electrodes 44 and 45 on the cell. Insufficient soldering. The thickness of the oxide film can be defined by, for example, the time during which the oxygen peak value is reduced by half in the depth profile obtained by Auger analysis, with the sputtering rate converted to SiO 2 . As a method of setting the oxide film thickness on the surface of the solder plating to 7 nm or less, there is a method in which the plating temperature is set to the liquidus temperature of the used solder + 120 ° C. or less to perform hot dipping.

太陽電池用リード線10と表面電極44との接合面となる溶融はんだめっき層13a、13bに平坦部が形成されているため、半導体基板42の電極44、45上において太陽電池用リード線10の位置が安定し、位置ズレが防止されている。また、太陽電池用リード線10の端部には帯板状導電材12の横断面四隅部分が面取り形状となっているため、はんだが十分にあり、十分なフィレット13cをリード幅に対して大きく広がることなく形成することができ、接合強度の確保とリード線接合面積増大の抑制には有利である。これに加え、太陽電池用リード線10の0.2%耐力を小さくしているため、接合時に半導体基板42が反りにくく、反りによるリード線の剥離も起こりにくい。   Since the flat portions are formed in the molten solder plating layers 13a and 13b that serve as the joint surfaces between the solar cell lead wire 10 and the surface electrode 44, the solar cell lead wire 10 is formed on the electrodes 44 and 45 of the semiconductor substrate 42. The position is stable and displacement is prevented. Further, since the four corners of the cross section of the strip-like conductive material 12 are chamfered at the end portion of the solar cell lead wire 10, there is sufficient solder, and a sufficient fillet 13c is made larger than the lead width. It can be formed without spreading, which is advantageous for securing the bonding strength and suppressing the increase of the lead wire bonding area. In addition, since the 0.2% proof stress of the solar cell lead wire 10 is reduced, the semiconductor substrate 42 is less likely to warp during bonding, and the lead wire is less likely to peel due to warpage.

本発明の太陽電池40によれば、太陽電池用リード線10と半導体基板42との接合強度確保と接合面積の増大抑制が可能となり、かつ、接合時のセル割れを抑制することができるので、太陽電池の出力の向上(変換効率向上)および歩留ならびに接合信頼性の向上を図ることができる。ここでは、太陽電池用リード線10を用いた太陽電池40について述べたが、太陽電池用リード線20を用いた太陽電池でも同様の効果が得られる。   According to the solar cell 40 of the present invention, it is possible to ensure the bonding strength between the solar cell lead wire 10 and the semiconductor substrate 42 and to suppress the increase in the bonding area, and to suppress cell cracking during bonding. It is possible to improve the output of the solar cell (improve the conversion efficiency) and improve the yield and the junction reliability. Here, the solar cell 40 using the solar cell lead wire 10 has been described, but the same effect can be obtained even with a solar cell using the solar cell lead wire 20.

(実施例1)
原料導電材であるCu材料を圧延加工して幅1.0mm、厚さ0.2mm、横断面四隅各部の面取り幅0.1mmの平角線状の帯板状導電材12を形成した。この帯板状導電材12を連続式加熱炉で熱処理し、さらに、この帯板状導電材12の周囲に図4に示す溶融めっき設備でSn−3%Ag−0.5%Cuはんだめっきを施して帯板状導電材12の上下面に平坦部を有する溶融はんだめっき層13a、13bを形成した(導体は熱処理Cu)。以上により、図1(a)、図1(b)の太陽電池用リード線10を得た。引張速度100mm/minの引張試験で得られたS−S曲線から0.2%耐力点荷重を求め、心材(Cu)の断面積で除して0.2%耐力を求めると60MPaであった。
Example 1
A Cu material, which is a raw material conductive material, was rolled to form a rectangular strip-shaped conductive material 12 having a width of 1.0 mm, a thickness of 0.2 mm, and a chamfering width of 0.1 mm at each corner of the transverse section. The strip-shaped conductive material 12 is heat-treated in a continuous heating furnace, and Sn-3% Ag-0.5% Cu solder plating is applied around the strip-shaped conductive material 12 using a hot dipping apparatus shown in FIG. As a result, molten solder plating layers 13a and 13b having flat portions on the upper and lower surfaces of the strip-shaped conductive material 12 were formed (the conductor was heat-treated Cu). Thus, the solar cell lead wire 10 shown in FIGS. 1A and 1B was obtained. The 0.2% proof stress was obtained from the SS curve obtained in the tensile test at a tensile speed of 100 mm / min, and divided by the cross-sectional area of the core material (Cu) to obtain a 0.2% proof stress, which was 60 MPa. .

(実施例2、比較例1、2、3)
実施例2は実施例1の太陽電池用リード線10の横断面四隅部分がR面取り形状の帯板状導電材21、比較例1は横断面中央部分は凹形状となるロールを用いて圧延したもの、比較例2は帯板状導電材をそのままの断面形状のもの、そして比較例3は帯板状導電材の上下面に研磨により粗面加工したものを連続式加熱炉で熱処理し(実施例2と比較例1、2、3は実施例1と同じ温度で熱処理)、さらに、この帯板状導電材の周囲に図4に示す溶融めっき設備でSn−3%Ag−0.5%Cuはんだめっきを実施例2と比較例1、3は実施例1と同じ平坦加工ロールを使用し、比較例2はロールをまったく使用せずにはんだめっきを施し、帯板状導電材の上下面に、溶融はんだめっき層(実施例1、2の四隅部分および比較例1の凹部、比較例2中央部、比較例3の端部及び中央部のめっき厚40μm)を形成した(導体は熱処理Cu)。以上により、実施例1は図1、実施例2は図5、比較例1は図10、比較例2は図9、比較例3は図11に示した太陽電池用リード線を得た。0.2%耐力は、何れも60MPaであった。
(Example 2, Comparative Examples 1, 2, and 3)
Example 2 was rolled using a strip-shaped conductive material 21 in which the four corners of the cross section of the solar cell lead wire 10 of Example 1 had an R chamfered shape, and Comparative Example 1 was rolled using a roll having a concave shape in the center of the cross section. In Comparative Example 2, the strip-shaped conductive material has a cross-sectional shape as it is, and in Comparative Example 3, the upper and lower surfaces of the strip-shaped conductive material are roughened by polishing and heat-treated in a continuous heating furnace (implemented) Example 2 and Comparative Examples 1, 2 and 3 were heat-treated at the same temperature as in Example 1), and Sn-3% Ag-0.5% around the strip-like conductive material using the hot dipping apparatus shown in FIG. In Cu solder plating, Example 2 and Comparative Examples 1 and 3 use the same flat processing roll as in Example 1, and Comparative Example 2 performs solder plating without using any roll, and the upper and lower surfaces of the strip-like conductive material. In addition, a molten solder plating layer (the four corners of Examples 1 and 2 and the recesses of Comparative Example 1, comparison 2 central, to form a plating thickness 40 [mu] m) of the end and central portions of the Comparative Example 3 (conductor heat treatment Cu). As described above, the lead wire for solar cell shown in FIG. 1 for Example 1, FIG. 5 for Example 2, FIG. 10 for Comparative Example 1, FIG. 9 for Comparative Example 2, and FIG. The 0.2% proof stress was 60 MPa in all cases.

これら実施例1、2及び比較例1、2、3の太陽電池用リード線にロジン系フラックスを適量塗布し、それぞれの太陽電池用リード線を縦150mm×横150mm×厚さ180μmの半導体基板(Siセル)の上面の電極部位に設置して、10gの錘を載せた状態でホットプレート加熱(260℃で30秒間保持)し、はんだ付けした。これらの接合の際に生じるセル反りの影響で発生するリード線の剥離状況、リード線搬送状況及びはんだの濡れ広がり状況を調べた。   An appropriate amount of a rosin-based flux is applied to the solar cell lead wires of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1, 2, and 3, and each solar cell lead wire is 150 mm long × 150 mm wide × 180 μm thick semiconductor substrate ( It was placed on the electrode part on the upper surface of the (Si cell) and hot plate heated (held at 260 ° C. for 30 seconds) with a 10 g weight placed thereon and soldered. The state of peeling of the lead wire, the state of carrying the lead wire, and the state of wetting and spreading of the solder, which were caused by the influence of the cell warp generated during the joining, were investigated.

実施例1、2及び比較例1、2、3の評価結果を表2に示す。   Table 2 shows the evaluation results of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1, 2, and 3.

Figure 2010283138
Figure 2010283138

表2の「導電材横断面形状」の欄は、帯板状導電材のはんだめっき前の横断面形状を示す。「断面形状」の欄は、どの図に示した断面形状であったかを示す。「はんだ濡れ広がり性」の欄は、はんだ付け完了時のリード線幅に対するはんだの広がり幅の比率を示しており1.1未満を○、1.1以上を×として示した。「導電材搬送性」の欄は、リード線を定尺に切断後、一定数のリード線を真空ピンセットで吸着し、一定距離を搬送した際の成功率(落下せずに搬送)を実施例1を100とした場合の割合を示し、95%以上を○、95%未満を×として示した。「接合強度」の欄は、リード線とセルを接合後、ピール試験を実施し、実施例1の強度を100とした場合、90%以上を〇、90%未満を×とした。「量産コスト」の欄は、従来の溶融めっきにかかるコストを1.0とし、製造コストが1.2未満の場合を〇、1.5を超える場合を×とした。   The column of “conductive material cross-sectional shape” in Table 2 shows the cross-sectional shape of the strip-shaped conductive material before solder plating. The “cross-sectional shape” column indicates which cross-sectional shape is shown in the figure. The column of “solder wetting spreadability” indicates the ratio of the spread width of the solder to the lead wire width at the time of completion of soldering. The column “Conductive material transportability” shows the success rate (transport without dropping) when a certain number of lead wires are sucked with vacuum tweezers after being cut to a standard length and transported for a certain distance. The ratio when 1 is set to 100 is indicated by ◯, 95% or more is indicated by ○, and less than 95% is indicated by ×. In the column of “Joint strength”, a peel test was performed after joining the lead wire and the cell. When the strength of Example 1 was set to 100, 90% or more was given as ◯ and less than 90% was taken as x. In the column of “mass production cost”, the cost for conventional hot dipping is 1.0, and the case where the manufacturing cost is less than 1.2 is given as ◯ and the case where it exceeds 1.5 is given as x.

表2に示されるように、実施例1、2の太陽電池用リード線10、20は、0.2%耐力が低く、セル反りが少ないことが確認された。また、導電材横断面で四隅が面取り形状となっているため、半導体基板(Siセル)の上面の電極部位との接合状態も良好でありかつはんだの濡れ広がりも抑えられていることが確認できた。導電材の製造においても圧延時のロール形状を変更するだけで良いため、量産コストが従来のはんだめっき線とほぼ同等であり、工業的に優れた方法である。   As shown in Table 2, it was confirmed that the solar cell lead wires 10 and 20 of Examples 1 and 2 had low 0.2% proof stress and little cell warpage. In addition, since the four corners are chamfered in the cross-section of the conductive material, it can be confirmed that the bonding state with the electrode part on the upper surface of the semiconductor substrate (Si cell) is good and that the spread of solder is suppressed. It was. In the production of the conductive material, it is only necessary to change the roll shape at the time of rolling. Therefore, the mass production cost is almost the same as that of the conventional solder plating wire, which is an industrially excellent method.

これに対し、実施例1、2と同様のめっきプロセスであっても、導電材横断面形状の異なる比較例1では、導電材搬送性は良好であっても、接合強度が劣る結果となった。比較例2では、断面形状が中央部が凸形状であるため、導電材搬送性、接合強度が実施例1と比較し劣る。また、はんだの濡れ広がりも他の例と比較し大きい。比較例3では接合強度は十分確保できたが、はんだの濡れ広がりが大きくなってしまった。   On the other hand, even in the same plating process as in Examples 1 and 2, in Comparative Example 1 having a different cross-sectional shape of the conductive material, the bonding strength was inferior even though the conductive material transportability was good. . In Comparative Example 2, the cross-sectional shape is convex at the center, so that the conductive material transportability and bonding strength are inferior to those of Example 1. Also, the solder wetting spread is larger than other examples. In Comparative Example 3, the bonding strength was sufficiently ensured, but the solder spread was increased.

以上のように、実施例1、2及び比較例1、2、3の評価結果から、本発明の太陽電池用リード線10、20はセルとの接合占有面積を抑えつつ接合信頼性が大きく向上することが確認された。なお、実施例では導電材の横断面において4隅を面取りした形状を用いているが、これに限定されるものではなく、いわゆるバックコンタクトタイプの太陽電池セルに用いられる裏面配線に適用する場合には、導電材の横断面の4隅のうち、太陽電池セルの電極から離れて位置する2つの隅部を面取りすることなく、太陽電池セルの電極に対向する2つの隅部を長手方向に面取りすることで十分に本発明の作用効果を奏することができる。   As described above, from the evaluation results of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1, 2, and 3, the solar cell lead wires 10 and 20 of the present invention greatly improve the junction reliability while suppressing the area occupied by the junction with the cell. Confirmed to do. In addition, although the shape which chamfered four corners in the cross section of a electrically conductive material is used in the Example, it is not limited to this, When applying to the back surface wiring used for what is called a back contact type photovoltaic cell Chamfers two corners facing the solar cell electrode in the longitudinal direction without chamfering two corners located away from the solar cell electrode among the four corners of the cross section of the conductive material. By doing so, the effects of the present invention can be sufficiently achieved.

10、20 太陽電池用リード線
12、21 帯板状導電材
13a、13b、22a、22b 溶融はんだめっき層
10, 20 Solar cell lead wires 12, 21 Strip plate-like conductive materials 13a, 13b, 22a, 22b Molten solder plating layer

Claims (9)

帯板状導電材の表面に溶融はんだを供給して溶融はんだめっき層を形成した太陽電池用リード線において、横断面形状で隅部分が面取りされた帯板状導電材を形成し、該帯板状導電材の上下面に溶融はんだを供給すると共にその上下の溶融はんだめっき層を平坦に形成したことを特徴とする太陽電池用リード線。   In a solar cell lead wire in which molten solder is supplied to the surface of a strip-shaped conductive material to form a molten solder plating layer, a strip-shaped conductive material having a cross-sectional shape with chamfered corners is formed, and the strip A lead wire for a solar cell, wherein molten solder is supplied to the upper and lower surfaces of the electrode-like conductive material, and the upper and lower molten solder plating layers are formed flat. めっき温度を使用はんだの液相線温度+120℃以下にし、前記溶融はんだめっき層表面の酸化膜の厚さを7nm以下にした請求項1に記載の太陽電池用リード線。   2. The solar cell lead wire according to claim 1, wherein the plating temperature is set to a liquidus temperature of the used solder + 120 ° C. or less, and the thickness of the oxide film on the surface of the molten solder plating layer is set to 7 nm or less. 前記帯板状導電材は、体積抵抗率が50μΩ・mm以下の平角線である請求項1又は2に記載の太陽電池用リード線。   The lead wire for solar cell according to claim 1 or 2, wherein the strip-shaped conductive material is a flat wire having a volume resistivity of 50 µΩ · mm or less. 引張試験における0.2%耐力値が90MPa以下である請求項1〜3のいずれかに記載の太陽電池用リード線。   The lead wire for solar cell according to any one of claims 1 to 3, wherein a 0.2% proof stress value in a tensile test is 90 MPa or less. 前記帯板状導電材は、Cu、Al、Ag、Auのいずれかからなる請求項1〜4のいずれかに記載の太陽電池用リード線。   The solar cell lead according to any one of claims 1 to 4, wherein the strip-shaped conductive material is made of any one of Cu, Al, Ag, and Au. 前記帯板状導電材は、タフピッチCu、低酸素Cu、無酸素Cu、リン脱酸Cu、純度99.9999%以上の高純度Cuのいずれかからなる請求項1〜4のいずれかに記載の太陽電池用リード線。   The said strip | belt-plate-shaped electrically-conductive material consists of either tough pitch Cu, low oxygen Cu, oxygen free Cu, phosphorus deoxidation Cu, and high purity Cu of purity 99.9999% or more. Lead wire for solar cell. 前記溶融はんだめっき層は、Sn系はんだ、又は、第1成分としてSnを用い、第2成分としてPb、In、Bi、Sb、Ag、Zn、Ni、Cuから選択される少なくとも1つの元素を0.1mass%以上含むSn系はんだ合金からなる請求項1〜6のいずれかに記載の太陽電池用リード線。   The molten solder plating layer uses Sn-based solder or Sn as the first component and at least one element selected from Pb, In, Bi, Sb, Ag, Zn, Ni, Cu as the second component is 0. The lead wire for a solar cell according to any one of claims 1 to 6, wherein the lead wire is made of an Sn-based solder alloy containing 0.1 mass% or more. 素線を圧延もしくはダイス引き加工することにより横断面の隅が面取りされた形状の帯板状導電材を形成し、該帯板状導電材を連続通電加熱炉又は連続式加熱炉又はバッチ式加熱設備で熱処理し、その後、溶融はんだを供給して前記帯板状導電材に、はんだめっきすると共に、そのめっきした帯板状導電材をはんだ溶融状態において、平ロールで挟むことにより、溶融はんだめっき層に平坦部を形成することを特徴とする太陽電池用リード線の製造方法。   A strip-shaped conductive material having a chamfered cross-sectional corner is formed by rolling or dicing the strand, and the strip-shaped conductive material is continuously heated by heating, continuous heating, or batch heating. Heat treatment in equipment, then supplying molten solder and solder plating on the strip-shaped conductive material, and by sandwiching the plated strip-shaped conductive material with a flat roll in the solder molten state, molten solder plating The manufacturing method of the lead wire for solar cells characterized by forming a flat part in a layer. 請求項1〜7のいずれかに記載の太陽電池用リード線を、その溶融はんだめっき層のはんだによって半導体基板の表面電極及び裏面電極にはんだ付けしたことを特徴とする太陽電池。   A solar cell, wherein the lead wire for a solar cell according to any one of claims 1 to 7 is soldered to a front electrode and a back electrode of a semiconductor substrate with solder of a molten solder plating layer.
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