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JP2010266542A - Liquid crystal display device - Google Patents

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JP2010266542A
JP2010266542A JP2009115771A JP2009115771A JP2010266542A JP 2010266542 A JP2010266542 A JP 2010266542A JP 2009115771 A JP2009115771 A JP 2009115771A JP 2009115771 A JP2009115771 A JP 2009115771A JP 2010266542 A JP2010266542 A JP 2010266542A
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JP
Japan
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pixel
color filter
electrode
opening
layer
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP2009115771A
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Japanese (ja)
Inventor
Kaoru Kaga
薫 加賀
Kenichi Yotsuya
健一 四ツ谷
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Japan Display Central Inc
Original Assignee
Toshiba Mobile Display Co Ltd
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Publication date
Application filed by Toshiba Mobile Display Co Ltd filed Critical Toshiba Mobile Display Co Ltd
Priority to JP2009115771A priority Critical patent/JP2010266542A/en
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device improving display quality and reliability. <P>SOLUTION: The liquid crystal display device is provided with: a first color filter 32G arranged in a first pixel having a first reflection part and a first transmission part; a first opening part OP1 formed on the first color filter layer of the first reflection part; a second color filter layer 32B arranged in a second pixel having a second reflection part and a second transmission part; a second opening part OP2 formed in the second color filter layer of the second reflection part and smaller than the first opening part; an overcoat layer arranged on the first or the second color filter layer and the first or second opening part; a resin layer 34 arranged on the overcoat layer of the first reflection part and the second reflection part and having an edge formed outside the position direct on the edge of the first opening part; and an counter electrode ET arranged on the overcoat layer and the resin layer. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

この発明は、液晶表示装置に係り、例えば各画素に反射部及び透過部を有する半透過型の液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a liquid crystal display device, for example, a transflective liquid crystal display device having a reflective portion and a transmissive portion in each pixel.

液晶表示装置は、軽量、薄型、低消費電力などの特徴を生かして、パーソナルコンピュータなどのOA機器やテレビなどの表示装置として各種分野で利用されている。近年では、液晶表示装置は、携帯電話などの携帯端末機器や、カーナビゲーション装置、ゲーム機などの表示装置としても利用されている。   Liquid crystal display devices are utilized in various fields as display devices for OA equipment such as personal computers and televisions, taking advantage of features such as light weight, thinness, and low power consumption. In recent years, liquid crystal display devices are also used as mobile terminal devices such as mobile phones, display devices such as car navigation devices and game machines.

半透過型の液晶表示装置においては、反射型として用いる場合に、光がカラーフィルタを2回通過するため、反射率の向上や色純度の低下が求められている。例えば、特許文献1及び2によれば、カラーフィルタの一部に開口(あるいはカラーフィルタが無い非形成部)を設ける技術が開示されている。   In a transflective liquid crystal display device, when used as a reflective type, light passes through a color filter twice, so that an improvement in reflectance and a reduction in color purity are required. For example, according to Patent Documents 1 and 2, a technique is disclosed in which an opening (or a non-formed portion without a color filter) is provided in a part of a color filter.

特開2002−341366号公報JP 2002-341366 A 特開2005−283853号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-283553

この発明の目的は、表示品位及び信頼性を向上することが可能な液晶表示装置を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device capable of improving display quality and reliability.

この発明の一態様によれば、
第1方向に並んだ第1反射部及び第1透過部を有する第1画素に配置された第1カラーフィルタ層と、前記第1反射部の前記第1カラーフィルタ層に形成された第1開口部と、前記第1画素の前記第1反射部の第1方向に直交する第2方向に並んだ第2反射部を有するとともに前記第1画素の前記第1透過部の第2方向に並んだ第2透過部を有する第2画素に配置された第2カラーフィルタ層と、前記第2反射部の前記第2カラーフィルタ層に形成され前記第1開口部より小さい第2開口部と、前記第1乃至前記第2カラーフィルタ層及び前記第1乃至前記第2開口部の上に配置されたオーバーコート層と、第2方向に延在して前記第1反射部及び前記第2反射部の前記オーバーコート層の上に配置され、前記第1開口部のエッジの直上よりも外側にエッジが形成された樹脂層と、前記オーバーコート層及び前記樹脂層の上に配置された対向電極と、を備えたことを特徴とする液晶表示装置が提供される。
According to one aspect of the invention,
A first color filter layer disposed in a first pixel having a first reflection part and a first transmission part arranged in a first direction, and a first opening formed in the first color filter layer of the first reflection part And a second reflecting portion arranged in a second direction orthogonal to the first direction of the first reflecting portion of the first pixel and arranged in the second direction of the first transmitting portion of the first pixel A second color filter layer disposed in a second pixel having a second transmission part; a second opening part formed in the second color filter layer of the second reflection part and smaller than the first opening part; An overcoat layer disposed on the first to second color filter layers and the first to second openings; and the first reflective portion and the second reflective portion extending in a second direction. Arranged on the overcoat layer, from directly above the edge of the first opening A resin layer edges are formed on the outer side, and a counter electrode disposed on the overcoat layer and the resin layer, a liquid crystal display device characterized by comprising a are provided.

あるいは、
第1方向に並んだ第1反射電極及び第1透過電極を有する第1画素電極と、前記第1画素電極の前記第1反射電極の第1方向に直交する第2方向に並んだ第2反射電極を有する第2画素電極と、を備えた第1基板と、前記第1画素電極に向かい合う第1カラーフィルタ層と、前記第1カラーフィルタ層の前記第1反射電極に向かい合う一部に形成された第1開口部と、前記第2画素電極に向かい合う第2カラーフィルタ層と、前記第2カラーフィルタ層の前記第2反射電極に向かい合う一部に形成され前記第1開口部より小さい第2開口部と、前記第1乃至前記第2カラーフィルタ層及び前記第1乃至前記第2開口部の上に配置されたオーバーコート層と、前記オーバーコート層の上で前記第1反射電極に向かい合うとともに第2方向に延在して前記第2反射電極にも向かい合い前記第1開口部のエッジの直上よりも外側にエッジが形成された樹脂層と、前記オーバーコート層及び前記樹脂層の上に配置された対向電極と、備えた第2基板と、前記アレイ基板と前記対向基板との間に保持された液晶層と、を備えたことを特徴とする液晶表示装置が提供される。
Or
A first pixel electrode having a first reflective electrode and a first transmissive electrode arranged in a first direction, and a second reflection arranged in a second direction orthogonal to the first direction of the first reflective electrode of the first pixel electrode A first substrate having a second pixel electrode having an electrode; a first color filter layer facing the first pixel electrode; and a portion of the first color filter layer facing the first reflective electrode. A first opening, a second color filter layer facing the second pixel electrode, and a second opening smaller than the first opening formed in a part of the second color filter layer facing the second reflective electrode. An overcoat layer disposed on the first and second color filter layers and the first and second openings, and facing the first reflective electrode on the overcoat layer. Extends in two directions A resin layer facing the second reflective electrode and having an edge formed on the outer side of the edge of the first opening, and a counter electrode disposed on the overcoat layer and the resin layer. There is provided a liquid crystal display device comprising: a second substrate; and a liquid crystal layer held between the array substrate and the counter substrate.

この発明の他の態様によれば、
第1方向に並んだ第1反射部及び第1透過部を有する第1画素に配置された第1カラーフィルタ層と、前記第1反射部の前記第1カラーフィルタ層に形成された第1開口部と、前記第1画素の前記第1反射部の第1方向に直交する第2方向に並んだ第2反射部を有するとともに前記第1画素の前記第1透過部の第2方向に並んだ第2透過部を有する第2画素に配置された第2カラーフィルタ層と、前記第2反射部の前記第2カラーフィルタ層に形成され前記第1開口部より大きい第2開口部と、前記第2画素の前記第2反射部の第2方向に並んだ第3反射部を有するとともに前記第2画素の前記第2透過部の第2方向に並んだ第3透過部を有する第3画素に配置された第3カラーフィルタ層と、前記第3反射部の前記第3カラーフィルタ層に形成され前記第2開口部より小さい第3開口部と、前記第1乃至前記第3カラーフィルタ層及び前記第1乃至前記第3開口部の上に配置されたオーバーコート層と、第2方向に延在して前記第1乃至前記第3反射部の前記オーバーコート層の上に配置された樹脂層と、前記オーバーコート層及び前記樹脂層の上に配置された対向電極と、を備えたことを特徴とする液晶表示装置が提供される。
According to another aspect of the invention,
A first color filter layer disposed in a first pixel having a first reflection part and a first transmission part arranged in a first direction, and a first opening formed in the first color filter layer of the first reflection part And a second reflecting portion arranged in a second direction orthogonal to the first direction of the first reflecting portion of the first pixel and arranged in the second direction of the first transmitting portion of the first pixel A second color filter layer disposed in a second pixel having a second transmission part; a second opening formed in the second color filter layer of the second reflection part and larger than the first opening; Arranged in a third pixel having a third reflecting portion arranged in the second direction of the second reflecting portion of two pixels and having a third transmitting portion arranged in the second direction of the second transmitting portion of the second pixel. The third color filter layer and the third color filter layer of the third reflecting portion. A third opening smaller than the second opening, an overcoat layer disposed on the first to third color filter layers and the first to third openings, and in a second direction. A resin layer that extends and is disposed on the overcoat layer of the first to third reflective portions; and a counter electrode that is disposed on the overcoat layer and the resin layer. A liquid crystal display device is provided.

あるいは、
第1方向に並んだ第1反射電極及び第1透過電極を有する第1画素電極と、前記第1画素電極の前記第1反射電極の第1方向に直交する第2方向に並んだ第2反射電極を有する第2画素電極と、前記第2画素電極の前記第2反射電極の第2方向に並んだ第3反射電極を有する第3画素電極と、を備えた第1基板と、前記第1画素電極に向かい合う第1カラーフィルタ層と、前記第1カラーフィルタ層の前記第1反射電極に向かい合う一部に形成された第1開口部と、前記第2画素電極に向かい合う第2カラーフィルタ層と、前記第2カラーフィルタ層の前記第2反射電極に向かい合う一部に形成され前記第1開口部より大きい第2開口部と、前記第3画素電極に向かい合う第3カラーフィルタ層と、前記第3カラーフィルタ層の前記第3反射電極に向かい合う一部に形成され前記第2開口部より小さい第3開口部と、前記第1乃至前記第3カラーフィルタ層及び前記第1乃至前記第3開口部の上に配置されたオーバーコート層と、前記オーバーコート層の上で前記第1乃至前記第3反射電極に向かい合うとともに第2方向に延在した樹脂層と、前記オーバーコート層及び前記樹脂層の上に配置された対向電極と、備えた第2基板と、前記アレイ基板と前記対向基板との間に保持された液晶層と、を備えたことを特徴とする液晶表示装置が提供される。
Or
A first pixel electrode having a first reflective electrode and a first transmissive electrode arranged in a first direction, and a second reflection arranged in a second direction orthogonal to the first direction of the first reflective electrode of the first pixel electrode A first substrate comprising: a second pixel electrode having an electrode; and a third pixel electrode having a third reflective electrode arranged in a second direction of the second reflective electrode of the second pixel electrode; A first color filter layer facing the pixel electrode; a first opening formed in a part of the first color filter layer facing the first reflective electrode; a second color filter layer facing the second pixel electrode; A second opening that is formed in a part of the second color filter layer facing the second reflective electrode and is larger than the first opening, a third color filter layer facing the third pixel electrode, and the third color filter layer. The third reflection of the color filter layer A third opening smaller than the second opening formed in a part facing the pole, the first to third color filter layers, and an overcoat layer disposed on the first to third openings A resin layer facing the first to third reflective electrodes on the overcoat layer and extending in the second direction; a counter electrode disposed on the overcoat layer and the resin layer; There is provided a liquid crystal display device comprising: a second substrate provided; and a liquid crystal layer held between the array substrate and the counter substrate.

この発明によれば、表示品位及び信頼性を向上することが可能な液晶表示装置を提供することができる。   According to the present invention, a liquid crystal display device capable of improving display quality and reliability can be provided.

図1は、この発明の一実施の形態に係る液晶表示装置の構成を概略的に示す図である。FIG. 1 schematically shows a configuration of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention. 図2は、図1に示した液晶表示装置の構造を概略的に示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing the structure of the liquid crystal display device shown in FIG. 図3は、図1に示した液晶表示装置に適用可能なアレイ基板の構造を模式的に示す平面図である。FIG. 3 is a plan view schematically showing the structure of an array substrate applicable to the liquid crystal display device shown in FIG. 図4は、図3に示したアレイ基板に重ね合わせ可能な対向基板の構造を概略的に示す平面図である。FIG. 4 is a plan view schematically showing the structure of the counter substrate that can be overlaid on the array substrate shown in FIG. 図5は、図3に示したアレイ基板に重ね合わせ可能な第1実施形態の対向基板の構造を概略的に示す平面図である。FIG. 5 is a plan view schematically showing the structure of the counter substrate of the first embodiment that can be overlaid on the array substrate shown in FIG. 図6は、第1実施形態の変形例1における対向基板の構造を概略的に示す平面図である。FIG. 6 is a plan view schematically showing the structure of the counter substrate in Modification 1 of the first embodiment. 図7は、第1実施形態の変形例2における対向基板の構造を概略的に示す平面図である。FIG. 7 is a plan view schematically showing the structure of the counter substrate in Modification 2 of the first embodiment. 図8は、第1実施形態の変形例3における対向基板の構造を概略的に示す平面図である。FIG. 8 is a plan view schematically showing the structure of the counter substrate in Modification 3 of the first embodiment. 図9は、第1実施形態の変形例4における対向基板の構造を概略的に示す平面図である。FIG. 9 is a plan view schematically showing the structure of the counter substrate in Modification 4 of the first embodiment. 図10は、図3に示したアレイ基板に重ね合わせ可能な第2実施形態の対向基板の構造を概略的に示す平面図である。FIG. 10 is a plan view schematically showing the structure of the counter substrate of the second embodiment that can be superimposed on the array substrate shown in FIG.

以下、この発明の一実施の形態に係る液晶表示装置について図面を参照して説明する。ここでは、各画素がバックライトからの光を選択的に透過して画像を表示する透過部と、外光を選択的に反射して画像を表示する反射部とを有する半透過型の液晶表示装置を例に説明する。   A liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. Here, a transflective liquid crystal display in which each pixel has a transmissive portion that selectively transmits light from the backlight and displays an image, and a reflective portion that selectively reflects external light and displays an image. The apparatus will be described as an example.

図1に示すように、液晶表示装置は、アクティブマトリクスタイプの液晶表示装置であって、液晶表示パネルLPNを備えている。この液晶表示パネルLPNは、一対の基板、すなわち第1基板としてのアレイ基板ARと、アレイ基板ARに向かい合うように配置された第2基板としての対向基板CTと、を備えている。これらのアレイ基板ARと対向基板CTとは、シール材SEによって貼り合わせられている。また、液晶表示パネルLPNは、アレイ基板ARと対向基板CTとの間に保持された液晶層LQを備えている。   As shown in FIG. 1, the liquid crystal display device is an active matrix type liquid crystal display device and includes a liquid crystal display panel LPN. The liquid crystal display panel LPN includes a pair of substrates, that is, an array substrate AR as a first substrate, and a counter substrate CT as a second substrate disposed so as to face the array substrate AR. The array substrate AR and the counter substrate CT are bonded together by a seal material SE. The liquid crystal display panel LPN includes a liquid crystal layer LQ held between the array substrate AR and the counter substrate CT.

このような液晶表示パネルLPNは、画像を表示する表示エリアすなわちアクティブエリアDSPを備えている。このアクティブエリアDSPは、シール材SEによって囲まれており、m×n個のマトリクス状に配置された複数の画素PXによって構成されている(但し、m及びnは正の整数である)。   Such a liquid crystal display panel LPN includes a display area for displaying an image, that is, an active area DSP. The active area DSP is surrounded by a seal material SE and is composed of a plurality of pixels PX arranged in a matrix of m × n (where m and n are positive integers).

アレイ基板ARは、アクティブエリアDSPにおいて、行方向Hに沿ってそれぞれ延出したn本のゲート線Y(Y1〜Yn)、各ゲート線Yと交差するように列方向Vに沿ってそれぞれ延出したm本のソース線X(X1〜Xm)、各画素PXにおいてゲート線Yとソース線Xとの交差部を含む領域に配置されたm×n個のスイッチング素子W、各画素PXに配置されそれぞれスイッチング素子Wに接続されたm×n個の画素電極EPなどを備えている。   In the active area DSP, the array substrate AR extends in the column direction V so as to intersect with the n gate lines Y (Y1 to Yn) respectively extending along the row direction H and the gate lines Y. The m source lines X (X1 to Xm) and m × n switching elements W arranged in the region including the intersection of the gate line Y and the source line X in each pixel PX are arranged in each pixel PX. Each pixel includes m × n pixel electrodes EP connected to the switching element W.

また、アレイ基板ARは、各画素PXにおいて蓄積容量素子CSを備えている。この蓄積容量素子CSは、補助容量線AY及びこの補助容量線AYに向かい合う補助容量電極AEを有している。   The array substrate AR includes a storage capacitor element CS in each pixel PX. The storage capacitor element CS has an auxiliary capacitance line AY and an auxiliary capacitance electrode AE that faces the auxiliary capacitance line AY.

ゲート線Y及び補助容量線AYは、アクティブエリアDSPにおいて交互に配置されている。すなわち、n本の補助容量線AYは、行方向Hに沿って延出し、ゲート線Yと略平行に配置されている。これらのゲート線Y及び補助容量線AYは、ソース線Xと略直交している。このようなゲート線Y及び補助容量線AY、ソース線X、は、例えばアルミニウム、モリブデン、タングステン、チタンなどの低抵抗な導電材料によって形成されている。   The gate lines Y and the auxiliary capacitance lines AY are alternately arranged in the active area DSP. That is, the n auxiliary capacitance lines AY extend along the row direction H and are arranged substantially parallel to the gate lines Y. These gate lines Y and storage capacitor lines AY are substantially orthogonal to the source lines X. Such gate lines Y, storage capacitor lines AY, and source lines X are formed of a low-resistance conductive material such as aluminum, molybdenum, tungsten, or titanium.

各スイッチング素子Wは、例えば、nチャネル薄膜トランジスタ(TFT)によって構成されている。スイッチング素子Wのゲート電極WGは、ゲート線Yに電気的に接続されている(あるいは、ゲート電極WGはゲート線Yと一体的に形成されている)。スイッチング素子Wのソース電極WSは、ソース線Xに電気的に接続されている(あるいは、ソース電極WSはソース線Xと一体に形成されている)。スイッチング素子Wのドレイン電極WDは、画素電極EPに電気的に接続されている。   Each switching element W is configured by, for example, an n-channel thin film transistor (TFT). The gate electrode WG of the switching element W is electrically connected to the gate line Y (or the gate electrode WG is formed integrally with the gate line Y). The source electrode WS of the switching element W is electrically connected to the source line X (or the source electrode WS is formed integrally with the source line X). The drain electrode WD of the switching element W is electrically connected to the pixel electrode EP.

n本のゲート線Yは、それぞれアクティブエリアDSPの外側に引き出され、ゲートドライバYDに接続されている。ゲートドライバYDは、コントローラCNTによる制御に基づいてn本のゲート線Yに順次走査信号(駆動信号)を供給する。また、m本のソース線Xは、それぞれアクティブエリアDSPの外側に引き出され、ソースドライバXDに接続されている。ソースドライバXDは、コントローラCNTによる制御に基づいてm本のソース線Xに映像信号(駆動信号)を供給する。   Each of the n gate lines Y is drawn to the outside of the active area DSP and is connected to the gate driver YD. The gate driver YD sequentially supplies scanning signals (drive signals) to the n gate lines Y based on control by the controller CNT. In addition, m source lines X are respectively drawn outside the active area DSP and connected to the source driver XD. The source driver XD supplies a video signal (drive signal) to the m source lines X based on control by the controller CNT.

一方、対向基板CTは、アクティブエリアDSPにおいて、対向電極ETなどを備えている。この対向電極ETは、複数の画素PXに共通である。つまり、対向電極ETは、各画素PXの画素電極EPと向かい合い、アクティブエリアDSPの外側において、コモン電位のコモン端子COMに電気的に接続されている。   On the other hand, the counter substrate CT includes a counter electrode ET and the like in the active area DSP. The counter electrode ET is common to the plurality of pixels PX. That is, the counter electrode ET faces the pixel electrode EP of each pixel PX, and is electrically connected to the common terminal COM having a common potential outside the active area DSP.

液晶表示パネルLPNの構造について、以下により詳細に説明する。   The structure of the liquid crystal display panel LPN will be described in detail below.

図2に示すように、液晶表示パネルLPNのアレイ基板ARは、ガラス板や石英板などの光透過性を有する絶縁基板10を用いて形成されている。このアレイ基板ARは、絶縁基板10の第1面10Aつまり対向基板CTと向かい合う側に、スイッチング素子W、画素電極EPなどを備えている。   As shown in FIG. 2, the array substrate AR of the liquid crystal display panel LPN is formed by using an insulating substrate 10 having a light transmission property such as a glass plate or a quartz plate. The array substrate AR includes a switching element W, a pixel electrode EP, and the like on the first surface 10A of the insulating substrate 10, that is, the side facing the counter substrate CT.

スイッチング素子Wは、トップゲート型のTFTであり、絶縁基板10の上に配置された半導体層12を備えている。この半導体層12は、例えば、ポリシリコンやアモルファスシリコンなどによって形成可能であり、ここではポリシリコンによって形成されている。半導体層12は、チャネル領域12Cを挟んだ両側にそれぞれソース領域12S及びドレイン領域12Dを有している。   The switching element W is a top gate type TFT and includes a semiconductor layer 12 disposed on the insulating substrate 10. The semiconductor layer 12 can be formed of, for example, polysilicon or amorphous silicon, and is formed of polysilicon here. The semiconductor layer 12 has a source region 12S and a drain region 12D on both sides of the channel region 12C.

なお、絶縁基板10と半導体層12との間には、絶縁膜であるアンダーコート層が介在していても良い。このようなアンダーコート層は、例えば、酸化シリコン及び窒化シリコンなどの無機系材料によって形成される。   An undercoat layer that is an insulating film may be interposed between the insulating substrate 10 and the semiconductor layer 12. Such an undercoat layer is formed of an inorganic material such as silicon oxide and silicon nitride, for example.

この半導体層12は、第1絶縁膜であるゲート絶縁膜14によって覆われている。また、ゲート絶縁膜14は、絶縁基板10の上にも配置されている。このゲート絶縁膜14は、例えば、酸化シリコン及び窒化シリコンなどの無機系材料によって形成されている。   The semiconductor layer 12 is covered with a gate insulating film 14 that is a first insulating film. The gate insulating film 14 is also disposed on the insulating substrate 10. The gate insulating film 14 is made of an inorganic material such as silicon oxide and silicon nitride, for example.

スイッチング素子Wのゲート電極WGは、ゲート絶縁膜14の上に配置され、半導体層12のチャネル領域12Cの直上に位置している。このゲート電極WGは、例えば、ゲート絶縁膜14の上に配置されたゲート線Yと一体的に形成されている。このようなゲート線Y、及び、ゲート電極WGは、同一材料を用いて同一工程で形成可能である。   The gate electrode WG of the switching element W is disposed on the gate insulating film 14 and is located immediately above the channel region 12 </ b> C of the semiconductor layer 12. For example, the gate electrode WG is integrally formed with the gate line Y disposed on the gate insulating film 14. Such a gate line Y and a gate electrode WG can be formed in the same process using the same material.

これらのゲート線Y、及び、ゲート電極WGは、第2絶縁膜である層間絶縁膜16によって覆われている。また、この層間絶縁膜16は、ゲート絶縁膜14の上にも配置されている。この層間絶縁膜16は、例えば、酸化シリコン及び窒化シリコンなどの無機系材料によって形成されている。   These gate lines Y and gate electrodes WG are covered with an interlayer insulating film 16 which is a second insulating film. The interlayer insulating film 16 is also disposed on the gate insulating film 14. The interlayer insulating film 16 is made of an inorganic material such as silicon oxide and silicon nitride, for example.

スイッチング素子Wのソース電極WSは、層間絶縁膜16の上に配置されている。このソース電極WSは、例えば、層間絶縁膜16の上に配置されたソース線Xと一体的に形成されている。また、ソース電極WSは、半導体層12のソース領域12Sにコンタクトしている。   The source electrode WS of the switching element W is disposed on the interlayer insulating film 16. For example, the source electrode WS is integrally formed with the source line X disposed on the interlayer insulating film 16. The source electrode WS is in contact with the source region 12S of the semiconductor layer 12.

スイッチング素子Wのドレイン電極WDは、層間絶縁膜16の上に配置されている。このドレイン電極WDは、半導体層12のドレイン領域12Dにコンタクトしている。これらのソース線X、ソース電極WS、及び、ドレイン電極WDは、同一材料を用いて同一工程で形成可能である。   The drain electrode WD of the switching element W is disposed on the interlayer insulating film 16. The drain electrode WD is in contact with the drain region 12D of the semiconductor layer 12. These source line X, source electrode WS, and drain electrode WD can be formed in the same process using the same material.

ソース線X、ソース電極WS、及び、ドレイン電極WDは、第3絶縁膜である有機絶縁膜18によって覆われている。また、この有機絶縁膜18は、層間絶縁膜16の上にも配置されている。このような有機絶縁膜18は、例えば、光透過性を有する樹脂層などの有機系材料によって形成されている。このような有機絶縁膜18は、例えば、スピンコートなどの手法によって塗布された後に硬化処理されることにより形成されている。このため、有機絶縁膜18は、下地の凹凸を吸収し、その表面つまり液晶層LQに面する側が概ね平坦に形成されている。   The source line X, the source electrode WS, and the drain electrode WD are covered with an organic insulating film 18 that is a third insulating film. The organic insulating film 18 is also disposed on the interlayer insulating film 16. Such an organic insulating film 18 is formed of, for example, an organic material such as a light-transmissive resin layer. Such an organic insulating film 18 is formed, for example, by being applied with a technique such as spin coating and then subjected to a curing process. For this reason, the organic insulating film 18 absorbs the unevenness of the base, and the surface thereof, that is, the side facing the liquid crystal layer LQ is formed substantially flat.

画素電極EPは、有機絶縁膜18の上に配置され、ドレイン電極WDと電気的に接続されている。このような画素電極EPは、反射電極R及び透過電極Tを有している。反射電極Rは、画素PXの反射部PRに配置されている。この反射電極Rは、アルミニウム(Al)などの光反射性を有する導電材料によって形成されている。透過電極Tは、画素PXの透過部PTに配置されている。この透過電極Tは、インジウム・ティン・オキサイド(ITO)やインジウム・ジンク・オキサイド(IZO)などの光透過性を有する導電材料によって形成されている。   The pixel electrode EP is disposed on the organic insulating film 18 and is electrically connected to the drain electrode WD. Such a pixel electrode EP has a reflective electrode R and a transmissive electrode T. The reflective electrode R is disposed in the reflective part PR of the pixel PX. The reflective electrode R is formed of a light reflective conductive material such as aluminum (Al). The transmissive electrode T is disposed in the transmissive part PT of the pixel PX. The transmissive electrode T is formed of a light-transmissive conductive material such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO).

このような構成のアレイ基板ARの対向基板CTと向かい合う側の表面、つまり、液晶層LQに接する面は、第1配向膜20によって覆われている。第1配向膜20は、例えば、ポリイミド(PI)によって形成されている。   The surface of the array substrate AR having such a configuration facing the counter substrate CT, that is, the surface in contact with the liquid crystal layer LQ is covered with the first alignment film 20. The first alignment film 20 is made of, for example, polyimide (PI).

一方、液晶表示パネルLPNの対向基板CTは、ガラス板や石英板などの光透過性を有する絶縁基板30を用いて形成されている。この対向基板CTは、絶縁基板30の第1面30Aつまりアレイ基板ARと向かい合う側に、ブラックマトリクス31、カラーフィルタ層32、オーバーコート層33、樹脂層34、対向電極ETなどを備えている。   On the other hand, the counter substrate CT of the liquid crystal display panel LPN is formed using an insulating substrate 30 having optical transparency such as a glass plate or a quartz plate. The counter substrate CT includes a black matrix 31, a color filter layer 32, an overcoat layer 33, a resin layer 34, a counter electrode ET, and the like on the first surface 30A of the insulating substrate 30, that is, the side facing the array substrate AR.

ブラックマトリクス31は、画素PXの間に配置されている。このブラックマトリクス31は、黒色に着色された樹脂材料やクロム(Cr)などの遮光性を有する金属材料などによって形成可能である。このようなブラックマトリクス31は、絶縁基板30の上に配置され、アレイ基板ARに設けられたスイッチング素子Wや、上述したゲート線Y及びソース線Xなどの各種配線に対向している。   The black matrix 31 is disposed between the pixels PX. The black matrix 31 can be formed of a resin material colored black or a metal material having a light shielding property such as chromium (Cr). Such a black matrix 31 is disposed on the insulating substrate 30 and faces the switching elements W provided on the array substrate AR and various wirings such as the gate lines Y and the source lines X described above.

カラーフィルタ層32は、各画素PXに配置され、画素電極EPと向かい合っている。このようなカラーフィルタ層32は、絶縁基板30の上に配置され、カラーフィルタ層32の周囲を囲むように配置されたブラックマトリクス31に一部が積層されている。このようなカラーフィルタ層32の反射電極Rに向かい合う一部には開口部OPが形成されている。この開口部OPは、カラーフィルタ層32を絶縁基板30まで貫通している。   The color filter layer 32 is disposed in each pixel PX and faces the pixel electrode EP. Such a color filter layer 32 is disposed on the insulating substrate 30, and a part of the color filter layer 32 is laminated on the black matrix 31 disposed so as to surround the color filter layer 32. An opening OP is formed in a part of the color filter layer 32 facing the reflective electrode R. The opening OP penetrates the color filter layer 32 to the insulating substrate 30.

オーバーコート層33は、カラーフィルタ層32及び開口部OPの上に配置されている。このオーバーコート層33は、カラーフィルタ層32の表面の凹凸の影響を緩和し、その表面つまり液晶層LQに面する側が概ね平坦に形成されている。このようなオーバーコート層33は、透明な樹脂材料によって形成されている。   The overcoat layer 33 is disposed on the color filter layer 32 and the opening OP. The overcoat layer 33 alleviates the influence of unevenness on the surface of the color filter layer 32, and the surface, that is, the side facing the liquid crystal layer LQ is formed substantially flat. Such an overcoat layer 33 is formed of a transparent resin material.

樹脂層34は、反射部PRに配置され、反射電極Rと向かい合っている。なお、樹脂層34は、透過部PTには配置されていない。このような樹脂層34は、オーバーコート層33の上に配置されている。この樹脂層34は、透明な樹脂材料によって形成されている。   The resin layer 34 is disposed in the reflective portion PR and faces the reflective electrode R. The resin layer 34 is not disposed in the transmission part PT. Such a resin layer 34 is disposed on the overcoat layer 33. This resin layer 34 is formed of a transparent resin material.

対向電極ETは、各画素PXの画素電極EPと向かい合っている。このような対向電極ETは、オーバーコート層33及び樹脂層34の上に配置されている。この対向電極ETは、ITOやIZOなどの光透過性を有する導電材料によって形成されている。   The counter electrode ET faces the pixel electrode EP of each pixel PX. Such a counter electrode ET is disposed on the overcoat layer 33 and the resin layer 34. The counter electrode ET is formed of a light-transmitting conductive material such as ITO or IZO.

このような対向基板CTのアレイ基板ARと向かい合う側の表面、つまり液晶層LQに接する面は、第2配向膜36によって覆われている。第2配向膜36は、第1配向膜20と同様に、例えばポリイミドによって形成されている。   The surface of the counter substrate CT facing the array substrate AR, that is, the surface in contact with the liquid crystal layer LQ is covered with the second alignment film 36. Similar to the first alignment film 20, the second alignment film 36 is made of, for example, polyimide.

上述したようなアレイ基板ARと対向基板CTとは、それぞれの第1配向膜20及び第2配向膜36が対向するように配置されている。このとき、アレイ基板ARの第1配向膜20と対向基板CTの第2配向膜36との間には、図示しないスペーサ(例えば、樹脂材料によって一方の基板に一体的に形成された柱状スペーサ)が配置されている。これにより、アレイ基板ARと対向基板CTとの間に、所定のセルギャップが形成されている。   The array substrate AR and the counter substrate CT as described above are arranged so that the first alignment film 20 and the second alignment film 36 face each other. At this time, between the first alignment film 20 of the array substrate AR and the second alignment film 36 of the counter substrate CT, a spacer (not shown) (for example, a columnar spacer integrally formed on one substrate with a resin material). Is arranged. Thereby, a predetermined cell gap is formed between the array substrate AR and the counter substrate CT.

液晶層LQは、上述したセルギャップに封入されている。すなわち、液晶層LQは、アレイ基板ARの画素電極EPと対向基板CTの対向電極ETとの間に保持された液晶分子を含む液晶組成物によって構成されている。液晶層LQと画素電極EPとの間には、第1配向膜20が介在している。液晶層LQと対向電極ETとの間には、第2配向膜36が介在している。   The liquid crystal layer LQ is enclosed in the cell gap described above. That is, the liquid crystal layer LQ is made of a liquid crystal composition including liquid crystal molecules held between the pixel electrode EP of the array substrate AR and the counter electrode ET of the counter substrate CT. The first alignment film 20 is interposed between the liquid crystal layer LQ and the pixel electrode EP. A second alignment film 36 is interposed between the liquid crystal layer LQ and the counter electrode ET.

液晶表示パネルLPNの一方の外面、つまり、アレイ基板ARを構成する絶縁基板10の第1面10Aとは反対側の第2面10Bには、第1偏光板PL1を有する第1光学素子OD1が接着剤などにより貼付されている。また、液晶表示パネルLPNの他方の外面、つまり、対向基板CTを構成する絶縁基板30の第1面30Aとは反対側の第2面30Bには、第2偏光板PL2を有する第2光学素子OD2が接着剤などにより貼付されている。なお、第1光学素子OD1及び第2光学素子OD2は、必要に応じて位相差板を有していてもよい。   On one outer surface of the liquid crystal display panel LPN, that is, the second surface 10B opposite to the first surface 10A of the insulating substrate 10 constituting the array substrate AR, the first optical element OD1 having the first polarizing plate PL1 is provided. Affixed with an adhesive. The second optical element having the second polarizing plate PL2 is provided on the other outer surface of the liquid crystal display panel LPN, that is, on the second surface 30B opposite to the first surface 30A of the insulating substrate 30 constituting the counter substrate CT. OD2 is affixed with an adhesive or the like. Note that the first optical element OD1 and the second optical element OD2 may have a retardation plate as necessary.

また、図2に示すように、液晶表示パネルLPNを照明するバックライトBLは、液晶表示パネルLPNのアレイ基板ARと向かい合う側に配置されている。このようなバックライトBLとしては、種々の形態が適用可能であり、また、光源として発光ダイオードを利用したものや冷陰極管を利用したものなどのいずれでも適用可能であり、詳細な構造については説明を省略する。   Further, as shown in FIG. 2, the backlight BL that illuminates the liquid crystal display panel LPN is disposed on the side of the liquid crystal display panel LPN facing the array substrate AR. As such a backlight BL, various forms can be applied, and any one using a light-emitting diode or a cold cathode tube as a light source can be applied. Description is omitted.

図3は、本実施形態におけるアレイ基板ARの構造を模式的に示す平面図である。この図3において、各画素PXは、列方向(第1方向)Vに並んだ反射部PR及び透過部PTを有している。第1画素PX1、第2画素PX2、及び、第3画素PX3は、この順に行方向(第2方向)Hに並んでいる。例えば、第1画素PX1は緑色を表示する緑色画素であり、第2画素PX2は青色を表示する青色画素であり、第3画素PX3は赤色を表示する赤色画素である。   FIG. 3 is a plan view schematically showing the structure of the array substrate AR in the present embodiment. In FIG. 3, each pixel PX has a reflection part PR and a transmission part PT arranged in the column direction (first direction) V. The first pixel PX1, the second pixel PX2, and the third pixel PX3 are arranged in the row direction (second direction) H in this order. For example, the first pixel PX1 is a green pixel that displays green, the second pixel PX2 is a blue pixel that displays blue, and the third pixel PX3 is a red pixel that displays red.

第1画素PX1は、第1反射部PR1に配置された第1反射電極R1及び第1透過部PT1に配置された第1透過電極T1を有する第1画素電極EP1を備えている。第1反射電極R1及び第1透過電極T1は、列方向Vに並んでいる。   The first pixel PX1 includes a first pixel electrode EP1 having a first reflective electrode R1 disposed in the first reflective part PR1 and a first transmissive electrode T1 disposed in the first transmissive part PT1. The first reflective electrode R1 and the first transmissive electrode T1 are arranged in the column direction V.

第2画素PX2は、第2反射部PR2に配置された第2反射電極R2及び第2透過部PT2に配置された第2透過電極T2を有する第2画素電極EP2を備えている。第2反射電極R2及び第2透過電極T2は、列方向Vに並んでいる。   The second pixel PX2 includes a second pixel electrode EP2 having a second reflective electrode R2 disposed in the second reflective part PR2 and a second transmissive electrode T2 disposed in the second transmissive part PT2. The second reflective electrode R2 and the second transmissive electrode T2 are arranged in the column direction V.

第3画素PX3は、第3反射部PR3に配置された第3反射電極R3及び第3透過部PT3に配置された第3透過電極T3を有する第3画素電極EP3を備えている。第3反射電極R3及び第3透過電極T3は、列方向Vに並んでいる。   The third pixel PX3 includes a third pixel electrode EP3 having a third reflective electrode R3 disposed in the third reflective part PR3 and a third transmissive electrode T3 disposed in the third transmissive part PT3. The third reflective electrode R3 and the third transmissive electrode T3 are arranged in the column direction V.

第1反射部PR1、第2反射部PR2、及び、第3反射部PR3は、この順に行方向Hに並んでいる。つまり、第1反射電極R1、第2反射電極R2、及び、第3反射電極R3は、この順に行方向Hに並んでいる。第1透過部PT1、第2透過部PT2、及び、第3透過部PT3は、この順に行方向Hに並んでいる。つまり、第1透過電極T1、第2透過電極T2、及び、第3透過電極T3は、この順に行方向Hに並んでいる。   The first reflection part PR1, the second reflection part PR2, and the third reflection part PR3 are arranged in the row direction H in this order. That is, the first reflective electrode R1, the second reflective electrode R2, and the third reflective electrode R3 are arranged in the row direction H in this order. The first transmission part PT1, the second transmission part PT2, and the third transmission part PT3 are arranged in the row direction H in this order. That is, the first transmissive electrode T1, the second transmissive electrode T2, and the third transmissive electrode T3 are arranged in the row direction H in this order.

図4は、図3に示したアレイ基板ARに重ね合わせられる対向基板CTの構造を模式的に示す平面図である。この図4において、図3と同様に、第1画素(緑色画素)PX1、第2画素(青色画素)PX2、及び、第3画素(赤色画素)PX3は、この順に行方向(第2方向)Hに並んでいる。   FIG. 4 is a plan view schematically showing the structure of the counter substrate CT superimposed on the array substrate AR shown in FIG. In FIG. 4, as in FIG. 3, the first pixel (green pixel) PX1, the second pixel (blue pixel) PX2, and the third pixel (red pixel) PX3 are arranged in this order in the row direction (second direction). Lined up with H.

ブラックマトリクス31によって挟まれた第1画素PX1の第1反射部PR1及び第1透過部PT1には、カラーフィルタ層32Gが配置されている。このカラーフィルタ層32Gは、緑色に着色された樹脂材料によって形成されている。第1反射部PRに配置されたカラーフィルタ層32Gには、第1開口部OP1が形成されている。第1開口部OP1は、四角形に形成され、向かい合う2辺OS1及びOS2がブラックマトリクス31に近接している。   A color filter layer 32G is disposed in the first reflection part PR1 and the first transmission part PT1 of the first pixel PX1 sandwiched between the black matrices 31. The color filter layer 32G is formed of a resin material colored in green. A first opening OP1 is formed in the color filter layer 32G disposed in the first reflection part PR. The first opening OP <b> 1 is formed in a quadrangular shape, and two opposite sides OS <b> 1 and OS <b> 2 are close to the black matrix 31.

同様に、ブラックマトリクス31によって挟まれた第2画素PX2の第2反射部PR2及び第2透過部PT2には、カラーフィルタ層32Bが配置されている。このカラーフィルタ層32Bは、青色に着色された樹脂材料によって形成されている。第2反射部PR2に配置されたカラーフィルタ層32Bには、第2開口部OP2が形成されている。この第2開口部OP2は、円形に形成されている。   Similarly, the color filter layer 32B is disposed in the second reflection part PR2 and the second transmission part PT2 of the second pixel PX2 sandwiched between the black matrices 31. The color filter layer 32B is formed of a resin material colored in blue. A second opening OP2 is formed in the color filter layer 32B disposed in the second reflection part PR2. The second opening OP2 is formed in a circular shape.

同様に、ブラックマトリクス31によって挟まれた第3画素PX3の第3反射部PR3及び第3透過部PT3には、カラーフィルタ層32Rが配置されている。このカラーフィルタ層32Rは、赤色に着色された樹脂材料によって形成されている。第3反射部PR3に配置されたカラーフィルタ層32Rには、第3開口部OP3が形成されている。この第3開口部OP3は、第2開口部OP2と同様の円形に形成されている。   Similarly, a color filter layer 32R is disposed in the third reflection part PR3 and the third transmission part PT3 of the third pixel PX3 sandwiched between the black matrices 31. The color filter layer 32R is formed of a resin material colored in red. A third opening OP3 is formed in the color filter layer 32R disposed in the third reflection part PR3. The third opening OP3 is formed in the same circular shape as the second opening OP2.

樹脂層34は、行方向Hに延在し、例えば3つの画素毎の反射部すなわち第1画素PX1の第1反射部PR1、第2画素PX2の第2反射部PR2、及び、第3画素PX3の第3反射部PR3に共通に配置されている。すなわち、この樹脂層34は、図示しないオーバーコート層を介して、第1画素PX1のカラーフィルタ層32Gの直上、第1画素PX1と第2画素PX2との間のブラックマトリクス31の直上、第2画素PX2のカラーフィルタ層32Bの直上、第2画素PX2と第3画素PX3との間のブラックマトリクス31の直上、及び、第3画素PX3のカラーフィルタ層32Rの直上に連なって配置されている。当然のことながら、樹脂層34は、第1開口部OP1、第2開口部OP2、及び、第3開口部OP3の直上にも配置されている。図示していないが、第1画素PX1乃至第3画素PX3は行方向Hに繰り返し配置され、これに対応して樹脂層34も3つの画素毎に繰り返し配置されている。   The resin layer 34 extends in the row direction H, and is, for example, a reflective portion for every three pixels, that is, the first reflective portion PR1 of the first pixel PX1, the second reflective portion PR2 of the second pixel PX2, and the third pixel PX3. The third reflection part PR3 is disposed in common. That is, the resin layer 34 is disposed directly over the color filter layer 32G of the first pixel PX1, over the black matrix 31 between the first pixel PX1 and the second pixel PX2, via the overcoat layer (not shown), The color filter layer 32B is disposed immediately above the color filter layer 32B of the pixel PX2, directly above the black matrix 31 between the second pixel PX2 and the third pixel PX3, and directly above the color filter layer 32R of the third pixel PX3. As a matter of course, the resin layer 34 is also disposed directly above the first opening OP1, the second opening OP2, and the third opening OP3. Although not shown, the first pixel PX1 to the third pixel PX3 are repeatedly arranged in the row direction H, and the resin layer 34 is also repeatedly arranged for every three pixels corresponding to this.

このように本実施形態においては、樹脂層34を3つの画素毎に区切り、樹脂層34とこの樹脂層34の行方向(第2方向)に隣接する樹脂層34とをブラックマトリクス31の幅だけ離間して配置している。言い換えれば、赤色、青色、緑色の3色の画素を一つの単位として、この単位毎に樹脂層34を島状に配置している。このように樹脂層34を配置することにより、オーバーコート層33、及び、樹脂層34上に塗布される膜、例えば、配向膜等が、島状に配置された樹脂層34間の溝を流れ基板全体にムラ無く塗布することができる。これに対し、樹脂層34が、間断無く一続きに各画素を横切って配置されている場合には、樹脂層34と列方向(V方向)に隣接する樹脂層34との間に配向膜等の塗布膜が溜まり、塗布膜がムラになる虞がある。   As described above, in this embodiment, the resin layer 34 is divided into three pixels, and the resin layer 34 and the resin layer 34 adjacent in the row direction (second direction) of the resin layer 34 are equal to the width of the black matrix 31. They are spaced apart. In other words, the red, blue, and green pixels are used as one unit, and the resin layer 34 is arranged in an island shape for each unit. By disposing the resin layer 34 in this manner, the overcoat layer 33 and a film applied on the resin layer 34, such as an alignment film, flow through the grooves between the resin layers 34 disposed in an island shape. It can be applied evenly over the entire substrate. On the other hand, in the case where the resin layer 34 is arranged continuously across the pixels without interruption, an alignment film or the like is provided between the resin layer 34 and the resin layer 34 adjacent in the column direction (V direction). There is a possibility that the coating film accumulates and the coating film becomes uneven.

樹脂層34は、長方形状に形成され、四方のエッジとして、行方向Hに延びた一対の長辺L1及びL2と、列方向Vに延びた一対の短辺S1及びS2とを有している。長辺L1及びL2の長さは、3画素分の行方向Hに沿った長さと略同等である。短辺S1及びS2の長さは、1画素例えば第1反射部PR1の列方向Vに沿った長さと略同等である。樹脂層34の短辺S1は、ブラックマトリクス31及び第1開口部OP1の辺OS1の略直上に位置している。   The resin layer 34 is formed in a rectangular shape and has, as four edges, a pair of long sides L1 and L2 extending in the row direction H and a pair of short sides S1 and S2 extending in the column direction V. . The lengths of the long sides L1 and L2 are substantially equal to the length along the row direction H for three pixels. The lengths of the short sides S1 and S2 are substantially the same as the length along the column direction V of one pixel, for example, the first reflection part PR1. The short side S1 of the resin layer 34 is located substantially immediately above the black matrix 31 and the side OS1 of the first opening OP1.

対向電極ETは、第1乃至第3反射部PR1乃至PR3における樹脂層34の上、及び、第1乃至第3透過部PT1乃至PT3における図示しないオーバーコート層の上に配置されている。このような対向電極ETにおいて、樹脂層34の短辺S1を覆う部分にて、剥離が発生しやすい。これは、第1開口部OP1が第2開口部OP2及び第3開口部OP3よりも大きく、しかも、樹脂層34の短辺S1、ブラックマトリクス31、及び、カラーフィルタ層32Gに形成された第1開口部OP1の辺OS1が近接しているために、樹脂層34、ブラックマトリクス31、及び、カラーフィルタ層32Gを形成する材料の熱膨張係数の違いから生じる応力歪が集中することに起因している。   The counter electrode ET is disposed on the resin layer 34 in the first to third reflecting portions PR1 to PR3 and on the overcoat layer (not shown) in the first to third transmitting portions PT1 to PT3. In such a counter electrode ET, peeling is likely to occur at a portion covering the short side S1 of the resin layer 34. This is because the first opening OP1 is larger than the second opening OP2 and the third opening OP3, and the first side formed in the short side S1, the black matrix 31, and the color filter layer 32G of the resin layer 34. Due to the proximity of the side OS1 of the opening OP1, stress strains resulting from differences in the thermal expansion coefficients of the materials forming the resin layer 34, the black matrix 31, and the color filter layer 32G are concentrated. Yes.

図5は、図3に示したアレイ基板ARに重ね合わせられる第1実施形態の対向基板CTの構造を模式的に示す平面図である。なお、図4に示した対向基板CTと同一構成については同一の参照符号を付して詳細な説明を省略する。   FIG. 5 is a plan view schematically showing the structure of the counter substrate CT of the first embodiment superimposed on the array substrate AR shown in FIG. The same components as those of the counter substrate CT shown in FIG.

ブラックマトリクス31間の第1画素PX1に配置されたカラーフィルタ層32Gには、第1反射部PR1において略四角形状の第1開口部OP1が形成されている。この第1開口部OP1は、四方のエッジとして、辺OS1〜OS4を有している。このような第1開口部OP1は、第2画素PX2の第2反射部PR2のカラーフィルタ層32Bに形成された円形状の第2開口部OP2、及び、第3画素PX3の第3反射部PR3のカラーフィルタ層32Rに形成された円形状の第3開口部OP3のいずれの面積よりも大きく形成されている。   In the color filter layer 32G disposed in the first pixel PX1 between the black matrices 31, a first opening OP1 having a substantially rectangular shape is formed in the first reflection part PR1. The first opening OP1 has sides OS1 to OS4 as four edges. The first opening OP1 has a circular second opening OP2 formed in the color filter layer 32B of the second reflection part PR2 of the second pixel PX2, and a third reflection part PR3 of the third pixel PX3. It is formed larger than any area of the circular third opening OP3 formed in the color filter layer 32R.

樹脂層34は、第1乃至第3反射部PR1乃至PR3に配置されており、当然のことながら、第1乃至第3開口部OP1乃至OP3の上にも配置されている。このような樹脂層34は、長方形状に形成され、四方のエッジとして、行方向Hに延びた一対の長辺L1及びL2と、列方向Vに延びた一対の短辺S1及びS2とを有している。これらの短辺S1及びS2、及び、長辺L1及びL2は、いずれも第1開口部OP1の辺OS1〜OS4の直上に重なることはなく、これらの辺OS1〜OS4の直上の位置よりも外側に位置している。   The resin layer 34 is disposed in the first to third reflecting portions PR1 to PR3, and, of course, is also disposed on the first to third openings OP1 to OP3. Such a resin layer 34 is formed in a rectangular shape, and has, as four edges, a pair of long sides L1 and L2 extending in the row direction H and a pair of short sides S1 and S2 extending in the column direction V. is doing. The short sides S1 and S2 and the long sides L1 and L2 do not overlap directly above the sides OS1 to OS4 of the first opening OP1, and are outside the positions directly above these sides OS1 to OS4. Is located.

この第1実施形態においては、樹脂層34によって覆われる3つの反射部PR1乃至PR3のうち、端側の第1反射部PR1に形成された第1開口部OP1は、中央寄り、つまり第2反射部PR2の側に偏在している。つまり、第1開口部OP1は、樹脂層34の短辺S1から離間して配置され、第1画素PX1と第2画素PX2との間のブラックマトリクス31に近接している。また、このような構成の対向基板CTを図3に示したアレイ基板ARと重ね合わせた場合には、第1開口部OP1は、第2画素PX2に配置された第2反射電極R2の側に偏在している。   In the first embodiment, of the three reflecting portions PR1 to PR3 covered by the resin layer 34, the first opening OP1 formed in the first reflecting portion PR1 on the end side is closer to the center, that is, the second reflecting portion. It is unevenly distributed on the side of the part PR2. In other words, the first opening OP1 is disposed apart from the short side S1 of the resin layer 34 and is close to the black matrix 31 between the first pixel PX1 and the second pixel PX2. Further, when the counter substrate CT having such a configuration is overlapped with the array substrate AR shown in FIG. 3, the first opening OP1 is located on the second reflective electrode R2 side disposed in the second pixel PX2. It is unevenly distributed.

このため、第1開口部OP1の辺OS1は、樹脂層34の短辺S1から距離を置いて配置されている。また、第1開口部OP1の他の辺OS2〜OS4のいずれも樹脂層34の短辺S1及びS2、及び、長辺L1及びL2より内側に配置されている。第1開口部OP1の辺OS1〜OS4は、樹脂層34の短辺S1及びS2、及び、長辺L1及びL2から7μm以上離れて配置されることが望ましい。   For this reason, the side OS1 of the first opening OP1 is arranged at a distance from the short side S1 of the resin layer 34. Further, all of the other sides OS2 to OS4 of the first opening OP1 are disposed on the inner side of the short sides S1 and S2 and the long sides L1 and L2 of the resin layer 34. The sides OS1 to OS4 of the first opening OP1 are desirably arranged at a distance of 7 μm or more from the short sides S1 and S2 and the long sides L1 and L2 of the resin layer 34.

このような第1実施形態によれば、局所的な応力歪の集中を抑制することができ、第1乃至第3反射部PR1乃至PR3における樹脂層34の上、及び、第1乃至第3透過部PT1乃至PT3における図示しないオーバーコート層の上に配置された対向電極ETの剥離を抑制することができる。   According to the first embodiment, local stress strain concentration can be suppressed, and the first to third transmission layers on the resin layer 34 in the first to third reflecting portions PR1 to PR3. It is possible to suppress peeling of the counter electrode ET disposed on the overcoat layer (not shown) in the portions PT1 to PT3.

したがって、対向電極ETの剥離に起因した表示不良の発生及び気泡の発生を防止することができ、表示品位を向上することが可能となるとともに、信頼性を向上することが可能となる。   Therefore, it is possible to prevent display defects and bubbles from being generated due to peeling of the counter electrode ET, thereby improving display quality and improving reliability.

なお、この第1実施形態では、緑色画素である第1画素PX1に形成された第1開口部OP1が最も大きい場合について説明したが、第1画素PX1が青色画素や赤色画素であっても良い。つまり、青色画素や赤色画素に最も大きい開口部が形成されても良い。行方向Hに並んだ複数の画素PXに跨って樹脂層34を配置した場合、樹脂層34の短辺S1及びS2がカラーフィルタ層に形成された開口部のエッジの直上よりも外側に位置していることにより、対向電極ETの剥離を抑制できる。   In the first embodiment, the case where the first opening OP1 formed in the first pixel PX1 that is a green pixel is the largest is described. However, the first pixel PX1 may be a blue pixel or a red pixel. . That is, the largest opening may be formed in the blue pixel or the red pixel. When the resin layer 34 is disposed across the plurality of pixels PX arranged in the row direction H, the short sides S1 and S2 of the resin layer 34 are located outside the position immediately above the edge of the opening formed in the color filter layer. Therefore, peeling of the counter electrode ET can be suppressed.

特に、樹脂層34の端側の画素に最も大きい開口部が形成されている場合には、樹脂層34のエッジが開口部のエッジの直上よりも外側に位置していることにより、開口部に起因したカラーフィルタ層の段差の影響が緩和され、オーバーコート層33を介して配置される樹脂層34の凹凸も小さくなることから、樹脂層34の上に配置される対向電極ETの剥離を抑制できる。   In particular, when the largest opening is formed in the pixel on the end side of the resin layer 34, the edge of the resin layer 34 is located outside the edge of the opening, so that the opening The effect of the step of the color filter layer due to this is mitigated, and the unevenness of the resin layer 34 disposed via the overcoat layer 33 is also reduced, so that the peeling of the counter electrode ET disposed on the resin layer 34 is suppressed. it can.

次に、第1実施形態の変形例について説明する。   Next, a modification of the first embodiment will be described.

図6に示した変形例1では、第1開口部OP1は、円形に形成されている。この第1開口部OP1の面積は、図5に示した四角形状の第1開口部と略同一であり、第2開口部OP2及び第3開口部OP3の面積よりも大きい。樹脂層34の短辺S1及びS2、及び、長辺L1及びL2は、いずれも第1開口部OP1のエッジの直上の位置よりも外側に位置している。   In the first modification shown in FIG. 6, the first opening OP1 is formed in a circular shape. The area of the first opening OP1 is substantially the same as the rectangular first opening shown in FIG. 5, and is larger than the areas of the second opening OP2 and the third opening OP3. The short sides S1 and S2 and the long sides L1 and L2 of the resin layer 34 are both located outside the position immediately above the edge of the first opening OP1.

このような変形例1においても、上述したのと同様の効果が得られる。   In the first modification, the same effect as described above can be obtained.

図7に示した変形例2では、第1開口部OP1は、ピンクッション形(あるいは糸巻き型)に形成されている。すなわち、第1開口部OP1は、略四角形状でありながら、四方のエッジである辺OS1〜OS4が内側に窪むように湾曲している。この第1開口部OP1の面積は、図5に示した四角形状の第1開口部と略同一であり、第2開口部OP2及び第3開口部OP3の面積よりも大きい。樹脂層34の短辺S1及びS2、及び、長辺L1及びL2は、いずれも第1開口部OP1の辺OS1〜OS4の直上の位置よりも外側に位置している。   In the second modification shown in FIG. 7, the first opening OP1 is formed in a pin cushion shape (or a pincushion shape). That is, the first opening OP1 is curved so that the sides OS1 to OS4 which are the edges of the four sides are recessed inward while being substantially rectangular. The area of the first opening OP1 is substantially the same as the rectangular first opening shown in FIG. 5, and is larger than the areas of the second opening OP2 and the third opening OP3. The short sides S1 and S2 and the long sides L1 and L2 of the resin layer 34 are both located outside the position immediately above the sides OS1 to OS4 of the first opening OP1.

このような変形例2においても、上述したのと同様の効果が得られる。   In the second modification, the same effect as described above can be obtained.

図8に示した変形例3では、第1開口部OP1は、複数の孔HL…によって形成されている。各孔HLは、例えば円形に形成されているが、他の形状、例えば三角形や四角形などの多角形状であっても良い。これらの孔HLは、マトリクス状に配置されている。これらの孔HLの総面積つまり第1開口部OP1の面積は、図5に示した四角形状の第1開口部と略同一であり、第2開口部OP2及び第3開口部OP3の面積よりも大きい。樹脂層34の短辺S1及びS2、及び、長辺L1及びL2は、いずれも各孔HLの直上の位置よりも外側に位置している。   In the third modification shown in FIG. 8, the first opening OP1 is formed by a plurality of holes HL. Each hole HL is formed in a circular shape, for example, but may have another shape, for example, a polygonal shape such as a triangle or a quadrangle. These holes HL are arranged in a matrix. The total area of these holes HL, that is, the area of the first opening OP1, is substantially the same as the rectangular first opening shown in FIG. 5, and is larger than the areas of the second opening OP2 and the third opening OP3. large. The short sides S1 and S2 and the long sides L1 and L2 of the resin layer 34 are all located outside the positions directly above the holes HL.

このような変形例3においても、上述したのと同様の効果が得られる。加えて、第1開口部OP1が微小な直径を有する複数の孔HLによって形成されたことにより、これらの上に配置されるオーバーコート層33を介して配置される樹脂層34の凹凸もさらに小さくなることから、樹脂層34の上に配置される対向電極ETの剥離を抑制できる。   In the third modification, the same effect as described above can be obtained. In addition, since the first opening OP1 is formed by the plurality of holes HL having a minute diameter, the unevenness of the resin layer 34 disposed via the overcoat layer 33 disposed thereon is further reduced. Therefore, peeling of the counter electrode ET disposed on the resin layer 34 can be suppressed.

図9に示した変形例4では、第1開口部OP1は、複数のスリットSL…によって形成されている。各スリットSLは、列方向Vに延びた略長方形状である。これらのスリットSLは、行方向Hに沿って並んでいる。これらのスリットSLの総面積つまり第1開口部OP1の面積は、図5に示した四角形状の第1開口部と略同一であり、第2開口部OP2及び第3開口部OP3の面積よりも大きい。樹脂層34の短辺S1及びS2、及び、長辺L1及びL2は、いずれも各スリットSLの直上の位置よりも外側に位置している。   In the fourth modification shown in FIG. 9, the first opening OP1 is formed by a plurality of slits SL. Each slit SL has a substantially rectangular shape extending in the column direction V. These slits SL are arranged along the row direction H. The total area of these slits SL, that is, the area of the first opening OP1 is substantially the same as the rectangular first opening shown in FIG. 5, and is larger than the areas of the second opening OP2 and the third opening OP3. large. The short sides S1 and S2 and the long sides L1 and L2 of the resin layer 34 are all located outside the position immediately above each slit SL.

このような変形例4においても、上述した変形例3と同様の効果が得られる。   In the fourth modification, the same effect as in the third modification described above can be obtained.

次に、第2実施形態について説明する。   Next, a second embodiment will be described.

図10は、図3に示したアレイ基板ARに重ね合わせられる第2実施形態の対向基板CTの構造を模式的に示す平面図である。なお、図4に示した対向基板CTと同一構成については同一の参照符号を付して詳細な説明を省略する。   FIG. 10 is a plan view schematically showing the structure of the counter substrate CT of the second embodiment superimposed on the array substrate AR shown in FIG. The same components as those of the counter substrate CT shown in FIG.

この第2実施形態では、行方向Hに並んだ3以上の画素PXに跨って樹脂層34が配置される場合に、樹脂層34の両端に位置する画素に形成された開口部の面積が、それらの間の画素に形成された開口部の面積よりも小さい点で、上述した第1実施形態と相違している。   In the second embodiment, when the resin layer 34 is disposed across three or more pixels PX arranged in the row direction H, the area of the openings formed in the pixels located at both ends of the resin layer 34 is as follows. It differs from the first embodiment described above in that it is smaller than the area of the opening formed in the pixel between them.

図10に示した例では、第1画素PX1、第2画素PX2、及び、第3画素PX3は、この順に行方向Hに並んでいる。例えば、第1画素PX1は赤色を表示する赤色画素であり、第2画素PX2は緑色を表示する緑色画素であり、第3画素PX3は青色を表示する青色画素である。   In the example shown in FIG. 10, the first pixel PX1, the second pixel PX2, and the third pixel PX3 are arranged in the row direction H in this order. For example, the first pixel PX1 is a red pixel that displays red, the second pixel PX2 is a green pixel that displays green, and the third pixel PX3 is a blue pixel that displays blue.

ブラックマトリクス31間の第1画素PX1において、第1透過部PT1及び第1反射部PR1には、カラーフィルタ層32Rが配置されている。このカラーフィルタ層32Rには、第1反射部PR1において円形状の第1開口部OP1が形成されている。同様に、ブラックマトリクス31間の第3画素PX3において、第3透過部PT3及び第3反射部PR3には、カラーフィルタ層32Bが配置されている。このカラーフィルタ層32Bには、第3反射部PR3において円形状の第3開口部OP3が形成されている。これらの第1開口部OP1及び第3開口部OP3は、略同等の面積である。   In the first pixel PX1 between the black matrices 31, a color filter layer 32R is disposed in the first transmission part PT1 and the first reflection part PR1. In the color filter layer 32R, a circular first opening OP1 is formed in the first reflection part PR1. Similarly, in the third pixel PX3 between the black matrices 31, the color filter layer 32B is disposed in the third transmission part PT3 and the third reflection part PR3. In the color filter layer 32B, a circular third opening OP3 is formed in the third reflection part PR3. The first opening OP1 and the third opening OP3 have substantially the same area.

ブラックマトリクス31間の第2画素PX2において、第2透過部PT2及び第2反射部PR2には、カラーフィルタ層32Gが配置されている。このカラーフィルタ層32Gには、第2反射部PR2において略四角形状の第2開口部OP2が形成されている。この第2開口部OP2は、四方のエッジとして、辺OS1〜OS4を有している。このような第2開口部OP2は、第1開口部OP1及び第3開口部OP3のいずれの面積よりも大きく形成されている。   In the second pixel PX2 between the black matrices 31, a color filter layer 32G is disposed in the second transmission part PT2 and the second reflection part PR2. In the color filter layer 32G, a second opening OP2 having a substantially square shape is formed in the second reflection part PR2. The second opening OP2 has sides OS1 to OS4 as edges on all sides. Such a second opening OP2 is formed larger than any area of the first opening OP1 and the third opening OP3.

樹脂層34は、第1乃至第3反射部PR1乃至PR3に配置されており、当然のことながら、第1乃至第3開口部OP1乃至OP3の上にも配置されている。このような樹脂層34は、長方形状に形成され、四方のエッジとして、行方向Hに延びた一対の長辺L1及びL2と、列方向Vに延びた一対の短辺S1及びS2とを有している。これらの短辺S1及びS2、及び、長辺L1及びL2は、いずれも第2開口部OP2の辺OS1〜OS4の直上に重なることはなく、これらの辺OS1〜OS4の直上の位置よりも外側に位置している。   The resin layer 34 is disposed in the first to third reflecting portions PR1 to PR3, and, of course, is also disposed on the first to third openings OP1 to OP3. Such a resin layer 34 is formed in a rectangular shape, and has, as four edges, a pair of long sides L1 and L2 extending in the row direction H and a pair of short sides S1 and S2 extending in the column direction V. is doing. The short sides S1 and S2 and the long sides L1 and L2 do not overlap directly above the sides OS1 to OS4 of the second opening OP2, and are outside the positions directly above these sides OS1 to OS4. Is located.

この第2実施形態においては、樹脂層34によって覆われる3つの反射部PR1乃至PR3のうち、樹脂層34の両側の第1反射部PR1に形成された第1開口部OP1及び第3反射部PR3に形成された第3開口部OP3は、樹脂層34の中央の第2反射部PR2に形成された第2開口部OP2よりも小さい面積を有している。換言すると、樹脂層34の中央の第2反射部PR2に形成された第2開口部OP2は、最も大きい面積を有している。また、このような構成の対向基板CTを図3に示したアレイ基板ARと重ね合わせた場合には、第2開口部OP2は、第2画素PX2に配置された第2反射電極R2に向かい合っている。   In the second embodiment, of the three reflecting portions PR1 to PR3 covered by the resin layer 34, the first opening OP1 and the third reflecting portion PR3 formed in the first reflecting portion PR1 on both sides of the resin layer 34. The third opening OP3 formed in the area has a smaller area than the second opening OP2 formed in the second reflection part PR2 at the center of the resin layer 34. In other words, the second opening OP2 formed in the second reflection part PR2 at the center of the resin layer 34 has the largest area. When the counter substrate CT having such a configuration is overlapped with the array substrate AR shown in FIG. 3, the second opening OP2 faces the second reflective electrode R2 arranged in the second pixel PX2. Yes.

このため、第2開口部OP2のいずれの辺OS1〜OS4も樹脂層34の短辺S1及びS2、及び、長辺L1及びL2より内側に配置されている。   Therefore, any of the sides OS1 to OS4 of the second opening OP2 is disposed on the inner side of the short sides S1 and S2 and the long sides L1 and L2 of the resin layer 34.

このような第2実施形態によれば、局所的な応力歪の集中を抑制することができ、第1乃至第3反射部PR1乃至PR3における樹脂層34の上、及び、第1乃至第3透過部PT1乃至PT3における図示しないオーバーコート層の上に配置された対向電極ETの剥離を抑制することができる。   According to the second embodiment, local stress strain concentration can be suppressed, and the resin layer 34 in the first to third reflection parts PR1 to PR3 and the first to third transmissions can be suppressed. It is possible to suppress peeling of the counter electrode ET disposed on the overcoat layer (not shown) in the portions PT1 to PT3.

したがって、対向電極ETの剥離に起因した表示不良の発生及び気泡の発生を防止することができ、表示品位を向上することが可能となるとともに、信頼性を向上することが可能となる。   Therefore, it is possible to prevent display defects and bubbles from being generated due to peeling of the counter electrode ET, thereby improving display quality and improving reliability.

なお、この第2実施形態では、緑色画素である第2画素PX2に形成された第2開口部OP2が最も大きい場合について説明したが、第2画素PX2が青色画素や赤色画素であっても良い。   In the second embodiment, the case where the second opening OP2 formed in the second pixel PX2 that is a green pixel is the largest has been described. However, the second pixel PX2 may be a blue pixel or a red pixel. .

また、この第2実施形態においても、第1実施形態において説明した変形例1乃至4のいずれも適用可能であり、第2開口部OP2は、円形またはピンクッション形でも良いし、複数の孔HLまたは複数のスリットSLによって形成しても良い。   Also in the second embodiment, any one of the modifications 1 to 4 described in the first embodiment can be applied, and the second opening OP2 may be circular or pincushion-shaped, or may have a plurality of holes HL. Alternatively, it may be formed by a plurality of slits SL.

以上説明したように、この実施の形態によれば、表示品位及び信頼性を向上することが可能な液晶表示装置を提供することができる。   As described above, according to this embodiment, a liquid crystal display device capable of improving display quality and reliability can be provided.

なお、この発明は、上記実施形態そのものに限定されるものではなく、その実施の段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。   In addition, this invention is not limited to the said embodiment itself, In the stage of implementation, it can change and implement a component within the range which does not deviate from the summary. Further, various inventions can be formed by appropriately combining a plurality of constituent elements disclosed in the embodiment. For example, some components may be deleted from all the components shown in the embodiment. Furthermore, you may combine suitably the component covering different embodiment.

LPN…液晶表示パネル AR…アレイ基板 CT…対向基板 LQ…液晶層
DSP…アクティブエリア PX…画素 PR…反射部 PT…透過部
EP…画素電極 R…反射電極 T…透過電極
32…カラーフィルタ層 OP…開口部 HL…孔 SL…スリット
33…オーバーコート層 34…樹脂層
ET…対向電極
LPN ... Liquid crystal display panel AR ... Array substrate CT ... Counter substrate LQ ... Liquid crystal layer DSP ... Active area PX ... Pixel PR ... Reflection part PT ... Transmission part EP ... Pixel electrode R ... Reflection electrode T ... Transmission electrode 32 ... Color filter layer OP ... Opening HL ... Hole SL ... Slit 33 ... Overcoat layer 34 ... Resin layer ET ... Counter electrode

Claims (5)

第1方向に並んだ第1反射部及び第1透過部を有する第1画素に配置された第1カラーフィルタ層と、
前記第1反射部の前記第1カラーフィルタ層に形成された第1開口部と、
前記第1画素の前記第1反射部の第1方向に直交する第2方向に並んだ第2反射部を有するとともに前記第1画素の前記第1透過部の第2方向に並んだ第2透過部を有する第2画素に配置された第2カラーフィルタ層と、
前記第2反射部の前記第2カラーフィルタ層に形成され前記第1開口部より小さい第2開口部と、
前記第1乃至前記第2カラーフィルタ層及び前記第1乃至前記第2開口部の上に配置されたオーバーコート層と、
第2方向に延在して前記第1反射部及び前記第2反射部の前記オーバーコート層の上に配置され、前記第1開口部のエッジの直上よりも外側にエッジが形成された樹脂層と、
前記オーバーコート層及び前記樹脂層の上に配置された対向電極と、
を備えたことを特徴とする液晶表示装置。
A first color filter layer disposed in a first pixel having a first reflection part and a first transmission part arranged in a first direction;
A first opening formed in the first color filter layer of the first reflecting portion;
Second transmission lined in the second direction of the first transmission part of the first pixel and having a second reflection part lined up in a second direction orthogonal to the first direction of the first reflection part of the first pixel. A second color filter layer disposed in a second pixel having a portion;
A second opening formed in the second color filter layer of the second reflecting portion and smaller than the first opening;
An overcoat layer disposed on the first to second color filter layers and the first to second openings;
A resin layer that extends in the second direction and is disposed on the overcoat layer of the first reflective portion and the second reflective portion, and has an edge formed outside the edge of the first opening. When,
A counter electrode disposed on the overcoat layer and the resin layer;
A liquid crystal display device comprising:
前記第1開口部は、前記第2反射部の側に偏在したことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the first opening is unevenly distributed on the second reflecting portion side. 第1方向に並んだ第1反射電極及び第1透過電極を有する第1画素電極と、前記第1画素電極の前記第1反射電極の第1方向に直交する第2方向に並んだ第2反射電極を有する第2画素電極と、を備えた第1基板と、
前記第1画素電極に向かい合う第1カラーフィルタ層と、前記第1カラーフィルタ層の前記第1反射電極に向かい合う一部に形成された第1開口部と、前記第2画素電極に向かい合う第2カラーフィルタ層と、前記第2カラーフィルタ層の前記第2反射電極に向かい合う一部に形成され前記第1開口部より小さい第2開口部と、前記第1乃至前記第2カラーフィルタ層及び前記第1乃至前記第2開口部の上に配置されたオーバーコート層と、前記オーバーコート層の上で前記第1反射電極に向かい合うとともに第2方向に延在して前記第2反射電極にも向かい合い前記第1開口部のエッジの直上よりも外側にエッジが形成された樹脂層と、前記オーバーコート層及び前記樹脂層の上に配置された対向電極と、備えた第2基板と、
前記アレイ基板と前記対向基板との間に保持された液晶層と、
を備えたことを特徴とする液晶表示装置。
A first pixel electrode having a first reflective electrode and a first transmissive electrode arranged in a first direction, and a second reflection arranged in a second direction orthogonal to the first direction of the first reflective electrode of the first pixel electrode A first substrate comprising a second pixel electrode having an electrode;
A first color filter layer facing the first pixel electrode; a first opening formed in a part of the first color filter layer facing the first reflective electrode; and a second color facing the second pixel electrode. A filter layer; a second opening that is formed in a part of the second color filter layer facing the second reflective electrode and is smaller than the first opening; the first to second color filter layers and the first An overcoat layer disposed on the second opening, and faces the first reflective electrode on the overcoat layer and extends in the second direction so as to face the second reflective electrode. A resin layer in which an edge is formed on the outer side directly above the edge of one opening, a counter electrode disposed on the overcoat layer and the resin layer, and a second substrate comprising:
A liquid crystal layer held between the array substrate and the counter substrate;
A liquid crystal display device comprising:
第1方向に並んだ第1反射部及び第1透過部を有する第1画素に配置された第1カラーフィルタ層と、
前記第1反射部の前記第1カラーフィルタ層に形成された第1開口部と、
前記第1画素の前記第1反射部の第1方向に直交する第2方向に並んだ第2反射部を有するとともに前記第1画素の前記第1透過部の第2方向に並んだ第2透過部を有する第2画素に配置された第2カラーフィルタ層と、
前記第2反射部の前記第2カラーフィルタ層に形成され前記第1開口部より大きい第2開口部と、
前記第2画素の前記第2反射部の第2方向に並んだ第3反射部を有するとともに前記第2画素の前記第2透過部の第2方向に並んだ第3透過部を有する第3画素に配置された第3カラーフィルタ層と、
前記第3反射部の前記第3カラーフィルタ層に形成され前記第2開口部より小さい第3開口部と、
前記第1乃至前記第3カラーフィルタ層及び前記第1乃至前記第3開口部の上に配置されたオーバーコート層と、
第2方向に延在して前記第1乃至前記第3反射部の前記オーバーコート層の上に配置された樹脂層と、
前記オーバーコート層及び前記樹脂層の上に配置された対向電極と、
を備えたことを特徴とする液晶表示装置。
A first color filter layer disposed in a first pixel having a first reflection part and a first transmission part arranged in a first direction;
A first opening formed in the first color filter layer of the first reflecting portion;
Second transmission lined in the second direction of the first transmission part of the first pixel and having a second reflection part lined up in a second direction orthogonal to the first direction of the first reflection part of the first pixel. A second color filter layer disposed in a second pixel having a portion;
A second opening formed in the second color filter layer of the second reflecting portion and larger than the first opening;
A third pixel having a third reflective portion arranged in the second direction of the second reflective portion of the second pixel and having a third transmissive portion arranged in the second direction of the second transmissive portion of the second pixel. A third color filter layer disposed on
A third opening formed in the third color filter layer of the third reflecting portion and smaller than the second opening;
An overcoat layer disposed on the first to third color filter layers and the first to third openings;
A resin layer extending in a second direction and disposed on the overcoat layer of the first to third reflective portions;
A counter electrode disposed on the overcoat layer and the resin layer;
A liquid crystal display device comprising:
第1方向に並んだ第1反射電極及び第1透過電極を有する第1画素電極と、前記第1画素電極の前記第1反射電極の第1方向に直交する第2方向に並んだ第2反射電極を有する第2画素電極と、前記第2画素電極の前記第2反射電極の第2方向に並んだ第3反射電極を有する第3画素電極と、を備えた第1基板と、
前記第1画素電極に向かい合う第1カラーフィルタ層と、前記第1カラーフィルタ層の前記第1反射電極に向かい合う一部に形成された第1開口部と、前記第2画素電極に向かい合う第2カラーフィルタ層と、前記第2カラーフィルタ層の前記第2反射電極に向かい合う一部に形成され前記第1開口部より大きい第2開口部と、前記第3画素電極に向かい合う第3カラーフィルタ層と、前記第3カラーフィルタ層の前記第3反射電極に向かい合う一部に形成され前記第2開口部より小さい第3開口部と、前記第1乃至前記第3カラーフィルタ層及び前記第1乃至前記第3開口部の上に配置されたオーバーコート層と、前記オーバーコート層の上で前記第1乃至前記第3反射電極に向かい合うとともに第2方向に延在した樹脂層と、前記オーバーコート層及び前記樹脂層の上に配置された対向電極と、備えた第2基板と、
前記アレイ基板と前記対向基板との間に保持された液晶層と、
を備えたことを特徴とする液晶表示装置。
A first pixel electrode having a first reflective electrode and a first transmissive electrode arranged in a first direction, and a second reflection arranged in a second direction orthogonal to the first direction of the first reflective electrode of the first pixel electrode A first substrate comprising: a second pixel electrode having an electrode; and a third pixel electrode having a third reflective electrode arranged in a second direction of the second reflective electrode of the second pixel electrode;
A first color filter layer facing the first pixel electrode; a first opening formed in a part of the first color filter layer facing the first reflective electrode; and a second color facing the second pixel electrode. A filter layer, a second opening larger than the first opening formed in a part of the second color filter layer facing the second reflective electrode, a third color filter layer facing the third pixel electrode, A third opening smaller than the second opening formed in a part of the third color filter layer facing the third reflective electrode, the first to third color filter layers, and the first to third. An overcoat layer disposed on the opening; a resin layer facing the first to third reflective electrodes on the overcoat layer and extending in a second direction; and the overcoat layer A counter electrode disposed on the coating layer and the resin layer, and a second substrate having,
A liquid crystal layer held between the array substrate and the counter substrate;
A liquid crystal display device comprising:
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