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JP2010251230A - Electric window glass - Google Patents

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JP2010251230A
JP2010251230A JP2009101749A JP2009101749A JP2010251230A JP 2010251230 A JP2010251230 A JP 2010251230A JP 2009101749 A JP2009101749 A JP 2009101749A JP 2009101749 A JP2009101749 A JP 2009101749A JP 2010251230 A JP2010251230 A JP 2010251230A
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JP
Japan
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area
electrode
metal
window glass
wire group
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Abandoned
Application number
JP2009101749A
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Japanese (ja)
Inventor
Sumio Otani
純生 大谷
Tadashi Kuriki
匡志 栗城
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Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
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Publication date
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    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
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    • H05B3/84Heating arrangements specially adapted for transparent or reflecting areas, e.g. for demisting or de-icing windows, mirrors or vehicle windshields
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
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    • B32B17/10376Laminated safety glass or glazing containing metal wires
    • B32B17/10385Laminated safety glass or glazing containing metal wires for ohmic resistance heating

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  • Surface Heating Bodies (AREA)
  • Resistance Heating (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Joining Of Glass To Other Materials (AREA)

Abstract

【課題】金属細線群が視認されにくく、金属細線群と電極との接触部の発熱を低コストで抑制する。
【解決手段】電熱窓ガラス10は、長手方向に沿って形成された発熱部14と、発熱部14の上下に形成された第1電極16及び第2電極18とを備えている。発熱部14には、金属細線42の細線間隔が大きいメッシュ状パターン43Aからなる発熱区域43が形成されており、第1電極16及び第2電極18には、金属細線42の細線間隔が小さいメッシュ状パターン44Aからなる電極区域44が形成されている。それぞれの区域が金属細線で覆われている面積のそれぞれの区域全体の面積に占める割合を電極区域44はAe%、発熱区域43はAc%とすると、
Ac≦Ae、5≦Ae、かつ0<Ac≦20を満たしている。
【選択図】図1
A metal wire group is hardly visible and heat generation at a contact portion between the metal wire group and an electrode is suppressed at low cost.
An electrothermal window glass includes a heat generating portion formed along a longitudinal direction, and a first electrode and a second electrode formed above and below the heat generating portion. The heat generating portion 14 is formed with a heat generating area 43 composed of a mesh pattern 43A having a large fine wire interval between the fine metal wires 42. The first electrode 16 and the second electrode 18 are meshes having a small fine wire interval between the fine metal wires 42. An electrode area 44 made of a pattern 44A is formed. Assuming that the ratio of the area covered by the fine metal wires to the total area of each area is Ae% for the electrode area 44 and Ac% for the heat generation area 43,
Ac ≦ Ae, 5 ≦ Ae, and 0 <Ac ≦ 20 are satisfied.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、電熱窓ガラスに関する。   The present invention relates to an electrothermal window glass.

従来、自動車、航空機、船舶などの窓ガラスに電極ワイヤを埋め込み、電極ワイヤに電流を通して加熱する電気加熱窓が知られている。   2. Description of the Related Art Conventionally, an electric heating window is known in which an electrode wire is embedded in a window glass of an automobile, an aircraft, a ship, and the like, and an electric current is heated through the electrode wire.

下記特許文献1には、3次元曲面ガラス上に数mm間隔で電熱ワイヤを配列し、電熱ワイヤの配列が窓の透明部分の実質上全体にわたって延在するようにした構造が開示されている。   Patent Document 1 below discloses a structure in which electric heating wires are arranged at intervals of several mm on a three-dimensional curved glass so that the arrangement of the electric heating wires extends over substantially the entire transparent portion of the window.

特開平9−207718号公報JP-A-9-207718

上記特許文献1では、3次元曲面ガラス上に数mm間隔で電熱ワイヤを配列する工程が煩雑でコストが高い。また、運転席の前方に電気加熱窓を設けると、運転席から電熱ワイヤが見え、運転しにくい。さらに、電熱ワイヤと電極との接触部の抵抗が大きく、接触部で発熱が起こる可能性がある。   In Patent Document 1, the process of arranging the electric heating wires on the three-dimensional curved glass at intervals of several millimeters is complicated and expensive. If an electric heating window is provided in front of the driver's seat, the electric heating wire can be seen from the driver's seat and it is difficult to drive. Furthermore, the resistance of the contact portion between the electric heating wire and the electrode is large, and heat may be generated at the contact portion.

本発明はこのような課題を考慮してなされたものであり、金属細線群が視認されにくく、金属細線群と電極との接触部の発熱を低コストで抑制することができる電熱窓ガラスを提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of such problems, and provides an electrically heated window glass in which the thin metal wire group is hardly visible and heat generation at the contact portion between the thin metal wire group and the electrode can be suppressed at a low cost. The purpose is to do.

請求項1に記載の発明に係る電熱窓ガラスは、窓ガラス材料からなる1枚以上のガラス層と、前記ガラス層に支持された支持体に多数の金属細線群が形成された導電性層と、前記導電性層の面方向の両側に設けられ、前記導電性層に電気を供給する一対の電極と、を有し、前記導電性層が、前記電極が設けられた電極区域と、前記電極区域に挟まれ前記金属細線群が発熱する発熱区域と、を備え、前記電極区域の面積Eで前記金属細線群で覆われている面積eが占める割合をAe%、前記発熱区域の面積Cで前記金属細線群で覆われている面積cが占める割合をAc%とすると、
Ac≦Ae、5≦Ae、かつ0<Ac≦20
を満たしている。
The electrothermal window glass according to the first aspect of the present invention includes one or more glass layers made of a window glass material, and a conductive layer in which a number of fine metal wire groups are formed on a support supported by the glass layer. A pair of electrodes provided on both sides in the surface direction of the conductive layer and supplying electricity to the conductive layer, the conductive layer comprising an electrode area provided with the electrode, and the electrode A heating area where the metal thin wire group generates heat between the areas, and the area E covered by the metal thin wire group accounts for the area E of the electrode area as Ae% and the area C of the heating area When the ratio occupied by the area c covered with the metal thin wire group is Ac%,
Ac ≦ Ae, 5 ≦ Ae, and 0 <Ac ≦ 20
Meet.

上記の発明によれば、電極区域における金属細線群の割合であるAeと発熱区域における金属細線群の割合であるAcが上記関係式を満たすことにより、発熱区域の透明度が電極区域よりも高くなり、運転席から金属細線群が視認されにくくなる。また、上記関係式を満たすことにより、金属細線群と電極との接触部の抵抗が小さくなり、接触部の発熱を抑制することができる。また、電極区域における金属細線群の割合であるAeと発熱区域における金属細線群の割合であるAcを変える構成であるため、製造が容易であり、低コスト化が可能である。   According to the above invention, the transparency of the heat generation area becomes higher than that of the electrode area when Ae, which is the ratio of the metal thin wire group in the electrode area, and Ac, which is the ratio of the metal thin wire group in the heat generation area, satisfy the above relational expression. The metal thin wire group is less visible from the driver's seat. Moreover, by satisfy | filling the said relational expression, the resistance of the contact part of a metal fine wire group and an electrode becomes small, and it can suppress the heat_generation | fever of a contact part. In addition, since the structure is such that Ae, which is the ratio of the metal thin wire group in the electrode area, and Ac, which is the ratio of the metal thin wire group in the heat generating area, manufacturing is easy and cost reduction is possible.

請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の構成において、前記支持体は、前記金属細線群に覆われていない非発熱区域を有している。   According to a second aspect of the present invention, in the configuration of the first aspect, the support has a non-heat-generating area that is not covered with the metal thin wire group.

上記の発明によれば、支持体は金属細線群に覆われていない非発熱区域を有しており、電熱窓ガラスの不要な区域を発熱させないように構成することができる。また、金属細線群で覆われた区域はETCシステムなどで使用される電波が遮蔽されやすいが、非発熱区域を設けることにより、電波を遮蔽することが阻止される。   According to said invention, the support body has the non-heat-generation area which is not covered with the metal fine wire group, It can comprise so that the unnecessary area | region of an electrothermal window glass may not be heated. In addition, although the area covered with the thin metal wire group is easily shielded from radio waves used in the ETC system or the like, shielding the radio waves is prevented by providing a non-heat generating area.

請求項3に記載の発明は、請求項1又は請求項2に記載の構成において、前記電極区域の前記金属細線群の上に、導電性ペースト層と金属箔が順次積層されており、前記金属箔は、電気供給源と接続された電線に接続されている。   According to a third aspect of the present invention, in the configuration of the first or second aspect, a conductive paste layer and a metal foil are sequentially laminated on the metal thin wire group in the electrode area, and the metal The foil is connected to an electric wire connected to an electric power source.

上記の発明によれば、電極区域の金属細線群の上に導電性ペースト層と金属箔を順次積層することで、金属細線群と電極との接触部の抵抗が小さくなり、接触部の発熱を抑制することができる。   According to the above invention, by sequentially laminating the conductive paste layer and the metal foil on the metal thin wire group in the electrode area, the resistance of the contact portion between the metal thin wire group and the electrode is reduced, and the heat generation in the contact portion is reduced. Can be suppressed.

請求項4に記載の発明は、請求項1又は請求項2に記載の構成において、前記電極区域の前記金属細線群の上に金属箔が積層されており、前記電極区域の前記金属細線群の線幅が前記発熱区域の前記金属細線群の線幅よりも大きく、かつ、前記金属箔は、電気供給源と接続された電線に接続されている。   According to a fourth aspect of the present invention, in the configuration according to the first or second aspect, a metal foil is laminated on the thin metal wire group in the electrode area, and the thin metal wire group in the electrode area. The line width is larger than the line width of the metal thin wire group in the heat generating area, and the metal foil is connected to an electric wire connected to an electric supply source.

上記の発明によれば、電極区域の金属細線群の上に金属箔を積層すると共に、電極区域の金属細線群の線幅を発熱区域の金属細線群の線幅よりも大きくすることで、金属細線群と電極との接触部の抵抗が小さくなり、接触部の発熱を抑制することができる。   According to the above invention, the metal foil is laminated on the metal wire group in the electrode area, and the line width of the metal wire group in the electrode area is made larger than the line width of the metal wire group in the heat generating area. The resistance of the contact portion between the thin wire group and the electrode is reduced, and heat generation at the contact portion can be suppressed.

請求項5に記載の発明は、請求項1又は請求項2に記載の構成において、前記電極区域の前記金属細線群の上に金属箔が積層されており、前記電極区域の単位面積当たりの前記金属細線群の数が前記発熱区域の単位面積当たりの前記金属細線群の数よりも多く、かつ、前記金属箔は、電気供給源と接続された電線に接続されている。   According to a fifth aspect of the present invention, in the configuration according to the first or second aspect, a metal foil is laminated on the metal thin wire group in the electrode area, and the unit per unit area of the electrode area. The number of metal thin wire groups is larger than the number of the metal thin wire groups per unit area of the heat generating area, and the metal foil is connected to an electric wire connected to an electric supply source.

上記の発明によれば、電極区域の金属細線群の上に金属箔を積層すると共に、電極区域の単位面積当たりの金属細線群の数を発熱区域の単位面積当たりの金属細線群の数よりも多くすることで、金属細線群と電極との接触部の抵抗が小さくなり、接触部の発熱を抑制することができる。   According to the above invention, the metal foil is laminated on the metal thin wire group in the electrode area, and the number of metal thin wire groups per unit area in the electrode area is larger than the number of metal thin wire groups per unit area in the heat generating area. By increasing the resistance, the resistance of the contact portion between the metal thin wire group and the electrode is reduced, and heat generation at the contact portion can be suppressed.

請求項6に記載の発明は、請求項1から請求項5までのいずれか1項に記載の構成において、前記発熱区域の前記金属細線群を黒化処理し、前記電極区域の前記金属細線群を黒化処理しない。   According to a sixth aspect of the present invention, in the configuration according to any one of the first to fifth aspects, the metal fine wire group in the heat generation area is blackened, and the metal fine wire group in the electrode area Is not blackened.

上記の発明によれば、発熱区域の金属細線群を黒化処理(例えば、ニッケルめっき等)することにより、金属細線群が視認されにくくなる。また、電極区域の金属細線群を黒化処理しないことにより、電極区域の金属細線群の抵抗が大きくなることを回避できる。   According to said invention, a metal fine wire group becomes difficult to visually recognize by carrying out the blackening process (for example, nickel plating etc.) of the metal fine wire group of an exothermic area. Moreover, it is possible to avoid an increase in the resistance of the thin metal wire group in the electrode area by not blackening the thin metal wire group in the electrode area.

請求項7に記載の発明は、請求項1から請求項6までのいずれか1項に記載の構成において、前記一対の電極の少なくとも一方が途中で折れ曲がり、前記一対の電極間の距離が異なる区域を2つ以上有している。   The invention according to claim 7 is the configuration according to any one of claims 1 to 6, wherein at least one of the pair of electrodes is bent halfway, and the distance between the pair of electrodes is different. 2 or more.

上記の発明によれば、一対の電極間の距離が異なる区域を2つ以上有しており、一対の電極間の距離が短い区域の外側は、金属細線群で覆われていない。このため、ETCシステムなどで使用される電波を遮蔽することを阻止することができる。   According to said invention, it has two or more areas where the distance between a pair of electrodes differs, and the outer side of the area where the distance between a pair of electrodes is short is not covered with the metal fine wire group. For this reason, it is possible to prevent the radio waves used in the ETC system or the like from being shielded.

請求項8に記載の発明は、請求項7に記載の構成において、前記一対の電極間の距離が短い区域と隣接する位置に前記金属細線群で覆われていない非発熱区域が設けられている。   According to an eighth aspect of the present invention, in the configuration according to the seventh aspect, a non-heat generation area not covered with the metal thin wire group is provided at a position adjacent to an area where the distance between the pair of electrodes is short. .

上記の発明によれば、一対の電極間の距離が短い区域と隣接する位置に金属細線群で覆われていない非発熱区域を設けることにより、ETCシステムなどで使用される電波を遮蔽することを阻止することができる。また、非発熱区域を設ける位置的な制限が少なく、設計の自由度が向上する。   According to the above invention, it is possible to shield radio waves used in an ETC system or the like by providing a non-heat generating area that is not covered with a thin metal wire group at a position adjacent to an area where the distance between the pair of electrodes is short. Can be blocked. Moreover, there are few positional restrictions which provide a non-heat-generating area, and the freedom degree of design improves.

請求項9に記載の発明は、請求項7又は請求項8に記載の構成において、前記一対の電極に電圧を印加して前記発熱区域の前記金属細線群を発熱させたときに、前記発熱区域の単位面積当たりの発熱量が均一になるように前記発熱区域の前記金属細線群の表面抵抗が制御されている。   According to a ninth aspect of the present invention, in the configuration of the seventh or eighth aspect, when the voltage is applied to the pair of electrodes to cause the metal thin wire group in the heat generating area to generate heat, the heat generating area The surface resistance of the metal thin wire group in the heat generating area is controlled so that the heat generation amount per unit area of the heat generating area is uniform.

上記の発明によれば、一対の電極間の距離が異なる発熱区域の金属細線群の表面抵抗を制御することにより、発熱区域の単位面積当たりの発熱量をほぼ均一にし、発熱ムラを抑制することができる。   According to the above invention, by controlling the surface resistance of the thin metal wire group in the heat generating area where the distance between the pair of electrodes is different, the heat generation amount per unit area of the heat generating area is made substantially uniform, and uneven heat generation is suppressed. Can do.

請求項10に記載の発明は、請求項7から請求項9までのいずれか1項に記載の構成において、前記一対の電極間の距離に比例するように前記金属細線群の線幅を変化させる。   A tenth aspect of the present invention is the configuration according to any one of the seventh to ninth aspects, wherein the line width of the thin metal wire group is changed in proportion to the distance between the pair of electrodes. .

上記の発明によれば、一対の電極間の距離に比例するように金属細線群の線幅を変化させる。すなわち、一対の電極間の距離が長くなるに従って金属細線群の線幅を大きくすることにより、一対の電極間の距離が異なる発熱区域の単位面積当たりの発熱量をほぼ均一にすることができる。   According to said invention, the line | wire width of a metal fine wire group is changed so that it may be proportional to the distance between a pair of electrodes. That is, by increasing the line width of the thin metal wire group as the distance between the pair of electrodes increases, the amount of heat generation per unit area of the heat generation area where the distance between the pair of electrodes is different can be made substantially uniform.

請求項11に記載の発明は、請求項7から請求項9までのいずれか1項に記載の構成において、前記一対の電極間の距離に反比例するように前記金属細線群の金属細線間距離を変化させる。   According to an eleventh aspect of the present invention, in the configuration according to any one of the seventh to ninth aspects, the distance between the fine metal wires of the fine metal wire group is set to be inversely proportional to the distance between the pair of electrodes. Change.

上記の発明によれば、一対の電極間の距離に反比例するように金属細線群の金属細線間距離を変化させる。すなわち、一対の電極間の距離が長くなるに従って金属細線群の金属細線間距離を小さくすることにより、一対の電極間の距離が異なる発熱区域の単位面積当たりの発熱量をほぼ均一にすることができる。   According to said invention, the distance between metal fine wires of a metal fine wire group is changed so that it may be inversely proportional to the distance between a pair of electrodes. That is, by reducing the distance between the fine metal wires of the fine metal wire group as the distance between the pair of electrodes becomes longer, the heat generation amount per unit area of the heat generation area where the distance between the pair of electrodes is different can be made substantially uniform. it can.

請求項12に記載の発明は、請求項7から請求項11までのいずれか1項に記載の構成において、前記一対の電極間の距離が異なる区域の境界に前記区域よりも抵抗が高い高抵抗区域が設けられている。   According to a twelfth aspect of the present invention, in the configuration according to any one of the seventh to eleventh aspects, a high resistance having a resistance higher than that of the area at a boundary between areas where the distance between the pair of electrodes is different. There is an area.

上記の発明によれば、一対の電極間の距離が異なる区域の境界に当該区域よりも抵抗が高い高抵抗区域を設けることにより、高抵抗区域の両側で発熱させる領域を分けることができる。   According to the above invention, by providing the high resistance area having higher resistance than the area at the boundary of the area where the distance between the pair of electrodes is different, it is possible to divide the area to generate heat on both sides of the high resistance area.

請求項13に記載の発明は、請求項7から請求項11までのいずれか1項に記載の構成において、前記一対の電極間の距離が異なる区域の境界に絶縁層が設けられている。   According to a thirteenth aspect of the present invention, in the configuration according to any one of the seventh to eleventh aspects, an insulating layer is provided at a boundary between areas where the distance between the pair of electrodes is different.

上記の発明によれば、一対の電極間の距離が異なる区域の境界に絶縁層が設けられており、絶縁層の両側で発熱させる領域を分けることができる。   According to said invention, the insulating layer is provided in the boundary of the area where the distance between a pair of electrodes differs, and the area | region which generate | occur | produces heat | fever can be divided on both sides of an insulating layer.

本発明の電熱窓ガラスによれば、金属細線群が視認されにくく、金属細線群と電極との接触部の発熱を低コストで抑制することができる。   According to the electrothermal window glass of the present invention, the metal fine wire group is hardly visible, and heat generation at the contact portion between the metal fine wire group and the electrode can be suppressed at a low cost.

第1実施形態に係る電熱窓ガラスの全体構成を示す平面図である。It is a top view which shows the whole structure of the electrothermal window glass which concerns on 1st Embodiment. 第1実施形態に係る電熱窓ガラスにおける導電性フィルムの発熱区域を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the heat_generation | fever area of the electroconductive film in the electrothermal window glass which concerns on 1st Embodiment. 第1実施形態に係る電熱窓ガラスにおける導電性フィルムの電極区域を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the electrode area of the electroconductive film in the electrothermal window glass which concerns on 1st Embodiment. 第1実施形態に係る電熱窓ガラスにおける導電性フィルムの発熱区域及び電極区域の金属細線群を示す拡大構成図である。It is an expanded block diagram which shows the metal thin wire | line group of the heat_generation | fever area of an electroconductive film and the electrode area in the electrothermal window glass which concerns on 1st Embodiment. 図5(A)〜図5(E)は第1実施形態の金属細線によるメッシュ状パターンを形成する方法の一例(第1方法)を示す工程図である。FIG. 5A to FIG. 5E are process diagrams showing an example (first method) of a method for forming a mesh pattern with fine metal wires according to the first embodiment. 第1実施形態に係る電熱窓ガラスにおける導電性フィルムを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the electroconductive film in the electrothermal window glass which concerns on 1st Embodiment. 第2実施形態に係る電熱窓ガラスにおける導電性フィルムの発熱区域及び電極区域の金属細線群を示す拡大構成図である。It is an expanded block diagram which shows the metal thin wire | line group of the heat_generation | fever area of an electroconductive film and an electrode area in the electrothermal window glass which concerns on 2nd Embodiment. 第3実施形態に係る電熱窓ガラスの全体構成を示す平面図である。It is a top view which shows the whole structure of the electrothermal window glass which concerns on 3rd Embodiment. 第3実施形態に係る電熱窓ガラスにおける導電性フィルムの第1発熱区域、第2発熱区域及び電極区域の金属細線群を示す拡大構成図である。It is an expanded block diagram which shows the metal thin wire | line group of the 1st heat_generation | fever area, 2nd heat_generation | fever area, and electrode area of the electroconductive film in the electrothermal window glass which concerns on 3rd Embodiment. 第4実施形態に係る電熱窓ガラスにおける導電性フィルムの第1発熱区域、第2発熱区域及び電極区域の金属細線群を示す拡大構成図である。It is an enlarged block diagram which shows the metal thin wire | line group of the 1st heat_generation | fever area, the 2nd heat_generation | fever area, and electrode area of the electroconductive film in the electrothermal window glass which concerns on 4th Embodiment. 第3実施形態の変形例に係る電熱窓ガラスの全体構成を示す平面図である。It is a top view which shows the whole structure of the electrothermal window glass which concerns on the modification of 3rd Embodiment.

〔第1実施形態〕
以下、本発明の第1実施形態である電熱窓ガラスを図1〜図5を参照しながら説明する。
[First Embodiment]
Hereinafter, the electric heating window glass which is 1st Embodiment of this invention is demonstrated, referring FIGS.

図1には、電熱窓ガラスの全体構成が平面図にて示されている。この図に示されるように、電熱窓ガラス10は、上辺と下辺がほぼ平行で、かつ上辺よりも下辺が長く形成された略矩形状の電熱窓ガラス本体12と、電熱窓ガラス本体12の長手方向に沿って帯状に形成された略長方形状の発熱部14と、この発熱部14の上下に対向するように配置された上下一対の第1電極16及び第2電極18と、を備えている。さらに、電熱窓ガラス本体12には、発熱部14の長手方向両側(図1中の左右両側)に、上下方向に沿って非発熱部20が設けられている。   FIG. 1 is a plan view showing the entire configuration of the electrothermal window glass. As shown in this figure, the heating window glass 10 has a substantially rectangular heating window glass body 12 in which the upper side and the lower side are substantially parallel and the lower side is longer than the upper side, and the length of the heating window glass body 12. A substantially rectangular heat generating part 14 formed in a strip shape along the direction, and a pair of upper and lower first electrodes 16 and second electrodes 18 disposed so as to oppose the heat generating part 14 are provided. . Furthermore, the non-heating part 20 is provided in the electrothermal window glass main body 12 along the up-down direction on the longitudinal direction both sides (left and right both sides in FIG. 1) of the heating part 14.

第1電極16及び第2電極18は、電熱窓ガラス本体12の上辺と下辺の縁部に沿って配設されており、略平行でかつ略同じ長さに形成されている。第1電極16と第2電極18には電源22が接続されている。   The 1st electrode 16 and the 2nd electrode 18 are arrange | positioned along the edge part of the upper side of the electric heating window glass main body 12, and a lower side, and are formed in substantially parallel and substantially the same length. A power source 22 is connected to the first electrode 16 and the second electrode 18.

図2には電熱窓ガラス10の発熱部14が断面図にて示されている。図2では、説明を分りやすくするために各部材の断面を模式的に表している。この図に示されるように、電熱窓ガラス10は、窓ガラス材料からなる2枚のガラス30、32を備えており、2枚のガラス30、32に挟まれた部位には、一方のガラス30に積層された樹脂層34と、樹脂層34に積層された導電性フィルム36と、導電性フィルム36と他方のガラス32との間に介在された樹脂層38と、を備えている。導電性フィルム36の一方の面(樹脂層38側の面)には導電層40が形成されている。樹脂層34、38は、本実施形態ではPVB(ポリビニルブチラール)で形成されている。PVB(ポリビニルブチラール)は通常の状態では柔軟性があるが、熱により架橋して硬くなる性質を有している。   In FIG. 2, the heat generating portion 14 of the electrothermal window glass 10 is shown in a sectional view. In FIG. 2, the cross-section of each member is schematically shown for easy understanding. As shown in this figure, the electrothermal window glass 10 includes two glasses 30 and 32 made of a window glass material, and one glass 30 is provided at a portion sandwiched between the two glasses 30 and 32. A resin layer 34 laminated on the resin layer 34, a conductive film 36 laminated on the resin layer 34, and a resin layer 38 interposed between the conductive film 36 and the other glass 32. A conductive layer 40 is formed on one surface (surface on the resin layer 38 side) of the conductive film 36. The resin layers 34 and 38 are formed of PVB (polyvinyl butyral) in this embodiment. PVB (polyvinyl butyral) is flexible in a normal state, but has a property of being hardened by being crosslinked by heat.

図3には電熱窓ガラス10の第1電極16及び第2電極18の部分が断面図にて示されている。図3では、説明を分りやすくするために各部材の断面を模式的に表している。この図に示されるように、電熱窓ガラス10は、2枚のガラス30、32に挟まれた部位に、ガラス30に順次積層された樹脂層34及び導電性フィルム36を備えており、さらに、導電性フィルム36の導電層40に積層された導電性ペースト層46と、導電性ペースト層46に積層された金属箔48と、を備えている。さらに、電熱窓ガラス10は、金属箔48とガラス32との間に介在された樹脂層38を備えている。   FIG. 3 is a sectional view showing the first electrode 16 and the second electrode 18 of the electrothermal window glass 10. In FIG. 3, the cross-section of each member is schematically shown for easy understanding. As shown in this figure, the electric heating window glass 10 includes a resin layer 34 and a conductive film 36 sequentially laminated on the glass 30 at a portion sandwiched between two glasses 30 and 32, and A conductive paste layer 46 laminated on the conductive layer 40 of the conductive film 36 and a metal foil 48 laminated on the conductive paste layer 46 are provided. Furthermore, the electrothermal window glass 10 includes a resin layer 38 interposed between the metal foil 48 and the glass 32.

導電性フィルム36は、図6に示されるように、支持体としての絶縁性の透明フィルム50と、この透明フィルム50の一方の面に形成された導電層40と、を備えている。図4に示されるように、導電層40は、導電性の金属細線42にて構成された多数の格子の交点を有する多数の金属細線群としてのメッシュ状パターンを有し、発熱部14に形成された粗いメッシュ状パターン43Aからなる発熱区域43と、第1電極16及び第2電極18に形成された細かいメッシュ状パターン44Aからなる電極区域44と、を備えている。すなわち、発熱区域43には、金属細線42の細線間隔が大きいメッシュ状パターン43Aが形成されており、電極区域44には、発熱区域43よりも金属細線42の細線間隔が小さいメッシュ状パターン44Aが形成されている。導電性フィルム36の一方の面には、導電層40(メッシュ状パターン)を形成しない非発熱区域45が設けられており、この非発熱区域45が電熱窓ガラス10の非発熱部20となる。   As shown in FIG. 6, the conductive film 36 includes an insulating transparent film 50 as a support, and a conductive layer 40 formed on one surface of the transparent film 50. As shown in FIG. 4, the conductive layer 40 has a mesh-like pattern as a group of a plurality of fine metal wires having intersections of a large number of lattices formed of conductive metal fine wires 42, and is formed in the heat generating portion 14. The heat generating area 43 including the coarse mesh pattern 43A and the electrode area 44 including the fine mesh pattern 44A formed on the first electrode 16 and the second electrode 18 are provided. That is, a mesh pattern 43A in which the fine wire intervals of the fine metal wires 42 are large is formed in the heat generating area 43, and a mesh pattern 44A in which the fine wire intervals of the fine metal wires 42 are smaller than those in the heat generating area 43 is formed in the electrode area 44. Is formed. On one surface of the conductive film 36, a non-heat generation area 45 where the conductive layer 40 (mesh pattern) is not formed is provided, and the non-heat generation area 45 becomes the non-heat generation portion 20 of the electrothermal window glass 10.

電熱窓ガラス10では、電極区域44のメッシュ状パターン44Aと、導電性ペースト層46と、金属箔48とで第1電極16及び第2電極18が構成されている。図示を省略するが、金属箔48は、電源22と接続された電線に接続されている。   In the electrothermal window glass 10, the first electrode 16 and the second electrode 18 are configured by the mesh pattern 44 </ b> A of the electrode area 44, the conductive paste layer 46, and the metal foil 48. Although not shown, the metal foil 48 is connected to an electric wire connected to the power source 22.

電源22から第1電極16と第2電極18との間に電圧を印加して導電層40の金属細線42に通電させることで、発熱区域43のメッシュ状パターン43Aが発熱して発熱領域となる。   By applying a voltage from the power source 22 between the first electrode 16 and the second electrode 18 and energizing the fine metal wires 42 of the conductive layer 40, the mesh pattern 43A of the heat generating area 43 generates heat and becomes a heat generating area. .

電熱窓ガラス10は、例えば車両のウィンドウガラス(例えばリアガラスやフロントガラスなど)に使用されており、上下方向に沿った中心線に対して左右対称の曲面形状に形成されている。   The electric heating window glass 10 is used, for example, for a window glass of a vehicle (for example, a rear glass or a windshield), and is formed in a curved shape that is symmetrical with respect to a center line along the vertical direction.

従来、リアガラスやヘッドランプカバーで使用されている面発熱体は、ヘッドランプカバーのような小さなヒーターでは通常1本、ヒーター面積の大きいリアガラスでもせいぜい10本以下の線発熱体を用いて、加熱したい面全体にわたって線発熱体を引き回していた。電流は、線発熱体の一方の端からもう一方の端まで線に沿って流れるため、すべての線発熱体が同じ材料で同じ線幅、線厚さであれば、線の存在密度により発熱量が決まる。つまり、どこでも同じような密度になるように発熱体を設ければ、加熱したい領域がどんな形状であろうとも均一な発熱を得ることができた。   Conventionally, the surface heating element used in the rear glass and the headlamp cover is usually heated by using one linear heating element for a small heater such as a headlamp cover, and no more than 10 linear heating elements for a rear glass having a large heater area. The wire heating element was drawn around the entire surface. Since the current flows along the line from one end of the wire heating element to the other end, if all the wire heating elements are the same material and have the same line width and thickness, the amount of heat generated depends on the existence density of the lines. Is decided. In other words, if a heating element is provided so as to have the same density everywhere, a uniform heat generation can be obtained regardless of the shape of the region to be heated.

しかし、上述のような線発熱体の引き回しでは、肉眼で線発熱体を容易に視認でき、車両のウィンドウガラスに使用した場合に視界を妨げるという問題がある。そこで、本実施形態では、発熱区域43に金属細線42からなるメッシュ状パターン43Aを形成して、透明性の高い発熱部14を構成するようにしている。ところが、このようなメッシュ状パターン43Aを有する透明性の高い発熱部14では、電流が流れる経路は無数にあり、表面抵抗が少なく流れやすい経路に電流が集中する。そのため、発熱させたい領域を均一に加熱するには工夫が必要である。   However, when the wire heating element is routed as described above, there is a problem that the line heating element can be easily visually recognized with the naked eye and obstructs the field of view when used in a window glass of a vehicle. Therefore, in the present embodiment, a highly heat-generating part 14 is configured by forming a mesh-like pattern 43A composed of fine metal wires 42 in the heat-generating area 43. However, in the highly transparent heat generating portion 14 having such a mesh pattern 43A, there are an infinite number of paths through which current flows, and the current concentrates on paths that have low surface resistance and are easy to flow. Therefore, it is necessary to devise in order to uniformly heat the region where heat generation is desired.

透明性の高い発熱部14を均一に加熱する方法は次のようにして達成できる。すなわち、発熱区域43が略長方形状となるようにメッシュ状パターン43Aを形成し、発熱区域43の上下方向両側に長手方向に沿って帯状の第1電極16及び第2電極18を設け、第1電極16と第2電極18との間に電圧を印加し、電流を流す。メッシュ状パターン43Aが形成された発熱区域43を略長方形状とすることで、ほぼ均一に発熱させることができる。   A method for uniformly heating the heat generating portion 14 having high transparency can be achieved as follows. That is, the mesh pattern 43A is formed so that the heat generating area 43 has a substantially rectangular shape, the belt-shaped first electrode 16 and the second electrode 18 are provided along the longitudinal direction on both sides in the vertical direction of the heat generating area 43, and the first A voltage is applied between the electrode 16 and the second electrode 18 to pass a current. By making the heat generating area 43 in which the mesh pattern 43A is formed into a substantially rectangular shape, heat can be generated substantially uniformly.

また、線状発熱体をジグザグに引き回す構成の場合は、隣接する導線間で電位差が生じ、マイグレーションの原因になるという問題があったが、本実施形態では、導電性の金属細線42にて構成された多数の格子の交点を有するメッシュ状パターン43Aとしており、隣接する金属細線間は初めから短絡状態であるためマイグレーションがあっても問題にならない。   Further, in the case of the configuration in which the linear heating element is drawn in a zigzag manner, there is a problem that a potential difference is generated between adjacent conductive wires, causing migration, but in the present embodiment, the conductive metal thin wire 42 is used. The mesh pattern 43A has a large number of lattice intersections. Since adjacent metal thin wires are short-circuited from the beginning, there is no problem even if migration occurs.

また、メッシュ状パターンで発熱区域を形成した場合にはメッシュ状パターンと一対の電極との接触部の抵抗が大きくなり、接触部で発熱が起こる可能性がある。そのため、メッシュ状パターンと一対の電極との接触部の発熱を抑制するには工夫が必要である。   In addition, when the heat generating area is formed by the mesh pattern, the resistance of the contact portion between the mesh pattern and the pair of electrodes is increased, and heat may be generated at the contact portion. Therefore, a device is required to suppress the heat generation at the contact portion between the mesh pattern and the pair of electrodes.

メッシュ状パターンと一対の電極との接触部の発熱を抑制する方法は次のようにして達成できる。すなわち、導電性フィルム36の導電層40は、発熱部14に形成された金属細線42の細線間隔が大きいメッシュ状パターン43Aからなる発熱区域43と、第1電極16及び第2電極18に形成された金属細線42の細線間隔が小さいメッシュ状パターン44Aからなる電極区域44と、で構成されている。さらに、電極区域44全体の面積でメッシュ状パターン44Aで覆われている面積が占める割合(電極区域44がメッシュ状パターン44Aで覆われている面積の当該電極区域44全体の面積に占める割合)をAe%とし、発熱区域43全体の面積でメッシュ状パターン43Aで覆われている面積が占める割合(発熱区域43がメッシュ状パターン43Aで覆われている面積の当該発熱区域43全体の面積に占める割合)をAc%とすると、
Ac≦Ae、5≦Ae、かつ0<Ac≦20
を満たすように構成されている。
A method for suppressing heat generation at the contact portion between the mesh pattern and the pair of electrodes can be achieved as follows. That is, the conductive layer 40 of the conductive film 36 is formed in the heat generation area 43 including the mesh pattern 43A in which the fine wire intervals of the metal thin wires 42 formed in the heat generating portion 14 are large, and in the first electrode 16 and the second electrode 18. The electrode area 44 is formed of a mesh pattern 44A in which the fine wire interval of the fine metal wires 42 is small. Further, the ratio of the area covered by the mesh pattern 44A to the entire area of the electrode area 44 (the ratio of the area covered by the mesh pattern 44A of the electrode area 44 to the area of the entire electrode area 44). Ae%, the ratio of the area covered by the mesh pattern 43A to the total area of the heat generation area 43 (the ratio of the area covered by the mesh pattern 43A of the heat generation area 43 to the area of the entire heat generation area 43 ) As Ac%,
Ac ≦ Ae, 5 ≦ Ae, and 0 <Ac ≦ 20
It is configured to satisfy.

上記関係式を満たすようにAc、Aeを設定することにより、発熱区域43の透明度が高くなり、運転席から発熱区域43のメッシュ状パターン43Aが視認されにくくなる。また、上記関係式を満たすようにAc、Aeを設定することにより、発熱区域43のメッシュ状パターン43Aと第1電極16又は第2電極18との接触部の抵抗、すなわち、金属細線42と金属箔48間の抵抗が小さくなり、接触部の発熱を抑制することができる。   By setting Ac and Ae so as to satisfy the above relational expression, the transparency of the heat generation area 43 is increased, and the mesh pattern 43A of the heat generation area 43 is less likely to be visually recognized from the driver's seat. Further, by setting Ac and Ae so as to satisfy the above relational expression, the resistance of the contact portion between the mesh pattern 43A of the heat generating area 43 and the first electrode 16 or the second electrode 18, that is, the metal thin wire 42 and the metal Resistance between the foils 48 is reduced, and heat generation at the contact portion can be suppressed.

本実施形態では、発熱区域43には金属細線42の細線間隔が約120μmのメッシュ状パターン43Aを形成し、電極区域44には金属細線42の細線間隔が約600μmのメッシュ状パターン44Aを形成している。発熱区域43のメッシュ状パターン43Aと電極区域44のメッシュ状パターン44Aの細線間隔を変える構成であるため、製造が容易であり、低コスト化が可能である。   In the present embodiment, a mesh pattern 43A having a fine wire interval of about 120 μm is formed in the heat generating area 43, and a mesh pattern 44A having a fine wire interval of about 600 μm is formed in the electrode area 44. ing. Since the fine line interval between the mesh pattern 43A of the heat generating area 43 and the mesh pattern 44A of the electrode area 44 is changed, the manufacturing is easy and the cost can be reduced.

電熱窓ガラス10は、Ac<Ae、10≦Ae、かつ0<Ac<10を満たすことがより好ましく、Ac<Ae、30≦Ae、かつ0<Ac<7を満たすことがさらに好ましい。   The electrothermal window glass 10 more preferably satisfies Ac <Ae, 10 ≦ Ae, and 0 <Ac <10, and more preferably satisfies Ac <Ae, 30 ≦ Ae, and 0 <Ac <7.

また、本実施形態においては、発熱区域43の金属細線42の線幅が1μm以上、40μm以下であることが好ましい。これにより、発熱区域43のメッシュ状パターン43Aが見えにくくなり、透明性を向上させることができる。   Moreover, in this embodiment, it is preferable that the line | wire width of the metal fine wire 42 of the heat generation area 43 is 1 micrometer or more and 40 micrometers or less. Thereby, it becomes difficult to see the mesh pattern 43A of the heat generating area 43, and the transparency can be improved.

金属箔48は、銀、銅、アルミ等の低比抵抗の金属薄板を用いることが好ましい。また、酸化防止やハンダ性付与のため、金属箔48の表面に錫或いは錫と鉛の合金で被覆されていることが好ましい。   The metal foil 48 is preferably a thin metal plate having a low specific resistance such as silver, copper, or aluminum. Moreover, it is preferable that the surface of the metal foil 48 is coated with tin or an alloy of tin and lead in order to prevent oxidation and impart solderability.

非発熱区域45は、メッシュ状パターン43A、44Aがない領域であり、本発明において必須ではない。   The non-heat generating area 45 is an area without the mesh patterns 43A and 44A, and is not essential in the present invention.

電極区域44は、発熱区域43のメッシュ状パターン43Aに均等に電流を供給するためのバスバーを形成する領域であり、本実施形態では、電極区域44のメッシュ状パターン44Aの上に導電性ペースト層46を介して金属箔48を積層している。   The electrode area 44 is an area for forming a bus bar for supplying current evenly to the mesh pattern 43A of the heat generation area 43. In this embodiment, a conductive paste layer is formed on the mesh pattern 44A of the electrode area 44. A metal foil 48 is laminated via 46.

次に、電熱窓ガラス10の製造方法について説明する。   Next, a method for manufacturing the electrothermal window glass 10 will be described.

先ず、絶縁性の透明フィルム50(図5参照)上に導電層40として、導電性の金属細線42で構成されたメッシュ状パターン43Aからなる発熱区域43とメッシュ状パターン44Aからなる電極区域44とを形成する。メッシュ状パターン43A、44Aの形成方法については後述する。さらに、電極区域44のメッシュ状パターン44Aの上に銀ペーストなどの導電性ペーストを塗布し、加熱処理することにより導電性ペースト層46を形成する。   First, as a conductive layer 40 on an insulating transparent film 50 (see FIG. 5), a heat generating area 43 composed of a mesh-shaped pattern 43A composed of a conductive fine metal wire 42 and an electrode area 44 composed of a mesh-shaped pattern 44A; Form. A method of forming the mesh patterns 43A and 44A will be described later. Further, a conductive paste layer 46 is formed by applying a conductive paste such as a silver paste on the mesh pattern 44A in the electrode area 44 and performing a heat treatment.

次いで、ガラス30の上にPVBフィルム(樹脂層34)、上記の導電性フィルム36、導電性フィルム36の導電性ペースト層46上に金属箔テープ(金属箔48)、PVBフィルム(樹脂層38)、ガラス32を記載順に重ねて真空乾燥機に入れ、真空脱気した後、真空を保ったまま加熱して電熱窓ガラスの積層材料を仮接着させる。さらに、電熱窓ガラスの積層材料を真空乾燥機から取り出し、オートクレーブに移して空気圧0.1〜20MPaの圧力下で120〜150℃に加熱処理することにより積層材料が接着し、電熱窓ガラス10が得られる。電熱窓ガラス10の第1電極16及び第2電極18への電源22の接続は、電熱窓ガラス10を車両の窓枠に取り付けた後に行われる。   Next, the PVB film (resin layer 34) on the glass 30, the conductive film 36, the conductive paste layer 46 of the conductive film 36, the metal foil tape (metal foil 48), the PVB film (resin layer 38). Then, the glass 32 is stacked in the order of description, put into a vacuum dryer, vacuum degassed, and then heated while keeping the vacuum to temporarily bond the laminated material of the electrothermal window glass. Furthermore, the laminated material of the electrothermal window glass is taken out from the vacuum dryer, transferred to an autoclave, and heat-treated at 120 to 150 ° C. under a pressure of 0.1 to 20 MPa. can get. The connection of the power source 22 to the first electrode 16 and the second electrode 18 of the electric heating window glass 10 is performed after the electric heating window glass 10 is attached to the window frame of the vehicle.

ここで、透明フィルム50上に金属細線42によるメッシュ状パターン43A、44Aを形成するいくつの方法(第1方法〜第4方法)について、図5を参照しながら説明する。発熱区域43のメッシュ状パターン43Aと電極区域44のメッシュ状パターン44Aは金属細線42の細線間隔が異なるのみで形成方法は同じであるので、図5では、発熱区域43と電極区域44とを区別せずに説明する。   Here, several methods (first method to fourth method) for forming the mesh patterns 43A and 44A by the fine metal wires 42 on the transparent film 50 will be described with reference to FIG. The mesh-shaped pattern 43A of the heat generating area 43 and the mesh-shaped pattern 44A of the electrode area 44 are the same in formation method except that the fine wire intervals of the metal thin wires 42 are different. Therefore, in FIG. 5, the heat generating area 43 and the electrode area 44 are distinguished. Explain without.

第1方法は、透明フィルム50上に設けられた銀塩感光層を露光し、現像、定着することによって形成された金属銀部にてメッシュ状パターン43A、44Aを構成する方法である。   The first method is a method in which the mesh-like patterns 43A and 44A are formed by metallic silver portions formed by exposing, developing and fixing a silver salt photosensitive layer provided on the transparent film 50.

具体的には、図5(A)に示すように、ハロゲン化銀54(例えば臭化銀粒子、塩臭化銀粒子や沃臭化銀粒子)をゼラチン56に混ぜてなる銀塩感光層58を透明フィルム50上に塗布する。なお、図5(A)〜図5(C)では、ハロゲン化銀54を「粒々」として表記してあるが、あくまでも本発明の理解を助けるために誇張して示したものであって、大きさや濃度等を示したものではない。   Specifically, as shown in FIG. 5A, a silver salt photosensitive layer 58 formed by mixing silver halide 54 (for example, silver bromide grains, silver chlorobromide grains or silver iodobromide grains) with gelatin 56, as shown in FIG. Is applied onto the transparent film 50. In FIGS. 5A to 5C, the silver halide 54 is expressed as “grains”, but is exaggerated to help the understanding of the present invention. It does not indicate sheath density.

その後、図5(B)に示すように、銀塩感光層58に対して発熱区域43のメッシュ状パターン43A及び電極区域44のメッシュ状パターン44Aの形成に必要な露光を行う。具体的には、発熱区域43では細線間隔が大きいメッシュ状パターンを露光し、電極区域44では発熱区域43よりも細線間隔が小さいメッシュ状パターンを露光する。本実施形態では、発熱区域43及び電極区域44の形成のための露光を同時に行う。ハロゲン化銀54は、光エネルギーを受けると感光して「潜像」と称される肉眼では観察できない微小な銀核を生成する。   Thereafter, as shown in FIG. 5B, the silver salt photosensitive layer 58 is subjected to exposure necessary for forming the mesh pattern 43A in the heat generating area 43 and the mesh pattern 44A in the electrode area 44. Specifically, a mesh pattern having a large fine line interval is exposed in the heat generation area 43, and a mesh pattern having a fine line interval smaller than that in the heat generation area 43 is exposed in the electrode area 44. In the present embodiment, exposure for forming the heat generating area 43 and the electrode area 44 is performed simultaneously. The silver halide 54 is exposed to light energy and generates minute silver nuclei called “latent image” that cannot be observed with the naked eye.

その後、潜像を肉眼で観察できる可視化された画像に増幅するために、図5(C)に示すように、現像処理を行う。具体的には、潜像が形成された銀塩感光層58を現像液(アルカリ性溶液と酸性溶液のどちらもあるが通常はアルカリ性溶液が多い)にて現像処理する。この現像処理とは、ハロゲン化銀粒子ないし現像液から供給された銀イオンが現像液中の現像主薬と呼ばれる還元剤により潜像銀核を触媒核として金属銀に還元されて、その結果として潜像銀核が増幅されて可視化された銀画像(現像銀60)を形成する。   Thereafter, development processing is performed as shown in FIG. 5C in order to amplify the latent image into a visualized image that can be observed with the naked eye. Specifically, the silver salt photosensitive layer 58 on which the latent image is formed is developed with a developing solution (both alkaline solution and acidic solution, but usually alkaline solution is large). In this development process, silver ions supplied from silver halide grains or a developer are reduced to metallic silver by using a latent image silver nucleus as a catalyst nucleus by a reducing agent called a developing agent in the developer, and as a result Image silver nuclei are amplified to form a visualized silver image (developed silver 60).

現像処理を終えたあとに銀塩感光層58中には光に感光できるハロゲン化銀54が残存するのでこれを除去するために図5(D)に示すように定着処理液(酸性溶液とアルカリ性溶液のどちらもあるが通常は酸性溶液が多い)により定着を行う。   After the development processing is completed, silver halide 54 which can be exposed to light remains in the silver salt photosensitive layer 58. In order to remove this, a fixing processing solution (acid solution and alkaline solution is used as shown in FIG. 5D). Fixing is performed by using both solutions but usually there are many acidic solutions.

この定着処理を行うことによって、露光された部位には金属銀部62が形成され、露光されていない部位にはゼラチン56のみが残存し、光透過性部64となる。すなわち、透明フィルム50上に金属銀部62と光透過性部64との組み合わせによりメッシュ状パターン43Aからなる発熱区域43及びメッシュ状パターン44Aからなる電極区域44が形成されることになる。   By performing this fixing process, the metal silver portion 62 is formed in the exposed portion, and only the gelatin 56 remains in the non-exposed portion to become the light transmissive portion 64. That is, on the transparent film 50, a combination of the metallic silver portion 62 and the light transmissive portion 64 forms the heat generating area 43 made of the mesh pattern 43A and the electrode area 44 made of the mesh pattern 44A.

ハロゲン化銀54として臭化銀を用い、チオ硫酸塩で定着処理した場合の定着処理の反応式を以下に示す。
AgBr(固体)+2個のS23イオン → Ag(S232
(易水溶性錯体)
The reaction formula of the fixing process when silver bromide is used as the silver halide 54 and the fixing process is performed with thiosulfate is shown below.
AgBr (solid) + 2 S 2 O 3 ions → Ag (S 2 O 3 ) 2
(Easily water-soluble complex)

すなわち、2個のチオ硫酸イオンS23とゼラチン56中の銀イオン(AgBrからの銀イオン)が、チオ硫酸銀錯体を生成する。チオ硫酸銀錯体は水溶性が高いのでゼラチン56中から溶出されることになる。その結果、現像銀60が金属銀部62として定着されて残ることになる。この金属銀部62にてメッシュ状パターン43A、44Aが構成されることになる。 That is, two thiosulfate ions S 2 O 3 and silver ions in gelatin 56 (silver ions from AgBr) form a silver thiosulfate complex. Since the silver thiosulfate complex is highly water-soluble, it is eluted from the gelatin 56. As a result, the developed silver 60 is fixed and remains as the metallic silver portion 62. The metallic silver portion 62 constitutes mesh patterns 43A and 44A.

なお、現像工程は、潜像に対し還元剤を反応させて現像銀60を析出させる工程であり、定着工程は、現像銀60にならなかったハロゲン化銀54を水に溶出させる工程である。詳細は、T.H.James, The Theory of the Photographic Process, 4th ed., Macmillian Publishing Co.,Inc, NY,Chapter15, pp.438−442. 1977を参照されたい。   The developing process is a process of causing the developing agent to react with the latent image to precipitate the developed silver 60, and the fixing process is a process of eluting the silver halide 54 that has not become the developed silver 60 into water. For details, see T.W. H. James, The Theory of the Photographic Process, 4th ed. , Macmillan Publishing Co. , Inc, NY, Chapter 15, pp. 438-442. See 1977.

現像処理は多くの場合アルカリ性溶液で行われることから、現像処理工程から定着処理工程に入る際に、現像処理にて付着したアルカリ溶液が定着処理溶液(多くの場合は酸性溶液である)に持ち込まれるため、定着処理液の活性が変わるといった問題がある。また、現像処理槽を出た後、膜に残留した現像液により意図しない現像反応が更に進行する懸念もある。そこで、現像処理後で、定着処理工程に入る前に、酢酸(酢)溶液等の停止液で銀塩感光層58を中和もしくは酸性化することが好ましい。   Since the development process is often performed with an alkaline solution, when entering the fixing process from the development process, the alkaline solution adhering to the development process is brought into the fixing process solution (in many cases, an acidic solution). Therefore, there is a problem that the activity of the fixing processing solution changes. Further, there is a concern that an unintended development reaction may further progress due to the developer remaining in the film after leaving the development processing tank. Therefore, it is preferable to neutralize or acidify the silver salt photosensitive layer 58 with a stop solution such as an acetic acid (vinegar) solution after the development processing and before entering the fixing processing step.

もちろん、図5(E)に示すように、上述のようにして、金属銀部62を形成した後、例えばめっき処理(無電解めっきや電気めっきを単独ないし組み合わせる)を行って、金属銀部62のみに導電性金属66を担持させることによって、金属銀部62と該金属銀部62に担持された導電性金属66にてメッシュ状パターン43A、44Aを形成するようにしてもよい。   Of course, as shown in FIG. 5 (E), after forming the metallic silver portion 62 as described above, for example, a plating process (single or combined electroless plating or electroplating) is performed to obtain the metallic silver portion 62. Only the conductive metal 66 is supported on the metal silver portion 62 and the conductive metal 66 supported on the metal silver portion 62 may form the mesh patterns 43A and 44A.

本実施形態では、図6に示されるように、現像定着により金属銀部62を形成した後に、銅を電解めっきして銅めっき層68を形成する。さらに、ニッケルを黒化層めっきすることにより、金属銀部62と銅めっき層68の表面に黒化層70を形成する。すなわち、金属銀部62に担持された銅めっき層68及びニッケルの黒化層70にて発熱区域43のメッシュ状パターン43Aを形成する。これは、銅めっき層68は赤いため、ニッケルの黒化層70を形成することにより、メッシュ状パターン43Aを見えにくくするためである。また、電極区域44ではニッケルの黒化層めっきを行わず、金属銀部62に担持された銅めっき層68にて電極区域44のメッシュ状パターン44Aを形成する。   In the present embodiment, as shown in FIG. 6, after the metal silver portion 62 is formed by development and fixing, copper is electrolytically plated to form a copper plating layer 68. Further, the blackening layer 70 is formed on the surfaces of the metal silver portion 62 and the copper plating layer 68 by plating the nickel with the blackening layer. That is, the mesh pattern 43 </ b> A of the heat generating area 43 is formed by the copper plating layer 68 and the nickel black layer 70 carried on the metal silver portion 62. This is because the copper plating layer 68 is red, so that the mesh pattern 43 </ b> A is not easily seen by forming the nickel blackened layer 70. Further, in the electrode area 44, nickel blackening layer plating is not performed, and the mesh pattern 44 </ b> A of the electrode area 44 is formed by the copper plating layer 68 carried on the metal silver portion 62.

次に、第2方法は、例えば透明フィルム上に形成された銅箔上のフォトレジスト膜を露光、現像処理してレジストパターンを形成し、レジストパターンから露出する銅箔をエッチングすることによって、銅箔によるメッシュ状パターンを形成する。   Next, in the second method, for example, a photoresist film on a copper foil formed on a transparent film is exposed and developed to form a resist pattern, and the copper foil exposed from the resist pattern is etched to form a copper film. A mesh-like pattern is formed using foil.

次に、第3方法は、透明フィルム上に金属微粒子を含むペーストを印刷することによってメッシュ状パターンを形成する方法である。もちろん、印刷されたペーストに、金属めっきを行うことによって、ペーストと金属めっきによるメッシュ状パターンを形成するようにしてもよい。   Next, the third method is a method of forming a mesh pattern by printing a paste containing metal fine particles on a transparent film. Of course, the printed paste may be subjected to metal plating to form a mesh pattern by the paste and metal plating.

第4方法は、透明フィルムに金属薄膜をスクリーン印刷版又はグラビア印刷版によって印刷してメッシュ状パターンを形成する方法である。   The fourth method is a method of forming a mesh pattern by printing a metal thin film on a transparent film with a screen printing plate or a gravure printing plate.

さらに、メッシュ状パターンの形成方法として、銀塩写真とカレンダー処理を組み合わせたものを採用することができる。ここで、カレンダー処理とは、露光・現像後の後処理であり、圧力をかけて平滑化する処理をいう。カレンダー処理の直前あるいは直後に80℃以上の温度の蒸気に接触させるとカレンダー処理による効果をより引き出すことができる。   Furthermore, as a method for forming a mesh pattern, a combination of a silver salt photograph and a calendar process can be employed. Here, the calendar process is a post-process after exposure / development and means a process of smoothing by applying pressure. The effect of the calendar process can be further brought out by bringing it into contact with steam having a temperature of 80 ° C. or more immediately before or after the calendar process.

以上の方法によって形成された導電層40を備えた電熱窓ガラス10は、発熱区域43の発熱の均一性を向上させることができ、マイグレーションの懸念の解消を実現することができる。   The electrothermal window glass 10 including the conductive layer 40 formed by the above method can improve the uniformity of heat generation in the heat generating area 43 and can eliminate the concern about migration.

また、電熱窓ガラス10は、電極区域44がメッシュ状パターン44Aで覆われている面積の当該電極区域44全体の面積に占める割合をAe%、発熱区域43がメッシュ状パターン43Aで覆われている面積の当該発熱区域43全体の面積に占める割合をAc%とすると、
Ac≦Ae、5≦Ae、かつ0<Ac≦20
を満たしていることにより、発熱区域43の透明度が高くなり、運転席から発熱区域43のメッシュ状パターン43Aが視認されにくくなる。また、上記関係式を満たすようにAc、Aeを設定することにより、発熱区域43のメッシュ状パターン43Aと第1電極16又は第2電極18との接触部の抵抗、すなわち、金属細線42と金属箔48間の抵抗が小さくなり、接触部の発熱を抑制することができる。
Further, in the electrothermal window glass 10, the ratio of the area covered with the mesh pattern 44A of the electrode area 44 to the total area of the electrode area 44 is Ae%, and the heat generating area 43 is covered with the mesh pattern 43A. When the ratio of the area to the total area of the heat generating area 43 is Ac%,
Ac ≦ Ae, 5 ≦ Ae, and 0 <Ac ≦ 20
By satisfying the above, the transparency of the heat generating area 43 is increased, and the mesh pattern 43A of the heat generating area 43 is hardly visible from the driver's seat. Further, by setting Ac and Ae so as to satisfy the above relational expression, the resistance of the contact portion between the mesh pattern 43A of the heat generating area 43 and the first electrode 16 or the second electrode 18, that is, the metal thin wire 42 and the metal Resistance between the foils 48 is reduced, and heat generation at the contact portion can be suppressed.

さらに、電熱窓ガラス10は以下のような条件を満たしている。   Furthermore, the electrothermal window glass 10 satisfies the following conditions.

(1)発熱区域43の可視光線透過率は、70%以上、好ましくは80%以上、更に好ましくは89%以上に設定されている。 (1) The visible light transmittance of the heat generating area 43 is set to 70% or more, preferably 80% or more, and more preferably 89% or more.

(2)CIE1976(L*a*b*)表色系で表した発熱区域43の反射色度は、L*は22以下が好ましく、16以下が更に好ましく、12以下が特に好ましい。またa*とb*は共に−4から+4が好ましく−2から+2が特に好ましい。 (2) As for the reflection chromaticity of the heat generation area 43 expressed in the CIE 1976 (L * a * b *) color system, L * is preferably 22 or less, more preferably 16 or less, and particularly preferably 12 or less. Further, both a * and b * are preferably from -4 to +4, particularly preferably from -2 to +2.

(3)可視光線の反射率は4%以下が好ましく、3%以下が更に好ましく、2.4%以下が特に好ましい。 (3) The visible light reflectance is preferably 4% or less, more preferably 3% or less, and particularly preferably 2.4% or less.

(4)金属細線42が直線の時は、対向車のライトなどで光干渉によるスターマークを生じる可能性があり、目障りである。金属細線を曲線にしたり、線と線との間隔を広くとるなどして光干渉を少なくすることができる。金属細線は波線が好ましい。また、金属細線は、網目状でなく交差のない平行線でも可能である。 (4) When the thin metal wire 42 is a straight line, a star mark due to light interference may occur in the light of an oncoming vehicle, which is annoying. The optical interference can be reduced by making the metal thin line into a curve or increasing the distance between the lines. The metal thin wire is preferably a wavy wire. Further, the fine metal wire can be a parallel wire that is not mesh-like and has no intersection.

(5)導電性フィルム36あるいは電熱窓ガラス10は、少なくとも一対の電極と、その電極間に存在する発熱区域からなる1組のヒーター群よりなるが、1枚の導電性フィルムあるいは電熱窓ガラスが2組以上のヒーター群を有していても良い。1枚の導電性フィルムあるいは電熱窓ガラスの中に複数のヒーター群がある場合、それぞれの発熱区域の発熱量を変えることにより電熱窓ガラスに発熱分布をつくることができる。例えば、導電性フィルムあるいは電熱窓ガラスの中央部分を速く昇温させて霜を融かすなどの設定を行うことができる。発熱量を変える方法は、金属細線の線幅を変えたり、金属細線の線間距離を変えたりすることにより実施することができる。 (5) The conductive film 36 or the electrothermal window glass 10 includes at least one pair of electrodes and a set of heater groups each including a heat generation area existing between the electrodes. You may have two or more sets of heaters. When there are a plurality of heater groups in one conductive film or electric window glass, a heat generation distribution can be created in the electric window glass by changing the amount of heat generated in each heating area. For example, it is possible to make a setting such as rapidly heating the central portion of the conductive film or the electrothermal window glass to melt frost. The method of changing the calorific value can be implemented by changing the line width of the fine metal wires or changing the distance between the fine metal wires.

次に、本実施形態に係る導電層40において、特に好ましい態様であるハロゲン化銀写真感光材料を用いてメッシュ状パターン43A、44Aを形成する方法を中心にして述べる。   Next, the method for forming the mesh patterns 43A and 44A using the silver halide photographic light-sensitive material which is a particularly preferable aspect in the conductive layer 40 according to this embodiment will be mainly described.

本実施形態に係るメッシュ状パターン43A、44Aは、上述したように、透明フィルム50上に感光性ハロゲン化銀塩を含有する乳剤層を有する感光材料を露光し、現像処理を施すことによって露光部及び未露光部に、それぞれ金属銀部62及び光透過性部64を形成することで形成することができる(図5を参照)。さらに金属銀部62に物理現像及び/又はめっき処理を施すことによって金属銀部62に導電性金属66を担持させるようにしてもよい。   As described above, the mesh patterns 43A and 44A according to the present embodiment expose the photosensitive material having the emulsion layer containing the photosensitive silver halide salt on the transparent film 50, and perform development processing to expose the exposed portion. And in the unexposed part, it can form by forming the metal silver part 62 and the light transmissive part 64, respectively (refer FIG. 5). Further, the metallic silver portion 62 may be subjected to physical development and / or plating treatment so that the conductive metal 66 is supported on the metallic silver portion 62.

メッシュ状パターン43A、44Aの形成方法は、感光材料と現像処理の形態によって、次の3通りの態様が含まれる。   The method of forming the mesh patterns 43A and 44A includes the following three modes depending on the photosensitive material and the form of development processing.

(1) 物理現像核を含まない感光性ハロゲン化銀黒白感光材料を化学現像又は物理現像して金属銀部62を該感光材料上に形成させる態様。 (1) An embodiment in which a photosensitive silver halide black-and-white photosensitive material that does not contain physical development nuclei is chemically or physically developed to form a metallic silver portion 62 on the photosensitive material.

(2) 物理現像核をハロゲン化銀乳剤層中に含む感光性ハロゲン化銀黒白感光材料を物理現像して金属銀部62を該感光材料上に形成させる態様。 (2) A mode in which a photosensitive silver halide black-and-white photosensitive material containing physical development nuclei in a silver halide emulsion layer is physically developed to form a metallic silver portion 62 on the photosensitive material.

(3) 物理現像核を含まない感光性ハロゲン化銀黒白感光材料と、物理現像核を含む非感光性層を有する受像シートを重ね合わせて拡散転写現像して金属銀部62を非感光性受像シート上に形成させる態様。 (3) A photosensitive silver halide black-and-white photosensitive material that does not contain physical development nuclei and an image-receiving sheet having a non-photosensitive layer that contains physical development nuclei are overlaid and diffused and transferred to develop a non-photosensitive image of the metallic silver portion 62 Form formed on a sheet.

上記(1)の態様は、一体型黒白現像タイプであり、感光材料上に透光性電磁波シールド膜や光透過性導電膜等の透光性導電膜が形成される。得られる現像銀は化学現像銀又は物理現像銀であり、高比表面のフィラメントである点で後続するめっき又は物理現像過程で活性が高い。   The aspect (1) is an integrated black-and-white development type, and a light-transmitting conductive film such as a light-transmitting electromagnetic wave shielding film or a light-transmitting conductive film is formed on the photosensitive material. The resulting developed silver is chemically developed silver or physical developed silver, and is highly active in the subsequent plating or physical development process in that it is a filament with a high specific surface.

上記(2)の態様は、露光部では、物理現像核近縁のハロゲン化銀が溶解されて現像核上に沈積することによって感光材料上に透光性導電膜が形成される。これも一体型黒白現像タイプである。現像作用が、物理現像核上への析出であるので高活性であるが、現像銀の比表面は小さい球形である。   In the above aspect (2), the light-transmitting conductive film is formed on the photosensitive material by dissolving the silver halide near the physical development nucleus and depositing it on the development nucleus in the exposed portion. This is also an integrated black-and-white development type. Although the development action is precipitation on the physical development nuclei, it is highly active, but the specific surface of developed silver is a small sphere.

上記(3)の態様は、未露光部においてハロゲン化銀が溶解されて拡散して受像シート上の現像核上に沈積することによって受像シート上に透光性導電膜が形成される。いわゆるセパレートタイプであって、受像シートを感光材料から剥離して用いる態様である。   In the aspect (3), the light-transmitting conductive film is formed on the image receiving sheet by dissolving and diffusing the silver halide in the unexposed area and depositing on the development nuclei on the image receiving sheet. This is a so-called separate type in which the image receiving sheet is peeled off from the photosensitive material.

いずれの態様もネガ型現像処理及び反転現像処理のいずれの現像を選択することもできる(拡散転写方式の場合は、感光材料としてオートポジ型感光材料を用いることによってネガ型現像処理が可能となる)。   In either embodiment, either negative development processing or reversal development processing can be selected (in the case of the diffusion transfer method, negative development processing is possible by using an auto-positive type photosensitive material as the photosensitive material). .

ここでいう化学現像、熱現像、溶解物理現像、拡散転写現像は、当業界で通常用いられている用語どおりの意味であり、写真化学の一般教科書、例えば菊地真一著「写真化学」(共立出版社、1955年刊行)、C.E.K.Mees編「The Theory of Photographic Processes, 4th ed.」(Mcmillan社、1977年刊行)に解説されている。本件は液処理に係る発明であるが、その他の現像方式として熱現像方式を適用する技術も参考にすることができる。例えば、特開2004−184693号、同2004−334077号、同2005−010752号の各公報、特願2004−244080号、同2004−085655号の各明細書に記載された技術を適用することができる。   The chemical development, thermal development, dissolution physical development, and diffusion transfer development mentioned here have the same meanings as are commonly used in the industry, and are general textbooks of photographic chemistry such as Shinichi Kikuchi, “Photochemistry” (Kyoritsu Publishing) (Published in 1955), C.I. E. K. It is described in "The Theory of Photographic Processes, 4th ed." Edited by Mees (Mcmillan, 1977). Although this case is an invention related to liquid processing, a technique of applying a thermal development system as another development system can also be referred to. For example, the techniques described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2004-184893, 2004-334077, and 2005-010752, and Japanese Patent Application Nos. 2004-244080 and 2004-085655 can be applied. it can.

(感光材料)
[透明フィルム50]
本実施形態の製造方法に用いられる透明フィルム50としては、フレキシブルなプラスチックフイルムを用いることができる。
(Photosensitive material)
[Transparent film 50]
As the transparent film 50 used in the manufacturing method of the present embodiment, a flexible plastic film can be used.

上記プラスチックフイルムの原料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルブチラール、ポリアミド、ポリエーテル、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、EVA等のポリオレフィン類、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース(TAC)、アクリル樹脂、ポリイミド、又はアラミド等を用いることができる。   Examples of the raw material for the plastic film include polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl butyral, polyamide, polyether, polysulfone, polyethersulfone, polycarbonate, and polyarylate. , Polyetherimide, polyetherketone, polyetheretherketone, polyolefins such as EVA, polycarbonate, triacetylcellulose (TAC), acrylic resin, polyimide, or aramid can be used.

本実施形態においては、透光性、耐熱性、取り扱い易さ及び価格の点から、上記プラスチックフイルムはポリエチレンテレフタレートフイルムが適しているが、耐熱性・熱可塑性等の必要性により、適宜選択される。   In the present embodiment, polyethylene terephthalate film is suitable as the plastic film from the viewpoint of translucency, heat resistance, ease of handling, and price, but it is appropriately selected depending on the necessity of heat resistance, thermoplasticity, etc. .

[保護層]
用いられる感光材料は、後述する乳剤層上に保護層を設けていてもよい。本実施形態において「保護層」とは、ゼラチンや高分子ポリマーといったバインダからなる層を意味し、擦り傷防止や力学特性を改良する効果を発現するために感光性を有する乳剤層に形成される。上記保護層は、めっき処理する上では設けない方が好ましく、設けるとしても薄い方が好ましい。その厚みは0.2μm以下が好ましい。上記保護層の塗布方法の形成方法は特に限定されず、公知の塗布方法を適宜選択することができる。
[Protective layer]
The photosensitive material used may be provided with a protective layer on the emulsion layer described later. In the present embodiment, the “protective layer” means a layer made of a binder such as gelatin or a high molecular polymer, and is formed in an emulsion layer having photosensitivity in order to exhibit an effect of preventing scratches and improving mechanical properties. The protective layer is preferably not provided for the plating treatment, and even if provided, the protective layer is preferably thin. The thickness is preferably 0.2 μm or less. The formation method of the coating method of the said protective layer is not specifically limited, A well-known coating method can be selected suitably.

[乳剤層]
本実施形態の製造方法に用いられる感光材料は、透明フィルム50上に、光センサとして銀塩を含む乳剤層(銀塩感光層58)を有することが好ましい。本実施形態における乳剤層には、銀塩のほか、必要に応じて、染料、バインダ、溶媒等を含有することができる。
[Emulsion layer]
The photosensitive material used in the production method of the present embodiment preferably has an emulsion layer (silver salt photosensitive layer 58) containing silver salt as a photosensor on the transparent film 50. In addition to the silver salt, the emulsion layer in this embodiment may contain a dye, a binder, a solvent, and the like as necessary.

<銀塩>
本実施形態で用いられる銀塩としては、ハロゲン化銀等の無機銀塩が好ましく、特に銀塩がハロゲン化銀写真感光材料用ハロゲン化銀粒子の形で用いられるのが好ましい。ハロゲン化銀は、光センサとしての特性に優れている。
<Silver salt>
The silver salt used in this embodiment is preferably an inorganic silver salt such as silver halide, and the silver salt is particularly preferably used in the form of silver halide grains for a silver halide photographic light-sensitive material. Silver halide is excellent in characteristics as an optical sensor.

ハロゲン化銀写真感光材料の写真乳剤の形で好ましく用いられるハロゲン化銀について説明する。   The silver halide preferably used in the form of a photographic emulsion of the silver halide photographic light-sensitive material will be described.

本実施形態では、光センサとして機能させるためにハロゲン化銀を使用することが好ましく、ハロゲン化銀に関する銀塩写真フイルムや印画紙、印刷製版用フイルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等で用いられる技術は、本実施形態においても用いることができる。   In this embodiment, it is preferable to use silver halide in order to function as an optical sensor, and the technology used in silver halide photographic film, photographic paper, printing plate-making film, photomask emulsion mask, etc. relating to silver halide is used. The present embodiment can also be used.

上記ハロゲン化銀に含有されるハロゲン元素は、塩素、臭素、ヨウ素及びフッ素のいずれであってもよく、これらの組み合わせでもよい。例えば、AgCl、AgBr、AgIを主体としたハロゲン化銀が好ましく用いられ、さらにAgBrやAgClを主体としたハロゲン化銀が好ましく用いられる。塩臭化銀、沃塩臭化銀、沃臭化銀もまた好ましく用いられる。より好ましくは、塩臭化銀、臭化銀、沃塩臭化銀、沃臭化銀であり、最も好ましくは、塩化銀50モル%以上を含有する塩臭化銀、沃塩臭化銀が用いられる。   The halogen element contained in the silver halide may be any of chlorine, bromine, iodine and fluorine, or a combination thereof. For example, silver halide mainly composed of AgCl, AgBr, and AgI is preferably used, and silver halide mainly composed of AgBr or AgCl is preferably used. Silver chlorobromide, silver iodochlorobromide and silver iodobromide are also preferably used. More preferred are silver chlorobromide, silver bromide, silver iodochlorobromide and silver iodobromide, and most preferred are silver chlorobromide and silver iodochlorobromide containing 50 mol% or more of silver chloride. Used.

なお、ここで、「AgBr(臭化銀)を主体としたハロゲン化銀」とは、ハロゲン化銀組成中に占める臭化物イオンのモル分率が50%以上のハロゲン化銀をいう。このAgBrを主体としたハロゲン化銀粒子は、臭化物イオンのほかに沃化物イオン、塩化物イオンを含有していてもよい。   Here, “silver halide mainly composed of AgBr (silver bromide)” refers to silver halide in which the molar fraction of bromide ions in the silver halide composition is 50% or more. The silver halide grains mainly composed of AgBr may contain iodide ions and chloride ions in addition to bromide ions.

本実施形態に用いられるハロゲン化銀乳剤は、VIII族、VIIB族に属する金属を含有してもよい。特に、4以上の階調を得るためや低かぶりを達成するために、ロジウム化合物、イリジウム化合物、ルテニウム化合物、鉄化合物、オスミウム化合物等を含有することが好ましい。   The silver halide emulsion used in this embodiment may contain a metal belonging to Group VIII or Group VIIB. In particular, it is preferable to contain a rhodium compound, an iridium compound, a ruthenium compound, an iron compound, an osmium compound or the like in order to obtain a gradation of 4 or more or to achieve low fog.

これらの化合物の添加量はハロゲン化銀1モル当り10-10〜10-2モル/モルAgであることが好ましく、10-9〜10-3モル/モルAgであることがさらに好ましい。 The amount of these compounds added is preferably 10 −10 to 10 −2 mol / mol Ag per mol of silver halide, more preferably 10 −9 to 10 −3 mol / mol Ag.

本実施形態では、さらに光センサとしての感度を向上させるため、写真乳剤で行われる化学増感を施すこともできる。化学増感の方法としては、硫黄増感、セレン増感、テルル増感等のカルコゲン増感、金増感等の貴金属増感、還元増感等を用いることができる。これらは、単独又は組み合わせて用いられる。上記化学増感の方法を組み合わせて使用する場合には、例えば、硫黄増感法と金増感法、硫黄増感法とセレン増感法と金増感法、硫黄増感法とテルル増感法と金増感法等の組み合わせが好ましい。   In this embodiment, in order to further improve the sensitivity as an optical sensor, chemical sensitization performed with a photographic emulsion can be performed. As the chemical sensitization method, sulfur sensitization, selenium sensitization, chalcogen sensitization such as tellurium sensitization, noble metal sensitization such as gold sensitization, reduction sensitization and the like can be used. These are used alone or in combination. When the above chemical sensitization methods are used in combination, for example, sulfur sensitization method and gold sensitization method, sulfur sensitization method and selenium sensitization method and gold sensitization method, sulfur sensitization method and tellurium sensitization. A combination of a method and a gold sensitization method is preferable.

<バインダ>
乳剤層には、銀塩粒子を均一に分散させ、且つ、乳剤層と支持体との密着を補助する目的でバインダを用いることができる。本発明において、上記バインダとしては、非水溶性ポリマー及び水溶性ポリマーのいずれもバインダとして用いることができるが、水溶性ポリマーを用いることが好ましい。
<Binder>
In the emulsion layer, a binder can be used for the purpose of uniformly dispersing silver salt grains and assisting the adhesion between the emulsion layer and the support. In the present invention, as the binder, both a water-insoluble polymer and a water-soluble polymer can be used as a binder, but a water-soluble polymer is preferably used.

上記バインダとしては、例えば、ゼラチン、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリビニルピロリドン(PVP)、澱粉等の多糖類、セルロース及びその誘導体、ポリエチレンオキサイド、ポリサッカライド、ポリビニルアミン、キトサン、ポリリジン、ポリアクリル酸、ポリアルギン酸、ポリヒアルロン酸、カルボキシセルロース等が挙げられる。これらは、官能基のイオン性によって中性、陰イオン性、陽イオン性の性質を有する。   Examples of the binder include polysaccharides such as gelatin, polyvinyl alcohol (PVA), polyvinyl pyrrolidone (PVP), starch, cellulose and derivatives thereof, polyethylene oxide, polysaccharides, polyvinylamine, chitosan, polylysine, polyacrylic acid, poly Examples include alginic acid, polyhyaluronic acid, and carboxycellulose. These have neutral, anionic, and cationic properties depending on the ionicity of the functional group.

乳剤層中に含有されるバインダの含有量は、銀塩含有層中のAg/バインダ体積比が1/4以上になるように調節することが好ましく、1/2以上になるように調節することがさらに好ましい。   The content of the binder contained in the emulsion layer is preferably adjusted so that the Ag / binder volume ratio in the silver salt-containing layer is 1/4 or more, and is adjusted to be 1/2 or more. Is more preferable.

<溶媒>
上記乳剤層の形成に用いられる溶媒は、特に限定されるものではないが、例えば、水、有機溶媒(例えば、メタノール等のアルコール類、アセトン等のケトン類、ホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、酢酸エチル等のエステル類、エーテル類等)、イオン性液体、及びこれらの混合溶媒を挙げることができる。
<Solvent>
The solvent used for the formation of the emulsion layer is not particularly limited. For example, water, organic solvents (for example, alcohols such as methanol, ketones such as acetone, amides such as formamide, dimethyl sulfoxide, etc. Sulphoxides, esters such as ethyl acetate, ethers, etc.), ionic liquids, and mixed solvents thereof.

本発明の乳剤層に用いられる溶媒の含有量は、前記乳剤層に含まれる銀塩、バインダ等の合計の質量に対して30〜90質量%の範囲であり、50〜80質量%の範囲であることが好ましい。   The content of the solvent used in the emulsion layer of the present invention is in the range of 30 to 90% by mass and in the range of 50 to 80% by mass with respect to the total mass of silver salt, binder and the like contained in the emulsion layer. Preferably there is.

次に、メッシュ状パターン43A、44Aを形成するための各工程について説明する。   Next, each process for forming mesh pattern 43A, 44A is demonstrated.

[露光]
本実施形態では、透明フィルム50上に設けられた銀塩感光層58を有する感光材料への露光が行われる。露光は、電磁波を用いて行うことができる。電磁波としては、例えば、可視光線、紫外線等の光、X線等の放射線等が挙げられる。さらに露光には波長分布を有する光源を利用してもよく、特定の波長の光源を用いてもよい。
[exposure]
In the present embodiment, the photosensitive material having the silver salt photosensitive layer 58 provided on the transparent film 50 is exposed. The exposure can be performed using electromagnetic waves. Examples of the electromagnetic wave include light such as visible light and ultraviolet light, and radiation such as X-rays. Furthermore, a light source having a wavelength distribution may be used for exposure, or a light source having a specific wavelength may be used.

パターン像を形成させる露光方式としては、均一光をマスクパターンを介して感光面に照射してマスクパターンを像様形成させる面露光方式と、レーザ光等のビームを走査してパターン状の照射部を感光性面上に形成させる走査露光方式とがある。   As an exposure method for forming a pattern image, a surface exposure method for irradiating a photosensitive surface with uniform light through a mask pattern to form a mask pattern imagewise, and a pattern irradiation unit by scanning a beam such as a laser beam There is a scanning exposure method in which is formed on the photosensitive surface.

露光は、種々のレーザービームを用いて行うことができる。例えば、本実施形態における露光は、ガスレーザ、発光ダイオード、半導体レーザ、半導体レーザ又は半導体レーザを励起光源に用いた固体レーザと非線形光学結晶を組合わせた第2高調波発光光源(SHG)等の単色高密度光を用いた走査露光方式を好ましく用いることができ、さらに、KrFエキシマレーザ、ArFエキシマレーザ、F2レーザ等も用いることができる。システムをコンパクトで、安価なものにするために、露光は、半導体レーザ、半導体レーザあるいは固体レーザと非線形光学結晶を組合わせた第2高調波発生光源(SHG)を用いて行うことがより好ましい。   The exposure can be performed using various laser beams. For example, the exposure in this embodiment is a monochromatic light source such as a gas laser, a light emitting diode, a semiconductor laser, a semiconductor laser, or a second harmonic light source (SHG) that combines a solid state laser using a semiconductor laser as an excitation light source and a nonlinear optical crystal. A scanning exposure method using high-density light can be preferably used, and a KrF excimer laser, ArF excimer laser, F2 laser, or the like can also be used. In order to make the system compact and inexpensive, exposure is more preferably performed using a semiconductor laser, a semiconductor laser, or a second harmonic generation light source (SHG) that combines a solid-state laser and a nonlinear optical crystal.

銀塩感光層58をパターン状に露光する方法は、レーザービームによる走査露光も好ましい。特開2000−39677号公報記載のキャプスタン方式のレーザ走査露光装置も好ましく、さらには該キャプスタン方式においてポリゴンミラーの回転によるビーム走査の代わりに特開2004−1224号公報記載のDMDを光ビーム走査系に用いることも好ましい。特に、3m以上の長尺フレキシブルフイルムヒータを作製する場合には、湾曲した露光ステージ上において、感光材料を搬送しながらレーザビームで露光するのが好ましい。   As a method for exposing the silver salt photosensitive layer 58 in a pattern, scanning exposure with a laser beam is also preferable. A capstan type laser scanning exposure apparatus described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-39677 is also preferable. Further, in this capstan method, a DMD described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-1224 is used as a light beam instead of beam scanning by rotation of a polygon mirror. It is also preferable to use it for a scanning system. In particular, when a long flexible film heater having a length of 3 m or more is produced, it is preferable to perform exposure with a laser beam while conveying the photosensitive material on a curved exposure stage.

メッシュ状パターン43A、44Aは、後述するように、実質的に平行の直線状細線が交叉してなす三角形、四角形(菱形、正方形等)、六角形等の格子紋様や、平行な直線やジグザグ線、波線等、電圧の印加される電極間に電流を流せる構造であれば特に限定されない。   As will be described later, the mesh patterns 43A and 44A have lattice patterns such as triangles, quadrilaterals (diamonds, squares, etc.), hexagons formed by intersecting substantially parallel straight thin lines, parallel straight lines and zigzag lines. There is no particular limitation as long as the structure allows current to flow between electrodes to which a voltage is applied, such as a wavy line.

[現像処理]
本実施形態では、乳剤層を露光した後、さらに現像処理が行われる。現像処理は、銀塩写真フイルムや印画紙、印刷製版用フイルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる通常の現像処理の技術を用いることができる。現像液については特に限定はしないが、PQ現像液、MQ現像液、MAA現像液等を用いることもでき、市販品では、例えば、富士フイルム社処方のCN−16、CR−56、CP45X、FD−3、パピトール、KODAK社処方のC−41、E−6、RA−4、D−19、D−72等の現像液、又はそのキットに含まれる現像液を用いることができる。また、リス現像液を用いることもできる。
[Development processing]
In this embodiment, after the emulsion layer is exposed, further development processing is performed. The development processing can be performed by a normal development processing technique used for silver salt photographic film, photographic paper, printing plate-making film, photomask emulsion mask, and the like. The developer is not particularly limited, but a PQ developer, MQ developer, MAA developer and the like can also be used. Commercially available products include, for example, CN-16, CR-56, CP45X, and FD prescribed by FUJIFILM Corporation. -3, Papitol, a developer such as C-41, E-6, RA-4, D-19, D-72, etc. formulated by KODAK, or a developer included in the kit can be used. A lith developer can also be used.

リス現像液としては、KODAK社処方のD85等を用いることができる。本発明では、上記の露光及び現像処理を行うことにより露光部に金属銀部、好ましくはパターン状金属銀部が形成されると共に、未露光部に後述する光透過性部が形成される。   As the lith developer, D85 or the like prescribed by KODAK can be used. In the present invention, a metal silver portion, preferably a patterned metal silver portion, is formed in the exposed portion by performing the above exposure and development processing, and a light transmissive portion described later is formed in the unexposed portion.

現像処理で用いられる現像液は、画質を向上させる目的で、画質向上剤を含有することができる。画質向上剤としては、例えばベンゾトリアゾール等の含窒素へテロ環化合物を挙げることができる。また、リス現像液を利用する場合、特に、ポリエチレングリコールを使用することも好ましい。   The developer used in the development process can contain an image quality improver for the purpose of improving the image quality. Examples of the image quality improver include nitrogen-containing heterocyclic compounds such as benzotriazole. Further, when a lith developer is used, it is particularly preferable to use polyethylene glycol.

現像処理後の露光部に含まれる金属銀の質量は、露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して50質量%以上の含有率であることが好ましく、80質量%以上であることがさらに好ましい。露光部に含まれる銀の質量が露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して50質量%以上であれば、高い導電性を得ることができるため好ましい。   The mass of the metallic silver contained in the exposed portion after the development treatment is preferably a content of 50% by mass or more, and 80% by mass or more with respect to the mass of silver contained in the exposed portion before exposure. More preferably. If the mass of silver contained in the exposed portion is 50% by mass or more based on the mass of silver contained in the exposed portion before exposure, it is preferable because high conductivity can be obtained.

本実施形態における現像処理後の階調は、特に限定されるものではないが、4.0を超えることが好ましい。現像処理後の階調が4.0を超えると、光透過性部の透光性を高く保ったまま、導電性金属部の導電性を高めることができる。階調を4.0以上にする手段としては、例えば、前述のロジウムイオン、イリジウムイオンのドープが挙げられる。   The gradation after the development processing in this embodiment is not particularly limited, but is preferably more than 4.0. When the gradation after the development processing exceeds 4.0, the conductivity of the conductive metal portion can be increased while keeping the light transmissive property of the light transmissive portion high. Examples of means for setting the gradation to 4.0 or higher include the aforementioned doping of rhodium ions and iridium ions.

[物理現像及びめっき処理]
本実施形態では、上述した露光及び現像処理により形成された金属銀部62の導電性を向上させる目的で、金属銀部62に導電性金属粒子を担持させるための物理現像及び/又はめっき処理を行ってもよい。本実施形態では物理現像又はめっき処理のいずれか一方のみで導電性金属粒子を金属銀部62に担持させることが可能であるが、さらに物理現像とめっき処理とを組み合わせて導電性金属粒子を金属銀部62に担持させることもできる。
[Physical development and plating]
In the present embodiment, for the purpose of improving the conductivity of the metal silver portion 62 formed by the exposure and development processing described above, physical development and / or plating treatment for supporting the conductive metal particles on the metal silver portion 62 is performed. You may go. In this embodiment, the conductive metal particles can be supported on the metal silver portion 62 by only one of physical development and plating. However, the combination of physical development and plating is used to convert the conductive metal particles into metal. It can also be carried on the silver part 62.

本実施形態における「物理現像」とは、金属や金属化合物の核上に、銀イオン等の金属イオンを還元剤で還元して金属粒子を析出させることをいう。この物理現象は、インスタントB&Wフイルム、インスタントスライドフイルムや、印刷版製造等に利用されており、本発明ではその技術を用いることができる。   “Physical development” in the present embodiment means that metal particles such as silver ions are reduced with a reducing agent on metal or metal compound nuclei to deposit metal particles. This physical phenomenon is used for instant B & W film, instant slide film, printing plate manufacturing, and the like, and the technology can be used in the present invention.

また、物理現像は、露光後の現像処理と同時に行っても、現像処理後に別途行ってもよい。   Further, the physical development may be performed simultaneously with the development processing after exposure or separately after the development processing.

なお、本発明は、以下に記載の公開番号の技術と適宜組合わせて使用することができる。特開2004−221564号公報、特開2004−221565号公報、特開2007−200922号公報、特開2006−352073号公報、国際公開第2006/001461号パンフレット、特開2007−129205号公報、特開2007−235115号公報、特開2007−207987号公報、特開2006−012935号公報、特開2006−010795号公報、特開2006−228469号公報、特開2006−332459号公報、特開2007−207987号公報、特開2007−226215号公報、国際公開第2006/088059号パンフレット、特開2006−261315号公報、特開2007−072171号公報、特開2007−102200号公報、特開2006−228473号公報、特開2006−269795号公報、特開2006−267635号公報、特開2006−267627号公報、国際公開第2006/098333号パンフレット、特開2006−324203号公報、特開2006−228478号公報、特開2006−228836号公報、特開2006−228480号公報、国際公開2006/098336号パンフレット、国際公開第2006/098338号パンフレット、特開2007−009326号公報、特開2006−336057号公報、特開2006−339287号公報、特開2006−336090号公報、特開2006−336099号公報、特開2007−039738号公報、特開2007−039739号公報、特開2007−039740号公報、特開2007−002296号公報、特開2007−084886号公報、特開2007−092146号公報、特開2007−162118号公報、特開2007−200872号公報、特開2007−197809号公報、特開2007−270353号公報、特開2007−308761号公報、特開2006−286410号公報、特開2006−283133号公報、特開2006−283137号公報、特開2006−348351号公報、特開2007−270321号公報、特開2007−270322号公報、国際公開第2006/098335号パンフレット、特開2007−088218号公報、特開2007−201378号公報、特開2007−335729号公報、国際公開第2006/098334号パンフレット、特開2007−134439号公報、特開2007−149760号公報、特開2007−208133号公報、特開2007−178915号公報、特開2007−334325号公報、特開2007−310091号公報、特開2007−311646号公報、特開2007−013130号公報、特開2006−339526号公報、特開2007−116137号公報、特開2007−088219号公報、特開2007−207883号公報、特開2007−207893号公報、特開2007−207910号公報、特開2007−013130号公報、国際公開第2007/001008号パンフレット、特開2005−302508号公報、特開2005−197234号公報。   In addition, this invention can be used in combination with the technique of the public number described below suitably. JP 2004-221564 A, JP 2004-221565 A, JP 2007-200902 A, JP 2006-352073 A, International Publication No. 2006/001461 pamphlet, JP 2007-129205 A, JP 2007-235115, JP 2007-207987, JP 2006-012935, JP 2006-0110795, JP 2006-228469, JP 2006-332459, JP 2007. JP-A-207987, JP-A-2007-226215, WO2006 / 088059, JP-A-2006-261315, JP-A-2007-072171, JP-A-2007-102200, JP-A-2006. 228473 Gazette, JP-A-2006-26997, JP-A-2006-267635, JP-A-2006-267627, pamphlet of International Publication No. 2006/098333, JP-A-2006-324203, JP-A-2006-228478 JP, 2006-228836, JP, 2006-228480, WO 2006/098336, WO 2006/098338, JP 2007-009326, JP 2006-336057, JP, 2006-339287, JP, 2006-336090, JP, 2006-336099, JP, 2007-039738, JP, 2007-039739, JP, 2007-039740, JP 2 JP 07-002296 A, JP 2007-088886 A, JP 2007-092146 A, JP 2007-162118 A, JP 2007-200902 A, JP 2007-197809 A, JP 2007-2007 A. No. 270353, No. 2007-308761, No. 2006-286410, No. 2006-283133, No. 2006-283137, No. 2006-348351, No. 2007-270321. JP, 2007-270322, WO 2006/098335 pamphlet, JP 2007-088218, JP 2007-201378, JP 2007-335729, WO 2006/098334. Pamphlet, JP 2007-134439 A, JP 2007-149760 A, JP 2007-208133 A, JP 2007-178915 A, JP 2007-334325 A, JP 2007-310091 A, JP JP 2007-31646 A, JP 2007-013130 A, JP 2006-339526 A, JP 2007-116137 A, JP 2007-088219 A, JP 2007-207883 A, JP 2007-2007 A. No. 207893, JP 2007-207910, JP 2007-013130, WO 2007/001008, JP 2005-302508, JP 2005-197234.

なお、上記実施形態では、図1に示されるように、第1電極16と第2電極18の位置は発熱部14の上下に対向するように配置されているが、これに限定されず、発熱部14の左右に対向するように配置してもよい。   In the above embodiment, as shown in FIG. 1, the positions of the first electrode 16 and the second electrode 18 are arranged so as to face the top and bottom of the heat generating portion 14, but the present invention is not limited to this. You may arrange | position so that the right and left of the part 14 may be opposed.

また、上記実施形態では、図3及び図4に示されるように、導電性フィルム36が細線間隔が大きいメッシュ状パターン43Aからなる発熱区域43と、発熱区域43よりも細線間隔が小さいメッシュ状パターン44Aからなる電極区域44と、を備え、電極区域44のメッシュ状パターン44Aに導電性ペースト層46と金属箔48が順次積層された構成であるが、これに限定されず、電極区域44に金属箔48を積層する構成でもよい。電極区域44に導電性ペースト層だけを積層する構成でもよい。   Moreover, in the said embodiment, as FIG.3 and FIG.4 shows, the electroconductive film 36 is the heat generating area 43 which consists of the mesh-shaped pattern 43A with a fine line space | interval, and the mesh pattern with a fine wire space | interval smaller than the heat generating area 43. The conductive paste layer 46 and the metal foil 48 are sequentially laminated on the mesh pattern 44A of the electrode area 44, but the present invention is not limited to this. The structure which laminates | stacks the foil 48 may be sufficient. A configuration in which only the conductive paste layer is laminated on the electrode area 44 may be employed.

〔第2実施形態〕
次に、本発明の第2実施形態の電熱窓ガラスについて以下に説明する。なお、第1実施形態と実質的に同一の部材には同一の符号を付し、重複した説明は省略する。
[Second Embodiment]
Next, the electrothermal window glass according to the second embodiment of the present invention will be described below. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the member substantially the same as 1st Embodiment, and the overlapping description is abbreviate | omitted.

図7に示されるように、電熱窓ガラス90は、導電層94が形成された導電性フィルム92を備える点は第1実施形態と同じであるが、導電層94の構成が異なる。すなわち、導電層94は、細い金属細線42で構成されたメッシュ状パターン96Aからなる発熱区域96と、金属細線42よりも太い金属細線97で構成されたメッシュ状パターン98Aからなる電極区域98と、備えている。金属細線42の細線幅は、例えば約20μmであり、金属細線97の細線幅は、例えば約40μmである。電極区域98のメッシュ状パターン98Aには、図3に示す第1実施形態と同様に、導電性ペースト層46、金属箔48が順次積層されて第1電極16及び第2電極18が構成されている。
金属細線42の細線幅は、5〜50μmが好ましく、10〜30μmが更に好ましい。金属細線97の細線幅は、20μm以上が好ましく、40μm以上が更に好ましい。40μm以上には無限大も含まれる。線幅が無限大とは空間部分がなく電極区域全体が金属層で覆われている状態を表す。
As shown in FIG. 7, the electrothermal window glass 90 is the same as the first embodiment in that it includes a conductive film 92 on which a conductive layer 94 is formed, but the configuration of the conductive layer 94 is different. That is, the conductive layer 94 includes a heat generation area 96 composed of a mesh pattern 96A composed of thin metal wires 42, and an electrode area 98 composed of a mesh pattern 98A composed of metal wires 97 thicker than the metal wires 42; I have. The thin wire width of the thin metal wire 42 is, for example, about 20 μm, and the thin wire width of the thin metal wire 97 is, for example, about 40 μm. As in the first embodiment shown in FIG. 3, the conductive paste layer 46 and the metal foil 48 are sequentially laminated on the mesh pattern 98 </ b> A of the electrode area 98 to form the first electrode 16 and the second electrode 18. Yes.
The fine wire width of the fine metal wire 42 is preferably 5 to 50 μm, and more preferably 10 to 30 μm. The fine wire width of the fine metal wire 97 is preferably 20 μm or more, and more preferably 40 μm or more. 40 μm or more includes infinity. An infinite line width represents a state where there is no space and the entire electrode area is covered with a metal layer.

また、電極区域98が太い金属細線97からなるメッシュ状パターン98Aで覆われている面積の当該電極区域98全体の面積に占める割合をAe%、発熱区域96が細い金属細線42からなるメッシュ状パターン96Aで覆われている面積の当該発熱区域96全体の面積に占める割合をAc%とすると、
Ac≦Ae、5≦Ae、かつ0<Ac≦20
を満たしている。
In addition, the ratio of the area covered by the mesh pattern 98A made of the fine metal wires 97 to the electrode area 98 to the total area of the electrode area 98 is Ae%, and the mesh pattern made of the fine metal wires 42 for the heat generation area 96. When the ratio of the area covered with 96A to the total area of the heat generating area 96 is Ac%,
Ac ≦ Ae, 5 ≦ Ae, and 0 <Ac ≦ 20
Meet.

このような電熱窓ガラス90では、上記関係式を満たすようにAc、Aeを設定することにより、発熱区域96の透明度が高くなり、運転席から発熱区域96のメッシュ状パターン96Aが視認されにくくなる。また、上記関係式を満たすようにAc、Aeを設定することにより、発熱区域96のメッシュ状パターン96Aと第1電極16又は第2電極18との接触部の抵抗、すなわち、金属細線42と金属箔48間の抵抗が小さくなり、接触部の発熱を抑制することができる。   In such an electrically heated window glass 90, by setting Ac and Ae so as to satisfy the above relational expression, the transparency of the heat generating area 96 is increased, and the mesh pattern 96A of the heat generating area 96 is less visible from the driver's seat. . Further, by setting Ac and Ae so as to satisfy the above relational expression, the resistance of the contact portion between the mesh pattern 96A of the heat generation area 96 and the first electrode 16 or the second electrode 18, that is, the metal thin wire 42 and the metal Resistance between the foils 48 is reduced, and heat generation at the contact portion can be suppressed.

なお、上記実施形態では、電極区域98のメッシュ状パターン98Aに導電性ペースト層46と金属箔48が順次積層された構成であるが、これに限定されず、電極区域98のメッシュ状パターン98Aに導電性ペースト46あるいは金属箔48の一方だけを積層する構成でもよい。   In the above embodiment, the conductive paste layer 46 and the metal foil 48 are sequentially laminated on the mesh pattern 98A in the electrode area 98. However, the present invention is not limited to this, and the mesh pattern 98A in the electrode area 98 is formed on the mesh pattern 98A. Only one of the conductive paste 46 and the metal foil 48 may be laminated.

〔第3実施形態〕
次に、本発明の第3実施形態の電熱窓ガラスについて以下に説明する。なお、第1実施形態及び第2実施形態と実質的に同一の部材には同一の符号を付し、重複した説明は省略する。
[Third Embodiment]
Next, the electrothermal window glass of the third embodiment of the present invention will be described below. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the member substantially the same as 1st Embodiment and 2nd Embodiment, and the overlapping description is abbreviate | omitted.

図8に示されるように、電熱窓ガラス100は、電熱窓ガラス本体102の発熱部104の上下に第1電極106と第2電極18を備える点は第1実施形態と同じであるが、発熱部104及び第1電極106の構成が異なる。すなわち、第1電極106は、両側部106Aが電熱窓ガラス本体102の上辺に沿って横線状に形成されており、中央部106Bが電熱窓ガラス本体102の内側に凹状に略直角に折れ曲がった屈曲部となっている。第1電極106の両側部106Aと第2電極18との距離は、第1電極106の中央部106Bと第2電極18との距離よりも長い。   As shown in FIG. 8, the electrothermal window glass 100 is the same as the first embodiment in that the first electrode 106 and the second electrode 18 are provided above and below the heat generating portion 104 of the electrothermal window glass body 102. The configuration of the portion 104 and the first electrode 106 is different. That is, the first electrode 106 is formed such that both side portions 106A are formed in a horizontal line shape along the upper side of the electric heating window glass body 102, and the central portion 106B is bent in a substantially right angle in a concave shape inside the electric heating window glass body 102. Has become a department. The distance between the two side portions 106A of the first electrode 106 and the second electrode 18 is longer than the distance between the central portion 106B of the first electrode 106 and the second electrode 18.

第1電極106の中央部106Bの上方には、第1電極106の屈曲部で囲まれた部分に非発熱区域108が形成されている。非発熱区域108には、金属細線によるメッシュ状パターンは形成されていない。発熱部104を金属細線によるメッシュ状パターンで形成すると、これらの領域でETCシステムなどで使用される電波が遮蔽される可能性がある。このため、第1電極106の中央部106Bの上方に金属細線によるメッシュ状パターンを形成しない非発熱区域108を設けることで、電波が遮蔽されるのを阻止するものである。   Above the central portion 106B of the first electrode 106, a non-heat generating area 108 is formed in a portion surrounded by the bent portion of the first electrode 106. In the non-heat generating area 108, a mesh-like pattern made of fine metal wires is not formed. When the heat generating portion 104 is formed in a mesh pattern using fine metal wires, there is a possibility that radio waves used in the ETC system or the like are shielded in these regions. For this reason, by providing a non-heat generating area 108 that does not form a mesh pattern of fine metal wires above the central portion 106B of the first electrode 106, the radio wave is prevented from being shielded.

図8及び図9に示されるように、発熱部104は、第1電極106の両側部106Aと第2電極18との間に挟まれた第1発熱区域110と、第1電極106の中央部106Bと第2電極18との間に挟まれた第2発熱区域112と、を備えている。第1発熱区域110と第2発熱区域112との境界には、電熱窓ガラス本体102の上下方向に沿って第1発熱区域110及び第2発熱区域112よりも電気抵抗が高い高抵抗区域114が設けられている。高抵抗区域114は、第1発熱区域110及び第2発熱区域112よりも電気抵抗が3倍以上、好ましくは10倍以上高いことが望ましい。また、高抵抗区域114に絶縁層を塗布してもよい。   As shown in FIGS. 8 and 9, the heat generating part 104 includes a first heat generating area 110 sandwiched between both side parts 106 </ b> A of the first electrode 106 and the second electrode 18, and a central part of the first electrode 106. A second heat generation area 112 sandwiched between 106B and the second electrode 18. At the boundary between the first heat generating area 110 and the second heat generating area 112, a high resistance area 114 having a higher electrical resistance than the first heat generating area 110 and the second heat generating area 112 along the vertical direction of the electric heating window glass body 102. Is provided. It is desirable that the high resistance area 114 has an electrical resistance that is 3 times or more, preferably 10 times or more higher than that of the first heat generation area 110 and the second heat generation area 112. Further, an insulating layer may be applied to the high resistance area 114.

発熱部104は、第1電極106と第2電極18との距離に反比例するように金属細線116の細線間隔(線間距離)を変化させている。すなわち、第1発熱区域110には、金属細線116の細線間隔が小さいメッシュ状パターン110Aが形成されており、第2発熱区域112には、金属細線116の細線間隔が第1発熱区域110よりも大きいメッシュ状パターン112Aが形成されている。一般的に、第1電極と第2電極との距離が異なる領域を形成すると、第1電極と第2電極との距離が短い領域に電流が集中して流れる傾向がある。このため、本実施形態では、第1発熱区域110と第2発熱区域112の表面抵抗が同じになるように金属細線116の細線間隔を調整することにより、第1発熱区域110及び第2発熱区域112の単位面積当たりの発熱量がほぼ均一になるようにしたものである。   The heat generating portion 104 changes the fine wire interval (interline distance) of the fine metal wires 116 so as to be inversely proportional to the distance between the first electrode 106 and the second electrode 18. That is, the first heat generating area 110 is formed with a mesh pattern 110 </ b> A in which the fine wire interval between the thin metal wires 116 is small. In the second heat generating area 112, the fine wire interval between the fine metal wires 116 is smaller than that in the first heat generating area 110. A large mesh pattern 112A is formed. In general, when regions having different distances between the first electrode and the second electrode are formed, current tends to flow in a region where the distance between the first electrode and the second electrode is short. For this reason, in this embodiment, the 1st heat_generation | fever area | region 110 and the 2nd heat_generation | fever area are adjusted by adjusting the fine wire space | interval of the metal fine wire 116 so that the surface resistance of the 1st heat_generation | fever area 110 and the 2nd heat_generation | fever area 112 may become the same. The calorific value per unit area of 112 is made substantially uniform.

本実施形態では、第1発熱区域110には金属細線116の細線間隔が約650μmのメッシュ状パターン110Aを形成し、第2発熱区域112には金属細線116の細線間隔が約750μmのメッシュ状パターン112Aを形成している。また、電極区域44には、金属細線42の細線間隔が約120μmのメッシュ状パターン44Aを形成している。   In the present embodiment, a mesh pattern 110A having a fine wire interval of about 650 μm is formed in the first heat generating area 110, and a mesh pattern having a fine wire interval of about 750 μm in the second heat generating area 112. 112A is formed. In the electrode area 44, a mesh pattern 44A in which the fine wire interval of the fine metal wires 42 is about 120 μm is formed.

このような電熱窓ガラス100は、非発熱区域108を設けることで、ETCシステムなどで使用される電波が遮蔽されるのをより確実に阻止することができる。また、非発熱区域108を設けるために第1電極106の中央部106Bを屈曲させた場合でも、第1発熱区域110と第2発熱区域112の表面抵抗が同じになるように金属細線116の細線間隔を調整することにより、第1発熱区域110及び第2発熱区域112の単位面積当たりの発熱量をほぼ均一にすることができる。また、第1発熱区域110及び第2発熱区域112の金属細線116の細線間隔を調整するため、製造が容易であり、低コスト化が可能である。   Such an electrically heated window glass 100 can more reliably prevent the radio waves used in the ETC system from being shielded by providing the non-heat generating area 108. Further, even when the central portion 106B of the first electrode 106 is bent in order to provide the non-heat generation area 108, the fine wires 116 are thin so that the surface resistances of the first heat generation area 110 and the second heat generation area 112 are the same. By adjusting the interval, the heat generation amount per unit area of the first heat generation area 110 and the second heat generation area 112 can be made substantially uniform. Moreover, since the thin wire | line space | interval of the metal fine wire 116 of the 1st heat_generation | fever area 110 and the 2nd heat_generation | fever area 112 is adjusted, manufacture is easy and cost reduction is possible.

〔第4実施形態〕
次に、本発明の第4実施形態の電熱窓ガラスについて以下に説明する。なお、第1実施形態〜第3実施形態と実質的に同一の部材には同一の符号を付し、重複した説明は省略する。
[Fourth Embodiment]
Next, the electrothermal window glass of the fourth embodiment of the present invention will be described below. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the member substantially the same as 1st Embodiment-3rd Embodiment, and the overlapping description is abbreviate | omitted.

図10に示されるように、電熱窓ガラス120は、電熱窓ガラス本体102の発熱部104の上下に第1電極106と第2電極18を備える点は第3実施形態と同じであるが、第1発熱区域122及び電極区域126の構成が異なる。   As shown in FIG. 10, the electrothermal window glass 120 is the same as the third embodiment in that the first electrode 106 and the second electrode 18 are provided above and below the heat generating portion 104 of the electrothermal window glass body 102. 1 The structure of the heat generation area 122 and the electrode area 126 is different.

この電熱窓ガラス120では、第1電極106と第2電極18との距離に比例するように金属細線116、124の細線幅を変化させている。すなわち、第1発熱区域122と第2発熱区域112の表面抵抗が同じになるように、第1発熱区域122では金属細線124の細線幅が太いメッシュ状パターン122Aを形成し、第2発熱区域112では第1発熱区域122よりも金属細線116の細線幅が細いメッシュ状パターン112Aを形成する。   In the electrothermal window glass 120, the thin wire widths of the thin metal wires 116 and 124 are changed so as to be proportional to the distance between the first electrode 106 and the second electrode 18. That is, the first heat generation area 122 and the second heat generation area 112 have the same surface resistance, and the first heat generation area 122 forms a mesh pattern 122A in which the fine wire width of the metal thin wire 124 is thick. Then, the mesh pattern 112A in which the fine wire width of the fine metal wire 116 is narrower than that of the first heat generating area 122 is formed.

また、電極区域126では、第1発熱区域122よりも細線幅が太い金属細線97の細線幅が太いメッシュ状パターン126Aを形成する。   In the electrode area 126, a mesh pattern 126 </ b> A is formed in which the fine metal line 97 has a fine line width larger than that of the first heat generation area 122.

本実施形態では、金属細線124の細線幅は約40μmに設定し、金属細線116の細線幅は約20μmに設定している。   In the present embodiment, the fine wire width of the fine metal wire 124 is set to about 40 μm, and the fine wire width of the fine metal wire 116 is set to about 20 μm.

このような電熱窓ガラス120は、第3実施形態と同様に非発熱区域108を設けることで、ETCシステムなどで使用される電波が遮蔽されるのをより確実に阻止することができる。また、第1発熱区域122と第2発熱区域112の表面抵抗が同じになるように金属細線116、124の細線幅を調整することにより、第1発熱区域122及び第2発熱区域112の単位面積当たりの発熱量をほぼ均一にすることができる。また、第1発熱区域122及び第2発熱区域112の金属細線116、124の細線幅を調整するため、製造が容易であり、低コスト化が可能である。   Such an electrically heated window glass 120 can more reliably prevent the radio wave used in the ETC system from being shielded by providing the non-heat generating area 108 as in the third embodiment. Further, the unit area of the first heat generation area 122 and the second heat generation area 112 is adjusted by adjusting the thin wire width of the metal thin wires 116 and 124 so that the surface resistances of the first heat generation area 122 and the second heat generation area 112 are the same. The amount of heat generated per hit can be made substantially uniform. In addition, since the fine wire widths of the thin metal wires 116 and 124 in the first heat generating area 122 and the second heat generating area 112 are adjusted, the manufacturing is easy and the cost can be reduced.

以下に、本発明の実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。なお、以下の実施例に示される材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。なお、下記実施例は説明を分りやすくするために、図1に示す電熱窓ガラス10の各部材の構成と同一の符号を用いて説明しているが、各部材の構成は実施例1〜実施例9に記載された通りである。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples of the present invention. In addition, the material, usage-amount, ratio, processing content, processing procedure, etc. which are shown in the following Examples can be changed suitably unless it deviates from the meaning of this invention. Accordingly, the scope of the present invention should not be construed as being limited by the specific examples shown below. In addition, in order to make the description easy to understand, the following examples are described using the same reference numerals as the configurations of the respective members of the electric heating window glass 10 shown in FIG. As described in Example 9.

〔実施例1〕
<メッシュの形成>
水媒体中のAg60gに対してゼラチン7.5gを含む、球相当径平均0.05μmの沃臭化銀粒子(I=2モル%)を含有する乳剤を調製した。この際、Ag/ゼラチン体積比は1/1とし、ゼラチン種としては平均分子量2万の低分子量ゼラチンを用いた。
また、この乳剤中にはK3Rh2Br9及びK2IrCl6を濃度が10-7(モル/モル銀)になるように添加し、臭化銀粒子にRhイオンとIrイオンをドープした。この乳剤にNa2PdCl4を添加し、更に塩化金酸とチオ硫酸ナトリウムを用いて金硫黄増感を行った後、ゼラチン硬膜剤と共に、銀の塗布量が1g/m2となるようにポリエチレンテレフタレート(PET)上に塗布した。PETは塗布前にあらかじめ親水化処理したものを用いた。乾燥させた塗布膜に次のような現像銀像を与えうるフォトマスクを介して紫外線ランプを用いて露光し、下記の現像液を用いて25℃で45秒間現像し、さらに定着液(スーパーフジフィックス:富士写真フイルム社製)を用いて現像処理を行った後、純水でリンスした。
[Example 1]
<Mesh formation>
An emulsion containing silver iodobromide grains (I = 2 mol%) having an average equivalent sphere diameter of 0.05 μm and containing 7.5 g of gelatin per 60 g of Ag in an aqueous medium was prepared. At this time, the Ag / gelatin volume ratio was 1/1, and a low molecular weight gelatin having an average molecular weight of 20,000 was used as the gelatin species.
In this emulsion, K 3 Rh 2 Br 9 and K 2 IrCl 6 were added so as to have a concentration of 10 −7 (mol / mol silver), and silver bromide grains were doped with Rh ions and Ir ions. . After adding Na 2 PdCl 4 to this emulsion and further performing gold-sulfur sensitization with chloroauric acid and sodium thiosulfate, together with the gelatin hardener, the coating amount of silver is 1 g / m 2. It was coated on polyethylene terephthalate (PET). The PET used was hydrophilized before application. The dried coating film is exposed using a UV lamp through a photomask that can give a developed silver image as follows, developed at 25 ° C. for 45 seconds using the following developer, and further fixed solution (super Fuji Fix: Fuji Photo Film Co., Ltd.) was used for development processing, followed by rinsing with pure water.

[マスクのメッシュパターン]
導電性フィルム36の発熱区域43は線幅17μm、ピッチ600μmのメッシュ状パターンを露光し、電極区域44は線幅17μm、ピッチ600μmのメッシュ状パターンを露光した。
[現像液の組成]
現像液1リットル中に、以下の化合物が含まれる。
ハイドロキノン 0.037mol/L
N−メチルアミノフェノール 0.016mol/L
メタホウ酸ナトリウム 0.140mol/L
水酸化ナトリウム 0.360mol/L
臭化ナトリウム 0.031mol/L
メタ重亜硫酸カリウム 0.187mol/L
[Mask mesh pattern]
The heat generating area 43 of the conductive film 36 was exposed to a mesh pattern having a line width of 17 μm and a pitch of 600 μm, and the electrode area 44 was exposed to a mesh pattern having a line width of 17 μm and a pitch of 600 μm.
[Developer composition]
The following compounds are contained in 1 liter of developer.
Hydroquinone 0.037mol / L
N-methylaminophenol 0.016 mol / L
Sodium metaborate 0.140 mol / L
Sodium hydroxide 0.360 mol / L
Sodium bromide 0.031 mol / L
Potassium metabisulfite 0.187 mol / L

次いで現像・定着により形成された金属銀部62に銅を電解めっきして銅めっき層68を形成する。銅めっき後の細線幅は約20μmであった。更に金属銀部62及び銅めっき層68にニッケルをめっきして黒化層70を形成する。このようにして形成された金属細線42による発熱区域43のメッシュ状パターン43Aの表面抵抗は0.34Ω/□であった。発熱区域43のサイズは横650mm、縦760mmとし、電極区域44は二つ共に横方向に650mm、幅25mmとした。電極区域44の上に太陽インキ製造株式会社製銀ペーストECM−100 AF4820を塗布し、120℃で30分間熱処理し、銀ペースト層(導電性ペースト層46)を形成する。このとき、電極区域44の金属細線42の割合Ae(%)と発熱区域43の金属細線42の割合Ac(%)は共に6.6%であった。   Next, copper is electroplated on the metal silver portion 62 formed by development and fixing to form a copper plating layer 68. The fine line width after copper plating was about 20 μm. Further, nickel is plated on the metal silver portion 62 and the copper plating layer 68 to form the blackened layer 70. The surface resistance of the mesh pattern 43A of the heat generating area 43 by the thin metal wire 42 thus formed was 0.34Ω / □. The size of the heat generating area 43 was 650 mm in width and 760 mm in length, and both of the electrode areas 44 were 650 mm in the horizontal direction and 25 mm in width. A silver paste ECM-100 AF4820 manufactured by Taiyo Ink Mfg. Co., Ltd. is applied on the electrode area 44 and heat-treated at 120 ° C. for 30 minutes to form a silver paste layer (conductive paste layer 46). At this time, the ratio Ae (%) of the fine metal wires 42 in the electrode area 44 and the ratio Ac (%) of the fine metal wires 42 in the heat generating area 43 were both 6.6%.

ガラス30の上にPVBフィルム(樹脂層34)、上記の導電性フィルム36、この導電性フィルム36の電極区域44上にスリーエム社製アルミ箔テープAL−50BT(金属箔48)、PVBフィルム(樹脂層38)、ガラス32を記載順に重ねて真空乾燥機に入れ、真空脱気したのち真空を保ったまま110℃に加熱する。PVBフィルム(樹脂層34、38)が透明になったら真空乾燥機から取り出し、各アルミ箔テープ(金属箔48)を直流定電圧電源につなぎ、発熱区域43の中央が45℃になるように電圧を調整しながら発熱させる。発熱状態を放射温度計で観察し、第1電極16及び第2電極18の発熱を測定した。表面抵抗の測定には、三菱化学株式会社製MCP−T610の表面抵抗計を使用した。   A PVB film (resin layer 34) on the glass 30, the conductive film 36 described above, an aluminum foil tape AL-50BT (metal foil 48) manufactured by 3M on the electrode area 44 of the conductive film 36, a PVB film (resin Layer 38) and glass 32 are stacked in the order described, placed in a vacuum dryer, vacuum degassed, and heated to 110 ° C. with the vacuum maintained. When the PVB film (resin layers 34, 38) becomes transparent, it is taken out from the vacuum dryer, and each aluminum foil tape (metal foil 48) is connected to a DC constant voltage power supply so that the center of the heat generating area 43 is 45 ° C. Heat while adjusting. The heat generation state was observed with a radiation thermometer, and the heat generation of the first electrode 16 and the second electrode 18 was measured. For the measurement of the surface resistance, a MCP-T610 surface resistance meter manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation was used.

〔実施例2〕
ニッケルの黒化層めっきを発熱区域43のみに実施し、電極区域44は黒化層めっきを行わなかった。また、電極区域44には銀ペーストの塗布を行わなかった。そのほかは実施例1と同様にして電熱窓ガラスを作成した。
[Example 2]
Nickel blackening layer plating was performed only in the heat generating area 43 and the electrode area 44 was not blackened layer plating. Further, no silver paste was applied to the electrode area 44. Otherwise, an electrically heated window glass was prepared in the same manner as in Example 1.

〔実施例3〕
ニッケルの黒化層めっきを発熱区域43のみに実施し、電極区域44は黒化めっきを行わなかったほかは実施例1と同様にして電熱窓ガラスを作成した。
Example 3
An electrothermal window glass was prepared in the same manner as in Example 1 except that nickel black layer plating was performed only on the heat generating area 43 and the electrode area 44 was not black plated.

〔実施例4〕
電極区域44のメッシュ状パターンの露光を線幅17μm、ピッチ120μmにしたほかは実施例2と同じにして電熱窓ガラスを作成した。電極区域44の金属細線42の割合Ae(%)は30.6%であり、発熱区域43の金属細線42の割合Ac(%)は6.6%であった。
Example 4
An electrothermal window glass was prepared in the same manner as in Example 2 except that the exposure of the mesh pattern in the electrode area 44 was performed with a line width of 17 μm and a pitch of 120 μm. The ratio Ae (%) of the fine metal wires 42 in the electrode area 44 was 30.6%, and the ratio Ac (%) of the fine metal wires 42 in the heat generating area 43 was 6.6%.

〔実施例5〕
電極区域44のメッシュ状パターンの露光を線幅36μm、ピッチ600μmにしたほかは実施例2と同じにして電熱窓ガラスを作成した。銅めっき後の電極区域44の金属細線の線幅は40μmであった。電極区域44の金属細線42の割合Ae(%)は12.9%であり、発熱区域43の金属細線42の割合Ac(%)は6.6%であった。
Example 5
An electrothermal window glass was prepared in the same manner as in Example 2 except that the mesh pattern in the electrode area 44 was exposed to a line width of 36 μm and a pitch of 600 μm. The line width of the fine metal wire in the electrode area 44 after copper plating was 40 μm. The ratio Ae (%) of the fine metal wires 42 in the electrode area 44 was 12.9%, and the ratio Ac (%) of the fine metal wires 42 in the heat generating area 43 was 6.6%.

〔実施例6〕
電極区域44のメッシュ状パターンの露光を線幅17μm、ピッチ120μmにしたほかは実施例3と同じにして電熱窓ガラスを作成した。電極区域44の金属細線42の割合Ae(%)は30.6%であり、発熱区域43の金属細線42の割合Ac(%)は6.6%であった。
Example 6
An electrothermal window glass was prepared in the same manner as in Example 3 except that the exposure of the mesh pattern in the electrode area 44 was performed with a line width of 17 μm and a pitch of 120 μm. The ratio Ae (%) of the fine metal wires 42 in the electrode area 44 was 30.6%, and the ratio Ac (%) of the fine metal wires 42 in the heat generating area 43 was 6.6%.

〔比較例1〕
電極区域44には銀ペーストの塗布を行わなかった。また、電極区域44のメッシュ状パターンに黒化層めっきを行った。そのほかは実施例1と同様にして電熱窓ガラスを作成した。
[Comparative Example 1]
No silver paste was applied to the electrode area 44. Further, blackening layer plating was performed on the mesh pattern of the electrode area 44. Otherwise, an electrically heated window glass was prepared in the same manner as in Example 1.

上記実施例1〜実施例6及び比較例1の評価結果を表1に示す。

Figure 2010251230
The evaluation results of Examples 1 to 6 and Comparative Example 1 are shown in Table 1.
Figure 2010251230

導電性フィルム36上の金属細線42とアルミ箔(金属箔48)との接触抵抗が大きい電熱窓ガラスは、電極区域44と発熱区域43の境界部で発熱し、電極区域44が高温になる。表1に示されるように、比較例1では、電極区域44に銀ペーストを塗布しないことにより、電極区域44が高温になり、部分的に100℃を越えて焼け焦げることが確認された。   The electric heating window glass having a large contact resistance between the thin metal wire 42 and the aluminum foil (metal foil 48) on the conductive film 36 generates heat at the boundary between the electrode area 44 and the heat generation area 43, and the electrode area 44 becomes high temperature. As shown in Table 1, in Comparative Example 1, it was confirmed that by not applying the silver paste to the electrode area 44, the electrode area 44 became hot and partially burned over 100 ° C.

実施例1〜実施例6に示されるように、電極区域44の金属細線42の割合Aeを大きくしたり、金属細線42とアルミ箔との間に銀ペースト層(導電性ペースト層46)を設けることにより、金属細線42とアルミ箔間の接触抵抗が下がり、電極区域44の発熱を減少させることができた。   As shown in Examples 1 to 6, the ratio Ae of the fine metal wires 42 in the electrode area 44 is increased, or a silver paste layer (conductive paste layer 46) is provided between the fine metal wires 42 and the aluminum foil. As a result, the contact resistance between the fine metal wire 42 and the aluminum foil was reduced, and the heat generation in the electrode area 44 was reduced.

表1により、電極区域44の金属細線42の割合Ae(%)と、発熱区域43の金属細線42の割合Ac(%)は、   According to Table 1, the ratio Ae (%) of the fine metal wires 42 in the electrode area 44 and the ratio Ac (%) of the fine metal wires 42 in the heat generating area 43 are

Ac≦Ae、5≦Aeを満たすことが好ましい。また、発熱区域43のメッシュ状パターン43Aを視認されにくくするためには、0<Ac≦20を満たすことが好ましい。 It is preferable to satisfy Ac ≦ Ae and 5 ≦ Ae. Further, in order to make the mesh pattern 43A of the heat generating area 43 less visible, it is preferable to satisfy 0 <Ac ≦ 20.

〔実施例7〕
<メッシュの形成>
水媒体中のAg80gに対してゼラチン5gを含む、球相当径平均0.05μmの沃臭化銀粒子(I=2モル%)を含有する乳剤を調製した。この際、Ag/ゼラチン体積比は2/1とし、ゼラチンはフタル化ゼラチンを用いた。
また、この乳剤中にはK3Rh2Br9及びK2IrCl6を濃度が10-7(モル/モル銀)になるように添加し、臭化銀粒子にRhイオンとIrイオンをドープした。この乳剤にNa2PdCl4を添加し、更に塩化金酸とチオ硫酸ナトリウムを用いて金硫黄増感を行った後、ゼラチン硬膜剤と共に、銀の塗布量が1.5g/m2となるようにポリエチレンテレフタレート(PET)上に塗布した。PETは塗布前にあらかじめ親水化処理したものを用いた。電極区域44は線幅20μm、ピッチ100μmのメッシュ状パターンを、発熱区域43は線幅20μm、ピッチ600μmのメッシュ状パターンを露光し、実施例1と同様に現像定着処理を行った。その後3000N/cmの線圧でカレンダー処理し、更に100℃の水蒸気中に1分間曝して乾燥した。
実施例2と同様に電極区域にアルミ箔テープを貼り、その後合せガラス加工することにより実施例7の電熱窓ガラスを作成した。電極区域44の金属細線42の割合Ae(%)は36.0%であり、発熱区域43の金属細線42の割合Ac(%)は6.6%であった。
Example 7
<Mesh formation>
An emulsion containing silver iodobromide grains (I = 2 mol%) having an average sphere equivalent diameter of 0.05 μm and containing 5 g of gelatin per 80 g of Ag in an aqueous medium was prepared. At this time, the Ag / gelatin volume ratio was 2/1, and phthalated gelatin was used as the gelatin.
In this emulsion, K 3 Rh 2 Br 9 and K 2 IrCl 6 were added so as to have a concentration of 10 −7 (mol / mol silver), and silver bromide grains were doped with Rh ions and Ir ions. . After adding Na 2 PdCl 4 to this emulsion and further performing gold sulfur sensitization using chloroauric acid and sodium thiosulfate, the coating amount of silver becomes 1.5 g / m 2 together with the gelatin hardener. It was coated on polyethylene terephthalate (PET). The PET used was hydrophilized before application. The electrode area 44 was exposed to a mesh pattern with a line width of 20 μm and a pitch of 100 μm, and the heat generation area 43 was exposed to a mesh pattern with a line width of 20 μm and a pitch of 600 μm. Thereafter, it was calendered at a linear pressure of 3000 N / cm and further exposed to water vapor at 100 ° C. for 1 minute for drying.
In the same manner as in Example 2, an aluminum foil tape was applied to the electrode area, and then the laminated glass was processed to prepare an electrically heated window glass of Example 7. The ratio Ae (%) of the fine metal wires 42 in the electrode area 44 was 36.0%, and the ratio Ac (%) of the fine metal wires 42 in the heat generating area 43 was 6.6%.

〔実施例8〕
電極区域44の露光を線幅40μm、ピッチ600μmとしたほかは実施例7と同様にして電熱窓ガラスを作成した。
Example 8
An electrothermal window glass was prepared in the same manner as in Example 7 except that the electrode area 44 was exposed to a line width of 40 μm and a pitch of 600 μm.

上記実施例7及び実施例8の評価結果を表2に示す。

Figure 2010251230
The evaluation results of Example 7 and Example 8 are shown in Table 2.
Figure 2010251230

表2に示されるように、メッシュ状パターンの露光、現像後に、金属銀部をカレンダー処理することにより、電極区域44の発熱を減少させることができた。これは、カレンダー処理により金属銀部が圧縮されて導電性が上がったためと考えられる。   As shown in Table 2, heat generation in the electrode area 44 could be reduced by calendering the metallic silver portion after the exposure and development of the mesh pattern. This is considered to be because the metal silver part was compressed by the calendar process and the conductivity was increased.

〔実施例9〕
この実施例9では、図11に示す電熱窓ガラス130を作成した。この電熱窓ガラス130では、長手方向両側の第1発熱区域110は金属細線116の細線幅17μm、細線間隔650μmのメッシュ状パターン、第2発熱区域112は金属細線116の細線幅17μm、細線間隔750μmのメッシュ状パターン、また電極区域44は金属細線42の細線幅17μm、細線間隔120μmのメッシュ状パターンになるようにそれぞれ露光し、現像及び定着を行った。第1発熱区域110と第2発熱区域112との境界部には、約1mm幅に絶縁膜(高抵抗区域114に相当する)を塗布した。その後、金属銀部に銅を電解めっきすることにより、絶縁膜で覆われた部分以外の金属細線116は赤い銅で覆われた。
Example 9
In Example 9, an electrothermal window glass 130 shown in FIG. 11 was created. In this electrically heated window glass 130, the first heat generating area 110 on both sides in the longitudinal direction has a mesh pattern with a thin wire width of 17 μm and a fine wire interval of 650 μm, and the second heat generating area 112 has a fine wire width of 17 μm and a fine wire interval of 750 μm. The electrode pattern 44 and the electrode area 44 were exposed to develop a mesh pattern having a fine line width of 17 μm and a fine line interval of 120 μm, and development and fixing were performed. An insulating film (corresponding to the high resistance area 114) was applied to the boundary between the first heat generation area 110 and the second heat generation area 112 to a width of about 1 mm. After that, by electroplating copper on the metal silver part, the fine metal wires 116 other than the part covered with the insulating film were covered with red copper.

銅めっき後の金属細線116の細線幅は約20μmであった。更にニッケルからなる黒化層を銅の上にめっきした。第1発熱区域110のサイズは横600mm、縦750mmとし、第2発熱区域112のサイズは横200mm、縦650mmとした。電極区域44の金属細線42の割合Aeは30.6%、第1発熱区域110の金属細線116の割合Acは6.1%、第2発熱区域112の金属細線116の割合Acは5.3%であった。第1発熱区域110の表面抵抗は0.37Ω/□、第2発熱区域112の表面抵抗は0.42Ω/□であった。電極区域44に太陽インキ製造株式会社製銀ペーストECM−100 AF4820を塗布し、120℃で30分間熱処理することにより、銀ペースト層(導電性ペースト層46)を形成した。   The fine wire width of the fine metal wire 116 after copper plating was about 20 μm. Furthermore, the blackening layer which consists of nickel was plated on copper. The size of the first heat generating area 110 was 600 mm wide and 750 mm long, and the size of the second heat generating area 112 was 200 mm wide and 650 mm long. The ratio Ae of the fine metal wires 42 in the electrode area 44 is 30.6%, the ratio Ac of the fine metal wires 116 in the first heat generating area 110 is 6.1%, and the ratio Ac of the fine metal wires 116 in the second heat generating area 112 is 5.3. %Met. The surface resistance of the first heat generation area 110 was 0.37Ω / □, and the surface resistance of the second heat generation area 112 was 0.42Ω / □. Silver paste ECM-100 AF4820 manufactured by Taiyo Ink Manufacturing Co., Ltd. was applied to the electrode area 44 and heat treated at 120 ° C. for 30 minutes to form a silver paste layer (conductive paste layer 46).

ガラスの上にPVBフィルム、前記の導電性フィルム、導電性フィルムの電極区域44上にスリオンテック製No.8701銅箔テープ(24mm幅)、PVBフィルム、ガラスを記載順に重ねて真空乾燥機に入れる。上部の第1電極132の曲げ部132Aは銅箔テープを折り曲げることにより1本の銅箔テープで作成した。真空脱気したのち真空を保ったまま110℃に加熱する。   A PVB film on the glass, the conductive film, and an electrode area 44 of the conductive film. 8701 copper foil tape (24 mm width), PVB film, and glass are stacked in the order of description and placed in a vacuum dryer. The bent portion 132A of the upper first electrode 132 was made of one copper foil tape by bending the copper foil tape. After degassing in vacuum, heat to 110 ° C. while maintaining the vacuum.

PVBフィルムが透明になったら真空乾燥機から取り出し、第1電極132と第2電極18(一対の銅箔テープ)を直流12ボルトの電源22につなぎ発熱させたところ、安定状態で48アンペアの電流が得られた。発熱状態を放射温度計で観察したところ、放熱の影響がある発熱部104の周縁域を除いて長手方向両側の第1発熱区域110及び第2発熱区域112のほぼ全域が45℃から50℃の温度であった。   When the PVB film becomes transparent, the PVD film is taken out from the vacuum dryer, and the first electrode 132 and the second electrode 18 (a pair of copper foil tapes) are connected to a DC 12 volt power source 22 to generate heat. was gotten. When the heat generation state was observed with a radiation thermometer, almost the entire area of the first heat generation area 110 and the second heat generation area 112 on both sides in the longitudinal direction except for the peripheral area of the heat generation portion 104 having the influence of heat dissipation was 45 ° C to 50 ° C. It was temperature.

また、電熱窓ガラス130を用いてETCシステムの電波を受信する試験を行ったところ、電波を遮蔽しないことが確認された。   Moreover, when the test which receives the electromagnetic wave of an ETC system using the electrothermal window glass 130 was conducted, it was confirmed that an electromagnetic wave is not shielded.

なお、本発明に係る電熱窓ガラス及び電熱窓ガラスの製造方法は、上述の実施の形態に限らず、本発明の要旨を逸脱することなく、種々の構成を採り得ることはもちろんである。   In addition, the manufacturing method of the electric heating window glass and electric heating window glass which concern on this invention is not restricted to the above-mentioned embodiment, Of course, various structures can be taken, without deviating from the summary of this invention.

10 電熱窓ガラス
14 発熱部
16 第1電極(電極)
18 第2電極(電極)
20 非発熱部
22 電源(電気供給源)
30 ガラス(ガラス層)
32 ガラス(ガラス層)
36 導電性フィルム
40 導電層(導電性層)
42 金属細線
43 発熱区域
43A メッシュ状パターン(金属細線群)
44 電極区域
44A メッシュ状パターン(金属細線群)
45 非発熱区域
46 導電性ペースト層
48 金属箔
50 透明フィルム(支持体)
90 電熱窓ガラス
92 導電性フィルム
94 導電層(導電性層)
96 発熱区域
96A メッシュ状パターン(金属細線群)
97 金属細線
98 電極区域
98A メッシュ状パターン(金属細線群)
100 電熱窓ガラス
104 発熱部
106 第1電極(電極)
108 非発熱区域
110 第1発熱区域(電極間の距離が異なる区域)
110A メッシュ状パターン(金属細線群)
112 第2発熱区域(電極間の距離が異なる区域)
112A メッシュ状パターン(金属細線群)
114 高抵抗区域
116 金属細線
120 電熱窓ガラス
122 第1発熱区域(電極間の距離が異なる区域)
122A メッシュ状パターン(金属細線群)
124 金属細線
126 電極区域
126A メッシュ状パターン(金属細線群)
130 電熱窓ガラス
132 第1電極(電極)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Electric heating window glass 14 Heat generating part 16 First electrode (electrode)
18 Second electrode (electrode)
20 Non-heating part 22 Power supply (electric supply source)
30 glass (glass layer)
32 Glass (glass layer)
36 conductive film 40 conductive layer (conductive layer)
42 Fine metal wire 43 Heat generation area 43A Mesh pattern (metal fine wire group)
44 Electrode area 44A Mesh pattern (metal thin wire group)
45 Non-heating zone 46 Conductive paste layer 48 Metal foil 50 Transparent film (support)
90 electrothermal window glass 92 conductive film 94 conductive layer (conductive layer)
96 Heat generation area 96A Mesh pattern (metal thin wire group)
97 Metal fine wire 98 Electrode area 98A Mesh pattern (metal fine wire group)
100 Electric heating window glass 104 Heat generation part 106 1st electrode (electrode)
108 Non-heat generation area 110 First heat generation area (area where the distance between electrodes is different)
110A mesh pattern (metal fine wire group)
112 2nd heat generation area (area where distance between electrodes is different)
112A Mesh pattern (metal thin wire group)
114 High resistance area 116 Metal thin wire 120 Electric heating window glass 122 First heating area (area where the distance between the electrodes is different)
122A Mesh pattern (metal thin wire group)
124 Metal thin wire 126 Electrode area 126A Mesh pattern (metal thin wire group)
130 Electric window glass 132 First electrode (electrode)

Claims (13)

窓ガラス材料からなる1枚以上のガラス層と、
前記ガラス層に支持された支持体に多数の金属細線群が形成された導電性層と、
前記導電性層の面方向の両側に設けられ、前記導電性層に電気を供給する一対の電極と、を有し、
前記導電性層が、前記電極が設けられた電極区域と、前記電極区域に挟まれ前記金属細線群が発熱する発熱区域と、を備え、前記電極区域の面積Eで前記金属細線群で覆われている面積eが占める割合をAe%、前記発熱区域の面積Cで前記金属細線群で覆われている面積cが占める割合をAc%とすると、
Ac≦Ae、5≦Ae、かつ0<Ac≦20
を満たす電熱窓ガラス。
One or more glass layers made of window glass material;
A conductive layer in which a large number of fine metal wire groups are formed on a support supported by the glass layer;
A pair of electrodes provided on both sides in the surface direction of the conductive layer and supplying electricity to the conductive layer;
The conductive layer includes an electrode area in which the electrode is provided, and a heat generation area that is sandwiched between the electrode areas and generates heat from the metal wire group, and is covered with the metal wire group by the area E of the electrode area. The ratio of the area e occupied is Ae%, and the ratio of the area c covered with the metal thin wire group in the area C of the heat generation area is Ac%.
Ac ≦ Ae, 5 ≦ Ae, and 0 <Ac ≦ 20
Meet the electric heating window glass.
前記支持体は、前記金属細線群に覆われていない非発熱区域を有する請求項1に記載の電熱窓ガラス。   The said support body is an electrically heated window glass of Claim 1 which has a non-heat-generation area not covered with the said metal fine wire group. 前記電極区域の前記金属細線群の上に、導電性ペースト層と金属箔が順次積層されており、
前記金属箔は、電気供給源と接続された電線に接続されている請求項1又は請求項2に記載の電熱窓ガラス。
A conductive paste layer and a metal foil are sequentially laminated on the metal thin wire group in the electrode area,
The said metal foil is an electrically heated window glass of Claim 1 or Claim 2 connected to the electric wire connected with the electric power supply source.
前記電極区域の前記金属細線群の上に金属箔が積層されており、
前記電極区域の前記金属細線群の線幅が前記発熱区域の前記金属細線群の線幅よりも大きく、かつ、前記金属箔は、電気供給源と接続された電線に接続されている請求項1又は請求項2に記載の電熱窓ガラス。
A metal foil is laminated on the metal wire group in the electrode area,
The line width of the said metal fine wire group of the said electrode area is larger than the line width of the said metal fine wire group of the said heat_generation | fever area, and the said metal foil is connected to the electric wire connected with the electric power supply source. Or the electrically heated window glass of Claim 2.
前記電極区域の前記金属細線群の上に金属箔が積層されており、
前記電極区域の単位面積当たりの前記金属細線群の数が前記発熱区域の単位面積当たりの前記金属細線群の数よりも多く、かつ、前記金属箔は、電気供給源と接続された電線に接続されている請求項1又は請求項2に記載の電熱窓ガラス。
A metal foil is laminated on the metal wire group in the electrode area,
The number of the fine metal wire groups per unit area of the electrode area is larger than the number of the fine metal wire groups per unit area of the heat generating area, and the metal foil is connected to an electric wire connected to an electric power source. The electrically heated window glass according to claim 1 or claim 2, wherein:
前記発熱区域の前記金属細線群を黒化処理し、前記電極区域の前記金属細線群を黒化処理しない請求項1から請求項5までのいずれか1項に記載の電熱窓ガラス。   The electrothermal window glass according to any one of claims 1 to 5, wherein the thin metal wire group in the heat generating area is blackened, and the thin metal wire group in the electrode area is not blackened. 前記一対の電極の少なくとも一方が途中で折れ曲がり、前記一対の電極間の距離が異なる区域を2つ以上有する請求項1から請求項6までのいずれか1項に記載の電熱窓ガラス。   The electrothermal window glass according to any one of claims 1 to 6, wherein at least one of the pair of electrodes is bent in the middle and has two or more areas where the distance between the pair of electrodes is different. 前記一対の電極間の距離が短い区域と隣接する位置に前記金属細線群に覆われていない非発熱区域が設けられている請求項7に記載の電熱窓ガラス。   The electrically heated window glass according to claim 7, wherein a non-heat generating area not covered with the thin metal wire group is provided at a position adjacent to an area where the distance between the pair of electrodes is short. 前記一対の電極に電圧を印加して前記発熱区域の前記金属細線群を発熱させたときに、前記発熱区域の単位面積当たりの発熱量が均一になるように前記発熱区域の前記金属細線群の表面抵抗が制御されている請求項7又は請求項8に記載の電熱窓ガラス。   When the voltage is applied to the pair of electrodes to heat the metal thin wire group in the heat generating area, the heat generation amount of the metal thin wire group in the heat generating area is uniform so that the heat generation amount per unit area of the heat generating area is uniform. The electrothermal window glass according to claim 7 or 8, wherein the surface resistance is controlled. 前記一対の電極間の距離に比例するように前記金属細線群の線幅を変化させる請求項7から請求項9までのいずれか1項に記載の電熱窓ガラス。   The electrothermal window glass according to any one of claims 7 to 9, wherein a line width of the thin metal wire group is changed so as to be proportional to a distance between the pair of electrodes. 前記一対の電極間の距離に反比例するように前記金属細線群の金属細線間距離を変化させる請求項7から請求項9までのいずれか1項に記載の電熱窓ガラス。   The electrothermal window glass according to any one of claims 7 to 9, wherein a distance between the fine metal wires of the fine metal wire group is changed so as to be inversely proportional to a distance between the pair of electrodes. 前記一対の電極間の距離が異なる区域の境界に前記区域よりも表面抵抗が高い高抵抗区域が設けられている請求項7から請求項11までのいずれか1項に記載の電熱窓ガラス。   The electrothermal window glass according to any one of claims 7 to 11, wherein a high resistance area having a surface resistance higher than that of the area is provided at a boundary between areas where the distance between the pair of electrodes is different. 前記一対の電極間の距離が異なる区域の境界に絶縁層が設けられている請求項7から請求項11までのいずれか1項に記載の電熱窓ガラス。   The electrothermal window glass according to any one of claims 7 to 11, wherein an insulating layer is provided at a boundary between areas having different distances between the pair of electrodes.
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