JP2010248000A - 撥水撥油性透明部材とその製造方法及びそれらを用いた物品 - Google Patents
撥水撥油性透明部材とその製造方法及びそれらを用いた物品 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010248000A JP2010248000A JP2009095769A JP2009095769A JP2010248000A JP 2010248000 A JP2010248000 A JP 2010248000A JP 2009095769 A JP2009095769 A JP 2009095769A JP 2009095769 A JP2009095769 A JP 2009095769A JP 2010248000 A JP2010248000 A JP 2010248000A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- water
- transparent member
- film
- oil
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000005871 repellent Substances 0.000 title claims abstract description 134
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 127
- 230000002940 repellent Effects 0.000 title claims abstract description 98
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 53
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 85
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 82
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 73
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 65
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract description 58
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 55
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 54
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical group FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 47
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims abstract description 44
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 claims abstract description 34
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 30
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims abstract description 29
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 26
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims abstract description 19
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 92
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 81
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 69
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 62
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 53
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 36
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 33
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 claims description 30
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 24
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 23
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 19
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 19
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 15
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims description 13
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 10
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 8
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 6
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 5
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 claims description 5
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 claims description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 abstract description 5
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 90
- 239000002585 base Substances 0.000 description 56
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 22
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 15
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 15
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 13
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 8
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 8
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 7
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 7
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 7
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 7
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 6
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 6
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 6
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 5
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 5
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 5
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical class [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 150000005621 tetraalkylammonium salts Chemical class 0.000 description 3
- TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N tetrafluoromethane Chemical compound FC(F)(F)F TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910020175 SiOH Inorganic materials 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 2
- 239000003426 co-catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HGQSXVKHVMGQRG-UHFFFAOYSA-N dioctyltin Chemical compound CCCCCCCC[Sn]CCCCCCCC HGQSXVKHVMGQRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 2
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SLYCYWCVSGPDFR-UHFFFAOYSA-N octadecyltrimethoxysilane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC SLYCYWCVSGPDFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- ZBBLRPRYYSJUCZ-GRHBHMESSA-L (z)-but-2-enedioate;dibutyltin(2+) Chemical compound [O-]C(=O)\C=C/C([O-])=O.CCCC[Sn+2]CCCC ZBBLRPRYYSJUCZ-GRHBHMESSA-L 0.000 description 1
- CJAGRJAFLCPABV-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methylpentan-2-ylideneamino)-n-[2-(4-methylpentan-2-ylideneamino)ethyl]ethanamine Chemical compound CC(C)CC(C)=NCCNCCN=C(C)CC(C)C CJAGRJAFLCPABV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOJHYEMRGGBHOI-UHFFFAOYSA-N 2-(butan-2-ylideneamino)-n-[2-(butan-2-ylideneamino)ethyl]ethanamine Chemical compound CCC(C)=NCCNCCN=C(C)CC NOJHYEMRGGBHOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLSFJOSFPTTYLQ-UHFFFAOYSA-N 2-(methylideneamino)-n-[2-(methylideneamino)ethyl]ethanamine Chemical compound C=NCCNCCN=C CLSFJOSFPTTYLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPHDXPRLWRPJNS-UHFFFAOYSA-N 2-(propan-2-ylideneamino)-n-[2-(propan-2-ylideneamino)ethyl]ethanamine Chemical compound CC(C)=NCCNCCN=C(C)C FPHDXPRLWRPJNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MMGVVYCBXBYXRR-UHFFFAOYSA-L 2-acetyl-3-oxobutanoate;dibutyltin(2+) Chemical compound CCCC[Sn+2]CCCC.CC(=O)C(C(C)=O)C([O-])=O.CC(=O)C(C(C)=O)C([O-])=O MMGVVYCBXBYXRR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZHJFAUWFPQHZFH-UHFFFAOYSA-L 2-ethylhex-2-enoate iron(2+) Chemical compound [Fe+2].CCCC=C(CC)C([O-])=O.CCCC=C(CC)C([O-])=O ZHJFAUWFPQHZFH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HNNQYHFROJDYHQ-UHFFFAOYSA-N 3-(4-ethylcyclohexyl)propanoic acid 3-(3-ethylcyclopentyl)propanoic acid Chemical compound CCC1CCC(CCC(O)=O)C1.CCC1CCC(CCC(O)=O)CC1 HNNQYHFROJDYHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGMQJOYUICXLDZ-UHFFFAOYSA-N 6-(4-methylpentan-2-ylideneamino)-n-[6-(4-methylpentan-2-ylideneamino)hexyl]hexan-1-amine Chemical compound CC(C)CC(C)=NCCCCCCNCCCCCCN=C(C)CC(C)C ZGMQJOYUICXLDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M Cetrimonium bromide Chemical group [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920000106 Liquid crystal polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004977 Liquid-crystal polymers (LCPs) Substances 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- 241000287463 Phalacrocorax Species 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N [(2R,3S,4S,5R,6R)-5-acetyloxy-3,4,6-trihydroxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound CC(=O)OC[C@@H]1[C@H]([C@@H]([C@H]([C@@H](O1)O)OC(=O)C)O)O SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N 0.000 description 1
- CQQXCSFSYHAZOO-UHFFFAOYSA-L [acetyloxy(dioctyl)stannyl] acetate Chemical compound CCCCCCCC[Sn](OC(C)=O)(OC(C)=O)CCCCCCCC CQQXCSFSYHAZOO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- QASXJOGGAHCHBO-UHFFFAOYSA-L [dimethyl(2-sulfanylpropanoyloxy)stannyl] 2-sulfanylpropanoate Chemical compound C[Sn+2]C.CC(S)C([O-])=O.CC(S)C([O-])=O QASXJOGGAHCHBO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XQBCVRSTVUHIGH-UHFFFAOYSA-L [dodecanoyloxy(dioctyl)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC XQBCVRSTVUHIGH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940081735 acetylcellulose Drugs 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012237 artificial material Substances 0.000 description 1
- 238000004380 ashing Methods 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000013590 bulk material Substances 0.000 description 1
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- JQZRVMZHTADUSY-UHFFFAOYSA-L di(octanoyloxy)tin Chemical compound [Sn+2].CCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCC([O-])=O JQZRVMZHTADUSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- PNOXNTGLSKTMQO-UHFFFAOYSA-L diacetyloxytin Chemical compound CC(=O)O[Sn]OC(C)=O PNOXNTGLSKTMQO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N dibutyltin Chemical compound CCCC[Sn]CCCC AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 229920006351 engineering plastic Polymers 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- IDGUHHHQCWSQLU-UHFFFAOYSA-N ethanol;hydrate Chemical compound O.CCO IDGUHHHQCWSQLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 1
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 1
- 229920000554 ionomer Polymers 0.000 description 1
- 239000002648 laminated material Substances 0.000 description 1
- 239000005355 lead glass Substances 0.000 description 1
- 239000002649 leather substitute Substances 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- GEMHFKXPOCTAIP-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-n'-phenylcarbamimidoyl chloride Chemical compound CN(C)C(Cl)=NC1=CC=CC=C1 GEMHFKXPOCTAIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002120 nanofilm Substances 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000747 poly(lactic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 239000004626 polylactic acid Substances 0.000 description 1
- 229920000306 polymethylpentene Polymers 0.000 description 1
- 239000011116 polymethylpentene Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002215 polytrimethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000005180 public health Effects 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 125000005373 siloxane group Chemical group [SiH2](O*)* 0.000 description 1
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 description 1
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Inorganic materials [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000002352 surface water Substances 0.000 description 1
- 238000010301 surface-oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 229920002994 synthetic fiber Polymers 0.000 description 1
- 239000012209 synthetic fiber Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 125000005207 tetraalkylammonium group Chemical group 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000000927 vapour-phase epitaxy Methods 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
Abstract
【解決手段】炭化水素基中の水素原子の一部又は全部がフッ素原子及びフッ化炭素基のいずれか一方又は双方で置換された含フッ素官能基を有する物質2が、基材3の表面の少なくとも一部を覆うように存在する撥水撥油性透明部材1、炭化水素基を有する透明な物質が表面の少なくとも一部を覆うように存在する透明な基材3の表面を、フッ化炭素基を含むガス雰囲気中で低圧プラズマ処理する工程Aを含む撥水撥油性透明部材1の製造方法、及びそれらを用いた物品を提供する。
【選択図】図1
Description
一方、特許文献2に記載の方法では、防汚処理時に溶媒を必要としないが、処理により透明度が劣化するという問題や、反応に長時間(数時間)を必要とするので効率が悪いという問題を有している。
このようにして撥水撥油防汚性を有する含フッ素官能基を含む物質を得ることにより、高価なフッ化炭素系の膜化合物を使用した場合よりも低コストで撥水撥油防汚性を有する撥水撥油性透明部材を製造できる。
基材の表面の少なくとも一部を覆うように存在している含フッ素官能基を有する物質が、ナノメートルレベルの膜厚を有する有機薄膜を形成しているため、基材の表面の光学的特性、特に透明性を損なうことなく撥水撥油性を付与できる。
含フッ素有機薄膜が単分子膜であると、基材の外観(色調、光沢等)及び光学的特性を損なうことがなく、光学材料等にも好適に適用できる。また、含フッ素有機薄膜が基材の表面に化学結合しているため、耐久性にも優れ、長期間にわたって撥水撥油防汚性を発揮できる。
また、この場合において、前記含フッ素炭化水素基を有する膜物質が、前記基材の表面に結合固定された前記ポリシロキサン分子の被膜を介して前記基材の表面に結合固定されていてもよい。
ポリシロキサン分子の被膜を形成することにより、最表面の膜物質の密度を向上でき、耐久性及び撥水撥油防汚性を向上できる。なお、前記ポリシロキサン分子の被膜は、ナノメートルレベルの膜厚なので熱伝導性を損なうことがない。そのため、放熱部材等にも好適に適用できる。
SiHx(OA)4−x (VI)
(AO)3Si(OSi(OA)2)nOSi(OA)3 (VII)
なお、式(VI)及び(VII)において、
xは0、1、又は2であり、
Aはアルキル基を表し、
nは0、1、又は2である。
基材の表面の少なくとも一部を覆うように含フッ素有機高分子が存在しているため、撥水撥油性を併せて具備し、表面への汚れの付着を防止できる。
撥水撥油性透明部材の表面粗さが可視光の最短波長である400nm以下であれば、透明な基材を用いた場合であっても、撥水撥油性透明部材の光学的特性、特に透明性を損なうことなく高い撥水撥油防汚性を付与できる。
フッ化炭素基を含む化合物のガスと酸素ガスの混合雰囲気中で基材を低圧プラズマ処理すると、より効率よく、かつ耐久性の高い撥水撥油防汚性部材を提供できる。
この場合、平坦な表面の場合よりも撥水撥油性透明部材表面の見かけ上の表面エネルギーを大幅に低減でき、高い撥水撥油防汚性を付与できる。また、撥水撥油性透明部材の表面粗さが可視光の最短波長である400nm以下であるため、透明な基材を用いた場合であっても、撥水撥油性透明部材の透明度を損なうことなく高い撥水撥油防汚性を付与できる。
炭化水素基を含む物質の被膜を基材の表面に形成する工程Cを有することにより、表面に炭化水素基を有しない無機基材を用いても撥水撥油性透明部材を製造できる。
工程Cにおいて、基材表面に形成される炭化水素基を有する物質の被膜が、ナノメートルレベルの膜厚を有する有機薄膜であれば、基材の表面の光学的特性等を損なうことなく撥水撥油性を付与できる。
Z−SiXpY3-p (X)
なお、式(X)において、Zは炭素数25以下のアルキル基、アリール基、ビニル基及びシリコーン基のいずれかを含む置換基を表し、
Xは水素原子、又は前記Zより炭素数の少ないアルキル基、アリール基、ビニル基及びシリコーン基のいずれかを含む置換基を表し、
Yは、ハロゲン原子又はアルコキシル基を表し、
pは0、1又は2を表す。
CH3(CH2)nSi(OA)3 (XI)
[CH3(CH2)n]2Si(OA)2 (XII)
[CH3(CH2)n]3Si(OA) (XIII)
CH3(CH2)m−COO−(CH2)nSi(OA)3 (XIV)
CH3(CH2)m−O−(CH2)nSi(OA)3 (XV)
なお、式(XI)〜(XV)において、m及びnは、それぞれ独立して0以上24以下の整数を表し、m≧nであり、Aはアルキル基を表す。
SiHx(OA)4−x (VI)
(AO)3Si(OSi(OA)2)nOSi(OA)3 (VII)
なお、式(VI)及び(VII)において、
xは0、1、又は2であり、
Aはアルキル基を表し、
nは0、1、又は2である。
ポリシロキサン分子の被膜を形成することにより、最表面の膜物質の密度を向上でき、耐久性及び撥水撥油防汚性を向上できる。
フッ化炭素基を含む化合物のガス雰囲気中で高周波放電によりプラズマを発生させると、フッ素ラジカル(・F)や、トリフルオロメチルラジカル(・CF3)等のフッ化炭素ラジカルが生成する。これらのラジカルが、基材3の表面の炭化水素基の水素原子をトリフルオロメチル基19、43(フッ素原子又はフッ化炭素基の一例)で置換する(図2、4、7、8(b))。或いは、テトラフルオロエチレン等の不飽和結合を有する化合物を含むガスを用いる場合には、プラズマ重合により炭素数の大きいパーフルオロアルキル基も生成しうる。
基材3の材質の具体例としては、樹脂等の有機材料、ガラス等の無機材料が挙げられる。
図2に示すように、本発明の第1の実施の形態に係る撥水撥油性透明部材10において、基材12の表面には、デシル基(C10H21:炭化水素基であるアルキル基の一例)中の末端のメチル基の水素原子がトリフルオロメチル基19で置換された膜物質(水素原子の一部又は全部がフッ素原子及びフッ化炭素基のいずれか一方又は双方で置換された含フッ素炭化水素基を有する膜物質の一例)を含む含フッ素有機薄膜11が形成されている。本実施の形態において、含フッ素有機薄膜11は、基材12の表面に共有結合(化学結合の一例)した膜物質からなる単分子膜である。
基材12の表面を粗面化する方法としては、サンドブラスト、機械研磨、及びクロム酸混液、リン酸、アルカリ等による化学処理等の任意の公知の方法を用いて予め粗面化しておいてもよいが、酸素ガス及び塩素ガスを含む雰囲気中で低圧プラズマ処理を行うことにより行うこともできる。所望の表面粗さ及び凹凸の大きさを有する表面が得られるようにプラズマ処理の条件を適宜調節してもよい。なお、低圧プラズマ処理に使用される装置及び処理条件等については工程Aの場合と同様であるので詳しい説明を省略する。
工程Cにおいて有機薄膜18の形成に使用する処理液は、膜化合物を溶媒中に分散させることにより調製される。ここで、「分散」とは、均一な溶液、懸濁液、及び乳濁液のいずれかを形成している状態を意味する。使用することができる膜化合物としては、鎖状の親油性の官能基を含み、基材12の表面に膜物質2からなる被膜を形成することができる任意の化合物が挙げられるが、基材12表面の表面官能基との結合を介して基材12の表面に固定させるためには、表面結合基を末端に有していることが好ましい。好ましい表面官能基としては、多くの材料の表面に存在するヒドロキシル基と室温で比較的迅速に反応するアルコキシシリル基が挙げられる。また、単分子膜を形成するためには、親油性の官能基は、自己組織性を有する直鎖状の長鎖アルキル基等が好ましい。
Z−SiXpY3-p (X)
なお、式(X)において、Zは炭素数25以下のアルキル基、アリール基、ビニル基及びシリコーン基のいずれかを含む置換基を表し、
Xは水素原子、又は前記Zより炭素数の少ないアルキル基、アリール基、ビニル基及びシリコーン基のいずれかを含む置換基を表し、
Yは、ハロゲン原子又はアルコキシル基を表し、
pは0、1又は2を表す。
CH3(CH2)nSi(OA)3 (XI)
[CH3(CH2)n]2Si(OA)2 (XII)
[CH3(CH2)n]3Si(OA) (XIII)
CH3(CH2)m−COO−(CH2)nSi(OA)3 (XIV)
CH3(CH2)m−O−(CH2)nSi(OA)3 (XV)
なお、式(XI)〜(XV)において、m及びnは、それぞれ独立して0以上24以下の整数(但し、m≧n)を表し、Aはアルキル基、より好ましくはメチル基又はエチル基を表す。
(1) CH3CH2O(CH2)15Si(OCH3)3
(2) CH3(CH2)2Si(CH3)2(CH2)15Si(OCH3)3
(3) CH3(CH2)6Si(CH3)2(CH2)9Si(OCH3)3
(4) CH3COO(CH2)15Si(OCH3)3
(5) CH3(CH2)9Si(OCH3)3
(6) CH3(CH2)5Si(OCH3)3
(7) CH3(CH2)7C6H4SiCH3
(8) CH3CH2O(CH2)15Si(OC2H5)3
(9) CH3(CH2)2Si(CH2)15Si(OC2H5)3
(10) CH3(CH2)6Si(CH2)9Si(OC2H5)3
(11) CH3COO(CH2)15Si(OC2H5)3
(12) CH3(CH2)9Si(OC2H5)3
(13) CH3(CH2)7Si(OCH3)3
(14) CH3(CH2)7C6H4Si(OC2H5)3
(15) [CH3(CH2)5]2Si(OCH3)2
(16) [CH3(CH2)3]3SiOCH3
(17) [CH3(CH2)5]2Si(OC2H5)2
(18) [CH3(CH2)5]3SiOC2H5
(19) CH3(CH2)5SiCH3(OCH3)2
R1は炭素数1〜20、より好ましくは炭素数12〜16のアルキル基を表し、
R2、R3、及びR4はメチル基又はエチル基、より好ましくはメチル基を表し、
Xはハロゲンを表す。
縮合触媒の添加量は、好ましくはアルコキシシラン化合物の0.2〜5質量%であり、より好ましくは0.5〜1質量%である。
カルボン酸金属塩ポリマーの具体例としては、ジブチルスズマレイン酸塩ポリマー、ジメチルスズメルカプトプロピオン酸塩ポリマーが挙げられる。
カルボン酸金属塩キレートの具体例としては、ジブチルスズビスアセチルアセテート、ジオクチルスズビスアセチルラウレートが挙げられる。
チタン酸エステルキレートの具体例としては、ビス(アセチルアセトニル)ジ−プロピルチタネートが挙げられる。
以下、撥水撥油性透明部材20の製造方法について説明する。
(21)Si(OCH3)4
(22)SiH(OCH3)3
(23)SiH2(OCH3)2
(24)(CH3O)3SiOSi(OCH3)3
(25)Si(OC2H5)4
(26)SiH(OC2H5)3
(27)SiH2(OC2H5)2
(28)(H5C2O)3SiOSi(OC2H5)3
撥水撥油防汚性部材40の製造に用いられる基材42は、図8(a)に示すように、表面が炭化水素基43で被われている。工程Aにおいて低圧プラズマ処理した後の撥水撥油防汚性部材40の表面において、図8(b)に示すように、低圧プラズマ処理前の基材42の表面を被う炭化水素基43の水素原子の一部が、フッ化炭素基の一例であるトリフルオロメチル基44で置換されている。
フッ化炭素基を含む化合物のガス雰囲気中で高周波放電によりプラズマを発生させると、フッ素ラジカル(・F)や、トリフルオロメチルラジカル(・CF3)等のフッ化炭素ラジカルが生成する。これらのラジカルが、アクリル基材42の表面の炭化水素基の水素原子をトリフルオロメチル基43で置換する(図8(b))。
オクタデシルトリメトキシシランCH3(CH2 )17Si(OCH3)3(膜化合物)とテトラメトキシシランSi(OCH3)4とをモル比で3:1になるように秤量し、エタノールに0.01mol/Lとなるように混合して、ホモジナイザーで10分間程度処理すると、エタノール中に含まれる水分により、それぞれのメトキシシリル基(−Si(OCH3))の一部が加水分解され、−Si(OH)3基、=Si(OH)2基、或いは≡SiOH基(シラノール基)に変換された物質を含む処理液を調製した。
処理液がテトラメトキシシランを含まない以外は実施例1と同様の条件下で撥水撥油性透明部材を製造した。この場合、透明ガラス板の表面に形成された含フッ素有機薄膜は、ポリシロキサン分子を含まない単分子膜となった。水滴接触角については、実施例1の場合と同様な結果が得られた。ただし、含フッ素有機薄膜の耐摩耗性は、実施例1において得られたものに比べ劣っていた。
まず、表3に示す条件の下でガラス板の表面を低圧プラズマ処理し、表面を粗面化処理した。
その後、実施例1と同様の条件で、有機薄膜の形成及びテトラフルオロメタンガス雰囲気中での低圧プラズマ処理を行った。
まず、基材である透明アクリル樹脂基板をエタノールで洗浄後、下記の表5に示す条件の下で、酸素ガス雰囲気中での低圧プラズマ処理(O2プラズマ処理)を行った。次いで、表6に示す条件の下で、酸素を含むテトラフルオロメタン(CF4)雰囲気中でプラズマ処理を行った。
2 含フッ素官能基を有する透明な物質
3 基材
10、20、30 撥水撥油性透明部材
11 含フッ素官能基を有する物質
11a、21、31 含フッ素有機薄膜
12、22、32、42 基材
13、23、33 炭化水素基を有する膜物質
24、34 ポリシロキサン分子
24a シラノール基を有するポリシロキサン分子
25 シラノール基
26 シラノール基を有する有機薄膜
27、37 ポリシロキサン分子の被膜
27a シラノール基を有するポリシロキサン分子の被膜
18、28、38 有機薄膜
19、44 トリフルオロメチル基
41 含フッ素有機高分子
43 炭化水素基
Claims (24)
- 透明な基材の少なくとも一部が、炭化水素基中の水素原子の一部又は全部がフッ素原子及びフッ化炭素基のいずれか一方又は双方で置換された含フッ素官能基を有する透明な物質で覆われていることを特徴とする撥水撥油性透明部材。
- 前記含フッ素官能基が、前記基材の表面の少なくとも一部を覆うように存在する炭化水素基を有する物質を、フッ化炭素基を含む化合物のガス雰囲気中で低圧プラズマ処理することにより得られることを特徴とする請求項1記載の撥水撥油性透明部材。
- 前記含フッ素官能基を有する物質が、直鎖状の前記含フッ素官能基を有する膜物質を含み、前記基材の表面に化学結合した含フッ素有機薄膜を形成していることを特徴とする請求項1及び2のいずれか1項記載の撥水撥油性透明部材。
- 前記含フッ素官能基が、炭化水素基、エステル基を有する炭化水素基、及びエーテル基を有する炭化水素基のいずれかにおいて任意の1又は複数の水素原子がフッ素原子又はフッ化炭素基のいずれかで置換された官能基であることを特徴とする請求項3記載の撥水撥油性透明部材。
- 前記含フッ素有機薄膜が、前記基材の表面に化学結合した前記膜物質の単分子膜であることを特徴とする請求項3から5のいずれか1項記載の撥水撥油性部材。
- 前記含フッ素有機薄膜が、アルコキシシラン及び/又はアルコキシポリシロキサンから形成されたポリシロキサン分子を含んでいることを特徴とする請求項3から5のいずれか1項記載の撥水撥油性透明部材。
- 前記含フッ素有機薄膜が、前記基材の表面に結合固定された前記ポリシロキサン分子の被膜を介して前記基材の表面に結合固定されていることを特徴とする請求項7記載の撥水撥油性透明部材。
- 前記ポリシロキサン分子の被膜がアルコキシシリル基と前記基材の表面に存在する表面官能基との反応により形成された結合を介して前記基材の表面に固定され、前記含フッ素炭化水素基を有する膜物質のうち一部は前記基材の表面に直接結合し、残りは前記ポリシロキサン分子の被膜を介して前記基材の表面に結合固定されていることを特徴とする請求項6記載の撥水撥油性透明部材。
- 前記ポリシロキサン分子が、下記の式(VI)で表されるアルコキシシラン及び/又は式(VII)で表されるアルコキシポリシロキサンの縮合反応により形成されるものであることを特徴とする請求項7から9のいずれか1項記載の撥水撥油性透明部材。
SiHx(OA)4−x (VI)
(AO)3Si(OSi(OA)2)nOSi(OA)3 (VII)
なお、式(VI)及び(VII)において、
xは0、1、又は2であり、
Aはアルキル基を表し、
nは0、1、又は2である。 - 前記含フッ素官能基を有する物質が前記含フッ素官能基を有する含フッ素有機高分子であることを特徴とする請求項1及び2のいずれか1項記載の撥水撥油性透明部材。
- 前記基材の表面粗さが10nm以上400nm以下であることを特徴とする請求項1から11のいずれか1項記載の撥水撥油性透明部材。
- 炭化水素基を有する透明な物質が表面の少なくとも一部を覆うように存在する透明な基材の表面を、フッ化炭素基を含むガス雰囲気中で低圧プラズマ処理する工程Aを含むことを特徴とする撥水撥油性透明部材の製造方法。
- 前記工程Aにおいて、前記フッ化炭素基を含む化合物のガスと酸素ガスの混合雰囲気中で前記基材を低圧プラズマ処理することを特徴とする請求項13記載の撥水撥油防汚性部材の製造方法。
- 前記工程Aの前に、前記基材の表面に表面粗さが10nm以上400nm以下である凸凹を形成する工程Bを更に有することを特徴とする請求項13及び14のいずれか1項記載の撥水撥油性透明部材の製造方法。
- 前記工程Aの前に、フッ化炭素基を含む化合物のガス雰囲気中で、基材表面の炭化水素基を有する物質の表面を低圧プラズマ処理することを特徴とする請求項13から15のいずれか1項記載の撥水撥油性透明部材の製造方法。
- 前記工程Cにおいて、炭化水素基を有する膜化合物を含む処理液を前記基材の表面に接触させ、前記膜化合物と前記基材の表面官能基との反応により炭化水素基を含む有機薄膜を形成することを特徴とする請求項16記載の撥水撥油性透明部材の製造方法。
- 前記膜化合物が、炭化水素基、エステル基を有する炭化水素基、及びエーテル基を有する炭化水素基のいずれかを含むことを特徴とする請求項17記載の撥水撥油性透明部材の製造方法。
- 前記膜化合物が、下記の式(X)で表される膜化合物であることを特徴とする請求項17及び18のいずれか1項記載の撥水撥油性透明部材の製造方法。
Z−SiXpY3-p (X)
なお、式(X)において、Zは炭素数25以下のアルキル基、アリール基、ビニル基及びシリコーン基のいずれかを含む置換基を表し、
Xは水素原子、又は前記Zより炭素数の少ないアルキル基、アリール基、ビニル基及びシリコーン基のいずれかを含む置換基を表し、
Yは、ハロゲン原子又はアルコキシル基を表し、
pは0、1又は2を表す。 - 前記膜化合物が、下記の式(XI)〜(XV)のいずれかで表される膜化合物であることを特徴とする請求項17から19のいずれか1項記載の撥水撥油性透明部材の製造方法。
CH3(CH2)nSi(OA)3 (XI)
[CH3(CH2)n]2Si(OA)2 (XII)
[CH3(CH2)n]3Si(OA) (XIII)
CH3(CH2)m−COO−(CH2)nSi(OA)3 (XIV)
CH3(CH2)m−O−(CH2)nSi(OA)3 (XV)
なお、式(XI)〜(XV)において、m及びnは、それぞれ独立して0以上24以下の整数を表し、m≧nであり、Aはアルキル基を表す。 - 前記処理液が、下記の式(VI)で表されるアルコキシシラン及び/又は式(VII)で表されるアルコキシポリシロキサンを含んでいることを特徴とする請求項17から20のいずれか1項記載の撥水撥油性透明部材の製造方法。
SiHx(OA)4−x (VI)
(AO)3Si(OSi(OA)2)nOSi(OA)3 (VII)
なお、式(VI)及び(VII)において、
xは0、1、又は2であり、
Aはアルキル基を表し、
nは0、1、又は2である。 - 前記工程Cにおいて、前記アルコキシシラン及び/又は前記アルコキシポリシロキサンを含む溶液で前記基材の表面を処理して、該表面にポリシロキサン分子の被膜を形成し、次いで前記処理液でポリシロキサン分子の被膜が形成された前記基材を処理して、前記ポリシロキサン分子の被膜上に前記有機薄膜を形成することを特徴とする請求項17から20のいずれか1項記載の撥水撥油性透明部材の製造方法。
- 前記工程Cにおいて、有機高分子を含む被膜を前記基材として形成することを特徴とする請求項16記載の撥水撥油性透明部材の製造方法。
- 前記物品が、乗り物や建物の窓ガラス、太陽電池等のフェースプレート、道路の透明防音壁のいずれかであることを特徴とする請求項25記載の物品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009095769A JP5641498B2 (ja) | 2009-04-10 | 2009-04-10 | 撥水撥油性透明部材とその製造方法及びそれらを用いた物品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009095769A JP5641498B2 (ja) | 2009-04-10 | 2009-04-10 | 撥水撥油性透明部材とその製造方法及びそれらを用いた物品 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010248000A true JP2010248000A (ja) | 2010-11-04 |
| JP5641498B2 JP5641498B2 (ja) | 2014-12-17 |
Family
ID=43310828
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009095769A Expired - Fee Related JP5641498B2 (ja) | 2009-04-10 | 2009-04-10 | 撥水撥油性透明部材とその製造方法及びそれらを用いた物品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5641498B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014073670A (ja) * | 2012-09-11 | 2014-04-24 | Taiyo Kagaku Kogyo Kk | 工作物を収容可能なメッシュ構造体 |
| WO2014119453A1 (ja) * | 2013-01-30 | 2014-08-07 | 旭硝子株式会社 | 防汚膜付き透明基体 |
| JP2014231635A (ja) * | 2013-05-30 | 2014-12-11 | 株式会社吉野工業所 | 蒸着容器 |
| WO2015145703A1 (ja) * | 2014-03-27 | 2015-10-01 | 日産自動車株式会社 | 防汚性表面構造体及び自動車部品 |
| WO2018131709A1 (ja) * | 2017-01-16 | 2018-07-19 | 仲山貴金属鍍金株式会社 | 表面の疎水性もしくは親水性が高められた基体 |
| JP6389582B1 (ja) * | 2017-03-10 | 2018-09-12 | リンテック株式会社 | 撥液性組成物、撥液性シート及びそれらの製造方法 |
| WO2019004058A1 (ja) * | 2017-06-29 | 2019-01-03 | 住友化学株式会社 | 組成物 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07204581A (ja) * | 1994-01-24 | 1995-08-08 | Sekisui Chem Co Ltd | 積層体の製造方法 |
-
2009
- 2009-04-10 JP JP2009095769A patent/JP5641498B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07204581A (ja) * | 1994-01-24 | 1995-08-08 | Sekisui Chem Co Ltd | 積層体の製造方法 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| JPN6013044397; 辻 一誠、外2名: '化学吸着膜を用いた超撥水・撥油表面基板の研究' 第116回講演大会 講演要旨集 , 20070904, 第135-136頁, 社団法人 表面技術協会 * |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014073670A (ja) * | 2012-09-11 | 2014-04-24 | Taiyo Kagaku Kogyo Kk | 工作物を収容可能なメッシュ構造体 |
| WO2014119453A1 (ja) * | 2013-01-30 | 2014-08-07 | 旭硝子株式会社 | 防汚膜付き透明基体 |
| JP5839134B2 (ja) * | 2013-01-30 | 2016-01-06 | 旭硝子株式会社 | 防汚膜付き透明基体 |
| JP2014231635A (ja) * | 2013-05-30 | 2014-12-11 | 株式会社吉野工業所 | 蒸着容器 |
| WO2015145703A1 (ja) * | 2014-03-27 | 2015-10-01 | 日産自動車株式会社 | 防汚性表面構造体及び自動車部品 |
| WO2018131709A1 (ja) * | 2017-01-16 | 2018-07-19 | 仲山貴金属鍍金株式会社 | 表面の疎水性もしくは親水性が高められた基体 |
| JP6389582B1 (ja) * | 2017-03-10 | 2018-09-12 | リンテック株式会社 | 撥液性組成物、撥液性シート及びそれらの製造方法 |
| WO2018164065A1 (ja) * | 2017-03-10 | 2018-09-13 | リンテック株式会社 | 撥液性組成物、撥液性シート及びそれらの製造方法 |
| TWI770133B (zh) * | 2017-03-10 | 2022-07-11 | 日商琳得科股份有限公司 | 撥液性組成物、撥液性片及該等之製造方法 |
| WO2019004058A1 (ja) * | 2017-06-29 | 2019-01-03 | 住友化学株式会社 | 組成物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP5641498B2 (ja) | 2014-12-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5641498B2 (ja) | 撥水撥油性透明部材とその製造方法及びそれらを用いた物品 | |
| JP5564658B2 (ja) | 表示装置用透光性部材とその製造方法並びにそれらを用いた表示装置及び物品 | |
| EP1447433B1 (en) | Coating material composition and article having coating film formed therewith | |
| JP6625987B2 (ja) | ポリフッ素含有シロキサン被覆 | |
| JP4279064B2 (ja) | 多孔性シリカ膜、それを有する積層体 | |
| CN1668778A (zh) | 包含光催化TiO2层的基片 | |
| JP5347124B2 (ja) | 撥水撥油防汚性反射防止膜とその製造方法およびそれを形成したレンズやガラス板、ガラス、およびそれらを用いた光学装置および太陽エネルギー利用装置、ディスプレイ | |
| CN102015934A (zh) | 纳米颗粒溶胶-凝胶复合杂化透明涂层材料 | |
| JP2010280147A (ja) | 撥水撥油防汚性透明部材及びその製造方法並びにそれらを用いた物品 | |
| JP5660500B2 (ja) | 耐摩耗性超撥水撥油防汚性ガラスとその製造方法並びにそれらを用いたガラス窓、太陽エネルギー利用装置、光学機器および表示装置 | |
| JPWO1997049775A1 (ja) | 透明被膜形成用塗布液、透明被膜付基材およびその用途 | |
| KR20140022491A (ko) | 초발수성 코팅용액 조성물 및 코팅 조성물의 제조방법 | |
| JP6304584B2 (ja) | 分散溶液及びその製造方法、並びに塗布液及びメソポーラスシリカ多孔質膜の製造方法 | |
| JP6592897B2 (ja) | シリカエアロゲル膜の製造方法 | |
| JP5920683B2 (ja) | 表示装置用フェースプレートの製造方法 | |
| TW202104528A (zh) | 皮膜、積層體以及積層體的製造方法 | |
| JP2004136630A (ja) | 機能性皮膜被覆物品、およびその製造方法 | |
| JP4847050B2 (ja) | 膜形成用組成物及び膜の形成方法 | |
| JP2012220898A (ja) | 耐摩耗性超撥水撥油防汚性透光性フィルムとその製造方法並びにそれらを用いたガラス窓、太陽エネルギー利用装置、光学機器および表示装置 | |
| JPH10130864A (ja) | 電子基板上にセラミックコーティングを形成する方法 | |
| JP2008007365A (ja) | 太陽エネルギー利用装置とその製造方法 | |
| JP5742519B2 (ja) | セラミックス多孔質体 | |
| JP5357503B2 (ja) | コーティング材組成物及び塗装品 | |
| JP4754035B1 (ja) | めっき付着性良好なポリオルガノシロキサン塗料組成物とその塗膜 | |
| JP2003202960A (ja) | タッチパネル |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090528 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120410 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120410 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120516 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130829 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130910 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131111 |
|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20140620 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20140701 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140911 |
|
| A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20140918 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20141014 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20141020 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5641498 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |