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JP2010247311A - Workpiece grinding method - Google Patents

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JP2010247311A
JP2010247311A JP2009102296A JP2009102296A JP2010247311A JP 2010247311 A JP2010247311 A JP 2010247311A JP 2009102296 A JP2009102296 A JP 2009102296A JP 2009102296 A JP2009102296 A JP 2009102296A JP 2010247311 A JP2010247311 A JP 2010247311A
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Japan
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grinding
thickness
workpiece
workpieces
measuring
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JP2009102296A
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Akiji Daii
暁治 台井
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Disco Corp
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Disco Abrasive Systems Ltd
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  • Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)

Abstract

【課題】 複数の被加工物を同時に研削可能な研削方法を提供することである。
【解決手段】 被加工物の研削方法であって、外周部が環状フレームに貼着された粘着テープ上に複数の被加工物を貼着する被加工物貼着ステップと、該粘着テープ上に貼着された該複数の被加工物を保持テーブルで保持する保持ステップと、該保持テーブルで保持された被加工物の厚みを厚み測定手段で測定する加工前厚さ測定ステップと、該保持テーブルで保持された該複数の被加工物を研削手段で所定の厚みへ研削する研削ステップと、該研削ステップを実施した後、該被加工物の厚みを厚み測定手段によって測定する仕上げ厚さ測定ステップと、該仕上げ厚さ測定ステップで測定された該被加工物の厚みが該所定厚みに達していない場合に、該複数の被加工物を該研削手段で所定の厚みへ再度研削する再研削ステップと、を具備したことを特徴とする。
【選択図】図5
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a grinding method capable of grinding a plurality of workpieces simultaneously.
A method for grinding a workpiece, wherein a workpiece pasting step for pasting a plurality of workpieces on an adhesive tape having an outer peripheral portion stuck to an annular frame, and on the adhesive tape A holding step for holding the attached workpieces on a holding table; a thickness measuring step before processing for measuring a thickness of the workpiece held on the holding table by a thickness measuring means; and the holding table A grinding step for grinding the plurality of workpieces held in step to a predetermined thickness by a grinding means, and a finishing thickness measurement step for measuring the thickness of the workpiece by a thickness measurement means after performing the grinding step And re-grinding step of regrinding the plurality of workpieces to a predetermined thickness by the grinding means when the thickness of the workpiece measured in the finishing thickness measurement step does not reach the predetermined thickness. And equipped with And features.
[Selection] Figure 5

Description

本発明は、複数の被加工物を一度に研削する被加工物の研削方法に関する。   The present invention relates to a workpiece grinding method for grinding a plurality of workpieces at a time.

IC、LSI等のデバイスが複数形成された半導体ウエーハ等の被加工物は、研削装置によって裏面が研削されて所定の厚みに加工された後、切削装置によって切削されて個々のデバイスに分割される。分割されたデバイスは携帯電話、パソコン等の電気機器に広く利用されている。   A workpiece such as a semiconductor wafer on which a plurality of devices such as IC and LSI are formed is ground to a predetermined thickness by a grinding device and then cut into individual devices by a cutting device. . The divided devices are widely used for electric devices such as mobile phones and personal computers.

研削装置は、被加工物を保持する保持テーブルと、保持テーブルに保持された被加工物を研削する研削砥石を有する研削ホイールが回転可能に装着された研削手段と、被加工物の厚みを測定する接触式の測定装置とを備えていて、被加工物を高精度に所望の厚みに研削できる。   The grinding apparatus measures a thickness of the workpiece, a holding table for holding the workpiece, a grinding means rotatably mounted with a grinding wheel having a grinding wheel for grinding the workpiece held on the holding table. And a contact-type measuring device that can grind the workpiece to a desired thickness with high accuracy.

研削中は測定装置の接触針(プローブ)が被加工物に接触しつつ被加工物の厚みを測定しながら研削を遂行する。所望厚みに達した時点で研削を停止することで、被加工物を所望厚みへと研削できる。   During grinding, grinding is performed while measuring the thickness of the workpiece while the contact needle (probe) of the measuring device is in contact with the workpiece. By stopping grinding when the desired thickness is reached, the workpiece can be ground to the desired thickness.

一方、近年の各種電子部品の軽量化、薄型化、小型化の傾向から、半導体ウエーハ以外にも光デバイスに使用されるサファイア基板や、半導体デバイスがモールド樹脂でモールドされたパッケージ基板等の研削も需要が高まってきている。   On the other hand, in recent years, various electronic components are becoming lighter, thinner, and smaller, and in addition to semiconductor wafers, grinding of sapphire substrates used for optical devices and package substrates in which semiconductor devices are molded with mold resin is also possible. Demand is increasing.

半導体ウエーハに比べて高価であるサファイア基板は、主に流通している半導体ウエーハのサイズがφ6インチ〜φ12インチであるのに対して、φ2インチやφ3インチの小径基板が主流である。また、一般的なパッケージ基板は矩形であり、半導体ウエーハよりもサイズが小さいものが多い。   Sapphire substrates, which are more expensive than semiconductor wafers, are mainly in the size of φ6 inches to φ12 inches, whereas small diameter substrates of φ2 inches and φ3 inches are mainstream. A general package substrate has a rectangular shape and is often smaller than a semiconductor wafer.

特開2002−200545号公報JP 2002-200545 A

従来は、サファイア基板等の小径基板やパッケージ基板等の小型基板でも、研削装置のチャックテーブルで個々にこれらの小径基板や小型基板を吸引保持して研削を実施していた。しかし、このように小型の被加工物を個々に研削するのは非常に時間がかかり、生産性が悪いという問題がある。   Conventionally, even a small substrate such as a sapphire substrate or a small substrate such as a package substrate has been ground by holding the small substrate and the small substrate individually with a chuck table of a grinding apparatus. However, grinding such small workpieces individually is very time consuming and has a problem of poor productivity.

本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、複数の被加工物を同時に研削可能な研削方法を提供することである。   This invention is made | formed in view of such a point, The place made into the objective is to provide the grinding method which can grind several workpieces simultaneously.

本発明によると、被加工物の研削方法であって、外周部が環状フレームに貼着された粘着テープ上に複数の被加工物を貼着する被加工物貼着ステップと、該粘着テープ上に貼着された該複数の被加工物を保持テーブルで保持する保持ステップと、該保持テーブルで保持された該被加工物の厚みを厚み測定手段で測定する加工前厚さ測定ステップと、該保持テーブルで保持された該複数の被加工物を研削手段で所定の厚みへ研削する研削ステップと、該研削ステップを実施した後、該被加工物の厚みを厚み測定手段によって測定する仕上げ厚さ測定ステップと、該仕上げ厚さ測定ステップで測定された該被加工物の厚みが該所定厚みに達していない場合に、該複数の被加工物を該研削手段で所定の厚みへ再度研削する再研削ステップと、を具備したことを特徴とする被加工物の研削方法が提供される。   According to the present invention, there is provided a grinding method for a workpiece, the workpiece pasting step for pasting a plurality of workpieces on an adhesive tape having an outer peripheral portion stuck to an annular frame, and on the adhesive tape. A holding step for holding the plurality of workpieces adhered to the holding table with a holding table; a thickness measuring step before measuring the thickness of the workpiece held on the holding table with a thickness measuring means; and A grinding step for grinding the plurality of workpieces held by a holding table to a predetermined thickness by a grinding means, and a finishing thickness for measuring the thickness of the workpiece by a thickness measurement means after performing the grinding step When the thickness of the workpiece measured in the measuring step and the finished thickness measuring step does not reach the predetermined thickness, the plurality of workpieces are ground again to the predetermined thickness by the grinding means. A grinding step. Grinding method of the workpiece are provided, characterized in that the.

本発明によると、被加工物を複数個粘着テープで貼着して同時に研削を行うため、生産性を向上できる。更に、被加工物の保持面側は粘着テープに貼着されているので、研削中に傷つくことがないとともに、粘着テープの剥離も一度で済むため工数の削減に繋がる。   According to the present invention, since a plurality of workpieces are attached with an adhesive tape and ground simultaneously, productivity can be improved. Furthermore, since the holding surface side of the workpiece is adhered to the adhesive tape, it is not damaged during grinding, and the adhesive tape can be peeled only once, leading to a reduction in man-hours.

本発明の研削方法を実施するのに適した研削装置の外観斜視図である。1 is an external perspective view of a grinding apparatus suitable for carrying out the grinding method of the present invention. 本発明実施形態の研削方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the grinding method of this invention embodiment. 粘着テープを介して環状フレームに支持された複数の小型被加工物を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the some small workpiece supported by the annular frame via the adhesive tape. 本発明の研削方法の説明図である。It is explanatory drawing of the grinding method of this invention. 被加工物の厚さ測定ステップの説明図である。It is explanatory drawing of the thickness measurement step of a to-be-processed object.

以下、本発明の実施形態を図面を参照して詳細に説明する。図1は本発明の研削方法を実施するのに適した研削装置の外観斜視図を示している。4は研削装置2のハウジングであり、ハウジング4の後方にはコラム6が立設されている。コラム6には、上下方向に延びる一対のガイドレール8が固定されている。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 shows an external perspective view of a grinding apparatus suitable for carrying out the grinding method of the present invention. Reference numeral 4 denotes a housing of the grinding apparatus 2, and a column 6 is erected on the rear side of the housing 4. A pair of guide rails 8 extending in the vertical direction is fixed to the column 6.

この一対のガイドレール8に沿って研削ユニット(研削手段)10が上下方向に移動可能に装着されている。研削ユニット10は、スピンドルハウジング12と、スピンドルハウジング12を支持する支持部14を有しており、支持部14が一対のガイドレール8に沿って上下方向に移動する移動基台16に取り付けられている。   A grinding unit (grinding means) 10 is mounted along the pair of guide rails 8 so as to be movable in the vertical direction. The grinding unit 10 includes a spindle housing 12 and a support portion 14 that supports the spindle housing 12. The support portion 14 is attached to a moving base 16 that moves in the vertical direction along a pair of guide rails 8. Yes.

研削ユニット10はスピンドルハウジング12中に回転可能に収容されたスピンドル18と、スピンドル18の先端に固定されたホイールマウント20と、ホイールマウント20にねじ締結され環状に配設された複数の研削砥石24(図4参照)を有する研削ホイール22と、スピンドル18を回転駆動する電動モータ26を含んでいる。   The grinding unit 10 includes a spindle 18 rotatably accommodated in a spindle housing 12, a wheel mount 20 fixed to the tip of the spindle 18, and a plurality of grinding wheels 24 screwed to the wheel mount 20 and arranged annularly. A grinding wheel 22 having (see FIG. 4) and an electric motor 26 for rotating the spindle 18 are included.

研削装置2は、研削ユニット10を一対のガイドレール8に沿って上下方向に移動するボールねじ28と、パルスモータ30とから構成される研削ユニット移動機構32を備えている。パルスモータ30を駆動すると、ボールねじ28が回転し、移動基台16が上下方向に移動される。   The grinding apparatus 2 includes a grinding unit moving mechanism 32 including a ball screw 28 that moves the grinding unit 10 in the vertical direction along a pair of guide rails 8 and a pulse motor 30. When the pulse motor 30 is driven, the ball screw 28 rotates and the moving base 16 is moved in the vertical direction.

ハウジング4の上面には凹部4aが形成されており、この凹部4aにチャックテーブル機構34が配設されている。チャックテーブル機構34はチャックテーブル(保持テーブル)36を有し、図示しない移動機構により被加工物着脱位置Aと、研削ユニット10に対向する研削位置Bとの間でY軸方向に移動される。38,40は蛇腹である。ハウジング4の前方側には、研削装置2のオペレータが研削条件等を入力する操作パネル42が配設されている。   A recess 4a is formed on the upper surface of the housing 4, and a chuck table mechanism 34 is disposed in the recess 4a. The chuck table mechanism 34 has a chuck table (holding table) 36, and is moved in the Y-axis direction between a workpiece attaching / detaching position A and a grinding position B facing the grinding unit 10 by a moving mechanism (not shown). 38 and 40 are bellows. On the front side of the housing 4, an operation panel 42 on which an operator of the grinding device 2 inputs grinding conditions and the like is disposed.

チャックテーブル36は被加工物を吸引保持する吸着チャック(保持面)44を有している。46は厚さ測定装置であり、図5に示すように2本の接触針(プローブ)47,48を有している。チャックテーブル36の周りには、図3に示すように粘着テープTを介して被加工物52を支持した環状フレームFを磁気吸着する4個の永久磁石50が配設されている。   The chuck table 36 has a suction chuck (holding surface) 44 for sucking and holding a workpiece. A thickness measuring device 46 has two contact needles (probes) 47 and 48 as shown in FIG. Around the chuck table 36, four permanent magnets 50 for magnetically adsorbing an annular frame F that supports a workpiece 52 via an adhesive tape T are disposed as shown in FIG.

次に図2のフローチャートを参照して、本発明実施形態の被加工物の研削方法について説明する。まず、ステップS10で複数の被加工物を粘着テープに貼着して環状フレームで支持する被加工物貼着ステップを実施する。   Next, with reference to the flowchart of FIG. 2, the grinding method of the workpiece of this embodiment is demonstrated. First, in step S10, a workpiece pasting step is performed in which a plurality of workpieces are stuck to an adhesive tape and supported by an annular frame.

即ち、図3に示すように、外周部が環状フレームFに貼着された粘着テープT上に、サファイア基板等の小型の被加工物52を複数個貼着する。これにより、複数の小型被加工物52が粘着テープTを介して環状フレームFにより支持されたことになる。   That is, as shown in FIG. 3, a plurality of small workpieces 52 such as sapphire substrates are stuck on the adhesive tape T whose outer periphery is stuck to the annular frame F. As a result, the plurality of small workpieces 52 are supported by the annular frame F via the adhesive tape T.

被加工物52としては、サファイア基板、ガリウム砒素ウエーハ、Siウエーハ、半導体デバイスがモールド樹脂でモールドされたパッケージ基板等を挙げることができる。   Examples of the workpiece 52 include a sapphire substrate, a gallium arsenide wafer, a Si wafer, a package substrate in which a semiconductor device is molded with a mold resin, and the like.

粘着テープTは、100μm程度の厚みのPO(ポリオレフィン)やPVC(ポリ塩化ビニル)、PET(ポリエチレンテレフタレート)等からなる基材と、基材上に形成された5〜40μm程度の厚みのアクリル系やゴム系の糊層とから構成される。   The adhesive tape T includes a base material made of PO (polyolefin), PVC (polyvinyl chloride), PET (polyethylene terephthalate) or the like having a thickness of about 100 μm, and an acrylic system having a thickness of about 5 to 40 μm formed on the base material. And rubber glue layer.

次いで、ステップS11で粘着テープ上に貼着された複数の被加工物を保持テーブル(チャックテーブル)で保持する。即ち、図4に示すように、複数の被加工物52を貼着テープTを介してチャックテーブル36で吸引保持し、チャックテーブル36の保持面44より下に設けられた永久磁石50で環状フレームFを引き落として吸着する。これにより、環状フレームFが研削砥石24により研削されることが防止される。   Next, the plurality of workpieces attached on the adhesive tape in step S11 are held by a holding table (chuck table). That is, as shown in FIG. 4, a plurality of workpieces 52 are sucked and held by the chuck table 36 via the adhesive tape T, and the annular frame is formed by the permanent magnet 50 provided below the holding surface 44 of the chuck table 36. F is pulled down and adsorbed. This prevents the annular frame F from being ground by the grinding wheel 24.

次いで、ステップS12で保持テーブル36で保持された被加工物52の厚みを厚み測定装置46で測定する。即ち、図5に示すように、厚み測定装置46の一方のプローブ47を被加工物52の上面に当接させてその高さを測定し、他方のプローブ48を粘着テープTに当接させてその高さを測定する。   Next, the thickness of the workpiece 52 held by the holding table 36 is measured by the thickness measuring device 46 in step S12. That is, as shown in FIG. 5, one probe 47 of the thickness measuring device 46 is brought into contact with the upper surface of the workpiece 52 to measure its height, and the other probe 48 is brought into contact with the adhesive tape T. Measure its height.

両方のプローブ47,48の測定値の差を取ることにより、加工前の被加工物52の厚みを測定する。全ての被加工物52は原則的に同一厚みを有しているため、この加工前厚さ測定ステップは一つの被加工物52に対して実施すればよい。   By measuring the difference between the measured values of both probes 47 and 48, the thickness of the workpiece 52 before processing is measured. Since all the workpieces 52 have the same thickness in principle, this pre-processing thickness measurement step may be performed on one workpiece 52.

次いで、図示しない移動機構によりチャックテーブル36を図1に矢印Bで示す研削ユニット10に対向する研削位置に移動し、ステップS13の研削ステップを実施する。即ち、図4に示すように、チャックテーブル36を矢印A方向に例えば300rpmで回転しつつ、研削ホイール22を矢印B方向に例えば6000rpmで回転させながら所定の送り量で下方に研削送りする。被加工物52を所望の厚みに研削するために、研削過多に注意しながら予め定めた所定の研削時間が経過するとこの研削ステップを中止する。   Next, the chuck table 36 is moved to a grinding position facing the grinding unit 10 indicated by an arrow B in FIG. 1 by a moving mechanism (not shown), and the grinding step of Step S13 is performed. That is, as shown in FIG. 4, while rotating the chuck table 36 in the direction of arrow A at 300 rpm, for example, and rotating the grinding wheel 22 in the direction of arrow B at, for example, 6000 rpm, the chuck table 36 is ground and fed downward by a predetermined feed amount. In order to grind the workpiece 52 to a desired thickness, the grinding step is stopped when a predetermined grinding time elapses while paying attention to excessive grinding.

次いで、図示しない移動機構によりチャックテーブル36を矢印Aで示す被加工物着脱位置に移動してから、ステップS14の仕上げ厚み測定ステップを実施する。即ち、図5に示すように、厚さ測定装置46の一方のプローブ47を研削された被加工物52の表面に接触させてその高さを測定し、他方のプローブ48を粘着テープTに接触させてその高さを測定する。両方のプローブ47,48の測定値の差をとることにより、研削された被加工物52の厚みを測定することができる。ここで測定する被加工物は、加工前厚さ測定ステップS12で厚みを測定した被加工物と同一であることが好ましい。   Next, after the chuck table 36 is moved to the workpiece attaching / detaching position indicated by the arrow A by a moving mechanism (not shown), the finishing thickness measuring step of Step S14 is performed. That is, as shown in FIG. 5, one probe 47 of the thickness measuring device 46 is brought into contact with the ground surface of the workpiece 52 and the height thereof is measured, and the other probe 48 is brought into contact with the adhesive tape T. And measure its height. By taking the difference between the measured values of both probes 47 and 48, the thickness of the ground workpiece 52 can be measured. The workpiece to be measured here is preferably the same as the workpiece whose thickness was measured in the thickness measurement step S12 before processing.

この測定により、研削された被加工物52が所定の厚みに達したか否かを判定し(ステップS15)、所定の厚みに達した場合には研削を終了する。一方、研削後の被加工物52の厚みが所定の厚みに達していない場合には、ステップS13の研削ステップ及びステップS14の仕上げ厚み測定ステップを再び実施する。被加工物52の厚みが所定の厚みに達するまで、ステップS13及びステップS14を繰り返す。   By this measurement, it is determined whether or not the ground workpiece 52 has reached a predetermined thickness (step S15). When the predetermined thickness is reached, the grinding is terminated. On the other hand, when the thickness of the workpiece 52 after grinding does not reach the predetermined thickness, the grinding step in step S13 and the finishing thickness measurement step in step S14 are performed again. Steps S13 and S14 are repeated until the thickness of the workpiece 52 reaches a predetermined thickness.

ステップS13の研削ステップでは、粘着テープTに貼着された複数の被加工物52を同時に研削しているため、その研削加工の程度は同等と考えられるので、ステップS14の仕上げ厚み測定ステップは、一つの被加工物52に対して実施すればよい。   In the grinding step of step S13, since the plurality of workpieces 52 adhered to the adhesive tape T are ground at the same time, the degree of the grinding process is considered to be equivalent. Therefore, the finishing thickness measurement step of step S14 is: What is necessary is just to implement with respect to the one to-be-processed object 52. FIG.

図1に示した研削装置2では、厚さ測定装置46を被加工物着脱位置Aに配設しているが、厚さ測定装置46を研削位置Bに配設するようにすれば、所定時間被加工物52の研削を実施した後、直ちにステップS14の仕上げ厚み測定ステップを実施することができる。   In the grinding apparatus 2 shown in FIG. 1, the thickness measuring device 46 is disposed at the workpiece attaching / detaching position A. However, if the thickness measuring device 46 is disposed at the grinding position B, a predetermined time is provided. After the workpiece 52 is ground, the finishing thickness measuring step of step S14 can be performed immediately.

上述した本発明実施形態の被加工物の研削方法では、複数の被加工物52を粘着テープTに貼着して研削砥石24を有する研削ホイール22で同時に研削しているため、生産性を向上することができる。   In the workpiece grinding method of the embodiment of the present invention described above, productivity is improved because a plurality of workpieces 52 are adhered to the adhesive tape T and simultaneously ground by the grinding wheel 22 having the grinding wheel 24. can do.

2 研削装置
10 研削ユニット
22 研削ホイール
24 研削砥石
36 チャックテーブル
46 厚さ測定装置
47,48 接触針(プローブ)
50 永久磁石
52 被加工物
2 Grinding device 10 Grinding unit 22 Grinding wheel 24 Grinding wheel 36 Chuck table 46 Thickness measuring devices 47 and 48 Contact needle (probe)
50 Permanent magnet 52 Work piece

Claims (2)

被加工物の研削方法であって、
外周部が環状フレームに貼着された粘着テープ上に複数の被加工物を貼着する被加工物貼着ステップと、
該粘着テープ上に貼着された該複数の被加工物を保持テーブルで保持する保持ステップと、
該保持テーブルで保持された該被加工物の厚みを厚み測定手段で測定する加工前厚さ測定ステップと、
該保持テーブルで保持された該複数の被加工物を研削手段で所定の厚みへ研削する研削ステップと、
該研削ステップを実施した後、該被加工物の厚みを厚み測定手段によって測定する仕上げ厚さ測定ステップと、
該仕上げ厚さ測定ステップで測定された該被加工物の厚みが該所定厚みに達していない場合に、該複数の被加工物を該研削手段で所定の厚みへ再度研削する再研削ステップと、
を具備したことを特徴とする被加工物の研削方法。
A method of grinding a workpiece,
A workpiece pasting step for pasting a plurality of workpieces on the adhesive tape whose outer peripheral portion is stuck to the annular frame;
A holding step of holding the plurality of workpieces adhered on the adhesive tape with a holding table;
A thickness measuring step before processing for measuring the thickness of the workpiece held by the holding table with a thickness measuring means;
A grinding step of grinding the plurality of workpieces held by the holding table to a predetermined thickness by a grinding means;
After performing the grinding step, a finished thickness measuring step for measuring the thickness of the workpiece by a thickness measuring means;
A re-grinding step of regrinding the plurality of workpieces to a predetermined thickness by the grinding means when the thickness of the workpiece measured in the finishing thickness measurement step does not reach the predetermined thickness;
A method of grinding a workpiece, comprising:
前記加工前厚さ測定ステップと前記仕上げ厚さ測定ステップとで厚みが測定される被加工物は同一である請求項1記載の被加工物の研削方法。   2. The workpiece grinding method according to claim 1, wherein the workpieces whose thicknesses are measured in the pre-machining thickness measuring step and the finished thickness measuring step are the same.
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