JP2010129381A - Method for manufacturing organic el element - Google Patents
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Abstract
【課題】色度のバラツキを低減できる有機EL素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】白色発光する有機EL素子100の製造方法であって、基板上に陽極10を成膜する陽極成膜工程と、ホール輸送層20を陽極10上に成膜する前に、陽極10の膜厚を測定する膜厚測定工程と、陽極10の膜厚とホール輸送層20の膜厚の設計値の合計膜厚と、膜厚測定工程で測定された陽極10の膜厚とに基づいて成膜するホール輸送層20の膜厚を設定する膜厚設定工程と、膜厚設定工程で設定した膜厚でホール輸送層20を陽極10上に成膜する輸送層成膜工程とを備える。
【選択図】図1An organic EL device manufacturing method capable of reducing variation in chromaticity is provided.
A method of manufacturing an organic EL device 100 that emits white light, in which an anode 10 is formed on a substrate, and an anode 10 is formed before a hole transport layer 20 is formed on the anode 10. Based on the film thickness measurement step for measuring the thickness of the film, the total thickness of the design values of the film thickness of the anode 10 and the film thickness of the hole transport layer 20, and the film thickness of the anode 10 measured in the film thickness measurement process. A film thickness setting process for setting the film thickness of the hole transport layer 20 to be formed, and a transport layer film forming process for forming the hole transport layer 20 on the anode 10 with the film thickness set in the film thickness setting process. .
[Selection] Figure 1
Description
本発明は、有機EL素子の製造方法に関するものである。特に、白色発光の有機EL素子に適用して好適な製造方法に関するものである。 The present invention relates to a method for producing an organic EL element. In particular, the present invention relates to a production method suitable for application to a white light emitting organic EL element.
従来、白色発光の有機EL素子があった。この白色発光の有機EL素子は、例えば、水色発光層(ピーク波長460〜480nm)と橙色発光層や青色発光層(ピーク波長460nm以下)と橙色発光層を積層することで白色を再現している。 Conventionally, there has been an organic EL element that emits white light. This white light-emitting organic EL device reproduces white color by, for example, stacking a light-emitting layer (peak wavelength: 460 to 480 nm) and an orange light-emitting layer or a blue light-emitting layer (peak wavelength: 460 nm or less) and an orange light-emitting layer. .
このような白色発光の有機EL素子の設計方法として、特許文献1に示されるものがある。この特許文献1に示される設計方法においては、ホール輸送層と、ホール及び電子の注入を持続することができる有機ホスト材料に発光色系統の異なる蛍光を発する複数種類の蛍光材料を一種類ずつ含有する複数層の有機発光層と、電子輸送層とを、陽極と陰極の間に設けて形成される白色有機電界発光素子を設計する。そして、各有機発光層の膜厚及び、有機ホスト材料と蛍光材料の比率を、発光効率と発光取出し色の色度座標値をパラメーターとしてそれぞれ設定するステップと、設定された各有機発光層の膜厚に合わせて、ホール輸送層と電子輸送層の少なくとも一方の膜厚を、発光取出し色の色度座標値をパラメーターとして設定するステップとから上記の設計を行なう。このようにして、各ステップを踏んで複数の有機発光層の厚みや材料比率、ホール輸送層や電子輸送層の膜厚を設定することによって、発光色が白色の色純度に最も近くなるように、効率良く設計することができる。
ところが、陽極、ホール輸送層などを積層して有機EL素子を製造する場合、各層の膜厚は設定した膜厚に対してずれが生じることがある。このように陽極、ホール輸送層などの有機EL素子を構成する層の膜厚が設定した膜厚からずれると、発光層内部での発光位置が変化することで、光学干渉により起こる発光スペクトルのピーク位置が変化し、有機EL素子の発光色である白色の色度が変化する。 However, when an organic EL element is manufactured by laminating an anode, a hole transport layer, and the like, the film thickness of each layer may deviate from the set film thickness. Thus, when the film thickness of the layers constituting the organic EL element such as the anode and the hole transport layer deviates from the set film thickness, the light emission position within the light emitting layer changes, so that the emission spectrum peak caused by optical interference occurs. The position changes, and the chromaticity of white, which is the emission color of the organic EL element, changes.
特に、陽極は、有機EL素子を構成する各層のなかでも最も厚く形成することがある。例えば、有機膜の膜厚は全ての層(例えば6層)の合計が100nm〜200nmであるのに対し、透明電極の膜厚はそれ単体で100nm〜200nmなど。よって、陽極は、設定した膜厚に対してずれ量が大きくなる。つまり、陽極における設定した膜厚とずれが生じた実際の膜厚との膜厚差は、有機膜の各層における設定した膜厚とずれが生じた実際の膜厚との膜厚差に比べて大きい。従って、陽極の膜厚のずれが与える光学干渉の影響は大きく、それによる色度のバラツキが大きいという問題があった。 In particular, the anode may be formed to be the thickest among the layers constituting the organic EL element. For example, the total thickness of all layers (for example, 6 layers) is 100 nm to 200 nm, whereas the transparent electrode has a thickness of 100 nm to 200 nm alone. Therefore, the amount of deviation of the anode increases with respect to the set film thickness. In other words, the film thickness difference between the set film thickness at the anode and the actual film thickness where the deviation has occurred is compared with the film thickness difference between the set film thickness at each layer of the organic film and the actual film thickness at which the deviation has occurred. large. Therefore, there is a problem that the influence of the optical interference given by the deviation of the film thickness of the anode is large and the chromaticity variation is large.
本発明は、上記問題点に鑑みなされたものであり、色度のバラツキを低減できる有機EL素子の製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a method for manufacturing an organic EL element that can reduce variations in chromaticity.
上記目的を達成するために請求項1に記載の有機EL素子の製造方法は、透明電極、ホール輸送層、互いに異なる色を発光する複数の発光層、電子輸送層、陰極を積層してなり白色発光する有機EL素子の製造方法であって、
基板上に透明電極を成膜する陽極成膜工程と、
ホール輸送層を透明電極上に成膜する前に、透明電極の膜厚を測定する膜厚測定工程と、
透明電極の膜厚とホール輸送層の膜厚の設計値の合計膜厚と、膜厚測定工程で測定された透明電極の膜厚とに基づいて、成膜するホール輸送層の膜厚を設定する膜厚設定工程と、
膜厚設定工程で設定した膜厚でホール輸送層を透明電極上に成膜する輸送層成膜工程と、
を備えることを特徴とするものである。
In order to achieve the above object, the method for producing an organic EL device according to claim 1 is a white layer comprising a transparent electrode, a hole transport layer, a plurality of light emitting layers emitting different colors, an electron transport layer, and a cathode. A method for producing an organic EL element that emits light,
An anode film forming step of forming a transparent electrode on the substrate;
Before forming the hole transport layer on the transparent electrode, a film thickness measuring step for measuring the film thickness of the transparent electrode,
The film thickness of the hole transport layer to be formed is set based on the total film thickness of the transparent electrode film thickness and the designed value of the hole transport layer film thickness and the film thickness of the transparent electrode measured in the film thickness measurement process. A film thickness setting process to be performed;
A transport layer film forming step of forming a hole transport layer on the transparent electrode at a film thickness set in the film thickness setting step;
It is characterized by providing.
このようにすることによって、設計値に対する透明電極の膜厚のずれをホール輸送層で補正することができるので、成膜した透明電極とホール輸送層の膜厚の合計膜厚を設計値の合計膜厚に近づけることができる。したがって、色度のバラツキを低減できる有機EL素子を製造することができる。 By doing this, the deviation of the film thickness of the transparent electrode from the design value can be corrected by the hole transport layer, so the total film thickness of the formed transparent electrode and hole transport layer is the sum of the design values. The film thickness can be approached. Therefore, an organic EL element that can reduce chromaticity variation can be manufactured.
また、複数の発光層としては、請求項2に示すように、橙色発光層と水色発光層とを採用することができる。 As the plurality of light emitting layers, as shown in claim 2, an orange light emitting layer and a light blue light emitting layer can be adopted.
また、請求項3に示すように、水色発光層の最大ピーク波長が460nmから480nmであり、基板と透明電極との界面から橙色発光層と水色発光層との界面までの光学距離をL1、橙色発光層と水色発光層との界面から陰極界面までの光学距離をL2とした場合、有機EL素子の膜厚の設計値は、L1+L2=(2m+1)λ/4、L2=(2n−1)λ/4、(m、nはm≧nを満たす自然数、λは水色最大ピーク波長)を満たすように設計するようにしてもよい。 According to a third aspect of the present invention, the maximum peak wavelength of the light blue light emitting layer is 460 nm to 480 nm, and the optical distance from the interface between the substrate and the transparent electrode to the interface between the orange light emitting layer and the light blue light emitting layer is L1, orange When the optical distance from the interface between the light emitting layer and the light emitting layer to the cathode interface is L2, the design values of the film thickness of the organic EL element are L1 + L2 = (2m + 1) λ / 4, L2 = (2n−1) λ / 4, (m and n are natural numbers satisfying m ≧ n and λ is the light blue maximum peak wavelength) may be designed.
また、請求項4に示すように、膜厚設定工程では、設計値の膜厚を満たす有機EL素子の色度に対して色差が5以下となるように、設計値の膜厚に対する透明電極による光学距離L1のずれをホール輸送層の膜厚で補正するようにホール輸送層の膜厚を設定するようにしてもよい。 Further, as shown in claim 4, in the film thickness setting step, the transparent electrode with respect to the film thickness of the design value is used so that the color difference is 5 or less with respect to the chromaticity of the organic EL element satisfying the film thickness of the design value. The film thickness of the hole transport layer may be set so that the deviation of the optical distance L1 is corrected by the film thickness of the hole transport layer.
このようにすることによって、設計値の膜厚を満たす有機EL素子の色度とほとんど同一とすることができる。 By doing in this way, it can be made almost the same as the chromaticity of the organic EL element satisfying the designed film thickness.
また、請求項5に示すように、膜厚設定工程では、設計値の膜厚に対する透明電極による光学距離L1のずれが±10nm以下となるように、ホール輸送層の膜厚を設定するようにしてもよい。 Further, as shown in claim 5, in the film thickness setting step, the film thickness of the hole transport layer is set so that the deviation of the optical distance L1 by the transparent electrode with respect to the designed film thickness is ± 10 nm or less. May be.
このようにすることによって、設計値の膜厚を満たす有機EL素子に対して色差5以下とすることができる。 By doing in this way, it can be set as 5 or less color differences with respect to the organic EL element which satisfy | fills the film thickness of a design value.
以下、本発明の実施の形態を図に基づいて説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
図1は、本発明の実施の形態における有機EL素子の概略構成を示す正面図である。図2は、透明電極の膜厚と色度との関係を示すグラフである。図3は、透明電極の設計値の膜厚(145nmの場合)における色度からの色差5以内の範囲を示すグラフである。 FIG. 1 is a front view showing a schematic configuration of an organic EL element in an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a graph showing the relationship between the film thickness and chromaticity of the transparent electrode. FIG. 3 is a graph showing a range of a color difference within 5 from the chromaticity at the designed film thickness (in the case of 145 nm) of the transparent electrode.
本発明の実施の形態に係る有機EL素子100は白色発光するものである。この有機EL素子100は、図1に示すように、可視光に対して透明な基板(図示省略)上に、本発明の透明電極に相当する陽極10、ホール輸送層20、橙色発光層30、水色発光層40、電子輸送層50、陰極60が順次積層されるものである。また、必要に応じて、陽極10とホール輸送層20との間にホール注入層を設けたり、電子輸送層50と陰極60との間に電子注入層を設けたりしてもよい。
The
基板は、ガラスや樹脂などからなる透明な電気絶縁性を有する基板である。基板の上に形成される陽極10は、例えば、膜厚が100〜200nm(本実施例では145nm)程度であり、構成材料としては、インジウム−錫の酸化物(ITO)膜やインジウム−亜鉛の酸化物膜等の透明導電膜を用いることが可能である。ホール輸送層20は、例えば、膜厚が65nm程度であり、構成材料としては、トリフェニアルアミン4量体などを用いることが可能である。
The substrate is a transparent electrically insulating substrate made of glass or resin. The
橙色発光層30は、例えば、膜厚が20nm程度であり、構成材料としては、トリフェニアルアミン4量体+ルブレンなどを用いることが可能である。水色発光層40は、例えば、膜厚が35nm程度であり、構成材料としては、トリフェニアルアミン4量体+ペリレン5%などを用いることが可能である。電子輸送層50は、例えば、膜厚が30nm程度であり、構成材料としては、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(Alq3)などを用いることが可能である。陰極60は、例えば、膜厚が100nm〜1μm程度であり、構成材料としては、LiF/AlやLiO/Alなどの2層構造、もしくはMgとAg、AlとLiなどの金属原子の混合層などを用いることが可能である。
The orange
なお、本実施の形態においては、発光層に橙色発光層30と水色発光層40の2層を用いる例を採用したが、本発明はこれに限定されるものではない。有機EL素子100が白色発光可能であれば、例えば、橙色発光層と青色発光層(ピーク波長460nm以下)の2層を用いてもよいし、3層以上の発光層を積層してもよい。
In the present embodiment, an example in which two layers of the orange
また、上述のような構成の有機EL素子の膜厚は次にようにして設定される。橙色発光層30と水色発光層40の発光ピークが橙色発光層30と水色発光層40との界面であり、水色発光層40の最大ピーク波長が460nmから480nmであり、基板と陽極10との界面から橙色発光層30と水色発光層40との界面までの光学距離をL1、橙色発光層30と水色発光層40との界面から陰極60界面までの光学距離をL2とした場合、有機EL素子100の膜厚の設計値は、L1+L2=(2m+1)λ/4、L2=(2n−1)λ/4、(m、nはm≧nを満たす自然数、λは水色最大ピーク波長)を満たすように設計される。
The film thickness of the organic EL element having the above-described configuration is set as follows. The light emission peak of the orange
しかしながら、有機EL素子100は、このように膜厚を設定していても、陽極10、ホール輸送層20などの有機EL素子100を構成する層の膜厚が設定した膜厚からずれることがある。膜厚が設定値からずれると、発光層内部での発光位置が変化することで、光学干渉により起こる発光スペクトルのピーク位置が変化して色度が変化する。特に、有機膜の膜厚は全ての層(例えば6層)の合計が100nm〜200nmであるのに対して、陽極10の膜厚は、単体で100nm〜200nm程度と厚く形成されることが多い。したがって、陽極10は、設定した膜厚に対してずれ量が大きくなり、色度への影響が大きい。
However, in the
図2は、陽極10の膜厚の設計値を145nmとして、陽極10の膜厚を145nm、145nm±1〜5nm、145nm±5〜10nmとした場合の色度変化をCIE(国際照明委員会)色度座標の変化として調べた結果を示す図である。図2に示すように、陽極10の膜厚が設定値からずれるに従って、色度もずれることがわかる。換言すると、陽極10の膜厚が設定値に対してバラツクと、色度もバラツク。なお、陽極以外の層の膜厚は固定とする。
FIG. 2 shows the change in chromaticity when the design value of the thickness of the
図2における太線の円は、設計値の膜厚における色度に対する色差ΔEabが5以下の範囲を示すものである。この色差ΔEabは下記の式にて求めることができる。
ΔEab=[(ΔL)2+(Δa)2+(Δb)2]1/2
ΔL=L2−L1
Δa=a1−a2
Δb=b1−b2
L=116(Y/Yn)1/3−16
a=500[(X/Xn)1/3−(Y/Yn)1/3]
b=200[(Y/Yn)1/3−(Z/Zn)1/3]
色度x=X/(X+Y+Z)、y=Y/(X+Y+Z)
Y=Yn=100
n;標準光C
ASTM(American Society for Testing and Materials)による許容色差の分類によると、色差ΔEabが5以下である場合は略同一と認めることができる。従って、色差ΔEabを5以下とすることによって、設計値の膜厚を満たす有機EL素子の色度とほとんど同一とすることができる。逆に、陽極10の膜厚が設定値の膜厚から5nm以上ずれると色差ΔEabが5以上となる。つまり、目視でわかる程度の変化をする。
The thick circle in FIG. 2 indicates the range where the color difference ΔEab with respect to the chromaticity at the designed film thickness is 5 or less. This color difference ΔEab can be obtained by the following equation.
ΔEab = [(ΔL) 2 + (Δa) 2 + (Δb) 2 ] 1/2
ΔL = L2-L1
Δa = a1-a2
Δb = b1−b2
L = 116 (Y / Yn) 1/3 -16
a = 500 [(X / Xn) 1 /3-(Y / Yn) 1/3 ]
b = 200 [(Y / Yn) 1 /3-(Z / Zn) 1/3 ]
Chromaticity x = X / (X + Y + Z), y = Y / (X + Y + Z)
Y = Yn = 100
n: Standard light C
According to the classification of allowable color differences according to ASTM (American Society for Testing and Materials), when the color difference ΔEab is 5 or less, it can be recognized that they are substantially the same. Therefore, by setting the color difference ΔEab to 5 or less, the chromaticity of the organic EL element satisfying the designed film thickness can be made almost the same. On the contrary, when the film thickness of the
そこで、ホール輸送層20成膜前に陽極10の膜厚を評価し、膜厚のずれを5nm以下と5nm以上(光学距離10nm以上)に分類した。陽極10の膜厚が1.135〜140nm、2.140〜150nm(±5nm以内)、3.150〜155nm。そして、この分類した陽極10に対して、ホール輸送層20の膜厚を設計値に対して1.+5nm、2.±0nm、3.−5nmと補正した(470nmでのホール輸送層20と陽極10の屈折率はほぼ同等のため、陽極10+ホール輸送層20が一定となるように補正)。この結果、ホール輸送層20の補正無の状態では、色差ΔEabが最大15であったのに対して、補正有りの状態では色差ΔEabが5以下となった。陽極10の膜厚5nmは、光学距離(膜厚×屈折率)にすると5×1.95(屈折率@470nm)≒10nmである。このように、設計値の膜厚に対する陽極10による光学距離L1のずれが±10nm以下となるように、ホール輸送層20の膜厚を設定することによって、設計値の膜厚を満たす有機EL素子に対して色差ΔEabを5以下とすることができる。
Therefore, the film thickness of the
なお、上述のように有機EL素子の膜厚は、L1とL2によって設定するものであるが、橙色発光層30などは陽極10に対して膜厚が薄くて設定値に対するずれ量も小さい(設定値からずれた膜厚も薄い)。また、ホール輸送層20の膜厚が有機EL素子の色度にあまり影響しないことが知られている。したがって、陽極10の膜厚のずれに基づく光学距離L1の設定値からのずれは、ホール輸送層20の膜厚で補正することができる。
As described above, the film thickness of the organic EL element is set by L1 and L2. However, the orange
ここで、本実施の形態における有機EL素子100の製造方法に関して説明する。
Here, the manufacturing method of the
まず、例えば、真空蒸着、スパッタリング、化学蒸着(CVD)、原子層エピタクシー(ALE)、塗布、浸漬などの方法により基板上に陽極10を成膜する(陽極成膜工程)。次に、例えば、エリプソメータなどによって、ホール輸送層20を陽極10上に成膜する前に、陽極10の膜厚を測定する(膜厚測定工程)。
First, the
次に、陽極10の膜厚とホール輸送層20の膜厚の設計値の合計膜厚と、膜厚測定工程で測定された陽極10の膜厚とに基づいて、成膜するホール輸送層20の膜厚を設定する(膜厚設定工程)。換言すると、設計値の合計膜厚と膜厚測定工程で測定された陽極10の膜厚とに基づいて、陽極10の膜厚とホール輸送層20の膜厚の合計膜厚が設定値の合計膜厚に近づくように成膜するホール輸送層20の膜厚を設定する。つまり、設定値の合計膜厚から測定された陽極10の膜厚を引いた値を成膜するホール輸送層20の膜厚として設定する。なお、陽極10の膜厚とホール輸送層20の膜厚の設計値の合計膜厚は、光学距離L1の設定値の膜厚から橙色発光層30の設定値の膜厚を引いた膜厚とすることができる。
Next, based on the total thickness of the design values of the thickness of the
そして、膜厚設定工程で設定した膜厚でホール輸送層20を例えば、真空蒸着、スパッタリング、化学蒸着(CVD)、原子層エピタクシー(ALE)、塗布、浸漬などの方法により陽極10上に成膜する(輸送層成膜工程)。
Then, the
輸送層成膜工程後は、橙色発光層30、水色発光層40、電子輸送層50、陰極60を順次成膜する。
After the transport layer forming step, the orange
このようにすることによって、設計値に対する陽極10の膜厚のずれをホール輸送層20で補正することができるので、成膜した陽極10とホール輸送層20の膜厚の合計膜厚を設計値の合計膜厚に近づけることができる。したがって、色度のバラツキを低減できる有機EL素子を製造することができる。
By doing so, since the deviation of the film thickness of the
上述の実施の形態においては、陽極10の膜厚が145nmである例を採用して説明したが、図4の透明電極の膜厚と色度(x、y)との関係、及び、図5の透明電極の膜厚と色度(y)との関係からわかるように、本発明はこれに限定されるものではない。また、図6は、陽極10の設計膜厚(35nmの場合)からの色差5以内の範囲を示すグラフである。また、図6から明らかなように、陽極10の膜厚を35nmとした場合であっても、色差5以内の範囲が陽極10の膜厚が145nmの場合と略同等であるので、光学距離L1の設計値からのずれを10nm以下となるように補正すれば、色差ΔEabが5以下となる。なお、上述の光学距離L1、L2の関係式において、145nmの場合m=2、n=1、35nmの場合m=n=1となる。
In the above-described embodiment, the example in which the film thickness of the
10 陽極(透明電極)、20 ホール輸送層、30 橙色発光層、40 水色発光層、50 電子輸送層、60 陰極、100 有機EL素子
DESCRIPTION OF
Claims (5)
基板上に前記透明電極を成膜する陽極成膜工程と、
前記ホール輸送層を前記透明電極上に成膜する前に、前記透明電極の膜厚を測定する膜厚測定工程と、
前記透明電極の膜厚と前記ホール輸送層の膜厚の設計値の合計膜厚と、前記膜厚測定工程で測定された前記透明電極の膜厚とに基づいて、成膜する前記ホール輸送層の膜厚を設定する膜厚設定工程と、
前記膜厚設定工程で設定した膜厚で前記ホール輸送層を前記透明電極上に成膜する輸送層成膜工程と、
を備えることを特徴とする有機EL素子の製造方法。 A method for producing an organic EL device that emits white light by laminating a transparent electrode, a hole transport layer, a plurality of light emitting layers emitting different colors, an electron transport layer, and a cathode,
An anode film forming step of forming the transparent electrode on a substrate;
Before forming the hole transport layer on the transparent electrode, a film thickness measuring step for measuring the film thickness of the transparent electrode;
The hole transport layer to be formed on the basis of the total film thickness of the transparent electrode and the design value of the film thickness of the hole transport layer, and the film thickness of the transparent electrode measured in the film thickness measurement step. A film thickness setting step for setting the film thickness of
A transport layer forming step of forming the hole transport layer on the transparent electrode at a thickness set in the film thickness setting step;
The manufacturing method of the organic EL element characterized by the above-mentioned.
The film thickness setting step sets the film thickness of the hole transport layer so that a deviation of the optical distance L1 by the transparent electrode with respect to the designed film thickness is ± 10 nm or less. 3. A method for producing an organic EL device according to 3.
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