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JP2010111661A - 芳香族スルホニルクロリドおよび芳香族スルホン酸化合物の製造方法、並びに芳香族スルホン酸化合物およびその製造中間体 - Google Patents

芳香族スルホニルクロリドおよび芳香族スルホン酸化合物の製造方法、並びに芳香族スルホン酸化合物およびその製造中間体 Download PDF

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JP2010111661A
JP2010111661A JP2009233157A JP2009233157A JP2010111661A JP 2010111661 A JP2010111661 A JP 2010111661A JP 2009233157 A JP2009233157 A JP 2009233157A JP 2009233157 A JP2009233157 A JP 2009233157A JP 2010111661 A JP2010111661 A JP 2010111661A
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JP
Japan
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group
carbon atoms
formula
binaphthalene
following
Prior art date
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Pending
Application number
JP2009233157A
Other languages
English (en)
Inventor
Teruki Takahashi
晃樹 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority to JP2009233157A priority Critical patent/JP2010111661A/ja
Publication of JP2010111661A publication Critical patent/JP2010111661A/ja
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  • Nitrogen- Or Sulfur-Containing Heterocyclic Ring Compounds With Rings Of Six Or More Members (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

【課題】取扱いに注意を要する塩素ガスを用いることなく、チオカーバメート化合物から芳香族スルホニルクロリドを製造する方法を提供する。
【解決手段】式（１）
Figure 2010111661

で示されるチオカーバメート化合物とＮ−クロロスクシンイミドとを反応させ、式（２）
Figure 2010111661

で示される芳香族スルホニルクロリドの製造方法。
【選択図】なし

Description

本発明は、芳香族スルホニルクロリドおよび芳香族スルホン酸化合物の製造方法、並びに芳香族スルホン酸化合物およびその製造中間体に関する。
芳香族スルホニルクロリドは、例えば除草活性を有するスルホニルウレア化合物の合成原料（例えば特許文献１参照。）として有用である。
前記芳香族スルホニルクロリドの製造方法として、例えば特許文献１には、２−フェニルフェニルジメチルチオカーバメートを塩素ガスと反応させて２−フェニルベンゼンスルホニルクロリドを製造する方法が開示されている。
特開昭６０−８４２６０号公報
しかしながら、特許文献１に開示される方法では、取扱いに注意を要する塩素ガスが必須であるという問題があった。
このような状況の下、取扱いに注意を要する塩素ガスを用いることなく、チオカーバメート化合物から芳香族スルホニルクロリドを製造する方法が求められていた。
本発明者は上記課題を克服し得る製造方法について鋭意検討した結果、取扱いに注意を要する塩素ガスを用いることなく、チオカーバメート化合物から芳香族スルホニルクロリドを製造する方法を見出し、さらに、得られた芳香族スルホニルクロリドから芳香族スルホン酸化合物を製造する方法を見出し、本発明に至った。
すなわち本発明は、下記の〔１〕〜〔１３〕に記載される発明を提供するものである。
〔１〕式（１）
Figure 2010111661
 （式中、Ａｒは下記群Ｐ１から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい芳香族基を表わし、
Ｒ1およびＲ２は、それぞれ独立に炭素数１〜１２のアルキル基を表わすか、または
Ｒ1とＲ２とが一緒になって炭素数３〜７のポリメチレン基を表す。
ｎは１〜４の整数を表わす。
群Ｐ１：炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数３〜１２のシクロアルキルオキシ基、炭素数６〜１８のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数７〜１８のアラルキル基、炭素数７〜１８のアリールアルコキシ基、炭素数２〜１２のアシル基、炭素数２〜１２のアシルオキシ基、ヒドロキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲノ基、二トロ基、シアノ基。）
で示されるチオカーバメート化合物とＮ−クロロスクシンイミドとを、第１級または第２級アルコールの存在下に反応させる工程を含む式（２）
Figure 2010111661
 （式中、Ａｒおよびｎは、それぞれ上記で定義された通り。）
で示される芳香族スルホニルクロリドの製造方法。
〔２〕第１級または第２級アルコールがメタノール、エタノールおよび２−プロパノールからなる群から選ばれる〔１〕に記載される製造方法。
〔３〕反応させる工程で得られた反応混合物をカラムクロマトグラフィーにより精製する工程を含む〔１〕または〔２〕に記載される製造方法。
〔４〕式（１）および式（２）における芳香族基が１，１’−ビナフチル基である〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載される製造方法。
〔５〕式（１）で示されるチオカーバメート化合物が式（３）
Figure 2010111661
 （式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に炭素数１〜１２のアルキル基を表わすか、またはＲ１とＲ２とが一緒になって炭素数３〜７のポリメチレン基を表し、
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立に水素原子または下記群Ｐ１から選ばれる置換基を表す。
群Ｐ１：炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数３〜１２のシクロアルキルオキシ基、炭素数６〜１８のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数７〜１８のアラルキル基、炭素数７〜１８のアリールアルコキシ基、炭素数２〜１２のアシル基、炭素数２〜１２のアシルオキシ基、ヒドロキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲノ基、二トロ基、シアノ基。）
で示される化合物であり、式（２）で示される芳香族スルホニルクロリドが式（４）
Figure 2010111661
 （式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ上記で定義した通り。）
で示される化合物である〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載される製造方法。
〔６〕式（３）および式（４）におけるＲ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８がいずれも水素原子である〔５〕に記載される製造方法。
〔７〕式（３）
Figure 2010111661
 （式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に炭素数１〜１２のアルキル基を表わすか、またはＲ１とＲ２とが一緒になって炭素数３〜７のポリメチレン基を表し、
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立に水素原子または下記群Ｐ１から選ばれる置換基を表す。
群Ｐ１：炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数３〜１２のシクロアルキルオキシ基、炭素数６〜１８のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数７〜１８のアラルキル基、炭素数７〜１８のアリールアルコキシ基、炭素数２〜１２のアシル基、炭素数２〜１２のアシルオキシ基、ヒドロキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲノ基、二トロ基、シアノ基。）
で示されるチオカーバメート化合物とＮ−クロロスクシンイミドとを、第１級または第２級アルコールの存在下に反応させ式（４）
Figure 2010111661
 （式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ上記で定義した通り。）
で示される芳香族スルホニルクロリドを得る工程と、
得られた芳香族スルホニルクロリドを加水分解する工程と
を含む式（５）
Figure 2010111661
 （式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ上記で定義した通り。）
で示される芳香族ジスルホン酸の製造方法。
〔８〕加水分解により得られる反応混合物を、下記工程（ａ）〜（ｃ）に付す〔７〕に記載される製造方法。
（ａ）反応混合物へ揮発性溶媒に溶解した塩化水素を加えて中和し、濃縮する工程。
（ｂ）目的物を溶解溶媒に溶解し不溶の無機塩を濾過により除去する工程。
（ｃ）上記（ｂ）の工程における濾液を濃縮する工程。
〔９〕式（３）
Figure 2010111661
 （式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に炭素数１〜１２のアルキル基を表わすか、またはＲ１とＲ２とが一緒になって炭素数３〜７のポリメチレン基を表し、
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立に水素原子または下記群Ｐ１から選ばれる置換基を表す。
群Ｐ１：炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数３〜１２のシクロアルキルオキシ基、炭素数６〜１８のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数７〜１８のアラルキル基、炭素数７〜１８のアリールアルコキシ基、炭素数２〜１２のアシル基、炭素数２〜１２のアシルオキシ基、ヒドロキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲノ基、二トロ基、シアノ基。）
で示されるチオカーバメート化合物とＮ−クロロスクシンイミドとを、第１級または第２級アルコールの存在下に反応させ式（４）
Figure 2010111661
 （式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ上記で定義した通り。）
で示される芳香族スルホニルクロリドを得る工程と、
得られた芳香族スルホニルクロリドと式（６）
Figure 2010111661
 （式中、Ｒ９は水素原子、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数２〜１２のアルケニル基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数２〜１２のアルキニル基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数６〜１８のアリール基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数７〜１８のアラルキル基または炭素数２〜１２のアシル基を表し、
ｍは１以上の整数を表す。
群Ｐ２：ヒドロキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニル基、アミノ基、炭素数１〜１２のアルキルアミノ基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、メルカプト基、炭素数１〜１２のアルキルチオ基、炭素数２〜１２のアシルチオ基。）
で示されるアミノ化合物とを反応させる工程を含む式（７）
Figure 2010111661
 （式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９およびｍは、それぞれ上記で定義した通り。）
で示されるジスルホニルイミド化合物の製造方法。
〔１０〕式（７）
Figure 2010111661
 （式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立に水素原子または下記群Ｐ１から選ばれる置換基を表し、
Ｒ９は水素原子、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数２〜１２のアルケニル基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数２〜１２のアルキニル基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数６〜１８のアリール基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数７〜１８のアラルキル基または炭素数２〜１２のアシル基を表し、
ｍは１以上の整数を表す。
群Ｐ１：炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数３〜１２のシクロアルキルオキシ基、炭素数６〜１８のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数７〜１８のアラルキル基、炭素数７〜１８のアリールアルコキシ基、炭素数２〜１２のアシル基、炭素数２〜１２のアシルオキシ基、ヒドロキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲノ基、二トロ基、シアノ基。
群Ｐ２：ヒドロキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニル基、アミノ基、炭素数１〜１２のアルキルアミノ基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、メルカプト基、炭素数１〜１２のアルキルチオ基、炭素数２〜１２のアシルチオ基。）
で示されるジスルホニルイミド化合物。
〔１１〕〔９〕で得られるジスルホニルイミド化合物を加水分解する工程を含む式（８）
Figure 2010111661
 （式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立に水素原子または下記群Ｐ１から選ばれる置換基を表し、
Ｒ１０は水素原子、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数２〜１２のアルケニル基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数２〜１２のアルキニル基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数６〜１８のアリール基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数７〜１８のアラルキル基または炭素数２〜１２のアシル基を表し、
ｍは１以上の整数を表す。
群Ｐ１：炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数３〜１２のシクロアルキルオキシ基、炭素数６〜１８のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数７〜１８のアラルキル基、炭素数７〜１８のアリールアルコキシ基、炭素数２〜１２のアシル基、炭素数２〜１２のアシルオキシ基、ヒドロキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲノ基、二トロ基、シアノ基。
群Ｐ２：ヒドロキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニル基、アミノ基、炭素数１〜１２のアルキルアミノ基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、メルカプト基、炭素数１〜１２のアルキルチオ基、炭素数２〜１２のアシルチオ基。）
で示される芳香族モノスルホン酸の製造方法。
〔１２〕加水分解により得られる反応混合物を、下記工程（ａ）〜（ｃ）に付す〔１１〕に記載される製造方法。
（ａ）反応混合物へ揮発性溶媒に溶解した塩化水素を加えて中和し、濃縮する工程。
（ｂ）目的物を溶解溶媒に溶解し不溶の無機塩を濾過により除去する工程。
（ｃ）上記（ｂ）の工程における濾液を濃縮する工程。
〔１３〕式（８）
Figure 2010111661
 （式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立に水素原子または下記群Ｐ１から選ばれる置換基を表し、
Ｒ１０は水素原子、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数２〜１２のアルケニル基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数２〜１２のアルキニル基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数６〜１８のアリール基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数７〜１８のアラルキル基または炭素数２〜１２のアシル基を表し、
ｍは１以上の整数を表す。
群Ｐ１：炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数３〜１２のシクロアルキルオキシ基、炭素数６〜１８のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数７〜１８のアラルキル基、炭素数７〜１８のアリールアルコキシ基、炭素数２〜１２のアシル基、炭素数２〜１２のアシルオキシ基、ヒドロキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲノ基、二トロ基、シアノ基。
群Ｐ２：ヒドロキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニル基、アミノ基、炭素数１〜１２のアルキルアミノ基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、メルカプト基、炭素数１〜１２のアルキルチオ基、炭素数２〜１２のアシルチオ基。）
で示される芳香族モノスルホン酸。
本発明によれば、取扱いに注意を要する塩素ガスを用いることなく、チオカーバメート化合物から芳香族スルホニルクロリドを製造することができる。また、得られた芳香族スルホニルクロリドから芳香族スルホン酸化合物を製造することができる。
式（１）において、Ａｒで表される芳香族基としては、例えばフェニル基、ナフチル基、１，１’−ビナフチル基が挙げられ、該芳香族基は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数３〜１２のシクロアルキルオキシ基、炭素数６〜１８のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数７〜１８のアラルキル基、炭素数７〜１８のアリールアルコキシ基、炭素数２〜１２のアシル基、炭素数２〜１２のアシルオキシ基、ヒドロキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲノ基、二トロ基およびシアノ基からなる群Ｐ１から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい。
群Ｐ１において、炭素数１〜１２のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基が挙げられ、
炭素数３〜１２のシクロアルキル基としては、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基が挙げられ、
炭素数１〜１２のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基が挙げられ、
炭素数３〜１２のシクロアルキルオキシ基としては、例えばシクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、シクロオクチルオキシ基が挙げられ、
炭素数６〜１８のアリール基としては、例えばフェニル基、２−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、ナフチル基が挙げられ、
炭素数６〜１８のアリールオキシ基としては、例えばフェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基、ナフチルオキシ基が挙げられ、
炭素数７〜１８のアラルキル基としては、例えばベンジル基、ジフェニルメチル基が挙げられ、
炭素数７〜１８のアリールアルコキシ基としては、例えばベンジルオキシ基、２−フェニルエトキシ基、１−フェニルエトキシ基が挙げられ、
炭素数２〜１２のアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基が挙げられ、
炭素数２〜１２のアシルオキシ基としては、例えばアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブタノイルオキシ基、ペンタノイルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、ヘプタノイルオキシ基、オクタノイルオキシ基が挙げられ、
炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基としては、例えばメトキシカボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基が挙げられ、
ハロゲノ基としては、例えばフルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基が挙げられる。
Ａｒとしては、例えばフェニル基、２−メチルフェニル基、２−フェニルフェニル基、４−メチルフェニル基、２−クロロフェニル基、３−メチルフェニル基、２−イソプロピルフェニル基、２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、３−ニトロフェニル基、３−シアノフェニル基、２−アセチルオキシフェニル基、２−アセチルフェニル基、２−ベンジルフェニル基、１，１’−ビフェニル基、４，４’−ジクロロ−１，１’−ビフェニル基、４，４’−ジブロモ−１，１’−ビフェニル基、１，１‘−ビナフチル基、４，４’−ジクロロ−１，１‘−ビナフチル基、２，２’−ジクロロ−１，１‘−ビナフチル基、６，６’−ジクロロ−１，１‘−ビナフチル基、４，４’−ジブロモ−１，１‘−ビナフチル基、３，３’−ジブロモ−１，１‘−ビナフチル基、３，３’−ジブロモ−１，１‘−ビナフチル基が挙げられ、好ましくはフェニル基または１，１’−ビナフチル基である。
Ｒ１およびＲ２で表される炭素数１〜１２のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基が挙げられ、
Ｒ１とＲ２とが一緒になって表す炭素数３〜７のポリメチレン基としては、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基が挙げられる。
Ｒ１およびＲ２は、好ましくはそれぞれ独立に炭素数１〜４のアルキル基であり、より好ましくはともにメチル基である。
式（１）で示されるチオカーバメート化合物（以下、化合物（１）と略記する。）としては、例えばＳ−フェニル−Ｎ，Ｎ−ジメチルチオカーバメート、Ｓ−フェニル−Ｎ，Ｎ−ジエチルチオカーバメート、Ｓ−（２−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルチオカーバメート、Ｓ−（２−フェニルフェニル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルチオカーバメート、Ｓ−（４−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルチオカーバメート、Ｓ−（２−クロロフェニル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルチオカーバメート、Ｓ−（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルチオカーバメート、Ｓ−（２−イソプロピルフェニル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルチオカーバメート、Ｓ−（２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルチオカーバメート、Ｓ−（２，６−ジメチルフェニル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルチオカーバメート、Ｓ−（２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルチオカーバメート、Ｓ−（１−ナフチル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルチオカーバメート、Ｓ−（３−ニトロフェニル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルチオカーバメート、Ｓ−（３−シアノフェニル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルチオカーバメート、Ｓ−（２−アセチルオキシフェニル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルチオカーバメート、Ｓ−（２−アセチルフェニル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルチオカーバメート、Ｓ−（２−ベンジルフェニル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルチオカーバメート、１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジイル Ｓ，Ｓ−ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルチオカーバメート）、１，５−ナフタレンジイル Ｓ，Ｓ−ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルチオカーバメート）、１，２，４−ナフタレントリイル Ｓ，Ｓ，Ｓ−トリス（Ｎ，Ｎ−ジメチルチオカーバメート）、１，１’−ビナフタレン−２，２’，３，３’−テトライル Ｓ，Ｓ，Ｓ，Ｓ−テトラキス（Ｎ，Ｎ−ジメチルチオカーバメート）が挙げられる。
かかる化合物（１）は、例えば特開昭６０−８４２６０号公報、またはＳｙｎｌｅｔｔ １９９６，１０５４に記載される方法に準じて製造することができる。例えば、式（９）
Figure 2010111661
 （式中、Ａｒおよびｎは、それぞれ上記で定義した通り。）
で示される化合物（以下、化合物（９）と略記する。）と式（１０）
Figure 2010111661
 （式中、Ｒ1およびＲ２はそれぞれ上記で定義した通り。Ｘはクロロ基等のハロゲノ基を表わす。）
で示される化合物とを反応させて得られる式（１１）
Figure 2010111661
 （式中、Ａｒ、Ｒ1およびｎは、それぞれ上記と定義した通り。）
で示される化合物を熱転移せしめることにより製造することができる。
Ｎ−クロロスクシンイミドは、市販されているものを用いることもできるし、任意の公知の方法により製造して用いることもできる。Ｎ−クロロスクシンイミドの使用量は、式（１）におけるｎが１の場合、化合物（１）に対して１〜５モル倍が好ましく、収率を向上させる点において２〜４モル倍がより好ましく、２．５〜３．５モル倍がさらに好ましい。式（１）におけるｎが２〜４の場合、Ｎ−クロロスクシンイミドの使用量は、ｎが１の場合のＮ−クロロスクシンイミドの使用量にｎを乗じた量を用いることが好ましい。
化合物（１）とＮ−クロロスクシンイミドとの反応は、第１級または第２級アルコールの存在下で行われる。第１級アルコールとしては、例えばメタノール、エタノール、１−プロパノール、１−ブタノール、１−ペンタノール、１−ヘキサノール、１−ヘプタノール、１−オクタノール等の炭素数１〜１２の第１級アルコールが挙げられ、第２級アルコールとしては、例えば２−プロパノール、２−ブタノール、２−ペンタノール、２−ヘキサノール等の炭素数３〜１２の第２級アルコールが挙げられる。好ましくは、炭素数１〜４の第１級アルコールまたは炭素数３〜４の第２級アルコールであり、より好ましくはメタノール、エタノールまたは２−プロパノールであり、さらに好ましくはメタノールである。第１級または第２級アルコールの使用量は、式（１）におけるｎが１の場合、化合物（１）に対して１モル倍以上であることが好ましく、その上限は制限されない。例えば溶媒を兼ねて大過剰量用いることもできる。式（１）におけるｎが２〜４の場合、第１級または第２級アルコールの使用量は、ｎが１の場合の第１級または第２級アルコールの使用量にｎを乗じた量を用いることができる。
化合物（１）とＮ−クロロスクシンイミドとの反応は、化合物（１）とＮ−クロロハロスクシンイミドと第１級または第２級アルコールとを、混合することにより実施される。該混合を溶媒の存在下に行うこともできる。溶媒としては、テトラヒドロフラン等のエーテル溶媒、トルエン等の芳香族炭化水素溶媒、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素溶媒、アセトニトリル等のニトリル溶媒、酢酸エチル等のエステル溶媒等の単独または混合溶媒が挙げられ、好ましくはエーテル溶媒であり、より好ましくはテトラヒドロフランである。かかる溶媒の使用量は特に制限されない。
反応温度は、好ましくは−５０〜１００℃であり、より好ましくは０〜５０℃である。反応時間は、用いる化合物（１）の種類や反応温度により異なるが、収率を向上させる点点において４８時間以下であることが好ましく、３０分〜３０時間であることがより好ましい。反応の進行度合いは、薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等の分析手段により確認することができる。
反応終了後、例えば反応混合物を濃縮処理することにより、式（２）で示される芳香族スルホニルクロリド（以下、化合物（２）と記す。）を取り出すことができる。また、反応混合物をそのままもしくは濃縮処理した後、水および必要に応じて水に不溶の有機溶媒を加えて抽出処理し、得られる有機層を濃縮処理することにより、化合物（２）を取り出すこともできる。さらに、反応混合物をそのままもしくは濃縮処理した後、カラムクロマトグラフィーで精製することにより副生する高極性不純物を除去し、より純度の高い化合物（２）を取り出すこともできる。反応混合物をそのままもしくは濃縮処理した後、カラムクロマトグラフィーで精製する方法が純度の高い化合物（２）を得る点において好ましい。カラムクロマトグラフィーに用いる固定相としては、順相シリカゲル、シリカ、セライト、アルミナ、ハイドロキシアパタイト、セルロース、アガロース、ガラス、活性白土、水酸化カルシウム、珪藻土、ガラス、フロリジル、モレキュラーシーブス、アニオン系交換樹脂、ベントナイト、セラミック、シラス、白土、カチオン系イオン交換樹脂、活性炭が挙げられる。また、逆相系の直鎖アルキル基、芳香族官能基、親水性官能基または極性内包型官能基がシルカゲルに化学結合したものを用いることもできる。固定相は、２種以上を混合してもよい。固定相としては、得られる反応混合物に含まれる高極性不純物を除去する点で順相シリカゲルが好ましく、順相シリカゲルとしては市販のものを用いることができる。固定相の使用量は特には制限されない。カラムクロマトグラフィーの溶出溶媒としては、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、アニソール、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、工業用キシレン等の芳香族溶媒が好ましい。かかる芳香族溶媒は、溶出強度を調節するために、テトラヒドロフラン等のエーテル溶媒、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素溶媒、アセトニトリル等のニトリル溶媒、酢酸エチル等のエステル溶媒等の溶媒と混合することもできるが、溶媒を回収する場合には、芳香族溶媒単独であることが好ましい。芳香族溶媒としては、低毒性および低沸点である点でトルエンが好ましい。取り出した化合物（２）は、例えば再結晶、カラムクロマトグラフィー、蒸留等の精製手段により精製することもできる。
かくして得られる化合物（２）としては、例えばベンゼンスルホン酸クロリド、２−メチルベンゼンスルホン酸クロリド、２−フェニルベンゼンスルホン酸クロリド、４−メチルベンゼンスルホン酸クロリド、２−クロロベンゼンスルホン酸クロリド、２−イソプロピルベンゼンスルホン酸クロリド、２−ｔｅｒｔ−ブチルベンゼンスルホン酸クロリド、２，６−ジメチルベンゼンスルホン酸クロリド、２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルベンゼンスルホン酸クロリド、ナフタレン−１−スルホン酸クロリド、ナフタレン−２−スルホン酸クロリド、３−ニトロベンゼンスルホン酸クロリド、３−シアノベンゼンスルホン酸クロリド、２−アセチルオキシベンゼンスルホン酸クロリド、２−アセチルベンゼンスルホン酸クロリド、２−ベンジルベンゼンスルホン酸クロリド、１，１’−ビフェニル−２，２’−ジスルホン酸ジクロリド、４，４’−ジクロロ−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジスルホン酸ジクロリド、４，４’−ジブロモ−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジスルホン酸ジクロリド、１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸ジクロリド、１，５−ナフタレンジスルホン酸ジクロリド、４，４’−ジクロロ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸ジクロリド、４，４’−ジブロモ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸ジクロリド、３，３’−ジクロロ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸ジクロリド、３，３’−ジブロモ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸ジクロリド、６，６’−ジクロロ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸ジクロリド、６，６’−ジブロモ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸ジクロリド、１，２，４−ナフタレントリスルホン酸トリクロリド、１，１’−ビナフタレン−２，２’，３，３’−テトラスルホン酸テトラクロリドが挙げられる。
化合物（１）として式（３）で示される化合物（以下、化合物（３）と略記する。）を用いることにより、化合物（２）として式（４）で示される化合物（以下、化合物（４）と略記する。）を得ることができる。
式（３）において、Ｒ１およびＲ２で表される炭素数１〜１２のアルキル基、並びにＲ１とＲ２とが一緒になって表す炭素数３〜７のポリメチレン基としては、式（１）におけるＲ１およびＲ２で表される炭素数１〜１２のアルキル基、並びにＲ１とＲ２とが一緒になって表す炭素数３〜７のポリメチレン基と同様の基が挙げられる。Ｒ１およびＲ２は、好ましくはそれぞれ独立に炭素数１〜４のアルキル基であり、より好ましくはともにメチル基である。
式（３）および式（４）において、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立に水素原子または前記群Ｐ１から選ばれる置換基を表す。Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、いずれも水素原子であることが好ましい。
化合物（３）および化合物（４）は軸不斉を有する化合物であり、光学活性な化合物（３）および光学活性な化合物（４）は、不斉触媒の製造中間体として用いられる点で好ましい。光学活性な化合物（３）は、上述した化合物（１）の製造方法において、化合物（９）として、例えば市販の光学活性な１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジオールを用いることにより製造できる。光学活性な化合物（４）は、光学活性な化合物（３）とＮ−クロロスクシンイミドとを、第１級または第２級アルコールの存在下に反応させることにより製造できる。
化合物（４）を加水分解することにより、化合物（４）は式（５）で示される芳香族ジスルホン酸（以下、化合物（５）と略記する。）に導かれる。加水分解には、好ましくはアルカリが用いられ、かかるアルカリとしては、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等のアルカリ金属アルコキシドが挙げられる。アルカリの使用量は、化合物（４）に対して好ましくは２モル倍以上であり、より好ましくは１０モル倍〜３０モル倍である。
加水分解は、溶媒の存在下で行われることが好ましい。溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール溶媒が好ましい。アルコール溶媒は、アセトニトリル等のニトリル溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドラフラン、１，４−ジオキサン、アニソール等のエーテル溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素溶媒、水等と混合して用いることもできる。
加水分解の反応温度は、−１０℃から使用する溶媒の沸点の範囲であることが好ましく、０℃〜４０℃がより好ましい。反応時間は、溶媒およびアルカリの種類や反応温度により異なるが、好ましくは３分〜１５時間である。反応の進行度合いは、薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等の分析手段により確認することができる。反応終了後、例えば抽出、再結晶、各種クロマトグラフィーなどの後処理に付すことにより、化合物（５）を得ることができる。
化合物（５）は、下記工程（ａ）〜（ｃ）を行うことにより単離することもできる。かかる単離方法により、簡便な操作で高い純度の化合物（５）を取り出すことができる。
（ａ）加水分解により得られる反応混合物へ揮発性溶媒に溶解した塩化水素を加えて中和し、濃縮する工程。
（ｂ）目的物を溶解溶媒に溶解し不溶の無機塩を濾過により除去する工程。
（ｃ）上記（ｂ）の工程における濾液を濃縮する工程。
上記工程（ａ）〜（ｃ）を行うことにより化合物（５）を単離する場合には、化合物（４）を得る際に、化合物（４）を含む反応混合物をそのままもしくは濃縮処理した後、カラムクロマトグラフィーで精製しておくことが好ましい。
上記揮発性溶媒に溶解した塩化水素としては、塩化水素−ジオキサン溶液、塩化水素−酢酸エチル溶液、塩化水素−メタノール溶液等が挙げられ、それらは市販のものが好ましく用いられる。
目的物を溶解するために用いられる溶解溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール溶媒、アセトニトリル等のニトリル溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドラフラン、１，４−ジオキサン、アニソール等のエーテル溶媒、クロロホルム、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素溶媒が挙げられ、好ましくはテトラヒドロフラン、アセトニトリルが挙げられる。２種以上の溶媒を混合して使用してもよい。上記工程（ｂ）で除去する無機塩を溶解しない溶解溶媒が好ましい。
かくして得られる化合物（５）としては、具体的には、例えば、１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸、３，３’−ジメチル１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸、３，３’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸、３，３’−ジフェニル−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸、３，３’−ジ−(２−メチルフェニル)−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸、３，３’−ジブロモ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸、３，３’−ジフルオロ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸、３，３’−ジメトキシ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸、３，３’−ジフェニルメトキシ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸、３，３’−ジフェノキシ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸、３，３’−ジ−（２−メチルフェノキシ）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸、
６，６’−ジメチル−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸、６，６’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸、６，６’−ジフェニル−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸、６，６’−ジ−（２−メチルフェニル）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸、６，６’−ジブロモ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸、６，６’−ジフルオロ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸、６，６’−ジメトキシ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸、６，６’−ジフェニルメトキシ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸、６，６’−ジフェノキシ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸、６，６’−ジ−(２−メチルフェノキシ)−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸、
３，３’，６，６’−テトラメチル−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸、３，３’，６，６’−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸、３，３’，６，６’−テトラフェニル−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸、３，３’，６，６’−テトラ−(２−メチルフェニル)−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸、３，３’，６，６’−テトラブロモ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸、３，３’，６，６’−テトラフルオロ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸、３，３’，６，６’−テトラメトキシ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸、３，３’，６，６’−テトラフェニルメトキシ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸、３，３’，６，６’−テトラフェノキシ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸、３，３’，６，６’−テトラ−（２−メチルフェノキシ）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸が挙げられる。
次いで、式（７）で示されるジスルホニルイミド化合物（以下、化合物（７）と略記する。）およびその製造方法について説明する。化合物（４）は、式（６）で示されるアミノ化合物（以下、化合物（６）と略記する。）と反応させることにより、化合物（７）に導かれる。
式（６）において、Ｒ９で表される炭素数１〜１２のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基が挙げられ、
炭素数３〜１２のシクロアルキル基としては、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基が挙げられ、
炭素数２〜１２のアルケニル基としては、例えばエテニル基、アリル基が挙げられ、
炭素数２〜１２のアルキニル基としては、例えばエチニル基、プロパルギル基が挙げられ、
炭素数６〜１８のアリール基としては、例えばフェニル基、２−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、ナフチル基が挙げられ、
炭素数７〜１８のアラルキル基としては、例えばベンジル基、ジフェニルメチル基が挙げられ、
これらはヒドロキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニル基、アミノ基、炭素数１〜１２のアルキルアミノ基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、メルカプト基、炭素数１〜１２のアルキルチオ基および炭素数２〜１２のアシルチオ基からなる群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい。
Ｒ９で表される炭素数２〜１２のアシル基としては、例えばアセチル基、プロピオニル基、ピバロイル基が挙げられる。
群Ｐ２において、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基としては、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基が挙げられ、
炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニル基としては、例えばフェノキシカルボニル基、２−メチルフェノキシカルボニル基、４−メチルフェノキシカルボニル基が挙げられ、
炭素数１〜１２のアルキルアミノ基としては、例えばメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基が挙げられ、
炭素数２〜１２のアシルアミノ基としては、例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ピバロイルアミノ基が挙げられ、
炭素数１〜１２のアルキルチオ基としては、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基が挙げられ、
炭素数２〜１２のアシルチオ基としては、例えばアセチルチオ基、プロピオニルチオ基、ピバロイルチオ基が挙げられる。
Ｒ９としては、群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基が好ましく、群Ｐ２から選ばれる１の置換基を有していてもよい炭素数１〜４のアルキル基がより好ましい。
ｍは１以上の整数であり、好ましくは１〜１０であり、より好ましくは１〜５である。
化合物（６）としては、例えば２−ヒドロキシエチルアミン、２−メトキシエチルアミン、２−エトキシエチルアミン、２−プロポキシエチルアミン、２−ｎ−ブトキシエチルアミン、２−ｔｅｒｔ−ブトキシエチルアミン、２−（フェニルメトキシ）エチルアミン、２−ビニロキシエチルアミン、２−（１−メチルビニロキシ）エチルアミン、２−（１−プロペニロキシ）エチルアミン、２−アリルオキシエチルアミン、２−エチニルオキシエチルアミン、２−フェニルオキシエチルアミン、２−（２−ヒドロキシカルボニルエトキシ）エチルアミン、２−（ヒドロキシカルボニルメトキシ）エチルアミン、２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチルアミン、２−（２−メトキシエトキシ）エチルアミン、２−（２−エトキシエトキシ）エチルアミン、２−（２−プロポキシエトキシ）エチルアミン、２−（２−ｎ−ブトキシエトキシ）エチルアミン、２−（２−ｔｅｒｔ−ブトキシエトキシ）エチルアミン、２−（２−（フェニルメトキシ）エトキシ）エチルアミン、２−（２−ビニロキシエトキシ）エチルアミン、２−（２−（１−メチルビニロキシ）エトキシ）エチルアミン、２−（２−（１−プロペニロキシ）エトキシ）エチルアミン、２−（２−アリルオキシエトキシ）エチルアミン、２−（２−エチニルオキシエトキシ）エチルアミン、２−（２−フェニルオキシエトキシ）エチルアミン、２−（２−（２−ヒドロキシカルボニルエトキシ）エトキシ）エチルアミン、２−（２−（２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルエトキシ）エトキシ）エチルアミン、２−（２−（ヒドロキシカルボニルメトキシ）エトキシ）エチルアミン、２−（２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメトキシ）エトキシ）エチルアミン、
２−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エトキシ）エチルアミン、２−（２−（２−メトキシエトキシ）エトキシ）エチルアミン、２−（２−（２−エトキシエトキシ）エトキシ）エチルアミン、２−（２−（２−プロポキシエトキシ）エトキシ）エチルアミン、２−（２−（２−ブチロキシエトキシ）エトキシ）エチルアミン、２−（２−（２−ｔｅｒｔ−ブトキシエトキシ)エトキシ)エチルアミン、２−（２−（２−（フェニルメトキシ）エトキシ）エトキシ）エチルアミン、２−（２−（２−ビニロキシエトキシ）エトキシ）エチルアミン、２−（２−（２−（１−メチルビニロキシ）エトキシ）エトキシ）エチルアミン、２−（２−（２−（１−プロペニロキシ）エトキシ）エトキシ）エチルアミン、２−（２−（２−アリルオキシエトキシ）エトキシ）エチルアミン、２−（２−（２−エチニルオキシエトキシ）エトキシ）エチルアミン、２−（２−（２−フェニルオキシエトキシ）エトキシ）エチルアミン、２−（２−（２−（２−ヒドロキシカルボニルエトキシ）エトキシ）エトキシ）エチルアミン、２−（２−（２−（２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルエトキシ）エトキシ）エトキシ）エチルアミン、２−（２−（２−（２−（２−ヒドロキシカルボニルエトキシ）エトキシ）エトキシ）エトキシ）エチルアミン、２−（２−（２−（２−（２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルエトキシ）エトキシ）エトキシ）エトキシ）エチルアミン、２−（２−（２−（ヒドロキシカルボニルメトキシ）エトキシ）エトキシ）エチルアミン、２−（２−（２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメトキシ）エトキシ）エトキシ）エチルアミン、２−（２−（２−（２−（ヒドロキシカルボニルメトキシ）エトキシ）エトキシ）エトキシ）エチルアミン、２−（２−（２−（２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメトキシ）エトキシ）エトキシ）エトキシ）エチルアミンが挙げられる。
化合物（６）は、市販のものを用いることもできるし、任意の公知の方法により製造したものを用いることもできる。化合物（６）の使用量は、化合物（４）に対して、好ましくは１モル倍以上であり、より好ましくは１〜２０モル倍である。
化合物（４）と化合物（６）との反応は、溶媒の存在下で行われることが好ましい。かかる溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、アセトニトリル、ヘキサメチルホスホリックトリアミド等の非プロトン性極性溶媒、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドラフラン、１，４−ジオキサン、アニソール等のエーテル溶媒、クロロホルム、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素溶媒が挙げられ、２種以上の溶媒を混合して用いることもできる。溶媒としては、好ましくはエーテル溶媒が用いられる。溶媒の使用量は特に制限されない。
なお、化合物（４）と化合物（６）との反応に塩基を存在させることにより、反応を促進することができ、反応の進行に伴って生成する塩化水素を捕捉することもできる。用いられる塩基としては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルイミダゾール、ピリジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１，３−ジアミノプロパン等の有機塩基、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の無機塩基が挙げられる。塩基は、化合物（４）に対して、好ましくは２モル倍以上であり、より好ましくは２〜５モル倍である。
反応温度は−１０℃から使用する溶媒の沸点の範囲であるが、好ましくは０℃〜４０℃である。反応時間は、溶媒の種類や反応温度により異なるが、好ましくは３分から１５時間である。反応の進行度合いは、薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等の分析手段により確認することができる。反応終了後に得られる混合物を、例えば抽出、再結晶、各種クロマトグラフィーなどの後処理に付すことにより、化合物（７）を取り出すことができる。取り出した化合物（７）は、例えば再結晶、カラムクロマトグラフィー等の精製手段により精製することもできる。
かくして得られる化合物（７）としては、例えばＮ−（２−ヒドロキシエチル）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−３，３’−ジメチル−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−３，３’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−３，３’−ジフェニル−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−３，３’−ジ−（２−メチルフェニル）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−３，３’−ジブロモ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−３，３’−ジフルオロ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−３，３’−ジメトキシ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−３，３’−ジフェニルメトキシ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−３，３’−ジフェノキシ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−３，３’−ジ−(２−メチルフェノキシ)−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、
Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジメチル−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジ−（２−メチルフェニル）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジブロモ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジフルオロ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジメトキシ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジフェニルメトキシ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジフェノキシ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジ−（２−メチルフェノキシ）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、
Ｎ−（２−（２−メトキシエトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−メトキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジメチル−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−メトキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−メトキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジフェニル−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−メトキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジ−（２−メチルフェニル）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−メトキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジブロモ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−メトキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジフルオロ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−メトキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジメトキシ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−メトキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジフェニルメトキシ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−メトキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジフェノキシ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−メトキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジ−（２−メチルフェノキシ）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、
Ｎ−（２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジメチル−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジフェニル−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジ−（２−メチルフェニル）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジブロモ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジフルオロ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジメトキシ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジフェニルメトキシ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジフェノキシ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジ−（２−メチルフェノキシ）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、
Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−６，６’−ジメチル−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−６，６’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−６，６’−ジフェニル−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−６，６’−ジ−（２−メチルフェニル）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−６，６’−ジブロモ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−６，６’−ジフルオロ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−６，６’−ジメトキシ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−６，６’−ジフェニルメトキシ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−６，６’−ジフェノキシ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−６，６’−ジ-(2-メチルフェノキシ)−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、
Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’，６，６’−テトラメチル−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’，６，６’−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’，６，６’−テトラフェニル−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’，６，６’−テトラ−（２−メチルフェニル）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’，６，６’−テトラブロモ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’，６，６’−テトラフルオロ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’，６，６’−テトラメトキシ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’，６，６’−テトラフェニルメトキシ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’，６，６’−テトラフェノキシ−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’，６，６’−テトラ−（２−メチルフェノキシ）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、
Ｎ−（２−（２−ヒドロキシカルボニルエトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルエトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−（２−ヒドロキシカルボニルエトキシ）エトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−（２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルエトキシ）エトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−（２−（２−ヒドロキシカルボニルエトキシ）エトキシ）エトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−（２−（２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルエトキシ）エトキシ）エトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−（２−（２−（２−ヒドロキシカルボニルエトキシ）エトキシ）エトキシ）エトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−（２−（２−（２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルエトキシ）エトキシ）エトキシ）エトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、
Ｎ−（２−（ヒドロキシカルボニルメトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−（ヒドロキシカルボニルメトキシ）エトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメトキシ）エトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−（２−（ヒドロキシカルボニルメトキシ）エトキシ）エトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−（２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメトキシ）エトキシ）エトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−（２−（２−（ヒドロキシカルボニルメトキシ）エトキシ）エトキシ）エトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド、Ｎ−（２−（２−（２−（２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメトキシ）エトキシ）エトキシ）エトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミドが挙げられる。
次いで、式（８）で示される芳香族モノスルホン酸（以下、化合物（８）と略記する。）およびその製造方法について説明する。化合物（７）をアルカリと接触させることにより、化合物（７）に含まれるジスルホニルイミドが加水分解され、化合物（７）が化合物（８）に導かれる。
加水分解に用いられるアルカリとしては、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等のアルカリ金属アルコキシドが挙げられる。アルカリの使用量は、化合物（７）に対して２モル倍以上であることが好ましく、１０モル倍〜３０モル倍であることがより好ましい。
加水分解は溶媒の存在下で行うことが好ましい。溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール溶媒が好ましい。アルコール溶媒は、アセトニトリル等のニトリル溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドラフラン、１，４−ジオキサン、アニソール等のエーテル溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素溶媒と混合して使用してもよい。
反応温度は、−１０℃から使用する溶媒の沸点の範囲であるが、０℃〜４０℃が好ましい。反応時間は、アルカリおよび溶媒の種類や反応温度により異なるが、好ましくは３分〜１５時間である。応の進行度合いは、薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等の分析手段により確認することができる。反応終了後に得られる混合物を、例えば抽出、再結晶、各種クロマトグラフィーなどの後処理に付すことにより化合物（８）を取り出すことができる。
化合物（８）は、下記工程（ａ）〜（ｃ）を行うことにより単離することもできる。かかる単離方法により、簡便な操作で高い純度の化合物（８）を取り出すことができる。
（ａ）加水分解により得られる反応混合物へ揮発性溶媒に溶解した塩化水素を加え中和し、濃縮する工程。
（ｂ）目的物を溶解溶媒に溶解し不溶の無機塩を濾過により除去する工程。
（ｃ）上記（ｂ）の工程における濾液を濃縮する工程。
上記工程（ａ）〜（ｃ）を行うことにより化合物（８）を単離する場合には、化合物（４）を得る際に、化合物（４）を含む反応混合物をそのままもしくは濃縮処理した後、カラムクロマトグラフィーで精製しておくことが好ましい。
上記揮発性溶媒に溶解した塩化水素としては、塩化水素−ジオキサン溶液、塩化水素−酢酸エチル溶液、塩化水素−メタノール溶液等が挙げられ、それらは市販のものが好ましく用いられる。
目的物を溶解するために用いられる溶解溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール溶媒、アセトニトリル等のニトリル溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドラフラン、１，４−ジオキサン、アニソール等のエーテル溶媒、クロロホルム、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素溶媒が挙げられ、好ましくはテトラヒドロフラン、アセトニトリルが挙げられる。２種以上の溶媒を混合して使用してもよい。上記工程（ｂ）で除去する無機塩が溶解しない溶解溶媒が好ましい。
かくして得られる化合物（８）としては、例えばＮ−（２−ヒドロキシエチル）−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−３，３’−ジメチル−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−３，３’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−３，３’−ジフェニル−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−３，３’−ジ−（２−メチルフェニル）−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−３，３’−ジブロモ−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−３，３’−ジフルオロ−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−３，３’−ジメトキシ−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−３，３’−ジフェニルメトキシ−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−３，３’−ジフェノキシ−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−３，３’−ジ−（２−メチルフェノキシ）−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、
Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジメチル−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジフェニル−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジ−（２−メチルフェニル）−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジブロモ−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジフルオロ−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジメトキシ−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジフェニルメトキシ−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジフェノキシ−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジ−（２−メチルフェノキシ）−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、
Ｎ−（２−（２−メトキシエトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−メトキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジメチル−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−メトキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−メトキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジフェニル−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−メトキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジ−（２−メチルフェニル）−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−メトキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジブロモ−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−メトキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジフルオロ−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−メトキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジメトキシ−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−メトキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジフェニルメトキシ−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−メトキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジフェノキシ−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−メトキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジ−（２−メチルフェノキシ）−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、
Ｎ−（２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジメチル−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジフェニル−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジ−（２−メチルフェニル）−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジブロモ−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジフルオロ−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジメトキシ−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジフェニルメトキシ−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジフェノキシ−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル）−３，３’−ジ−（２−メチルフェノキシ）−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、
Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−６，６’−ジメチル−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−６，６’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−６，６’−ジフェニル−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−６，６’−ジ２（２−メチルフェニル）−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−６，６’−ジブロモ−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−６，６’−ジフルオロ−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−６，６’−ジメトキシ−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−６，６’−ジフェニルメトキシ−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−６，６’−ジフェノキシ−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−６，６’−ジ−（２−メチルフェノキシ）−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、
Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’，６，６’−テトラメチル−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’，６，６’−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’，６，６’−テトラフェニル−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’，６，６’−テトラ−（２−メチルフェニル）−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’，６，６’−テトラブロモ−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’，６，６’−テトラフルオロ−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’，６，６’−テトラメトキシ−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’，６，６’−テトラフェニルメトキシ−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’，６，６’−テトラフェノキシ−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−３，３’，６，６’−テトラ−（２−メチルフェノキシ)−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、
Ｎ−（２−（２−ヒドロキシカルボニルエトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルエトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−（２−ヒドロキシカルボニルエトキシ）エトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−（２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルエトキシ）エトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−（２−（２−ヒドロキシカルボニルエトキシ）エトキシ）エトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−（２−（２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルエトキシ）エトキシ）エトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−（２−（２−（２−ヒドロキシカルボニルエトキシ）エトキシ）エトキシ）エトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−（２−（２−（２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルエトキシ）エトキシ）エトキシ）エトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、
Ｎ−（２−（ヒドロキシカルボニルメトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−（ヒドロキシカルボニルメトキシ）エトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメトキシ）エトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−（２−（ヒドロキシカルボニルメトキシ）エトキシ）エトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−（２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメトキシ）エトキシ）エトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−（２−（２−（ヒドロキシカルボニルメトキシ）エトキシ）エトキシ）エトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸、Ｎ−（２−（２−（２−（２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメトキシ）エトキシ）エトキシ）エトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸が挙げられる。
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。
［実施例１］
Ｓ−フェニルジメチルチオカーバメート０．３０ｇ（１．６６ｍｍｏｌ）をメタノール／テトラヒドロフラン（重量比１／１）５ｍＬの混合液に溶解させ、そこへ、Ｎ−クロロスクシンイミド０．６６ｇ（４．９８ｍｍｏｌ）を室温で加えた。混合物を室温で１時間攪拌して反応させた後、減圧条件下で濃縮処理した。得られた濃縮残渣をカラムクロマトグラフィー（固定相：順相シリカゲル１０ｇ、溶出液：トルエン）で精製処理し、ベンゼンスルホン酸クロリド０．２５ｇを得た。収率８６％。
カラムクロマトグラフィー精製前後の品質を、下記に示す薄層クロマトグラフィー分析条件において確認した。精製処理前の濃縮残渣と比較して、精製処理後のベンゼンスルホン酸クロリドは高極性不純物が除去され、高純度であった。また、カラムクロマトグラフィー精製前後において、薄層クロマトグラフィー上、ベンゼンスルホン酸クロリドよりも移動度の高い、即ち低極性不純物は認められなかった。この結果から、高極性不純物を除去できる、例えば固定相として順相シリカゲルを充填したショートカラムを用いて精製することで、高純度のベンゼンスルホン酸クロリドが得られることが理解される。
＜薄層クロマトグラフィー分析条件＞
固定相：順相シリカゲル
展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１
検出波長：紫外線２５４ｎｍ
Ｒｆ値：ベンゼンスルホン酸クロリド ０．６３
Ｓ−フェニルジメチルチオカーバメート ０．２１
＜マススペクトル＞
ＥＩ−ＭＳ (ｍ／ｚ，％) １７６（Ｍ＋，２８），１４１（６），７７（１００），５１（２３）［Ｍ＋ ｃａｌｃｕｌａｔｅｄ ｆｏｒ Ｃ６Ｈ５ＣｌＯ２Ｓ：１７５．９７］．
［実施例２〜４］
表１に示す溶媒を用いて２４時間反応させた以外は、実施例１と同様に実施した。
得られたカラムクロマトグラフィー精製前の濃縮残渣を実施例１と同様の薄層クロマトグラフィー分析条件で分析した結果、実施例２〜４のいずれにおいてもベンゼンスルホン酸クロリドが生成していることが確認できた。薄層クロマトグラフィー上、ベンゼンスルホン酸クロリドよりも移動度の高い、即ち低極性不純物の存在は認められなかった。また薄層クロマトグラフィー上、ベンゼンスルホン酸クロリドの純度は、高い方から実施例２、実施例３、実施例４であった。
Figure 2010111661
［実施例５］
Ｓｙｎｌｅｔｔ １９９６，１０５４に記載された方法に従って合成した（Ｓ）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジチオールビス（ジメチルカーバメート）（０．８５ｇ、０．００１８ｍｏｌ）をメタノールとテトラヒドロフランとの混合溶媒（重量比１／１、１０ｍＬ）に溶解し、そこへＮ−クロロスクシンイミド（１．４７ｇ、０．０１１ｍｏｌ）を室温で加えた。混合物を室温で３０分間攪拌した後、下記に示す薄層クロマトグラフィー分析条件で原料である（Ｓ）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジチオールビス（ジメチルカーバメート）が消失していることを確認した。得られた反応混合物に飽和重曹水（１０ｍＬ）を加えて５分間攪拌した後、酢酸エチル（５０ｍＬ）を加えて抽出処理を行い、分液して得られた有機層を飽和重曹水（２０ｍＬ）で３回洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮して得られた濃縮残渣をカラムクロマトグラフィー（固定相：順相シリカゲル３０ｇ、溶出液：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１→４／１→２／１→１／１）で精製し、さらに目的物を含有する画分の濃縮物についてトルエンを溶出液としてカラムクロマトグラフィー（固定相：順相シリカゲル）で精製し、（Ｓ）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸ジクロリド０．６０ｇを得た。収率７２％。
＜薄層クロマトグラフィー分析条件＞
固定相：順相シリカゲル
展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１
検出波長：紫外線２５４ｎｍ
Ｒｆ値：（Ｓ）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸ジクロリド
０．５５
（Ｓ）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジチオールビス
（ジメチルカーバメート） ０．１２
＜マススペクトル＞
ＦＤ−ＭＳ (ｍ／ｚ) ４５０［Ｍ＋ ｃａｌｃｕｌａｔｅｄ ｆｏｒ Ｃ２０Ｈ１２Ｃｌ２Ｏ４Ｓ２：４４９．９６］．
［実施例６］
（Ｓ）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジチオールビス（ジメチルカーバメート）（５．０ｇ、０．０１０９ｍｏｌ）をメタノールとテトラヒドロフランとの混合溶媒（重量比１／１、１００ｍＬ）に溶解し、そこへＮ−クロロスクシンイミド（８．０７ｇ、０．０６５１ｍｏｌ）を室温で加えた。混合物を室温で３０分間攪拌した後、下記に示す薄層クロマトグラフィー分析条件で原料である（Ｓ）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジチオールビス（ジメチルカーバメート）が消失していることを確認した。得られた反応混合物に飽和重曹水（５０ｍＬ）を加えて５分間攪拌した後、酢酸エチル（２００ｍＬ）を加えて抽出処理を行い、分液して得られた有機層を飽和重曹水（２００ｍＬ）で３回洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮して得られた濃縮残渣をカラムクロマトグラフィー（固定相：順相シリカゲル１００ｇ、溶出液：トルエン）で精製し、減圧濃縮して得られた固体をヘキサンで洗浄することにより、（Ｓ）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸ジクロリドの白色固体２．５０ｇを得た。収率５１％。
［実施例７］
実施例５で得られた（Ｓ）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸ジクロリド（０．１０ｇ、０．２２ｍｍｏｌ）をメタノール１０ｍＬに溶解し、そこへ水酸化ナトリウム（０．２０ｇ、５ｍｍｏｌ）を室温で加え、得られた混合物を室温で５時間攪拌した。反応混合物に塩化水素−ジオキサン溶液（４ｍｏｌ／Ｌ、１．５ｍＬ、６ｍｍｏｌ）を加えた後、混合物を減圧濃縮することにより溶媒と過剰の塩化水素を除去した。濃縮残渣に３０ｍＬのテトラヒドロフランを加え、不溶の塩化ナトリウムを濾過により除去した後、濾液を濃縮することにより（Ｓ）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸９５ｍｇを得た。収率＞９９％。
＜薄層クロマトグラフィー分析＞
固定相：順相シリカゲル
展開溶媒：クロロホルム／メタノール＝３／１
検出波長：紫外線２５４ｎｍ
Ｒｆ値：０．０９
＜マススペクトル＞
ＥＳＩ（−）−ＭＳ (ｍ／ｚ) ４１３［[Ｍ−１]− ｃａｌｃｕｌａｔｅｄ ｆｏｒ Ｃ２０Ｈ１３Ｏ６Ｓ２：４１３．０２］．
［実施例８］
Figure 2010111661
 実施例５で得られた（Ｓ）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸ジクロリド（０．１０ｇ、０．２２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１０ｍＬに溶解し、そこへ２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチルアミン）（０．１ｍＬ、５ｍｍｏｌ）を室温で加え、得られた混合物を室温で１時間攪拌した。反応混合物を濃縮した後、濃縮残渣をショートカラム（固定相：順相シリカゲル、溶出液：メタノール）で精製し、目的物を有する画分の濃縮残渣をさらにショートカラム（固定相：順相シリカゲル、溶出液：メタノールヘキサン／酢酸エチル＝１／２）に供し、（Ｓ）−Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド０．１１ｇ得た。収率９８％。
＜薄層クロマトグラフィー分析＞
固定相：順相シリカゲル
展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１
検出波長：紫外線２５４ｎｍ
Ｒｆ値：０．１１
＜ＮＭＲスペクトル＞
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０ＭＨｚ） ２．３８（ｂｒ ｓ，１Ｈ），３．４９−３．８２（ｍ，６Ｈ），４．０１−４．１９（ｍ，２Ｈ），７．３７（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，２Ｈ），７．４２（ｄｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，６．６Ｈｚ，２Ｈ），７．６８（ｄｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，６．６Ｈｚ，２Ｈ），８．０７（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈ，２Ｈ），８．２０（ｄ，Ｈ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），８．２４（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ）．
［実施例９］
Figure 2010111661
 実施例８で得られた（Ｓ）−Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド（０．１１ｇ、０．２２ｍｍｏｌ）をメタノール１０ｍＬに溶解し、そこへ水酸化ナトリウム（０．２０ｇ、５ｍｍｏｌ）を室温で加え、得られた混合物を室温で５時間攪拌した。反応混合物に塩化水素−ジオキサン溶液（４ｍｏｌ／Ｌ、１．５ｍＬ、６ｍｍｏｌ）を加えた後、混合物を減圧濃縮して溶媒と過剰の塩化水素を除去した。濃縮残渣に３０ｍＬのテトラヒドロフランを加え、不溶の塩化ナトリウムを濾過により除去した後、濾液を濃縮することにより（Ｓ）−Ｎ−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸０．１１ｇを得た。収率＞９９％。
＜薄層クロマトグラフィー分析＞
固定相：順相シリカゲル
展開溶媒：クロロホルム／メタノール＝３／１
検出波長：紫外線２５４ｎｍ
Ｒｆ値：０．５０
＜マススペクトル＞
ＥＳＩ（＋）−ＭＳ (ｍ／ｚ) ５０２［ＭＨ＋ ｃａｌｃｕｌａｔｅｄ ｆｏｒ Ｃ２４Ｈ２４ＮＯ７Ｓ２：５０２．１０］．
［実施例１０］
Figure 2010111661
 実施例６で得られた（Ｓ）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホン酸ジクロリド（０．３０ｇ、０．６７ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン５ｍＬに溶解し、そこへ２−（２−（２−（２−（２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルエトキシ）エトキシ）エトキシ）エトキシ）エチルアミン（０．３２ｇ、１ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１，３−ジアミノプロパン（０．１３ｇ、１ｍｏｌ）を室温で加え、得られた混合物を室温で１時間攪拌した。反応混合物に１ｍｏｌ／Ｌ硫酸水素カリウム水溶液と酢酸エチルとを加えて混合し、分液して得られた有機層を濃縮した。濃縮残渣をカラムクロマトグラフィー（固定相：順相シリカゲル３０ｇ、溶出液：ヘキサン／酢酸エチル＝２：１→１：１）で精製し、（Ｓ）−Ｎ−（２−（２−（２−（２−（２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルエトキシ）エトキシ）エトキシ）エトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド０．３０ｇ得た。収率６５％。
＜薄層クロマトグラフィー分析＞
固定相：順相シリカゲル
展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝２／１
検出波長：紫外線２５４ｎｍ
Ｒｆ値：０．２７
＜ＮＭＲスペクトル＞
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０ＭＨｚ） １．４４（ｓ，９Ｈ），２．５０（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ），３．６１−４．１２（ｍ，１８Ｈ），７．３３−７．４５（ｍ，４Ｈ），７．６８（ｄｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，６．６Ｈｚ，２Ｈ），８．０６（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈ，２Ｈ），８．１９（ｄ，Ｈ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），８．２３（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ）．
［実施例１１］
Figure 2010111661
 実施例１０で得られた（Ｓ）−Ｎ−（２−（２−（２−（２−（２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルエトキシ）エトキシ）エトキシ）エトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２，２’−ジスルホニルイミド（０．３０ｇ、０．４３ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン５ｍＬに溶解し、そこへナトリウムメトキシド（０．３５ｇ、６．４３ｍｍｏｌ）を室温で加え、得られた混合物を室温で１時間攪拌した。反応混合物に塩化水素−ジオキサン溶液（４ｍｏｌ／Ｌ、２．４ｍＬ、９．６５ｍｍｏｌ）を加えた後、混合物を減圧濃縮して溶媒と過剰の塩化水素を除去した。濃縮残渣に３０ｍＬのテトラヒドロフランを加え、不溶の塩化ナトリウムを濾過により除去した後、濾液を濃縮することにより（Ｓ）−Ｎ−（２−（２−（２−（２−（２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルエトキシ）エトキシ）エトキシ）エトキシ）エチル）−１，１’−ビナフタレン−２−アミノスルホニル−２’−スルホン酸０．２０ｇを得た。収率７１％。
＜薄層クロマトグラフィー分析＞
固定相：順相シリカゲル
展開溶媒：クロロホルム／メタノール＝５／１
検出波長：紫外線２５４ｎｍ
Ｒｆ値：０．４２
＜マススペクトル＞
ＥＳＩ（−）−ＭＳ (ｍ／ｚ) ６６０［[Ｍ−Ｈ]− ｃａｌｃｕｌａｔｅｄ ｆｏｒ Ｃ３１Ｈ３４ＮＯ１１Ｓ２：６６０．１６］．
芳香族スルホニルクロリドは、例えば除草活性を有するスルホニルウレア化合物の合成原料（例えば特許文献１参照。）として有用である。本発明はかかる化合物を製造する方法として利用可能である。また、芳香族スルホニルクロリドから製造される芳香族スルホン酸化合物は、例えば不斉反応の触媒（例えばＪｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔｈｅ Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ ２００８，１３０，１６８５８−１６８６０参照。）として利用可能であり、また、ポリ（オキシエチレン）により修飾することにより、例えば電解質膜等への適用も期待されている（例えばＬａｎｇｍｕｉｒ ２０００，１６，９６６２−９６６５参照。）。

Claims (13)

  1. 式（１）
    Figure 2010111661
     （式中、Ａｒは下記群Ｐ１から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい芳香族基を表わし、
    Ｒ1およびＲ２は、それぞれ独立に炭素数１〜１２のアルキル基を表わすか、または
    Ｒ1とＲ２とが一緒になって炭素数３〜７のポリメチレン基を表す。
    ｎは１〜４の整数を表わす。
    群Ｐ１：炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数３〜１２のシクロアルキルオキシ基、炭素数６〜１８のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数７〜１８のアラルキル基、炭素数７〜１８のアリールアルコキシ基、炭素数２〜１２のアシル基、炭素数２〜１２のアシルオキシ基、ヒドロキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲノ基、二トロ基、シアノ基。）
    で示されるチオカーバメート化合物とＮ−クロロスクシンイミドとを、第１級または第２級アルコールの存在下に反応させる工程を含む式（２）
    Figure 2010111661
     （式中、Ａｒおよびｎは、それぞれ上記で定義された通り。）
    で示される芳香族スルホニルクロリドの製造方法。
  2. 第１級または第２級アルコールがメタノール、エタノールおよび２−プロパノールからなる群から選ばれる請求項１に記載される製造方法。
  3. 反応させる工程で得られた反応混合物をカラムクロマトグラフィーにより精製する工程を含む請求項１または２に記載される製造方法。
  4. 式（１）および式（２）における芳香族基が１，１’−ビナフチル基である請求項１〜３のいずれかに記載される製造方法。
  5. 式（１）で示されるチオカーバメート化合物が式（３）
    Figure 2010111661
     （式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に炭素数１〜１２のアルキル基を表わすか、またはＲ１とＲ２とが一緒になって炭素数３〜７のポリメチレン基を表し、
    Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立に水素原子または下記群Ｐ１から選ばれる置換基を表す。
    群Ｐ１：炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数３〜１２のシクロアルキルオキシ基、炭素数６〜１８のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数７〜１８のアラルキル基、炭素数７〜１８のアリールアルコキシ基、炭素数２〜１２のアシル基、炭素数２〜１２のアシルオキシ基、ヒドロキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲノ基、二トロ基、シアノ基。）
    で示される化合物であり、式（２）で示される芳香族スルホニルクロリドが式（４）
    Figure 2010111661
     （式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ上記で定義した通り。）
    で示される化合物である請求項１〜３のいずれかに記載される製造方法。
  6. 式（３）および式（４）におけるＲ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８がいずれも水素原子である請求項５に記載される製造方法。
  7. 式（３）
    Figure 2010111661
     （式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に炭素数１〜１２のアルキル基を表わすか、またはＲ１とＲ２とが一緒になって炭素数３〜７のポリメチレン基を表し、
    Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立に水素原子または下記群Ｐ１から選ばれる置換基を表す。
    群Ｐ１：炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数３〜１２のシクロアルキルオキシ基、炭素数６〜１８のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数７〜１８のアラルキル基、炭素数７〜１８のアリールアルコキシ基、炭素数２〜１２のアシル基、炭素数２〜１２のアシルオキシ基、ヒドロキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲノ基、二トロ基、シアノ基。）
    で示されるチオカーバメート化合物とＮ−クロロスクシンイミドとを、第１級または第２級アルコールの存在下に反応させ式（４）
    Figure 2010111661
     （式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ上記で定義した通り。）
    で示される芳香族スルホニルクロリドを得る工程と、
    得られた芳香族スルホニルクロリドを加水分解する工程と
    を含む式（５）
    Figure 2010111661
     （式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ上記で定義した通り。）
    で示される芳香族ジスルホン酸の製造方法。
  8. 加水分解により得られる反応混合物を、下記工程（ａ）〜（ｃ）に付す請求項７に記載される製造方法。
    （ａ）反応混合物へ揮発性溶媒に溶解した塩化水素を加えて中和し、濃縮する工程。
    （ｂ）目的物を溶解溶媒に溶解し不溶の無機塩を濾過により除去する工程。
    （ｃ）上記（ｂ）の工程における濾液を濃縮する工程。
  9. 式（３）
    Figure 2010111661
     （式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に炭素数１〜１２のアルキル基を表わすか、またはＲ１とＲ２とが一緒になって炭素数３〜７のポリメチレン基を表し、
    Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立に水素原子または下記群Ｐ１から選ばれる置換基を表す。
    群Ｐ１：炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数３〜１２のシクロアルキルオキシ基、炭素数６〜１８のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数７〜１８のアラルキル基、炭素数７〜１８のアリールアルコキシ基、炭素数２〜１２のアシル基、炭素数２〜１２のアシルオキシ基、ヒドロキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲノ基、二トロ基、シアノ基。）
    で示されるチオカーバメート化合物とＮ−クロロスクシンイミドとを、第１級または第２級アルコールの存在下に反応させ式（４）
    Figure 2010111661
     （式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ上記で定義した通り。）
    で示される芳香族スルホニルクロリドを得る工程と、
    得られた芳香族スルホニルクロリドと式（６）
    Figure 2010111661
     （式中、Ｒ９は水素原子、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数２〜１２のアルケニル基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数２〜１２のアルキニル基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数６〜１８のアリール基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数７〜１８のアラルキル基または炭素数２〜１２のアシル基を表し、
    ｍは１以上の整数を表す。
    群Ｐ２：ヒドロキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニル基、アミノ基、炭素数１〜１２のアルキルアミノ基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、メルカプト基、炭素数１〜１２のアルキルチオ基、炭素数２〜１２のアシルチオ基。）
    で示されるアミノ化合物とを反応させる工程を含む式（７）
    Figure 2010111661
     （式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９およびｍは、それぞれ上記で定義した通り。）
    で示されるジスルホニルイミド化合物の製造方法。
  10. 式（７）
    Figure 2010111661
     （式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立に水素原子または下記群Ｐ１から選ばれる置換基を表し、
    Ｒ９は水素原子、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数２〜１２のアルケニル基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数２〜１２のアルキニル基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数６〜１８のアリール基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数７〜１８のアラルキル基または炭素数２〜１２のアシル基を表し、
    ｍは１以上の整数を表す。
    群Ｐ１：炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数３〜１２のシクロアルキルオキシ基、炭素数６〜１８のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数７〜１８のアラルキル基、炭素数７〜１８のアリールアルコキシ基、炭素数２〜１２のアシル基、炭素数２〜１２のアシルオキシ基、ヒドロキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲノ基、二トロ基、シアノ基。
    群Ｐ２：ヒドロキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニル基、アミノ基、炭素数１〜１２のアルキルアミノ基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、メルカプト基、炭素数１〜１２のアルキルチオ基、炭素数２〜１２のアシルチオ基。）
    で示されるジスルホニルイミド化合物。
  11. 請求項９で得られるジスルホニルイミド化合物を加水分解する工程を含む式（８）
    Figure 2010111661
     （式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立に水素原子または下記群Ｐ１から選ばれる置換基を表し、
    Ｒ１０は水素原子、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数２〜１２のアルケニル基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数２〜１２のアルキニル基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数６〜１８のアリール基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数７〜１８のアラルキル基または炭素数２〜１２のアシル基を表し、
    ｍは１以上の整数を表す。
    群Ｐ１：炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数３〜１２のシクロアルキルオキシ基、炭素数６〜１８のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数７〜１８のアラルキル基、炭素数７〜１８のアリールアルコキシ基、炭素数２〜１２のアシル基、炭素数２〜１２のアシルオキシ基、ヒドロキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲノ基、二トロ基、シアノ基。
    群Ｐ２：ヒドロキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニル基、アミノ基、炭素数１〜１２のアルキルアミノ基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、メルカプト基、炭素数１〜１２のアルキルチオ基、炭素数２〜１２のアシルチオ基。）
    で示される芳香族モノスルホン酸の製造方法。
  12. 加水分解により得られる反応混合物を、下記工程（ａ）〜（ｃ）に付す請求項１１に記載される製造方法。
    （ａ）反応混合物へ揮発性溶媒に溶解した塩化水素を加えて中和し、濃縮する工程。
    （ｂ）目的物を溶解溶媒に溶解し不溶の無機塩を濾過により除去する工程。
    （ｃ）上記（ｂ）の工程における濾液を濃縮する工程。
  13. 式（８）
    Figure 2010111661
     （式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立に水素原子または下記群Ｐ１から選ばれる置換基を表し、
    Ｒ１０は水素原子、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数２〜１２のアルケニル基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数２〜１２のアルキニル基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数６〜１８のアリール基、下記群Ｐ２から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい炭素数７〜１８のアラルキル基または炭素数２〜１２のアシル基を表し、
    ｍは１以上の整数を表す。
    群Ｐ１：炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数３〜１２のシクロアルキルオキシ基、炭素数６〜１８のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数７〜１８のアラルキル基、炭素数７〜１８のアリールアルコキシ基、炭素数２〜１２のアシル基、炭素数２〜１２のアシルオキシ基、ヒドロキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲノ基、二トロ基、シアノ基。
    群Ｐ２：ヒドロキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニル基、アミノ基、炭素数１〜１２のアルキルアミノ基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、メルカプト基、炭素数１〜１２のアルキルチオ基、炭素数２〜１２のアシルチオ基。）
    で示される芳香族モノスルホン酸。
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