JP2010181801A - Coating composition, antireflection film using the same, and method for forming antireflection film - Google Patents
Coating composition, antireflection film using the same, and method for forming antireflection film Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010181801A JP2010181801A JP2009027457A JP2009027457A JP2010181801A JP 2010181801 A JP2010181801 A JP 2010181801A JP 2009027457 A JP2009027457 A JP 2009027457A JP 2009027457 A JP2009027457 A JP 2009027457A JP 2010181801 A JP2010181801 A JP 2010181801A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating composition
- viscosity
- layer
- refractive index
- antireflection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
【課題】干渉ムラが少ないといった外観品質と優れた反射防止特性とを両立する反射防止フィルム、及びそれに用いるコーティング組成物を提供する。
【解決手段】本発明のコーティング組成物は、無機粒子と樹脂とを含有するコーティング組成物であり、回転式粘度計を用いてせん断速度を増加させる粘度測定により測定した、前記コーティング組成物の25℃における、せん断速度1×10sec-1での粘度をA、せん断速度1×103sec-1での粘度をBとした場合、粘度Aが1〜20mPa・sであり、チキソトロピー係数A/Bが1.001〜1.400であることを特徴とする。また、本発明の反射防止フィルムは、上記のコーティング組成物を用いて形成される反射防止層を含む。
【選択図】図1The present invention provides an antireflection film that achieves both an appearance quality such as less interference unevenness and an excellent antireflection property, and a coating composition used therefor.
The coating composition of the present invention is a coating composition containing inorganic particles and a resin, and measured by viscosity measurement using a rotary viscometer to increase the shear rate. at ° C., the viscosity at a shear rate of 1 × 10 sec -1 a, if the viscosity at a shear rate of 1 × 10 3 sec -1 and is B, the viscosity a is 1 to 20 mPa · s, thixotropic coefficient a / B Is 1.001 to 1.400. Moreover, the antireflection film of the present invention includes an antireflection layer formed by using the above coating composition.
[Selection] Figure 1
Description
本発明は、コーティング組成物、それを用いた反射防止フィルムに及び反射防止フィルムの製造方法に関し、さらに詳しくは反射防止フィルムの反射防止層の改良に関する。 The present invention relates to a coating composition, an antireflection film using the coating composition, and a method for producing the antireflection film, and more particularly, to an improvement in the antireflection layer of the antireflection film.
液晶ディスプレイやプラズマディスプレイパネル(PDP)などに代表される高精細かつ大画面ディスプレイの開発が急速に進んでいる。また、ディスプレイの表示面は、その視認性を高めるために、画面への蛍光灯などの外光の映り込みを防止する反射防止機能を有する反射防止層をその表面に配置する必要がある。反射防止層の形成方法としては、ディスプレイの表示面の表面に無機金属を蒸着又はスパッタリングする、いわゆるドライコーティング法、及び低屈折率材料などを溶液や分散液などの液状で基材に塗布し、乾燥させ、必要に応じて硬化させるウェットコーティング法などが知られている。近年のディスプレイの大型化に伴い、ロール・ツー・ロール(Roll−to−Roll)で安価にかつ大型化にも対応しやすいウェットコーティング法が主流になりつつある。ウェットコーティング法で形成される反射防止層を含む反射防止フィルムとして、例えば透明基材フィルム上に、基材自体の硬度を高めるためのハードコート層、及びその上に単層又は複層の屈折率の異なる層をそれぞれ約100nm前後の膜厚で形成した反射防止フィルムなどが提案されている(特許文献1及び2)。
Development of high-definition and large-screen displays represented by liquid crystal displays and plasma display panels (PDPs) is rapidly progressing. Further, in order to improve the visibility of the display surface of the display, it is necessary to dispose an antireflection layer having an antireflection function for preventing reflection of external light such as a fluorescent lamp on the screen. As a method for forming the antireflection layer, an inorganic metal is vapor-deposited or sputtered on the surface of the display surface of the display, so-called dry coating method, and a low refractive index material or the like is applied to the substrate in a liquid form such as a solution or dispersion, A wet coating method for drying and curing as necessary is known. With the recent increase in size of displays, a roll-to-roll (Roll-to-Roll) wet coating method that is inexpensive and easily accommodates an increase in size is becoming mainstream. As an antireflection film including an antireflection layer formed by a wet coating method, for example, on a transparent substrate film, a hard coat layer for increasing the hardness of the substrate itself, and a single layer or a multilayer refractive index thereon An antireflection film or the like in which layers having different thicknesses of about 100 nm are formed has been proposed (
また、市場の低コスト要求に対応するため、反射防止層をハードコート層と低屈折率層との2層構造として、製造工程を削減することも提案されている(特許文献3及び4)。 In order to meet the low cost requirements of the market, it has also been proposed to reduce the manufacturing process by using an antireflection layer having a two-layer structure of a hard coat layer and a low refractive index layer (Patent Documents 3 and 4).
さらに、反射防止層をハードコート層と低屈折率層との2層構造として帯電防止機能及び反射防止機能を両立させた光学フィルムとして、基材の少なくとも一方の主面に、ハードコート層と低屈折率層とを順次積層し、ハードコート層が導電性酸化物である針状のアンチモンドープ酸化錫、その他の金属酸化物及び電離放射線による硬化物を含む光学用フィルムが提案されている(特許文献5)。 Furthermore, the anti-reflection layer is a two-layer structure of a hard coat layer and a low refractive index layer. An optical film is proposed in which a refractive index layer is sequentially laminated and a hard coat layer is a conductive oxide and needle-like antimony-doped tin oxide, other metal oxides, and a cured product by ionizing radiation (Patent) Reference 5).
しかしながら、従来の反射防止フィルムの製造においてウェットコーティング法を用いた場合、塗膜の厚みムラが生じやすく、大型化や低反射化への需要の高まりに対して、外観品質上、より干渉ムラが目立ちやすく面質が悪くなるといった実用上の問題を抱えている。すなわち、反射防止フィルムの大型化では、大型サイズになるほどウェットコーティング法に適した塗布機が実在せず、塗膜の厚みムラが発生する。また、反射防止フィルムの低反射化では、各層の屈折率差を大きくしたり、薄膜での多層構造を採用したりする設計から、塗膜に厚みムラがあれば、より顕著に視認される傾向がある。特に、特許文献1〜5のように金属酸化物粒子を溶媒中に分散したコーティング組成物では、コーター部内や基材とコーター部の間隙などでせん断速度の変化が頻繁になされた場合、コーティング組成物の粘性抵抗が不均一に変化することや、溶媒の揮発により急激に増粘することで液のレベリングが追いつかず厚みムラが悪化するといった原因が考えられる。一方、特許文献2では、塗布ムラを改良するため、第一層ではレベリング剤を使用して塗布ムラを減少させて塗布した後、第二層を積層塗布する場合、第一層のレベリング剤を熱処理などで除去する工程を含む提案がなされているが、第一層への濡れ性を確保することで、第二層における塗布ムラの低減には寄与するものの、工程が複雑であり経済的に不利になるといった点で不十分であった。
However, when the wet coating method is used in the production of a conventional antireflection film, uneven thickness of the coating film is likely to occur, and in response to increasing demand for larger size and lower reflection, there is more interference unevenness in terms of appearance quality. It has practical problems such as being noticeable and poor quality. That is, with the increase in size of the antireflection film, as the size increases, there is no actual applicator suitable for the wet coating method, resulting in uneven thickness of the coating film. In addition, the low reflection of the anti-reflection film tends to be more noticeable if the coating film has uneven thickness from the design that increases the refractive index difference of each layer or adopts a multilayer structure with a thin film. There is. In particular, in the coating composition in which metal oxide particles are dispersed in a solvent as in
本発明は、上記従来の問題を解決するため、特定の粘度特性を有するコーティング組成物、それを用いて形成した干渉ムラが少ないといった外観品質と優れた反射防止特性とを両立する反射防止フィルム及び反射防止フィルムの製造方法を提供する。 In order to solve the above-described conventional problems, the present invention provides a coating composition having a specific viscosity characteristic, an antireflection film having both an appearance quality such as less interference unevenness formed using the same and an excellent antireflection characteristic, and A method for producing an antireflection film is provided.
本発明のコーティング組成物は、無機粒子と、樹脂とを含有するコーティング組成物であり、回転式粘度計を用いてせん断速度を増加させる粘度測定により測定した、前記コーティング組成物の25℃におけるせん断速度1×10sec-1での粘度をA、せん断速度1×103sec-1での粘度をBとした場合、粘度Aが1〜20mPa・sであり、チキソトロピー係数A/Bが1.001〜1.400であることを特徴とする。
The coating composition of the present invention is a coating composition containing inorganic particles and a resin, and the shearing of the coating composition at 25 ° C. measured by viscosity measurement using a rotary viscometer to increase the shear rate. If the viscosity at
本発明の反射防止フィルムは、上記の本発明のコーティング組成物を用いて形成される反射防止層を含む。 The antireflection film of the present invention includes an antireflection layer formed using the above-described coating composition of the present invention.
本発明の反射防止フィルムの製造方法は、基材と前記基材の一方の主面側に形成された反射防止層を含む反射防止フィルムの製造方法であって、前記反射防止層は、コーティング組成物を前記基材の一方の主面側に塗布することにより形成され、前記コーティング組成物は無機粒子と樹脂とを含有し、回転式粘度計を用いてせん断速度を増加させる粘度測定により測定した、前記コーティング組成物の25℃におけるせん断速度1×10sec-1での粘度をA、せん断速度1×103sec-1での粘度をBとした場合、粘度Aが1〜20mPa・sであり、チキソトロピー係数A/Bが1.001〜1.400であることを特徴とする。 The method for producing an antireflection film of the present invention is a method for producing an antireflection film comprising a base material and an antireflection layer formed on one main surface side of the base material, wherein the antireflection layer has a coating composition. The coating composition contains inorganic particles and a resin, and is measured by viscosity measurement using a rotary viscometer to increase the shear rate. the viscosity at a shear rate of 1 × 10 sec -1 at 25 ° C. of the coating composition a, when the viscosity at a shear rate of 1 × 10 3 sec -1 and is B, the viscosity a is 1 to 20 mPa · s The thixotropy coefficient A / B is 1.001 to 1.400.
本発明のコーティング組成物を用いれば、干渉ムラが少ないといった外観品質と、優れた反射防止特性が両立する反射防止フィルムを提供することができる。また、本発明のコーティング組成物を用いれば、好ましくは、複雑な工程、例えば熱処理などで特定の物質を除去する工程を必要とせず、干渉ムラが少ないといった外観品質と、優れた反射防止特性が両立する反射防止フィルムが得られる。 By using the coating composition of the present invention, it is possible to provide an antireflection film having both appearance quality such as less interference unevenness and excellent antireflection characteristics. In addition, when the coating composition of the present invention is used, it is preferable that a complicated process, for example, a process of removing a specific substance by heat treatment or the like is not required, and appearance quality such as less interference unevenness and excellent antireflection characteristics are obtained. A compatible antireflection film is obtained.
本発明者らは、ウェットコーティング法における塗布ムラは、回転式粘度計を用いてせん断速度を増加させる粘度測定により測定した、コーティング組成物の25℃におけるせん断速度1×10sec-1での粘度をA(以下、粘度Aとも記す。)、せん断速度1×103sec-1での粘度をB(以下、粘度Bとも記す。)とした場合、チキソトロピー係数A/Bに依存することを見出した。 The inventors of the present invention determined the coating unevenness in the wet coating method by measuring the viscosity at a shear rate of 1 × 10 sec −1 at 25 ° C. of the coating composition measured by viscosity measurement using a rotary viscometer to increase the shear rate. When the viscosity at A (hereinafter also referred to as viscosity A) and the viscosity at a shear rate of 1 × 10 3 sec −1 is B (hereinafter also referred to as viscosity B), it was found to depend on the thixotropic coefficient A / B. .
すなわち、本発明のコーティング組成物において、チキソトロピー係数A/Bが1.001〜1.400の範囲であることにより、コーター部内や基材とコーター部の間隙などでせん断速度の変化が頻繁になされた場合でも、コーティング組成物は粘性抵抗が均一になり、速やかに基材に転移することで塗布ムラを抑制できると推測される。また、チキソトロピー係数A/Bが1.001〜1.100の範囲であることは、塗布の高速化に対しても有効である。 That is, in the coating composition of the present invention, when the thixotropy coefficient A / B is in the range of 1.001 to 1.400, the shear rate is frequently changed in the coater part or in the gap between the substrate and the coater part. Even in this case, the coating composition has uniform viscosity resistance, and it is estimated that uneven coating can be suppressed by quickly transferring to the substrate. Moreover, that the thixotropy coefficient A / B is in the range of 1.001 to 1.100 is also effective for increasing the coating speed.
本発明における粘度は、25℃において、回転式粘度計、例えば、レオストレス600(英弘精機社製)やPhysicaMCR301型(アントンパール社製)などを用い、せん断速度を増加させながら、例えば1×10sec-1から1×103sec-1まで増加させながら行う粘度測定により測定した粘度をいう。 The viscosity in the present invention is, for example, 1 × 10 sec at 25 ° C. while increasing the shear rate using a rotary viscometer such as Rheostress 600 (manufactured by Eihiro Seiki Co., Ltd.) or Physica MCR301 type (manufactured by Anton Paar). The viscosity measured by measuring the viscosity while increasing from −1 to 1 × 10 3 sec −1 .
本発明において、チキソトロピー係数A/Bはせん断速度の増加に伴う粘度の変化を示すものであり、その値が1.000に近いほど、せん断速度の増加に伴う粘度の変化が少ないことを意味する。チキソトロピー係数A/Bが1.400より大きい、又は1.001より小さいコーティング組成物の場合、コーター部内や基材とコーター部の間隙などでせん断速度の変化が頻繁になされた場合、粘性抵抗が不均一に変化して塗布ムラが生じると推測される。なお、コーティング組成物における構成成分、例えば無機粒子、樹脂、有機溶媒などの含有量を適切にすること、無機粒子の分散を良好にすること、及び樹脂の溶解を十分にすることなどにより、チキソトロピー係数A/Bを1.001〜1.400の範囲内にすることができる。 In the present invention, the thixotropy coefficient A / B indicates a change in viscosity with an increase in shear rate, and the closer the value is to 1.000, the smaller the change in viscosity with an increase in shear rate. . In the case of a coating composition having a thixotropy coefficient A / B of greater than 1.400 or less than 1.001, if the shear rate is frequently changed in the coater part or between the substrate and the coater part, the viscous resistance It is presumed that uneven coating changes and uneven coating occurs. It should be noted that thixotropy can be achieved by making the content of the components in the coating composition, for example, inorganic particles, resin, organic solvent, etc. appropriate, making the dispersion of the inorganic particles good, and sufficiently dissolving the resin. The coefficient A / B can be in the range of 1.001 to 1.400.
さらに、本発明において、コーティング組成物の粘度Aは、1〜20mPa・sの範囲であることが必要である。粘度Aが20mPa・sより大きいコーティング組成物は、流動性が悪くなる傾向があり、また、粘度Aが1mPa・sより小さい場合は、コーティング組成物の構成成分の含有量が不適切であり、反射防止特性が不十分である傾向がある。 Furthermore, in this invention, the viscosity A of a coating composition needs to be the range of 1-20 mPa * s. A coating composition having a viscosity A greater than 20 mPa · s tends to have poor fluidity, and when the viscosity A is less than 1 mPa · s, the content of the components of the coating composition is inappropriate, There is a tendency for the antireflection properties to be insufficient.
以下、本発明の実施形態を詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
<コーティング組成物>
本発明のコーティング組成物は、少なくとも樹脂及び無機粒子を含む。
<Coating composition>
The coating composition of the present invention contains at least a resin and inorganic particles.
〈樹脂〉
樹脂としては、特に限定されず、反射防止フィルムにおいて、ウェットコーティング法による反射防止層の形成に用いられる電離放射線硬化型樹脂や熱硬化型樹脂などを用いることができる。また、表面硬度の観点から、電離放射線硬化型樹脂を用いることが好ましい。ここで、「電離放射線硬化型樹脂」とは、赤外線、可視光線、紫外線、X線、電子線などのすべての電磁波を包含する電離放射線のいずれかの照射により硬化する樹脂をいう。
<resin>
The resin is not particularly limited, and in the antireflection film, an ionizing radiation curable resin or a thermosetting resin used for forming an antireflection layer by a wet coating method can be used. Moreover, it is preferable to use ionizing radiation curable resin from the viewpoint of surface hardness. Here, “ionizing radiation curable resin” refers to a resin that is cured by irradiation with ionizing radiation including all electromagnetic waves such as infrared rays, visible rays, ultraviolet rays, X-rays, and electron beams.
上記電離放射線硬化型樹脂としては、特に限定されず、反射防止フィルムにおいて、ウェットコーティング法による反射防止層の形成に用いられる各種の電離放射線硬化型樹脂を使用できる。例えばビニル基、(メタ)アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基を有するモノマー、プレポリマー、オリゴマー、ポリマーなどを用いることができる。生産性及び硬度の両立の観点より、多官能樹脂を用いることが好ましい。さらに、分子中に水素結合を形成するような結合基や官能基を多く有していると、密着性が向上するため好ましい。なお、本発明において、「(メタ)アクリロイル基」は、「アクリロイル基」及び/又は「メタクリロイル基」を意味する。 The ionizing radiation curable resin is not particularly limited, and various ionizing radiation curable resins used for forming an antireflection layer by a wet coating method in an antireflection film can be used. For example, a monomer, a prepolymer, an oligomer, or a polymer having a vinyl group, a (meth) acryloyl group, an epoxy group, or an oxetanyl group can be used. From the viewpoint of achieving both productivity and hardness, it is preferable to use a polyfunctional resin. Furthermore, it is preferable to have a large number of bonding groups and functional groups that form hydrogen bonds in the molecule because adhesion is improved. In the present invention, “(meth) acryloyl group” means “acryloyl group” and / or “methacryloyl group”.
上記電離放射線硬化型樹脂として、具体的には、多官能基もしくは単官能基の(メタ)アクリレートモノマー又はアクリレートオリゴマーなどを用いることができる。また、耐擦傷性を向上させる観点から、重合可能な不飽和基を2つ以上有する多官能アクリレ−トなどを含んでいることが好ましい。 As the ionizing radiation curable resin, specifically, a polyfunctional or monofunctional (meth) acrylate monomer or acrylate oligomer can be used. Further, from the viewpoint of improving scratch resistance, it preferably contains a polyfunctional acrylate having two or more polymerizable unsaturated groups.
上記単官能基のアクリレートモノマーは分子中に(メタ)アクリレート基を1つ有するモノマーであり、例えばトリシクロ〔5,2,1,02,6〕デカンアクリレート、イソボルニルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェノキシエチルアクリレートなどが挙げられる。なお、本発明において、「(メタ)アクリレート基」は、「アクリレート基」及び/又は「メタクリレート基」を意味する。 The acrylate monomer monofunctional group is a monomer having one (meth) acrylate groups in the molecule, for example, tricyclo [5,2,1,0 2,6] decane acrylate, isobornyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate And phenoxyethyl acrylate. In the present invention, “(meth) acrylate group” means “acrylate group” and / or “methacrylate group”.
また、上記多官能基のアクリレートモノマーは分子中に(メタ)アクリレート基を2つ以上、好ましくは2から6個を有するモノマーであり、例えばトリシクロデカンジメチロールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジオキサングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ビスフェノールA型ポリエトキシレートジアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどが挙げられる。 The polyfunctional acrylate monomer is a monomer having 2 or more (preferably 2 to 6) (meth) acrylate groups in the molecule, such as tricyclodecane dimethylol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, Hydroxypivalate neopentyl glycol diacrylate, dioxane glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, bisphenol A type polyethoxylate diacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate And dipentaerythritol hexaacrylate.
また、アクリレートオリゴマーとしては、例えばエポキシアクリレートオリゴマー、ポリエステルポリアクリレートオリゴマー、ウレタンアクリレートオリゴマーなどが挙げられる。 Moreover, as an acrylate oligomer, an epoxy acrylate oligomer, a polyester polyacrylate oligomer, a urethane acrylate oligomer etc. are mentioned, for example.
これらの多官能基もしくは単官能基の(メタ)アクリレートモノマー又はオリゴマーは、1種又は2種以上を組み合わせて使用することができる。中でも、耐擦傷性をより高める観点から、ペンタエリスリトールトリアクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサアクリレートから選ばれる少なくとも1種が好ましい。 These polyfunctional or monofunctional (meth) acrylate monomers or oligomers can be used alone or in combination of two or more. Among them, at least one selected from pentaerythritol triacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate is preferable from the viewpoint of further improving the scratch resistance.
また、コーティング組成物における上記電離放射線硬化型樹脂の配合割合は、コーティング組成物の粘度Aが1〜20mPa・sであり、チキソトロピー係数A/Bが1.001〜1.400になるように配合されればよく、特に限定されないが、好ましくは樹脂と無機粒子の全体重量100重量%に対して10〜99重量%であり、より好ましくは15〜90重量%である。上記コーティング組成物のチキソトロピー係数A/Bが1.001〜1.400になリやすいからである。 The blending ratio of the ionizing radiation curable resin in the coating composition is such that the viscosity A of the coating composition is 1 to 20 mPa · s and the thixotropic coefficient A / B is 1.001 to 1.400. However, it is preferably 10 to 99% by weight, more preferably 15 to 90% by weight, based on 100% by weight of the total weight of the resin and the inorganic particles. This is because the thixotropy coefficient A / B of the coating composition tends to be from 1.001 to 1.400.
〈無機粒子〉
無機粒子としては、屈折率調整のため、金属酸化物粒子を用いることができる。金属酸化物粒子としては、例えば、シリカ、中空シリカ、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化錫、アンチモンドープ酸化錫(ATO)、リンドープ酸化錫(PTO)、錫ドープ酸化インジウム(ITO)、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、五酸化アンチモン、アンチモン酸亜鉛などの金属酸化物粒子を用いることができる。これらの金属酸化物粒子は、単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
<Inorganic particles>
As the inorganic particles, metal oxide particles can be used for adjusting the refractive index. Examples of the metal oxide particles include silica, hollow silica, titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, cerium oxide, tin oxide, antimony-doped tin oxide (ATO), phosphorus-doped tin oxide (PTO), tin-doped indium oxide (ITO) ), Metal oxide particles such as aluminum-doped zinc oxide, gallium-doped zinc oxide, antimony pentoxide, and zinc antimonate. These metal oxide particles may be used alone or in combination of two or more.
また、コーティング組成物は、帯電防止機能をもたらすために、導電性酸化物粒子を含むことが好ましい。ここで、「導電性酸化物粒子」は、導電性を有する金属酸化物粒子のことをいい、特に限定されないが、例えば酸化錫、アンチモンドープ酸化錫(ATO)、リンドープ酸化錫(PTO)、錫ドープ酸化インジウム(ITO)、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、五酸化アンチモン、アンチモン酸亜鉛などの金属酸化物粒子が挙げられる。中でも、高い導電性を有するITO粒子、ATO粒子などを用いることが好ましい。 The coating composition preferably contains conductive oxide particles in order to provide an antistatic function. Here, the “conductive oxide particles” refer to metal oxide particles having conductivity, and are not particularly limited. For example, tin oxide, antimony-doped tin oxide (ATO), phosphorus-doped tin oxide (PTO), tin Examples thereof include metal oxide particles such as doped indium oxide (ITO), aluminum-doped zinc oxide, gallium-doped zinc oxide, antimony pentoxide, and zinc antimonate. Among them, it is preferable to use highly conductive ITO particles, ATO particles, or the like.
また、上記無機粒子は、粒子状のものであればよく、特に限定されないが、その一次粒子径は、5〜1000nmが好ましい。一次粒子径が1000nmを超えるとそれを含むコーティング組成物からなる塗膜の透明性が低下する傾向がある。なお、2種以上の金属酸化物粒子を組み合わせて使用する場合、それぞれの粒子が球状や針状など同一形状であれば、それを含むコーティング組成物からなる塗膜中で粒子が最密充填しやいので好ましい。 Moreover, the said inorganic particle should just be a particulate form, Although it does not specifically limit, The primary particle diameter has preferable 5-1000 nm. When the primary particle diameter exceeds 1000 nm, the transparency of the coating film comprising the coating composition containing the primary particle diameter tends to decrease. When two or more kinds of metal oxide particles are used in combination, if the particles have the same shape such as a spherical shape or a needle shape, the particles are closely packed in a coating film made of a coating composition containing the particles. It is preferable because it is quick.
本発明において、無機粒子の一次粒子径は、粒子の映像を透過型電子顕微鏡などの電子顕微鏡を用いて倍率20万倍で撮影し、粒子の一番長い径とそれに直交方向の一番長い径を計測し、両者を平均して長軸短軸の平均径を算出することにより測定したものをいう。また、反射防止フィルムにおける無機粒子の一次粒子径の測定は、反射防止フィルムをマイクロトーム(microtome)でカットし、カットした反射防止フィルム断面片における粒子の映像を透過型電子顕微鏡などの電子顕微鏡を用いて倍率20万倍で撮影し、粒子の一番長い径とそれに直交方向の一番長い径を計測し、両者を平均して長軸短軸の平均径を算出することにより行なわれる。なお、少なくとも30個の粒子の長軸短軸の平均径を算出し、それらの平均値を粒子の一次粒子径とする。 In the present invention, the primary particle diameter of the inorganic particles is obtained by taking an image of the particles using an electron microscope such as a transmission electron microscope at a magnification of 200,000 times. Is measured by calculating the average diameter of the major axis and the minor axis by averaging the two. In addition, the primary particle diameter of the inorganic particles in the antireflection film is measured by cutting the antireflection film with a microtome, and using an electron microscope such as a transmission electron microscope to display the image of the particles in the cut antireflection film cross section. It is used by photographing at a magnification of 200,000 times, measuring the longest diameter of the particles and the longest diameter in the direction orthogonal thereto, and calculating the average diameter of the major and minor axes by averaging both. In addition, the average diameter of the major axis and the minor axis of at least 30 particles is calculated, and the average value thereof is defined as the primary particle diameter of the particles.
また、コーティング組成物における上記無機粒子の配合割合は、コーティング組成物の粘度Aが1〜20mPa・s、チキソトロピー係数A/Bが1.001〜1.400になるように配合されればよく、特に限定されないが、好ましくは樹脂と無機粒子の全体重量に対して1〜90重量%であり、より好ましくは10〜85重量%である。上記コーティング組成物のチキソトロピー係数A/Bが1.001〜1.400になりやすいからである。 Moreover, the blending ratio of the inorganic particles in the coating composition may be blended so that the viscosity A of the coating composition is 1 to 20 mPa · s and the thixotropy coefficient A / B is 1.001 to 1.400, Although it does not specifically limit, Preferably it is 1 to 90 weight% with respect to the whole weight of resin and an inorganic particle, More preferably, it is 10 to 85 weight%. This is because the thixotropy coefficient A / B of the coating composition tends to be 1.001 to 1.400.
〈有機溶媒〉
本発明のコーティング組成物は、さらに、上記樹脂を分散又は溶解させることができる、有機溶媒を含んでもよい。有機溶媒としては、ウェットコーティング法による塗膜の形成に用いられるものであればよく、特に限定れないが、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセチルアセトンなどのケトン類;エタノール、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール、n−ブタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール類;エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル基含有アルコール類;乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチルなどのヒドロキシエステル類;アセト酢酸エチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸ブチルなどのβ−ケトエステル類;トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類などが用いられる。これらの有機溶媒は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、有機溶媒の添加量は、コーティング組成物の粘度Aが1〜20mPa・s、チキソトロピー係数A/Bが1.001〜1.400になるように添加されればよく、特に限定されないが、塗工性の観点から、コーティング組成物における樹脂の含有量が1〜50重量%程度となるように添加することが好ましい。さらに、上記コーティング組成物のチキソトロピー係数A/Bが1.001〜1.400になりやすい観点から、コーティング組成物における樹脂の含有量が1〜40重量%程度となるように添加することが好ましい。
<Organic solvent>
The coating composition of the present invention may further contain an organic solvent capable of dispersing or dissolving the resin. The organic solvent is not particularly limited as long as it is used for forming a coating film by a wet coating method. For example, ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, and acetyl acetone; ethanol, isopropyl alcohol, isobutyl alcohol , N-butanol, diacetone alcohol and the like; ether group-containing alcohols such as ethyl cellosolve, butyl cellosolve and propylene glycol monomethyl ether; hydroxy esters such as methyl lactate, ethyl lactate and butyl lactate; ethyl acetoacetate, acetoacetate Β-ketoesters such as methyl and butyl acetoacetate; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene are used. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more. The amount of the organic solvent added is not particularly limited as long as the viscosity A of the coating composition is 1 to 20 mPa · s and the thixotropy coefficient A / B is 1.001 to 1.400. From the viewpoint of coatability, it is preferable to add such that the content of the resin in the coating composition is about 1 to 50% by weight. Furthermore, from the viewpoint that the thixotropy coefficient A / B of the coating composition is likely to be from 1.001 to 1.400, it is preferable to add so that the resin content in the coating composition is about 1 to 40% by weight. .
〈重合開始剤〉
上記樹脂として電離放射線硬化型樹脂を用いる場合は、本発明のコーティング組成物は、重合開始剤を含む。上記コーティング組成物における重合開始剤の配合割合は、コーティング組成物の粘度Aが1〜20mPa・s、チキソトロピー係数A/Bが1.001〜1.400になるように配合されればよく、特に限定されないが、樹脂100重量部に対して、2〜20重量部であることが好ましく、3〜12重量部であることがより好ましい。耐擦傷性を好適にすることができる。そして、紫外線照射により上記電離放射線硬化型樹脂を硬化させる際には、光重合開始剤を含むことが必要となる。
<Polymerization initiator>
When an ionizing radiation curable resin is used as the resin, the coating composition of the present invention contains a polymerization initiator. The blending ratio of the polymerization initiator in the coating composition may be blended so that the viscosity A of the coating composition is 1 to 20 mPa · s and the thixotropy coefficient A / B is 1.001 to 1.400. Although not limited, it is preferable that it is 2-20 weight part with respect to 100 weight part of resin, and it is more preferable that it is 3-12 weight part. Scratch resistance can be made suitable. And when hardening the said ionizing radiation curing type resin by ultraviolet irradiation, it is necessary to contain a photoinitiator.
上記光重合開始剤としては、例えばベンゾインエチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルなどのベンゾイン類;アセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1,1−ジクロロアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルホリノ−プロパン−1−オン、N,N−ジメチルアミノアセトフェノンなどのアセトフェノン類;2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントンなどのチオキサントン類;ベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジメチルケタールなどのケタール類;ベンゾフェノン、メチルベンゾフェノン、4,4’−ビスジエチルアミノ−ベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルサルファイドなどのベンゾフェノン類;2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイドなどのホスフィンオキサイド類などがあり、これらは単独又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of the photopolymerization initiator include benzoins such as benzoin ethyl ether, benzoin butyl ether, and benzoin isopropyl ether; acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 1, Acetophenones such as 1-dichloroacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propan-1-one, N, N-dimethylaminoacetophenone; 2 Thioxanthones such as 1,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone; ketals such as benzyl dimethyl ketal and acetophenone dimethyl ketal; benzophenone There are benzophenones such as methylbenzophenone, 4,4′-bisdiethylamino-benzophenone, 4-benzoyl-4′-methyldiphenyl sulfide; phosphine oxides such as 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, etc. It can use individually or in combination of 2 or more types.
また、本発明において、上記コーティング組成物は、コーティング組成物の粘度Aが1〜20mPa・sであり、チキソトロピー係数A/Bが1.001〜1.400である要件(以下、粘度要件とも記す)を満たす範囲内において、必要に応じて重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤及びレベリング剤などの各種添加剤を含んでもよい。 In the present invention, the coating composition has a requirement that the viscosity A of the coating composition is 1 to 20 mPa · s and the thixotropy coefficient A / B is 1.001 to 1.400 (hereinafter also referred to as viscosity requirement). In the range satisfying (), various additives such as a polymerization inhibitor, an antioxidant, a dispersant, a surfactant, a light stabilizer and a leveling agent may be included as necessary.
本発明のコーティング組成物は、下記のとおり、反射防止フィルムの反射防止層の形成に用いることができる。なお、反射防止フィルムはディスプレイの最表面に位置するため、強度と防汚性を有していることが好ましく、上記コーティング組成物は、コーティング組成物の粘度Aが1〜20mPa・sであり、チキソトロピー係数A/Bが1.001〜1.400である要件を満たす範囲内において、シリコーン系、フッ素系の添加剤を含んでもよい。 The coating composition of this invention can be used for formation of the antireflection layer of an antireflection film as follows. In addition, since the antireflection film is located on the outermost surface of the display, it preferably has strength and antifouling property, and the coating composition has a viscosity A of 1 to 20 mPa · s of the coating composition, Silicone-based and fluorine-based additives may be included as long as the thixotropic coefficient A / B satisfies the requirement of 1.001 to 1.400.
<反射防止フィルム>
本発明の反射防止フィルムは、基材と、基材上の一方の主面側に配置された反射防止層を含む。
<Antireflection film>
The antireflection film of the present invention includes a base material and an antireflection layer disposed on one main surface side on the base material.
〈基材〉
基材は、透光性を有する材料であればよく、その形状や製造方法などは特に限定されない。例えば、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリル酸エステル樹脂、脂環式ポリオレフィン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、トリアセチルセルロース樹脂などの材料をフィルム状又はシート状に加工したものを用いることができる。上記フィルム状又はシート状に加工する方法としては、例えば、押し出し成形法、カレンダー成形法、圧縮成形法、射出成形法、及び上記樹脂を溶剤に溶解させてキャスティングする方法などが挙げられる。なお、上記基材1に用いる材料には、酸化防止剤、難燃剤、耐熱防止剤、紫外線吸収剤、易滑剤、帯電防止剤などの添加剤が添加されていてもよい。また、上記基材として、耐熱性、柔軟性のバランスが良好なポリエステル系フィルムが好ましく、ポリエチレンテレフタレートフィルムがより好ましい。また、基材の一方又は両方の主面には、基材上に設けられる層との密着性を向上させる目的で、プライマー層を設けてもよい。
<Base material>
The base material is not particularly limited as long as it is a light-transmitting material, and its shape and manufacturing method are not particularly limited. For example, polyester resin, polycarbonate resin, polyacrylic ester resin, alicyclic polyolefin resin, polystyrene resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, polyethersulfone resin, triacetyl cellulose resin, etc. What was processed into the shape can be used. Examples of the method for processing the film or sheet include an extrusion molding method, a calendar molding method, a compression molding method, an injection molding method, and a method in which the resin is dissolved in a solvent and cast. The material used for the
上記基材の厚みは素材により異なるが、通常10〜500μmであればよく、ポリエステルフィルムを用いる場合には、35〜260μmが好ましく、50〜200μmがより好ましい。上記基材の厚みが薄い場合には、ハンドリング性が不良となる。一方、上記基材の厚みが厚い場合にはコスト面で問題があるだけでなく、ロール状に巻き取って保存した場合に巻き癖による平面性不良が発生しやすくなる。 Although the thickness of the said base material changes with raw materials, it should just be normally 10-500 micrometers, and when using a polyester film, 35-260 micrometers is preferable and 50-200 micrometers is more preferable. When the thickness of the base material is thin, handling properties are poor. On the other hand, when the thickness of the substrate is thick, there is a problem in terms of cost, and flatness due to curling tends to occur when the base material is wound and stored.
〈反射防止層〉
本発明の反射防止フィルムの一実施形態において、反射防止層は、基材の一方の主面側に基材側から順番に積層形成されたハードコート層と低屈折率層を含む。
<Antireflection layer>
In one embodiment of the antireflection film of the present invention, the antireflection layer includes a hard coat layer and a low refractive index layer that are laminated in order from the substrate side on one main surface side of the substrate.
≪ハードコート層≫
ハードコート層は、上記のコーティング組成物を用いて形成する。基材上にハードコート層を形成する方法は、ウェットコーティング法であればよく、特に限定されないが、例えば上記のコーティング組成物をウェットコーティング法により、基材の一方の主面側に塗布することにより形成できる。塗布方法は特に制限されず、例えば、リバースロールコート、ロールコート、ダイコート、エアナイフコート、ブレードコート、スピンコート、リバースコート、グラビアコートなどの塗工法、グラビア印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷などの印刷法を用いることができる。
≪Hard coat layer≫
The hard coat layer is formed using the above coating composition. The method for forming the hard coat layer on the substrate is not particularly limited as long as it is a wet coating method. For example, the above coating composition is applied to one main surface side of the substrate by the wet coating method. Can be formed. The coating method is not particularly limited. For example, reverse roll coating, roll coating, die coating, air knife coating, blade coating, spin coating, reverse coating, gravure coating, and the like, gravure printing, screen printing, offset printing, inkjet printing, etc. The printing method can be used.
また、ハードコート層の膜厚は、特に限定されないが、0.2〜10μmであることが好ましく、0.9〜3μmであることがより好ましく、0.9〜2μmであることが特に好ましい。上記ハードコート層の膜厚が0.2μmより小さいと耐擦過性に劣る傾向かあり、また、10μmより大きいとコスト面で問題があるだけでなく、クラック又はカール(フィルムの反り)が生じやすくなる。 The film thickness of the hard coat layer is not particularly limited, but is preferably 0.2 to 10 μm, more preferably 0.9 to 3 μm, and particularly preferably 0.9 to 2 μm. If the thickness of the hard coat layer is less than 0.2 μm, the scratch resistance tends to be inferior. If it is more than 10 μm, not only there is a problem in cost, but also cracks or curls (film warpage) are likely to occur. Become.
また、ハードコート層は、屈折率が好ましくは1.45〜1.75、より好ましくは1.50〜1.70である。なお、ハードコート層の屈折率nとその膜厚dとの積(光学厚さ)は、435〜14000nmが好ましく、870〜8750nmがより好ましい。 The hard coat layer preferably has a refractive index of 1.45 to 1.75, more preferably 1.50 to 1.70. The product (optical thickness) of the refractive index n of the hard coat layer and the film thickness d (optical thickness) is preferably 435 to 14000 nm, and more preferably 870 to 8750 nm.
上記の粘度Aが1〜20mPa・sであり、チキソトロピー係数A/Bが1.001〜1.400である本発明のコーティング組成物を用いてハードコート層を形成することにより、干渉ムラが少ない反射防止フィルムを得ることができる。 By forming a hard coat layer using the coating composition of the present invention having the viscosity A of 1 to 20 mPa · s and a thixotropic coefficient A / B of 1.001 to 1.400, interference unevenness is small. An antireflection film can be obtained.
≪低屈折率層≫
本実施形態のように反射防止層がハードコート層と低屈折率層からなる2層構造の場合、低屈折率層は、屈折率が1.30〜1.50であることが好ましい。低屈折率層の屈折率nと膜厚dの積である光学膜厚がnd=λ/4となるように設計すると、反射率がより低くなるので、膜厚は80〜150nmであることが好ましい。
≪Low refractive index layer≫
When the antireflection layer has a two-layer structure composed of a hard coat layer and a low refractive index layer as in this embodiment, the low refractive index layer preferably has a refractive index of 1.30 to 1.50. If the optical film thickness, which is the product of the refractive index n and the film thickness d of the low refractive index layer, is designed to be nd = λ / 4, the reflectance will be lower, so the film thickness should be 80 to 150 nm. preferable.
低屈折率層形成用材料としては、上記のコーティング組成物を用いる。その場合、屈折率を1.30〜1.50に調整するため、無機粒子として、屈折率が低い無機粒子、例えばシリカ粒子や中空シリカ粒子などの金属酸化物粒子を用いることが好ましい。或いはフッ素系樹脂などを添加してもよい。中でも、屈折率と膜の凝集力という観点から、中空シリカ粒子を用いることが好ましい。また、中空シリカ粒子の一次粒子径は、低屈折率の膜厚が80nmから150nmになるように設計されるので、80nm以下が好ましく、60nm以下がより好ましい。 As the material for forming the low refractive index layer, the above coating composition is used. In that case, in order to adjust the refractive index to 1.30 to 1.50, it is preferable to use inorganic particles having a low refractive index, for example, metal oxide particles such as silica particles and hollow silica particles, as the inorganic particles. Alternatively, a fluorine-based resin or the like may be added. Among these, it is preferable to use hollow silica particles from the viewpoint of refractive index and film cohesion. Moreover, since the primary particle diameter of the hollow silica particles is designed so that the film thickness of the low refractive index is 80 nm to 150 nm, it is preferably 80 nm or less, and more preferably 60 nm or less.
また、中空シリカ粒子の空隙率は30%を超え50%以下であることが好ましい。中空シリカ粒子の空隙率が30%を超え50%以下であることにより、反射防止効果が十分得られる。また、中空シリカ粒子の合成時に無機酸化物としての硬度を維持することもできる。ここで、「空隙率」とは、総体積に対する空隙部分の体積の比をいう。 The void ratio of the hollow silica particles is preferably more than 30% and 50% or less. When the porosity of the hollow silica particles is more than 30% and 50% or less, a sufficient antireflection effect can be obtained. Moreover, the hardness as an inorganic oxide can also be maintained at the time of synthesis | combination of a hollow silica particle. Here, the “void ratio” refers to the ratio of the volume of the void portion to the total volume.
また、上記コーティング組成物における中空シリカ粒子の配合割合は、低屈折率層の屈折率が1.30〜1.50の範囲になるように、かつ上記の粘度要件を満たすように配合されればよく、特に限定されないが、樹脂と中空シリカ粒子の全体重量を100重量部とした場合、30〜75重量部であることが好ましい。 Further, the blending ratio of the hollow silica particles in the coating composition is such that the refractive index of the low refractive index layer is in the range of 1.30 to 1.50 and the viscosity requirement is satisfied. Although it is not particularly limited, it is preferably 30 to 75 parts by weight when the total weight of the resin and the hollow silica particles is 100 parts by weight.
また、反射防止フィルムの低屈折率層がディスプレイの最表面に位置する場合は、強度と防汚性の観点から、シリコーン系、フッ素系の添加剤、例えば(メタ)アクリロイル基を有するポリジメチルシロキサンを上記の屈折率を変化させない程度に、かつ上記の粘度要件を満たす範囲内においてコーティング組成物に添加してもよい。さらに、(メタ)アクリロイル基を有するポリジメチルシロキサンの分子量は、500〜10000の範囲にあることが好ましい。分子量が500より小さくなるとジメチルシロキサン部位が短くなるため、防汚性の効果を満たせず、分子量が10000より大きくなると溶剤への溶解性が極端に悪くなり、ハジキなどの欠陥が多発して外観上の不良が発生する。 In addition, when the low refractive index layer of the antireflection film is located on the outermost surface of the display, from the viewpoint of strength and antifouling properties, silicone-based and fluorine-based additives such as polydimethylsiloxane having a (meth) acryloyl group May be added to the coating composition to the extent that the refractive index is not changed and within a range that satisfies the viscosity requirements. Furthermore, the molecular weight of the polydimethylsiloxane having a (meth) acryloyl group is preferably in the range of 500 to 10,000. When the molecular weight is smaller than 500, the dimethylsiloxane portion is shortened, so that the antifouling effect is not satisfied. When the molecular weight is larger than 10,000, the solubility in the solvent becomes extremely poor, and defects such as repellency frequently occur on the appearance. Defects occur.
ハードコート層上に低屈折率層を形成する方法は、ウェットコーティング法であればよく、特に限定されないが、例えば上記のコーティング組成物をウェットコーティング法により、ハードコート層上に塗布することにより形成できる。塗布方法も特に限定されず、例えば上記の基材上にハードコート層を形成する方法と同様の方法を用いることができる。 The method for forming the low refractive index layer on the hard coat layer is not particularly limited as long as it is a wet coating method. For example, it is formed by applying the above coating composition on the hard coat layer by the wet coating method. it can. The application method is not particularly limited, and for example, a method similar to the method of forming a hard coat layer on the above-described substrate can be used.
また、反射防止フィルムの他の一実施形態において、反射防止層は、ハードコート層と、ハードコート層上に順次積層形成された屈折率が異なる層を複層含んでもよい。具体的には、ハードコート層、ハードコート層上に順次積層形成された高屈折率層及び低屈折率層を含む3層構造や、ハードコート層、ハードコート層上に順次積層形成された中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層を含む4層構造の反射防止層などが挙げられる。 In another embodiment of the antireflection film, the antireflection layer may include a hard coat layer and a plurality of layers having different refractive indexes that are sequentially laminated on the hard coat layer. Specifically, a hard coat layer, a three-layer structure including a high refractive index layer and a low refractive index layer that are sequentially stacked on the hard coat layer, and a layer that is sequentially stacked on the hard coat layer and the hard coat layer Examples thereof include an antireflection layer having a four-layer structure including a refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer.
上記において、中屈折率層は、屈折率が1.53〜1.65、より好ましくは1.57〜1.63であり、その材料が透光性を有していればよく特に限定されないが、上記のコーティング組成物を用いることが好ましい。なお、中屈折率層の屈折率nとその膜厚dとの積(光学厚さ)は、110〜163nmの範囲が好ましく、125〜150nmの範囲がより好ましい。 In the above, the middle refractive index layer has a refractive index of 1.53 to 1.65, more preferably 1.57 to 1.63, and the material is not particularly limited as long as the material has translucency. It is preferable to use the above coating composition. The product (optical thickness) of the refractive index n and the film thickness d of the medium refractive index layer is preferably in the range of 110 to 163 nm, and more preferably in the range of 125 to 150 nm.
上記において、高屈折率層は、屈折率が1.70〜1.95、より好ましくは1.76〜1.84であり、その材料が透光性を有していれば特に限定されないが、上記のコーティング組成物を用いることが好ましく、無機粒子として屈折率が最も高い酸化チタン粒子を含むコーティング組成物を用いることがより好ましい。なお、高屈折率層の屈折率nとその厚さdとの積nd(光学厚さ)は225nm〜325nmの範囲が好ましく、250〜300nmの範囲がより好ましい。 In the above, the high refractive index layer has a refractive index of 1.70 to 1.95, more preferably 1.76 to 1.84, and is not particularly limited as long as the material has translucency, It is preferable to use the above coating composition, and it is more preferable to use a coating composition containing titanium oxide particles having the highest refractive index as inorganic particles. The product nd (optical thickness) of the refractive index n of the high refractive index layer and its thickness d is preferably in the range of 225 nm to 325 nm, and more preferably in the range of 250 to 300 nm.
さらに、他の一実施形態において、本発明の反射防止フィルムは、基材の反射防止層を形成した主面とは反対側であるもう一方の主面側に、従来公知の材料及び方法により近赤外線吸収層をさらに形成することができる。これにより、本実施形態の光学フィルムをPDPの表面に配置すれば、プラズマ放電を起こした際に放出される不要な近赤外線が遮断され、周辺の電子部品を用いる機器に悪影響を与えることがなく、特にテレビやエアコンなどのリモコンの誤動作を生じさせるといった問題が解消できる。また、一枚の基材に近赤外線吸収層と反射防止層とを一体化して複合化することにより、プラズマディスプレイの前面板に貼り合わせる部材を削減することができる。 Furthermore, in another embodiment, the antireflection film of the present invention is closer to the other main surface side opposite to the main surface on which the antireflection layer of the substrate is formed, by a conventionally known material and method. An infrared absorbing layer can be further formed. Thereby, if the optical film of the present embodiment is arranged on the surface of the PDP, unnecessary near infrared rays emitted when plasma discharge is generated are blocked, and there is no adverse effect on devices using peripheral electronic components. In particular, problems such as malfunctions of remote controls such as televisions and air conditioners can be solved. Further, by integrating the near-infrared absorption layer and the antireflection layer on a single base material, it is possible to reduce the number of members to be bonded to the front plate of the plasma display.
本発明において、反射防止フィルムの視感度反射率は0.05%〜3.0%であることが好ましく、0.05〜2.0%であることがより好ましい。視感度反射率が1.5%以下であれば、優れた反射防止機能を発揮し得る。 In the present invention, the visibility reflectance of the antireflection film is preferably 0.05% to 3.0%, and more preferably 0.05 to 2.0%. If the visibility reflectance is 1.5% or less, an excellent antireflection function can be exhibited.
以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明する。実施例中の「部」は「重量部」を示す。なお、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, based on an Example, this invention is demonstrated more concretely. “Parts” in the examples represents “parts by weight”. The present invention is not limited to the following examples.
先ず、実施例において用いた測定方法及び評価方法を説明する。 First, the measurement method and the evaluation method used in the examples will be described.
<粘度>
25℃において、回転式粘度計PhysicaMCR301型(アントンパール社製)を用い、せん断速度を1×10sec-1から1×103sec-1まで増加させながら、コーティング組成物の粘度フローカーブを測定し、粘度A、粘度B及びチキソトロピー係数A/Bを算出した。
<Viscosity>
In 25 ° C., the rotational viscometer PhysicaMCR301 Model (manufactured by Anton Paar) used, while increasing the shear rate from 1 × 10 sec -1 to 1 × 10 3 sec -1, and the viscosity flow curves of the coating composition , Viscosity A, viscosity B, and thixotropy coefficient A / B were calculated.
<フィルムの外観品質>
3波長蛍光灯下にて、反射防止フィルムの外観品質を、目視観察した。判定は以下のように評価し、B以上を合格とした。
A:干渉ムラがない
B:干渉ムラがわずかに発生するが、実用上は問題がない
C:干渉ムラが部分的に発生している
D:干渉ムラが全面に発生している
<Film appearance quality>
The appearance quality of the antireflection film was visually observed under a three-wavelength fluorescent lamp. Judgment evaluated as follows and made B or more into the pass.
A: No interference unevenness B: Interference unevenness occurs slightly, but there is no problem in practical use C: Interference unevenness partially occurs D: Interference unevenness occurs over the entire surface
<視感度反射率>
反射防止フィルムの基材の反射防止層が形成された一方の主面側とは反対側であるもう一方の主面側を黒の油性フェルトペンで黒く塗りつぶしてから、分光光度計“Ubest V−570型”(日本分光社製)を用いて、反射防止層が形成された主面側を入射光側として、視感度反射率を測定した。
<Visibility reflectance>
The other principal surface side opposite to the one principal surface side where the antireflection layer of the base material of the antireflection film is formed is painted black with a black oil-based felt pen, and then the spectrophotometer “Ubest V- Using a "570 type" (manufactured by JASCO Corporation), the visibility reflectance was measured with the main surface side on which the antireflection layer was formed as the incident light side.
次に、コーティング組成物について説明する。 Next, the coating composition will be described.
<コーティング組成物A>
先ず、以下の組成の混合物を、液の攪拌分散用の直径0.3mmのジルコニアビーズを用いて、ペイントコンディショナー(東洋精機社製)により2時間分散し、0.2mmの金属メッシュにて分散用ビーズを除いた後、遠心分離機により14000Gの条件にて30分間分級処理を行い、粗大粒子を除去した後、その上澄みを採取して分散液Aを得た。
(1)“PCS60”(日本電工社製の酸化ジルコニウム粒子、一次粒子経15nm、比表面積65m2/g) 11.5部
(2)“SN100P”(石原産業社製の導電性酸化物粒子、アンチモンドープ酸化スズ、一次粒子径20nm) 14.0部
(3)“BYK180”(ビックケミー・ジャパン社製の分散剤) 2.0部
(4)イソブチルアルコール 72.5部。
<Coating composition A>
First, a mixture having the following composition was dispersed for 2 hours with a paint conditioner (manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.) using zirconia beads having a diameter of 0.3 mm for stirring and dispersing the liquid, and dispersed with a 0.2 mm metal mesh. After removing the beads, classification was performed with a centrifuge at 14000 G for 30 minutes to remove coarse particles, and the supernatant was collected to obtain dispersion A.
(1) "PCS60" (Nippon Denko's zirconium oxide particles, primary particle diameter 15 nm, specific surface area 65 m 2 / g) 11.5 parts (2) "SN100P" (Ishihara Sangyo's conductive oxide particles, Antimony-doped tin oxide, primary particle diameter 20 nm) 14.0 parts (3) “BYK180” (dispersant manufactured by Big Chemie Japan) 2.0 parts (4) 72.5 parts isobutyl alcohol.
次に、上記分散液Aと以下の組成をビーカーに計り取り、マグネチックスターラーにより60分間攪拌した後、グラスファイバー製のろ紙“GFP”(桐山製作所製、捕捉粒子の粒子経0.8μm以上)を用いて吸引ろ過を行い、屈折率1.64のコーティング組成物Aを調製した。なお、ここで、屈折率は、塗料の屈折率でなく乾燥硬化後の塗膜の屈折率を示す。以下においても同様である。
(1)分散液A 79.8部
(2)“アロニックスM400”(東亞合成社製の電離放射線硬化型樹脂、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート) 5.0部
(3)“ライトアクリレートPE−3A”(共栄社化学社製の電離放射線硬化型樹脂、ペンタエリスリトールトリアクリレート) 2.2部
(4)“IRGACURE184”(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の光重合開始剤) 0.7部
(5)シクロヘキサノン 12.3部。
Next, after measuring the above dispersion A and the following composition in a beaker and stirring for 60 minutes with a magnetic stirrer, glass fiber filter paper “GFP” (manufactured by Kiriyama Seisakusho, particle size of trapped particles of 0.8 μm or more) Was used for suction filtration to prepare a coating composition A having a refractive index of 1.64. In addition, a refractive index shows not the refractive index of a coating material but the refractive index of the coating film after drying hardening here. The same applies to the following.
(1) Dispersion A 79.8 parts (2) "Aronix M400" (ionizing radiation curable resin, dipentaerythritol hexaacrylate manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 5.0 parts (3) "Light acrylate PE-3A" ( Kyoeisha Chemical Co., Ltd. ionizing radiation curable resin, pentaerythritol triacrylate) 2.2 parts (4) “IRGACURE 184” (photopolymerization initiator manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 0.7 parts (5) Cyclohexanone 3 parts.
<コーティング組成物B>
以下の組成をビーカーに計り取り、マグネチックスターラーにより60分間攪拌したグラスファイバー製のろ紙“GFP”(桐山製作所製、捕捉粒子の粒子経0.8μm以上)を用いて吸引ろ過を行い、屈折率1.58のコーティング組成物Bを調製した。
(1)“セルナックスCX−Z210IP−F2”(日産化学工業社製のアンチモン酸亜鉛粒子、固形分20重量%のイソプロピルアルコールゾル、一次粒子径20nm) 22.5部
(2)“ライトアクリレートPE−4A”(共栄社化学社製の電離放射線硬化型樹脂、ペンタエリスリトールテトラアクリレート) 25.5部
(3)“IRGACURE184”(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の光重合開始剤) 2.0部
(4)メチルエチルケトン 50.0部。
<Coating composition B>
The following composition was measured in a beaker, suction filtered using glass fiber filter paper “GFP” (manufactured by Kiriyama Seisakusho, particle size of trapped particles: 0.8 μm or more) stirred with a magnetic stirrer for 60 minutes, and the refractive index. A coating composition B of 1.58 was prepared.
(1) "Selnax CX-Z210IP-F2" (Nissan Chemical Industries zinc antimonate particles, isopropyl alcohol sol with a solid content of 20% by weight, primary particle size 20 nm) 22.5 parts (2) "Light acrylate PE" -4A "(ionizing radiation curable resin, pentaerythritol tetraacrylate manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 25.5 parts (3)" IRGACURE 184 "(photopolymerization initiator manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 2.0 parts (4 ) Methyl ethyl ketone 50.0 parts.
<コーティング組成物C>
メチルエチルケトンを30.0部にし、“UA−510H”(共栄社化学社製の電離放射線硬化型樹脂、10官能ウレタンアクリレート)を20.0部追加した以外は、コーティング組成物Bと同様にして、屈折率1.56のコーティング組成物Cを得た。
<Coating composition C>
Refraction is the same as coating composition B except that 30.0 parts of methyl ethyl ketone is added and 20.0 parts of “UA-510H” (ionizing radiation curable resin, 10-functional urethane acrylate manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) is added. A coating composition C with a rate of 1.56 was obtained.
<コーティング組成物D>
以下の組成をビーカーに計り取り、マグネチックスターラーにより60分間攪拌した後、グラスファイバー製のろ紙“GFP”(桐山製作所製、捕捉粒子の粒子経0.8μm以上)を用いて吸引ろ過を行い、屈折率1.40のコーティング組成物Dを調製した。
(1)中空シリカ粒子含有イソプロピルアルコール分散液(触媒化成工業社製、固形分20重量%、一次粒子径60nm) 7.5部
(2)“アロニックスM400”(東亞合成社製の電離放射線硬化型樹脂、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート) 0.5部
(3)“ライトアクリレートPE−3A”(共栄社化学社製の電離放射線硬化型樹脂、ペンタエリスリトールトリアクリレート) 0.5部
(4)“IRGACURE907”(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の光重合開始剤) 0.1部
(5)“X22−174DX”(信越化学工業社製のメタクリル変性シリコーンオイル) 0.02部
(6)イソプロピルアルコール 81.38部
(7)エチレングリコールモノブチルエーテル 10.0部。
<Coating composition D>
The following composition was measured in a beaker, stirred for 60 minutes with a magnetic stirrer, and then filtered with suction using a glass fiber filter paper “GFP” (manufactured by Kiriyama Seisakusho, particle size of trapped particles 0.8 μm or more). A coating composition D having a refractive index of 1.40 was prepared.
(1) Isopropyl alcohol dispersion containing hollow silica particles (Catalyst Chemical Industries, solid content 20% by weight, primary particle size 60 nm) 7.5 parts (2) “Aronix M400” (ionizing radiation curable type manufactured by Toagosei Co., Ltd.) Resin, dipentaerythritol hexaacrylate) 0.5 part (3) “Light acrylate PE-3A” (ionizing radiation curable resin, pentaerythritol triacrylate manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 0.5 part (4) “IRGACURE907” ( 0.1 parts (5) “X22-174DX” (methacrylic modified silicone oil made by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 0.02 parts (6) 81.38 parts isopropyl alcohol (7) 10.0 parts of ethylene glycol monobutyl ether.
<コーティング組成物E>
中空シリカ粒子含有イソプロピルアルコール分散液を50.0部に、ライトアクリレートPE−3Aを7.5部に、イソプロピルアルコールを31.88部にした以外は、コーティング組成物Dと同様にして、屈折率1.41のコーティング組成物Eを得た。
<Coating composition E>
Refractive index is the same as coating composition D except that the hollow silica particle-containing isopropyl alcohol dispersion is 50.0 parts, light acrylate PE-3A is 7.5 parts, and isopropyl alcohol is 31.88 parts. A coating composition E of 1.41 was obtained.
<コーティング組成物F>
中空シリカ粒子含有イソプロピルアルコール分散液を75.0部に、ライトアクリレートPE−3Aを10.5部に、イソプロピルアルコールを3.88部にした以外は、コーティング組成物Dと同様にして、屈折率1.47のコーティング組成物Fを得た。
<Coating composition F>
Refractive index was the same as coating composition D, except that the hollow silica particle-containing isopropyl alcohol dispersion was 75.0 parts, light acrylate PE-3A was 10.5 parts, and isopropyl alcohol was 3.88 parts. A coating composition F of 1.47 was obtained.
<コーティング組成物G>
メチルエチルケトン10部にし、“KAYARAD DPHA”(日本化薬社製の電離放射線硬化型樹脂、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート)を20.0部とシクロヘキサノンを20.0部追加した以外は、コーティング組成物Bと同様にして、屈折率1.55のコーティング組成物Gを得た。
<Coating composition G>
Coating composition B except that 10 parts of methyl ethyl ketone, 20.0 parts of “KAYARAD DPHA” (Nippon Kayaku Co., Ltd. ionizing radiation curable resin, dipentaerythritol hexaacrylate) and 20.0 parts of cyclohexanone were added. Similarly, a coating composition G having a refractive index of 1.55 was obtained.
<コーティング組成物H>
中空シリカ粒子含有イソプロピルアルコール分散液を60.0部に、ライトアクリレートPE−3Aを8.5部に、イソプロピルアルコールを8.88部に、エチレングリコールモノブチルエーテルを22.0部にした以外は、コーティング組成物Dと同様にして、屈折率1.40のコーティング組成物Hを得た。
<Coating composition H>
Except that the hollow silica particle-containing isopropyl alcohol dispersion was 60.0 parts, light acrylate PE-3A was 8.5 parts, isopropyl alcohol was 8.88 parts, and ethylene glycol monobutyl ether was 22.0 parts. In the same manner as the coating composition D, a coating composition H having a refractive index of 1.40 was obtained.
<コーティング組成物I>
分散液Aにおいて、イソブチルアルコール72.5部の代わりに、72.5部のメチルエチルケトンを用いた以外は、コーティング組成物Aと同様にして、屈折率1.61のコーティング組成物Iを得た。
<Coating composition I>
A coating composition I having a refractive index of 1.61 was obtained in the same manner as in the coating composition A, except that 72.5 parts of methyl ethyl ketone was used in the dispersion A instead of 72.5 parts of isobutyl alcohol.
<コーティング組成物J>
中空シリカ粒子含有イソプロピルアルコール分散液を50.0部に、“アロニックスM400”を5.0部に、“ライトアクリレートPE−3A”を5.0部に、イソプロピルアルコールを9.88部に、エチレングリコールモノブチルエーテルを30.0部にしたこと以外は、コーティング組成物Dと同様にして、屈折率1.44のコーティング組成物Jを得た。
<Coating composition J>
The hollow silica particle-containing isopropyl alcohol dispersion is 50.0 parts, “Aronix M400” is 5.0 parts, “light acrylate PE-3A” is 5.0 parts, isopropyl alcohol is 9.88 parts, ethylene A coating composition J having a refractive index of 1.44 was obtained in the same manner as the coating composition D, except that 30.0 parts of glycol monobutyl ether was used.
<コーティング組成物K>
分散液Aにおいて、“BYK180”を0.5部し、イソブチルアルコールを74.0部にしたこと以外は、コーティング組成物Aと同様にして、屈折率1.62のコーティング組成物Kを得た。
<Coating composition K>
In the dispersion A, a coating composition K having a refractive index of 1.62 was obtained in the same manner as the coating composition A, except that 0.5 part of “BYK180” and 74.0 parts of isobutyl alcohol were used. .
<コーティング組成物L>
イソプロピルアルコール81.38部の代わりに、メチルエチルケトンを81.38部加えた以外は、コーティング組成物Dと同様にして、屈折率1.42のコーティング組成物Lを得た。
<Coating composition L>
A coating composition L having a refractive index of 1.42 was obtained in the same manner as in the coating composition D, except that 81.38 parts of methyl ethyl ketone was added instead of 81.38 parts of isopropyl alcohol.
コーティング組成物A〜Lの屈折率、粘度A、粘度B及びチキソトロピー係数A/Bを下記表1に示す。 The refractive index, the viscosity A, the viscosity B, and the thixotropy coefficient A / B of the coating compositions A to L are shown in Table 1 below.
次に、上記のコーティング組成物を用いてハードコート層及び低屈折率層を形成した。 Next, a hard coat layer and a low refractive index layer were formed using the above coating composition.
(実施例1)
<基材>
基材として、基材上の一方の主面のみにシリカ粒子含有ポリエステル系樹脂からなるプライマー層が形成されている、厚さ100μmの紫外線カット性ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(屈折率1.65、全光線透過率:92.0%)を準備した(以下、基材Aと記す。)。
Example 1
<Base material>
As a substrate, a primer layer made of a silica particle-containing polyester resin is formed only on one main surface of the substrate, and an ultraviolet-cutting polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 100 μm (refractive index: 1.65, (Total light transmittance: 92.0%) was prepared (hereinafter referred to as “base material A”).
<ハードコート層の形成>
基材Aのプライマー層の設けられていない主面側に、放電量171.4W・min/m2のコロナ放電処理を施した。次に、コーティング組成物Aをマイクログラビアコータ(康井精機社製)を用い、上記のコロナ放電処理を施した基材Aのプライマー層の設けられていない主面側に塗布した後、乾燥させた。続いて、大気下で塗膜に紫外線を700mJ/cm2の積算光量で照射し、塗膜を硬化させ、厚さ1.4μmのハードコート層を形成した。
<Formation of hard coat layer>
The main surface of the base material A where the primer layer was not provided was subjected to a corona discharge treatment with a discharge amount of 171.4 W · min / m 2 . Next, the coating composition A was applied to the main surface side of the base material A on which the above-mentioned corona discharge treatment was performed using a micro gravure coater (manufactured by Yasui Seiki Co., Ltd.), and then dried. It was. Subsequently, the coating film was irradiated with an integrated light amount of 700 mJ / cm 2 in the atmosphere to cure the coating film, thereby forming a hard coat layer having a thickness of 1.4 μm.
(実施例2)
先ず、実施例1と同様にして基材A上のプライマー層の設けられていない主面側にハードコート層を形成した。
(Example 2)
First, in the same manner as in Example 1, a hard coat layer was formed on the main surface side on which the primer layer on the substrate A was not provided.
<低屈折率層の形成>
次に、ハードコート層上に、コーティング組成物Dを上記マイクログラビアコータを用いて塗布して乾燥させた。その後、窒素パージ下で塗膜に紫外線を700mJ/cm2の積算光量で照射し、塗膜を硬化させて厚さ107nmの低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを得た。
<Formation of low refractive index layer>
Next, the coating composition D was applied onto the hard coat layer using the microgravure coater and dried. Then, under a nitrogen purge, the coating film was irradiated with ultraviolet rays with an integrated light amount of 700 mJ / cm 2 to cure the coating film to form a low refractive index layer having a thickness of 107 nm to obtain an antireflection film.
(実施例3)
<基材>
基材として、一方の主面にシリカ粒子含有ポリエステル系樹脂からなる第一プライマー層が形成され、他方の主面にシリカ粒子含有アクリル系樹脂からなる第二プライマー層が形成されている、厚さ100μmの紫外線カット性ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(屈折率:1.58、全光線透過率:92.4%)を準備した(以下、基材Bと記す。)。
(Example 3)
<Base material>
As a base material, a first primer layer made of a silica particle-containing polyester resin is formed on one main surface, and a second primer layer made of a silica particle-containing acrylic resin is formed on the other main surface. A 100 μm ultraviolet-cutting polyethylene terephthalate (PET) film (refractive index: 1.58, total light transmittance: 92.4%) was prepared (hereinafter referred to as substrate B).
<ハードコート層の形成>
基材Bの第一プライマー層が設けられている主面側に、放電量171.4W・min/m2のコロナ放電処理を施した。次に、コーティング組成物Bを上記マイクログラビアコータを用い、上記のコロナ放電処理を施した基材Bの第一プライマー層が設けられている主面側に塗布した後、乾燥させた。続いて、大気下で塗膜に紫外線を700mJ/cm2の積算光量で照射し、塗膜を硬化させ、厚さ2.8μmのハードコート層を形成した。
<Formation of hard coat layer>
The main surface side of the substrate B on which the first primer layer was provided was subjected to a corona discharge treatment with a discharge amount of 171.4 W · min / m 2 . Next, the coating composition B was applied to the main surface side on which the first primer layer of the substrate B subjected to the corona discharge treatment was applied using the microgravure coater, and then dried. Subsequently, the coating film was irradiated with an integrated light amount of 700 mJ / cm 2 in the atmosphere to cure the coating film, thereby forming a hard coat layer having a thickness of 2.8 μm.
(実施例4)
先ず、実施例3と同様にして基材B上の第一プライマー層が設けられている主面側にハードコート層を形成した。
Example 4
First, in the same manner as in Example 3, a hard coat layer was formed on the main surface side on which the first primer layer on the substrate B was provided.
<低屈折率層の形成>
次に、ハードコート層上に、コーティング組成物Eを上記マイクログラビアコータを用いて塗布して乾燥させた。その後、窒素パージ下で塗膜に紫外線を700mJ/cm2の積算光量で照射し、塗膜を硬化させて厚さ107nmの低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを得た。
<Formation of low refractive index layer>
Next, the coating composition E was applied onto the hard coat layer using the microgravure coater and dried. Then, under a nitrogen purge, the coating film was irradiated with ultraviolet rays with an integrated light amount of 700 mJ / cm 2 to cure the coating film to form a low refractive index layer having a thickness of 107 nm to obtain an antireflection film.
(実施例5)
基材として、上記の基材Bを用いた。
(Example 5)
As the substrate, the above-mentioned substrate B was used.
<ハードコート層の形成>
基材Bの第1プライマー層が設けられている主面側に、放電量171.4W・min/m2のコロナ放電処理を施した。次に、コーティング組成物Gを上記のマイクログラビアコータを用い、上記のコロナ放電処理を施した基材Bの第一プライマー層が設けられている主面側に塗布した後、乾燥させた。続いて、大気下で塗膜に紫外線を700mJ/cm2の積算光量で照射し、塗膜を硬化させ、厚さ2.8μmのハードコート層を形成した。
<Formation of hard coat layer>
The main surface side of the base material B on which the first primer layer was provided was subjected to a corona discharge treatment with a discharge amount of 171.4 W · min / m 2 . Next, the coating composition G was applied to the main surface provided with the first primer layer of the substrate B subjected to the corona discharge treatment using the microgravure coater, and then dried. Subsequently, the coating film was irradiated with an integrated light amount of 700 mJ / cm 2 in the atmosphere to cure the coating film, thereby forming a hard coat layer having a thickness of 2.8 μm.
(実施例6)
先ず、実施例5と同様にして、基材B上の第一プライマー層が設けられている主面側にハードコート層を形成した。
(Example 6)
First, in the same manner as in Example 5, a hard coat layer was formed on the main surface side on which the first primer layer on the substrate B was provided.
<低屈折率層の形成>
次に、ハードコート層上に、コーティング組成物Hを上記マイクログラビアコータを用いて塗布して乾燥させた。その後、窒素パージ下で塗膜に紫外線を700mJ/cm2の積算光量で照射し、塗膜を硬化させて厚さ107nmの低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを得た。
<Formation of low refractive index layer>
Next, the coating composition H was applied onto the hard coat layer using the microgravure coater and dried. Then, under a nitrogen purge, the coating film was irradiated with ultraviolet rays with an integrated light amount of 700 mJ / cm 2 to cure the coating film to form a low refractive index layer having a thickness of 107 nm to obtain an antireflection film.
(比較例1)
基材として、上記の基材Bを用いた。
(Comparative Example 1)
As the substrate, the above-mentioned substrate B was used.
<ハードコート層の形成>
基材Bの第1プライマー層が設けられている主面側に、放電量171.4W・min/m2のコロナ放電処理を施した。次に、コーティング組成物Cを上記のマイクログラビアコータを用い、上記のコロナ放電処理を施した基材Bの第一プライマー層が設けられている主面側に塗布した後、乾燥させた。続いて、大気下で塗膜に紫外線を700mJ/cm2の積算光量で照射し、塗膜を硬化させ、厚さ2.8μmのハードコート層を形成した。
<Formation of hard coat layer>
The main surface side of the base material B on which the first primer layer was provided was subjected to a corona discharge treatment with a discharge amount of 171.4 W · min / m 2 . Next, the coating composition C was applied to the main surface side on which the first primer layer of the substrate B subjected to the corona discharge treatment was provided using the microgravure coater, and then dried. Subsequently, the coating film was irradiated with an integrated light amount of 700 mJ / cm 2 in the atmosphere to cure the coating film, thereby forming a hard coat layer having a thickness of 2.8 μm.
(比較例2)
先ず、比較例1と同様にして、基材B上の第一プライマー層が設けられている主面側にハードコート層を形成した。
(Comparative Example 2)
First, in the same manner as in Comparative Example 1, a hard coat layer was formed on the main surface side on which the first primer layer on the substrate B was provided.
<低屈折率層の形成>
次に、ハードコート層上に、コーティング組成物Fを上記マイクログラビアコータを用いて塗布して乾燥させた。その後、窒素パージ下で塗膜に紫外線を700mJ/cm2の積算光量で照射し、塗膜を硬化させて厚さ107nmの低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを得た。
<Formation of low refractive index layer>
Next, the coating composition F was applied onto the hard coat layer using the microgravure coater and dried. Then, under a nitrogen purge, the coating film was irradiated with ultraviolet rays with an integrated light amount of 700 mJ / cm 2 to cure the coating film to form a low refractive index layer having a thickness of 107 nm to obtain an antireflection film.
(比較例3)
基材として、上記の基材Aを用いた。
(Comparative Example 3)
As the substrate, the substrate A was used.
<ハードコート層の形成>
基材Aのプライマー層の設けられていない主面側に、放電量171.4W・min/m2のコロナ放電処理を施した。次に、コーティング組成物Iをマイクログラビアコータ(社康井精機製)を用い、上記のコロナ放電処理を施した基材Aのプライマー層の設けられていない主面側に塗布した後、乾燥させた。続いて、大気下で塗膜に紫外線を700mJ/cm2の積算光量で照射し、塗膜を硬化させて厚さ1.4μmのハードコート層を形成した。
<Formation of hard coat layer>
The main surface of the base material A where the primer layer was not provided was subjected to a corona discharge treatment with a discharge amount of 171.4 W · min / m 2 . Next, the coating composition I was applied to the main surface side of the base material A on which the above-mentioned corona discharge treatment was performed without using the microgravure coater (manufactured by Yasui Seiki Co., Ltd.), and then dried. It was. Subsequently, the coating film was irradiated with ultraviolet rays with an integrated light amount of 700 mJ / cm 2 in the atmosphere to cure the coating film to form a hard coat layer having a thickness of 1.4 μm.
(比較例4)
先ず、比較例3と同様にして基材A上のプライマー層の設けられていない主面側にハードコート層を形成した。
(Comparative Example 4)
First, in the same manner as in Comparative Example 3, a hard coat layer was formed on the main surface side where the primer layer on the substrate A was not provided.
<低屈折率層の形成>
次に、ハードコート層上に、コーティング組成物Jを上記マイクログラビアコータを用いて塗布して乾燥させた。その後、窒素パージ下で塗膜に紫外線を700mJ/cm2の積算光量で照射し、塗膜を硬化させて厚さ107nmの低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを得た。
<Formation of low refractive index layer>
Next, the coating composition J was applied onto the hard coat layer using the microgravure coater and dried. Then, under a nitrogen purge, the coating film was irradiated with ultraviolet rays with an integrated light amount of 700 mJ / cm 2 to cure the coating film to form a low refractive index layer having a thickness of 107 nm to obtain an antireflection film.
(比較例5)
基材として、上記の基材Aを用いた。
(Comparative Example 5)
As the substrate, the substrate A was used.
<ハードコート層の形成>
基材Aのプライマー層の設けられていない主面側に、放電量171.4W・min/m2のコロナ放電処理を施した。次に、コーティング組成物Kをマイクログラビアコータ(康井精機社製)を用い、上記のコロナ放電処理を施した基材Aのプライマー層の設けられていない主面側に塗布した後、乾燥させた。続いて、大気下で塗膜に紫外線を700mJ/cm2の積算光量で照射し、塗膜を硬化させて厚さ1.4μmのハードコート層を形成した。
<Formation of hard coat layer>
The main surface of the base material A where the primer layer was not provided was subjected to a corona discharge treatment with a discharge amount of 171.4 W · min / m 2 . Next, the coating composition K was applied to the main surface side of the base material A which has been subjected to the corona discharge treatment and not provided with the primer layer, using a micro gravure coater (manufactured by Yasui Seiki Co., Ltd.), and then dried. It was. Subsequently, the coating film was irradiated with ultraviolet light with an integrated light amount of 700 mJ / cm 2 in the atmosphere to cure the coating film to form a hard coat layer having a thickness of 1.4 μm.
(比較例6)
先ず、比較例5と同様にして基材A上のプライマー層の設けられていない主面側にハードコート層を形成した。
(Comparative Example 6)
First, in the same manner as in Comparative Example 5, a hard coat layer was formed on the main surface side on which the primer layer was not provided on the substrate A.
<低屈折率層の形成>
次に、ハードコート層上に、コーティング組成物Lを上記マイクログラビアコータを用いて塗布して乾燥させた。その後、窒素パージ下で塗膜に紫外線を700mJ/cm2の積算光量で照射し、塗膜を硬化させて厚さ107nmの低屈折率層を形成し、比較例6の反射防止フィルムを得た。
<Formation of low refractive index layer>
Next, the coating composition L was applied onto the hard coat layer using the microgravure coater and dried. Thereafter, the coating film was irradiated with an integrated light amount of 700 mJ / cm 2 under a nitrogen purge to cure the coating film to form a low refractive index layer having a thickness of 107 nm. Thus, an antireflection film of Comparative Example 6 was obtained. .
実施例1、3、5及び比較例1、3、5のハードコート層の外観品質及び視感度反射率、並びに実施例2、4、6及び比較例2、4、6の反射防止フィルムの外観品質及び視感度反射率を上記のとおり評価又は測定し、その結果を下記表2に示した。なお、表2には、実施例1〜6及び比較例1〜6のハードコート層、低屈折率層を形成したコーティング組成物の種類、粘度A、粘度B、チキソトロピー係数A/Bも併せて示した。 Appearance quality and visibility reflectance of hard coat layers of Examples 1, 3, 5 and Comparative Examples 1, 3, 5 and Appearance of antireflection films of Examples 2, 4, 6 and Comparative Examples 2, 4, 6 Quality and luminous reflectance were evaluated or measured as described above, and the results are shown in Table 2 below. In Table 2, the hard coat layers of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 6, the types of coating compositions on which the low refractive index layers were formed, viscosity A, viscosity B, and thixotropy coefficient A / B are also shown. Indicated.
図1に、実施例1及び3において、ハードコート層の形成に用いたコーティング組成物A及びBの粘度フローカーブを、それぞれ示した。また、図2に、実施例2及び4において、低屈折率層の形成に用いたコーティング組成物D及びEの粘度フローカーブを、それぞれ示した。 FIG. 1 shows the viscosity flow curves of the coating compositions A and B used in forming the hard coat layer in Examples 1 and 3, respectively. FIG. 2 shows the viscosity flow curves of the coating compositions D and E used for forming the low refractive index layer in Examples 2 and 4, respectively.
上記表2に示しているように、粘度Aが1〜20mPa・sであり、チキソトロピー係数A/Bが1.001〜1.400であるコーティング組成物を用いた実施例1〜6においては、干渉ムラが少ない優れた外観品質を有するハードコート層及び/又は低屈折率層が得られていた。また、チキソトロピー係数A/Bが1.001〜1.400であるコーティング組成物を用いてハードコート層及び低屈折率層を形成した実施例2、4及び6においては、干渉ムラが少ないといった外観品質と、優れた反射防止特性が両立した反射防止フィルムが得られていた。 As shown in Table 2 above, in Examples 1 to 6 using a coating composition having a viscosity A of 1 to 20 mPa · s and a thixotropic coefficient A / B of 1.001 to 1.400, A hard coat layer and / or a low refractive index layer having excellent appearance quality with little interference unevenness has been obtained. In Examples 2, 4 and 6 in which the hard coat layer and the low refractive index layer were formed using the coating composition having a thixotropy coefficient A / B of 1.001 to 1.400, the appearance that interference unevenness was small An antireflection film having both quality and excellent antireflection properties has been obtained.
一方、チキソトロピー係数A/Bが1.400を超えるコーティング組成物を用いた比較例1では、ハードコート層の表面に干渉ムラが発生していた。また、チキソトロピー係数A/Bが1.400を超えるコーティング組成物を用いて低屈折率層を形成した比較例2では、低屈折率層の表面に干渉ムラが発生していた。また、粘度Aが1mPa・s未満であるコーティング組成物を用いてハードコート層を形成した比較例3では、ハードコート層の表面に干渉ムラが発生していた。また、粘度Aが20mPa・sを超えるコーティング組成物を用いて低屈折率層を形成した比較例4では、低屈折率層の表面に干渉ムラが発生していた。また、チキソトロピー係数A/Bが1.001未満であるコーティング組成物を用いた比較例5では、ハードコート層の表面に干渉ムラが発生していた。また、チキソトロピー係数A/Bが1.001未満であるコーティング組成物を用いて低屈折率層を形成した比較例6では、低屈折率層の表面に干渉ムラが発生していた。 On the other hand, in Comparative Example 1 using a coating composition having a thixotropy coefficient A / B exceeding 1.400, interference unevenness occurred on the surface of the hard coat layer. Further, in Comparative Example 2 in which the low refractive index layer was formed using a coating composition having a thixotropic coefficient A / B exceeding 1.400, interference unevenness occurred on the surface of the low refractive index layer. In Comparative Example 3 in which the hard coat layer was formed using the coating composition having a viscosity A of less than 1 mPa · s, interference unevenness occurred on the surface of the hard coat layer. In Comparative Example 4 in which the low refractive index layer was formed using a coating composition having a viscosity A exceeding 20 mPa · s, interference unevenness occurred on the surface of the low refractive index layer. Further, in Comparative Example 5 using the coating composition having a thixotropic coefficient A / B of less than 1.001, interference unevenness occurred on the surface of the hard coat layer. In Comparative Example 6 in which the low refractive index layer was formed using a coating composition having a thixotropic coefficient A / B of less than 1.001, interference unevenness occurred on the surface of the low refractive index layer.
そして、表2の実施例2、4及び6、並びに比較例2、4及び6のデータの比較から、チキソトロピー係数A/Bが1.001〜1.400であるコーティング組成物を用いてハードコート層及び低屈折率層を形成した実施例2、4及び6の反射防止フィルムは、外観品質及び視感度反射率(反射防止特性)のいずれも、比較例2、4及び6の反射防止フィルムより優れていることが分かる。 And from the comparison of the data of Examples 2, 4 and 6 of Table 2 and Comparative Examples 2, 4 and 6, hard coating was performed using a coating composition having a thixotropic coefficient A / B of 1.001 to 1.400. The antireflection films of Examples 2, 4 and 6 in which the layers and the low refractive index layers were formed were both in terms of appearance quality and visibility reflectance (antireflection characteristics) than the antireflection films of Comparative Examples 2, 4 and 6. It turns out that it is excellent.
本発明のコーティング組成物を用いた反射防止フィルムは、干渉ムラが少ないといった外観品質と、優れた反射防止特性が両立しており、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイパネル(PDP)などに代表される高精細かつ大画面ディスプレイの反射防止フィルムとして応用できる。 The antireflection film using the coating composition of the present invention has both an appearance quality such as less interference unevenness and an excellent antireflection property, and is a high definition represented by a liquid crystal display, a plasma display panel (PDP) and the like. And it can be applied as an antireflection film for large screen displays.
Claims (10)
前記反射防止層は、コーティング組成物を前記基材の一方の主面側に塗布することにより形成され、
前記コーティング組成物は無機粒子と樹脂とを含有し、回転式粘度計を用いてせん断速度を増加させる粘度測定により測定した、前記コーティング組成物の25℃におけるせん断速度1×10sec-1での粘度をA、せん断速度1×103sec-1での粘度をBとした場合、粘度Aが1〜20mPa・sであり、チキソトロピー係数A/Bが1.001〜1.400であることを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。 A method for producing an antireflection film comprising an antireflection layer formed on one main surface side of a base material and the base material,
The antireflection layer is formed by applying a coating composition to one main surface side of the substrate,
The coating composition contains inorganic particles and a resin, and the viscosity of the coating composition at a shear rate of 1 × 10 sec −1 at 25 ° C. measured by viscosity measurement using a rotary viscometer to increase the shear rate. Is A, and the viscosity at a shear rate of 1 × 10 3 sec −1 is B, the viscosity A is 1 to 20 mPa · s, and the thixotropic coefficient A / B is 1.001 to 1.400. A method for producing an antireflection film.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009027457A JP2010181801A (en) | 2009-02-09 | 2009-02-09 | Coating composition, antireflection film using the same, and method for forming antireflection film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009027457A JP2010181801A (en) | 2009-02-09 | 2009-02-09 | Coating composition, antireflection film using the same, and method for forming antireflection film |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010181801A true JP2010181801A (en) | 2010-08-19 |
Family
ID=42763395
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009027457A Withdrawn JP2010181801A (en) | 2009-02-09 | 2009-02-09 | Coating composition, antireflection film using the same, and method for forming antireflection film |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2010181801A (en) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012088683A (en) * | 2010-09-21 | 2012-05-10 | Dainippon Printing Co Ltd | Display front panel, production method for display front panel, display device, and production method for display device |
| WO2015029844A1 (en) * | 2013-08-27 | 2015-03-05 | 地方独立行政法人 大阪市立工業研究所 | Method for producing transparent thin film having high refractive index, and thin film produced by said method |
| US9597707B2 (en) | 2012-05-18 | 2017-03-21 | Konica Minolta, Inc. | Manufacturing method for multilayer laminated film |
| JP2018002502A (en) * | 2016-06-28 | 2018-01-11 | 太平洋セメント株式会社 | Manufacturing method of silicon carbide powder |
| JP2024083352A (en) * | 2018-09-27 | 2024-06-21 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | Ultraviolet-curable resin composition, method for manufacturing light-emitting device, and light-emitting device |
-
2009
- 2009-02-09 JP JP2009027457A patent/JP2010181801A/en not_active Withdrawn
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012088683A (en) * | 2010-09-21 | 2012-05-10 | Dainippon Printing Co Ltd | Display front panel, production method for display front panel, display device, and production method for display device |
| US9597707B2 (en) | 2012-05-18 | 2017-03-21 | Konica Minolta, Inc. | Manufacturing method for multilayer laminated film |
| WO2015029844A1 (en) * | 2013-08-27 | 2015-03-05 | 地方独立行政法人 大阪市立工業研究所 | Method for producing transparent thin film having high refractive index, and thin film produced by said method |
| KR20160074467A (en) * | 2013-08-27 | 2016-06-28 | 지호우 도쿠리츠 교세이 호진 오사카 시리츠 고교 겐큐쇼 | Method for producing transparent thin film having high refractive index, and thin film produced by said method |
| JPWO2015029844A1 (en) * | 2013-08-27 | 2017-03-02 | 地方独立行政法人 大阪市立工業研究所 | Method for producing high refractive index transparent thin film and thin film produced by the method |
| US9845394B2 (en) | 2013-08-27 | 2017-12-19 | Osaka Municipal Technical Research Institute | Method for producing thin film having high refractive index and high transparency, and thin film produced by the method |
| KR102239664B1 (en) | 2013-08-27 | 2021-04-13 | 오사카 리서치 인스티튜트 오브 인더스트리얼 사이언스 앤드 테크놀러지 | Method for producing transparent thin film having high refractive index, and thin film produced by said method |
| JP2018002502A (en) * | 2016-06-28 | 2018-01-11 | 太平洋セメント株式会社 | Manufacturing method of silicon carbide powder |
| JP2024083352A (en) * | 2018-09-27 | 2024-06-21 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | Ultraviolet-curable resin composition, method for manufacturing light-emitting device, and light-emitting device |
| JP7710188B2 (en) | 2018-09-27 | 2025-07-18 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | Ultraviolet-curable resin composition, method for manufacturing light-emitting device, and light-emitting device |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR102449532B1 (en) | anti-reflection film | |
| CN101679825B (en) | Composition for anti-glare film and anti-glare film prepared using the same | |
| JP5216501B2 (en) | Optical film, polarizing plate, and image display device | |
| JP6520114B2 (en) | Antiglare antireflective film and image display device using the same | |
| JP4187454B2 (en) | Antireflection film | |
| CN1311035C (en) | Coating composition for protecting dazzling effect | |
| US20020018886A1 (en) | Hard coat film and display device having same | |
| KR20140006876A (en) | Anti-reflective film, anti-reflective film production method, polarization plate and image display device | |
| JP5598892B2 (en) | Laminated transparent film | |
| JP2010208035A (en) | Optical film and manufacturing method thereof | |
| KR20130119926A (en) | Optical laminate, polarizing plate and image display device | |
| JP2010085759A (en) | Antiglare film, antireflective film, polarizing plate and image display device | |
| JP2010079101A (en) | Optical film, polarizer plate, and image display device | |
| JP2010107542A (en) | Hard coat film and antireflection film using the same | |
| JP2010181801A (en) | Coating composition, antireflection film using the same, and method for forming antireflection film | |
| JP6492683B2 (en) | Anti-glare film and image display device using the same | |
| JP2022150906A (en) | Antireflection film | |
| JP2009222801A (en) | Optical film | |
| KR20090020494A (en) | Optical stack | |
| JP2010014819A (en) | Anti-reflection film | |
| KR20100074024A (en) | Reflection preventing film | |
| JP2010079100A (en) | Glare-proof film, polarizing plate and image display apparatus | |
| JP2008224750A (en) | Optical film having near-infrared shielding function and antireflection function and method for producing the same | |
| KR101464671B1 (en) | method of manufacturing low reflective film | |
| JP2009015289A (en) | Antireflection film and display front plate using the same |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20120501 |