[go: up one dir, main page]

JP2010171094A - コンタクト露光装置及びコンタクト露光方法 - Google Patents

コンタクト露光装置及びコンタクト露光方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2010171094A
JP2010171094A JP2009010531A JP2009010531A JP2010171094A JP 2010171094 A JP2010171094 A JP 2010171094A JP 2009010531 A JP2009010531 A JP 2009010531A JP 2009010531 A JP2009010531 A JP 2009010531A JP 2010171094 A JP2010171094 A JP 2010171094A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mask
stage
work
seal member
workpiece
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2009010531A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5495094B2 (ja
Inventor
Nobuaki Miyagawa
展明 宮川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ushio Denki KK
Ushio Inc
Original Assignee
Ushio Denki KK
Ushio Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ushio Denki KK, Ushio Inc filed Critical Ushio Denki KK
Priority to JP2009010531A priority Critical patent/JP5495094B2/ja
Priority to TW098138430A priority patent/TW201028796A/zh
Priority to KR1020100000833A priority patent/KR20100085838A/ko
Priority to CN201010004497A priority patent/CN101782724A/zh
Publication of JP2010171094A publication Critical patent/JP2010171094A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5495094B2 publication Critical patent/JP5495094B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70775Position control, e.g. interferometers or encoders for determining the stage position
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716Stages
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70841Constructional issues related to vacuum environment, e.g. load-lock chamber
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

【課題】マスクとワークの位置合せを行っているときに、シール部材が、マスクステージに接しないようにしたコンタクト露光装置及びコンタクト露光方法を提供する。
【解決手段】パターンが形成されたマスク2を保持するマスクステージ3と、ワーク4を載置するワークステージ5とを備え、マスクステージ3又はワークステージ5の周辺部に、環状のシール部材6を取り付け、ワークステージ5に載置されたワーク4をマスク2と接触させ、マスク2とマスクステージ3とワーク4とワークステージ5とシール部材6により形成される空間を減圧した状態で、露光光をマスク2を介してワーク4に照射するコンタクト露光装置において、シール部材6に、シール部材6の先端部62の環状方向全体を上下移動させる移動機構9が取り付けられていることを特徴とする。
【選択図】図1

Description

本発明は、露光装置、特に、マスクとワークを密着させてマスクに形成されているパターンをワーク上に転写するコンタクト露光装置及びコンタクト露光方法に関する。
半導体装置、液晶基板、マイクロマシン等のミクロサイズの加工が必要な様々な電気部品等の製造においては、ワーク上に各種電子的素子等を形成するため、パターンを形成したマスクを介して光をワーク上に照射して、ワーク上にマスクパターンを露光する露光装置が知られている。このような露光装置の中には、マスクとワークとを密着させてマスクパターンをワーク上に転写するコンタクト露光装置がある。
図11は、従来技術に係るコンタクト露光装置の一例を示す断面図である。
同図に示すように、このコンタクト露光装置は、概略、露光光を出射する光照射部101、マスク102を保持するマスクステージ103、露光処理を行うワーク104を保持するワークステージ105から構成されている。光照射部101は、露光光を含む光を放射するランプ1011と、ランプ1011から放射する光を反射するミラー1012を備えている。マスクステージ103は、ワーク104に転写するパターン(マスクパターン)1022が形成されたマスク102を保持する。ワークステージ105は、マスクパターン1022が転写されるワーク104を保持する。
ワークステージ105の周辺部には、ワーク104を載置する部分を取り囲むように、樹脂製の環状のシール部材106、例えば、リップシールが取り付けられている。シール部材106は、例えば、ワークステージ105と接する部分に真空グリス107を塗り、ねじ108により固定されている。シール部材106の先端は、後述するように、露光時にはマスクステージ103の下面と接触し閉空間を形成する。また、マスクステージ103には、マスク102とマスクステージ103とワーク104とワークステージ105とシール部材106により形成される閉空間を減圧するための真空配管109が設けられている。
また、ワークステージ105には、ワークステージ駆動機構110が取り付けられており、ワークステージ駆動機構110はワークステージ105をX方向(例えば、紙面の左右方向)、Y方向(例えば、紙面に対して垂直方向)、Z方向(例えば、紙面の上下方向)に移動させるとともに、ワークステージ105をワーク面に垂直な軸を中心として回転(この回転をθ方向移動という)させる機能を有する。なお、マスク102とワーク104には、両者の位置を合わせを行うために、それぞれにアライメントマーク1021、1041が形成されている。
図12ないし図14は、図11に示したコンタクト露光装置の露光過程を示す図である。なお、図12ないし図14には、図11に示した光照射部101やワークステージ駆動機構110は省略されている。
図11ないし図14を用いて、コンタクト露光装置の露光過程について説明する。
図11において、不図示の搬送機構により、ワーク104がワークステージ105上に置かれ保持される。なお、ワーク104の表面には露光光により反応する不図示のレジストが塗布されている。
次に、図12に示すように、不図示のワークステージ駆動機構110が動作し、ワークステージ105は、マスク102とワーク104の間隔が、あらかじめ設定されているアライメント・ギャップ(位置合せ間隙)になるまで上昇(Z方向移動)する。アライメント・ギャップ(位置合せ間隙)は、例えば、100μmである。次に、マスク102と不図示の光照射部101との間にアライメント顕微鏡111を挿入し、マスク102に形成されているマスク・アライメントマーク(マスクマーク)1021と、ワーク104に形成されているワーク・アライメントマーク(ワークマーク)1041を同時に検出する。このように、アライメント顕微鏡111は、マスクマーク1021とワークマーク1041を同時に検出するので、アライメント・ギャップ(位置合わせ間隙)は、アライメント顕微鏡111の焦点深度に依存する。最近は、アライメント(位置合わせ)精度を上げるために、精度の高い、つまり焦点深度の浅い顕微鏡が使用されるようになってきている。
両者のアライメントマーク1021、1041が一致するように(又は所定の位置関係になるように)、ワークステージ駆動機構110によりワークステージ105をXYθ方向に移動させ、マスク102とワーク104の位置合わせ(アライメント)を行う。なお、マスク102とワーク104の位置合せは、マスクステージ103を移動させて行っても良いし、ワークステージ105とマスクステージ103の両方を移動させて行っても良い。
次に、図13に示すように、アライメント終了後、ワークステージ105を上昇させ、マスク102とワーク105を接触させる。ワークステージ105の周囲に設けられた環状のシール部材106全体が、ワーク104を載置した部分を取り囲んで、がマスクステージ103の下面に隙間なく接触し、マスク102、マスクステージ103、ワーク104、ワークステージ105、シール部材106によりシールされた閉空間が形成される。この状態でマスクステージ103に設けられた真空配管109に真空を供給し、前記シール空間を減圧する。シール空間が減圧されると、マスク102はワーク104に押し付けられ、マスク102とワーク104は全面に渡って密着する。なお、このときワークステージ105に形成されている不図示の真空吸着孔からエアを吹き出して(バックブローともいう)をワーク102をマスク104に押し付けるようにしてもよい。
ここで、シール空間を減圧する理由は、マスク102とワーク104の間に空気溜まりが残るのを防ぎ、マスク102とワーク104を全面に渡って密着させるためである。マスク102とワーク104を単に接触させただけでは、マスク102やワーク104に反りや微小な凹凸等がある場合、マスク102とワーク104を全面に渡って密着させることができず、マスク102とワーク104との間に隙間が生じ、露光精度が悪くなるからである。シール空間を減圧しマスク102とワーク104を密着させた状態で、不図示の光照射部101から露光光を、マスク102を介してワーク104に照射すると、ワーク104上にマスクパターンが転写される。
図14に示すように、露光光の照射が終わると、不図示のワークステージ駆動機構110が動作し、ワークステージ105が下降する。その後、不図示の搬送機構により、ワーク104がワークステージ105から露光装置外に搬出される。
このように、マスク102とワーク104を密着させるとともに、マスクステージ103とワークステージ105の間を減圧して露光することをハードコンタクト露光と呼ぶこともある。このようなハードコンタクト露光の例としては、例えば、特許文献1や特許文献2に示されている。
なお、図11ないし図14においては、シール部材106として、市販されているリップシールと呼ばれているものの断面形状を模式的に示している。リップシールの場合、具体的にはその先端部分1061がマスクステージ103の下面に接触する。即ち、環状のリップシール全体が、その先端部分1061においてワーク104を取り囲んでマスクステージ103の下面に接触し、減圧空間を形成する。しかし、実際の装置において、市販されているリップシールをそのまま用いると、リップシールは柔軟な樹脂製であることが多いので、先端部分1061の一部が重力で垂れて、リップシールの高さが揃わないことがある。リップシールの先端部分1061の高さが揃わないと、図13において、マスク102とワーク104を接触させる時、環状に設けたリップシールの先端部分1061の一部がマスクステージ103の下面に接触できず、マスク102とワーク104の間にリークが生じ減圧できないことがある。
なお、図15は、シール部材106として、リップシールを用いた場合のリークを防ぐために、本件発明者等が改良して使用してたシール部材112の構成を示す図であり、図15(a)はシール部材112の斜視図、図15(b)はシール部材112の一部断面図である。
これらの図に示すように、シール部材112は、先端部分の高さを揃えるために、環状の第1の樹脂部分1121の上部に、環状の薄い金属の板状部材(ステンレスリング)1123を取り付け、その環状の板状部材1123の上面に、環状で突起状の第2の樹脂部分1122が形成されている。また、第1の樹脂部分1121が、環状の板状部材1123の重みで変形しないように、板状部材1123の複数箇所に、例えば、板ばね等からなるばね部材1124が取り付けられている。ばね部材1124の板状部材1123に取り付けられる側とは反対側は、ワークステージ105に固定される。これにより、板状部材1123は、ばね部材1124の弾性により、マスクステージ103の方向に付勢される。環状の板状部材1123の上に形成した環状の第2の樹脂部分1122は、先端部分11221においてマスクステージ103の下面と接する。このように環状の板状部材1123の上にマスクステージ103と接する第2の樹脂製部分1122が形成されているので、環状の板状部材1123が第2の樹脂部分1122の先端部分11221の高さを揃える働きをし、マスクステージ103と接する第2の樹脂部分1122の先端部分11221の一部が垂れるというようなことがなくなり、シール部材112の先端部分の高さを揃えることができる。
特開平4−27931号公報 特開平11−186124号公報
図15に示したシール部材112も、マスクステージ103とワークステージ105間の空間を減圧するために利用される。そのため、ワークステージ105を上昇させ、ワーク104をマスク102に密着させた状態で、シール部材112の先端部分11221がマスクステージ103の下面に接していなければならない。しかし、シール部材112の高さ(長さ)を、ワーク104をマスク102に密着させたとき、その先がマスクステージ103の下面に十分に接するような高さ(長さ)にすると、図12に示した、マスク102とワーク104の位置合せを行う時も、マスク102とワーク104の間隔は、上記したように100μmと小さいため、シール部材112の先端部分11221がマスクステージ103の下面に接触してしまう。前述のごとく、最近は、焦点深度の浅い精度の高いアライメント顕微鏡111が使用されるようになってきており、アライメントギャップ(位置合わせ間隙)はますます狭くなる傾向にある。一般にシール部材112は樹脂製であり、μmオーダーで高さを正確に加工製作することは困難である。マスク102とワーク104の位置合せは、マスクステージ103又はワークステージ104のいずれか、又はその両方を移動させて行う。移動距離は、通常50〜200μm程度であるが、露光処理全体にかかる時間(タクト)の短縮のために、できるだけ早くスムーズに移動しなければならない。しかし、シール部材112がマスクステージ103の下面に接していると、樹脂製であるシール部材112の弾性により、マスクステージ103やワークステージ105がスムーズに移動できなかったり、移動した後引き戻されたりして、位置合せに時間がかかつたり、位置合せ精度が悪くなったりする。つまり、図11に示したシール部材106を使用した場合でも、又図15に示したシール部材112を使用した場合でも、同様の問題を生じる。
本発明の目的は、上記の問題点に鑑みて、ワークステージの周辺にシール部材を備え、マスクとワークを密着し、マスクステージとワークステージの間を減圧して露光を行う際に、マスクとワークの位置合せを行っているときには、シール部材が、マスクステージに接しないようにしたコンタクト露光装置又はコンタクト露光方法を提供することにある。
本発明は、上記の課題を解決するために、次のような手段を採用した。
第1の手段は、パターンが形成されたマスクと、該マスクを保持するマスクステージと、ワークを載置するワークステージとを備え、前記マスクステージ又はワークステージの周辺部に、環状のシール部材が取り付け、前記ワークステージに載置された前記ワークを前記マスクと接触させ、前記マスクと前記マスクステージと前記ワークと前記ワークステージと前記シール部材により形成される空間を減圧した状態で、露光光を前記マスクを介して前記ワークに照射するコンタクト露光装置において、前記シール部材に、該シール部材の先端部全体を上下移動させる移動機構が取り付けられていることを特徴とするコンタクト露光装置である。
第2の手段は、第1の手段において、前記シール部材は、前記ワークステージに固定されて弾性変形が可能な環状の第1の樹脂部分と、該第1の樹脂部材の上部に取り付けられた環状の板状部材と、該板状部材の上面に形成された環状の第2の樹脂部分と、一端が前記板状部材に他端が前記ワークステージに固定されて前記板状部材を前記マスクステージの方向に付勢するばねとを備えることを特徴とするコンタクト露光装置である。
第3の手段は、パターンが形成されたマスクと、該マスクを保持するマスクステージと、ワークを載置するワークステージとを備え、前記ワークステージ又は前記マスクステージの周辺部に、先端部全体が上下移動する環状のシール部材を取り付け、前記マスクと前記ワークの位置合せを行った後、前記マスクと前記ワークを接触させ、露光光を前記マスクを介して前記ワークに照射するコンタクト露光方法において、前記マスクと前記ワークの位置合わせを行う時は、前記シール部材の先端部は、前記シール部材が取り付けられている前記ワークステージ又は前記マスクステージ側に退避し、露光光が前記マスクを介して前記ワークに照射される時は、前記シール部材の先端部は、対向する前記マスクステージ又は前記ワークステージの方向に移動して、前記マスクステージ又は前記ワークステージと接触し、前記マスクと前記マスクステージと前記ワークと前記ワークステージと前記シール部材により形成される空間が減圧されるようにしたことを特徴とするコンタクト露光方法である。
第4の手段は、ワークステージにワークを載置する第1の工程と、シール部材の先端部を該シール部材が取り付けられているワークステージ又はマスクステージ側に退避させ、ワークステージを位置合せ位置にまで移動させる第2の工程と、マスクに形成されたアライメントマークと前記ワークに形成されたアライメントマークを検出し位置合せを行う第3の工程と、シール部材の先端部を対向する前記マスクステージ又は前記ワークステージに向かって移動させ、前記ワークステージを露光位置にまで移動させる第4の工程と、前記マスクと前記マスクステージと前記ワークと前記ワークステージと先端部が前記マスクステージ又は前記ワークステージと接触した前記シール部材により形成される空間を減圧する第5の工程と、露光光を前記マスクを介して前記ワークに照射する第6の工程と、露光した前記ワークを前記ワークステージから搬出する第7の工程と含むことを特徴とするコンタクト露光方法である。
本発明によれば、マスクとワークの位置合せ時には、シール部材が環状方向について全体が下降しているので、シール部材のシール空間を形成するための先端部分がマスクステージの下面(シール部材がマスクステージ側に設けられている場合は、ワークステージの上面)に接触することがないので、ステージの移動が、時間がかかったり引き戻されたりすることがなく、位置合せ精度が低下することもなく、マスクステージやワークステージ又は両方の移動をスムーズに行うことができる。
第1の実施形態の発明に係るコンタクト露光装置の構成を示す断面図である。 第1の実施形態の発明に係るコンタクト露光装置の露光過程を示す断面図である。 第1の実施形態の発明に係るコンタクト露光装置の露光過程を示す断面図である。 第1の実施形態の発明に係るコンタクト露光装置の露光過程を示す断面図である。 シール部材移動機構(吸着パッド)9の斜視図を示す図である。 第2の実施形態の発明に係るコンタクト露光装置の露光過程を示す断面図である。 第2の実施形態の発明に係るコンタクト露光装置の露光過程を示す断面図である。 第3の実施形態の発明に係るコンタクト露光装置の構成を示す断面図である。 第4の実施形態の発明に係るコンタクト露光装置に用いられるシール部材6の構成を示す断面図である。 第5の実施形態の発明に係るコンタクト露光装置に用いられるシール部材6の構成を示す断面図である。 従来技術に係るコンタクト露光装置の一例を示す断面図である。 図11に示したコンタクト露光装置の露光過程を示す図である。 図11に示したコンタクト露光装置の露光過程を示す図である。 図11に示したコンタクト露光装置の露光過程を示す図である。 従来技術の問題点を改良したシール部材112の構成を示す図である。
本発明の第1の実施形態を図1ないし図5を用いて説明する。
図1は、本実施形態の発明に係るコンタクト露光装置の構成を示す断面図である。
同図に示すように、このコンタクト露光装置は、露光光を出射する光照射部1、パターンが形成されたマスク2を保持するマスクステージ3、露光処理を行うワーク4を保持するワークステージ5を備えている。光照射部1は、露光光を含む光を放射するランプ11と、ランプ11から放射される光を反射するミラー12を備えている。マスクステージ3は、ワーク4に転写するパターン(マスクパターン)22が形成されたマスク2を保持する。ワークステージ5は、マスクパターン22が転写されるワーク4を保持する。
ワークステージ5の周辺部には、ワーク4を載置する部分を取り囲むように、環状のシール部材6が取り付けられている。シール部材6は、例えば、ワークステージ5と接する部分に真空グリスを塗り、ねじにより固定している。シール部材6の第2の樹脂部分62の先端部全体は、後述するように、露光時にはワーク104を載置する部分を、環状に取り囲んでマスクステージ3の下面と隙間なく接触し閉空間を形成する。又、マスクステージ3には、マスク2とマスクステージ3とワーク4とワークステージ5とシール部材6により形成される閉空間を減圧するための真空配管7が設けられている。なお、環状のシール部材6は、ワーク4を載置する部分を取り囲むように設けられるものであって、環状の形態は、輪状に限定されず、例えば、ワーク形状に合わせて角形状に形成したものも含まれる。
更に、ワークステージ5には、ワークステージ駆動機構8が取り付けられており、ワークステージ駆動機構8はワークステージ5をX方向(例えば、紙面の左右方向)、Y方向(例えば、紙面に対して垂直方向)、Z方向(例えば、紙面の上下方向)に移動させるとともに、ワークステージ5をワーク面に垂直な軸を中心として回転(この回転をθ方向移動という)させる機能を有する。なお、マスク2とワーク4には、両者の位置を合わせるために、それぞれにアライメントマーク21、41が形成されている。
シール部材6は、マスクステージ3の下面と接触する先端部分の環状方向の高さを揃えるために、環状の第1の樹脂部分61の上部に、環状の薄い金属の板状部材(ステンレスリング)63が取り付けられ、環状の板状部材63の上面には、先端部である環状で突起状の第2の樹脂部分62が形成されている。また、第1の樹脂部分61が、環状の板状部材63の重みで変形しないように、板状部材63の複数箇所に、例えば、板ばね等からなるばね部材64が取り付けられている。ばね部材64の板状部材63に取り付けられる側とは反対側は、ワークステージ5に固定される。これにより、板状部材63は、ばね部材64の弾性により、マスクステージ3の方向に付勢される。環状の板状部材63の上に形成した環状の第2の樹脂部分62の先端部が、マスクステージ3の下面と接する部分である。環状の板状部材63の上にマスクステージ3と接する第2の樹脂製部分62が形成されているので、環状の板状部材63がシール部材6の先端の高さを揃える働きをし、マスクステージ3と接するシール部材6の先端の環状方向の一部が垂れ、リークが生じるというようなことがなくなる。
更に、ワークステージ5には、シール部材移動機構9が設けられている。シール部材移動機構9は、具体的には吸着パッドで構成されており、シール部材6の周囲に3ないし4個所取り付けられる。図5は、シール部材移動機構(吸着パッド)9の斜視図である。シール部材移動機構(吸着パッド)9、主に、支柱91と樹脂製の蛇腹部92から構成され、蛇腹部92の上部に吸着部93が設けられる。支柱91には真空が供給される真空経路94が形成され、この真空経路94に真空が供給されると、蛇腹部92にも真空が供給される。蛇腹部92に真空が供給された状態で吸着部93に被吸着物である環状の板状部材63が吸着されると、蛇腹部92内部が減圧されて蛇腹部92は下方に縮む。支柱91がワークステージ3に固定されているので、蛇腹部92が縮むことにより吸着部93に吸着された環状の板状部材63は下方に移動する。
図2ないし図4は、図1に示したコンタクト露光装置の露光過程を示す図である。なお、図2ないし図4には、図1に示した光照射部1やワークステージ駆動機構8は省略されている。
図1ないし4を用いて、本発明のコンタクト露光装置の露光過程について説明する。
図1において、不図示の搬送機構により、ワーク4がワークステージ5上に置かれ保持される。なお、ワーク4の表面には露光光により反応する不図示のレジストが塗布されている。シール部材移動機構(吸着パッド)9は、シール部材6の周囲に3ないし4箇所設けられた吸着部93がシール部材6の第1の樹脂部分61の上部に取り付けられた環状の板状部材63の底面と対向するように設ける。シール部材移動機構(吸着パッド)9の支柱91はワークステージ5に固定されている。シール部材移動機構(吸着パッド)9には、マスクステージ3とワークステージ5の間を真空にする真空配管7とは別に、真空配管10が接続され、任意のタイミングでシール部材移動機構(吸着パッド)9に真空を供給する。なお、シール部材移動機構(吸着パッド)9には真空は供給されていない状態を示しているが、真空を供給していても良い。
図2において、不図示のワークステージ駆動機構8により、ワークステージ5を、アライメント・ギャップ(位置合せ間隙、例えば100μm)になるまで上昇(Z方向移動)する。それとともに、真空配管10よりシール部材移動機構(吸着パッド)9に真空を供給する。シール部材移動機構(吸着パッド)9の吸着部93は、対向するシール部材6の環状の板状部材63の底面を吸着し蛇腹部92が縮む。蛇腹部92が縮むことにより、環状の板状部材63には、シール部材6の環状の板状部材63より下の第1の樹脂部分61が変形し、その結果、シール部材6の第2の樹脂部分62の先端部は環状方向について全体が下降する(マスクステージ3から離れる方向に退避移動する)。次に、光照射部1とマスク2との間にアライメント顕微鏡11を挿入し、マスク・アライメントマーク21とワーク・アライメントマーク41を検出する。両者のアライメントマーク21、41が一致するように(又は所定の位置関係になるように)、ワークステージ駆動機構8によりワークステージ5をXYθ方向に移動させ、マスク2とワーク4の位置合わせ(アライメント)を行う。
シール部材6の第2の樹脂部分62の先端部は、環状方向について全体がシール部材移動機構(吸着パッド)9により下降退避しているので、マスクステージ3の下面に接触することがなく、ワークステージ5をスムーズに移動させることができる。したがって、マスク2とワーク4の位置合せを短時間で行うことができる。また、シール部材6の弾性によりワークステージ5が移動後引き戻されるようなこともないので、位置合せ精度が低下することもない。
なお、本実施形態において、マスク2とワーク4の位置合せは、ワークステージ5を移動させて行う例を示したが、マスクステージ3を移動させて行っても良いし、又、ワークステージ5とマスクステージ3の両方を移動させて行っても良い。このように、マスクステージ3又はマスクステージ3とワークステージ5の両方を移動させる場合であっても、シール部材6の先端が、マスクステージ3の下面に接触しないので、マスク2とワーク4の位置合せをスムーズに行うことができ、位置合せに時間がかかったり位置合せ精度が悪くなったりすることがない。
図3において、アライメント終了後、ワークステージ5を上昇させ、マスク2とワーク4を接触させる。それとともに、シール部材移動機構(吸着パッド)9に供給していた真空を止める。シール部材移動機構(吸着パッド)9の吸着部93による、シール部材6の環状の板状部材63の吸着が解除され、板状部材63に加わっていた下側に移動させる力がなくなる。シール部材6は板ばね64の弾性により元の高さに戻り、マスクステージ3に付勢され、シール部材6の第2の樹脂部分62の先端部は、環状方向について全体が対向するマスクステージ3の方向に移動し、マスクステージ3の下面に隙間なく接触し、マスク2、マスクステージ3、ワーク4、ワークステージ5、シール部材6によりシール空間が形成される。シール部材移動機構(吸着パッド)9の蛇腹部92も元に戻る。マスクステージ3に設けられた真空配管7に真空を供給し上記シール空間を減圧する。シール空間が減圧されると、マスク2はワーク4に押し付けられ、マスク2とワーク4は全面に渡って密着する。不図示の光照射部1から露光光を、マスク2を介してワーク4に照射する。よって、不図示のマスクパターン22がワーク4上に転写される。
図4において、不図示のワークステージ駆動機構8が動作し、ワークステージ5が下降する。次いで、不図示の搬送機構により、ワーク4がワークステージ5からコンタクト露光装置外に搬出される。なお、本実施形態においては、シール部材6をワークステージ5側に取り付けて構成したが、マスクステージ3側に取り付けてもよい。
本発明の第2の実施形態を図6及び図7を用いて説明する。
図6及び図7は、本実施形態の発明に係るコンタクト露光装置の露光過程を示す断面図である。なお、これらの図においては、図1に示した光照射部1やワークステージ駆動機構8は省略されている。
同図に示すように、シール部材6とシール部材移動機構(吸着パッド)9が、マスクステージ3側に取り付けられている。
図6は、マスク2とワーク4の位置合せを行っている状態を示す図であり、シール部材移動機構(吸着パッド)9に真空が供給され、シール部材移動機構(吸着パッド)9の吸着部93はシール部材6の環状の板状部材63の底面を吸着し蛇腹部92が縮む。板ばね64が縮むとともに、第1の樹脂部分61が変形し、その結果、シール部材6の第2の樹脂部分62の先端部は、環状方向について全体がワークステージ5から離れる方向に退避移動する。アライメント顕微鏡11が挿入され、マスク・アライメントマーク21とワーク・アライメントマーク41を検出する。両者のアライメントマーク21、41が一致するように(又は所定の位置関係になるように)、ワークステージ5又はマスクステージ3を移動し、マスク2とワーク4の位置合わせ(アライメント)を行う。
図7は、ワークの露光を行っている状態を示す図である。ワークステージ5が上昇し、マスク2とワーク4が接触する。それとともに、シール部材移動機構(吸着パッド)9に供給していた真空を止める。シール部材6は板ばね64の弾性により元の高さに戻り、シール部材6の第2の樹脂部分62の先端部は、環状方向について全体が対向するワークステージ5の方向に移動してワークステージ5の上面に隙間なく接触し、マスク2、マスクステージ3、ワーク4、ワークステージ5、シール部材6によりシール空間が形成される。マスクステージ3に設けられた真空配管7に真空を供給し上記シール空間を減圧する。マスク2とワーク4は全面に渡って密着し、不図示の光照射部1から露光光を、マスク2を介してワーク4に照射する。よって、不図示のマスクパターン22がワーク4上に転写される。なお、本実施形態においては、シール部材移動機構9として図5に示すような吸着パッドを用いたが、シール部材移動機構9は、他の構成を採用してもよい。
本発明の第3の実施形態を図8を用いて説明する。
図8は、本実施形態の発明に係るコンタクト露光装置の構成を示す断面図である。なお、同図においては、図1に示した光照射部1やワークステージ駆動機構8は省略されている。
同図に示すように、このコンタクト露光装置は、雌ねじ121と雌ねじ121を回転させるモータ123とから構成されたシール部材移動機構12を備える。モータ123は、同図上下方向に直立した雄ねじ122を、回転軸を中心にして回転させる。雄ねじ122は、シール部材6の環状の板状部材63を貫通している。雄ねじ122が貫通する環状の板状部材63の上下には、雌ねじ121が取り付けられており、雄ねじ122は、雌ねじ121と噛み合っている。雄ねじ121がモータ123により回転すると、シール部材6の環状の板状部材63は上下し、これによりシール部材6の第2の樹脂部分62の先端部も環状方向について全体が上下する。マスク2とワーク4の位置合せ時には、モータ123は、雄ねじ122を、環状の板状部材63を下降する方向に回転させる。また、露光時は、モータ123は、雄ねじ122を、環状の板状部材63が上昇する方向に回転させる。その結果、シール部材6の第2の樹脂部分62の先端部は、対向するマスクステージ3の方向に移動してマスクステージ3の上面に接触し、マスク2、マスクステージ3、ワーク4、ワークステージ5、シール部材6によりシール空間が形成される。
本発明の第4の実施形態を図9を用いて説明する。
図9(a)は、本実施形態の発明に係るコンタクト露光装置に用いられるシール部材6の構成を示す断面図である。
図9(a)に示すように、シール部材6は、環状の金属製のベローズ状の部材(ベローズ部材)65で構成され、上部にはマスクステージ3と接する先端部である樹脂66が環状に取り付けられている。ベローズ部材65は円環状であるが、図9(a)においては、ベローズ部材65を半分に切った状態を示しており、同図に示すように、内部は中空である。不図示のワークステージ5に取り付けられて、中空の内部に、空気又は真空を供給できるように構成されている。
図9(b)に示すように、位置合せ時には、ベローズ部材65の内部を真空にすると、蛇腹が縮み、先端部の樹脂66が環状方向について全体にワークステージ5の方向に下降退避する。又、図9(c)に示すように、露光時は、ベローズ部材65の内部に空気を送り込むと、ベローズ部材65の蛇腹が伸びて、先端部の樹脂66がマスクステージ3の方向に移動し、マスクステージ3の下面に接触する。その結果、シール部材6の先端部の樹脂66は、環状方向について全体に対向するマスクステージ3の上面に接触し、マスク2、マスクステージ3、ワーク4、ワークステージ5、シール部材6によりシール空間が形成される。
本発明の第4の実施形態を図10を用いて説明する。
図10(a)は、本実施形態の発明に係るコンタクト露光装置に用いられるシール部材6の構成を示す断面図である。
図10(a)に示すように、シール部材6は、樹脂製の環状のダイヤフラム状の部材(ダイヤフラム部材)67で構成されている。このダイヤフラム部材67は円環状であるが、図10(a)においては、ダイヤフラム部材67を半分に切った状態を示しており、同図に示すように、ダイヤフラム67の内部は中空であり、不図示のワークステージ5に取り付けられて、中空の内部に、空気又は真空を供給できるように構成されている。
図10(b)に示すように、位置合せ時には、ダイヤフラム部材67の内部を真空にすると、ダイヤフラム部材67がしぼみ、ダイヤフラム部材67の上部(先端部)671がワークステージ5の方向に下降退避する。又、図10(c)に示すように、露光時は、ダイヤフラム部材67の内部に空気を送り込むと、ダイヤフラム部材67が膨れて、ダイヤフラム部材67の上部(先端部)671がマスクステージ3の方向に移動し、ダイヤフラム部材67の上部(先端部)671は、環状方向について全体がマスクステージ3の下面に接触し、マスク2、マスクステージ3、ワーク4、ワークステージ5、シール部材6によりシール空間が形成される。
なお、図8、図9、図10において示した、シール部材6は、いずれもワークステージ5側に取り付ける例を示したが、上述のごとく、マスクステージ3側に取り付けてもよい。
1 光照射部
11 ランプ
12 ミラー
2 マスク
21 アライメントマーク
22 パターン
3 マスクステージ
4 ワーク
41 アライメントマーク
5 ワークステージ
6 シール部材
61 第1の樹脂部分
62 第2の樹脂部分
63 板状部材
64 ばね部材
65 ベローズ部材
66 樹脂
67 ダイヤフラム部材
671 上部(先端部)
7 真空配管
8 ワークステージ駆動機構
9 シール部材移動機構
91 支柱
92 蛇腹部
93 吸着部
94 真空経路
10 真空配管
11 アライメント顕微鏡
12 シール部材移動機構
121 雌ねじ
122 雄ねじ
123 モータ

Claims (4)

  1. パターンが形成されたマスクと、該マスクを保持するマスクステージと、ワークを載置するワークステージとを備え、前記マスクステージ又はワークステージの周辺部に、環状のシール部材が取り付け、前記ワークステージに載置された前記ワークを前記マスクと接触させ、前記マスクと前記マスクステージと前記ワークと前記ワークステージと前記シール部材により形成される空間を減圧した状態で、露光光を前記マスクを介して前記ワークに照射するコンタクト露光装置において、
    前記シール部材に、該シール部材の先端部全体を上下移動させる移動機構が取り付けられていることを特徴とするコンタクト露光装置。
  2. 前記シール部材は、前記ワークステージに固定されて弾性変形が可能な環状の第1の樹脂部分と、該第1の樹脂部材の上部に取り付けられた環状の板状部材と、該板状部材の上面に形成された環状の第2の樹脂部分と、一端が前記板状部材に他端が前記ワークステージに固定されて前記板状部材を前記マスクステージの方向に付勢するばねとを備えることを特徴とする請求項1に記載のコンタクト露光装置。
  3. パターンが形成されたマスクと、該マスクを保持するマスクステージと、ワークを載置するワークステージとを備え、前記ワークステージ又は前記マスクステージの周辺部に、先端部全体が上下移動する環状のシール部材を取り付け、前記マスクと前記ワークの位置合せを行った後、前記マスクと前記ワークを接触させ、露光光を前記マスクを介して前記ワークに照射するコンタクト露光方法において、
    前記マスクと前記ワークの位置合わせを行う時は、前記シール部材の先端部は、前記シール部材が取り付けられている前記ワークステージ又は前記マスクステージ側に退避し、露光光が前記マスクを介して前記ワークに照射される時は、前記シール部材の先端部は、対向する前記マスクステージ又は前記ワークステージの方向に移動して、前記マスクステージ又は前記ワークステージと接触し、前記マスクと前記マスクステージと前記ワークと前記ワークステージと前記シール部材により形成される空間が減圧されるようにしたことを特徴とするコンタクト露光方法。
  4. ワークステージにワークを載置する第1の工程と、シール部材の先端部を該シール部材が取り付けられているワークステージ又はマスクステージ側に退避させ、ワークステージを位置合せ位置にまで移動させる第2の工程と、マスクに形成されたアライメントマークと前記ワークに形成されたアライメントマークを検出し位置合せを行う第3の工程と、シール部材の先端部を対向する前記マスクステージ又は前記ワークステージに向かって移動させ、前記ワークステージを露光位置にまで移動させる第4の工程と、前記マスクと前記マスクステージと前記ワークと前記ワークステージと先端部が前記マスクステージ又は前記ワークステージと接触した前記シール部材により形成される空間を減圧する第5の工程と、露光光を前記マスクを介して前記ワークに照射する第6の工程と、露光した前記ワークを前記ワークステージから搬出する第7の工程とを含むことを特徴とするコンタクト露光方法。
JP2009010531A 2009-01-21 2009-01-21 コンタクト露光装置及びコンタクト露光方法 Expired - Fee Related JP5495094B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009010531A JP5495094B2 (ja) 2009-01-21 2009-01-21 コンタクト露光装置及びコンタクト露光方法
TW098138430A TW201028796A (en) 2009-01-21 2009-11-12 Contact exposure apparatus and contact exposure method
KR1020100000833A KR20100085838A (ko) 2009-01-21 2010-01-06 콘택트 노광 장치 및 콘택트 노광 방법
CN201010004497A CN101782724A (zh) 2009-01-21 2010-01-21 接触曝光装置及接触曝光方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009010531A JP5495094B2 (ja) 2009-01-21 2009-01-21 コンタクト露光装置及びコンタクト露光方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010171094A true JP2010171094A (ja) 2010-08-05
JP5495094B2 JP5495094B2 (ja) 2014-05-21

Family

ID=42522772

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009010531A Expired - Fee Related JP5495094B2 (ja) 2009-01-21 2009-01-21 コンタクト露光装置及びコンタクト露光方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP5495094B2 (ja)
KR (1) KR20100085838A (ja)
CN (1) CN101782724A (ja)
TW (1) TW201028796A (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI448842B (zh) * 2012-09-20 2014-08-11 國立成功大學 圖案轉移基板裝置及其圖案轉移基板
CN103616803B (zh) * 2013-11-25 2015-09-09 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 光栅尺真空复制曝光设备

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62230537A (ja) * 1986-03-31 1987-10-09 Canon Inc 2平板分離装置
JPH01139237U (ja) * 1988-03-15 1989-09-22
JPH02103919A (ja) * 1988-10-13 1990-04-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd 露光装置
JP2000081707A (ja) * 1998-09-03 2000-03-21 Adtec Engineeng Co Ltd 露光装置
WO2001016654A1 (en) * 1999-09-01 2001-03-08 Sanei Giken Co., Ltd. Substrate supporting table of exposure system

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62230537A (ja) * 1986-03-31 1987-10-09 Canon Inc 2平板分離装置
JPH01139237U (ja) * 1988-03-15 1989-09-22
JPH02103919A (ja) * 1988-10-13 1990-04-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd 露光装置
JP2000081707A (ja) * 1998-09-03 2000-03-21 Adtec Engineeng Co Ltd 露光装置
WO2001016654A1 (en) * 1999-09-01 2001-03-08 Sanei Giken Co., Ltd. Substrate supporting table of exposure system

Also Published As

Publication number Publication date
KR20100085838A (ko) 2010-07-29
JP5495094B2 (ja) 2014-05-21
CN101782724A (zh) 2010-07-21
TW201028796A (en) 2010-08-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6535206B2 (ja) 露光方法及び露光装置
TWI743614B (zh) 基板處理裝置及基板處理方法
TW486608B (en) Contact exposure method
WO2018225384A1 (ja) 検査装置、検査システム、および位置合わせ方法
KR20170114933A (ko) 처리 장치 및 물품의 제조 방법
JP5305012B2 (ja) ワークステージ及びそのワークステージを備えた露光装置
KR100982673B1 (ko) 미세 패턴 임프린트 장치
JP2008221706A (ja) 転写装置および転写方法
WO2013035854A1 (ja) 密着露光装置及び密着露光方法
JP5495094B2 (ja) コンタクト露光装置及びコンタクト露光方法
JP6742551B2 (ja) 基板処理装置
CN116313980A (zh) 晶圆吸附装置
TWI754070B (zh) 基板處理裝置及基板處理方法
JP2023044294A (ja) 接合装置及び接合方法
JP2015065298A (ja) 吸着ステージ、貼合装置、および貼合方法
JP2015018007A (ja) フィルムマスク修正装置
JP2007036101A (ja) 露光機のワークステージ及び露光方法
JP4608638B2 (ja) ペリクル装着装置、ペリクル装着方法及びパターン基板の製造方法
JP2010140921A (ja) ボール搭載装置、ボール搭載方法及び電子部品の製造装置
KR101367852B1 (ko) 기판에 식각 영역을 만들기 위한 장치 및 방법
JP3848942B2 (ja) 基板の組立方法およびその装置
JP2008111969A (ja) 露光装置
JP2008251944A (ja) 露光装置
JP4921789B2 (ja) 露光方法および露光装置
JP2008276040A (ja) マスクステージ

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110922

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20121031

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121106

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121130

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130612

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130709

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140207

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140220

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5495094

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees