JP2010159345A - 高分子架橋体および高分子架橋体の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】2個以上の環状部分を有するポリマーと、一方の末端にブロック基を有し他方の末端に重合性官能基を有する直鎖状分子及び/又は両末端に重合性官能基を有する直鎖状分子とを混合し、その全部又は一部について包接錯体を形成させ、次いで、上記重合性官能基と、下限臨界溶液温度を有しない水溶性(メタ)アクリル酸系モノマーとを共重合し、インターロック構造を有する高分子架橋体を得る。
【選択図】図1
Description
本発明の一実施形態に係る高分子架橋体(E)は、図1又は図2に模式的に示す方法により製造することができる。
(1)ポリマー(A)の合成
α−シクロデキストリン(ナカライテスク社製)5gをジメチルホルムアミド50mlに溶解させ、この溶液にトリレン2,4−ジイソシアネート末端ポリプロピレングリコール(Aldrich社製,Mn:1,000)3.4gと、錫触媒であるジブチル錫ジラウレート(東京化成社製)200mgとを加え、一晩室温で攪拌した。
ポリエチレングリコールメタクリレート(Aldrich社製,Mn:526)3.5gを塩化メチレン15mlに溶解させ、この溶液に3,5−ジメチルフェニルイソシアネート(Aldrich社製)1.5gと、錫触媒であるジブチル錫ジラウレート(東京化成社製)200mgとを加え、一晩室温で攪拌した。
ポリマー(A)100mgを0.4wt%の水酸化ナトリウム水溶液1mlに溶解させ、この溶液に直鎖状分子(B1)200mgを加え、機械的に攪拌しながら超音波照射(35Hz)を5分行ったところ、溶液が白濁し、粘性が上昇した。このような粘度上昇した白濁物は、ポリマー(A)の環状部分が直鎖状分子(B1)を包接してなる高分子架橋前駆体(C)であると考えられる
高分子架橋前駆体(C)と考えられる上記白濁物に、下限臨界溶液温度を有しない水溶性(メタ)アクリル酸系モノマー(D)としてN,N−ジメチルアクリルアミド2.0gを加え、均一になるまで攪拌した。次いで、光重合開始剤である1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン及びベンゾフェノンの1:1共融混合物(チバスペシャリティーケミカルズ社製,IRUGACURE 500)40μlを加え、撹拌後、真空ポンプにて脱気を行った。その後、上記操作により得られた混合溶液を、図3に示すように、ガラス板上のシリコーンゴム製型(厚さ1mm)の内側に流し込み、空気が入らない様にガラス板で蓋をし、紫外線を3分間照射(照射条件:照度3.0mW/cm2,光量300mJ/cm2)することにより、ゲル状のフィルムを得た。
ポリマー(A)の配合量を300mgに変更する以外、実施例1と同様にして高分子架橋体(E)、そして高分子架橋体フィルムを製造した。
ポリエチレングリコール(Aldrich社製,Mn:10000)5gを塩化メチレン40mlに溶解させ、この溶液に2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(昭和電工社製,カレンズMOI)1.6gと、錫触媒であるジブチル錫ジラウレート(東京化成社製)200mgとを加え、一晩室温で攪拌した。
ポリマー(A)の替わりにポリエチレングリコールジアクリレート(Aldrich社製,PEG400DA)を15mg使用する以外、実施例1と同様にして高分子架橋体(E)、そして高分子架橋体フィルムを製造した。
ポリマー(A)を使用しない以外、実施例3と同様にして高分子架橋体(E)、そして高分子架橋体フィルムを製造した。
実施例及び比較例で得られた高分子架橋体フィルムについて、引張試験機(島津製作所社製,オートグラフAG−IS)を使用して、試験速度10mm/分にてJIS K−7127に準拠して破断伸度(%)を測定した。結果を表1に示す。
Claims (3)
- 2個以上の環状部分を有するポリマーと、
一方の末端にブロック基を有し他方の末端に重合性官能基を有する直鎖状分子及び/又は両末端に重合性官能基を有する直鎖状分子と
を混合し、その全部又は一部について包接錯体を形成させ、
次いで、前記直鎖状分子の重合性官能基と、下限臨界溶液温度を有しない水溶性(メタ)アクリル酸系モノマーとを共重合する
ことを特徴とする高分子架橋体の製造方法。 - 2個以上の環状部分を有するポリマーと、一方の末端にブロック基を有し他方の末端に重合性官能基を有する、前記ポリマーと包接錯体を形成可能な直鎖状分子及び/又は両末端に重合性官能基を有する、前記ポリマーと包接錯体を形成可能な直鎖状分子とを混合して得られた高分子架橋前駆体の前記直鎖状分子の重合性官能基と、下限臨界溶液温度を有しない水溶性(メタ)アクリル酸系モノマーとを共重合させることにより得られることを特徴とする高分子架橋体。
- 前記ポリマーの環状部分は、α−シクロデキストリン、β−シクロデキストリンおよびγ−シクロデキストリンからなる群から選ばれる少なくとも1種、または環状ポリエーテル、環状ポリエステル、環状ポリエーテルアミンおよび環状ポリアミンからなる群から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項2に記載の高分子架橋体。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009002152A JP5329241B2 (ja) | 2009-01-08 | 2009-01-08 | 高分子架橋体および高分子架橋体の製造方法 |
| PCT/JP2009/071137 WO2010079681A1 (ja) | 2009-01-08 | 2009-12-18 | 高分子架橋体および高分子架橋体の製造方法 |
| TW098144932A TWI477519B (zh) | 2009-01-08 | 2009-12-25 | Construction method of polymer bridge and polymer bridge |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009002152A JP5329241B2 (ja) | 2009-01-08 | 2009-01-08 | 高分子架橋体および高分子架橋体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010159345A true JP2010159345A (ja) | 2010-07-22 |
| JP5329241B2 JP5329241B2 (ja) | 2013-10-30 |
Family
ID=42316450
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009002152A Active JP5329241B2 (ja) | 2009-01-08 | 2009-01-08 | 高分子架橋体および高分子架橋体の製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5329241B2 (ja) |
| TW (1) | TWI477519B (ja) |
| WO (1) | WO2010079681A1 (ja) |
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2009
- 2009-01-08 JP JP2009002152A patent/JP5329241B2/ja active Active
- 2009-12-18 WO PCT/JP2009/071137 patent/WO2010079681A1/ja not_active Ceased
- 2009-12-25 TW TW098144932A patent/TWI477519B/zh active
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| WO2010079681A1 (ja) | 2010-07-15 |
| TW201033233A (en) | 2010-09-16 |
| TWI477519B (zh) | 2015-03-21 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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