JP2010151730A - 圧力センサ - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 78
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 65
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 29
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 15
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 7
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 50
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 abstract description 50
- 239000010703 silicon Substances 0.000 abstract description 50
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 2
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 58
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 54
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 24
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 24
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 3
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 3
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 2
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000135309 Processus Species 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000002788 crimping Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 1
- 238000002513 implantation Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- -1 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
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Abstract
【解決手段】各歪みゲージ抵抗45a〜45dが形成される第1のシリコン基板41における第1の板面51の面方位が(110)面であり、当該各歪みゲージ抵抗45a〜45dはその長手方向が<110>結晶軸方向に沿うように配置されている。そして、第2のシリコン基板42における第2の板面52には、<110>結晶軸方向に沿うセンサチップ側溝52aが所定の間隔にて複数形成されている。
【選択図】図3
Description
したがって、ケースに対するセンサチップの支持強度を高めるとともにセンサチップへのノイズの影響を抑制することができる。
[第1実施形態]
本発明の第1実施形態について図を参照して説明する。図1は、本第1実施形態に係る圧力センサ10の全体概略断面図である。
したがって、ハウジング30に対するセンサチップ40の支持強度を高めるとともにセンサチップ40へのノイズの影響を抑制することができる。
図4(A),(B)に示すように、本第1実施形態における第1の変形例として、各歪みゲージ抵抗45a〜45dの長手方向と、各センサチップ側溝52aの延在方向とは、互いに<110>結晶軸方向に沿い、かつ、センサチップ40の長手方向(圧力導入方向)に対して平行になるように構成されてもよい。
図5(A),(B)に示すように、本第1実施形態における第2の変形例として、第2のシリコン基板42の第2の板面52に形成される各センサチップ側溝52aを連結する連結溝52cを設けてもよい。
図6に示すように、本第1実施形態における第3の変形例として、各センサチップ側溝52aを廃止するとともに、各センサチップ側溝52aに対応する突起である各ケース側突起34をハウジング30の開口部31bの内面に設けてもよい。
図7に示すように、本第1実施形態における第4の変形例として、ハウジング30の他端部側30bの一部であって、ネジ部32と、接着剤60を介してセンサチップ40に対向する部位との間に、圧力導入通路に平行なスリット35を形成してもよい。また、図8に示すように、本第1実施形態における第5の変形例として、スリット35に代えて、圧力導入通路に直交するようなスリット36を形成してもよい。
次に、本発明の第2実施形態に係る圧力センサについて、図9を参照して説明する。図9は、第2実施形態に係るセンサチップ70を示す説明図であり、図9(A)は、第2の板面74側から見たセンサチップ70の平面図であり、図9(B)は、図9(A)に示す9B−9B線相当の切断面による断面図である。
次に、本発明の第3実施形態に係る圧力センサについて、図11を参照して説明する。図11は、第3実施形態に係るセンサチップ80を示す詳細断面図である。
図13に示すように、本第3実施形態における第1の変形例として、ハウジング30の開口部31bに、圧力導入通路31の圧力導入方向に対して直交する方向に延在する第1当接部37を設けてもよい。このようにしても、センサチップ80に突起84bを設ける場合と同様に、センシング部投影領域84aへの接着剤60の流出を抑制することができる。特に、センサチップ80に突起等を設ける必要がないので、センサチップ80の製造工程の一部を削減することができる。
(1)図14は、第1実施形態における第6の変形例に係る圧力センサの概略断面図である。
図14に示すように、上記第1実施形態において、センサチップ40の第1のシリコン基板41の第1の板面51にも、<110>結晶軸方向に沿うセンサチップ側溝51aが所定の間隔にて複数設けられてもよい。これにより、ハウジング30に対するセンサチップ40の支持強度をさらに高めるとともにセンサチップ40へのノイズの影響を抑制することができる。
11…ケース
20…コネクタケース
30…ハウジング
31…圧力導入通路
32…ネジ部
34…ケース側突起
35,36…スリット
37…第1当接部
38…第2当接部
40,70,80…センサチップ
40a,70a,80a…センシング部
41,71,81…第1のシリコン基板(第1の基板)
42,72,82…第2のシリコン基板(第2の基板)
45…歪みゲージ(圧力検出部)
45a〜45d…歪みゲージ抵抗(圧力検出部)
48…ダイアフラム,薄肉部
49…圧力基準室
49a…凹部
51,73,83…第1の板面(一側面)
52,74,84…第2の板面(他側面)
52a…センサチップ側溝
52b…突部
52c…連結溝
60…接着剤
74a…格子溝
74b…突出部
84a…センシング部投影領域
84b…突起
Claims (13)
- 圧力媒体の圧力を検出可能なセンシング部を有するセンサチップと、
前記圧力媒体を導入するための圧力導入通路が形成されるケースと、
前記センサチップのうち前記センシング部が前記圧力導入通路内に露出するように当該センサチップと前記ケースとの間に介在される封止部材と、
を備える圧力センサであって、
前記センシング部は、前記圧力媒体の圧力と密閉される圧力基準室の基準圧力との圧力差に基づくダイアフラムの変位に応じた信号を出力可能な複数の歪みゲージを有するように構成され、
前記各歪みゲージが形成される一側面の面方位が(110)面であり、当該各歪みゲージが<110>結晶軸方向に沿って配置され、
前記センサチップの表面であって前記封止部材に接触する部位には、前記<110>結晶軸方向に沿うセンサチップ側溝が複数形成されることを特徴とする圧力センサ。 - 前記各センサチップ側溝は、前記センサチップの表面のうち前記一側面に対向する他側面に対して前記各歪みゲージがそれぞれ投影される各投影部を除くように形成されることを特徴とする請求項1に記載の圧力センサ。
- 前記各センサチップ側溝は、隣接するセンサチップ側溝間の部位の1つに前記各投影部が全て投影されるように形成されることを特徴とする請求項2に記載の圧力センサ。
- 前記センサチップは、前記各センサチップ側溝が前記圧力導入通路に対して直交するように前記封止部材を介して支持されることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の圧力センサ。
- 前記センサチップには、前記各センサチップ側溝の一部を連結する連結溝が形成されることを特徴とする請求項4に記載の圧力センサ。
- 圧力媒体の圧力を検出可能なセンシング部を有するセンサチップと、
前記圧力媒体を導入するための圧力導入通路が形成されるケースと、
前記センサチップのうち前記センシング部が前記圧力導入通路内に露出するように当該センサチップと前記ケースとの間に介在される封止部材と、
を備える圧力センサであって、
前記センシング部は、前記圧力媒体の圧力と密閉される圧力基準室の基準圧力との圧力差に基づくダイアフラムの変位に応じた信号を出力可能な複数の歪みゲージを有するように構成され、
前記各歪みゲージが形成される一側面の面方位が(110)面であり、当該各歪みゲージが<110>結晶軸方向に沿って配置され、
前記ケースの内面のうち前記封止部材を介して前記センサチップに対向する部位には、前記<110>結晶軸方向に沿うケース側突起が複数形成されることを特徴とする圧力センサ。 - 圧力媒体の圧力を検出可能なセンシング部を有するセンサチップと、
前記圧力媒体を導入するための圧力導入通路が形成されるケースと、
前記センサチップのうち前記センシング部が前記圧力導入通路内に露出するように当該センサチップと前記ケースとの間に介在される封止部材と、
を備える圧力センサであって、
前記センシング部は、前記圧力媒体の圧力と密閉される圧力基準室の基準圧力との圧力差に基づくダイアフラムの変位に応じた信号を出力可能な複数の歪みゲージを有するように構成され、
前記各歪みゲージが形成される一側面の面方位が(100)面であり、当該各歪みゲージが<110>結晶軸方向に沿って配置され、
前記センサチップの表面であって前記封止部材に接触する部位には、格子状の溝が形成されることを特徴とする圧力センサ。 - 前記センサチップは、前記各歪みゲージが形成される薄肉部を有する第1の基板と凹部が形成される第2の基板とを備えており、
前記センシング部は、前記薄肉部と前記凹部を近接させるように前記第1の基板と前記第2の基板とを貼り合わせることで前記薄肉部および前記凹部により前記圧力基準室が形成され、この圧力基準室の圧力と前記圧力媒体の圧力との圧力差に基づき前記ダイアフラムとして機能する前記薄肉部の変位に応じた信号を前記各歪みゲージから出力するように構成されることを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載の圧力センサ。 - 前記ケースは、その外周部に当該ケースを締結させるための締結部が形成されるとともに、この締結部と前記封止部材を介して前記センサチップに対向する部位との間にスリットが設けられることを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項に記載の圧力センサ。
- 圧力媒体の圧力を検出可能なセンシング部を有するセンサチップと、
前記圧力媒体を導入するための圧力導入通路が形成されるケースと、
前記センサチップのうち前記センシング部が前記圧力導入通路内に露出するように当該センサチップと前記ケースとの間に介在される封止部材と、
を備える圧力センサであって、
前記センサチップの表面のうち前記センシング部が構成される一側面に対向する他側面には、当該他側面に対して前記センシング部が投影されるセンシング部投影領域を除く部位であってこのセンシング部投影領域に反圧力導入通路側から近接する部位に、前記圧力導入通路の圧力導入方向に対して直交する方向に延在する突起が設けられることを特徴とする圧力センサ。 - 圧力媒体の圧力を検出可能なセンシング部を有するセンサチップと、
前記圧力媒体を導入するための圧力導入通路が形成されるケースと、
前記センサチップのうち前記センシング部が前記圧力導入通路内に露出するように当該センサチップと前記ケースとの間に介在される封止部材と、
を備える圧力センサであって、
前記ケースには、前記圧力導入通路の圧力導入方向に対して直交する方向に延在する第1当接部が形成され、
前記センサチップは、当該センサチップの表面のうち前記センシング部が構成される一側面に対向する他側面に対して前記センシング部が投影されるセンシング部投影領域を除く部位であってこのセンシング部投影領域に反圧力導入通路側から近接する部位にて、前記第1当接部に当接するように、前記封止部材を介して前記ケースに支持されることを特徴とする圧力センサ。 - 前記ケースには、前記第1当接部に対して圧力導入通路側であって前記センシング部投影領域を除く前記他側面に当接可能な第2当接部が形成されることを特徴とする請求項11に記載の圧力センサ。
- 前記センサチップは、圧力検出部が形成される薄肉部を有する第1の基板と凹部が形成される第2の基板とを備えており、
前記センシング部は、前記薄肉部と前記凹部を近接させるように前記第1の基板と前記第2の基板とを貼り合わせることで前記薄肉部および前記凹部により形成される圧力基準室を備え、この圧力基準室の圧力と前記圧力媒体の圧力との圧力差に基づく前記薄肉部の変位に応じた信号を前記圧力検出部から出力するように構成されることを特徴とする請求項10〜12のいずれか一項に記載の圧力センサ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008332282A JP5251498B2 (ja) | 2008-12-26 | 2008-12-26 | 圧力センサ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008332282A JP5251498B2 (ja) | 2008-12-26 | 2008-12-26 | 圧力センサ |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012144545A Division JP5494741B2 (ja) | 2012-06-27 | 2012-06-27 | 圧力センサ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010151730A true JP2010151730A (ja) | 2010-07-08 |
| JP5251498B2 JP5251498B2 (ja) | 2013-07-31 |
Family
ID=42570975
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008332282A Expired - Fee Related JP5251498B2 (ja) | 2008-12-26 | 2008-12-26 | 圧力センサ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5251498B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP5251498B2 (ja) | 2013-07-31 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
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|
| A977 | Report on retrieval |
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|
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|
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|
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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