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JP2010034048A - 低仕事関数の電気部品 - Google Patents

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JP2010034048A JP2009168359A JP2009168359A JP2010034048A JP 2010034048 A JP2010034048 A JP 2010034048A JP 2009168359 A JP2009168359 A JP 2009168359A JP 2009168359 A JP2009168359 A JP 2009168359A JP 2010034048 A JP2010034048 A JP 2010034048A
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マルコ・フランチェスコ・エイミ
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Sudhakar Eddula Reddy
スッドハカール・エデュッラ・レディ
Om Prakash
オム・プラケッシュ
Ertugrul Berkcan
アーチュグルル・バーカン
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Abstract

【課題】過酷な環境下でも機能し得る、信頼性があり費用効果が高いMEMSおよびMEMSアレイ。また、既存の集積回路製造設備と適合する技術を用いて製造可能なMEMSアレイ。
【解決手段】電気部品100は、開位置と閉位置との間で互いに移動可能な少なくとも2つの電気接点102,106を備え、電気接点102,106のうちの少なくとも1つは仕事関数が約3.5eV未満である材料からなり、閉位置での電気接点間の間隔は0nm〜約30nmである。また、前記電気接点102,106は、セシウム、カリウム、ナトリウム、バリウム、カルシウム、窒化ガリウム、マグネシウム、アルミニウム、銀、シリコン、二酸化チタン、ダイアモンド状炭素(DLC)、金、ルテニウム、またはそれらの組み合わせからなる材料を含む。
【選択図】図1

Description

本発明は、概して電気部品の分野に関する。より具体的には、本発明は低仕事関数材料を組み込んだ電気部品に関する。
マイクロ電気機械システム(MEMS)は、センサやアクチュエータなどの機械的要素と基板上の電子回路との微細加工技術による統合を表わす。電子回路は集積回路製造技術を用いて製造されるが、マイクロ電気機械部品は典型的には、リソグラフィ工程などの適合するマイクロ加工工程を用いて製造される。リソグラフィ工程を使用できることは重要な利点である。例えば、それによってMEMSの特徴寸法を極めて容易に制御できるようになる。リソグラフィ工程によって、MEMSのアレイを製造するための製造工程の容易なスケーリングも可能になる。
MEMS技術は、動作のために限定された移動範囲を必要とするアクチュエータまたはスイッチなどの部品を製造するのに適している。スイッチのアレイもMEMS技術を用いて実現できる。
一種のMEMSは、カンチレバーなどの可動ビームの形式のものでよい懸垂形接続部材を含む。このようなデバイスはさらに、懸垂形接続部材を移動させるため、静電式のものでよい作動機構を含んでもよい。この移動によって、電気接点が懸垂形接続部材の表面とMEMSの隣接部材の表面の間の電気接触を「確立」および「遮断」させることにより、MEMSのいずれか2つ以上の部材間の電気的連通が可能になる。この移動はさらに、当該の2つの表面間の電気的連通の大きさを変更させる方法としても機能することができる。
このようなデバイスの1つの重要な性能指数は、懸垂形接続部材の移動を介して電気的に連通される異なる部品間の電気接触抵抗である。MEMSの性能の信頼性に影響する関連事項は、問題の2つの部品間のアーク放電および/または溶着の可能性に関わるものである。このアーク放電および/または溶着により、電気接触抵抗の制御されない変化を生ずることがあり、事実、電気接点の一時的または永続的な焼き付きを生ずることもある。
これらの問題は、このようなデバイスを例えば過酷な環境で配備する場合に特に関係がある。カンチレバーを使用したMEMSなどのMEMSの仕事を決定する1つの要因は、懸垂形接続部材が配置される周囲環境である。したがって、MEMSはその部材を囲む「清潔」で既知の環境を確保するために密閉状態で封入されることが多い。環境をこのように管理することによって、部品に堆積する汚染物によるMEMSの性能低下の可能性が低減される。
米国特許第6,967,548 B2号 米国特許第6,040,611号 欧州特許第1,529,300 B1号 米国特許第6,880,235 B2号
過酷な環境下でも機能し得る、信頼性があり費用効果が高いMEMSおよびMEMSアレイの開発は、MEMS技術が直面する課題の1つである。また、既存の集積回路製造設備と適合する技術を用いて製造可能なMEMSアレイが必要とされている。
したがって、改良された電気接点を有し、既存の集積回路製造設備を用いて容易に製造できるMEMSが極めて望まれる。
本発明の実施形態は、電気部品および電気部品アレイを対象としたものである。
電気部品は、開位置と閉位置との間で互いに相対移動可能な少なくとも2つの電気接点を含み、電気接点のうちの少なくとも1つは、仕事関数が約3.5eV未満である材料を含み、閉位置での電気接点間の間隔は0nm〜約30nmである。
デバイスは複数の電気スイッチを含み、各々の電気スイッチは、開位置と閉位置との間で互いに相対移動可能な少なくとも2つの電気接点を含み、少なくとも1つの電気接点は仕事関数が約3.5eV未満である材料を含み、閉位置での電気接点間の間隔は0nm〜約30nmである。
これらおよびその他の利点や特徴は、添付図面に関連した本発明の好ましい実施形態の詳細な説明により明らかとなる。
全図面を通して、これらは本発明の好ましい実施形態を説明するために例示されたものであり、本発明の実施形態はこれらに限定されるものではない。
本発明の例示的実施形態による電気部品の概略図である。 本発明の例示的実施形態による開位置にあるスイッチの概略側面図である。 本発明の例示的実施形態による閉位置にあるスイッチの概略側面図である。 本発明の例示的実施形態による閉位置にあるスイッチの概略側面図である。 本発明の例示的実施形態による電気部品アレイの概略図である。
以下の説明では、本発明による実施形態の特定の態様または特徴が、本発明による要素群またはそれらの組み合わせのうちの1つ以上を有する、または1つ以上からなると言及する場合は常に、これらの態様または特徴が、かかる群の中の任意の要素を別個独立に、またはかかる群の中のその他の要素を組み合わせて有していても、このような要素からなっていてもよいことを理解されたい。
本明細書で用いる用語「スイッチ」とは、電気部品の2つの部材を接続し、遮断するために使用可能なデバイスのことである。このようなスイッチの動作の機構は機械的なものでもよく、電気的なものでもよく、または化学的なものでもよく、あるいは上記を組み合わせたものでもよいであろう。このようなスイッチの適当な非限定的な例は、マイクロ電気機械スイッチである。
本明細書で用いる用語「隣接する」とは、電気部品を構成する異なる部材の説明の文脈で用いる場合、当該の部材が互いに近接する状態のことであり、または当該の部材間に介在部材が存在する状態のことも言う。
本明細書で用いる用語「連通」は、電気部品の少なくとも2つの部材の説明の文脈で用いる場合、電子が当該の少なくとも2つの部材間をトンネリング、またはその他の態様で流れることができることを意味する。
本明細書で用いる用語「仕事関数」とは、電子を中性の固体から固体表面のすぐ外側のポイントまで移動させるために必要な(通常は電子ボルトで表わされる)最小エネルギ(または電子をフェルミエネルギレベルから真空へと移動させるために必要なエネルギ)のことである。ここで「すぐ」とは、電子の最終的な位置が原子スケールでは表面から遠く離れているが、それでも顕微鏡スケールでは固体表面に近いことを意味する。金属である固体の表面からの電子の抽出は、光電現象、熱電子現象および電界現象などの異なる現象に基づく幾つかの励起方法を介して誘発することができる。したがって、仕事関数を光電子仕事関数、熱電子仕事関数、および電界仕事関数と言ってもよい。
本明細書で用いる用語「トンネリング」とは、大きさが粒子の運動エネルギよりも大きいポテンシャルエネルギの障壁を透過または通過することによって、電子などの粒子が従来の力学に反する、通常はナノメートルの長さのスケールでのみ重要な量子力学現象のことである。本明細書で量子トンネリングの文脈で用いる用語「障壁」は、古典的な力学によれば電子などの粒子の所定のエネルギの場合は越えることが不可能であるはずの丘や斜面に類似するエネルギ状態であると想起してよい。
本明細書で用いる用語「表面粗さ」とは、機械的表面の高さの小規模な変化の尺度である。この特性は、例えば表面の形状の一部である高さの大規模な変化とは区別されるべきである。表面粗さは、例えば摩擦、摩耗、抗力、および疲労の現象で重要な役割を果たす。表面粗さは例えば、二乗平均平方根として定量化することができる。
本明細書で用いる用語「凹凸」は、顕微鏡的に「平坦」な表面の説明の文脈で用いる場合、部品の表面粗さの一因となる表面にある粗い、尖った、またはごつごつした特徴のことである。凹凸は、固体表面の小規模で局所的な不規則の隆起であると想起してもよい。これは表面粗さという用語と密接に関連しており、2つの用語を置き換えて用いてもよい。
本明細書で用いる用語「電気接点」および「電気接触面」は相互に密接に関連しており、場合によっては置き換えて用いてもよい。これは、いずれか2つの固体の電気接点間の電気的連通が電気接点の表面を介して行われるという事実の認識であり、すなわち、「電気接点」とは、隣接部材との電気的連通を可能にする電気デバイスの部材のことである。これに対して、「電気接触面」とは、前記の電気的連通がその面にわたって生ずる電気接点の表面のことである。
本明細書で用いる用語「開」は、2つの電気接触面間の連通量および/または電気接触の状態の説明の文脈で用いる場合、2つの電気接触面間に電流が流れないか、またはごく僅かしか流れない状況のことである。同様の文脈で、本明細書で用いる用語「閉」は、2つの電気接触面間の連通量および/または電気接触の状態の説明の文脈で用いる場合、2つの電気接触面間に所定の状況で相当の電流量が流れる状況のことである。
特定の材料、および放出のための電子の特定の励起方法で、仕事関数の実際の「有効」値は、励起源に対する材料の下層の結晶格子の配向、表面の性質と品質、表面上に他の材料の追加層が存在するか否か、これらの材料の化学組成、材料内にある異なる種類の化学結合の種類と数を含むがこれらに限定されない幾つかの要因に依存し得る。したがって、いずれかの電気部品の有効仕事関数は、状況に特有のパラメータに応じて変化することがあることを理解されたい。表面の性質と品質は、部品の化学組成、低仕事関数の部品を構成する低仕事関数材料内にいずれかのドープ剤が存在するか否か、ドープ剤のドーピングレベル、部品の微細構造/形態、部品の結晶度、部品内の機械的歪みのレベル、部品の温度、および部品に加えられるバイアスの種類と性質などを含むがこれらに限定されない、相互に関連し得るシステムおよび環境の複数のパラメータに依存することが指摘されている。低仕事関数層の微細構造/形態は、低仕事関数部品の製造に用いられる方法に依存することがあり得る。
実際の表面にはいずれもある程度の粗さがある。したがって、2つの表面が「接触」または電気的に連通されると、それぞれの表面の凹凸の相互作用により、電気接触の実際の表面積は、2つの表面が重複する表面積よりも小さくなる可能性が高い。2つの表面が機械的に電気接触している場合に一方の表面から他方の表面への電気伝導が生ずることができ、または2つの表面が離隔している場合は、適当な条件下で2つの表面間のトンネリングの量子力学現象を介して電気伝導が生ずることがある。したがって、2つの表面間の電子のトンネリングの確率が高まるような特徴を持つように表面を形成することによって、2つの表面間の電気接触を向上させることができる。非限定的な好適の例として、電気的表面をナノ構造に形成して、両者間のトンネリングの確率を高めることができる。一実施形態では、電気接触は1つまたは複数のトンネリング構造を含み、各々の構造は1つまたは複数の隆起/バンプを含むことができる。隆起はさらに、トンネリングの確率を高め、ひいては電気接点間の電流の流れの増強をもたらす好適な形状または配置の尖った先端を組み込むこともできる。このような特徴の製造方法は公知である(非限定的な例として、例えばMaらの米国特許第6,967,548 B2号を参照)。
電気接触抵抗および電気接点の焼き付きの可能性は、MEMSの重要な性能指数である。これらは双方とも、その他の諸要因ともに、当該の2つの表面が電気的に連通した場合のそれらの表面間の「密着」の時間的な進展に依存する。電気スイッチは必然的に少なくとも2つの接触面を含み、従来これらのスイッチは実際の機械的接触を介したいずれか2つの電気接触面間の連通を可能にしてきた。この電気的連通は伝導機構を介して行われる。このような機械的接触の時間経過を経た信頼性には、2つの側面がある。その第1は、前述のように、両方の電気接点の表面に存在し、重複面積よりも小さい電気接触の有効面積を生ずる凹凸が必然的に存在することである。第2の側面は、2つの接触面間の機械的接触が繰り返し「行われ」、かつ「遮断され」、結果として電気接触面の完全さが劣化する結果を招くことである。このことは、電気的に連通する異なる部材の材料、および電気的に連通する電気接触面の粗面化を招く動作中の材料転移などの、2つの電気接点間の電気伝導の特性に依存する要因を考慮することで理解することができる。表面の粗面化の結果、有効な電気接触面積が縮小し、その結果、付随する電気接触抵抗の増大によりさらに、電気接点間のアーク放電および電気接点の溶着/短絡の確率が高まる。
したがって、2つの電気接点間の適切な電気的連通のために、いずれか2つの電気接点間の実際の機械的な電気接触の必要性をある程度まで制限し、可能な限り全くなくすことは有利であり得る。先行技術のスイッチの前述の欠点は、電気的連通の主要な機構が電子トンネリングである電気接点などの機械的接触を必要としない電気接点を使用することによって軽減することができる。
2つの表面間の電子トンネリングの確率は、2つの表面間の間隔、および放出面の仕事関数などの相互に関連する可能性がある幾つかの要因に依存する。仕事関数が高いほど、電子が前記材料から抜け出すのに必要なエネルギは大きくなる。この分野でよく知られているように、電気伝導または連通がいずれかの2つの電気接触面間で生ずる場合、これらの接触面を幾つかの方法で容易に互いに隣接して配置できる。これらは例えば、機械的な電気接点でよい。別の可能性は、それらが凹凸のみで接触することである。さらに別の可能性は、いずれかの電気接触面の平均凹凸サイズよりも大きい間隔だけ2つの電気接触面を離隔することであり、そうすることでトンネリングを介して電気接触面間の電気伝導が生ずる。いずれか2つの電気接点間の電気伝導の実際の状況では程度の差はあれ、これらのモードのいずれか、または全てが存在する可能性がある。
したがって、1つまたは複数の低仕事関数材料からなる電気接点を設けることは、前記電気接点といずれかの他の隣接する電気接点間の電気的連通を増強する方法である。本発明の一実施形態では、いずれか2つの電気接点間の電気伝導の増強を確実にするため、電気接点を低仕事関数の材料から構成することができる。2つの表面間の間隔を低い値ではあるが良好に定められた値に保つことにより、2つの表面間が直接機械的に接触しないようにすることで、電気接点の摩耗を低減することができる。機械的な電気接触が直接なされないことは、2つの電気接触面間の機械的な電気接触が繰り返し行われ、また遮断されることによる摩損に起因する表面の粗面化により、表面が摩耗する可能性が低くなることを意味する。
本発明の一実施形態では、少なくとも2つの電気接点のうちの少なくとも1つは、仕事関数が約3.5電子ボルト(eV)未満である材料を含む。本発明の別の実施形態では、少なくとも2つの電気接点のうちの少なくとも1つは、仕事関数が約2eV未満である材料を含む。本発明の一実施形態では、少なくとも2つの電気接点のうちの少なくとも1つは、仕事関数が約1eV未満である材料を含む。
少なくとも2つの電気接点は、例えば各々が少なくとも1つの表面を別個に含む電気接点でよい。異なる電気接点からの異なる表面は、互いに別個に電気的に連通されてもよい。少なくとも2つの電気接点間の電気的連通の量および種類は、電気接点が構成される材料、電気接点の表面上の薄膜でよい追加層が存在するか否か、2つの電気接点間の間隔、および電気接点が配置される環境を含むが、これらに限定されない多くの要因に依存することがある。
少なくとも2つの電気接点間の電気的連通の量および種類は、電気接点が製造される材料に依存することがある。材料から電子が放出する確率は、材料の仕事関数が低くなるにつれ高まることがこの分野で一般に知られている。電界に誘発される電子の放出を生ずるため、例えば2つの電気接点間に電圧を印加することにより電気接点における電界を生成してもよい。電子の放出が求められる電気接点に電圧源の負端子からの電圧を印加する必要がある。
少なくとも2つの電気接点間の電気的連通の量および種類はさらに、電気接点の表面粗さに依存することがある。一実施形態では、電気接点の表面粗さは約0.5ナノメートル(nm)から約2nmである。
図1は電気部品100の一実施形態の概略図である。図示した実施形態は、座標軸系104で示されるように、空間内での移動が可能であり得る第1の電気接点102を含む。図示した実施形態はさらに、座標軸系108で示されるようにこれも空間内での移動が可能であり得る第2の電気接点106を含む。第1の間隔110は、2つの電気接点102と106とを離隔する。説明目的のため、この第1の間隔110を「開」位置にあると見なしてもよく、すなわち第1の電気接点102と第2の電気接点106との電気的連通112は無視することができる。この場合、前述のように、第1および第2の電気接点102と106は、基本的に空間内で別個に移動可能であり得る。適当な作動機構によって引き起こされるこのような移動の結果、この場合は要素114および116としてそれぞれ示される第1および第2の電気接点を、双方間の第2の間隔118が双方間の第1の間隔110よりも小さくなるように配置することができる。この第2の間隔は電気部品が「閉」位置にあるような間隔、すなわち第1の電気接点102と第2の電気接点106との間の電気的連通112が相当に多い間隔でよい。
本発明の例示的実施形態では、本発明は、電気接点の1つが固定され、他の電気接点は2つの電気接点間の電気的連通の程度を変更するように移動できるよう配置された2つの電気接点102と106を含む。2つの電気接点は「閉」位置にあってもよく、それは例えば、電気接点間の間隔が2つの電気接点間で所望の量の電気的連通を可能にする十分に小さい状態のことである。この状態は、2つの電気接点が機械的に接触することにより2つの接点間の電気的連通が伝導を介するものであることを必ずしも意味しない。むしろ、2つの電気接点間の直接的な機械的接触に関連する欠点があるため、小さいが有限の間隔が電気接点を離隔するので、電気接点間の電気接点抵抗が低い抵抗値にあることを意味する。他の極端な状態では、2つの電気接点は「開」位置にあることもあり、これは例えば間隔が電気接点を離隔し、この間隔が2つの電気接点間の電子移動の量を厳しく制限するに十分な間隔である状態を含むこともある。いずれかの特定の理論に制約されずに、閉位置にある場合のいずれか2つの電気接点間の電気接点抵抗は、電気接点の形状を含むがそれに限定されない幾つかの要因に依存する可能性が高い。本発明の一実施形態では、電気接点が開位置にある場合、接点間の抵抗は約1メガオーム(MΩ)よりも高い。
図2は、電気部品100がスイッチ200である場合の実施形態の断面図である。スイッチ200は、下層の基板204に固定できる可動接続部材202を含む。可動接続部材202は、低仕事関数材料を含む電気接触面206を含んでもよい。図示した実施形態はさらに、第2の電気接触面208を有する第2の電気接点218を含む。第2の電気接触面208も低仕事関数材料を含んでもよい。図示した実施形態は、2つの電気接触面206と208との間の最小間隔を保つことに役立つ機械的部材210も含む。第1の間隔212は、第1の電気接触面206と第2の電気接触面208とを離隔する。一般性を損なうことなく、第1の間隔212の数値は、スイッチが「開」状態にあるような値である。
可動接続部材202の移動は、この分野でよく知られているように、静電式作動、圧電式作動を含むがそれらに限定されない様々な機構を介して引き起こすことができる。本発明の実施形態は、少なくとも2つの電気接触面206と208の間の間隔/角度を制御および/または保持するシステム(図示せず)を含む。このシステムは、他のサブシステムとともに、フィードバック回路、および振動遮断システムを含んでもよい電子回路およびコンピュータ制御システムなどの様々なサブシステムを含んでもよい。制御システムは、例えば原子間力顕微鏡または走査型トンネル顕微鏡またはナノポジショナの制御システムで使用されるようなフィードバック回路を組み込んでいてもよい。制御システムはさらに、少なくとも2つの電気接触面206および208の間の必要な空隙を保つことを補助する機械的サブシステムまたは部材を含んでもよい。一実施形態では、機械的サブシステムまたは部材は、双方の間で電気的連通が必要とされる少なくとも2つの電気接触面のいずれかの間の機械的「接触」を防止し、または最小限にする何らかの装置を含む。例えば、機械的サブシステムは、少なくとも2つの電気接触面の間の機械的接触を防止し、しかも少なくとも2つの電気接点間の電気トンネリングを介した電気的連通を可能にするように位置決めされた1つまたは複数の機械的ストッパ210の形態であってよい。(以下に記載する)別の限定されない例示的装置は、電気接点間の機械的接触の可能性は妨げられるが、双方間の電気的連通は保持されるような物理的寸法および/または形状を有するような可動接続部材202の形成を含んでもよい。
図3は、スイッチ200が「閉」位置にある場合のスイッチの断面図300である。機械的部材210は、2つの電気接触面206と208との最小間隔を保つのに役立つ。要素214は第1の電気接触面206と第2の電気接触面208との間の第2の間隔を示す。第2の間隔214の数値は第1の間隔212よりも小さく、一般性を損なうことなく、スイッチが「閉」状態にあるということができる。
図4はスイッチ400の断面図である。スイッチ400は下層の基板404に固定できる可動接続部材402を有しており、前述したスイッチ200と同様である。可動接続部材402は、低仕事関数材料を含む第1の電気接触面406を含んでもよい。図示した実施形態はさらに、第2の電気接触面408を有する第2の電気接点418を含む。第2の電気接触面408も低仕事関数材料を含んでもよい。要素416は、第1の電気接触面406と第2の電気接触面408との間の間隔を示す。可動接続部材402および第2の電気接点418の物理的寸法および/または形状および/または配置により、ゼロではない空隙416を保つことができ、それによって電気接点406と408との間の機械的接触の可能性が最小限にされることは明らかである。しかし、双方間の電気的連通はトンネリング機構を介して保たれる。
図2に示すような本発明の一実施形態では、電気部品200は開位置と閉位置との間で互いに移動可能な少なくとも2つの電気接触面206および208を含む。一実施形態では、本発明は、電気接点が閉位置にある場合に、それらの間隔を0nm〜約30nmの範囲内に制限するように構成される。別の実施形態では、本発明は、電気接点が閉位置にある場合に、それらの間隔を0nm〜約4nmの範囲内に制限するように構成される。別の実施形態では、本発明は、電気接点が閉位置にある場合に、それらの間隔を0nm〜約1nmの範囲内に制限するように構成される。
図5は本発明の実施形態による電気部品のアレイ500の概略図である。アレイ500は、パッケージ504内に収容可能な複数の電気部品502を含む。電気スイッチは別個のMEMSデバイスであってよい。アレイ500はさらに、所定の機能またはアレイが実行することを課せられた任務を実現することを補助できる追加の電子回路508と連通するために、通信チャネル506などの他の部品を含んでもよい。
一実施形態では、低仕事関数の電気接点はセシウム、カリウム、ナトリウム、バリウム、カルシウム、窒化ガリウム、マグネシウム、アルミニウム、銀、シリコン、二酸化チタン、ダイアモンド状炭素(DLC)、金、ルテニウム、またはそれらの組み合わせからなる材料を含んでもよい。このような材料の組み合わせの例として、シリコン+セシウム+酸素、バリウム+ストロンチウム+カルシウム+酸素、銀+セシウム+酸素、エレクトライド、および金+セシウムがある。本発明の例示的実施形態では、電気接点206および/または208の材料は、20〜50%のセシウムを含むセシウムと金の合金であってよい。一実施形態では、合金は約30%のセシウムを含んでもよい。別の実施形態では、合金は約40%のセシウムを含んでもよい。さらに別の実施形態では、合金は約50%の%のセシウムを含んでもよい。
ある実施形態では、接点は電気接点の表面上に配置された層を含む(その際、電気接点は層の「基板」としての役割を果たす)。例えば薄膜層、またはわずか数原子の厚さの層または単原子層といったこのような層は、電気接点上に別々に堆積されてもよく、またはそれら自体を低仕事関数材料から製造してもよい。「数原子の厚さ」の層または単原子層を、表面の吸収を介して電気接点の表面上に堆積してもよい。このような層を構成する好適な材料の例には、酸化バリウム、窒化バリウム、二酸化チタン、DLC、セシウムおよびそれらの組み合わせが含まれるが、それらに限定されない。このような基板を構成する好適な材料の例には、シリコン、プラチナ、金およびそれらの組み合わせが含まれるが、それらに限定されない。単原子層を構成する好適な限定的ではない材料の例はセシウムである。ある実施形態で使用するのに適するコーティング−基板の特定の例には、シリコン上に堆積された酸化バリウム、シリコン上に堆積された窒化バリウム、プラチナ上に堆積された二酸化チタン、シリコン上に堆積されたDLC、および金上に堆積されたセシウムが含まれるがそれらに限定されない。
ある実施形態では、部品100はさらに、電気接点102、106の少なくとも1つの上に配置された絶縁層(図示せず)を備える。この絶縁層は、接点102、106が閉位置にある場合に接点間の空隙(第2の間隔118)の少なくとも一部を埋めるように構成されている。ある実施形態では、空隙のほぼ全体が絶縁層によって埋められ、一方、他の実施形態では、空隙は絶縁層によって一部だけが埋められる。絶縁層が存在することで、電気接点が物理的に移動する必要性が最小限になる可能性があるとともに、電気接点間が機械的に接触する可能性が最小限になる。これらの前述の特徴は両方とも、電気接点間の電気的連通のために機械的接触を必要とする従来のスイッチと比較して、これらのスイッチの改良された性能指数をもたらすであろう。一実施形態ではさらに、このような絶縁層によって、2つの電気接触面間に存在する空隙領域内にある電磁界の分布が修正されることになる。電界内の前記修正により、条件が整えば電気接点間のトンネリングの可能性を実際に高めることができる。
上記の層は、プラズマ強化化学気相成長法(PECVD)、低圧化学気相成長法(LPCVD)、スパッタリング、蒸着、および原子層堆積法などのいずれか好適な方法またはこれらの方法の組み合わせによって堆積してもよい。
ある実施形態では、層の厚さは最大約100nmである。あるいは、層自体がある程度の表面粗さを有している可能性もある。さらに、薄膜の厚さによって、少なくともある程度まで薄膜の表面粗さを決定することも可能である。
本発明の一実施形態では、電気部品100は、開位置と閉位置との間を互いに移動可能な少なくとも2つの電気接点を含むMEMSスイッチであり、閉位置での電気接点間の機械的間隔212は、最大約30nmのゼロではない値である。少なくとも2つの電気接点206と208の相対移動による双方間の機械的間隔の変化が、少なくとも2つの電気接触面206と208との間の電気的連通の変化に影響を及ぼす要因の1つになる可能性もある。本発明の一実施形態では、少なくとも2つの電気接触面206、208の少なくとも1つは、仕事関数が約3.5電子ボルト(eV)未満である材料を含む。本発明の別の実施形態では、少なくとも2つの電気接点の少なくとも1つは、仕事関数が約2eV未満である材料を含む。本発明の一実施形態では、少なくとも2つの電気接点の少なくとも1つは、仕事関数が約1eV未満である材料を含む。
本発明の一実施形態では、MEMSデバイスは密閉されたチャンバ内に配置される。MEMSおよびMEMSアレイを収容するためにチャンバを密閉する技術は、この分野ではよく知られている。本発明の別の実施形態では、密閉されたチャンバ内部の環境は不活性ガスまたは真空である。前述のように、少なくとも2つの電気接点間の電気的連通の量と種類は、少なくとも2つの電気接点206と208とがその内部に配置される環境に依存することがある。例えば、電気部品がカンチレバーの形態の可動接続部材を有するMEMSである場合、カンチレバーを囲む周囲ガスを介してカンチレバーの移動を減衰させる力を提供してもよい。他の要因として、周囲ガスの組成、温度および圧力は、この点において重要な要因である。この意味で、環境は個々の電気接点の機械的特性、ひいては電気的連通特性を修正する役割も果たすことがある。
MEMSスイッチは典型的には、様々な形状で形成できる懸垂形接続部材を含む。考え得る形状の1つは、懸垂形接続部材が、下層の基板のビーム両端の一方の実質的な近傍の位置に固定されるビームの形態である、「カンチレバー」の形状である。考え得る他の形状は、ビームを含むがそれに限定されない様々な形態である懸垂形接続部材が、下層の基板のビーム両端から実質的に離れた位置に固定される、「シーソー」形の形状である。前記のカンチレバーおよびシーソー形の形状はこの分野ではよく知られている(例えばDe Los Santos等の米国特許第6,040,611号参照)。考え得るさらに他の形状は、ビームを含むがそれに限定されない様々な形態のものでよい懸垂形接続部材が、下層の基板の両方とも実質的にビームの両端側にある位置に固定される「ブリッジ」形の形状である。前記のブリッジ形の形状はこの分野ではよく知られている(例えばMa Qingの欧州特許第1,529,300 B1号を参照)。考え得るさらに他の形状は、懸垂形接続部材が、所定の状況で実質的に可撓性であり、周囲に沿った複数の、場合により連続したポイントで下層の基板に固定されるシートの形状である「薄膜」形の形状である。上記の考え得る形状を組み合わせることも可能である。前述の薄膜形状はこの分野ではよく知られている(例えばMa Qingの米国特許第6,880,235 B2号を参照)。
例えば図5に示す実施形態のような本発明の一実施形態は、各々の電気スイッチが開位置と閉位置との間で互いに移動可能な少なくとも2つの電気接点を備え、電気接点のうちの少なくとも1つは仕事関数が約3.5eV未満である材料からなり、閉位置での電気接点間の間隔が0nm〜約30nmである、複数の電気スイッチ502を含む。
本発明の一実施形態では、部品100は電力デバイスである。本発明の一実施形態では、電力デバイスはモータスタータである。モータスタータは、制御された態様でモータを非励磁状態から励磁状態に切り替えることができる装置である。異なる状況では異なる種類のモータスタータが有利であり、所定の状況で適切なモータスタータの選択は、その他の要因の他に必要な励磁手順の特性および利用できる制御回路に依存する。MEMSの機械的寸法が縮小されているので、個々のMEMSによって信頼性をもって処理できる電流や電圧は、個々の従来の電気スイッチによって処理できる電流や電圧よりも少ない。この制約は、MEMS電気スイッチの1つまたは複数のアレイを含む電気スイッチを製造することによって回避し、少なくとも緩和することができる。このようなアレイは各々、本明細書に記載の種類の複数のMEMS電気スイッチから構成することができる。その際、複数のMEMS電気スイッチの配置は、電力デバイスの動作中に生ずる電流と電圧とを前記複数のMEMS電気スイッチ間で好適に分散するように実施してもよい。
MEMSの製造工程は、常に向上する開発が進んだ分野である。フォトリソグラフィ技術、ウエットエッチングおよび/またはドライエッチングを含むリソグラフィ技術、化学蒸着(CVD)技術および/または機械蒸着技術などの薄膜形成技術、酸化および/またはエピタキシャル技術を介するような薄膜成長技術、イオン注入を介するようなドーピング技術などの標準的な技術は、MEMSおよびMEMSアレイを製造するために容易に適応させることができるよく知られている工程である。これらの電気部品を製造する際に、フォトリソグラフィ技術などのリソグラフィ技術を使用してもよい。幾何的パターンをフォトマスクからフォトレジスト、すなわち感光性化学物質に転写するために電磁放射、すなわち光が使用される。その際、一連の化学処理により露光パターンをフォトレジストの下の材料に彫刻する。これらのステップは、最終的な部品が所望の形態で作製されるまで数回繰り返される。
以上、本発明を一部の実施形態に関してのみ詳細に説明してきたが、本発明の実施形態は開示の形態に限定されないのは明らかである。むしろ、本発明の本質および範疇において、本発明を修正し、本明細書に記載されていない様々な変形、変更、置換または同等の措置を加えることができる。さらに、本発明の様々な実施形態を説明してきたが、本発明の態様として、上述の実施形態の一部を含むだけでも良いことを理解されたい。従って、本発明は以上の説明に限定されるものではなく、添付の特許請求の範囲によってのみ定義されるものである。
100 電気部品
102 第1の電気接点
104 座標軸系
106 第2の電気接点
108 座標軸系
110 第1の間隔
112 電気的連通
114 第1の電気接点
116 第2の電気接点
118 第2の距離
200 スイッチ
202 可動接続部材
204 基板
206 電気接触面
208 第2の電気接触面
210 機械的部材
212 第1の間隔
218 第2の電気接点
300 スイッチ200の断面図
400 スイッチ
402 可動接続部材
404 基板
406 第1の電気接触面
408 第2の電気接触面
416 空隙
418 第2の電気接点
500 電気部品アレイ
502 複数の電気部品
504 パッケージ
506 通信チャネル
508 電子回路

Claims (10)

  1. 電気部品であって、
    開位置と閉位置との間で互いに移動可能な少なくとも2つの電気接点を備え、
    前記電気接点のうちの少なくとも1つは、仕事関数が約3.5eV未満である材料からなり、
    前記閉位置での前記電気接点間の間隔は、0nm〜約30nmである電気部品。
  2. 前記電気接点のうちの少なくとも1つは、仕事関数が約2eV未満である材料からなる、請求項1に記載の電気部品。
  3. 前記少なくとも1つの電気接点は、セシウム、カリウム、ナトリウム、バリウム、カルシウム、窒化ガリウム、マグネシウム、アルミニウム、銀、シリコン、二酸化チタン、ダイアモンド状炭素(DLC)、金、ルテニウム、またはそれらの組み合わせからなる材料を含む、請求項1または2に記載の電気部品。
  4. 前記少なくとも2つの電気接点のうちの少なくとも1つは、基板上に堆積された層を備える、請求項1乃至3のいずれか1項に記載の電気部品。
  5. 前記少なくとも2つの電気接点のうちの少なくとも1つの上に堆積された絶縁層をさらに備え、前記絶縁層は前記閉位置での前記少なくとも2つの電気接点間に間隔を少なくとも部分的に埋める、請求項1乃至4のいずれか1項に記載の電気部品。
  6. 前記開位置にある前記少なくとも2つの電気接点のいずれか2つの間の抵抗は約1MΩ以上である、請求項1乃至5のいずれか1項に記載の電気部品。
  7. 前記電気接点の表面粗さは最大約2nmである、請求項1乃至6のいずれか1項に記載の電気部品。
  8. 前記電気部品がスイッチである、請求項1乃至8のいずれか1項に記載の電気部品。
  9. 前記スイッチがMEMSデバイスからなる、請求項9乃至9のいずれか1項に記載の電気部品。
  10. 複数の電気スイッチを備えるデバイスであって、
    各電気スイッチは、開位置と閉位置との間で相互に移動可能な少なくとも2つの電気接点を備え、
    前記電気接点のうちの少なくとも1つは、仕事関数が約3.5eV未満の材料からなり、
    前記閉位置での前記電気接点の間の間隔は、0nm〜約30nmであるデバイス。
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