[go: up one dir, main page]

JP2010033775A - Transparent conductive composite film and sheet - Google Patents

Transparent conductive composite film and sheet Download PDF

Info

Publication number
JP2010033775A
JP2010033775A JP2008192658A JP2008192658A JP2010033775A JP 2010033775 A JP2010033775 A JP 2010033775A JP 2008192658 A JP2008192658 A JP 2008192658A JP 2008192658 A JP2008192658 A JP 2008192658A JP 2010033775 A JP2010033775 A JP 2010033775A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
layer
sheet
transparent
conductive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008192658A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoichi Ono
小野陽一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Touch Panel Laboratories Co Ltd
Original Assignee
Touch Panel Laboratories Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Touch Panel Laboratories Co Ltd filed Critical Touch Panel Laboratories Co Ltd
Priority to JP2008192658A priority Critical patent/JP2010033775A/en
Publication of JP2010033775A publication Critical patent/JP2010033775A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Position Input By Displaying (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resistive film type touch panel structure with endurance performance greatly improved, and with optical performance, electric performance, and environment resistance generally maintained at a high and balanced level; and to provide a top substrate layer as well as a bottom substrate layer for the same. <P>SOLUTION: The transparent conductive composite film A (or the sheet B) has first conductive layers 2, 5 as a conductive polymer film or a carbon nanotube layer formed on one surface of a transparent film 1 (or a sheet 4), and further, second conductive layers 3, 6 as an ITO film (an indium tin oxide film) formed on the surface of the first conductive layer. The resistive film type touch panel structure uses these as a top substrate layer or a bottom substrate layer. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、透明導電性複合フィルムおよびシートに関し、さらにこれらフィルムおよびシートを使用した抵抗膜式タッチパネル構造体に関する。   The present invention relates to a transparent conductive composite film and a sheet, and further relates to a resistive touch panel structure using these films and sheets.

最近、指入力またはペン入力によるモバイル情報端末として抵抗膜式タッチパネルの用途が拡大しつつある。抵抗膜式タッチパネルは、特殊なペンを使用しないで、指または通常のペンで容易に入力でき、しかも低コスト化が比較的簡単であるという利点を有している。一方抵抗膜式タッチパネルは、上部基板と下部基板との間にスペーサーによる空気層を有し、上部基板と下部基板の表面に形成された透明導電性膜を物理的に接触(タッチ)させることによって接触位置を感知する構造となっている。このタッチパネルの上部基板および下部基板の基板材料として、ガラス、高分子フィルム、プラスチックシートなどが使用され、それぞれの基板材料の組合に基づいて、種々の利点および欠点を有している。   Recently, the use of a resistive touch panel as a mobile information terminal by finger input or pen input is expanding. The resistive touch panel has an advantage that it can be easily input with a finger or a normal pen without using a special pen, and the cost reduction is relatively simple. On the other hand, the resistive touch panel has an air layer with a spacer between the upper substrate and the lower substrate, and physically contacts (touches) the transparent conductive film formed on the surface of the upper substrate and the lower substrate. It is structured to sense the contact position. Glass, polymer film, plastic sheet or the like is used as the substrate material for the upper and lower substrates of this touch panel, and has various advantages and disadvantages based on the combination of the respective substrate materials.

殊に、上部基板(タッチ面)の材料として高分子フィルム(例えばポリエチレンテレフタレートフィルムやポリカーボネートフィルム)は、割れない、軽量である、薄い、屈曲性にすぐれているなどの多くの利点のために広く利用されてきた。上部基板として高分子フィルムを使用した場合、その優れた屈曲性のために局所的なタッチ圧が容易に感知される。一方上部基板として、高分子フィルム基板を使用することは前述したように種々の利点を有しているが、実際のタッチパネル構造体の実装に当たってはさらに改良すべき問題点を有している。
タッチパネル用の透明導電性フィルムとして、耐久性能、光学性能、電気性能および耐環境性能が総合的にバランスよく、これら性能が全て満足する水準を有するものは従来なかった。例えば一般によく使用されるITO(Indium
Tin Oxide)膜は光学性能、電気性能および耐環境性能は優れているが、摺動筆記耐久性が不充分であった。一方導電性高分子膜は、耐久性(例えば摺動筆記耐久性)は優れているが、光学性能や耐環境性能は充分といえなかった。
In particular, polymer films (such as polyethylene terephthalate film and polycarbonate film) as the material of the upper substrate (touch surface) are widely used due to many advantages such as non-breaking, light weight, thinness, and excellent flexibility. Has been used. When a polymer film is used as the upper substrate, local touch pressure is easily sensed due to its excellent flexibility. On the other hand, the use of a polymer film substrate as the upper substrate has various advantages as described above, but has a problem to be further improved in mounting an actual touch panel structure.
As a transparent conductive film for a touch panel, there has been no film having a level in which durability, optical performance, electrical performance, and environmental resistance are comprehensively balanced, and these performances are all satisfied. For example, commonly used ITO (Indium
The Tin Oxide) film is excellent in optical performance, electrical performance and environmental resistance, but has insufficient sliding writing durability. On the other hand, although the conductive polymer film is excellent in durability (for example, sliding writing durability), it cannot be said that optical performance and environmental resistance are sufficient.

そこで諸性能を改良する対策として、特許文献1ではITO膜が形成された面と反対面に、ハードコート層とSiOx膜との2層構造を形成させる構成とする手段が提案され、特許文献2ではITO膜における酸化スズと酸化インジウムの組成を変えた2層構造とすることが提案され、また特許文献3ではITO膜と透明フィルムとの間に、SnOやZnOの下地層を介在させ、ITO膜表面の表面粗さ(Ra)を或る一定の範囲に制御することが提案されている。しかしこれらいずれの提案も、前記した諸性能を総合的に充分な特性を得たものとはいえなかった。
:特開2006−134867号公報 :特開2006−244771号公報 :特開2007−287450号公報
Therefore, as a measure for improving various performances, Patent Document 1 proposes means for forming a two-layer structure of a hard coat layer and a SiOx film on the surface opposite to the surface on which the ITO film is formed. Proposed a two-layer structure in which the composition of tin oxide and indium oxide in the ITO film was changed, and in Patent Document 3, an underlayer of SnO or ZnO was interposed between the ITO film and the transparent film, and ITO was used. It has been proposed to control the surface roughness (Ra) of the film surface within a certain range. However, none of these proposals can be said to have obtained the above-mentioned various performances comprehensively.
: JP 2006-134867 A : JP 2006-244771 A : JP 2007-287450 A

そこで本発明者は、透明フィルムの片面の表面に導電性高分子膜またはカーボンナノチューブ層を形成させ、さらにその面にITO膜を積層させた構造のものは、総合的な性能がバランスよく、優れた透明導電性フィルムまたはシートとして利用できることが判明し本発明に到達した。
本発明によれば下記透明導電性複合フィルムおよびシート並びにこれらを使用した抵抗膜式タッチパネル構造体が提供される。
(1)透明フィルムの片面の表面に導電性高分子膜またはカーボンナノチューブ層である第1の導電性層が形成されさらにその第1の導電性層の表面に、ITO膜(Indium
Tin Oxide膜)である第2の導電性層が形成されていることを特徴とする透明導電性複合フィルム。
(2)該透明フィルムは、厚さ50μm〜200μmを有するポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムまたはポリカーボネート(PC)フィルムである前記(1)記載の複合フィルム。
(3)第1の導電性層は、厚さ1nm〜100nmを有する前記(1)記載の複合フィルム。
(4)第1の導電性層は、チオフェン系高分子膜である前記(1)記載の複合フィルム。
(5)第1の導電性層は、単層カーボンナノチューブ層である前記(1)記載の複合フィルム。
(6)光透過率が85%以上でありかつ表面抵抗値が100Ω/□〜3000Ω/□である前記(1)記載の複合フィルム。
(7)透明シートの片面の表面に、導電性高分子膜またはカーボンナノチューブ層である第1の導電性層が形成され、さらにその第1の導電性層の表面にITO膜(Indium
Tin Oxide膜)である第2の導電性層が形成されていることを特徴とする透明導電性複合シート。
(8)該透明シートは、厚さが500μm〜2mmを有するガラスシート、ポリカーボネート(PC)シートまたはポリシクロオレフィンシートである前記(7)記載の複合シート。
(9)第1の導電性層は、厚さ1nm〜100nmを有する前記(7)記載の複合シート。
(10)第1の導電性層は、チオフェン系高分子膜である前記(7)記載の複合シート。
(11)第1の導電性層は、単層カーボンナノチューブ層である(7)記載の複合シート。
(12)光透過率が85%以上でありかつ表面抵抗値が100Ω/□〜3000Ω/□である前記(7)記載の複合シート。
(13)前記(1)記載の複合フィルムを上部基板層として構成した抵抗膜式タッチパネル構造体。
(14)前記(1)記載の複合フィルムを上部基板層とし、かつ前記(7)記載の複合シートを下部基板層として構成した抵抗膜式タッチパネル構造体。
(15)前記(7)記載の複合シートを下部基板層として構成した抵抗膜式タッチパネル構造体。
Therefore, the present inventor has a structure in which a conductive polymer film or a carbon nanotube layer is formed on one surface of a transparent film and an ITO film is laminated on the surface, and the overall performance is well balanced and excellent. The present invention has been found to be usable as a transparent conductive film or sheet.
According to the present invention, the following transparent conductive composite film and sheet, and a resistance film type touch panel structure using the same are provided.
(1) A first conductive layer that is a conductive polymer film or a carbon nanotube layer is formed on one surface of a transparent film, and an ITO film (Indium) is formed on the surface of the first conductive layer.
A transparent conductive composite film in which a second conductive layer (Tin Oxide film) is formed.
(2) The composite film according to (1), wherein the transparent film is a polyethylene terephthalate (PET) film or a polycarbonate (PC) film having a thickness of 50 μm to 200 μm.
(3) The composite film according to (1), wherein the first conductive layer has a thickness of 1 nm to 100 nm.
(4) The composite film according to (1), wherein the first conductive layer is a thiophene polymer film.
(5) The composite film according to (1), wherein the first conductive layer is a single-walled carbon nanotube layer.
(6) The composite film as described in (1) above, having a light transmittance of 85% or more and a surface resistance value of 100Ω / □ to 3000Ω / □.
(7) A first conductive layer that is a conductive polymer film or a carbon nanotube layer is formed on one surface of the transparent sheet, and an ITO film (Indium) is further formed on the surface of the first conductive layer.
A transparent conductive composite sheet, wherein a second conductive layer (Tin Oxide film) is formed.
(8) The composite sheet according to (7), wherein the transparent sheet is a glass sheet, a polycarbonate (PC) sheet, or a polycycloolefin sheet having a thickness of 500 μm to 2 mm.
(9) The composite sheet according to (7), wherein the first conductive layer has a thickness of 1 nm to 100 nm.
(10) The composite sheet according to (7), wherein the first conductive layer is a thiophene polymer film.
(11) The composite sheet according to (7), wherein the first conductive layer is a single-walled carbon nanotube layer.
(12) The composite sheet according to (7), which has a light transmittance of 85% or more and a surface resistance value of 100Ω / □ to 3000Ω / □.
(13) A resistive touch panel structure in which the composite film according to (1) is configured as an upper substrate layer.
(14) A resistive touch panel structure in which the composite film described in (1) is used as an upper substrate layer and the composite sheet described in (7) is used as a lower substrate layer.
(15) A resistive touch panel structure in which the composite sheet according to (7) is configured as a lower substrate layer.

本発明の透明導電性複合フィルムおよび透明導電性複合シートはそれぞれタッチパネル用の上部基板層および下部基板層として使用することにより、耐久性能、光学性能、電気性能および耐環境性能が総合的にバランスよく、しかもこれら全て性能が満足する水準に到達したタッチパネル構造体を得ることができる。従って本発明によれば、前記した4つの性能のバランスがよく、実用性価値の高いタッチパネル構造体を提供でき、またそれに使用される透明導電性複合フィルムおよび透明導電性複合シートも提供できる。   The transparent conductive composite film and the transparent conductive composite sheet of the present invention are used as an upper substrate layer and a lower substrate layer for a touch panel, respectively, so that the durability, optical performance, electrical performance and environmental resistance are well balanced. Moreover, it is possible to obtain a touch panel structure that has reached a level that satisfies all of these performances. Therefore, according to the present invention, it is possible to provide a touch panel structure having a good balance between the above four performances and high practical value, and also to provide a transparent conductive composite film and a transparent conductive composite sheet used therefor.

以下、本発明の透明導電性複合フィルム、透明導電性複合シートおよびこれらフィルム(またはシート)を使用したタッチパネル構造体について順次、詳細に説明する。
(A)透明導電性複合フィルム;
基本的構成を図1により説明する。図1は、透明導電性複合フィルムの表面からの直角断面構造を示す模式図がAとして示されている。図1に示されているように、透明導電性複合フィルムAは透明フィルム1の片面の表面に、導電性高分子膜またはカーボンナノチューブ層である第1の導電性層2が形成され、さらにその第1の導電性層の表面にITO膜(Indium
Tin Oxide膜)である第2の導電性層3が形成されている構造を有している。
Hereinafter, the transparent conductive composite film of the present invention, the transparent conductive composite sheet, and the touch panel structure using these films (or sheets) will be described in detail sequentially.
(A) a transparent conductive composite film;
The basic configuration will be described with reference to FIG. In FIG. 1, A is a schematic view showing a right-angle cross-sectional structure from the surface of the transparent conductive composite film. As shown in FIG. 1, in the transparent conductive composite film A, a first conductive layer 2 which is a conductive polymer film or a carbon nanotube layer is formed on one surface of the transparent film 1, and further An ITO film (Indium) is formed on the surface of the first conductive layer.
The second conductive layer 3 (Tin Oxide film) is formed.

透明導電性複合フィルムAにおいて透明フィルム1は、透明な高分子フィルムであり、厚さは50μm〜200μm、好ましくは80μm〜190μm、特に好ましくは100μm〜180μmであるのが有利である。透明フィルムとしてはポリエステルフィルム、好ましくはポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムまたはポリカーボネート(PC)フィルムが優れている。特に好ましいのはポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムである。
前記透明フィルム1の片面の表面には、第1の導電性層2が形成されている。この第1の導電性層2は、導電性高分子膜或いはカーボンナノチューブ層である。第1の導電性層2の厚みは1nm〜100nm、好ましくは5nm〜80nmが望ましい。
透明フィルムの表面に透明導電性高分子膜を形成するには導電性高分子の溶液またはドープを透明フィルムの表面に塗布または印刷すればよい。この導電性高分子としては透明性に優れかつ電気伝導性を有するものであればよい。
In the transparent conductive composite film A, the transparent film 1 is a transparent polymer film having a thickness of 50 μm to 200 μm, preferably 80 μm to 190 μm, particularly preferably 100 μm to 180 μm. As the transparent film, a polyester film, preferably a polyethylene terephthalate (PET) film or a polycarbonate (PC) film is excellent. Particularly preferred is a polyethylene terephthalate (PET) film.
A first conductive layer 2 is formed on one surface of the transparent film 1. The first conductive layer 2 is a conductive polymer film or a carbon nanotube layer. The thickness of the first conductive layer 2 is 1 nm to 100 nm, preferably 5 nm to 80 nm.
In order to form a transparent conductive polymer film on the surface of the transparent film, a conductive polymer solution or dope may be applied or printed on the surface of the transparent film. Any conductive polymer may be used as long as it has excellent transparency and electrical conductivity.

導電性高分子膜の具体例としては、主鎖がπ共役系で構成されている有機高分子であるのが有利であり、例えば、ポリピロール類、ポリチオフェン類、ポリアセチレン類、ポリフェニレン類、ポリフェニレンビニレン類、ポリアニリン類、ポリアセン類、ポリチオフェンビニレン類、およびこれらの共重合体が挙げられる。これらの中でポリピロール類、ポリチオフェン類、およびポリアニリン類が安定性および膜の形成の容易性の点から好ましい。とりわけ、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリ(N−メチルピロール)、ポリ(3−メチルチオフェン)、ポリ(3−メトキシチオフェン)、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)およびこれらの共重合体が好ましい。これらのうち、チオフェン系高分子が特に好ましい。これら導電性高分子の溶液を調製するために使用される溶媒としては水;N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N―ジメチルアセトアミド、アセトニトリルおよびベンゾニトリルの如き極性有機溶媒;フェノール、クレゾールおよびキシレノールの如き、フェノール類;メタノール、エタノール、プロパノールおよびブタノールの如きアルコール類;アセトンおよびメチルエチルケトンの如きケトン類;ヘキサン、ベンゼン、トルエン、およびキシレンの如き炭化水素類;ジオキサンおよびジエチルエーテルの如きエーテル類などが例示される。これらの溶媒は、1種でも或いは2種以上の混合溶媒として使用される。   As specific examples of the conductive polymer film, it is advantageous that the main chain is an organic polymer having a π-conjugated system, for example, polypyrroles, polythiophenes, polyacetylenes, polyphenylenes, polyphenylene vinylenes. , Polyanilines, polyacenes, polythiophene vinylenes, and copolymers thereof. Among these, polypyrroles, polythiophenes, and polyanilines are preferable from the viewpoints of stability and film formation. In particular, polypyrrole, polythiophene, poly (N-methylpyrrole), poly (3-methylthiophene), poly (3-methoxythiophene), poly (3,4-ethylenedioxythiophene) and copolymers thereof are preferable. Of these, thiophene polymers are particularly preferred. Solvents used to prepare these conductive polymer solutions include water; polar organic solvents such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, acetonitrile and benzonitrile; phenol Phenols such as methanol, ethanol, propanol and butanol; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; hydrocarbons such as hexane, benzene, toluene and xylene; and hydrocarbons such as dioxane and diethyl ether Examples include ethers. These solvents are used alone or as a mixed solvent of two or more.

前述した導電高分子の溶液を透明フィルム1上に塗布または印刷する方法としては、例えば浸漬、コンマコート、スプレーコート、ロールコート、グラビア印刷などが挙げられる。塗布後薄膜を硬化させることが望ましい。
第1の導電性層2としては、カーボンナノチューブ層であってもよい。カーボンナノチューブ層を形成するカーボンナノチューブとしては、単層カーボンナノチューブ、複層カーボンナノチューブまたは多層カーボンナノチューブのいずれでもよいが、単層カーボンナノチューブが好ましい。カーボンナノチューブの繊維長は100nm〜100μm、好ましくは1μm〜10μmが適当である。カーボンナノチューブ層はカーボンナノチューブネットを形成しかつ透明性を維持できるものであればよい。
カーボンナノチューブ層を透明フィルム1の表面に形成させるには、カーボンナノチューブ、分散剤および溶媒によりなる分散液を調整し、この分散液を透明フィルム表面に塗布し加熱して、分散剤および溶媒を除去する方法が好ましい。この際使用される分散剤としてはn−プロピルアミン、iso−プロピルアミン、n−ブチルアミンおよびsec−ブチルアミンの如き1級アミンが好ましく、また溶媒としてはケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなど)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチルなど)、炭化水素類(ペンタン、ヘキサン、トルエン、キシレンなど)、エーテル類(ジエチルエーテル、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジオキサンなど)、ハロゲン化炭化水素類(塩化メチレン、クロロベンゼンなど)およびアルコール類(メタノール、エタノール、プロパノールなど)を挙げることができる。前記分散液にはさらに必要により、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂などの熱可塑性樹脂を少割合添加することもできる。
Examples of the method for applying or printing the above-described conductive polymer solution on the transparent film 1 include dipping, comma coating, spray coating, roll coating, and gravure printing. It is desirable to cure the thin film after application.
The first conductive layer 2 may be a carbon nanotube layer. The carbon nanotubes forming the carbon nanotube layer may be single-walled carbon nanotubes, multi-walled carbon nanotubes or multi-walled carbon nanotubes, but single-walled carbon nanotubes are preferred. The fiber length of the carbon nanotube is 100 nm to 100 μm, preferably 1 μm to 10 μm. The carbon nanotube layer only needs to form a carbon nanotube net and maintain transparency.
In order to form a carbon nanotube layer on the surface of the transparent film 1, a dispersion composed of carbon nanotubes, a dispersant and a solvent is prepared, and this dispersion is applied to the surface of the transparent film and heated to remove the dispersant and the solvent. Is preferred. The dispersant used here is preferably a primary amine such as n-propylamine, iso-propylamine, n-butylamine and sec-butylamine, and the solvent is ketones (acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, etc.), esters. (Methyl acetate, ethyl acetate, etc.), hydrocarbons (pentane, hexane, toluene, xylene, etc.), ethers (diethyl ether, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, dioxane, etc.), halogenated hydrocarbons (methylene chloride, chlorobenzene, etc.) ) And alcohols (methanol, ethanol, propanol, etc.). If necessary, a small proportion of a thermoplastic resin such as a polyester resin, a polyolefin resin, or an acrylic resin can be added to the dispersion.

前述した第1の導電性層2が形成された透明フィルムの第1の導電性層2の表面には、第2の導電性層3が形成される。この第2の導電性層3は、ITO膜(Indium
Tin Oxide膜)である。このITO膜は第1の導電性層2の表面上にスパッタリングまたはCVD方式によって形成することができる。このITO膜は10〜50nmの厚さを有することが好ましい。
本発明の透明導電性複合フィイルムAは前述したように、基本的には透明フィルム1/第1の導電性層2/第2の導電性層3の3層構造である。この複合フィルムAは、表面抵抗値が300〜3000Ω/□、好ましくは400〜2500Ω/□の範囲であるのが望ましく、また透明度は光透過度(波長550nm)が85%以上、好ましくは87%以上、特に好ましくは88〜96%の範囲であるのが有利である。この複合フィルムはタッチパネル構造体の上部基板層として有利に利用される。
(B)透明導電性複合シート;
基本的構成を図1により説明する。図1には、透明導電性複合シートの表面からの直角断面構造を示す模式図がBとして示されている。図1に示されているように、透明導電性複合シートBは、透明シートの片面の表面に導電性高分子膜またはカーボンナノチューブ層である第1の導電性層が形成され、さらにその第1の導電性層の表面にITO膜(Indium
Tin Oxide膜)である第2の導電性層が形成されている構造を有している。
A second conductive layer 3 is formed on the surface of the first conductive layer 2 of the transparent film on which the first conductive layer 2 is formed. The second conductive layer 3 is made of an ITO film (Indium
Tin Oxide film). This ITO film can be formed on the surface of the first conductive layer 2 by sputtering or CVD. This ITO film preferably has a thickness of 10 to 50 nm.
The transparent conductive composite film A of the present invention basically has a three-layer structure of transparent film 1 / first conductive layer 2 / second conductive layer 3 as described above. The composite film A desirably has a surface resistance in the range of 300 to 3000 Ω / □, preferably 400 to 2500 Ω / □, and the transparency is such that the light transmittance (wavelength 550 nm) is 85% or more, preferably 87%. As mentioned above, it is particularly advantageous that the content is in the range of 88 to 96%. This composite film is advantageously used as the upper substrate layer of the touch panel structure.
(B) a transparent conductive composite sheet;
The basic configuration will be described with reference to FIG. In FIG. 1, a schematic view showing a right-angle cross-sectional structure from the surface of the transparent conductive composite sheet is shown as B. As shown in FIG. 1, in the transparent conductive composite sheet B, a first conductive layer that is a conductive polymer film or a carbon nanotube layer is formed on one surface of the transparent sheet, and the first ITO film (Indium) on the surface of the conductive layer of
A second conductive layer (Tin Oxide film) is formed.

透明導電性複合シートBにおいて、透明シート4は透明なシートであればよいが具体的にはガラスシート、ポリカーボネート(PC)シートまたはポリシクロオレフィンシートが好ましく、特にガラスシートまたはポリカーボネートシートが好ましい。透明シート4は、厚さが500μm〜2mm、好ましくは800μm〜1.8mmが望ましい。
前記複合シートBの透明シート4が、ポリカーボネート(PC)シートである場合、ポリカーボネートシートとしてはビスフェノールAを2価フェノール成分として使用して得られたポリカーボネートのシートであることが、透明性、耐衝撃性、耐熱性および入手容易性などの点から好ましい。このポリカーボネート(PC)は前述した透明導電性複合フィルムAの透明フィルム2の材料としても適している。
In the transparent conductive composite sheet B, the transparent sheet 4 may be a transparent sheet, but specifically, a glass sheet, a polycarbonate (PC) sheet or a polycycloolefin sheet is preferable, and a glass sheet or a polycarbonate sheet is particularly preferable. The transparent sheet 4 has a thickness of 500 μm to 2 mm, preferably 800 μm to 1.8 mm.
When the transparent sheet 4 of the composite sheet B is a polycarbonate (PC) sheet, the polycarbonate sheet is a polycarbonate sheet obtained using bisphenol A as a dihydric phenol component. From the viewpoints of heat resistance, heat resistance and availability. This polycarbonate (PC) is also suitable as a material for the transparent film 2 of the transparent conductive composite film A described above.

前記透明シート4の片面の表面には第1の導電性層5および第2の導電性層6がこの順序で形成されている。この透明シート4の表面に形成されている第1の導電性層5は透明導電性高分子膜或いはカーボンナノチューブ層である。第1の導電性層5の厚みは1nm〜100nm、好ましくは5nm〜80nmが望ましい。
透明シート4の表面に導電性高分子膜を形成する方法および導電性高分子の種類は、前記透明導電性複合フィルムAにおける第1の導電性層2の導電性高分子膜において説明した方法および高分子の種類が同様に採用することができるので、ここでは説明を省略する。
また第1の導電性層5が、カーボンナノチューブ層である場合、カーボンナノチューブ層の種類およびその形成方法は、前記透明導電性複合フィルムAにおける第1の導電性層2において説明したカーボンナノチューブ層の種類および形成方法が同様に採用することができるので、ここでは説明を省略する。
前述した第1の導電性層5が形成された透明シート4の第1の導電性層5の表面には、第2の導電性層6が形成される。この第2の導電性層6は、ITO膜(Indium
Tin Oxide膜)である。このITO膜は第1の導電性層5の表面上にスパッタリングまたはCVD方式によって形成することができる。このITO膜は10〜50nmの厚さを有することが好ましい。
A first conductive layer 5 and a second conductive layer 6 are formed in this order on the surface of one side of the transparent sheet 4. The first conductive layer 5 formed on the surface of the transparent sheet 4 is a transparent conductive polymer film or a carbon nanotube layer. The thickness of the first conductive layer 5 is 1 nm to 100 nm, preferably 5 nm to 80 nm.
The method for forming the conductive polymer film on the surface of the transparent sheet 4 and the type of the conductive polymer are the same as the method described in the conductive polymer film of the first conductive layer 2 in the transparent conductive composite film A. Since the kind of polymer can be similarly adopted, the description is omitted here.
When the first conductive layer 5 is a carbon nanotube layer, the type of carbon nanotube layer and the method for forming the carbon nanotube layer are the same as those of the carbon nanotube layer described in the first conductive layer 2 of the transparent conductive composite film A. Since the type and formation method can be similarly adopted, the description thereof is omitted here.
A second conductive layer 6 is formed on the surface of the first conductive layer 5 of the transparent sheet 4 on which the first conductive layer 5 is formed. The second conductive layer 6 is made of an ITO film (Indium
Tin Oxide film). This ITO film can be formed on the surface of the first conductive layer 5 by sputtering or CVD. This ITO film preferably has a thickness of 10 to 50 nm.

本発明の透明導電性複合シートBは前述したように、基本的には透明シート4/第1の導電性層5/第2の導電性層6の3層構造である。この複合シートBは、表面抵抗値が300〜3000Ω/□、好ましくは400〜2500Ω/□の範囲であるのが望ましく、また透明度は光透過度(波長550nm)が80%以上、好ましくは85%以上、特に好ましくは86〜96%の範囲であるのが有利である。この複合シートBはタッチパネル構造体の下部基板層として有利に利用される。
(C)抵抗膜式タッチパネル構造体
前記した本発明の透明導電性複合フィルムAおよび透明導電性複合シートBは、それぞれ抵抗膜式タッチパネル構造体の上部基板層および下部基板層として使用することができる。
かくして本発明によれば下記(1)〜(3)の抵抗膜式タッチパネル構造体が提供される。
(1)本発明の透明導電性複合フィルムAを上部基板層として使用し、下部基板層として従来のものを使用して構成した抵抗膜式タッチパネル構造体。ここで従来のものとしては、ITO膜を表面に形成させたガラスシートまたはポリカーボネート(PC)シートが有利である。
(2)本発明の透明導電性複合フィルムAを上部基板とし、かつ透明導電性複合シートBを下部基板層として使用して構成した抵抗膜式タッチパネル構造体。この構造体は図1に示すような構成により、複合フィルムAおよび複合シートBとが導電性層3および導電性層6が互いに向い合うように配置されている。
(3)本発明の透明導電性複合シートBを下部基板層として使用し、上部基板層として従来のものを使用して構成した抵抗膜式タッチパネル構造体。ここで従来のものとしては、ITO膜を表面に形成させたポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムまたはポリカーボネート(PC)フィルムが有利である。
以下、実施例を掲げ本発明を具体的に説明する。
The transparent conductive composite sheet B of the present invention basically has a three-layer structure of transparent sheet 4 / first conductive layer 5 / second conductive layer 6 as described above. The composite sheet B desirably has a surface resistance in the range of 300 to 3000 Ω / □, preferably 400 to 2500 Ω / □, and the transparency is 80% or more, preferably 85%, of light transmittance (wavelength 550 nm). As described above, it is particularly preferable that the content is in the range of 86 to 96%. This composite sheet B is advantageously used as the lower substrate layer of the touch panel structure.
(C) Resistance film type touch panel structure The above-described transparent conductive composite film A and transparent conductive composite sheet B of the present invention can be used as an upper substrate layer and a lower substrate layer of a resistance film type touch panel structure, respectively. .
Thus, according to the present invention, the following resistive film type touch panel structures (1) to (3) are provided.
(1) A resistive touch panel structure using the transparent conductive composite film A of the present invention as an upper substrate layer and a conventional lower substrate layer. Here, as a conventional one, a glass sheet or a polycarbonate (PC) sheet on which an ITO film is formed is advantageous.
(2) A resistive touch panel structure configured using the transparent conductive composite film A of the present invention as an upper substrate and the transparent conductive composite sheet B as a lower substrate layer. In this structure, the composite film A and the composite sheet B are arranged such that the conductive layer 3 and the conductive layer 6 face each other, as shown in FIG.
(3) A resistive touch panel structure using the transparent conductive composite sheet B of the present invention as a lower substrate layer and a conventional one as an upper substrate layer. Here, as a conventional film, a polyethylene terephthalate (PET) film or a polycarbonate (PC) film having an ITO film formed on the surface is advantageous.
Hereinafter, the present invention will be described specifically by way of examples.

比較例1Comparative Example 1

厚さ188μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムの片面にスパッタリング方によりITO膜(Indium
Tin Oxide膜)を形成させ上部基板層を作成した。一方厚さ1.1mmのガラス基板の片面にITO膜を形成させたものを下部基板層として使用した。前記上部基板層と前記下部基板層とをITO膜が互いに向き合うように配置して抵抗膜式タッチパネル構造体を作成した。
このタッチパネル構造体の筆記摺動試験および打鍵試験を行った。この結果を下記表1に示した。
An ITO film (Indium) is formed on one side of a 188 μm thick polyethylene terephthalate (PET) film by sputtering.
Tin Oxide film) was formed to form an upper substrate layer. On the other hand, a glass substrate having a thickness of 1.1 mm with an ITO film formed on one side was used as the lower substrate layer. The upper substrate layer and the lower substrate layer were arranged so that the ITO films faced each other to form a resistive film type touch panel structure.
The touch panel structure was subjected to a writing sliding test and a keystroke test. The results are shown in Table 1 below.

厚さ188μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムの片面にポリチオフェン(Polythiofen)系の導電性高分子を40nmの膜厚になるように塗布して形成させた。この後この高分子膜面上にITO膜をスパッタリング法により形成させて、上部基板層を作成した。この上部基板層の光線透過率は88%、表面抵抗値は500Ω/□であった。一方厚さ1.1mmのガラス基板の片面にITO膜を形成させたものを下部基板として使用した。前記上部基板層と前記下部基板層とをITO膜が互いに向き合うように配置して抵抗膜式タッチパネル構造体を作成した。
このタッチパネル構造体の筆記摺動試験および打鍵試験を行った。この結果を下記表1に示した。表1の結果から明らかなように、本発明の透明導電性複合フィルムを上部基板層として使用することにより、従来品(比較例1)と比べて筆記摺動試験および打鍵耐久性がいずれも著しく改善できた。また光学特性および電気特性は従来品と殆ど変わらなかった。
A polythiophene (Polythiophene) conductive polymer was applied to one side of a 188 μm thick polyethylene terephthalate (PET) film to a thickness of 40 nm. Thereafter, an ITO film was formed on the polymer film surface by a sputtering method to form an upper substrate layer. The upper substrate layer had a light transmittance of 88% and a surface resistance value of 500Ω / □. On the other hand, a glass substrate having a thickness of 1.1 mm having an ITO film formed on one side was used as the lower substrate. The upper substrate layer and the lower substrate layer were arranged so that the ITO films faced each other to form a resistive film type touch panel structure.
The touch panel structure was subjected to a writing sliding test and a keystroke test. The results are shown in Table 1 below. As is apparent from the results in Table 1, the use of the transparent conductive composite film of the present invention as the upper substrate layer significantly improved the writing sliding test and the keystroke durability compared to the conventional product (Comparative Example 1). I was able to improve. Moreover, optical characteristics and electrical characteristics were almost the same as the conventional products.

厚さ100μmのポリカーボネート(PC)フィルムの片面にカーボンナノチューブよりなる導電性層を20nmの膜厚となるように塗布して形成させた。その後この導電性層の表面にITO膜をスパッタリング法により形成させて上部基板層を作成した。この上部基板層の光線透過率は90%、表面抵抗値700Ω/□であった。一方厚さ1.1mmのガラス基板の片面にITO膜を形成させたものを下部基板として使用した。前記上部基板層と前記下部基板層とをITO膜が互いに向き合うように配置して抵抗膜式タッチパネル構造体を作成した。
このタッチパネル構造体の筆記摺動試験および打鍵試験を行った。この結果を下記表1に示した。表1の結果から明らかなように、本発明の透明導電性複合フィルムを上部基板層として使用することにより、従来品(比較例1)と比べて筆記摺動試験および打鍵耐久性がいずれも大幅に改善できた。また光学特性および電気特性は従来品と殆ど変わらなかった。
A conductive layer made of carbon nanotubes was applied on one side of a polycarbonate (PC) film having a thickness of 100 μm so as to have a thickness of 20 nm. Thereafter, an ITO film was formed on the surface of the conductive layer by sputtering to form an upper substrate layer. The upper substrate layer had a light transmittance of 90% and a surface resistance value of 700Ω / □. On the other hand, a glass substrate having a thickness of 1.1 mm having an ITO film formed on one side was used as the lower substrate. The upper substrate layer and the lower substrate layer were arranged so that the ITO films faced each other to form a resistive film type touch panel structure.
The touch panel structure was subjected to a writing sliding test and a keystroke test. The results are shown in Table 1 below. As is apparent from the results in Table 1, the use of the transparent conductive composite film of the present invention as the upper substrate layer greatly improves the writing sliding test and keystroke durability compared to the conventional product (Comparative Example 1). It was possible to improve. Moreover, optical characteristics and electrical characteristics were almost the same as the conventional products.

実施例1に示した上部基板層と同じものを上部基板層として使用した。一方厚さ1mmのポリカーボネート(PC)シートの片面にポリチオフェン系の導電性高分子を40nmの膜厚になるように塗布して形成させ、次いでこの高分子膜面上にITO膜をスパッタリング法により形成させて、下部基板層を作成した。この上部基板層の光線透過率は90%、表面抵抗値は500Ω/□であった。前記上部基板層と前記下部基板層とをITO膜が互いに向き合うように配置して抵抗膜式タッチパネル構造体を作成した。
このタッチパネル構造体の筆記摺動試験および打鍵試験を行った。この結果を下記表1に示した。表1の結果から明らかなように、本発明の透明導電性複合フィルムを上部基板層として、また透明導電性複合シートを下部基板層として使用することにより、従来品(比較例1)と比べて筆記摺動試験および打鍵耐久性がいずれも著しく改善できた。また光学特性および電気特性は従来品と殆ど変わらなかった。

Figure 2010033775
筆記摺動試験条件;筆記ペン0.8Rポリアセタール樹脂製,荷重250g,文字筆記
打鍵試験条件;8Rシリコンゴム,荷重250g,10回/秒打鍵 The same upper substrate layer as shown in Example 1 was used as the upper substrate layer. On the other hand, a polythiophene-based conductive polymer is applied on one side of a 1 mm thick polycarbonate (PC) sheet to a thickness of 40 nm, and then an ITO film is formed on the polymer film surface by sputtering. Thus, a lower substrate layer was formed. The upper substrate layer had a light transmittance of 90% and a surface resistance value of 500Ω / □. The upper substrate layer and the lower substrate layer were arranged so that the ITO films faced each other to form a resistive film type touch panel structure.
The touch panel structure was subjected to a writing sliding test and a keystroke test. The results are shown in Table 1 below. As is apparent from the results in Table 1, by using the transparent conductive composite film of the present invention as the upper substrate layer and the transparent conductive composite sheet as the lower substrate layer, compared with the conventional product (Comparative Example 1). Both the writing sliding test and the keying durability were remarkably improved. Moreover, optical characteristics and electrical characteristics were almost the same as the conventional products.
Figure 2010033775
Writing sliding test conditions; writing pen 0.8R polyacetal resin, load 250g, letter writing keying test conditions; 8R silicone rubber, load 250g, 10 times / second keying

本発明の透明導電性複合フィルム(A)および透明導電性複合シート(B)の表面からの直角断面構造を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the right-angled cross-section structure from the surface of the transparent conductive composite film (A) and transparent conductive composite sheet (B) of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

A;透明導電性複合フィルム
B;透明導電性複合シート
1;透明フィルム
2;第1の導電性層
3;第2の導電性層
4;透明シート
5;第1の導電性層
6;第2の導電性層



















A: transparent conductive composite film B; transparent conductive composite sheet 1; transparent film 2; first conductive layer 3; second conductive layer 4; transparent sheet 5; first conductive layer 6; The conductive layer



















Claims (15)

透明フィルムの片面の表面に、導電性高分子膜またはカーボンナノチューブ層である第1の導電性層が形成され、さらにその第1の導電性層の表面に、ITO膜(Indium
Tin Oxide膜)である第2の導電性層が形成されていることを特徴とする透明導電性複合フィルム。
A first conductive layer that is a conductive polymer film or a carbon nanotube layer is formed on one surface of the transparent film, and an ITO film (Indium) is formed on the surface of the first conductive layer.
A transparent conductive composite film in which a second conductive layer (Tin Oxide film) is formed.
該透明フィルムは、厚さ50μm〜200μmを有するポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムまたはポリカーボネート(PC)フィルムである請求項1記載の複合フィルム。   The composite film according to claim 1, wherein the transparent film is a polyethylene terephthalate (PET) film or a polycarbonate (PC) film having a thickness of 50 μm to 200 μm. 第1の導電性層は、厚さ1nm〜100nmを有する請求項1記載の複合フィルム。   The composite film according to claim 1, wherein the first conductive layer has a thickness of 1 nm to 100 nm. 第1の導電性層は、チオフェン系高分子膜である請求項1記載の複合フィルム。   The composite film according to claim 1, wherein the first conductive layer is a thiophene polymer film. 第1の導電性層は、単層カーボンナノチューブ層である請求項1記載の複合フィルム。   The composite film according to claim 1, wherein the first conductive layer is a single-walled carbon nanotube layer. 光透過率が85%以上でありかつ表面抵抗値が100Ω/□〜3000Ω/□である請求項1記載の複合フィルム。   2. The composite film according to claim 1, having a light transmittance of 85% or more and a surface resistance value of 100Ω / □ to 3000Ω / □. 透明シートの片面の表面に、導電性高分子膜またはカーボンナノチューブ層である第1の導電性層が形成され、さらにその第1の導電性層の表面にITO膜(Indium
Tin Oxide膜)である第2の導電性層が形成されていることを特徴とする透明導電性複合シート。
A first conductive layer that is a conductive polymer film or a carbon nanotube layer is formed on one surface of the transparent sheet, and an ITO film (Indium) is further formed on the surface of the first conductive layer.
A transparent conductive composite sheet, wherein a second conductive layer (Tin Oxide film) is formed.
該透明シートは、厚さが500μm〜2mmを有するガラスシート、ポリカーボネート(PC)シートまたはポリシクロオレフィンシートである請求項7記載の複合シート。   The composite sheet according to claim 7, wherein the transparent sheet is a glass sheet, a polycarbonate (PC) sheet, or a polycycloolefin sheet having a thickness of 500 μm to 2 mm. 第1の導電性層は、厚さ1nm〜100nmを有する請求項7記載の複合シート。   The composite sheet according to claim 7, wherein the first conductive layer has a thickness of 1 nm to 100 nm. 第1の導電性層は、チオフェン系高分子膜である請求項7記載の複合シート。   The composite sheet according to claim 7, wherein the first conductive layer is a thiophene polymer film. 第1の導電性層は、単層カーボンナノチューブ層である請求項7記載の複合シート。   The composite sheet according to claim 7, wherein the first conductive layer is a single-walled carbon nanotube layer. 光透過率が85%以上でありかつ表面抵抗値が100Ω/□〜3000Ω/□である請求項7記載の複合シート。   The composite sheet according to claim 7, which has a light transmittance of 85% or more and a surface resistance value of 100Ω / □ to 3000Ω / □. 請求項1記載の複合フィルムを上部基板層として構成した抵抗膜式タッチパネル構造体。   A resistive touch panel structure comprising the composite film according to claim 1 as an upper substrate layer. 請求項1記載の複合フィルムを上部基板層とし、かつ請求項7記載の複合シートを下部基板層として構成した抵抗膜式タッチパネル構造体。   A resistive touch panel structure comprising the composite film according to claim 1 as an upper substrate layer and the composite sheet according to claim 7 as a lower substrate layer. 請求項7記載の複合シートを下部基板層として構成した抵抗膜式タッチパネル構造体。



























A resistive touch panel structure comprising the composite sheet according to claim 7 as a lower substrate layer.



























JP2008192658A 2008-07-25 2008-07-25 Transparent conductive composite film and sheet Pending JP2010033775A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008192658A JP2010033775A (en) 2008-07-25 2008-07-25 Transparent conductive composite film and sheet

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008192658A JP2010033775A (en) 2008-07-25 2008-07-25 Transparent conductive composite film and sheet

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2010033775A true JP2010033775A (en) 2010-02-12

Family

ID=41738019

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008192658A Pending JP2010033775A (en) 2008-07-25 2008-07-25 Transparent conductive composite film and sheet

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2010033775A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011175890A (en) * 2010-02-25 2011-09-08 Toray Ind Inc Conductive film
CN104178740A (en) * 2013-05-22 2014-12-03 海洋王照明科技股份有限公司 Conductive film, preparing method thereof and applications of the conductive film
CN106033279A (en) * 2015-03-19 2016-10-19 南昌欧菲光学技术有限公司 Touch control substrate and manufacturing method thereof, and touch display screen
CN117275830A (en) * 2023-09-04 2023-12-22 冷水江市京科电子科技有限公司 Preparation method of capacitive touch screen ITO film

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011175890A (en) * 2010-02-25 2011-09-08 Toray Ind Inc Conductive film
CN104178740A (en) * 2013-05-22 2014-12-03 海洋王照明科技股份有限公司 Conductive film, preparing method thereof and applications of the conductive film
CN106033279A (en) * 2015-03-19 2016-10-19 南昌欧菲光学技术有限公司 Touch control substrate and manufacturing method thereof, and touch display screen
CN117275830A (en) * 2023-09-04 2023-12-22 冷水江市京科电子科技有限公司 Preparation method of capacitive touch screen ITO film
CN117275830B (en) * 2023-09-04 2024-03-29 冷水江市京科电子科技有限公司 Preparation method of capacitive touch screen ITO film

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11345135B2 (en) Systems and high throughput methods for touch sensors
JP5259675B2 (en) Large screen touch screen
KR100911640B1 (en) Transparent conductive laminate and touch panel with the same
Mochizuki et al. Fabrication of flexible transparent electrodes using PEDOT: PSS and application to resistive touch screen panels
KR101091196B1 (en) transparent conductive films containing carbon nanotubes and the touch panel
CN102985898B (en) Transparent and electrically conductive film and manufacture method thereof
KR101046897B1 (en) transparent conductive film and touch panel
CN105204695B (en) Nano-silver thread conductive laminate structure and capacitance type touch-control panel
JP5370151B2 (en) Substrate with transparent conductive film, method for producing the same, and touch panel using the same
US20110080355A1 (en) Touch Screen Devices Employing Nanostructure Networks
US20110050623A1 (en) Organic conductive composition and touch panel input device including the same
KR20120127356A (en) Transparent conductive film, method for fabricating the same and touch panel with it
TWI595513B (en) Transparent conductive film
KR101879220B1 (en) Transparent electrode pattern structure and touch screen panel having the same
KR101865685B1 (en) Transparent electrode pattern structure and touch screen panel having the same
JP2006019239A (en) Transparent conductive film
JP2010086512A (en) Transparent conductive layered structure for touch panel input device
JP2010033775A (en) Transparent conductive composite film and sheet
KR101420541B1 (en) Conductive polymer composition and conductive film prepared from the composition
US7148439B2 (en) High durability touch panel
CN105404435A (en) SNW conducting laminated structure and capacitive touch panel
JP2009129299A (en) Resistance film type touch panel structure
JP2009271595A (en) Resistive film type touch panel structure
KR20130007915A (en) Touch panel
US20110063250A1 (en) Organic conductive composition and touch panel input device including the same