JP2010032859A - 液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】周辺金属配線と重なるようにシール部を有する液晶表示装置の信頼性を向上させる。
【解決手段】液晶表示装置100のTFT基板10の額縁領域10Fには、少なくとも1本の周辺金属配線18a−18dが形成されており、周辺金属配線は、シール部32と重なる部分を含む第1周辺金属配線18cを含み、第1周辺金属配線18cは、シール部32と重なる部分に第1開口部19c1、19c2、19c3を有し、第1開口部の内で液晶層に最も近い第1開口部19c3は、第1開口部19c1、19c2、19c3の中で最も広い幅を有している。
【選択図】 図2
【解決手段】液晶表示装置100のTFT基板10の額縁領域10Fには、少なくとも1本の周辺金属配線18a−18dが形成されており、周辺金属配線は、シール部32と重なる部分を含む第1周辺金属配線18cを含み、第1周辺金属配線18cは、シール部32と重なる部分に第1開口部19c1、19c2、19c3を有し、第1開口部の内で液晶層に最も近い第1開口部19c3は、第1開口部19c1、19c2、19c3の中で最も広い幅を有している。
【選択図】 図2
Description
本発明は、液晶表示装置に関し、特にTFTをスイッチング素子として備えるアクティブマトリクス型液晶表示装置に関する。
TFTをスイッチング素子として備えるアクティブマトリクス型液晶表示装置(以下、TFT型液晶表示装置という。)は、TFT基板と、対向基板と、これらの間に設けられた液晶層とを有している。TFT基板は、ガラス基板と、ガラス基板上に形成された、ソースバスラインと、ゲートバスラインと、これらに接続されたTFTと、TFTを介してソースバスラインに接続された画素電極とを有している。対向基板は、ガラス基板と、ガラス基板上に形成された、カラーフィルタ層と、ブラックマトリクスと、対向電極とを有している。なお、IPSモードの液晶表示装置においては、対向電極は画素電極と同じ基板に形成される。液晶表示装置には、必要に応じて、配向膜、偏光板、位相差板などがさらに設けられる。
液晶層はTFT基板と対向基板との間に設けられたシール部によって包囲されている。シール部は一般に光硬化性樹脂を含むシール材で形成されており、TFT基板と対向基板とを相互に接着するとともに、TFT基板と対向基板との間の間隙に液晶材料を密封している。シール部を構成する光硬化性樹脂の硬化が不十分であると、不純物が液晶材料中に溶け出し、焼き付き現象を引き起こす原因となる。
ソースバスラインおよびゲートバスラインの電極端子は額縁領域(表示領域の外側)に設けられる。ソースバスラインまたはゲートバスラインから電極端子に至る引き出し配線(金属配線)はシール部と部分的に重なるので、光硬化性樹脂に十分に光を照射できず、硬化が不十分になることがあった。特許文献1には、引き出し配線がシール部と重なる部分を透明導電膜とする、あるいは、引き出し配線がシール部と重なる部分に開口部(あな又はスリット)を設けることによって、引き出し配線と重なる部分のシール材を十分に硬化させることを可能にした構成が開示されている。
また、液晶表示装置の額縁領域には、周辺金属配線が設けられることがある。周辺金属配線としては、例えば、ソースバスラインまたはゲートバスラインの断線を修復するための補助配線(予備信号配線)がある(例えば、特許文献2参照)。また、TFT基板の上にゲートドライバを実装した際に、ゲートドライバ間を相互に接続するための配線が周辺金属配線として設けられる。液晶表示装置の額縁領域を狭くするために、周辺金属配線と重なるようにシール部を形成すると、シール部を構成する光硬化性樹脂を十分に硬化できず、信頼性が低下するという問題が生じる。
特開平11-52394号公報
特開平3-23425号公報
上記の問題を解決するために、周辺金属配線に開口部を設けると、周辺金属配線の電気抵抗が増大する結果、信号遅延などの問題が生じることがある。また、電気抵抗の増大を抑制するために、開口部を小さくすると、光硬化性樹脂を十分に硬化することができないという問題が発生する。
本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、その目的は、周辺金属配線と重なるようにシール部を有する液晶表示装置の信頼性を向上させることにある。
本発明の液晶表示装置は、第1基板と、前記第1基板上に形成された、ゲートバスラインと、ソースバスラインと、前記ゲートバスラインおよび前記ソースバスラインに接続されたTFTと、前記TFTを介して前記ソースバスラインに接続された画素電極とを有するTFT基板と、第2基板と、前記第2基板上に形成されたブラックマトリクスを有する対向基板と、前記TFT基板と前記対向基板との間に設けられた液晶層と、前記TFT基板と前記対向基板との間に設けられ、前記液晶層を包囲するシール部とを有し、表示領域と、前記表示領域の外側に設けられた額縁領域とを備えるTFT型液晶表示装置であって、前記TFT基板は、前記表示領域と、前記表示領域の外側の額縁領域とを有し、前記TFT基板の前記額縁領域には、少なくとも1本の周辺金属配線が形成されており、前記少なくとも1本の周辺金属配線は、前記シール部と重なる部分を含む第1周辺金属配線を含み、前記第1周辺金属配線は、前記シール部と重なる部分に複数の第1開口部を有し、前記複数の第1開口部の内で前記液晶層に最も近い第1開口部は、前記複数の第1開口部の中で最も広い幅を有していることを特徴とする。
ある実施形態において、前記シール部が前記第1周辺金属配線に重なる部分は、前記シール部の前記液晶層側の端部と、前記TFT基板の外縁側の端部とを含み、前記複数の第1開口部は3以上の第1開口部を含み、前記3以上の第1開口部の内で前記液晶層に最も近い第1開口部および前記TFT基板の外縁に最も近い第1開口部は、他の第1開口部よりも広い幅を有している。
ある実施形態において、前記少なくとも1本の周辺金属配線は、前記シール部と重なる部分を含み、前記第1周辺金属配線よりも前記TFT基板の外縁に近い側に設けられた第2周辺金属配線をさらに含み、前記第2周辺金属配線は、前記シール部と重なる部分に複数の第2開口部を有し、前記複数の第2開口部の内で前記TFT基板の外縁に最も近い第2開口部は、前記複数の第2開口部の中で最も広い幅を有している。
ある実施形態において、前記シール部は光硬化性樹脂で形成されている。
本発明によると、周辺金属配線と重なるようにシール部を有する液晶表示装置の信頼性を向上させることができる。
以下、図面を参照して本発明による実施形態のTFT型液晶表示装置を説明する。
図1に、本発明による実施形態のTFT型液晶表示装置100の構造を模式的に示す。図1は液晶表示装置100の模式的な平面図である。
液晶表示装置100は、TFT基板10と、対向基板(カラーフィルタ基板)20と、TFT基板10と対向基板20との間に設けられた液晶層(不図示)とを有する。液晶層はシール部32によって包囲されている。シール部32は、光硬化性樹脂、典型的には紫外線硬化樹脂によって形成されている。
TFT基板10は、ガラス基板と、ガラス基板上に形成された、ゲートバスライン12と、ソースバスライン14と、ゲートバスライン12およびソースバスライン14に接続されたTFT16と、TFT16を介してソースバスライン14に接続された画素電極17とを有する。
対向基板20は、ガラス基板と、ガラス基板上に形成された、カラーフィルタ層(不図示)と、ブラックマトリクス26と、対向電極(不図示)とを有する。なお、カラーフィルタ層は省略され得る。液晶表示装置100は表示領域(「アクティブ領域」といわれることもある。)10Dと、表示領域10Dの外側に額縁領域10Fとを有しており、カラーフィルタ層は表示領域10Dに形成されており、ブラックマトリクス26は額縁領域10Fに形成されている。なお、額縁領域10Fは、表示領域10Dの外側の非表示領域の全体を指し、対向基板20の外側のTFT基板10の領域も含む。
TFT基板10は、ゲートバスライン12およびソースバスライン14と絶縁層(不図示)を介して交差するように設けられた少なくとも1本の周辺金属配線18をさらに有している。周辺金属配線18は、例えば、その全体が対向電極およびブラックマトリクス26と対向する領域に形成されている。周辺金属配線18は、シール部32と重なる部分を含んでいる。複数の周辺金属配線18が設けられている場合には、複数の周辺金属配線18の内の少なくとも一本がシール部32と重なる部分を含んでいればよい。
この周辺金属配線18は、例えば特許文献2に記載されている予備信号配線と同様に、ゲートバスライン12またはソースバスライン14に断線が発生した場合に、断線の修復に用いられる。例えば、断線が発生したソースバスライン14を周辺金属配線18と上下の2箇所で接続すると、当該ソースバスライン14には両側からソース信号(表示信号)が供給されるので、当該ソースバスライン14に接続されている全ての画素電極17にソース信号が供給され、線状の表示欠陥は修復される。
ここでは、周辺金属配線18は、額縁領域10Fにおいて、表示領域10Dを包囲するロの字状に形成に形成されている。しかしながらこれに限られず、例えば、ゲートバスライン12に平行な2本の直線部分と、ソースバスライン14に平行な1本の直線部分とを有するコの字状に形成されてもよい。
なお、図1には、1本の周辺金属配線18を図示しているが、図2に示すように4本の周辺金属配線18a−18dを設けても良い。予備信号配線として用いられる周辺金属配線18の本数は、断線の発生率を考慮して適宜設定され得る。なお、周辺金属配線18とソースバスライン14またはゲートバスライン12とを短絡させる方法としては、レーザ照射法など公知の種々の方法を用いることができる。
次に、図2を参照して、液晶表示装置100の周辺金属配線の特徴を説明する。
図2に示す液晶表示装置100は、4本の周辺金属配線18a、18b、18cおよび18dを有している。例えば、周辺金属配線18aはTFT基板10の外縁に最も近い側に設けられており、周辺金属配線18dは最も液晶層に近い側に設けられている。シール部32は4本の周辺金属配線18a−18dの内の周辺金属配線18a−18cと重なっている。ここでは、周辺金属配線18a−18cの全体がシール部32と重なっている例を示すが、少なくとも一部が重なる構成において、本実施形態の構成を適用できることは言うまでも無い。
3本の周辺金属配線18a−18cは、シール部32と重なる部分に複数の開口部を有している。周辺金属配線18aは開口部19a1、19a2、19a3を有し、周辺金属配線18bは開口部19b1、19b2、19b3を有し、周辺金属配線18cは開口部19c1、19c2、19c3を有している。なお、周辺金属配線18dはシール部32と重なる部分を有しないので、開口部を設ける必要が無い。
周辺金属配線18a−18cの内で液晶層に最も近い側に形成されている周辺金属配線18cが有する開口部19c1、19c2および19c3の中で最も液晶層に近い側に設けられている開口部19c3は、3つの開口部19c1、19c2および19c3の中で最も広い幅を有している。従って、周辺金属配線18cと重なるシール部32の部分の内で最も液晶層に近い部分に最も多くの光が照射されることになる。即ち、シール部32の液晶層に最も近い部分の光硬化性樹脂の硬化が最も進む。従って、硬化が不十分なシール材から不純物が液晶層に溶け出すことによる不良の発生が抑制される。周辺金属配線18cが有する他の開口部19c1および19c2は、開口部19c3よりも幅が狭く、この部分によって、周辺金属配線18cの電気抵抗の上昇を抑制している。
図4に比較例の液晶表示装置200の周辺金属配線18a’、18b’、18c’および18d’の部分拡大図を示す。シール部32と重なる周辺金属配線18a’、18b’、18c’は、それぞれ同じ幅の開口部19a’、19b’、19c’を有している。液晶表示装置200の最も液晶層に近い周辺金属配線18c’は同じ幅の開口部19c’を有しているので、周辺金属配線18c’のシール部32と重なる部分にはほぼ同じ量の光が照射されることになる。これに対し、本発明による実施形態の液晶表示装置100が有する周辺金属配線18cでは、シール部32の内で最も液晶層に近い部分により多くの光が照射される。さらに、開口部19c1および19c2の幅を開口部19c’よりも狭くすることによって周辺金属配線18cの電気抵抗を液晶表示装置200の周辺金属配線18c’と同程度またはそれ未満にすることできる。
図2に示した液晶表示装置100のように、シール部32と重なる部分を含む周辺金属配線18cが有する開口部19c1、19c2および19c3の内で液晶層に最も近い開口部19c3の幅を最も大きくすることによって、液晶表示装置の信頼性を向上させることができる。
また、液晶表示装置100において、シール部32と重なる部分を有する周辺金属配線18a−18cの内でTFT基板10の外縁に最も近い側に形成されている周辺金属配線18aでは、開口部19a1、19a2および19a3の中で最もTFT基板10の外縁に近い側に設けられている開口部19a1は、3つの開口部19a1、19a2および19a3の中で最も広い幅を有している。従って、周辺金属配線18aと重なるシール部32の部分の内で最もTFT基板10の外縁に近い部分に最も多くの光が照射されることになる。即ち、シール部32のTFT基板10の外縁に近い部分の光硬化性樹脂の硬化が最も進み、高い接着強度を有する。
図4に示した比較例の液晶表示装置200のTFT基板の外縁に最も近い周辺金属配線18a’は、同じ幅の開口部19a’を有している。従って、周辺金属配線18a’のシール部32と重なる部分にはほぼ同じ量の光が照射されることになる。これに対し、本発明による実施形態の液晶表示装置100が有する周辺金属配線18aでは、シール部32の内で最もTFT10の外縁に近い部分により多くの光が照射される。さらに、開口部19a2および19a3の幅を開口部19a’よりも狭くすることによって周辺金属配線18aの電気抵抗を液晶表示装置200の周辺金属配線18a’と同程度またはそれ未満にすることできる。
図2に示した液晶表示装置100のように、シール部32と重なる部分を含む周辺金属配線18aが有する開口部19a1、19a2および19a3の内でTFT基板10の外縁に最も近い開口部19a1の幅を最も大きくすることによって、液晶表示装置100のシール部32の接着強度を向上させることができる。
図2に示した液晶表示装置100では、シール部32が複数の周辺金属配線18a−18cと重なり、シール部32の液晶層側の端部32bは周辺金属配線18cと重なり、シール部32のTFT基板の外縁側の端部32aは周辺金属配線18aと重なっている。シール部32が一本の周辺金属配線とだけ重なる場合には、図3に示す液晶表示装置100のような構造を採用すればよい。
図3に示す液晶表示装置100では、シール部32は周辺金属配線18eとだけ重なっている。すなわち、シール部32の周辺金属配線18eに重なる部分は、シール部32の液晶層側の端部32bと、TFT基板の外縁側の端部32aとを含んでいる。周辺金属配線18eは、複数の開口部19e1、19e2、19e3、19e4、および19e5を有し、これらの開口部の内で液晶層に最も近い開口部19e5およびTFT基板の外縁に最も近い開口部19e1は、開口部19e2、19e3、19e4よりも広い幅を有している。ここでは、開口部19e1および19e5は同じ幅を有しており、開口部19e1〜19e5の中で最も広い幅を有している。このような開口部を有する周辺金属配線18eを採用することによって、図2に示した液晶表示装置100と同様の効果を得ることができる。
ここでは、周辺金属配線18、18a−18dおよび18eが断線修復用の予備信号配線の場合を説明したが、周辺金属配線は、これに限られず、シール部32と重なる部分を含む金属配線であれば他の目的のために設けられるものであってもよい。例えば、TFT基板の上にゲートドライバを実装した際に、ゲートドライバ間を相互に接続するための配線に、上記構成を適用しても良い。
本発明は、TFT型液晶表示装置に広く用いることができる。
10 TFT基板
12 ゲートバスライン
14 ソースバスライン
16 TFT
17 画素電極
18、18a、18b、18c、18d、18e、18a’、18b’、18c’、18d’ 周辺金属配線(予備信号配線)
19a1、19a2、19a3、19b1、19b2、19b3、19c1、19c2、19c3、19a’、19b’、19c’、19e1、19e2、19e3、19e4、19e5 開口部
20 対向基板
26 ブラックマトリクス
32 シール部
100、200 液晶表示装置
12 ゲートバスライン
14 ソースバスライン
16 TFT
17 画素電極
18、18a、18b、18c、18d、18e、18a’、18b’、18c’、18d’ 周辺金属配線(予備信号配線)
19a1、19a2、19a3、19b1、19b2、19b3、19c1、19c2、19c3、19a’、19b’、19c’、19e1、19e2、19e3、19e4、19e5 開口部
20 対向基板
26 ブラックマトリクス
32 シール部
100、200 液晶表示装置
Claims (4)
- 第1基板と、前記第1基板上に形成された、ゲートバスラインと、ソースバスラインと、前記ゲートバスラインおよび前記ソースバスラインに接続されたTFTと、前記TFTを介して前記ソースバスラインに接続された画素電極とを有するTFT基板と、
第2基板と、前記第2基板上に形成されたブラックマトリクスを有する対向基板と、
前記TFT基板と前記対向基板との間に設けられた液晶層と、
前記TFT基板と前記対向基板との間に設けられ、前記液晶層を包囲するシール部と
を有し、表示領域と、前記表示領域の外側に設けられた額縁領域とを備えるTFT型液晶表示装置であって、
前記TFT基板は、前記表示領域と、前記表示領域の外側の額縁領域とを有し、前記TFT基板の前記額縁領域には、少なくとも1本の周辺金属配線が形成されており、
前記少なくとも1本の周辺金属配線は、前記シール部と重なる部分を含む第1周辺金属配線を含み、前記第1周辺金属配線は、前記シール部と重なる部分に複数の第1開口部を有し、前記複数の第1開口部の内で前記液晶層に最も近い第1開口部は、前記複数の第1開口部の中で最も広い幅を有している、液晶表示装置。 - 前記シール部が前記第1周辺金属配線に重なる部分は、前記シール部の前記液晶層側の端部と、前記TFT基板の外縁側の端部とを含み、
前記複数の第1開口部は3以上の第1開口部を含み、
前記3以上の第1開口部の内で前記液晶層に最も近い第1開口部および前記TFT基板の外縁に最も近い第1開口部は、他の第1開口部よりも広い幅を有している、請求項1に記載の液晶表示装置。 - 前記少なくとも1本の周辺金属配線は、前記シール部と重なる部分を含み、前記第1周辺金属配線よりも前記TFT基板の外縁に近い側に設けられた第2周辺金属配線をさらに含み、前記第2周辺金属配線は、前記シール部と重なる部分に複数の第2開口部を有し、前記複数の第2開口部の内で前記TFT基板の外縁に最も近い第2開口部は、前記複数の第2開口部の中で最も広い幅を有している、請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記シール部は光硬化性樹脂で形成されている、請求項1から3のいずれかに記載の液晶表示装置。
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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-
2008
- 2008-07-30 JP JP2008196008A patent/JP2010032859A/ja active Pending
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