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JP2010027739A - Substrate transfer system, and substrate transfer method - Google Patents

Substrate transfer system, and substrate transfer method Download PDF

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JP2010027739A
JP2010027739A JP2008185146A JP2008185146A JP2010027739A JP 2010027739 A JP2010027739 A JP 2010027739A JP 2008185146 A JP2008185146 A JP 2008185146A JP 2008185146 A JP2008185146 A JP 2008185146A JP 2010027739 A JP2010027739 A JP 2010027739A
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substrate
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substrate processing
adjacent region
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To significantly shorten a transfer time (a conveying time) for transferring a substrate from a first substrate processing device 3 to a second substrate processing device 5. <P>SOLUTION: A plurality of drawing arms 27 having suction pads 31 for drawing on tip end sides are arranged in a first adjacent region A1 of a system base 19 to move in the X-axis direction and be arranged at intervals in the Y-axis direction. A plurality of delivery arms 45 having suction pads 49 for delivery on tip end sides are arranged in a second adjacent region A2 of the system base 19 to move in the X-axis direction and be arranged at intervals in the Y-axis direction. A plurality of restriction rollers 63, 73 are arranged on one end side of the X-axis direction of the system base 19 to rotate around a vertical axial center and be arranged at intervals in the Y-axis direction from the first adjacent region A1 to the second adjacent region A2. A plurality of press rollers 89 are arranged on other end side of the X-axis direction of the system base 19 so as to rotate around the vertical axial center and be arranged at intervals from the first adjacent region A1 to the second adjacent region A2. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、第1基板処理装置から該第1基板処理装置にY軸方向に離隔した第2基板処理装置へガラス基板等の基板(薄板基板)を移送(搬送)する基板移送システム及び基板移送方法に関する。   The present invention relates to a substrate transfer system and substrate transfer for transferring (transferring) a substrate (thin plate substrate) such as a glass substrate from a first substrate processing apparatus to a second substrate processing apparatus spaced in the Y-axis direction from the first substrate processing apparatus. Regarding the method.

クリーン搬送の分野で用いられる基板移送システムの先行技術として特許文献1に示すものがあり、この先行技術に係る基板移送システムの構成等は、次のようになる。   As a prior art of a substrate transfer system used in the field of clean conveyance, there is one shown in Patent Document 1, and the configuration of the substrate transfer system according to this prior art is as follows.

先行技術に係る基板移送システムは、台車(走行フレーム)を具備しており、この台車は、第1基板処理装置に隣接する第1隣接位置と第2基板処理装置に隣接する第2隣接位置との間で一対のガイドレールを介してY軸方向へ移動可能である。また、台車には、支持台が設けられており、この支持台には、第1基板処理装置から基板を受け取る複数の受取ローラが水平な軸心周りに回転可能に設けられている。更に、台車には、第2基板処理装置へ基板を送り出す複数の送出アームが設けられており、複数の送出アームは、複数の受取ローラから基板を受け取ることができるように構成されている。なお、第1基板処理装置の一部である固定フレームには、第1基板処理装置から基板を送り出す複数の補助ローラ(送出ローラ)が水平な軸心周りに回転可能に設けられている。   The substrate transfer system according to the prior art includes a carriage (traveling frame), and the carriage includes a first adjacent position adjacent to the first substrate processing apparatus and a second adjacent position adjacent to the second substrate processing apparatus. Can be moved in the Y-axis direction via a pair of guide rails. Further, the carriage is provided with a support table, and a plurality of receiving rollers for receiving the substrate from the first substrate processing apparatus are provided on the support table so as to be rotatable around a horizontal axis. Further, the carriage is provided with a plurality of delivery arms that send out the substrate to the second substrate processing apparatus, and the plurality of delivery arms are configured to receive the substrate from a plurality of receiving rollers. A fixed frame that is a part of the first substrate processing apparatus is provided with a plurality of auxiliary rollers (sending rollers) for feeding the substrate from the first substrate processing apparatus so as to be rotatable around a horizontal axis.

従って、台車を第1基板処理装置に接近するY軸方向へ移動させて、第1隣接位置に位置させる。次に、複数の受取ローラ及び複数の補助ローラを回転させて、第1基板処理装置から送り出した基板を複数の受取ローラによって受け取る。更に、複数の送出アームによって複数の受取ローラから基板を受け取ると共に、台車を第1隣接位置から第2隣接位置までY軸方向へ移動させる。そして、複数の送出アームによって第2基板処理装置へ基板を送り出す。以上により、第1基板処理装置から第2基板処理装置へ基板を移送(搬送)することができる。
特開2005−64431号公報
Accordingly, the carriage is moved in the Y-axis direction approaching the first substrate processing apparatus and is positioned at the first adjacent position. Next, the plurality of receiving rollers and the plurality of auxiliary rollers are rotated, and the substrate sent out from the first substrate processing apparatus is received by the plurality of receiving rollers. Further, the substrate is received from the plurality of receiving rollers by the plurality of delivery arms, and the carriage is moved in the Y-axis direction from the first adjacent position to the second adjacent position. Then, the substrate is sent out to the second substrate processing apparatus by a plurality of delivery arms. As described above, the substrate can be transferred (conveyed) from the first substrate processing apparatus to the second substrate processing apparatus.
JP-A-2005-64431

ところで、前述のように、先行技術に係る基板移送システムにあっては、第1基板処理装置から第2基板処理装置へ基板を移送するには、台車を第1隣接位置から第2隣接位置までY軸方向へ移動させる必要がある。一方、台車に作用する重量(台車、支持台、複数の受取ローラ、送出アーム等の総重量)は大きく、それに伴い、台車の移動加速度、換言すれば、基板移送システムにおける基板の移送加速度(搬送加速度)を十分に高めることができない。そのため、第1基板処理装置から第2基板処理装置へ基板を移送するまでの移送時間(搬送時間)が長くなり、基板移送システムを液晶パネル等の製品の生産ラインに用いても、生産性を向上させることが困難であるという問題がある。   As described above, in the substrate transfer system according to the prior art, in order to transfer the substrate from the first substrate processing apparatus to the second substrate processing apparatus, the carriage is moved from the first adjacent position to the second adjacent position. It is necessary to move in the Y-axis direction. On the other hand, the weight acting on the carriage (the total weight of the carriage, the support base, the plurality of receiving rollers, the delivery arm, etc.) is large, and accordingly, the movement acceleration of the carriage, in other words, the substrate transfer acceleration (conveyance) in the substrate transfer system. Acceleration) cannot be increased sufficiently. Therefore, the transfer time (transfer time) until the substrate is transferred from the first substrate processing apparatus to the second substrate processing apparatus becomes long, and productivity can be improved even if the substrate transfer system is used in a production line for products such as liquid crystal panels. There is a problem that it is difficult to improve.

そこで、本発明は、前述の問題を解決することができる、新規な構成の基板移送システム及び基板移送方法を提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a substrate transfer system and a substrate transfer method having a novel configuration that can solve the above-described problems.

本発明の特徴は、第1基板処理装置から該第1基板処理装置にY軸方向に離隔した第2基板処理装置へ基板を浮上させた状態で搬送する基板移送システムにおいて、前記第1基板処理装置にX軸方向に隣接する第1隣接領域、及び前記第2基板処理装置にX軸方向に隣接する第2隣接領域を有し、Y軸方向へ延びたシステムベースと、前記システムベースに設けられ、基板を基準浮上高さ位置まで浮上させる浮上ユニットと、前記システムベースの前記第1隣接領域又は前記第1基板処理装置の一部にX軸方向へ移動可能かつY軸方向に間隔を置いて設けられ、X軸方向へそれぞれ延びてあって、先端側に基板の裏面又は表面を吸着する引出用吸着パッドをそれぞれ有し、前記第1基板処理装置から前記第1隣接領域に基板を引き出す複数の引出アームと、前記システムベースの前記第2隣接領域又は前記第2基板処理装置の一部にX軸方向へ移動可能かつY軸方向に間隔を置いて設けられ、X軸方向へそれぞれ延びてあって、先端側に基板の裏面又は表面を吸着する送出用吸着パッドをそれぞれ有し、前記第2隣接領域から前記第2基板処理装置へ基板を送り出す複数の送出アームと、前記システムベースのX軸方向の一端側に鉛直な軸心周りに回転可能かつ前記第1隣接領域から前記第2隣接領域にかけてY軸方向に間隔を置いて設けられた複数の規制ローラと、前記システムベースのX軸方向の他端側に鉛直な軸心周りに回転可能かつ前記第1隣接領域から前記第2隣接領域にかけてY軸方向に間隔を置いて設けられ、それぞれX軸方向へ移動可能であって、複数の前記規制ローラと協働して基板のX軸方向側の両端面を挟持する複数の押えローラと、を具備し、複数の前記規制ローラ及び複数の前記押えローラのうち、前記第1基板処理装置側寄りのローラ及び前記第2基板処理装置側寄りのローラは、前記基準浮上高さ位置に対して出没可能に構成されたことを要旨とする。   A feature of the present invention is that in the substrate transfer system for transporting the substrate in a floating state from the first substrate processing apparatus to the second substrate processing apparatus separated in the Y-axis direction from the first substrate processing apparatus, the first substrate processing apparatus A system base having a first adjacent region adjacent to the apparatus in the X-axis direction and a second adjacent region adjacent to the second substrate processing apparatus in the X-axis direction and extending in the Y-axis direction, and provided in the system base And a levitating unit that levitates the substrate to a reference levitating height position, and is movable in the X-axis direction and spaced apart in the Y-axis direction in the first adjacent region of the system base or a part of the first substrate processing apparatus. Provided in the X-axis direction, each having a suction pad for pulling out the back or front surface of the substrate on the tip side, and pulling out the substrate from the first substrate processing apparatus to the first adjacent region plural The output arm and the second adjacent region of the system base or a part of the second substrate processing apparatus are provided so as to be movable in the X-axis direction and spaced in the Y-axis direction, and extend in the X-axis direction. A plurality of delivery arms for delivering a substrate from the second adjacent region to the second substrate processing apparatus, respectively, and an X axis of the system base. A plurality of regulating rollers which are rotatable about a vertical axis on one end side in the direction and are spaced from each other in the Y-axis direction from the first adjacent region to the second adjacent region, and the X-axis direction of the system base The first end of the first adjacent region to the second adjacent region with an interval in the Y-axis direction, each being movable in the X-axis direction, The regulation A plurality of pressing rollers that sandwich both end faces of the substrate in the X-axis direction in cooperation with the roller, and the first substrate processing apparatus side of the plurality of regulating rollers and the plurality of pressing rollers The gist is that the roller closer to the second substrate processing apparatus and the roller closer to the second substrate processing apparatus are configured to be able to appear and retract with respect to the reference flying height position.

なお、本願の特許請求の範囲及び明細書において、「設けられ」とは、直接的に設けられたことの他に、介在部材を介して間接的に設けられたことを含む意である。また、「第1基板処理装置」及び「第2基板処理装置」は、基板に対して保管処理、プロセス処理、搬送処理等の処理を行う装置であって、プロセス処理には、エッチング処理、CVD処理、PVD処理等が含まれる。   In the claims and specification of the present application, “provided” means not only directly provided but also indirectly provided via an interposition member. The “first substrate processing apparatus” and the “second substrate processing apparatus” are apparatuses that perform processing such as storage processing, process processing, and transport processing on the substrate. Processing, PVD processing and the like.

第1の特徴によると、複数の前記引出アームを前記第1基板処理装置のポートに接近するX軸方向へ移動させて、複数の前記引出用吸着パッドによって前記第1基板処理装置の所定位置に位置した基板を裏面又は表面を吸着する。また、前記第1基板処理装置側寄りのローラを前記基準浮上高さ位置に対して没入させる。そして、前記浮上ユニットを動作(浮上動作)させつつ、複数の前記引出アームを前記第1基板処理装置のポートに離反するX軸方向へ移動させて、前記第1基板処理装置から前記第1隣接領域に基板を引き出す。   According to the first feature, the plurality of extraction arms are moved in the X-axis direction approaching the port of the first substrate processing apparatus, and are moved to a predetermined position of the first substrate processing apparatus by the plurality of extraction suction pads. The rear surface or the front surface of the positioned substrate is adsorbed. In addition, a roller closer to the first substrate processing apparatus is immersed in the reference flying height position. Then, while the levitation unit is operated (the levitation operation), a plurality of the extraction arms are moved in the X-axis direction away from the port of the first substrate processing apparatus, and the first adjacent processing apparatus moves from the first substrate processing apparatus to the first adjacent area. Pull the substrate into the area.

前記第1基板処理装置から前記第1隣接領域に基板を引き出した後に、前記第1基板処理装置側寄りのローラを前記基準浮上高さ位置に対して突出させて、複数の押えローラをX軸方向の一方側へ移動させて、複数の前記押えローラと複数の規制ローラによって基板のX軸方向側の両端面を挟持する。また、複数の前記引出用吸着パッドによる吸着状態を解除する。そして、複数の前記規制ローラ及び複数の前記押えローラを回転させて、前記第1隣接領域から前記第2隣接領域へ基板を浮上させた状態で搬送する。   After the substrate is pulled out from the first substrate processing apparatus to the first adjacent region, a roller closer to the first substrate processing apparatus is protruded with respect to the reference flying height position, and a plurality of press rollers are arranged on the X axis. The both end surfaces of the substrate on the X-axis direction side are clamped by the plurality of pressing rollers and the plurality of regulating rollers. Further, the suction state by the plurality of suction pads for drawing is released. Then, the plurality of regulating rollers and the plurality of pressing rollers are rotated to convey the substrate from the first adjacent region to the second adjacent region.

前記第1隣接領域から前記第2隣接領域へ基板を搬送した後に、前記第2基板処理装置のポートにX軸方向に離反させた複数の前記送出用吸着パッドによって基板の裏面又は表面を吸着し、複数の前記押えローラをX軸方向の他方側へ移動させて、複数の前記押えローラと複数の前記規制ローラによる挟持状態を解除する。また、前記第2基板処理装置側寄りのローラを前記基準浮上高さ位置に対して没入させる。そして、複数の前記送出アームを前記第2基板処理装置のポートに接近するX軸方向へ移動させて、前記第2隣接領域から前記第2基板処理装置へ基板を送り出して、複数の前記送出用吸着パッドによる吸着状態を解除する。   After the substrate is transported from the first adjacent region to the second adjacent region, the back surface or front surface of the substrate is sucked by the plurality of sending suction pads separated in the X-axis direction to the port of the second substrate processing apparatus. The plurality of pressing rollers are moved to the other side in the X-axis direction to release the sandwiched state between the plurality of pressing rollers and the plurality of regulating rollers. Further, the roller closer to the second substrate processing apparatus is immersed in the reference flying height position. Then, the plurality of delivery arms are moved in the X-axis direction approaching the port of the second substrate processing apparatus, and the substrate is sent out from the second adjacent region to the second substrate processing apparatus, so that a plurality of the delivery arms are provided. Release the suction state by the suction pad.

以上により、前記第1基板処理装置から前記第2基板処理装置へ基板を浮上させた状態で移送することができる。   As described above, the substrate can be transferred from the first substrate processing apparatus to the second substrate processing apparatus in a floating state.

要するに、複数の前記引出アーム及び複数の前記送出アームをX軸方向へ移動させたり、複数の前記押えローラ及び複数の前記規制ローラを回転させたりすることにより、台車を用いることなく、前記第1基板処理装置から前記第2基板処理装置へ基板を浮上させた状態で移送することができる。また、前記引出用吸着パッド及び前記送出用吸着パッドによって基板の裏面又は表面を吸着することにより、基板の移送中における基板・前記引出アーム間の滑り及び基板・前記送出アーム間の滑りをほとんどなくすことができると共に、複数の前記押えローラと複数の前記規制ローラによって基板のX軸方向側の両端面を挟持することにより、基板の移送中における基板・前記押えローラ間の滑り及び基板・前記規制ローラ間の滑りを極力低減することができる。これにより、前記基板移送システムにおける基板の移送速度(搬送速度)及び移送加速度(搬送加速度)を十分に高めることができる。   In short, by moving the plurality of drawing arms and the plurality of delivery arms in the X-axis direction or rotating the plurality of pressing rollers and the plurality of regulating rollers, the first without using a carriage. The substrate can be transferred from the substrate processing apparatus to the second substrate processing apparatus in a floating state. Further, the back surface or the front surface of the substrate is adsorbed by the extraction suction pad and the delivery suction pad, so that the slip between the substrate and the extraction arm and the slip between the substrate and the delivery arm during the transfer of the substrate are almost eliminated. In addition, the both ends of the substrate in the X-axis direction are sandwiched between the plurality of pressing rollers and the plurality of regulating rollers, thereby allowing the substrate and the pressing roller to slip during the transfer of the substrate. Slip between rollers can be reduced as much as possible. Thereby, the substrate transfer speed (transport speed) and the transport acceleration (transport acceleration) in the substrate transport system can be sufficiently increased.

前記システムベースのX軸方向の一端側に複数の前記規制ローラが前記第1隣接領域から前記第2隣接領域にかけてY軸方向に間隔を置いて設けられ、前記システムベースのX軸方向の他端側に複数の前記押えローラが前記第1隣接領域から前記第2隣接領域にかけてY軸方向に間隔を置いて設けられているため、前記第1隣接領域・前記第2隣接領域間におけるY軸方向の間隔の大小に拘わらず、前記第1隣接領域から前記第2隣接領域へ基板を浮上させた状態で移送することができる。   A plurality of the regulating rollers are provided at one end side in the X-axis direction of the system base at intervals in the Y-axis direction from the first adjacent region to the second adjacent region, and the other end of the system base in the X-axis direction Since the plurality of pressing rollers are provided on the side from the first adjacent region to the second adjacent region at intervals in the Y-axis direction, the Y-axis direction between the first adjacent region and the second adjacent region is provided. The substrate can be transferred from the first adjacent region to the second adjacent region in a floating state regardless of the distance between the first adjacent region and the second adjacent region.

本発明の第2の特徴は、第1の特徴からなる基板移送システムを用いて、第1基板処理装置から該第1基板処理装置にY軸方向に離隔した第2基板処理装置へ基板を浮上させた状態で搬送する基板移送方法において、複数の引出アームを前記第1基板処理装置のポートに接近するX軸方向へ移動させて、複数の引出用吸着パッドによって前記第1基板処理装置の所定位置に位置した基板を裏面又は表面を吸着すると共に、前記第1基板処理装置側寄りのローラを基準浮上高さ位置に対して没入させる第1ステップと、前記第1ステップの終了後に、浮上ユニットを動作(浮上動作)させつつ、複数の前記引出アームを前記第1基板処理装置のポートに離反するX軸方向へ移動させて、前記第1基板処理装置から前記第1隣接領域に基板を引き出す第2ステップと、前記第2ステップの終了後に、前記第1基板処理装置側寄りのローラを前記基準浮上高さ位置に対して突出させて、複数の押えローラをX軸方向の一方側へ移動させて、複数の前記押えローラと複数の規制ローラによって基板のX軸方向側の両端面を挟持すると共に、複数の引出用吸着パッドによる吸着状態を解除する第3ステップと、前記第3ステップの終了後に、複数の前記規制ローラ及び複数の前記押えローラを回転させて、前記第1隣接領域から前記第2隣接領域へ基板を浮上させた状態で搬送する第4ステップと、前記第4ステップの終了後に、前記第2基板処理装置のポートにX軸方向に離反させた複数の送出用吸着パッドによって基板の裏面又は表面を吸着し、複数の押えローラをX軸方向の他方側へ移動させて、複数の前記押えローラと複数の前記規制ローラによる挟持状態を解除し、更に、前記第2基板処理装置側寄りのローラを前記基準浮上高さ位置に対して没入させる第5ステップと、前記第5ステップの終了後に、複数の送出アームを前記第2基板処理装置のポートに接近するX軸方向へ移動させて、前記第2隣接領域から前記第2基板処理装置へ基板を送り出して、複数の前記引出用吸着パッドによる吸着状態を解除する第6ステップと、を具備したことを要旨とする。   The second feature of the present invention is that the substrate is floated from the first substrate processing apparatus to the second substrate processing apparatus separated from the first substrate processing apparatus in the Y-axis direction by using the substrate transfer system according to the first feature. In the substrate transfer method of transporting in a state of being moved, a plurality of extraction arms are moved in the X-axis direction approaching the port of the first substrate processing apparatus, and a predetermined number of the first substrate processing apparatus is determined by the plurality of extraction suction pads. A first step of adsorbing a back surface or a front surface of the substrate located at the position and immersing a roller closer to the first substrate processing apparatus with respect to a reference flying height position; and after the completion of the first step, a floating unit While moving (floating operation), the plurality of extraction arms are moved in the X-axis direction away from the port of the first substrate processing apparatus, and the substrate is pulled from the first substrate processing apparatus to the first adjacent region. After the completion of the second step and the second step, a roller closer to the first substrate processing apparatus is protruded with respect to the reference flying height position, and a plurality of pressing rollers are moved to one side in the X-axis direction. A third step of moving and sandwiching both end faces of the substrate in the X-axis direction by the plurality of pressing rollers and the plurality of regulating rollers, and releasing the suction state by the plurality of pull-out suction pads; and the third step A fourth step of rotating the plurality of regulating rollers and the plurality of pressing rollers and transporting the substrate from the first adjacent region to the second adjacent region after the completion of the step, and the fourth step After completion of the step, the back surface or the front surface of the substrate is sucked to the port of the second substrate processing apparatus by the plurality of feeding suction pads separated in the X-axis direction, and the plurality of press rollers are moved to the other side in the X-axis direction. A fifth step of releasing the clamping state between the plurality of pressing rollers and the plurality of regulating rollers, and further immersing a roller closer to the second substrate processing apparatus with respect to the reference flying height position; After completion of the fifth step, the plurality of delivery arms are moved in the X-axis direction approaching the port of the second substrate processing apparatus, and the substrate is sent out from the second adjacent region to the second substrate processing apparatus, And a sixth step of releasing the suction state by the plurality of suction pads for extraction.

第2の特徴によると、第1の特徴による作用と同様の作用を奏する。   According to the 2nd characteristic, there exists an effect | action similar to the effect | action by a 1st characteristic.

本発明によれば、前記基板移送システムにおける基板の移送速度及び移送加速度を十分に高めることができるため、前記第1基板処理装置から前記第2基板処理装置へ基板を搬送するまでの移送時間(搬送時間)を大幅に短縮することができ、前記基板移送システムを製品の生産ラインに用いた場合において、生産性を十分に向上させることができる。   According to the present invention, since the transfer speed and transfer acceleration of the substrate in the substrate transfer system can be sufficiently increased, the transfer time (from the first substrate processing apparatus to the second substrate processing apparatus) until the substrate is transferred ( Transport time) can be greatly shortened, and when the substrate transfer system is used in a product production line, productivity can be sufficiently improved.

また、前記第1隣接領域・前記第2隣接領域間におけるY軸方向の間隔の大小に拘わらず、前記第1隣接領域から前記第2隣接領域へ基板を浮上させた状態で移送することができるため、前記第1基板処理装置・前記第2基板処理装置間のY軸方向のスペースを小さくして、工場のスペースの有効利用を図ることができる。   Further, the substrate can be transferred from the first adjacent region to the second adjacent region in a floating state regardless of the distance in the Y-axis direction between the first adjacent region and the second adjacent region. Therefore, the space in the Y-axis direction between the first substrate processing apparatus and the second substrate processing apparatus can be reduced, and the factory space can be effectively used.

本発明の実施形態について図1から図10を参照して説明する。   An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

ここで、図1は、本発明の実施形態に係る基板移送システムの概略的な平面図、図2は、図1におけるII-II線に沿った図、図3は、図1におけるIII-III線に沿った図、図4は、図1におけるIV-IV線に沿った図、図5は、図1におけるV-V線に沿った図、図6は、図1におけるVI-VI線に沿った図、図7から図10は、本発明の実施形態に係る基板移送方法を説明する図である。   Here, FIG. 1 is a schematic plan view of a substrate transfer system according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a view taken along line II-II in FIG. 1, and FIG. 3 is III-III in FIG. 4 is a view taken along line IV-IV in FIG. 1, FIG. 5 is a view taken along line VV in FIG. 1, and FIG. 6 is taken along line VI-VI in FIG. 7 and 10 are diagrams for explaining a substrate transfer method according to the embodiment of the present invention.

図1に示すように、本発明の実施形態に係る基板移送システム1は、第1基板処理装置3から該第1基板処理装置3にY軸方向に離隔した第2基板処理装置5へガラス基板等の基板(薄板基板)Wを浮上させた状態で搬送(移送)するシステムである。基板移送システム1の具体的な構成を説明する前に、第1基板処理装置3及び第2基板処理装置5の構成について簡単に説明する。   As shown in FIG. 1, the substrate transfer system 1 according to the embodiment of the present invention transfers a glass substrate from a first substrate processing apparatus 3 to a second substrate processing apparatus 5 that is separated from the first substrate processing apparatus 3 in the Y-axis direction. This is a system for transporting (transferring) a substrate (thin substrate) W such as a floating surface. Before describing the specific configuration of the substrate transfer system 1, the configurations of the first substrate processing apparatus 3 and the second substrate processing apparatus 5 will be briefly described.

第1基板処理装置3は、基板Wに対して保管処理を行う装置であって、装置本体(装置フレーム)7を具備している。また、装置本体7には、例えば特開平11−79388号公報及び特開2005−64431号公報に示すような公知の収納ケージ9が昇降可能に設けられており、この収納ケージ9は、基板Wを収納可能な複数段の収納部(図示省略)を有してあって、基板Wを取出し可能な取出高さ位置に最下段の収納部から順次位置決めできるように構成されている。更に、装置本体7には、取出高さ位置に位置決めした収納部において基板Wを基準浮上高さ位置(図2参照)まで浮上させる複数の浮上ユニット11が設けられており、各浮上ユニット11の上面には、エアを噴出する複数の孔状のノズル11nがそれぞれ形成されている。   The first substrate processing apparatus 3 is an apparatus that performs storage processing on the substrate W, and includes an apparatus main body (apparatus frame) 7. Further, the apparatus main body 7 is provided with a known storage cage 9 as shown in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 11-79388 and 2005-64431, which can be moved up and down. And a plurality of storage sections (not shown) that can be sequentially positioned from the bottom storage section to a take-out height position where the substrate W can be taken out. Further, the apparatus main body 7 is provided with a plurality of floating units 11 for floating the substrate W to the reference floating height position (see FIG. 2) in the storage portion positioned at the take-out height position. On the upper surface, a plurality of hole-shaped nozzles 11n for ejecting air are formed.

第2基板処理装置5は、第1基板処理装置3と同様に、基板Wに対して保管処理を行う装置であって、装置本体(装置フレーム)13を具備している。また、装置本体13には、収納ケージ15が昇降可能に設けられており、この収納ケージ15は、収納ケージ9と同様に、基板Wを収納可能な複数段の収納部(図示省略)を有してあって、基板Wを取入れ可能な取入高さ位置に最上段の収納部から順次位置決めできるように構成されている。更に、装置本体13には、取入高さ位置に位置決めした収納部において基板Wを基準浮上高さ位置まで浮上させる複数の浮上ユニット17が設けられており、各浮上ユニット17の上面には、エアを噴出する複数の孔状のノズル17nがそれぞれ形成されている。   Similar to the first substrate processing apparatus 3, the second substrate processing apparatus 5 is an apparatus that performs storage processing on the substrate W, and includes an apparatus main body (apparatus frame) 13. In addition, the apparatus main body 13 is provided with a storage cage 15 that can be moved up and down. Like the storage cage 9, the storage cage 15 has a plurality of storage portions (not shown) that can store the substrates W. Therefore, it is configured so that the substrate W can be sequentially positioned from the uppermost storage portion to the take-in height position where the substrate W can be taken. Further, the apparatus main body 13 is provided with a plurality of floating units 17 for floating the substrate W to the reference floating height position in the storage portion positioned at the intake height position. A plurality of hole-like nozzles 17n for ejecting air are formed.

なお、第1基板処理装置3及び第2基板処理装置5は、基板Wに対して保管処理を行う代わりに、基板Wに対してプロセス処理、搬送処理等の処理を行う装置であっても構わない。   The first substrate processing apparatus 3 and the second substrate processing apparatus 5 may be apparatuses that perform processing such as process processing and transfer processing on the substrate W instead of performing storage processing on the substrate W. Absent.

続いて、本発明の実施形態に係る基板移送システム1の具体的な構成について説明する。   Next, a specific configuration of the substrate transfer system 1 according to the embodiment of the present invention will be described.

基板移送システム1は、Y軸方向へ延びたシステムベース(システム本体)19を具備しており、このシステムベース19は、第1基板処理装置3にX軸方向に隣接する第1隣接領域A1、第2基板処理装置5にX軸方向に隣接する第2隣接領域A2、及び第1隣接領域A1と第2隣接領域A2の中間に位置する中間領域Amを有している。なお、システムベース19は、Y軸方向に並んだ複数の固定フレームからなるものであっても構わない。   The substrate transfer system 1 includes a system base (system main body) 19 extending in the Y-axis direction. The system base 19 includes a first adjacent region A1 adjacent to the first substrate processing apparatus 3 in the X-axis direction, The second substrate processing apparatus 5 includes a second adjacent region A2 adjacent in the X-axis direction, and an intermediate region Am located between the first adjacent region A1 and the second adjacent region A2. The system base 19 may be composed of a plurality of fixed frames arranged in the Y-axis direction.

システムベース19には、基板Wをエアの圧力によって基準浮上高さ位置まで浮上させる複数の浮上ユニット21がX軸方向及びY軸方向に沿って設けられており、各浮上ユニット21の上面には、エアを噴出する複数の孔状のノズル21nがそれぞれ形成されている。なお、各浮上ユニット21の上面に複数の孔状のノズル21nがそれぞれ形成される代わりに、特開2006−182563号公報に示すように、鉛直方向に対してユニット中心側へ傾斜した枠状のノズルが形成されるようにしても構わない。   The system base 19 is provided with a plurality of levitation units 21 that float the substrate W to the reference levitation height position by air pressure along the X-axis direction and the Y-axis direction. A plurality of hole-shaped nozzles 21n for ejecting air are respectively formed. Instead of forming a plurality of hole-shaped nozzles 21n on the upper surface of each floating unit 21, as shown in JP-A-2006-182563, a frame-like shape that is inclined toward the center of the unit with respect to the vertical direction. A nozzle may be formed.

図2及び図1に示すように、システムベース19の第1隣接領域A1には、X軸方向へ延びた一対の支持ブラケット23がY軸方向に離隔して設けられており、各支持ブラケット23には、X軸スライダ25がX軸方向へ移動可能にそれぞれ設けられている。また、各X軸スライダ25には、第1基板処理装置3から第1隣接領域A1に基板Wを引き出す引出アーム27が昇降ガイド機構29を介して昇降可能にそれぞれ設けられている。換言すれば、システムベース19の第1隣接領域A1には、一対の引出アーム27が支持ブラケット23等を介してX軸方向へ移動可能・昇降可能かつY軸方向に離隔して(Y軸方向に間隔を置いて)設けられている。そして、各引出アーム27は、X軸方向へ延びてあって、先端側(X軸方向の一端側)に、基板Wの裏面を吸着する引出用吸着パッド31をそれぞれ有している。更に、各X軸スライダ25には、対応関係にある引出アーム27を昇降させる引出アーム昇降用エアシリンダ(引出アーム昇降用アクチュエータの一例)33がそれぞれ設けられている。   As shown in FIGS. 2 and 1, a pair of support brackets 23 extending in the X-axis direction are provided in the first adjacent region A <b> 1 of the system base 19 so as to be separated from each other in the Y-axis direction. The X-axis slider 25 is provided so as to be movable in the X-axis direction. Each X-axis slider 25 is provided with a pull-out arm 27 that pulls out the substrate W from the first substrate processing apparatus 3 to the first adjacent area A1 through a lifting guide mechanism 29. In other words, in the first adjacent region A1 of the system base 19, the pair of pull-out arms 27 can move in the X-axis direction via the support bracket 23 and the like, can be moved up and down, and are separated in the Y-axis direction (Y-axis direction). At intervals). Each drawing arm 27 extends in the X-axis direction, and has a drawing suction pad 31 for sucking the back surface of the substrate W on the tip side (one end side in the X-axis direction). Further, each X-axis slider 25 is provided with a drawer arm raising / lowering air cylinder (an example of a drawer arm raising / lowering actuator) 33 for raising and lowering the corresponding drawer arm 27.

各支持ブラケット23には、X軸方向へ延びたエンドレス状のタイミングベルト35が複数のプーリ37を介して走行可能にそれぞれ設けられており、各X軸スライダ25は、対応関係にあるタイミングベルト35の適宜位置にそれぞれ連結されている。そして、片方の支持ブラケット23の適宜位置には、一対の引出アーム27をX軸スライダ25と一体的にX軸方向へ移動させる引出アーム移動用モータ(引出アーム移動用アクチュエータの一例)39が設けられており、この引出アーム移動用モータ39の出力軸(図示省略)は、連結機構(図示省略)を介して一対のタイミングベルト35に連動連結してある。   Each support bracket 23 is provided with an endless timing belt 35 extending in the X-axis direction so as to be able to travel via a plurality of pulleys 37, and each X-axis slider 25 has a corresponding timing belt 35. Are respectively connected to appropriate positions. At an appropriate position of one of the support brackets 23, a drawer arm movement motor (an example of a drawer arm movement actuator) 39 that moves the pair of drawer arms 27 in the X axis direction integrally with the X axis slider 25 is provided. The output arm (not shown) of the drawer arm moving motor 39 is linked to a pair of timing belts 35 via a connecting mechanism (not shown).

図3及び図1に示すように、システムベース19の第2隣接領域A2には、X軸方向へ延びた一対の支持ブラケット41がY軸方向に離隔して設けられており、各支持ブラケット41には、X軸スライダ43がX軸方向へ移動可能にそれぞれ設けられている。また、各X軸スライダ43には、第2隣接領域A2から第2基板処理装置5へ基板Wを送り出す送出アーム45が昇降ガイド機構47を介して昇降可能にそれぞれ設けられている。換言すれば、システムベース19の第2隣接領域A2には、一対の送出アーム45が支持ブラケット41等を介してX軸方向へ移動可能・昇降可能かつY軸方向に離隔して(Y軸方向に間隔を置いて)設けられている。そして、各送出アーム45は、X軸方向へ延びてあって、先端側(X軸方向の一端側)に、基板Wの裏面を吸着する送出用吸着パッド49をそれぞれ有している。更に、各X軸スライダ43には、対応関係にある送出アーム45を昇降させる送出アーム昇降用エアシリンダ(送出アーム昇降用アクチュエータの一例)51がそれぞれ設けられている。   As shown in FIGS. 3 and 1, a pair of support brackets 41 extending in the X-axis direction are provided in the second adjacent region A <b> 2 of the system base 19 so as to be separated from each other in the Y-axis direction. The X-axis slider 43 is provided so as to be movable in the X-axis direction. Each X-axis slider 43 is provided with a delivery arm 45 for sending the substrate W from the second adjacent region A2 to the second substrate processing apparatus 5 so as to be lifted and lowered via a lifting guide mechanism 47. In other words, in the second adjacent region A2 of the system base 19, the pair of delivery arms 45 can move in the X-axis direction via the support bracket 41 and the like, can be moved up and down, and are separated in the Y-axis direction (Y-axis direction). At intervals). Each delivery arm 45 extends in the X-axis direction, and has a delivery suction pad 49 for sucking the back surface of the substrate W on the distal end side (one end side in the X-axis direction). Further, each X-axis slider 43 is provided with a delivery arm raising / lowering air cylinder (an example of a delivery arm raising / lowering actuator) 51 for raising and lowering the delivery arm 45 in a corresponding relationship.

各支持ブラケット41には、X軸方向へ延びたエンドレス状のタイミングベルト53が複数のプーリ55を介して走行可能にそれぞれ設けられており、各X軸スライダ43は、対応関係にあるタイミングベルト53の適宜位置にそれぞれ連結されている。そして、片方の支持ブラケット41の適宜位置には、一対の送出アーム45をX軸スライダ43と一体的にX軸方向へ移動させる送出アーム移動用モータ(送出アーム移動用アクチュエータの一例)57が設けられており、この送出アーム移動用モータ57の出力軸(図示省略)は、連結機構(図示省略)を介して一対のタイミングベルト53に連動連結してある。   Each support bracket 41 is provided with an endless timing belt 53 extending in the X-axis direction so as to be able to travel via a plurality of pulleys 55, and each X-axis slider 43 has a corresponding timing belt 53. Are respectively connected to appropriate positions. A feeding arm moving motor (an example of a sending arm moving actuator) 57 for moving the pair of sending arms 45 in the X axis direction integrally with the X axis slider 43 is provided at an appropriate position of one support bracket 41. The output shaft (not shown) of the delivery arm moving motor 57 is linked to a pair of timing belts 53 via a connecting mechanism (not shown).

図4及び図1に示すように、システムベース19のX軸方向の一端側には、第1昇降バー59が一対の昇降ガイド機構61を介して昇降可能に設けられており、この第1昇降バー59は、第1隣接領域A1から中間領域Amに沿うようにY軸方向へ延びている。また、第1昇降バー59には、複数の第1規制ローラ(第1基板処理装置3側寄りの規制ローラ)63が鉛直な軸心周りに回転可能かつY軸方向に間隔を置いて設けられている。換言すれば、システムベース19のX軸方向の一端側には、複数の第1規制ローラ63が一対の第1昇降バー59等を介して鉛直な軸心周りに回転可能かつ第1隣接領域A1から中間領域AmにかけてY軸方向に間隔を置いて設けられており、各第1規制ローラ63は、第1昇降バー59の昇降によって基準浮上高さ位置に対して出没可能にそれぞれ構成されている。そして、第1昇降バー59の適宜位置には、複数の第1規制ローラ63を同期して回転させる第1ローラ回転用モータ(第1ローラ回転用アクチュエータの一例)65が設けられており、この第1ローラ回転用モータ65の出力軸(図示省略)は、連結機構(図示省略)を介して複数の第1規制ローラ63の回転軸に連動連結してあって、各第1規制ローラ63は、それぞれ駆動ローラになっている。更に、システムベース19の適宜位置には、複数の第1規制ローラ63を基準浮上高さ位置に対して出没させる一対の第1ローラ出没用エアシリンダ(第1ローラ出没用アクチュエータの一例)67が設けられている。   As shown in FIGS. 4 and 1, a first elevating bar 59 is provided on one end side in the X-axis direction of the system base 19 so as to be movable up and down via a pair of elevating guide mechanisms 61. The bar 59 extends in the Y-axis direction from the first adjacent area A1 along the intermediate area Am. The first elevating bar 59 is provided with a plurality of first regulating rollers 63 (regulating rollers closer to the first substrate processing apparatus 3) that are rotatable about a vertical axis and spaced in the Y-axis direction. ing. In other words, on one end side of the system base 19 in the X-axis direction, a plurality of first restriction rollers 63 can rotate around a vertical axis via the pair of first elevating bars 59 and the like, and the first adjacent region A1. To the intermediate area Am with an interval in the Y-axis direction, and each first regulating roller 63 is configured to be able to appear and retract with respect to the reference flying height position by raising and lowering the first raising and lowering bar 59. . A first roller rotating motor (an example of a first roller rotating actuator) 65 that rotates the plurality of first regulating rollers 63 in synchronization is provided at an appropriate position of the first elevating bar 59. The output shaft (not shown) of the first roller rotating motor 65 is linked to the rotating shafts of the plurality of first restricting rollers 63 via a connecting mechanism (not shown), and each first restricting roller 63 is , Each is a drive roller. Furthermore, a pair of first roller retracting air cylinders (an example of a first roller retracting actuator) 67 that causes the plurality of first restricting rollers 63 to project and retract with respect to the reference flying height position are disposed at appropriate positions of the system base 19. Is provided.

図5及び図1に示すように、システムベース19のX軸方向の一端側には、第2昇降バー69が一対の昇降ガイド機構71を介して昇降可能に設けられており、この第2昇降バー69は、中間領域Amから第2隣接領域A2に沿うようにY軸方向へ延びている。また、第2昇降バー69には、複数の第2規制ローラ(第2基板処理装置5側寄りの規制ローラ)73が鉛直な軸心周りに回転可能かつY軸方向に間隔を置いて設けられている。換言すれば、システムベース19のX軸方向の一端側には、複数の第2規制ローラ73が一対の第2昇降バー69等を介して鉛直な軸心周りに回転可能かつ中間領域Amから第2隣接領域A2にかけてY軸方向に間隔を置いて設けられており、各第2規制ローラ73は、第2昇降バー69の昇降によって基準浮上高さ位置に対して出没可能にそれぞれ構成されている。そして、第2昇降バー69の適宜位置には、複数の第2規制ローラ73を同期して回転させる第2ローラ回転用モータ(第2ローラ回転用アクチュエータの一例)75が設けられており、この第2ローラ回転用モータ75の出力軸(図示省略)は、連結機構(図示省略)を介して複数の第2規制ローラ73の回転軸に連動連結してあって、各第2規制ローラ73は、それぞれ駆動ローラになっている。更に、システムベース19の適宜位置には、複数の第2規制ローラ73を基準浮上高さ位置に対して出没させる一対の第2ローラ出没用エアシリンダ(第2ローラ出没用アクチュエータの一例)77が設けられている。   As shown in FIGS. 5 and 1, a second elevating bar 69 is provided on one end side in the X-axis direction of the system base 19 so as to be elevable via a pair of elevating guide mechanisms 71. The bar 69 extends in the Y-axis direction along the second adjacent area A2 from the intermediate area Am. The second elevating bar 69 is provided with a plurality of second regulating rollers 73 (regulating rollers closer to the second substrate processing apparatus 5) that are rotatable around a vertical axis and spaced in the Y-axis direction. ing. In other words, on the one end side in the X-axis direction of the system base 19, a plurality of second regulating rollers 73 can rotate around the vertical axis via the pair of second elevating bars 69 and the like from the intermediate area Am. 2 is provided at an interval in the Y-axis direction over the adjacent area A2, and each second regulating roller 73 is configured to be able to appear and retract with respect to the reference flying height position by raising and lowering the second raising and lowering bar 69. . A second roller rotating motor (an example of a second roller rotating actuator) 75 that rotates the plurality of second regulating rollers 73 in synchronization is provided at an appropriate position of the second elevating bar 69. The output shaft (not shown) of the second roller rotating motor 75 is linked to the rotating shafts of the plurality of second restricting rollers 73 via a connecting mechanism (not shown), and each second restricting roller 73 is , Each is a drive roller. Further, a pair of second roller retracting air cylinders (an example of a second roller retracting actuator) 77 for projecting and retracting the plurality of second restricting rollers 73 with respect to the reference flying height position are provided at appropriate positions of the system base 19. Is provided.

図6及び図1に示すように、システムベース19のX軸方向の他端側には、複数のブラケット79が第1隣接領域A1から第2隣接領域A2にかけてY軸方向に間隔を置いて設けられており、各ブラケット79には、ローラ移動用エアシリンダ(ローラ移動用アクチュエータの一例)81がそれぞれ設けられている。また、各ローラ移動用エアシリンダ81は、システムベース19に固定されたシリンダ本体83と、このシリンダ本体83にX軸方向へ移動可能に設けられたピストンロッド85とを備えている。そして、各ローラ移動用エアシリンダ81におけるシリンダ本体83には、ローラ支持部材87がX軸方向へ移動可能にそれぞれ設けられており、各ローラ移動用エアシリンダ81におけるピストンロッド85の先端部は、対応するローラ支持部材87の適宜位置に連結されている。更に、各ローラ支持部材87には、基板WのX軸方向側の片端面を押える押えローラ89が鉛直な軸心周りに回転可能にそれぞれ設けられてあって、各押えローラ89は、それぞれフリーローラになっている。   As shown in FIGS. 6 and 1, a plurality of brackets 79 are provided on the other end side in the X-axis direction of the system base 19 at intervals in the Y-axis direction from the first adjacent region A1 to the second adjacent region A2. Each bracket 79 is provided with a roller moving air cylinder 81 (an example of a roller moving actuator) 81. Each roller moving air cylinder 81 includes a cylinder body 83 fixed to the system base 19 and a piston rod 85 provided on the cylinder body 83 so as to be movable in the X-axis direction. A roller support member 87 is provided in each cylinder moving body 83 of each roller moving air cylinder 81 so as to be movable in the X-axis direction. The tip of the piston rod 85 in each roller moving air cylinder 81 is The corresponding roller support members 87 are connected to appropriate positions. Further, each roller support member 87 is provided with a presser roller 89 that presses one end surface of the substrate W on the X-axis direction side so as to be rotatable around a vertical axis, and each presser roller 89 is free. It is a roller.

つまり、システムベース19のX軸方向の他端側には、複数の押えローラ89が複数のブラケット79等を介して鉛直な軸心周りに回転可能かつ第1隣接領域A1から第2隣接領域A2にかけてY軸方向に間隔を置いて設けられている。また、各押えローラ89は、対応するローラ移動用エアシリンダ81の駆動によりそれぞれX軸方向へ移動するものであって、複数の押えローラ89は、複数の規制ローラ(複数の第1規制ローラ63及び複数の第2規制ローラ73)と協働して基板WのX軸方向側の両端面を挟持するものである。   That is, on the other end side of the system base 19 in the X-axis direction, a plurality of press rollers 89 can rotate around a vertical axis via a plurality of brackets 79 and the like, and can be rotated from the first adjacent region A1 to the second adjacent region A2. Are provided at intervals in the Y-axis direction. Each presser roller 89 moves in the X-axis direction by driving the corresponding roller moving air cylinder 81. The plurality of presser rollers 89 include a plurality of restricting rollers (a plurality of first restricting rollers 63). In addition, both end surfaces of the substrate W on the X-axis direction side are sandwiched in cooperation with the plurality of second regulating rollers 73).

続いて、本発明の実施形態に係る基板移送方法について図6から図10を参照して説明する。   Subsequently, a substrate transfer method according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

本発明の実施形態に係る基板移送方法は、第1基板処理装置3から第2基板処理装置5へガラス基板等の基板(基板基板)Wを浮上させた状態で搬送(移送)する方法であって、第1ステップから第6ステップを備えている。そして、本発明の実施形態に係る基板移送方法の各ステップの具体的な内容は、次のようになる。   The substrate transfer method according to the embodiment of the present invention is a method of transferring (transferring) a substrate (substrate substrate) W such as a glass substrate from the first substrate processing apparatus 3 to the second substrate processing apparatus 5 in a floating state. The first step to the sixth step are provided. And the concrete content of each step of the board | substrate transfer method concerning embodiment of this invention is as follows.

(i)第1ステップ
図7に示すように、引出アーム移動用モータ39の駆動により一対の引出アーム27を第1基板処理装置3のポート3pに接近するX軸方向(X軸方向の一方側)へ移動させることにより、一対の引出用吸着パッド31を第1基板処理装置3の所定位置(取出位置に位置決めした収納ケージ9の収納部)に位置した基板Wの下方に位置させる。そして、一対の引出用吸着パッド31の吸着面が基準浮上高さ位置に位置するように、一対の引出アーム昇降用エアシリンダ33の駆動により一対の引出アーム27を上昇させて、一対の引出用吸着パッド31によって基板Wの裏面を吸着する。また、一対の第1ローラ出没用エアシリンダ67の駆動により複数の第1規制ローラ63を基準浮上高さ位置に対して没入させる。
(i) First Step As shown in FIG. 7, the pair of extraction arms 27 are brought close to the port 3p of the first substrate processing apparatus 3 by driving the extraction arm moving motor 39 (one side in the X axis direction). ), The pair of extraction suction pads 31 are positioned below the substrate W positioned at a predetermined position of the first substrate processing apparatus 3 (the storage portion of the storage cage 9 positioned at the extraction position). Then, the pair of drawer arms 27 are raised by driving the pair of drawer arm lifting / lowering air cylinders 33 so that the suction surfaces of the pair of drawer suction pads 31 are positioned at the reference floating height position. The back surface of the substrate W is sucked by the suction pad 31. Further, the plurality of first regulating rollers 63 are made to be immersed in the reference flying height position by driving the pair of first roller retracting air cylinders 67.

なお、一対の引出アーム27を第1基板処理装置3のポート3pに接近するX軸方向へ移動させる前に、複数の浮上ユニット11のノズル11nからエアを噴出させておく。   In addition, before moving a pair of extraction arm 27 to the X-axis direction which approaches the port 3p of the 1st substrate processing apparatus 3, air is ejected from the nozzle 11n of the several levitation unit 11. FIG.

(ii)第2ステップ
第1ステップの終了後に、複数の浮上ユニット21のノズル21nからエアを噴出させつつ、引出アーム移動用モータ39の駆動により一対の引出アーム27を第1基板処理装置3のポート3pに離反するX軸方向(X軸方向の他方側)へ移動させることにより、図8に示すように、第1基板処理装置3から第1隣接領域A1に基板Wを浮上させた状態で引き出す。
(ii) Second Step After the completion of the first step, the pair of extraction arms 27 is moved to the first substrate processing apparatus 3 by driving the extraction arm moving motor 39 while ejecting air from the nozzles 21n of the plurality of floating units 21. By moving in the X-axis direction (the other side in the X-axis direction) away from the port 3p, the substrate W is floated from the first substrate processing apparatus 3 to the first adjacent region A1, as shown in FIG. Pull out.

(iii)第3ステップ
第2ステップの終了後に、一対の第1ローラ出没用エアシリンダ67の駆動により複数の第1規制ローラ63を基準浮上高さ位置に対して突出させて、複数のローラ移動用エアシリンダ81の駆動により複数の押えローラ89をX軸方向の一方側へ移動させることにより、複数の押えローラ89と複数の規制ローラ63,73によって基板WのX軸方向側の両端面を挟持する。また、一対の引出用吸着パッド31による吸着状態を解除して、一対の引出アーム昇降用エアシリンダ33の駆動により一対の引出アーム27を下降させる。
(iii) Third Step After the completion of the second step, the plurality of first restricting rollers 63 are caused to protrude with respect to the reference flying height position by driving the pair of first roller retracting air cylinders 67 to move the plurality of rollers. The plurality of presser rollers 89 are moved to one side in the X-axis direction by driving the air cylinder 81, so that both end surfaces of the substrate W on the X-axis direction side are moved by the plurality of presser rollers 89 and the plurality of regulating rollers 63 and 73. Hold it. Further, the suction state by the pair of pull-out suction pads 31 is released, and the pair of pull-out arms 27 are lowered by driving the pair of pull-out arm raising / lowering air cylinders 33.

(iv)第4ステップ
第3ステップの終了後に、複数の浮上ユニット21のノズル21nからエアを噴出させつつ、第1ローラ回転用モータ65及び第2ローラ回転用モータ75の駆動により複数の第1規制ローラ63及び複数の第2規制ローラ73を回転させかつ複数の押えローラ89を併せて回転(連動して回転)させることにより、図9に示すように、第1隣接領域A1から第2隣接領域A2へ基板Wを浮上させた状態で搬送する。
(iv) Fourth Step After the completion of the third step, a plurality of first rollers are driven by driving the first roller rotating motor 65 and the second roller rotating motor 75 while ejecting air from the nozzles 21n of the plurality of floating units 21. By rotating the regulating roller 63 and the plurality of second regulating rollers 73 and rotating the plurality of presser rollers 89 together (rotating in conjunction with each other), as shown in FIG. 9, from the first adjacent area A1 to the second adjacent area. The substrate W is transported to the area A2 while being floated.

(v)第5ステップ
第4ステップの終了後に、第2基板処理装置5のポート5pにX軸方向に離反させた一対の送出用吸着パッドの吸着面が基準浮上高さ位置に位置するように、一対の送出アーム昇降用エアシリンダ51の駆動により一対の送出アーム45を上昇させて、一対の送出用吸着パッド49によって基板Wの裏面を吸着する。そして、複数のローラ移動用エアシリンダ81の駆動により複数の押えローラ89をX軸方向の他方側へ移動させることにより、複数の押えローラ89と複数の規制ローラ63,73による挟持状態を解除する。また、一対の第2ローラ出没用エアシリンダ77の駆動により複数の第2規制ローラ73を基準浮上高さ位置に対して没入させる。
(v) Fifth Step After the completion of the fourth step, the suction surfaces of the pair of delivery suction pads separated from the port 5p of the second substrate processing apparatus 5 in the X-axis direction are positioned at the reference flying height position. The pair of delivery arms 45 is raised by driving the pair of delivery arm raising / lowering air cylinders 51, and the back surface of the substrate W is adsorbed by the pair of delivery suction pads 49. The plurality of presser rollers 89 are moved to the other side in the X-axis direction by driving the plurality of roller moving air cylinders 81, thereby releasing the clamping state between the plurality of presser rollers 89 and the plurality of regulating rollers 63 and 73. . Further, the plurality of second restriction rollers 73 are made to be immersed in the reference flying height position by driving the pair of second roller retracting air cylinders 77.

(vi)第6ステップ
第5ステップの終了後に、複数の浮上ユニット21のノズル21nからエアを噴出させつつ、送出アーム移動用モータ57の駆動により一対の送出アーム45を第2基板処理装置5のポート5pに接近するX軸方向へ移動させることにより、図10に示すように、第2隣接領域A2から第2基板処理装置5の所定位置(取入位置に位置決めした収納ケージ15の収納部)に位置した基板Wを送り出す。そして、送出用吸着パッド49による吸着状態を解除して、送出アーム昇降用エアシリンダ51の駆動により一対の送出アーム45を下降させる。
(vi) Sixth Step After the fifth step, the pair of delivery arms 45 of the second substrate processing apparatus 5 is moved by driving the delivery arm moving motor 57 while ejecting air from the nozzles 21n of the plurality of floating units 21. By moving in the X-axis direction approaching the port 5p, as shown in FIG. 10, a predetermined position of the second substrate processing apparatus 5 from the second adjacent region A2 (the storage portion of the storage cage 15 positioned at the take-in position). The substrate W positioned at is sent out. Then, the suction state by the delivery suction pad 49 is released, and the pair of delivery arms 45 are lowered by driving the delivery arm elevating air cylinder 51.

なお、送出アーム移動用モータ57の駆動により一対の送出アーム45を第2基板処理装置5のポート5pに接近するX軸方向へ移動させる前に、複数の浮上ユニット17のノズル17nからエアを噴出させておく。   Before the pair of delivery arms 45 are moved in the X-axis direction approaching the port 5p of the second substrate processing apparatus 5 by driving the delivery arm moving motor 57, air is ejected from the nozzles 17n of the plurality of floating units 17. Let me.

以上により、第1基板処理装置3の所定位置から第2基板処理装置5の所定位置へ基板Wを浮上させた状態で移送することができる。   As described above, the substrate W can be transferred from the predetermined position of the first substrate processing apparatus 3 to the predetermined position of the second substrate processing apparatus 5 in a floating state.

続いて、本発明の実施形態の作用及び効果について説明する。   Then, the effect | action and effect of embodiment of this invention are demonstrated.

要するに、複数の引出アーム27及び複数の送出アーム45をX軸方向へ移動させたり、複数の押えローラ89及び複数の規制ローラ(複数の第1規制ローラ63及び複数の第2規制ローラ73)を回転させたりすることにより、台車を用いることなく、第1基板処理装置3から第2基板処理装置5へ基板Wを浮上させた状態で移送することができる。   In short, the plurality of drawer arms 27 and the plurality of delivery arms 45 are moved in the X-axis direction, or the plurality of presser rollers 89 and the plurality of regulating rollers (the plurality of first regulating rollers 63 and the plurality of second regulating rollers 73) are moved. By rotating the substrate W, the substrate W can be transferred from the first substrate processing apparatus 3 to the second substrate processing apparatus 5 without using a carriage.

また、引出用吸着パッド31及び送出用吸着パッド49によって基板Wの裏面を吸着することにより、基板Wの移送中における基板W・引出アーム27間の滑り及び基板W・送出アーム45間の滑りをほとんどなくすことができると共に、複数の押えローラ89と複数の規制ローラ63,73によって基板WのX軸方向側の両端面を挟持することにより、基板Wの移送中における基板W・押えローラ89間の滑り及び基板W・規制ローラ63,73間の滑りを極力低減することができる。これにより、基板移送システム1における基板Wの移送速度(搬送速度)及び移送加速度(搬送加速度)を十分に高めることができる。   Further, by adsorbing the back surface of the substrate W by the extraction suction pad 31 and the delivery suction pad 49, the slip between the substrate W and the extraction arm 27 and the slip between the substrate W and the delivery arm 45 during the transfer of the substrate W are prevented. It can be almost eliminated, and the both ends of the substrate W on the X-axis direction side are sandwiched between the plurality of pressing rollers 89 and the plurality of regulating rollers 63 and 73, so that the distance between the substrate W and the pressing roller 89 during the transfer of the substrate W is reached. And the slip between the substrate W and the regulating rollers 63 and 73 can be reduced as much as possible. Thereby, the transfer speed (transfer speed) and transfer acceleration (transfer acceleration) of the substrate W in the substrate transfer system 1 can be sufficiently increased.

システムベース19のX軸方向の一端側に複数の規制ローラ63,73が第1隣接領域A1から第2隣接領域A2にかけてY軸方向に間隔を置いて設けられ、システムベース19のX軸方向の他端側に複数の押えローラ89が第1隣接領域A1から第2隣接領域A2にかけてY軸方向に間隔を置いて設けられているため、中間領域AmにおけるY軸方向の長さの長短(第1隣接領域A1・第2隣接領域A2間におけるY軸方向の間隔の大小)に拘わらず、第1隣接領域A1から第2隣接領域A2へ基板Wを浮上させた状態で移送することができる。   A plurality of regulating rollers 63 and 73 are provided at one end side in the X-axis direction of the system base 19 from the first adjacent region A1 to the second adjacent region A2 at intervals in the Y-axis direction. Since the plurality of presser rollers 89 are provided on the other end side from the first adjacent region A1 to the second adjacent region A2 at intervals in the Y-axis direction, the length of the intermediate region Am in the Y-axis direction is increased or decreased (first The substrate W can be transferred from the first adjacent area A1 to the second adjacent area A2 regardless of the size of the interval in the Y-axis direction between the first adjacent area A1 and the second adjacent area A2.

従って、本発明の実施形態によれば、基板移送システム1における基板Wの移送速度及び移送加速度を十分に高めることができるため、第1基板処理装置3から第2基板処理装置5へ基板を搬送するまでの移送時間(搬送時間)を大幅に短縮することができ、基板移送システム1を液晶パネル等の製品の生産ラインに用いた場合において、生産性を十分に向上させることができる。   Therefore, according to the embodiment of the present invention, since the transfer speed and transfer acceleration of the substrate W in the substrate transfer system 1 can be sufficiently increased, the substrate is transferred from the first substrate processing apparatus 3 to the second substrate processing apparatus 5. The transfer time (conveyance time) until this can be greatly shortened, and when the substrate transfer system 1 is used in a production line of a product such as a liquid crystal panel, the productivity can be sufficiently improved.

また、中間領域AmにおけるY軸方向の長さの長短に拘わらず、第1隣接領域A1から第2隣接領域A2へ基板Wを浮上させた状態で移送することができるため、第1基板処理装置3・第2基板処理装置5間におけるY軸方向のスペースを小さくして、工場のスペースの有効利用を図ることができる。   In addition, the first substrate processing apparatus can transfer the substrate W from the first adjacent region A1 to the second adjacent region A2 regardless of the length of the intermediate region Am in the Y-axis direction. 3. The space in the Y-axis direction between the second and second substrate processing apparatuses 5 can be reduced, so that the factory space can be effectively used.

最後に、本発明は、前述の実施形態の説明に限られるものではなく、例えば、次のように種々の変更が可能である。   Finally, the present invention is not limited to the description of the above-described embodiment, and for example, various modifications can be made as follows.

即ち、規制ローラ63,73を駆動ローラとしかつ押えローラ83をフリーローラとする代わりに、規制ローラ63,73をフリーローラとしかつ押えローラ83を駆動ローラにしたり、又は規制ローラ63,73及び押えローラ83を駆動ローラにしたりしても構わない。また、基板移送システム1、第1基板処理装置3、第2基板処理装置5を1組具備する代わりに、基板移送システム1、第1基板処理装置3、第2基板処理装置5をY軸方向に沿って複数組具備することによって、基板移送システム群を構成しても構わない。更に、第1ステップから第6ステップに移行させる代わりに、第6ステップから第1ステップに移行させることにより、第2基板処理装置5の所定位置から第1基板処理装置3の所定位置へ基板Wを浮上させた状態で移送しても構わない。   That is, instead of using the regulating rollers 63 and 73 as driving rollers and the pressing roller 83 as free rollers, the regulating rollers 63 and 73 are used as free rollers and the pressing roller 83 is used as a driving roller, or the regulating rollers 63 and 73 and the pressing rollers are used. The roller 83 may be a driving roller. Further, instead of including one set of the substrate transfer system 1, the first substrate processing apparatus 3, and the second substrate processing apparatus 5, the substrate transfer system 1, the first substrate processing apparatus 3, and the second substrate processing apparatus 5 are arranged in the Y-axis direction. The substrate transfer system group may be configured by providing a plurality of sets along the line. Further, instead of shifting from the first step to the sixth step, the substrate W is moved from the predetermined position of the second substrate processing apparatus 5 to the predetermined position of the first substrate processing apparatus 3 by shifting from the sixth step to the first step. It may be transferred in a state where it is levitated.

なお、本発明に包含される権利範囲は、これらの実施形態に限定されないものである。   The scope of rights encompassed by the present invention is not limited to these embodiments.

本発明の実施形態に係る基板移送システムの概略的な平面図である。1 is a schematic plan view of a substrate transfer system according to an embodiment of the present invention. 図1におけるII-II線に沿った図である。It is the figure along the II-II line in FIG. 図1におけるIII-III線に沿った図である。FIG. 3 is a view taken along line III-III in FIG. 1. 図1におけるIV-IV線に沿った図である。FIG. 4 is a view taken along line IV-IV in FIG. 1. 図1におけるV-V線に沿った図である。It is the figure along the VV line in FIG. 図1におけるVI-VI線に沿った図である。It is the figure along the VI-VI line in FIG. 本発明の実施形態に係る基板移送方法を説明する図である。It is a figure explaining the board | substrate transfer method which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る基板移送方法を説明する図である。It is a figure explaining the board | substrate transfer method which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る基板移送方法を説明する図である。It is a figure explaining the board | substrate transfer method which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る基板移送方法を説明する図である。It is a figure explaining the board | substrate transfer method which concerns on embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

W 基板
A1 第1隣接領域
A2 第2隣接領域
Am 中間領域
1 基板移送システム
3 第1基板処理装置
5 第2基板処理装置
19 システムベース
21 浮上ユニット
21n ノズル
27 引出アーム
31 引出用吸着パッド
39 引出アーム移動用モータ
45 送出アーム
49 送出用吸着パッド
57 送出アーム移動用モータ
63 第1規制ローラ
65 第1ローラ回転用モータ
67 第1ローラ出没用エアシリンダ
73 第2規制ローラ
75 第2ローラ回転用モータ
77 第2ローラ出没用エアシリンダ
81 ローラ移動用エアシリンダ
89 押えローラ
W substrate A1 first adjacent area A2 second adjacent area Am intermediate area 1 substrate transfer system 3 first substrate processing apparatus 5 second substrate processing apparatus 19 system base 21 floating unit 21n nozzle 27 extraction arm 31 extraction suction pad 39 extraction arm Moving motor 45 Sending arm 49 Sending suction pad 57 Sending arm moving motor 63 First restricting roller 65 First roller rotating motor 67 First roller retracting air cylinder 73 Second restricting roller 75 Second roller rotating motor 77 Second cylinder retracting air cylinder 81 Roller moving air cylinder 89 Presser roller

Claims (3)

第1基板処理装置から該第1基板処理装置にY軸方向に離隔した第2基板処理装置へ基板を浮上させた状態で搬送する基板移送システムにおいて、
前記第1基板処理装置にX軸方向に隣接する第1隣接領域、及び前記第2基板処理装置にX軸方向に隣接する第2隣接領域を有し、Y軸方向へ延びたシステムベースと、
前記システムベースに設けられ、基板を基準浮上高さ位置まで浮上させる浮上ユニットと、
前記システムベースの前記第1隣接領域又は前記第1基板処理装置の一部にX軸方向へ移動可能かつY軸方向に間隔を置いて設けられ、X軸方向へそれぞれ延びてあって、先端側に基板の裏面又は表面を吸着する引出用吸着パッドをそれぞれ有し、前記第1基板処理装置から前記第1隣接領域に基板を引き出す複数の引出アームと、
前記システムベースの前記第2隣接領域又は前記第2基板処理装置の一部にX軸方向へ移動可能かつY軸方向に間隔を置いて設けられ、X軸方向へそれぞれ延びてあって、先端側に基板の裏面又は表面を吸着する送出用吸着パッドをそれぞれ有し、前記第2隣接領域から前記第2基板処理装置へ基板を送り出す複数の送出アームと、
前記システムベースのX軸方向の一端側に鉛直な軸心周りに回転可能かつ前記第1隣接領域から前記第2隣接領域にかけてY軸方向に間隔を置いて設けられた複数の規制ローラと、
前記システムベースのX軸方向の他端側に鉛直な軸心周りに回転可能かつ前記第1隣接領域から前記第2隣接領域にかけてY軸方向に間隔を置いて設けられ、それぞれX軸方向へ移動可能であって、複数の前記規制ローラと協働して基板のX軸方向側の両端面を挟持する複数の押えローラと、を具備し、
複数の前記規制ローラ及び複数の前記押えローラのうち、前記第1基板処理装置側寄りのローラ及び前記第2基板処理装置側寄りのローラは、前記基準浮上高さ位置に対して出没可能に構成されたことを特徴とする基板移送システム。
In the substrate transfer system for transferring the substrate from the first substrate processing apparatus to the second substrate processing apparatus separated in the Y-axis direction from the first substrate processing apparatus in a floating state,
A system base having a first adjacent region adjacent to the first substrate processing apparatus in the X-axis direction and a second adjacent region adjacent to the second substrate processing apparatus in the X-axis direction and extending in the Y-axis direction;
A levitation unit provided in the system base and levitating the substrate to a reference levitation height position;
The first adjacent region of the system base or a part of the first substrate processing apparatus is provided so as to be movable in the X-axis direction and spaced in the Y-axis direction. A plurality of pull-out arms for pulling out the substrate from the first substrate processing apparatus to the first adjacent region, respectively,
Provided in the second adjacent region of the system base or a part of the second substrate processing apparatus, is movable in the X-axis direction and spaced in the Y-axis direction, and extends in the X-axis direction. A plurality of delivery arms for delivering the substrate from the second adjacent region to the second substrate processing apparatus, respectively,
A plurality of regulating rollers that are rotatable about a vertical axis on one end side in the X-axis direction of the system base and that are spaced from each other in the Y-axis direction from the first adjacent region to the second adjacent region;
The other end of the system base in the X-axis direction can be rotated around a vertical axis and provided in the Y-axis direction from the first adjacent region to the second adjacent region, and each moves in the X-axis direction. A plurality of presser rollers that can cooperate with a plurality of the regulating rollers and sandwich both end faces on the X-axis direction side of the substrate;
Among the plurality of regulating rollers and the plurality of pressing rollers, the roller closer to the first substrate processing apparatus and the roller closer to the second substrate processing apparatus are configured to be able to appear and retract with respect to the reference flying height position. A substrate transfer system.
複数の前記引出アームをX軸方向へ移動させる引出アーム移動用アクチュエータと、
複数の前記送出アームをX軸方向へ移動させる送出アーム移動用アクチュエータと、
複数の前記押えローラをX軸方向へ移動させるローラ移動用アクチュエータと、
複数の前記規制ローラ及び/又は複数の前記押えローラを回転させるローラ回転用アクチュエータと、
前記第1基板処理装置側寄りのローラを前記基準浮上高さ位置に対して出没させる第1ローラ出没用アクチュエータと、
前記第2基板処理装置側寄りのローラを前記基準浮上高さ位置に対して出没させる第2ローラ出没用アクチュエータと、を具備したことを特徴とする基板移送システム。
A drawer arm moving actuator that moves the plurality of drawer arms in the X-axis direction;
A delivery arm moving actuator for moving the plurality of delivery arms in the X-axis direction;
A roller moving actuator for moving the plurality of presser rollers in the X-axis direction;
A roller rotating actuator for rotating the plurality of regulating rollers and / or the plurality of pressing rollers;
A first roller retracting actuator for retracting the roller closer to the first substrate processing apparatus relative to the reference flying height position;
A substrate transfer system, comprising: a second roller retracting actuator for retracting a roller closer to the second substrate processing apparatus relative to the reference flying height position.
請求項1に記載の基板移送システムを用いて、第1基板処理装置から該第1基板処理装置にY軸方向に離隔した第2基板処理装置へ基板を浮上させた状態で搬送する基板移送方法において、
複数の引出アームを前記第1基板処理装置のポートに接近するX軸方向へ移動させて、複数の引出用吸着パッドによって前記第1基板処理装置の所定位置に位置した基板を裏面又は表面を吸着すると共に、前記第1基板処理装置側寄りのローラを基準浮上高さ位置に対して没入させる第1ステップと、
前記第1ステップの終了後に、浮上ユニットを動作させつつ、複数の前記引出アームを前記第1基板処理装置のポートに離反するX軸方向へ移動させて、前記第1基板処理装置から前記第1隣接領域に基板を引き出す第2ステップと、
前記第2ステップの終了後に、前記第1基板処理装置側寄りのローラを前記基準浮上高さ位置に対して突出させて、複数の押えローラをX軸方向の一方側へ移動させて、複数の前記押えローラと複数の規制ローラによって基板のX軸方向側の両端面を挟持すると共に、複数の引出用吸着パッドによる吸着状態を解除する第3ステップと、
前記第3ステップの終了後に、複数の前記規制ローラ及び複数の前記押えローラを回転させて、前記第1隣接領域から前記第2隣接領域へ基板を浮上させた状態で搬送する第4ステップと、
前記第4ステップの終了後に、前記第2基板処理装置のポートにX軸方向に離反させた複数の送出用吸着パッドによって基板の裏面又は表面を吸着し、複数の押えローラをX軸方向の他方側へ移動させて、複数の前記押えローラと複数の前記規制ローラによる挟持状態を解除すると共に、前記第2基板処理装置側寄りのローラを前記基準浮上高さ位置に対して没入させる第5ステップと、
前記第5ステップの終了後に、複数の送出アームを前記第2基板処理装置のポートに接近するX軸方向へ移動させて、前記第2隣接領域から前記第2基板処理装置へ基板を送り出して、複数の前記引出用吸着パッドによる吸着状態を解除する第6ステップと、を具備したことを特徴とする基板移送方法。
A substrate transfer method for transporting a substrate in a floated state from the first substrate processing apparatus to a second substrate processing apparatus separated in the Y-axis direction from the first substrate processing apparatus to the first substrate processing apparatus using the substrate transfer system according to claim 1. In
A plurality of extraction arms are moved in the X-axis direction approaching the port of the first substrate processing apparatus, and a back surface or a front surface of the substrate positioned at a predetermined position of the first substrate processing apparatus is adsorbed by a plurality of extraction suction pads. And a first step of immersing a roller closer to the first substrate processing apparatus with respect to a reference flying height position;
After completion of the first step, while moving the floating unit, the plurality of the extraction arms are moved in the X-axis direction away from the port of the first substrate processing apparatus, and the first substrate processing apparatus moves the first A second step of pulling the substrate into the adjacent area;
After completion of the second step, a roller closer to the first substrate processing apparatus is protruded with respect to the reference flying height position, and a plurality of pressing rollers are moved to one side in the X-axis direction. A third step of sandwiching both end faces of the substrate on the X-axis direction side by the pressing roller and the plurality of regulating rollers, and releasing the suction state by the plurality of pull-out suction pads;
A fourth step of rotating the plurality of regulating rollers and the plurality of pressing rollers after completion of the third step to convey the substrate from the first adjacent region to the second adjacent region;
After completion of the fourth step, the back surface or the front surface of the substrate is sucked to the port of the second substrate processing apparatus by the plurality of feeding suction pads separated in the X-axis direction, and the plurality of press rollers are moved to the other side in the X-axis direction. A fifth step of releasing the nipping state between the plurality of pressing rollers and the plurality of regulating rollers and immersing a roller closer to the second substrate processing apparatus with respect to the reference flying height position. When,
After completion of the fifth step, the plurality of delivery arms are moved in the X-axis direction approaching the port of the second substrate processing apparatus, and the substrate is sent out from the second adjacent region to the second substrate processing apparatus, A substrate transfer method comprising: a sixth step of releasing a suction state by the plurality of suction pads for extraction.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016157133A (en) * 2010-02-17 2016-09-01 株式会社ニコン Transport device, transport method, exposure apparatus, and device production method

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101061725B (en) 2004-11-19 2010-08-11 松下电器产业株式会社 Moving image encoding method and moving image decoding method

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002151571A (en) * 2000-11-15 2002-05-24 Fuji Photo Film Co Ltd Substrate heated air floating transfer device and substrate transfer method using the same
JP2002176091A (en) * 2000-12-08 2002-06-21 Fuji Photo Film Co Ltd Substrate transfer device and method
WO2003086917A1 (en) * 2002-04-18 2003-10-23 Olympus Corporation Substrate conveying device
JP2004231331A (en) * 2003-01-29 2004-08-19 Dainippon Printing Co Ltd Substrate transfer method and substrate transfer device
JP2004345744A (en) * 2003-05-20 2004-12-09 Hitachi Zosen Corp Air levitation device and air levitation transfer device
JP2005075543A (en) * 2003-08-29 2005-03-24 Daifuku Co Ltd Transport device
JP2006176255A (en) * 2004-12-21 2006-07-06 Murata Mach Ltd Conveying system
JP2008066661A (en) * 2006-09-11 2008-03-21 Ihi Corp Substrate transport apparatus and substrate transport method
JP2008273672A (en) * 2007-04-27 2008-11-13 Airtech Japan Ltd Conveyed object braking device in levitation conveying device
JP2009026783A (en) * 2007-07-17 2009-02-05 Ihi Corp Sheet transfer device, sheet treatment and transfer system, and sheet transfer method
JP2009026782A (en) * 2007-07-17 2009-02-05 Ihi Corp Sheet transfer device, sheet treatment and transfer system, and sheet transfer method
JP2010027738A (en) * 2008-07-16 2010-02-04 Ihi Corp Substrate transfer system, and substrate transfer method

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002151571A (en) * 2000-11-15 2002-05-24 Fuji Photo Film Co Ltd Substrate heated air floating transfer device and substrate transfer method using the same
JP2002176091A (en) * 2000-12-08 2002-06-21 Fuji Photo Film Co Ltd Substrate transfer device and method
WO2003086917A1 (en) * 2002-04-18 2003-10-23 Olympus Corporation Substrate conveying device
JP2004231331A (en) * 2003-01-29 2004-08-19 Dainippon Printing Co Ltd Substrate transfer method and substrate transfer device
JP2004345744A (en) * 2003-05-20 2004-12-09 Hitachi Zosen Corp Air levitation device and air levitation transfer device
JP2005075543A (en) * 2003-08-29 2005-03-24 Daifuku Co Ltd Transport device
JP2006176255A (en) * 2004-12-21 2006-07-06 Murata Mach Ltd Conveying system
JP2008066661A (en) * 2006-09-11 2008-03-21 Ihi Corp Substrate transport apparatus and substrate transport method
JP2008273672A (en) * 2007-04-27 2008-11-13 Airtech Japan Ltd Conveyed object braking device in levitation conveying device
JP2009026783A (en) * 2007-07-17 2009-02-05 Ihi Corp Sheet transfer device, sheet treatment and transfer system, and sheet transfer method
JP2009026782A (en) * 2007-07-17 2009-02-05 Ihi Corp Sheet transfer device, sheet treatment and transfer system, and sheet transfer method
JP2010027738A (en) * 2008-07-16 2010-02-04 Ihi Corp Substrate transfer system, and substrate transfer method

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016157133A (en) * 2010-02-17 2016-09-01 株式会社ニコン Transport device, transport method, exposure apparatus, and device production method

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