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JP2010099771A - ガラス用研磨パッド - Google Patents

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JP2010099771A
JP2010099771A JP2008272637A JP2008272637A JP2010099771A JP 2010099771 A JP2010099771 A JP 2010099771A JP 2008272637 A JP2008272637 A JP 2008272637A JP 2008272637 A JP2008272637 A JP 2008272637A JP 2010099771 A JP2010099771 A JP 2010099771A
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oxide abrasive
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Junichiro Yamamoto
淳一郎 山本
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Abstract

【課題】高研磨レートを長時間維持しながらスクラッチの発生が少ないガラス用研磨パッドを提供することを可能とする。
【解決手段】本発明にかかるガラス用研磨パッド10は、合成繊維からなる不織布12に、熱硬化性合成樹脂系接着剤14と、酸化セリウム研磨剤16と、界面活性剤18とを主とするスラリーを含浸した後、固着乾燥させたことを特徴とする。
【選択図】 図2

Description

本発明は、ガラス用研磨パッドに関するものであり、特に例えば、ディスプレイ用ガラス基板、記録装置向けガラスディスク、光学用レンズといったガラス表面を研磨するのに使用するガラス用研磨パッドに関するものである。
従来、研磨基材としては、一般的にウレタン樹脂の独立発泡体パッドに酸化セリウム研磨剤を配合した研磨パッド(特許文献1)や、不織布フェルトにポリウレタン溶液を含浸湿式凝固処理して得られる多孔質不織布シート(特許文献2)などが開示されている。
近年、映像分野で使用されるガラス材料のサイズの大型化、磁気記録媒体のひとつであるHDD(ハードディスクドライブ)等の磁気記録媒体用基板の小型化、薄板化、および高密度記録化に伴い、アルミニウム基板に比べ基板表面の平坦性及び基板強度に優れたガラス基板に徐々に置き換わりつつある。そのため、より研磨力が均一で高精密な研磨が行える基材が求められている。
特開平07−116964号公報 特開平02−250776号公報
しかしながら、特許文献1に開示されている研磨パッドでは、初期の研磨レートは非常に優れているが、独立発泡由来の性質上、目詰まりなどの問題が発生しやすく、研磨レートの安定性に欠け、その目詰まりからスクラッチが発生しやすい。また、特許文献2で開示されている多孔質不織布シートでは、良好な通気性から供給される研磨スラリーの保持性が良く、目詰まりしにくいという特徴があるが、パッド自体が無砥粒である為、供給されるスラリーによる仕上げ効果はあるものの、研磨レートが低い。
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたもので、高研磨レートを維持しながらスクラッチの発生が少ないガラス用研磨パッドを提供することを目的とする。
請求項1に記載の発明は、合成繊維からなる不織布に、熱硬化性合成樹脂系接着剤と、酸化セリウム研磨剤と、界面活性剤とを主とするスラリーを含浸した後、固着乾燥させたことを特徴とする、ガラス用研磨パッドである。
請求項2に記載の発明は、硬度が、ショアA硬度80〜90である、請求項1に記載のガラス用研磨パッドである。
請求項3に記載の発明は、ガラス用研磨パッドにおける、酸化セリウム研磨剤の配合量が、10〜60重量%である、請求項1または請求項2に記載のガラス用研磨パッドである。
本発明にかかるガラス用研磨パッドによれば、研磨時のスラリーや研磨カスによる目詰まりを抑制し、また、酸化セリウム研磨剤が不織布の繊維表面上に均一に固着されていることにより、高研磨レートでの研磨が長時間に亘り可能となり、且つ、スクラッチの発生を少なくさせることができる。
図1は、本発明にかかるガラス用研磨パッドの一実施形態の外観図である。
図2は、本発明にかかるガラス用研磨パッドの一実施形態の一部を拡大した拡大図解図である。
本発明にかかるガラス用研磨パッド10の構造について説明する。ガラス用研磨パッド10は、不織布12、熱硬化性合成樹脂系接着剤14、酸化セリウム研磨剤16、界面活性剤18から構成されている。熱硬化性合成樹脂系接着剤14、酸化セリウム研磨剤16は、界面活性剤18と共に、不織布12に含浸され、固着乾燥されている。
以下、ガラス用研磨パッド10を構成する各要素について詳述し、併せて本発明が従来のガラス用研磨パッドに対して優れている点などについて説明を行う。
不織布12は、合成繊維をカード機により開繊した繊維集合体(クロスウェブ)に、ニードルパンチを施して作製したものである。不織布12はクロスウェブに代えて、パラレルウェブ(カード法)、ランダムウェブ(エアレイド法)、スパンボンド法、抄紙式を用いても構わないが、厚み、密度を制御出来る点で、クロスウェブ、スパンボンド法が望ましく、加えて、ニードルパンチ、ウォーターニードルを施してあることが好ましい。繊維集合体の構成繊維としては、特に限定されるものではないが、繊維径が5μm〜50μmの範囲のものを用い、この範囲内であれば、同一繊維径又は異なる繊維径のものを組み合わせて使用することができる。研磨パッドの均一性、通気性を付与するためには、繊維径が10μm〜20μmの範囲のものが好ましい。構成繊維の種類としては、一定の強度を有するものであれば、特に限定はされないが、ポリアミド繊維、アラミド繊維、ポリエステル繊維、ビニロン繊維を単独又は組み合わせて選択することができ、耐水性、耐薬品性、剛性の観点からポリエステル繊維が好適である。また、繊維集合体を高密度にする方法として、潜在捲縮タイプを任意に配合し、熱ロールで捲縮を発現させ、高密度、高モジュラスにすることも出来る。
熱硬化性合成樹脂系接着剤14は、酸化セリウム研磨剤16を不織布12に固着させるものである。熱硬化性合成樹脂系接着剤14には、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂等が選択できるが、不織布12と酸化セリウム研磨剤16とを強力に接着でき、パッドに高弾性を付与できる点で、ウレタン樹脂が好ましい。
酸化セリウム研磨剤16は、平均粒径が0.7〜2μmの範囲のものが好ましい。平均粒径が2μm以上であるとガラスに深い傷を入れやすくなり、また0.7μm以下だと十分な研磨レートが得られないからである。酸化セリウム研磨剤16の配合量は、ガラス用研磨パッド全体に対して10〜60重量%が好ましく、より好ましくは、30〜55重量%である。10重量%以下だと固定された研磨剤が効果を十分に発揮せず、また、60重量%以上だと接着剤の接着性を阻害し、耐久性を低下させる。
界面活性剤18は、熱硬化性合成樹脂系接着剤14を希釈する溶媒に可溶であり、酸化セリウム研磨剤16を溶剤中に均一に分散させて不織布12へ均一に付着させることが出来るものであれば特に制限されるものではない。
不織布12には、熱硬化性合成樹脂系接着剤14と、酸化セリウム研磨剤16と、界面活性剤18とが任意の割合で調合されたスラリーが含浸される。固着方法としては、浸漬法、スプレー法、コーティング法を単独又は組み合わせて用いてもよい。スラリーを固着させた不織布12は、公知の乾燥方法を用いて乾燥させる。このとき不織布12を変質させない温度で、且つ、熱硬化性合成樹脂系接着剤14を十分硬化させることができる温度で乾燥させなければならない。乾燥させた不織布12の構成繊維表面には、図2に示すように、熱硬化性合成樹脂系接着剤14により酸化セリウム研磨剤16が均一に固着されている。
ガラス用研磨パッド10は、不織布12に起因する凹凸を表面に有しているため、両面にサンディング研磨加工を施し、平坦度を向上させる。これにより、所定の厚みのあるパッドを製造することができる。また、研磨面にて研磨スラリーの供給と排出がスムーズに行われるよう、一方の表面にエンボス加工、あるいは溝加工を施すことができる。ガラス用研磨パッド10の硬度は、ショアA硬度で80〜90の範囲が好ましい。ショアA硬度が80以下だと、研磨面の一部だけに荷重がかかる為、均一に研磨することができず、90以上だとパッドが固くなりすぎてスクラッチの原因となりうるからである。
なお、ガラス用研磨パッド10は、研磨機定盤へ固定するために、片面に工業用両面粘着テープを使用することができる。
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。特許請求の範囲に記載した範囲内で適宜変更することにより、所望のガラス用研磨パッド10が作製されればよい。
3.3dtexのポリエステル繊維を70%、2.8dtexの潜在捲縮性ポリエステルを30%で配合して、カード機により開繊した繊維集合体(クロスウェブ)に、ニードルパンチを施した後、熱ロールにて、潜在捲縮性を発現させ、目付量260g/m、厚み2.0mmの不織布12を作製した。そして、この不織布12に、熱硬化性合成樹脂系接着剤14である熱硬化性ウレタン樹脂と、平均粒径0.95μmの酸化セリウム研磨剤16を界面活性剤18(エステル型非イオン系)で分散させたスラリーを含浸させた。なお、熱硬化性ウレタン樹脂と酸化セリウム研磨剤16と、界面活性剤18の配合は、固形比で100:265:10とした。スラリーを不織布12に含浸させる量は、乾燥固形分740g/mとなるように含浸処理した。その後、この不織布12を固着乾燥させ、両表面を0.25mmずつサンディング加工して、凹凸を除去し、円形状の実施例1のガラス用研磨パッド10を得た。なお、実施例1の各諸元は、厚み1.5mm、密度0.5g/cm、ショアA硬度85、酸化セリウムの配合量54重量%であった。
実施例1と略同様の工程で作製したが、ショアA硬度87、酸化セリウムの配合量33重量%となるように調整し、実施例2を作製した。
(比較例1)
実施例1と略同様の工程で作製したが、密度0.4g/cm、ショアA硬度78、酸化セリウムの配合量33重量%となるように調整し、比較例1を作製した。
(比較例2)
実施例1と略同様の工程で作製したが、密度0.6g/cm、ショアA硬度92、酸化セリウムの配合量55重量%となるように調整し、比較例2を作製した。
(比較例3)
ガラス研磨用途として一般的に使用されている、ウレタン発泡セリウムパッドを使用した。(従来品)
各実施例、比較例の諸元を表1に示す。
Figure 2010099771
(研磨方法)
それぞれの研磨パッドの裏面に工業用両面テープを貼付し、ポリッシングマシン(光永産業社製精密研磨機MFLN4.3B(両面研磨))に装着して、被研磨物として20mm×20mm×2mmのソーダガラス(青板)をそれぞれの例について6枚ずつ研磨した。研磨液としては酸化セリウム研磨剤7%水分散液を使用し、加工荷重1.9kPa、定盤回転数70rpmの条件下で実施した。
(研磨評価)
評価は、平均研磨レートと仕上げ精度を比較して行った。平均研磨レートは、30分間×2回処理後(初期)と×15〜16回処理(中期)を実施した際の被研磨物厚さ平均摩耗量を求め、単位時間(分)当たりの厚み減少量(μm/分)で算出した。仕上がり精度は、Zygo社製「NewView200」を用いて、30分間×5回処理後(初期)と×16回処理後の被研磨物仕上精度(端部表面状態及びスクラッチの有無及び表面粗さ)を測定し、評価結果を表2に示した。
Figure 2010099771
○(良好、従来品と同等以上)、△ (一部劣る、一部悪い)、△×(不良に近い)、× (不良、劣る)の4段階で相対評価した。
表2から明らかなように、実施例1と実施例2は研磨レート、被研磨物の端部表面状態、スクラッチ、表面粗さにおいて、安定した研磨性能を持続させることが確認できた。比較例1では、密度、硬度が低いため、不織布ベース故の研磨レート減少率は良好なものの、研磨レート自体低く、被研磨物の角が丸くなり、端部表面状態が悪くなる結果となった。比較例2では、逆に密度、硬度が高いため、端部表面状態は良好なものの、中期研磨では、スクラッチが発生した。
本発明にかかるガラス用研磨パッドの一実施形態の外観図である。 本発明にかかるガラス用研磨パッドの一実施形態の一部を拡大した拡大図解図である。
符号の説明
10 ガラス用研磨パッド
12 不織布
14 熱硬化性合成樹脂系接着剤
16 酸化セリウム研磨剤
18 界面活性剤

Claims (3)

  1. 合成繊維からなる不織布に、
    熱硬化性合成樹脂系接着剤と、酸化セリウム研磨剤と、界面活性剤とを主とするスラリーを含浸した後、固着乾燥させたことを特徴とする、ガラス用研磨パッド。
  2. 硬度が、ショアA硬度80〜90である、請求項1に記載のガラス用研磨パッド。
  3. ガラス用研磨パッドにおける、酸化セリウム研磨剤の配合量が、10〜60重量%である、請求項1または請求項2に記載のガラス用研磨パッド。
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