JP2010085791A - Liquid crystal display and method for manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は液晶表示素子及びその製造方法に関するものである。 The present invention relates to a liquid crystal display element and a method for manufacturing the same.
テレビの大型化がすすみ、画像表示部が40インチ、50インチ、65インチと大きくなってきている。液晶テレビも要求に対応するべく大型化してきているが、液晶表示素子が大型化すると液晶表示素子の製造はいろいろな面で困難になり、液晶テレビは高価なものになっている。 As the size of televisions has increased, the image display area has grown to 40 inches, 50 inches, and 65 inches. Liquid crystal televisions have also been increased in size to meet demands, but as liquid crystal display elements have become larger, the manufacture of liquid crystal display elements has become difficult in various aspects, and liquid crystal televisions have become expensive.
液晶表示素子の大型化を避け、表示部は大型化するためにプロジェクションテレビが開発されている。小さな液晶表示素子を光学レンズで拡大してスクリーンに映し出すものであり、液晶表示素子は1インチ以下で100インチの表示部が達成可能である。 Projection televisions have been developed to avoid the increase in size of liquid crystal display elements and to increase the size of the display section. A small liquid crystal display element is enlarged by an optical lens and projected on a screen. The liquid crystal display element can achieve a display portion of 1 inch or less and 100 inches.
液晶表示素子は2枚のガラス基板の一方のガラス基板に多数の画素電極を形成し、他方のガラス基板に多数の画素電極領域に対向した共通電極を形成し、2枚のガラス基板を液晶層を介して貼付して製造される。 In the liquid crystal display element, a large number of pixel electrodes are formed on one glass substrate of two glass substrates, a common electrode facing a large number of pixel electrode regions is formed on the other glass substrate, and the two glass substrates are formed into a liquid crystal layer. It is manufactured by sticking through.
小型の液晶表示素子は2枚のマザー基板に複数の小型液晶表示素子領域を形成し、各小型液晶表示素子領域の外周部にシール剤を配置し、2枚のマザー基板を貼り合わせ、その後分断して個々の空小型液晶表示素子に形成されている。空小型液晶表示素子に液晶を注入し、注入口を封止して小型液晶表示素子が完成する。 A small liquid crystal display element has a plurality of small liquid crystal display element regions formed on two mother substrates, a sealant is disposed on the outer periphery of each small liquid crystal display element region, the two mother substrates are bonded together, and then divided. Thus, it is formed in each empty small liquid crystal display element. Liquid crystal is injected into the empty small liquid crystal display element, and the injection port is sealed to complete the small liquid crystal display element.
2枚の基板の材料は用途に応じて選択される。一般的なのは両基板ともガラスであり、透過型液晶表示素子として使用される。上基板がガラスで、下基板が単結晶シリコンのものは反射型液晶表示素子として使用される。特殊なものとしてはプラスッチック基板や、SOI基板、SOS基板なども使用されている。 The materials for the two substrates are selected according to the application. In general, both substrates are made of glass and used as a transmissive liquid crystal display element. An upper substrate made of glass and a lower substrate made of single crystal silicon is used as a reflective liquid crystal display element. As special ones, plastic substrates, SOI substrates, SOS substrates and the like are also used.
プロジェクタやプロジェクションテレビに使用する小型液晶表示素子は、投射のために強い光が照射されるので、小型液晶表示素子が高温になるのを防止するため冷却しなければならない。冷却方法はいろいろと開発されているが、一長一短がある。小型液晶表示素子に放熱のためのヒートシンクを装着することもあるが、基板そのものに放熱性の高いサファイア基板を使用する試みがなされている。 A small liquid crystal display element used for a projector or a projection television is irradiated with strong light for projection, and must be cooled to prevent the small liquid crystal display element from reaching a high temperature. Although various cooling methods have been developed, there are advantages and disadvantages. A heat sink for heat dissipation may be attached to a small liquid crystal display element, but attempts have been made to use a sapphire substrate with high heat dissipation for the substrate itself.
サファイア基板上に単結晶シリコン膜を形成し、単結晶シリコン基板にトランジスタその他の回路素子と画素電極を形成し、サファイア基板またはガラス基板と組み合わせて液晶表示素子を形成するものがある。(特許文献1参照) There is a type in which a single crystal silicon film is formed over a sapphire substrate, a transistor or other circuit element and a pixel electrode are formed over the single crystal silicon substrate, and a liquid crystal display element is formed in combination with a sapphire substrate or a glass substrate. (See Patent Document 1)
図3〜図5は本発明に係わる小型液晶表示素子の製造方法を説明するための図である。図3はマザーシリコン基板の上面図である。円形マザーシリコン基板2(以下、マザーシリコン基板という)である。図4は図3のハッチング部の小型液晶表示素子領域6−1、6−2の拡大図であり、図5は分断後の上面図と側面図である。マザーシリコン基板2に形成された小型液晶表示素子領域6(図3では52領域)の周縁にシール剤3を形成してあり、さらにシール剤3の一部に注入口4が形成されている。シール剤3により形作られた小型液晶表示素子領域6はマザーシリコン基板2の中央部に形成されている。シール剤3の塗布されたマザーシリコン基板2に円形マザーガラス基板(以下、マザーガラス基板という)1を位置決めして貼り合せる。
3 to 5 are views for explaining a method of manufacturing a small liquid crystal display element according to the present invention. FIG. 3 is a top view of the mother silicon substrate. This is a circular mother silicon substrate 2 (hereinafter referred to as a mother silicon substrate). 4 is an enlarged view of the small liquid crystal display element regions 6-1 and 6-2 in the hatched portion of FIG. 3, and FIG. 5 is a top view and a side view after division. A
図4のA、B、Cは切断線の位置を示している。Aはマザーシリコン基板2のダイシングライン、Bはマザーガラス基板1のスクライブライン、Cはマザーシリコン基板2のダイシングラインAとマザーガラス基板1のスクライブラインBが重なっているラインであり、図5の側面図で示すようにマザーガラス基板1とマザーシリコン基板2の分断位置は図3に示すY方向でオフセットしているがX方向では一致している。小型液晶表示素子領域6−2の注入口4の先端部のシール剤3は切断線Cにかかっていて、先端部5は隣の小型液晶表示素子領域6−1に入っている。7は外部回路との接続端子部である。
A, B, and C in FIG. 4 indicate the positions of the cutting lines. A is a dicing line of the
注入口の先端を切断線にかかるようにして切断するのは、切断面と注入口が一致するので、液晶の注入効率が上がるとともに注入口の封止の信頼性があがるからである。 The reason why the tip of the inlet is cut along the cutting line is that the cut surface and the inlet coincide with each other, so that the injection efficiency of the liquid crystal increases and the sealing of the inlet is improved.
図6は両基板がガラスの場合の分断を説明するための断面図であり、(A)はスクライブ位置を示し、(B)は分断状態を示す。▲で示す位置をスクライブしてブレイクすると注入口4を形成しているシール剤3もきれいに分断され、小型液晶表示素子領域6−2の注入口4のシール剤の先端部5は隣の小型液晶表示素子領域6−1に入っている。
FIG. 6 is a cross-sectional view for explaining division when both substrates are made of glass. (A) shows a scribe position, and (B) shows a divided state. When the position indicated by ▲ is scribed and broken, the
図7はマザーガラス基板1とマザーシリコン基板2の場合の分断を説明するための断面図であり、(A)はマザーガラス基板1のスクライブ位置とマザーシリコン基板2のダイシング位置を示し、(B)は分断状態を示す。マザーガラス基板1は▲で示す位置をスクライブし、マザーシリコン基板2を図示のようにダイシングしてブレイクすると、図6と同様に注入口4を形成しているシール剤もきれいに分断され、シール剤の先端部5は隣の小型液晶表示素子領域6−1に入っている。
FIG. 7 is a cross-sectional view for explaining the division in the case of the
プロジェクタやプロジェクションテレビ用として熱伝導度の高いサファイア基板を使用する場合、単結晶サファイア基板は硬度が高いこと、結晶面によっては弱い劈開性があるものの完全な劈開面がないことから、ダイヤモンドスクライブによる切断方法にあっては、ダイヤモンドポイントの摩耗が速く、良好な割断面を得ることが困難であり、さらに、生産歩留が悪いという問題がある。ダイシングにおいては、加工速度(切断速度)を速くした場合には、砥石の摩耗が早く、切断面にチッピングが発生する問題があり、一方、加工速度を遅くしても砥石の摩耗が極端に低減されるわけではなく、ランニングコストが高く、しかも生産性は低下するといった問題がある。これを解決する技術としてレーザースクライブが注目されている。 When using a sapphire substrate with high thermal conductivity for projectors and projection televisions, the single crystal sapphire substrate has high hardness, and depending on the crystal plane, it has weak cleavage but there is no complete cleavage surface. In the cutting method, there is a problem that diamond points wear quickly, it is difficult to obtain a good fractured surface, and the production yield is poor. In dicing, if the processing speed (cutting speed) is increased, the grinding wheel wears quickly and chipping occurs on the cut surface. On the other hand, even if the processing speed is slowed down, grinding wheel wear is extremely reduced. However, there is a problem that the running cost is high and the productivity is lowered. Laser scribing is attracting attention as a technique for solving this problem.
図8はシリコン基板をサファイア基板に代えた場合の分断を説明するための断面図であり、(A)はマザーガラス基板1のスクライブ位置とマザーサファイア基板12のレーザースクライブ位置を示し、(B)は分断状態を示す。図9は分断後の上面図(切断線Cによる分断線はサファイア基板12のみ記載している)と側面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view for explaining division when the silicon substrate is replaced with a sapphire substrate. FIG. 8A shows a scribe position of the
しかし、従来技術と同様な注入口形状と切断線の場合、図8、図9に示すようにシール剤3が分断されず、サファイア基板12も図8、図9に示すように、小型液晶表示素子領域6−2に凸部12Aが残り、その分小型液晶表示素子領域6−1に凹み部12Bが発生するような分断になってしまい、両方の小型液晶表示素子領域に悪影響を与えてしまう。図8において切断線より先端のシール剤先端部5はサファイア基板12に付いているが、隣の小型液晶表示素子領域6−1のガラス基板1に付くこともある。このような分断では、チッピングが発生し、液晶表示素子に加工時の冷却液や、完成後の浸水の恐れがあるため、外形に余裕を持たせなければならずマザーサファイア基板12からの取り個数が少なくなってしまう。また、注入口部形状がばらつくため、封口が安定せずリークが発生する。
However, in the case of the same inlet shape and cutting line as in the prior art, the
図9に結晶軸方向を矢印で示しているが、結晶軸方向について図10を用いて説明する。図10はサファイアの結晶を説明するための斜視図と平面図である。サファイアは六方晶系であり、その中心軸がC軸、これに垂直な面がC面でミラー指数(0001)で表される。そしてC軸から放射状にのびるA軸(a1、a2、a3)とそれに垂直な面がA面(11−20)となる。R面は、図のように、C軸と一定の角度を有して存在する。本発明で使用するサファイアは主面がR面の円形板状であり、図で示すX−Xに平行にオリエンテーションフラットを形成している。R面上でX−Xに垂直な方向を結晶軸方向と定義する。 Although the crystal axis direction is indicated by an arrow in FIG. 9, the crystal axis direction will be described with reference to FIG. FIG. 10 is a perspective view and a plan view for explaining a sapphire crystal. Sapphire has a hexagonal crystal system, the central axis of which is the C axis, and the plane perpendicular to this is the C plane and is represented by the Miller index (0001). The A axis (a1, a2, a3) extending radially from the C axis and the plane perpendicular thereto are the A plane (11-20). As shown in the figure, the R plane has a certain angle with the C axis. The sapphire used in the present invention has a circular plate shape whose main surface is an R-plane, and forms an orientation flat parallel to XX shown in the figure. The direction perpendicular to XX on the R plane is defined as the crystal axis direction.
図11はレーザースクライブによるサファイア基板の分断形状を示す図で、(A)は切断線A、(B)は(A)のハッチング部を例に切断線Cを示している。(C)は切断線A、切断線Cの順に分断した場合の切断線Cによる分断異常を示す図でそれぞれ上面図である。 FIGS. 11A and 11B are diagrams illustrating a sapphire substrate cut shape by laser scribing, in which FIG. 11A shows a cutting line A, and FIG. 11B shows a cutting line C taking the hatched portion of FIG. (C) is a figure which shows the division | segmentation abnormality by the cutting line C at the time of dividing in order of the cutting line A and the cutting line C, and is each a top view.
レーザースクライブは、切断線に沿ってレーザーを照射し、急冷することでサファイア基板を分断するが、結晶軸方向に直角な切断線Aで先に分断し、次いで切断線Cで分断する。(実際にはサファイア基板12上で碁盤の目にスクライブする。) In laser scribing, a sapphire substrate is divided by irradiating a laser along a cutting line and rapidly cooling, but is divided first by a cutting line A perpendicular to the crystal axis direction and then by a cutting line C. (In actuality, the scribing is performed on the sapphire substrate 12)
切断線Cによる分断では、レーザーの入口と出口の部分で12C、12Eの凸部を残して分断されるが、凸部は0.5mmにも達するため、その分外形に余裕を持たせなければならず、マザーサファイア基板からの取り個数が少なくなってしまう。凹み12D、12Fは12C、12Eの凸部の分凹んでいる。 In the division by the cutting line C, the laser is divided by leaving the 12C and 12E convex portions at the entrance and exit portions of the laser. However, since the convex portion reaches 0.5 mm, there is no need to have a margin for the outer shape. In other words, the number of pieces taken from the mother sapphire substrate is reduced. The recesses 12D and 12F are recessed by the convex portions of 12C and 12E.
本発明の目的は、SOS基板を使用する液晶表示素子のマザーサファイア基板を正確に分断できる液晶表示素子構造を得ることにある。 An object of the present invention is to obtain a liquid crystal display element structure capable of accurately dividing a mother sapphire substrate of a liquid crystal display element using an SOS substrate.
所望の素子をシリコン面に形成したサファイアのR面からなるSOS基板で矩形状の第1基板と、前記第1基板の前記素子を備えた側の面と対向するように設けられた透明部材からなる矩形状の第2基板と、前記両基板の周辺部を液晶の注入口となる部分を残して封止することにより、前記両基板間に液晶層を形成する液晶表示素子領域を複数個形成したマザー基板を個々の液晶表示素子領域に分断する液晶表示素子において、前記第1基板の第2基板と対向する面側の分断ラインをダイシングし、封止した後、前記ダイシングラインに沿って分断した液晶表示素子とする。 A SOS substrate composed of a sapphire R-plane on which a desired element is formed on a silicon surface, a rectangular first substrate, and a transparent member provided to face the surface of the first substrate on which the element is provided. A plurality of liquid crystal display element regions for forming a liquid crystal layer between the substrates by sealing the rectangular second substrate and the peripheral portions of the substrates, leaving a portion serving as a liquid crystal injection port. In the liquid crystal display element that divides the mother substrate into individual liquid crystal display element regions, the dividing line on the surface side facing the second substrate of the first substrate is diced and sealed, and then divided along the dicing line. A liquid crystal display element is obtained.
前記矩形状両基板の少なくとも1辺側は上下でオフセットして分断され、前記注入口は両マザー基板の切断線が上下同じになる辺側に形成する液晶表示素子とする。 At least one side of each of the rectangular substrates is divided by being offset vertically, and the injection port is a liquid crystal display element formed on the side where the cutting lines of both mother substrates are the same.
前記ダイシングは前記注入口のある辺にのみ行う液晶表示素子とする。当然、サファイア基板分断ラインを全部ダイシングすることは可能であるが、必要最小限とすることが望ましい。 The dicing is a liquid crystal display element that is performed only on the side where the inlet is located. Naturally, it is possible to dice the entire sapphire substrate cutting line, but it is desirable to minimize the line.
前記ダイシングはダイヤモンドホイールを使用する液晶表示素子とする。 The dicing is a liquid crystal display element using a diamond wheel.
前記第1基板に形成されたダイシングラインの反対面からレーザーを照射した後、第2基板側から衝撃を加え、前記第1基板を分断する液晶表示素子とする。 After irradiating a laser from the opposite surface of the dicing line formed on the first substrate, an impact is applied from the second substrate side to form a liquid crystal display element that divides the first substrate.
前記分断は、結晶軸方向と平行な辺を先に分断し、次に結晶軸方向と垂直な辺を分断する液晶表示素子とする。 The division is a liquid crystal display element in which a side parallel to the crystal axis direction is divided first, and then a side perpendicular to the crystal axis direction is divided.
少なくとも、第1基板に複数の液晶表示素子領域を形成する工程と、第2基板に前記液晶表示素子領域に対向する電極を形成する工程と、前記第1基板の第2基板と対向する面の分断ラインをダイシングする工程と、前記第1基板の液晶表示素子領域の外周部に封止用シール材を塗布する工程と、前記第1基板と前記第2基板を貼付する工程と、両基板を分断ラインに沿ってスクライブする工程と、個々の液晶表示素子領域に分断する工程を具備する液晶表示素子の製造方法とする。 At least a step of forming a plurality of liquid crystal display element regions on the first substrate, a step of forming an electrode facing the liquid crystal display element region on the second substrate, and a surface of the first substrate facing the second substrate A step of dicing the dividing line, a step of applying a sealing material to the outer periphery of the liquid crystal display element region of the first substrate, a step of attaching the first substrate and the second substrate, and both substrates A method of manufacturing a liquid crystal display element includes a step of scribing along a dividing line and a step of dividing into individual liquid crystal display element regions.
前記分断する工程において、第2基板側から衝撃を加え、前記第1基板を分断する液晶表示素子の製造方法とする。 In the dividing step, an impact is applied from the second substrate side to form a liquid crystal display element manufacturing method in which the first substrate is divided.
前記分断する工程において、結晶軸方向と平行な辺を先に分断し、次に結晶軸方向と垂直な辺を分断する液晶表示素子の製造方法とする。 In the dividing step, a side parallel to the crystal axis direction is divided first, and then a side perpendicular to the crystal axis direction is divided.
請求項1の発明によると、マザーサファイア基板のマザー透明基板と対向する面の分断ラインにダイシングにより凹部溝を形成してあるので、サファイアの切断が容易となり、注入口もきれいに切断でき、封口状態が安定する。 According to the first aspect of the present invention, since the recessed groove is formed by dicing on the dividing line of the surface of the mother sapphire substrate facing the mother transparent substrate, the sapphire can be easily cut, and the injection port can be cut cleanly, and the sealed state Is stable.
請求項2の発明によると、注入口は両マザー基板の切断線が上下同じになる辺側に形成されるので、上下の分断ラインが一致しており、以上分断が防止できる。 According to the second aspect of the present invention, since the injection port is formed on the side where the cutting lines of both the mother substrates are the same in the upper and lower directions, the upper and lower dividing lines coincide with each other, so that the dividing can be prevented.
請求項3の発明によると、必要最小限のダイシングで済み、ダイシング工程が短くでき、ダイシングに必要な諸経費が削減できる。 According to the third aspect of the present invention, the minimum required dicing is sufficient, the dicing process can be shortened, and various expenses required for dicing can be reduced.
請求項4の発明によると、硬いサファイア基板にもダイシングすることが可能となる。 According to the invention of claim 4, dicing can be performed even on a hard sapphire substrate.
請求項5の発明によると、サファイアに深いV溝を設けることができ、分断が容易となるため、分断時に加える衝撃によるマザーサファイア基板、周辺シール剤にかかるストレスを小さくすることが出来る。
According to the invention of
請求項6の発明によると、コーナー部に凸部が発生しなくなり、マザーサファイア基板からの取り個数が少なくなることを防止できる。 According to the sixth aspect of the present invention, it is possible to prevent the convex portion from being generated at the corner portion and reduce the number of pieces taken from the mother sapphire substrate.
請求項7の発明によると、サファイア基板を使用する液晶表示素子のサファイア基板分断異常が防止でき、チッピングによる液晶表示素子に冷却液が浸入することを防止できる。また隣の液晶表示素子領域に影響を与えないレーザースクライブが可能となり、マザーサファイア基板を有効に使用できる製造方法を提供できる。 According to the seventh aspect of the present invention, it is possible to prevent the sapphire substrate from being divided abnormally in the liquid crystal display element using the sapphire substrate, and to prevent the coolant from entering the liquid crystal display element due to chipping. Further, laser scribing that does not affect the adjacent liquid crystal display element region is possible, and a manufacturing method that can effectively use the mother sapphire substrate can be provided.
請求項8の発明によると、衝撃により簡単に硬いサファイアを分断することが出来る。 According to the invention of claim 8, hard sapphire can be easily divided by impact.
請求項9の発明によると、コーナー部に凸部が発生しなくなり、マザーサファイア基板からの取り個数が少なくなることを防止できる製造方法を提供できる。 According to the ninth aspect of the present invention, it is possible to provide a manufacturing method capable of preventing the convex portion from being generated at the corner portion and preventing the number of pieces taken from the mother sapphire substrate from decreasing.
所望の素子をシリコン面に形成したサファイアのR面からなるSOS基板で矩形状の第1基板と、前記第1基板の前記素子を備えた側の面と対向するように設けられた透明部材からなる矩形状の第2基板と、前記両基板の周辺部を液晶の注入口となる部分を残して封止することにより、前記両基板間に液晶層を形成する液晶表示素子領域を複数個形成したマザー基板を個々の液晶表示素子領域に分断する液晶表示素子において、前記第1基板の第2基板と対向する面側の分断ラインをダイシングし、封止した後、前記ダイシングラインに沿って分断した液晶表示素子とする。 A SOS substrate composed of a sapphire R-plane on which a desired element is formed on a silicon surface, a rectangular first substrate, and a transparent member provided to face the surface of the first substrate on which the element is provided. A plurality of liquid crystal display element regions for forming a liquid crystal layer between the substrates by sealing the rectangular second substrate and the peripheral portions of the substrates, leaving a portion serving as a liquid crystal injection port. In the liquid crystal display element that divides the mother substrate into individual liquid crystal display element regions, the dividing line on the surface side facing the second substrate of the first substrate is diced and sealed, and then divided along the dicing line. A liquid crystal display element is obtained.
図1は本発明のマザーサファイア基板の上面図であり、図2はマザーサファイア基板とマザーガラス基板をシール剤を介して接着した断面の一部であり、(A)は分断前、(B)は分断後を示している。マザーサファイア基板12のマザーガラス基板1と対向する面の分断ラインにダイシング溝12GをサファイアのC結晶軸に平行な方向だけ形成したものである。次に、注入口4はこの分断ラインに望んで形成される。
FIG. 1 is a top view of a mother sapphire substrate of the present invention, FIG. 2 is a part of a cross section obtained by bonding a mother sapphire substrate and a mother glass substrate through a sealing agent, (A) is before cutting, (B) Indicates after division. A dicing
マザーガラス基板1は▲で示す位置をスクライブし、マザーサファイア基板の矢印のラインをレーザースクライブする。マザーサファイア基板にダイシング溝12Gを形成し、ダイシング溝の反対面をレーザースクライブしてから、前記マザーサファイア基板12のダイシング溝12G側(マザーガラス基板側)から衝撃を加え、マザーサファイア基板12を分断すると、図2(B)に示すように、注入口4(図4参照)を形成しているシール剤3もきれいに分断され、シール剤3の先端部5は隣の小型液晶表示素子領域6−1に入る。
The
注入口の位置を液晶表示素子の−Y軸方向のオフセット部に形成することも可能であるが、シール剤3の先端部5は形成しないほうが良い。
Although it is possible to form the position of the inlet at the offset portion in the −Y axis direction of the liquid crystal display element, it is better not to form the
1 マザーガラス基板(ガラス基板)
2 マザーシリコン基板(シリコン基板)
3 シール剤
4 注入口
5 シール剤の先端部
6 小型液晶表示素子領域
6−1 小型液晶表示素子領域
6−2 小型液晶表示素子領域
7 接続端子部
12 マザーサファイア基板(サファイア基板)
12A 凸部
12B 凹み
12C 凸部
12D 凹み
12E 凸部
12F 凹み
12G ダイシング溝
1 Mother glass substrate (glass substrate)
2 Mother silicon substrate (silicon substrate)
DESCRIPTION OF
Claims (9)
第1基板に複数の液晶表示素子領域を形成する工程と、
第2基板に前記液晶表示素子領域に対向する電極を形成する工程と、
前記第1基板の第2基板と対向する面の分断ラインをダイシングする工程と、
前記第1基板の液晶表示素子領域の外周部に封止用シール材を塗布する工程と、
前記第1基板と前記第2基板を貼付する工程と、
両基板を分断ラインに沿ってスクライブする工程と、
個々の液晶表示素子領域に分断する工程を具備する
ことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。 at least,
Forming a plurality of liquid crystal display element regions on the first substrate;
Forming an electrode facing the liquid crystal display element region on a second substrate;
Dicing a cutting line on a surface of the first substrate facing the second substrate;
Applying a sealing material to the outer periphery of the liquid crystal display element region of the first substrate;
Attaching the first substrate and the second substrate;
Scribing both substrates along the cutting line;
A method of manufacturing a liquid crystal display element, comprising a step of dividing the liquid crystal display element region into individual liquid crystal display element regions.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008255778A JP2010085791A (en) | 2008-09-30 | 2008-09-30 | Liquid crystal display and method for manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008255778A JP2010085791A (en) | 2008-09-30 | 2008-09-30 | Liquid crystal display and method for manufacturing the same |
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|---|---|
| JP2010085791A true JP2010085791A (en) | 2010-04-15 |
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ID=42249793
Family Applications (1)
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|---|---|
| JP (1) | JP2010085791A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN119861502A (en) * | 2023-10-20 | 2025-04-22 | 深圳晶微峰光电科技有限公司 | Preparation method and device of Liquid Crystal On Silicon (LCOS) panel, liquid Crystal On Silicon (LCOS) panel and equipment |
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2008
- 2008-09-30 JP JP2008255778A patent/JP2010085791A/en active Pending
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