JP2010072529A5 - 液晶表示装置 - Google Patents
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Description
本発明は液晶表示装置に係り、液晶層を介して対向配置される一対の樹脂基板上に画素が形成される液晶表示装置に関する。
前記課題を解決すべく、請求項１に記載の発明は、液晶層を介して対向配置される第１基板及び第２基板を有し、前記第１基板及び第２基板が樹脂基材で形成される液晶表示装置であって、
前記第１基板上に形成された第１の下地膜と、前記第２基板上に形成された第２の下地膜と、前記第１基板と前記第２基板を固定するシール材とを有し、
前記第１の下地膜と前記第２の下地膜は、無機材料で形成され、
前記シール材は、前記第１の下地膜及び前記第２の下地膜と接触していることを特徴とする。
前記第１基板上に形成された第１の下地膜と、前記第２基板上に形成された第２の下地膜と、前記第１基板と前記第２基板を固定するシール材とを有し、
前記第１の下地膜と前記第２の下地膜は、無機材料で形成され、
前記シール材は、前記第１の下地膜及び前記第２の下地膜と接触していることを特徴とする。
前記課題を解決すべく、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の液晶表示装置において、前記第１の下地膜上に、薄膜トランジスタが形成されていることを特徴とする。
前記課題を解決すべく、請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の液晶表示装置において、前記第２の下地膜上に、カラーフィルタが形成されていることを特徴とする。
前記課題を解決すべく、請求項４に記載の発明は、請求項１乃至３の内のいずれかに記載の液晶表示装置において、前記第１の下地膜は、窒化シリコンと酸化シリコンの積層膜であることを特徴とする。
前記課題を解決すべく、請求項５に記載の発明は、請求項１乃至４の内のいずれかに記載の液晶表示装置において、前記第２の下地膜は、窒化シリコンで形成されていることを特徴とする。
前記課題を解決すべく、請求項６に記載の発明は、請求項１乃至５の内のいずれかに記載の液晶表示装置において、前記第２の下地膜は、熱膨張係数が３ｐｐｍ／℃以上１５ｐｐｍ／℃以下であることを特徴とする。
前記課題を解決すべく、請求項７に記載の発明は、請求項１乃至６の内のいずれかに記載の液晶表示装置において、前記第１の下地膜と前記第２の下地膜とは、同じ材料で形成されていることを特徴とする。
Claims (7)
- 液晶層を介して対向配置される第１基板及び第２基板を有し、前記第１基板及び第２基板が樹脂基材で形成される液晶表示装置であって、
前記第１基板上に形成された第１の下地膜と、前記第２基板上に形成された第２の下地膜と、前記第１基板と前記第２基板を固定するシール材とを有し、
前記第１の下地膜と前記第２の下地膜は、無機材料で形成され、
前記シール材は、前記第１の下地膜及び前記第２の下地膜と接触している
ことを特徴とする液晶表示装置。 - 前記第１の下地膜上に、薄膜トランジスタが形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
- 前記第２の下地膜上に、カラーフィルタが形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶表示装置。
- 前記第１の下地膜は、窒化シリコンと酸化シリコンの積層膜であることを特徴とする請求項１，２又は３に記載の液晶表示装置。
- 前記第２の下地膜は、窒化シリコンで形成されていることを特徴とする請求項１，２，３又は４に記載の液晶表示装置。
- 前記第２の下地膜は、熱膨張係数が３ｐｐｍ／℃以上１５ｐｐｍ／℃以下であることを特徴とする請求項１，２，３，４又は５に記載の液晶表示装置。
- 前記第１の下地膜と前記第２の下地膜とは、同じ材料で形成されていることを特徴とする請求項１，２，３，４，５又は６に記載の液晶表示装置。
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