JP2010069392A - Substrate drying apparatus - Google Patents
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Abstract
【課題】 高速搬送される大型ガラス基板の搬送速度を落とさず、乾燥するエアの使用量を低減した基板乾燥装置を提供する。
【解決手段】 大型ガラス基板10が搬入される入口から搬出される出口に向かって開口が次第に大きくなる台形状のフード20と、大型ガラス基板10の両面に乾燥エアを噴射するエアナイフ30−1、30−2と、大型ガラス基板10の片面に位置しイオンを発生するイオナイザー40とを含む。
【選択図】 図1PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate drying apparatus in which the amount of air to be dried is reduced without reducing the conveyance speed of a large glass substrate that is conveyed at high speed.
SOLUTION: A trapezoidal hood 20 whose opening gradually increases from an entrance where a large glass substrate 10 is carried in toward an outlet where the large glass substrate 10 is carried out, and an air knife 30-1, which injects dry air onto both surfaces of the large glass substrate 10, 30-2 and an ionizer 40 that is located on one side of the large glass substrate 10 and generates ions.
[Selection] Figure 1
Description
本発明は、高速搬送される大型ガラス基板の乾燥に係り、詳しくは、高速搬送される大型ガラス基板を乾燥するエアの使用量を低減した基板乾燥装置に関する。 The present invention relates to drying of a large glass substrate that is conveyed at high speed, and more particularly to a substrate drying apparatus that reduces the amount of air used to dry the large glass substrate that is conveyed at high speed.
ガラス基板の一辺が1mを超える大型基板となるに伴って、基板の搬送速度も高速化される傾向にある。この大型ガラス基板の洗浄後の乾燥工程において、基板が高速搬送されることにより、リンス用の純水が大面積の基板面に残留し、シミ等が発生する要因となった。このため、エアナイフを多段に設置して基板面に残留した純水を取り除く必要が生じ、エアの使用量が増加して、乾燥工程のコストに影響を与える要因となっていた。 As a side of a glass substrate becomes a large substrate exceeding 1 m, the substrate transport speed tends to be increased. In the drying process after washing the large glass substrate, the substrate is transported at a high speed, so that pure water for rinsing remains on the substrate surface of a large area, which causes spots and the like. For this reason, it is necessary to install air knives in multiple stages to remove the deionized water remaining on the substrate surface, and the amount of air used increases, which has been a factor affecting the cost of the drying process.
特許文献1には、上下に設けたエアナイフノズルからのエア噴射領域において、コンベア手段による基板の搬送領域の外側であって、基板のうち、エア噴射領域に最初に突入する角隅部に臨む側部と平行となる位置に整流板が固定的に配置されており、ノズル口から噴射されるエアはこの整流板により隔離され、しかもエアは整流板の表面にガイドされて、整流状態で流れるようにしている、旨の記載がある。
本発明は、このような問題を解決するためになされたものであり、その目的は、高速搬送される大型ガラス基板の搬送速度を落とさず、乾燥するエアの使用量を低減した基板乾燥装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve such a problem, and an object of the present invention is to provide a substrate drying apparatus in which the amount of air to be dried is reduced without reducing the conveyance speed of a large glass substrate that is conveyed at high speed. The purpose is to provide.
本発明の基板乾燥装置は、高速搬送される大型ガラス基板を乾燥する基板乾燥装置であって、大型ガラス基板が搬入される入口から搬出される出口に向かって開口が次第に大きくなる台形状のフードと、大型ガラス基板の両面に乾燥エアを噴射するエアナイフとを含むことを特徴とする。 The substrate drying apparatus of the present invention is a substrate drying apparatus that dries a large-sized glass substrate that is conveyed at high speed, and a trapezoidal hood whose opening gradually increases from an inlet into which a large-sized glass substrate is carried in toward an outlet. When, characterized in that it comprises a air knife for injecting drying air on both sides of the large-size glass substrate.
本発明の基板乾燥装置のフードは、熱風供給口を有することを特徴とする。 The hood of the substrate drying apparatus of the present invention has a hot air supply port.
本発明の基板乾燥装置のフードは、SUS材により形成され、電気的に接地されていることを特徴とする。 The hood of the substrate drying apparatus of the present invention is formed of a SUS material and is electrically grounded.
本発明によれば、高速搬送される大型ガラス基板の搬送速度を落とさず、乾燥するエアの使用量を低減することができるため、乾燥工程のコストに影響を与えることなく高速乾燥できる基板乾燥装置を提供することが可能となる。 According to the present invention, since the amount of air to be dried can be reduced without reducing the conveyance speed of a large glass substrate that is conveyed at high speed, the substrate drying apparatus that can dry at high speed without affecting the cost of the drying process Can be provided.
本発明の実施の形態について、図を用いて説明する。図1は、本発明による基板乾燥装置の構成を示す装置構成図である。図1において、基板乾燥装置100は、大型ガラス基板10がローラ50−1、50−2により搬入される入口から搬出される出口に向かって開口が次第に大きくなる台形状のフード20と、大型ガラス基板10の両面に乾燥エアを噴射するエアナイフ30−1、30−2と、大型ガラス基板10の片面に位置しイオンを発生するイオナイザー40とを含んでいる。フード20は、SUS材により形成されて電気的に接地されており、且つ、熱風供給口22を有している。
Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is an apparatus configuration diagram showing the configuration of a substrate drying apparatus according to the present invention. In FIG. 1, a
大型ガラス基板10は、矢印方向に図面左から右に向かって、ローラ50−1、50−2により搬送される。台形状のフード20は、大型ガラス基板10が搬入される入口から搬出される出口に向かって開口が次第に大きくなっている。エアナイフ30−1、30−2は、大型ガラス基板10の基板面に対し、直角から搬送方向に所定の角度だけ傾いて設置され、基板の両面に乾燥エアを噴射する。フード20の入口と大型ガラス基板10との間隙は、2〜10mmであり、出口とエアナイフ30−1、30−2との距離は、5〜30mmである。
The
これにより、エアナイフ30−1、30−2から大型ガラス基板10の両面に噴射された乾燥エアは、基板乾燥装置100内のエアを巻き込んでフード20に流入するため、この装置内エアも乾燥に寄与することができる。装置内エアと共に流入した乾燥エアは、フード20内で絞り込まれ、基板の両面に噴射されたときの流速に近い速度でフード20から流出するため、エアナイフと等価の乾燥効果が得られる。このためエアナイフは、エアナイフ30−1、30−2による一段で良く、多段のエアナイフは必要無くなる。
Thereby, since the dry air sprayed on both surfaces of the
また、乾燥ムラが生じないためには、基板面に残留した純水がエアナイフ30−1、30−2から噴射された乾燥エアにより瞬間に乾燥する程度に、基板全面がムラなく濡れていることが望ましい。この濡れ具合の調整は、フード20の長さ、角度、ギャップなどの形状を、エアナイフ30−1、30−2による乾燥エアの流速、および大型ガラス基板10の搬送速度に対応して所定の値に設定することにより、多段のエアナイフによる噴射速度の調整に比べ、容易に調整することが可能である。
Further, in order to prevent drying unevenness, the entire surface of the substrate should be wet evenly so that the pure water remaining on the substrate surface is instantaneously dried by the dry air sprayed from the air knives 30-1 and 30-2. Is desirable. The adjustment of the wetness is a predetermined value corresponding to the length, angle, gap, etc. of the
このように、エアナイフが一段で良く、且つ、装置内エアも利用することができるため、乾燥するエアの使用量を低減することができる。また、フード20の熱風供給口22から、熱風を供給することにより、乾燥エアの低減を一層高めることが可能となる。高速エアにより大型ガラス基板10に発生する静電気は、イオナイザー40が発生するイオンにより中和され、フード20に発生する静電気は、SUS材が電気的に接地されることにより、取り除かれる。
As described above, the air knife may be provided in one stage and the air in the apparatus can be used, so that the amount of air to be dried can be reduced. Further, by supplying hot air from the hot
以上説明したように本発明によれば、高速搬送される大型ガラス基板の搬送速度を落とさず、乾燥するエアの使用量を低減することができるため、乾燥工程のコストに影響を与えることなく高速乾燥できる基板乾燥装置を提供することが可能となる。また、高速エアにより発生する静電気も容易に除去されるため、静電気による異物の基板への付着を抑制又は防止して高速乾燥できる基板乾燥装置を提供することが可能となる。 As described above, according to the present invention, it is possible to reduce the amount of air to be dried without reducing the transport speed of a large glass substrate that is transported at high speed, so that the speed of the drying process is not affected. It is possible to provide a substrate drying apparatus capable of drying. In addition, since static electricity generated by high-speed air is easily removed, it is possible to provide a substrate drying apparatus capable of high-speed drying by suppressing or preventing adhesion of foreign substances to the substrate due to static electricity.
10 大型ガラス基板
20 フード
22 熱風供給口
30−1、30−2 エアナイフ
40 イオナイザー
50−1、50−2 搬送ローラ
100 基板乾燥装置
DESCRIPTION OF
Claims (3)
前記大型ガラス基板が搬入される入口から搬出される出口に向かって開口が次第に大きくなる台形状のフードと、
前記大型ガラス基板の両面に乾燥エアを噴射するエアナイフとを含むことを特徴とする基板乾燥装置。 A substrate drying apparatus for drying a large glass substrate conveyed at high speed,
A trapezoidal hood whose opening gradually increases from the entrance where the large glass substrate is carried in toward the exit where it is carried out;
An apparatus for drying a substrate , comprising: an air knife for injecting dry air onto both surfaces of the large glass substrate.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2008238125A JP2010069392A (en) | 2008-09-17 | 2008-09-17 | Substrate drying apparatus |
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| JP2008238125A JP2010069392A (en) | 2008-09-17 | 2008-09-17 | Substrate drying apparatus |
Publications (1)
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| JP2010069392A true JP2010069392A (en) | 2010-04-02 |
Family
ID=42201670
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2008238125A Withdrawn JP2010069392A (en) | 2008-09-17 | 2008-09-17 | Substrate drying apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2010069392A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20240425408A1 (en) * | 2021-09-13 | 2024-12-26 | Corning Incorporated | Method and apparatus for manufacturing glass articles with reduced electrostatic attraction |
-
2008
- 2008-09-17 JP JP2008238125A patent/JP2010069392A/en not_active Withdrawn
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| US20240425408A1 (en) * | 2021-09-13 | 2024-12-26 | Corning Incorporated | Method and apparatus for manufacturing glass articles with reduced electrostatic attraction |
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