JP2010066236A - 基板検査装置 - Google Patents

Abstract

【課題】基板検査装置において、基板検査のタクトタイムを短縮すると共に基板検査装置の小型化を図る。
【解決手段】基板（１０）の２次元画像を撮像するラインセンサ８を有する可動式の第１のガントリー２と、基板（１０）の拡大観察を行うための拡大観察部（９）を有し第１のガントリー２に追従して移動する可動式の第２のガントリー３と、を備える構成とする。
【選択図】図１Ａ

Description

本発明は、例えば、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）その他の基板を検査する基板検査装置に関し、更に詳しくは、ガントリーを備える基板検査装置に関する。

従来、フラットパネルディスプレイ等の製造工程では、各製造工程で製造されたマザーガラス基板に対し、顕微鏡等を用いた欠陥の検査が行われている。
このような検査を行う基板検査装置において、ベース部に固定された固定式の２つのガントリーのうち一方にラインセンサを有するパターン検査部を配置し、他方にミクロ検査用欠陥検出部を配置してなる基板検査装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。

上記特許文献１記載の基板検査装置は、ガラス基板を２つのガントリーの下方を通過させることで、ラインセンサを用いた全域検査と、ミクロ検査用欠陥検出部を用いたポイント検査とを行う構成となっている。

また、可動式の２つのガントリーの一方に配線部の修正を行うリペア加工ヘッドを配置し、他方に配線に電圧を印加することで配線の状態を確認するプローブセンサヘッドを配置したリペア装置が提案されている（例えば、特許文献２参照）。
特開２０００−９６６１号公報 特開２００７−２０６６４１号公報

ところで、近年、検査対象である基板は１辺２ｍ以上と大型化しており、上記特許文献１記載の基板検査装置は、固定式の２つのガントリー間に基板１枚分程度のスペースを確保しなければならない上に、２つのガントリーの外側にそれぞれ基板１枚分のスペースが必要になるため、装置が大型化するという問題がある。

また、上記特許文献１記載の基板検査装置は、ラインセンサによるパターン検査後に、ミクロ検査用欠陥検出部によるポイント検査を行うため、基板検査のタクトタイムが長くなってしまうという問題もある。

一方、上記特許文献２記載のリペア装置を用いて欠陥を特定する場合には、プローブによる配線検査及び観察カメラによる検査を、１辺２ｍ以上の基板全域で行わなければならず、基板全域の欠陥位置を把握するまでのタクトタイムが長くなってしまい、その後に修正作業を行うことになるため、総合処理時間が非常に長くなるという問題がある。

本発明の課題は、上記従来の実情に鑑み、基板検査のタクトタイムを短縮することができると共に基板検査装置の小型化を図ることができる基板検査装置を提供することである。

上記課題を解決するために、本発明の基板検査装置は、基板の２次元画像を撮像するラインセンサを有する可動式の第１のガントリーと、上記基板の拡大観察を行うための拡大観察部を有し上記第１のガントリーに追従して移動する可動式の第２のガントリーと、を備える構成とする。

本発明では、ラインセンサによる検査を行う可動式の第１のガントリーに追従して、拡大観察部による拡大観察を行う第２のガントリーが移動する。そのため、基板の移動スペースを確保するために基板検査装置が大型化するのを抑えることができる。更には、第１のガントリーのラインセンサによる検査を行いながら第２のガントリーの拡大観察部による拡大観察を行うことができるため、基板検査に要するタクトタイムが短縮する。

よって、本発明によれば、基板検査のタクトタイムを短縮することができると共に基板検査装置の小型化を図ることができる。

以下、本発明の実施の形態に係る基板検査装置について、図面を参照しながら説明する。
＜第１実施形態＞
図１Ａ及び図１Ｂは、本発明の第１実施形態に係る基板検査装置１を互いに異なる角度で示す斜視図である。

図１Ａ及び図１Ｂに示す基板検査装置１は、可動式の第１のガントリー２、可動式の第２のガントリー３、ステージ部４、ステージベース部（ベース部）５、除振台６、架台部７等を備え、ガラス基板（基板）１０の検査を行う。

第１のガントリー２及び第２のガントリー３は、ステージ部４を跨ぐような門型形状を呈する。また、第１のガントリー２及び第２のガントリー３のそれぞれ２つの脚部２ａ，２ｂ，３ａ，３ｂは、ステージベース部５の端部においてＸ軸方向に延びる２つのガイド５ａ，５ｂに沿うように設けられている。これにより、第１のガントリー２及び第２のガントリー３は、Ｘ軸方向に移動可能となっている。

なお、ガイド５ａ，５ｂは、例えばリニアガイドであり、その場合には、第１のガントリー２及び第２のガントリー３は、図示しないリニアモータの駆動により、ガイド５ａ，５ｂに沿ってＸ軸方向に移動する。

ステージベース部５は、外部からの振動を吸収する除振台６を介して架台部７上に配置されている。ステージベース部５上にはステージ部４が設置されており、ガラス基板１０はステージ部４上に載置される。

第１のガントリー２には、例えば、光源部と、この光源部から照射される光が入射する撮像部とを複数配列してなるラインセンサ８が配置される。なお、光源部を撮像部の光軸に対して傾ける機構を設けることで、正反射光を用いた検査など、目的の態様に合った検査を行うことができる。

ラインセンサ８は、例えばリニアモータの駆動により、図１Ｂに示す第１のガントリー２のガイド２ｃに沿ってＹ軸方向に移動可能となっている。これにより、ラインセンサ８は、第１のガントリー２がステージベース部５のガイド５ａ，５ｂに沿って移動することによるＸ軸方向の移動と、ラインセンサ８自体が第１のガントリー２のガイド２ｃに沿って移動するＹ軸方向の移動とが可能となっている。

詳しくは後述するが、ラインセンサ８の撮像部は、一定間隔毎に配置されており、ガラス基板１０上を１往復することでガラス基板１０の全域の２次元画像を撮像することが可能となっている。

第２のガントリー３には、ガラス基板１０の拡大観察を行うための顕微鏡（拡大観察部）９が配置されている。この顕微鏡９は、例えばリニアモータの駆動により、図１Ａに示す第２のガントリー３のガイド３ｃに沿ってＹ軸方向に移動可能となっている。これにより、顕微鏡９は、ラインセンサ８と同様に、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に移動可能となっている。

詳しくは後述するが、ラインセンサ８により撮像された２次元画像は、図示しない画像処理手段等によって処理され、欠陥座標が特定される。そして、この欠陥座標を基に顕微鏡９は欠陥位置に移動する。

なお、図１Ａ及び図１Ｂに示す状態では、第１のガントリー２及び第２のガントリー３は、ガラス基板１０を挟んで対向するようにガラス基板１０上から退避した領域に位置している。このように一方のガントリーをステージベース部５上の退避領域に移動させておけば、他方のガントリーによりガラス基板１０の全面の検査を行うことが可能となる。

以下、基板検査装置１の動作について、図１Ａ及び図１Ｂに加え、図２Ａ〜図２Ｃを参照しながら説明する。
図２Ａ〜図２Ｃは、本発明の第１実施形態に係る基板検査装置１の動作を説明するための概略平面図である。

まず、ガラス基板１０は、図示しないロボットアームにより図１Ａ及び図１Ｂに示すステージ部４上に載置され、図示しない保持機構によりステージ部４上で保持される。このとき、第１のガントリー２と第２のガントリー３とは、ガラス基板１０を挟んで互いに対向するように上述の退避領域に位置している。

次に、第１のガントリー２が第２のガントリー３に向かってＸ軸方向に移動することで、図２Ａに示す状態から図２Ｂに示す状態のように、ラインセンサ８がＸ軸方向（図２Ｂにおける左側）に移動する。これにより、ラインセンサ８は、ガラス基板１０のうち半分の領域（図２Ｂにおける斜線部分）の２次元画像を撮像する。この２次元画像は図示しない画像処理手段等に処理され、欠陥Ｄ１〜Ｄ３の欠陥座標が特定される。

そして、ラインセンサ８は、ガラス基板１０のうち残る半分の領域を検査するべくガイド２ｃに沿ってＹ軸方向（図２Ｂにおける下側）に微小に移動し、第１のガントリー２が反対方向に移動することで図２Ｃに示すようにＸ軸方向（図２Ｃにおける右側）に移動して撮像開示時の位置に戻る。

これにより、ガラス基板１０のうち残る半分の領域（図２Ｃにおける斜線部分）の２次元画像が撮像され、同様に、欠陥Ｄ４，Ｄ５が特定される。
ラインセンサ８が撮像開始時の位置に戻り始めたのとほぼ同時又はそれ以降で、且つ、欠陥Ｄ１〜Ｄ３が特定された後、第２のガントリー３が第１のガントリー２に追従するようにＸ軸方向に移動することで、顕微鏡９がＸ軸方向に移動を開始する。そして、顕微鏡９は、Ｙ軸方向にも適宜移動し、最初に特定された欠陥Ｄ１〜Ｄ３の拡大観察を開始する。

ガラス基板１０のうち残る半分の領域から欠陥Ｄ４，Ｄ５が特定された後には、欠陥Ｄ４，Ｄ５の拡大観察を開始する。なお、欠陥Ｄ４，Ｄ５が特定された際に欠陥Ｄ１〜Ｄ３のうち拡大観察してないものがあれば、その欠陥も含めて顕微鏡９が最短ルートで移動できるように拡大観察の順序を決定するとよい。

顕微鏡９による欠陥Ｄ１〜Ｄ５の拡大観察が終了した後には、第２のガントリー３が退避領域に退避する。そして、ガラス基板１０のステージ部４に対する保持が解除され、図示しないロボットアームによりガラス基板１０が搬出される。そして、新たなガラス基板１０が、ロボットアームによりステージ部４上に載置され、図示しない保持機構によりステージ部４上で保持される。

以上のような動作を繰り返すことで、ガラス基板１０が順次検査されていく。
なお、本実施形態では、拡大観察部として顕微鏡９を採用する例について説明したが、顕微鏡９に代えて又は顕微鏡９と共に、第２のガントリー３にレーザリペア部を配置するようにしてもよい。その場合には、レーザリペア部は、ラインセンサ８により特定される欠陥位置に対し、顕微鏡９又はその他の拡大観察部により欠陥を拡大観察した状態で、レーザ光を照射し欠陥を修復する。

また、本実施形態では、ラインセンサ８がガラス基板１０上を１往復することでガラス基板１０の２次元画像を撮像する例について説明したが、ラインセンサ８の片道分の移動でガラス基板１０の全域の２次元画像を撮像するようにしてもよい。その場合には、第１のガントリー２及び第２のガントリー３がガラス基板１０の一方側に位置する状態から、第１のガントリー２のラインセンサ８による全域検査を行い、第１のガントリー２に追従して第２のガントリー３が顕微鏡９による拡大観察を行い、その後、第２のガントリー３、第１のガントリー２の順に元の位置に退避するようにすることも可能となる。

また、本実施形態では、第１のガントリー２及び第２のガントリー３が互いに同一のガイド５ａ，５ｂに沿って移動する例について説明したが、第１のガントリー２及び第２のガントリー３が互いに異なるガイドに沿って移動し、一方のガントリーが他方のガントリーを跨ぐようにしてもよい。その場合には、他方のガントリーを跨ぐガントリーに配置された顕微鏡（拡大観察部）或いはラインセンサを上下動させる機構を設け、ガラス基板１０と接近可能にするとよい。

以上説明した本実施形態では、ラインセンサ８による検査を行う可動式の第１のガントリー２に追従して、顕微鏡９による拡大観察を行う第２のガントリー３が移動する。
具体的には、ラインセンサ８は、第１のガントリー２がガラス基板１０を挟んで第２のガントリー３と対向する位置から第２のガントリー３に向かって移動しその後反対方向に移動する間に、ガラス基板１０の２次元画像を撮像する。そして、第２のガントリー３は、上記反対方向に移動する際の第１のガントリー２に追従して移動する。

そのため、ガラス基板１０の移動スペースを確保するために基板検査装置が大型化するのを抑えることができる。更には、第１のガントリー２のラインセンサ８による検査を行いながら第２のガントリー３の顕微鏡９による拡大観察を行うことができるため、基板検査に要するタクトタイムが短縮する。

よって、本実施形態によれば、基板検査のタクトタイムを短縮することができると共に基板検査装置１の小型化を図ることができる。
また、本実施形態では、第１のガントリー２及び第２のガントリー３が互いに同一のガイド５ａ，５ｂに沿って移動するため、より一層小型化を図ることができると共に、同一座標系で検査を行うことができる。

また、第２のガントリー３が、拡大観察部（顕微鏡９）と、ガラス基板１０にレーザ光を照射するレーザリペア部とを有する場合には、第２のガントリー３が第１のガントリー２に追従して移動することで、欠陥修復のタクトタイムを短縮することができる。

＜第２実施形態＞
本実施形態の基板検査装置１１は、第３のガントリー１２を更に備える点において上記第１実施形態と相違し、その他の点については概ね同様であるため、同一又は同様の部材には同一の符号を付して詳細な説明を省略する。

図３は、本発明の第２実施形態に係る基板検査装置１１を示す斜視図である。
同図に示す基板検査装置１１は、可動式の第１のガントリー２、可動式の第２のガントリー３、ステージ部４、ステージベース部（ベース部）５、除振台６、架台部７等に加え、可動式の第３のガントリー１２を備える。

第３のガントリー１２も、第１のガントリー２及び第２のガントリー３と同様に、ステージ部４を跨ぐような門型形状を呈し、２つの脚部１２ａ，１２ｂが第１のガントリー２及び第２のガントリー３と共通のガイド５ａ，５ｂに沿うことで移動可能となっている。

第３のガントリー１２には、第２のガントリー３と同様に、ガラス基板１０の拡大観察を行うための顕微鏡（拡大観察部）１３が配置されている。この顕微鏡１３は、第３のガントリー１２のガイド１２ｃに沿ってＹ軸方向に移動可能となっている。これにより、第３のガントリー１２の顕微鏡１３は、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に移動可能となっている。

図３に示す状態では、第１のガントリー２及び第２のガントリー３は、ガラス基板１０を挟んで対向するようにガラス基板１０上から退避した領域に位置し、第３のガントリー１２は、第１のガントリー２の更に後方（図３における右側）の退避領域に位置している。

なお、本実施形態の基板検査装置１１のステージベース部５上には、ガラス基板１０を挟んだ両側に、それぞれ２つのガントリーが退避可能な大きさの退避領域が確保されている。そのため、第２のガントリー３及び第３のガントリー１２に挟まれるように位置する第１のガントリー２は、いずれの退避領域にも退避可能となっている。これにより、第１のガントリー２に配置されたラインセンサ８、並びに、第２のガントリー３及び第３のガントリー１２に配置された顕微鏡９，１３は、ガラス基板１０の全域の検査・観察を行うことが可能となっている。

以下、基板検査装置１１の動作について、図３に加え、図４Ａ〜図４Ｃを参照しながら説明する。
図４Ａ〜図４Ｃは、本発明の第２実施形態に係る基板検査装置１１の動作を説明するための概略平面図である。

まず、ガラス基板１０は、図示しないロボットアームにより図３に示すステージ部４上に載置され、図示しない保持機構によりステージ部４上で保持される。このとき、第１のガントリー２及び第３のガントリー１２と、第２のガントリー３とは、ガラス基板１０を挟んで互いに対向するように上述の退避領域に位置している。

次に、第１のガントリー２が第２のガントリー３に向かってＸ軸方向に移動することで、図４Ａに示す状態から図４Ｂに示す状態のように、ラインセンサ８がＸ軸方向（図４Ｂにおける左側）に移動する。これにより、ラインセンサ８は、ガラス基板１０のうち半分の領域（図４Ｂにおける斜線部分）の２次元画像を撮像する。この２次元画像は図示しない画像処理手段等に処理され、欠陥Ｄ１１〜Ｄ１３が特定される。

欠陥Ｄ１１〜Ｄ１３が特定されると、第３のガントリー１２が、第１のガントリー２に追従して、又は、第１のガントリー２が第２のガントリー側３に移動した後に、Ｘ軸方向に移動する。これにより、顕微鏡１３は、Ｘ軸方向（図４Ｂにおける左側）に移動を開始し、更にＹ軸方向にも適宜移動し、欠陥Ｄ１１〜Ｄ１３の拡大観察を開始する。

ガラス基板１０のうち最初の半分の領域の欠陥Ｄ１１〜Ｄ１３の拡大観察を行った後、ラインセンサ８は、ガラス基板１０のうち残る半分の領域を検査するべくガイド２ｃに沿ってＹ軸方向（図４Ｂにおける下側）に微小に移動し、図４Ｃに示すように、第１のガントリー２が反対方向に移動することで、Ｘ軸方向（図４Ｃにおける右側）に移動して撮像開示時の位置に戻る。これにより、ガラス基板１０のうち残る半分の領域（図４Ｃにおける斜線部分）の２次元画像が撮像され、同様に、欠陥Ｄ１４，Ｄ１５が特定される。

ラインセンサ８が撮像開始時の位置に戻り始めたのと同時又はそれ以降で、且つ、欠陥Ｄ１４，Ｄ１５が特定された後、第２のガントリー３が第１のガントリー２に追従するようにＸ軸方向に移動することで、第２のガントリー３の顕微鏡９がＸ軸方向に移動を開始する。そして、顕微鏡９は、Ｙ軸方向にも適宜移動し、欠陥Ｄ１４，D１５の拡大観察を開始する。

第２のガントリー３の顕微鏡９による欠陥Ｄ１１〜Ｄ１５の拡大観察が終了した後には、ガラス基板１０のステージ部４に対する保持が解除され、図示しないロボットアームによりガラス基板１０が搬出される。そして、新たなガラス基板１０が、ロボットアームによりステージ部４上に載置され、図示しない保持機構によりステージ部４上で保持される。

以上のような動作を繰り返すことで、ガラス基板１０が順次検査されていく。
なお、第３のガントリー１２に、上記第１実施形態において上述したレーザリペア部を配置するようにしてもよい。

また、本実施形態では、３つのガントリーを配置する例について説明したが、第２のガントリー３と第３のガントリ−１２との間にラインセンサを有するガントリーを更に配置するなど、４以上のガントリーを配置してもよい。

以上説明した本実施形態では、第１のガントリー２のラインセンサ８は、第１のガントリー２がガラス基板１０を挟んで第２のガントリー３と対向する位置から第２のガントリー３に向かって移動しその後反対方向に移動する間に、ガラス基板１０の２次元画像を撮像する。また、第３のガントリー１２は、第２のガントリー３に向かって移動する際の第１のガントリー２に追従して移動する。更には、第２のガントリー２は、上記反対方向へ移動する際の第１のガントリー２に追従して移動する。

そのため、ガラス基板１０の移動スペースを確保するために基板検査装置が大型化するのを抑えることができる。更には、第１のガントリー２のラインセンサ８による検査を行いながら第２のガントリー３及び第３のガントリー１２の顕微鏡９，１３による拡大観察を行うことができる。したがって、基板検査に要するタクトタイムが短縮する。

よって、本実施形態によれば、基板検査のタクトタイムを短縮することができると共に基板検査装置１１の小型化を図ることができる。
なお、図５Ａ及び図５Ｂに示すように、ラインセンサ８´の撮像部（及び光源部）を互いに密接するように配置し、ラインセンサ８´の１回の移動により、ガラス基板１０のうちＹ軸方向の中央Ｌを境にした半分ずつを撮像するようにしてもよい。

また、図５Ａに示すように、第１のガントリー２（ラインセンサ８´）が移動を開始した後、ほぼ同時に第３のガントリー１２（顕微鏡１３）が移動を開始するようにし、図５Ｂに示すように、第１のガントリー２（ラインセンサ８´）が反対方向に移動する際にも、ほぼ同時に第２のガントリー３（顕微鏡９）が移動を開始するようにすることで、より一層、基板検査のタクトタイムを短縮することができる。

＜第３実施形態＞
本実施形態の基板検査装置２１は、第２のガントリー３に顕微鏡９を２つ配置した点において上記第１実施形態と相違し、その他の点については概ね同様であるため、同一又は同様の部材には同一の符号を付して詳細な説明を省略する。

図６は、本発明の第３実施形態に係る基板検査装置２１を示す斜視図である。
同図に示す基板検査装置２１では、第２のガントリー３には、ガラス基板１０の拡大観察を行うための顕微鏡（拡大観察部）９が２つ配置されている。これら顕微鏡９，９は、第２のガントリー３のガイド３ｃに沿ってＹ軸方向に互いに独立して移動可能となっている。

このように顕微鏡９，９をＹ軸方向に互いに独立して移動可能としたことで、欠陥位置まで顕微鏡９，９が移動する際に、Ｙ軸方向への移動距離を減らすことができ、したがって、基板検査のタクトタイムをより一層短縮することができる。

また、２つの顕微鏡９，９を配置したことで、欠陥がＹ軸方向に並んで位置する場合には、２つの顕微鏡９，９が同時に別個の欠陥の拡大観察を行うことができる。
なお、２つの顕微鏡９，９を、第２のガントリー３の移動によらず、第２のガントリー３に配置された状態のままＸ軸方向に移動させる機構を設けることで、Ｘ軸方向に微小にずれている２つの欠陥を同時に拡大観察することができる。

また、顕微鏡９を３つ以上配置することで、基板検査のタクトタイムをより一層短縮することができる。
また、上記第２実施形態の第３のガントリー１２にも複数の顕微鏡を配置するようにすることで、基板検査のタクトタイムをより一層短縮することができる。

本発明の第１実施形態に係る基板検査装置を示す斜視図（その１）である。 本発明の第１実施形態に係る基板検査装置を示す斜視図（その２）である。 本発明の第１実施形態に係る基板検査装置の動作を説明するための概略平面図（その１）である。 本発明の第１実施形態に係る基板検査装置の動作を説明するための概略平面図（その２）である。 本発明の第１実施形態に係る基板検査装置の動作を説明するための概略平面図（その３）である。 本発明の第２実施形態に係る基板検査装置を示す斜視図である。 本発明の第２実施形態に係る基板検査装置の動作を説明するための概略平面図（その１）である。 本発明の第２実施形態に係る基板検査装置の動作を説明するための概略平面図（その２）である。 本発明の第２実施形態に係る基板検査装置の動作を説明するための概略平面図（その３）である。 本発明の第２実施形態の変形例に係る基板検査装置の動作を説明するための概略平面図（その１）である。 本発明の第２実施形態の変形例に係る基板検査装置の動作を説明するための概略平面図（その２）である。 本発明の第３実施形態に係る基板検査装置を示す斜視図である。

符号の説明

１ 基板検査装置
２ 第１のガントリー
２ａ，２ｂ 脚部
２ｃ ガイド
３ 第２のガントリー
３ａ，３ｂ 脚部
３ｃ ガイド
４ ステージ部
５ ステージベース部
５ａ，５ｂ ガイド
６ 除振台
７ 架台部
８ ラインセンサ
９ 顕微鏡
１０ ガラス基板
１１ 基板検査装置
１２ 第３のガントリー
１２ａ，２ｂ 脚部
１２ｃ ガイド
１３ 顕微鏡
２１ 基板検査装置
Ｄ１〜Ｄ５，Ｄ１１〜Ｄ１５ 欠陥

Claims (5)

1. 基板の２次元画像を撮像するラインセンサを有する可動式の第１のガントリーと、
   前記基板の拡大観察を行うための拡大観察部を有し前記第１のガントリーに追従して移動する可動式の第２のガントリーと、
   を備えることを特徴とする基板検査装置。
2. 前記第１のガントリーのラインセンサは、前記第１のガントリーが前記第２のガントリーに向かって移動しその後反対方向に移動する間に、前記基板の２次元画像を撮像し、
   前記第２のガントリーは、前記反対方向に移動する際の第１のガントリーに追従して移動する、
   ことを特徴とする請求項１記載の基板検査装置。
3. 前記第２のガントリーは、前記基板にレーザ光を照射するレーザリペア部を更に有することを特徴とする請求項１又は請求項２記載の基板検査装置。
4. 前記基板の拡大観察を行うための拡大観察部を有し前記第１のガントリーを前記第２のガントリーとで挟むように位置する可動式の第３のガントリーを更に備えることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項記載の基板検査装置。
5. 前記第１のガントリーのラインセンサは、前記第１のガントリーが前記第２のガントリーに向かって移動しその後反対方向に移動する間に、前記基板の２次元画像を撮像し、
   前記第３のガントリーは、前記第２のガントリーに向かって移動する際の前記第１のガントリーに追従して移動し、
   前記第２のガントリーは、前記反対方向に移動する際の第１のガントリーに追従して移動する、
   ことを特徴とする請求項４記載の基板検査装置。