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JP2010060981A - Optical film, method for manufacturing optical film, polarization plate using the same, and liquid crystal display device - Google Patents

Optical film, method for manufacturing optical film, polarization plate using the same, and liquid crystal display device Download PDF

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JP2010060981A
JP2010060981A JP2008228075A JP2008228075A JP2010060981A JP 2010060981 A JP2010060981 A JP 2010060981A JP 2008228075 A JP2008228075 A JP 2008228075A JP 2008228075 A JP2008228075 A JP 2008228075A JP 2010060981 A JP2010060981 A JP 2010060981A
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JP
Japan
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group
film
carbon atoms
optical film
cellulose ester
Prior art date
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Pending
Application number
JP2008228075A
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Japanese (ja)
Inventor
Takashi Suzuki
隆嗣 鈴木
Takayuki Suzuki
隆行 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Opto Inc
Original Assignee
Konica Minolta Opto Inc
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical film which has satisfactory haze, is stored for a long time with less dispersion of a retardation value, and does not cause deformation of a film roll such as horseback failure, core transfer failure, or wrinkle at a winding start, and also to provide a method for manufacturing the optical film, a polarization plate using the same, and a liquid crystal display device using the polarization plate. <P>SOLUTION: The optical film contains at least: one selected from compounds represented by the following (1) to (5); o-hydroxystyrene or a derivative thereof; and a cellulose ester. The method for manufacturing the optical film, the polarization plate using the same and the liquid crystal display device are also provided. (1) a specific triazine compound; (2) R<SB>21</SB>-L<SB>1</SB>-R<SB>22</SB>; (3) a specific aromatic ester; (4) R<SB>41</SB>-L<SB>41</SB>-(R<SB>42</SB>-L<SB>42</SB>)n-R<SB>43</SB>; and (5) AR<SB>1</SB>-L<SB>51</SB>-X-L<SB>52</SB>-AR<SB>2</SB>. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、光学フィルム、光学フィルムの製造方法、それを用いた偏光板、及び液晶表示装置に関する。   The present invention relates to an optical film, a method for producing the optical film, a polarizing plate using the same, and a liquid crystal display device.

近年、CRTディスプレイに代わる薄型ディスプレイとして、液晶表示装置(液晶ディスプレイ)、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイの台頭が目覚しい。これらの新世代のディスプレイには多くの光学フィルムが搭載されているが、薄型がゆえにそれら光学フィルムが持つ各種機能に対する性能向上の要求が年々厳しいものになってきている。従って、より性能向上が達せられた光学フィルムの登場が待ち望まれている。   In recent years, the rise of liquid crystal display devices (liquid crystal displays), plasma displays, and organic EL displays has been remarkable as thin displays replacing CRT displays. These new generation displays are equipped with many optical films, but due to their thinness, demands for improving the performance of various functions of these optical films are becoming stricter year by year. Therefore, the appearance of an optical film with improved performance is awaited.

一方、ノートパソコンの薄型軽量化、大型画面化、高精細化の開発が進んでいる。それに伴って、液晶表示装置用の光学フィルムもますます薄膜化、広幅化、高品質化の要求が強くなってきている。液晶表示装置用の光学フィルムとして種々の樹脂が用いられているが、光学フィルムとしての偏光板保護フィルムには、現在、セルロースエステル、ポリカーボネート、ポリオレフィンが用いられている。その中でも、セルロースエステルを用いたセルロースエステルフィルムが圧倒的に多く使用されている。   On the other hand, the development of thinner and lighter notebook computers, larger screens, and higher definition is progressing. Along with this, there has been an increasing demand for thinner, wider and higher quality optical films for liquid crystal display devices. Various resins are used as optical films for liquid crystal display devices. Currently, cellulose ester, polycarbonate, and polyolefin are used for polarizing plate protective films as optical films. Among them, cellulose ester films using cellulose esters are overwhelmingly used.

これらのセルロースエステルフィルムは、これまで、専ら溶液流延法によって製造されてきた。溶液流延法とは、セルロースエステルを溶媒に溶解した溶液を流延してフィルム形状を得た後、溶媒を蒸発・乾燥させてフィルムを得るといった製膜方法である。溶液流延法で製膜したフィルムは平面性が高いため、これを用いてムラのない高画質な液晶ディスプレイを得ることができる。   Until now, these cellulose ester films have been produced exclusively by the solution casting method. The solution casting method is a film forming method in which a solution obtained by dissolving cellulose ester in a solvent is cast to obtain a film shape, and then the solvent is evaporated and dried to obtain a film. Since a film formed by the solution casting method has high flatness, a high-quality liquid crystal display without unevenness can be obtained using this film.

しかし、溶液流延法は多量の有機溶媒を必要とし、環境負荷が大きいことも課題となっていた。セルロースエステルフィルムは、その溶解特性から、環境負荷の大きいハロゲン系溶媒を用いて製膜されているため、特に溶剤使用量の削減が求められており、溶液流延製膜によってセルロースエステルフィルムを増産することは困難となってきている。   However, the solution casting method requires a large amount of an organic solvent and has a problem of a large environmental load. Cellulose ester film is formed using a halogen-based solvent with high environmental impact due to its dissolution characteristics, so it is particularly required to reduce the amount of solvent used, and the production of cellulose ester film is increased by solution casting film formation. It has become difficult to do.

また、フィルム内部に残存する溶媒を除去しなければならないため、乾燥ライン、乾燥エネルギー、及び蒸発した溶媒の回収及び再生装置等、製造ラインへの設備投資及び製造コストが膨大になっており、これらを削減することも重要な課題となっている。   In addition, since the solvent remaining inside the film must be removed, the capital investment and production cost for the production line such as the drying line, the drying energy, and the recovery and regeneration device for the evaporated solvent are enormous. Reducing energy is also an important issue.

近年、偏光子を保護するための偏光板保護フィルム用として、セルロースエステルを溶融流延製膜する試みが行われているが、セルロースエステルは溶融時の粘度が非常に高い高分子であり、かつ、ガラス転移温度も高いため、セルロースエステルを溶融してダイスから押し出し、冷却ドラムまたは冷却ベルト上にキャスティングしてもレベリングがし難い、光学特性、機械特性が溶液流延フィルムよりも低いといった課題を有している(例えば、特許文献1参照)。   In recent years, attempts have been made to melt-cast cellulose ester as a polarizing plate protective film for protecting a polarizer, but cellulose ester is a polymer having a very high viscosity when melted, and Because the glass transition temperature is high, the cellulose ester is melted and extruded from the die, and it is difficult to level even when cast on a cooling drum or a cooling belt, and the optical properties and mechanical properties are lower than the solution cast film. (For example, refer to Patent Document 1).

ところで、セルロースエステルフィルムは通常長尺で巻芯に巻かれて、ロール状のフィルム原反となり、保存、輸送されている。   By the way, a cellulose ester film is usually long and wound around a core to form a roll-shaped film original, which is stored and transported.

このため、溶融流延製膜されたフィルムを巻芯に巻いたフィルム原反の状態で長期間保存すると、馬の背故障、フィルム原反の巻芯部分に巻芯転写と呼ばれる故障及びフィルムを巻き替える時に、その先頭部分にシワが発生する巻始めシワという故障が発生し易いという問題が判明した。また、これらの故障に伴い、光学特性が大きく劣化することが分かった。   For this reason, if the film formed by melt casting is stored for a long time in the state of the film roll wound on the core, the horse's spine failure, the failure called the core transfer on the core portion of the film roll, and the film are rewound. It has been found that there is a problem that a failure such as a wrinkle start wrinkle that is wrinkled at the beginning is likely to occur. Moreover, it has been found that the optical characteristics are greatly deteriorated due to these failures.

馬の背故障とは、馬の背中のようにフィルム原反がU字型に変形し、中央部付近に2〜3cm程度のピッチで帯状の凸部ができる故障で、フィルムに変形が残ってしまうため、偏光板に加工すると表面が歪んで見えてしまう故障である。従来馬の背故障は、ベース同士の動摩擦係数を低くしたり、両サイドにあるナーリング加工(エンボス加工)の高さを調節することによって発生を低減させてきた。   The horse's back failure is a failure in which the original film is deformed into a U shape like the horse's back, and a belt-like convex part is formed at a pitch of about 2 to 3 cm near the center, and the film remains deformed. This is a failure that causes the surface to appear distorted when processed into a polarizing plate. Conventional horseback failure has been reduced by lowering the coefficient of dynamic friction between the bases or adjusting the height of the knurling (embossing) on both sides.

また、巻芯転写は、巻芯やフィルムの凹凸よるフィルム変形による故障である。   Further, the core transfer is a failure due to film deformation caused by the irregularities of the core or film.

巻始めシワは、フィルムを別の巻芯に巻き替える時にその先頭部分にシワが発生する故障である。   The winding start wrinkle is a failure in which a wrinkle is generated at the leading portion when the film is rewinded to another core.

溶融流延製膜で作製したフィルムではこれらの故障が起こりやすいため、光学特性のバラツキを助長し、リターデーション値の大きい光学フィルムを用いることによって視野角を拡大する液晶表示装置、例えば、VA(Vertical Alignment)モード液晶を用いた表示装置では、特に大きな問題となることが分かった。   Since these failures are likely to occur in films produced by melt casting, a liquid crystal display device that promotes variations in optical characteristics and expands the viewing angle by using an optical film having a large retardation value, for example, VA ( It has been found that a display device using a vertical alignment mode liquid crystal becomes a particularly serious problem.

特に、近年、大型画面化に伴って、フィルム原反の幅は広く、巻長は長くすることが要望されている。そのため、フィルム原反は幅広となり、フィルム原反荷重は増加する傾向にあり、これらの故障がより発生しやすい状況のため、改良が望まれている。
特開2007−119737号公報
In particular, in recent years, with the increase in size of the screen, it is desired that the width of the original film is wide and the winding length is long. For this reason, the original film becomes wide and the original film load tends to increase, and these faults are more likely to occur, and therefore improvement is desired.
JP 2007-119737 A

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、本発明の目的は、ヘイズが良好で、長期間保存してもリターデーション値のばらつきが小さく、馬の背故障、巻芯転写故障、巻始めシワ故障等のフィルム原反の変形故障が発生しない光学フィルム、光学フィルムの製造方法、それを用いた偏光板、及び該偏光板を用いた液晶表示装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems. The object of the present invention is that haze is good, retardation value variation is small even after long-term storage, horse back failure, core transfer failure, winding start wrinkle An object of the present invention is to provide an optical film that does not cause deformation failure of the original film such as failure, a method for producing the optical film, a polarizing plate using the optical film, and a liquid crystal display device using the polarizing plate.

本発明の上記課題は以下の構成により達成される。   The above object of the present invention is achieved by the following configurations.

1.下記一般式(1)〜(5)で表される化合物から選ばれる少なくとも1種と、下記一般式(6)で表される化合物の少なくとも1種と、セルロースエステルとを含有することを特徴とする光学フィルム。   1. It contains at least one selected from compounds represented by the following general formulas (1) to (5), at least one compound represented by the following general formula (6), and a cellulose ester. Optical film.

Figure 2010060981
Figure 2010060981

(式中、R、R及びRはそれぞれ独立して、芳香族環またはヘテロ環を表し、Xは単結合、−NR−、−O−または−S−を表し、Xは単結合、−NR−、−O−または−S−を表し、Xは単結合、−NR−、−O−または−S−を表す。R、R及びRはそれぞれ独立して、水素原子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。)
一般式(2):R21−L−R22
(式中、R21及びR22は、それぞれ独立に芳香族基を表し、Lは、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、−O−、−CO−、またはこれらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基を表す。)
(Wherein R 1 , R 2 and R 3 each independently represents an aromatic ring or a heterocyclic ring, X 1 represents a single bond, —NR 4 —, —O— or —S—, and X 2 Represents a single bond, —NR 5 —, —O— or —S—, X 3 represents a single bond, —NR 6 —, —O— or —S—, wherein R 4 , R 5 and R 6 are each Independently represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group, aryl group or heterocyclic group.
Formula (2): R 21 -L 1 -R 22
(In the formula, R 21 and R 22 each independently represent an aromatic group, and L 1 is selected from the group consisting of an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, —O—, —CO—, or a combination thereof. Represents a divalent linking group.

Figure 2010060981
Figure 2010060981

(式中、R31〜R37、R39及びR30はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基及びハロゲン原子から選ばれる基を表し、R31〜R35のうち少なくとも1つは電子供与性基を表す。R38は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数2〜6のアルケニル基、炭素数2〜6のアルキニル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリールオキシ基、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基、炭素数2〜12のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。)
一般式(4):R41−L41−(R42−L42)n−R43
(式中、R41、R43は、それぞれ独立にアリール基、アリールカルボニル基または芳香族ヘテロ環を表し、R42はアリーレン基または芳香族ヘテロ環を表し、L41、L42はそれぞれ独立に単結合または2価の連結基を表す。nは3以上の整数を表し、それぞれR42、Lは同一であってもよいし異なっていてもよい。)
一般式(5):AR−L51−X−L52−AR
(式中、AR、ARはそれぞれ独立にアリール基または芳香族ヘテロ環を表す。L51、L52は、それぞれ独立に−C(=O)O−、または−C(=O)NR50−を表す。R50は水素原子またアルキル基を表す。Xは下記一般式(5−A)または一般式(5−B)を表す。)
(In the formula, R 31 to R 37 , R 39 and R 30 each independently represent a group selected from a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an amino group, a hydroxyl group and a halogen atom, and at least of R 31 to R 35 ) One represents an electron-donating group, and R 38 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 6 carbon atoms, or an aryl having 6 to 12 carbon atoms. A group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms, an acylamino group having 2 to 12 carbon atoms, a cyano group, or a halogen atom.
Formula (4): R 41 -L 41 - (R 42 -L 42) n-R 43
(Wherein R 41 and R 43 each independently represents an aryl group, an arylcarbonyl group or an aromatic heterocycle, R 42 represents an arylene group or an aromatic heterocycle, and L 41 and L 42 each independently represent Represents a single bond or a divalent linking group, n represents an integer of 3 or more, and R 42 and L 2 may be the same or different, respectively.
Formula (5): AR 1 -L 51 -X-L 52 -AR 2
(In the formula, AR 1 and AR 2 each independently represent an aryl group or an aromatic heterocycle. L 51 and L 52 each independently represent —C (═O) O— or —C (═O) NR. 50 represents-R 50 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and X represents the following general formula (5-A) or general formula (5-B).

Figure 2010060981
Figure 2010060981

(式中、R51、R52、R53、R54、R55、R56、R57及びR58はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アミノ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基及びハロゲン原子から選ばれる基を表す。) Wherein R 51 , R 52 , R 53 , R 54 , R 55 , R 56 , R 57 and R 58 are each independently selected from a hydrogen atom, an alkyl group, an amino group, an alkoxy group, a hydroxy group and a halogen atom. Represents a group.

Figure 2010060981
Figure 2010060981

(式中、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17及びR18はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アミノ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基及びハロゲン原子から選ばれる基を表す。) (Wherein R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 and R 18 are each independently selected from a hydrogen atom, an alkyl group, an amino group, an alkoxy group, a hydroxy group and a halogen atom) Represents a group.

Figure 2010060981
Figure 2010060981

(式中、R101及びR102は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アシルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルケニル基、ハロゲン原子、アルキニル基、複素環基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、ホスホノ基、アシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホンアミド基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、シロキシ基、アシルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、アミノ基(例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基等)、アニリノ基、イミド基、ウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環チオ基、チオウレイド基、ヒドロキシル基及びメルカプト基から選ばれる基を表し、R103は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アシルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルケニル基、ハロゲン原子、アルキニル基、複素環基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、ホスホノ基、アシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホンアミド基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、シロキシ基、アシルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、アミノ基(例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基等)、アニリノ基、イミド基、ウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環チオ基、チオウレイド基、ヒドロキシル基及びメルカプト基から選ばれる基を表し、mは0〜4の整数を表す。mが2以上の整数を表す時、複数のR103は同一でも異なっていてもよく、また、隣り合うR103が互いに結合して環を形成してもよい。また、R103とR101またはR102のいずれかが互いに結合して環を形成してもよい。)
2.前記光学フィルムが、更にフェノール系化合物、リン系化合物、アクリレート系化合物及びベンゾフラノン系化合物からなる群より選ばれる化合物の少なくとも1種を含有することを特徴とする前記1に記載の光学フィルム。
Wherein R 101 and R 102 are each independently a hydrogen atom, alkyl group, cycloalkyl group, aryl group, acylamino group, alkylthio group, arylthio group, alkenyl group, halogen atom, alkynyl group, heterocyclic group, alkyl Sulfonyl group, arylsulfonyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, phosphono group, acyl group, carbamoyl group, sulfamoyl group, sulfonamido group, cyano group, alkoxy group, aryloxy group, heterocyclic oxy group, siloxy group, acyloxy Group, aminocarbonyloxy group, amino group (for example, amino group, ethylamino group, dimethylamino group, butylamino group, cyclopentylamino group, 2-ethylhexylamino group, dodecylamino group), anilino group, imide group, ureido Group Job aryloxycarbonyl amino group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a heterocyclic thio group, a group selected from the thioureido group, hydroxyl group and mercapto group, R 103 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an acylamino Group, alkylthio group, arylthio group, alkenyl group, halogen atom, alkynyl group, heterocyclic group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, phosphono group, acyl group, carbamoyl group, sulfamoyl group, sulfone Amido group, cyano group, alkoxy group, aryloxy group, heterocyclic oxy group, siloxy group, acyloxy group, aminocarbonyloxy group, amino group (for example, amino group, ethylamino group, dimethylamino group, butylamino group) Group, cyclopentylamino group, 2-ethylhexylamino group, dodecylamino group, etc.), anilino group, imide group, ureido group, alkoxycarbonylamino group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, heterocyclic thio group, thioureido group, hydroxyl group Represents a group selected from a group and a mercapto group, and m represents an integer of 0 to 4. When m represents an integer of 2 or more, a plurality of R 103 may be the same or different, and adjacent R 103 May be bonded to each other to form a ring, or any of R 103 and R 101 or R 102 may be bonded to each other to form a ring.)
2. 2. The optical film as described in 1 above, wherein the optical film further contains at least one compound selected from the group consisting of phenolic compounds, phosphorus compounds, acrylate compounds and benzofuranone compounds.

3.前記1または2に記載の光学フィルムが、溶融流延法によって製造されることを特徴とする光学フィルムの製造方法。   3. 3. The method for producing an optical film, wherein the optical film according to 1 or 2 is produced by a melt casting method.

4.前記1または2に記載の光学フィルム、または前記3に記載の光学フィルムの製造方法により得られた光学フィルムを偏光子の少なくとも一方の面に有することを特徴とする偏光板。   4). A polarizing plate comprising the optical film according to 1 or 2 or the optical film obtained by the method for producing an optical film according to 3 above on at least one surface of a polarizer.

5.前記4に記載の偏光板を液晶セルの少なくとも一方の面に用いることを特徴とする液晶表示装置。   5. 5. A liquid crystal display device using the polarizing plate according to 4 above on at least one surface of a liquid crystal cell.

本発明によれば、ヘイズが良好で、長期間保存してもリターデーション値のばらつきが小さく、馬の背故障、巻芯転写故障、巻始めシワ故障等のフィルム原反の変形故障が発生しない光学フィルム、光学フィルムの製造方法、それを用いた偏光板、及び該偏光板を用いた液晶表示装置を提供することができる。   According to the present invention, the optical film has good haze, small retardation value even after long-term storage, and does not cause deformation failure of the original film such as horse back failure, core transfer failure, winding start wrinkle failure, etc. The manufacturing method of an optical film, the polarizing plate using the same, and the liquid crystal display device using this polarizing plate can be provided.

以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   The best mode for carrying out the present invention will be described in detail below, but the present invention is not limited thereto.

上記課題について、本発明者らは鋭意検討したところ、リターデーション値を上昇させる化合物を含有するセルロースエステルに、更にリン酸エステル金属塩化合物を含有させることにより、驚くべきことに、ヘイズが良好で、長期間保存してリターデーション値のばらつきが小さく、馬の背故障、巻芯転写故障、巻始めシワ故障等のフィルム原反の変形故障が発生しないことが分かった。更には、このような本発明の光学フィルムを溶融製膜法によって製造できることを見出し、本発明を完成させるに至った。また、そのような光学フィルムを用いることによって、良好な特性を有する偏光板、及び液晶表示装置が提供できることを見出したものである。   The present inventors diligently studied about the above problems, and surprisingly, by adding a phosphate metal salt compound to a cellulose ester containing a compound that increases the retardation value, the haze is surprisingly good. It was found that the film was stored for a long period of time and the variation in retardation value was small, so that there was no deformation failure of the original film such as horse back failure, core transfer failure, winding start wrinkle failure. Furthermore, it has been found that such an optical film of the present invention can be produced by a melt film-forming method, and the present invention has been completed. It has also been found that a polarizing plate and a liquid crystal display device having good characteristics can be provided by using such an optical film.

《一般式(1)〜(5)で表される化合物》
最初に、本発明の前記一般式(1)の化合物について説明する。
<< Compounds Represented by General Formulas (1) to (5) >>
First, the compound of the general formula (1) of the present invention will be described.

前記一般式(1)中、R、R、Rはそれぞれ独立して、芳香族環またはヘテロ環を表す。R、R、Rで表される芳香族環は、フェニルまたはナフチルであることが好ましく、フェニルであることが特に好ましい。Rで表される芳香族環は置換基を有していてもよく、該置換基の例としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファモイル基、アルキル置換スルファモイル基、アルケニル置換スルファモイル基、アリール置換スルファモイル基、スルオンアミド基、カルバモイル、アルキル置換カルバモイル基、アルケニル置換カルバモイル基、アリール置換カルバモイル基、アミド基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基及びアシル基が含まれる。 In the general formula (1), R 1 , R 2 and R 3 each independently represents an aromatic ring or a hetero ring. The aromatic ring represented by R 1 , R 2 or R 3 is preferably phenyl or naphthyl, and particularly preferably phenyl. The aromatic ring represented by R 1 may have a substituent, and examples of the substituent include a halogen atom, hydroxyl group, cyano group, nitro group, carboxyl group, alkyl group, alkenyl group, aryl Group, alkoxy group, alkenyloxy group, aryloxy group, acyloxy group, alkoxycarbonyl group, alkenyloxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, sulfamoyl group, alkyl-substituted sulfamoyl group, alkenyl-substituted sulfamoyl group, aryl-substituted sulfamoyl group, sulfonamide Groups, carbamoyl, alkyl-substituted carbamoyl groups, alkenyl-substituted carbamoyl groups, aryl-substituted carbamoyl groups, amide groups, alkylthio groups, alkenylthio groups, arylthio groups and acyl groups.

次に、一般式(1)中、R、R、Rで表されるヘテロ環基は、芳香族性を有することが好ましい。芳香族性を有するヘテロ環は、一般に不飽和ヘテロ環であり、好ましくは最多の二重結合を有するヘテロ環である。前記ヘテロ環は5員環、6員環または7員環であることが好ましく、5員環または6員環であることがさらに好ましく、6員環であることが最も好ましい。ヘテロ環のヘテロ原子は、窒素原子、硫黄原子または酸素原子であることが好ましく、窒素原子であることが特に好ましい。芳香族性を有するヘテロ環としては、ピリジン環(ヘテロ環基としては、2−ピリジルまたは4−ピリジル)が特に好ましい。ヘテロ環基は、置換基を有していてもよい。ヘテロ環基の置換基の例は、前記アリール部分の置換基の例と同様である。 Next, in the general formula (1), the heterocyclic group represented by R 1 , R 2 , or R 3 preferably has aromaticity. The heterocycle having aromaticity is generally an unsaturated heterocycle, preferably a heterocycle having the largest number of double bonds. The heterocycle is preferably a 5-membered ring, a 6-membered ring or a 7-membered ring, more preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring, and most preferably a 6-membered ring. The hetero atom of the hetero ring is preferably a nitrogen atom, a sulfur atom or an oxygen atom, and particularly preferably a nitrogen atom. As the heterocyclic ring having aromaticity, a pyridine ring (2-pyridyl or 4-pyridyl as the heterocyclic group) is particularly preferable. The heterocyclic group may have a substituent. Examples of the substituent of the heterocyclic group are the same as the examples of the substituent of the aryl moiety.

一般式(1)において、X、X及びXがそれぞれ単結合である場合のヘテロ環基は、窒素原子に遊離原子価をもつヘテロ環基であることが好ましい。窒素原子に遊離原子価をもつヘテロ環基は、5員環、6員環または7員環であることが好ましく、5員環または6員環であることがさらに好ましく、5員環であることが最も好ましい。前記ヘテロ環基は、複数の窒素原子を有していてもよい。また、ヘテロ環基は、窒素原子以外のヘテロ原子(例、O、S)を有していてもよい。以下に、窒素原子に遊離原子価をもつヘテロ環基の例を示す。 In the general formula (1), the heterocyclic group when X 1 , X 2 and X 3 are each a single bond is preferably a heterocyclic group having a free valence on the nitrogen atom. The heterocyclic group having a free valence on the nitrogen atom is preferably a 5-membered ring, 6-membered ring or 7-membered ring, more preferably a 5-membered ring or 6-membered ring, and a 5-membered ring. Is most preferred. The heterocyclic group may have a plurality of nitrogen atoms. Moreover, the heterocyclic group may have a hetero atom (eg, O, S) other than a nitrogen atom. Examples of the heterocyclic group having a free valence on the nitrogen atom are shown below.

Figure 2010060981
Figure 2010060981

さらに一般式(1)中、Xは単結合、−NR−、−O−または−S−を表し、Xは単結合、−NR−、−O−または−S−を表し、Xは単結合、−NR−、−O−または−S−を表す。R、R及びRはそれぞれ独立して、水素原子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。 Further, in the general formula (1), X 1 represents a single bond, —NR 4 —, —O— or —S—, X 2 represents a single bond, —NR 5 —, —O— or —S—, X 3 represents a single bond, —NR 6 —, —O— or —S—. R 4 , R 5 and R 6 each independently represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group, aryl group or heterocyclic group.

一般式(1)において、前記R、R及びRがそれぞれ表すアルキル基は、環状アルキル基であってもよいし鎖状アルキル基であってもよいが、鎖状アルキル基を表すのが好ましく、分岐を有する鎖状アルキル基よりも、直鎖状アルキル基を表すのがより好ましい。前記アルキル基の炭素数は、1〜30であることが好ましく、1〜20であることがより好ましく、1〜10であることがさらに好ましく、1〜8が特に好ましく、1〜6であることが最も好ましい。 In general formula (1), the alkyl group represented by each of R 4 , R 5 and R 6 may be a cyclic alkyl group or a chain alkyl group, but represents a chain alkyl group. It is preferable to represent a linear alkyl group rather than a branched chain alkyl group. The alkyl group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, still more preferably 1 to 10 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, and 1 to 6 carbon atoms. Is most preferred.

前記アルキル基は、置換基を有していてもよい。該置換基の例には、ハロゲン原子、アルコキシ基(例えばメトキシ、エトキシ)及びアシルオキシ基(例、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ)が含まれる。   The alkyl group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, an alkoxy group (for example, methoxy, ethoxy) and an acyloxy group (for example, acryloyloxy, methacryloyloxy).

一般式(1)において、前記R、R及びRがそれぞれ表すアルケニル基は、環状アルケニル基であってもよいし鎖状アルケニル基であってもよいが、鎖状アルケニル基を表すのが好ましく、分岐を有する鎖状アルケニル基よりも、直鎖状アルケニル基を表すのがより好ましい。前記アルケニル基の炭素数は、2〜30であることが好ましく、2〜20であることがより好ましく、2〜10であることがさらに好ましく、2〜8であることが特に好ましく、2〜6であることが最も好ましい。前記アルケニル基は置換基を有していてもよい。該置換基の例は、前述のアルキル基の置換基と同様である。 In the general formula (1), the alkenyl groups represented by R 4 , R 5 and R 6 may be cyclic alkenyl groups or chain alkenyl groups, but they represent chain alkenyl groups. It is preferable to represent a straight chain alkenyl group rather than a branched chain alkenyl group. The alkenyl group preferably has 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, still more preferably 2 to 10 carbon atoms, particularly preferably 2 to 8 carbon atoms, and 2 to 6 carbon atoms. Most preferably. The alkenyl group may have a substituent. The example of this substituent is the same as the substituent of the above-mentioned alkyl group.

一般式(1)において、前記R、R及びRがそれぞれ表す芳香族環及びヘテロ環基は、R、R、及びRでそれぞれ表される芳香族環及びヘテロ環と同様であり、好ましい範囲も同様である。また、該芳香族環基及びヘテロ環基はさらに置換基を有していてもよく、置換基の例にはR、R、及びRの芳香族環及びヘテロ環の置換基と同様のものが挙げられる。 In the general formula (1), the aromatic ring and heterocyclic group represented by R 4 , R 5 and R 6 are the same as the aromatic ring and heterocyclic ring respectively represented by R 1 , R 2 and R 3. The preferred range is also the same. Further, the aromatic ring group and the heterocyclic group may further have a substituent, and examples of the substituent are the same as those of the aromatic ring and heterocyclic ring of R 1 , R 2 and R 3. Can be mentioned.

これらの中で特に好ましいのが、Xが−NR−、Xが−NR−、Xが−NR−であるものである。 Of these, X 1 is —NR 4 —, X 2 is —NR 5 —, and X 3 is —NR 6 — is particularly preferable.

以下に、一般式(1)で表される化合物の具体例を示す。   Specific examples of the compound represented by the general formula (1) are shown below.

Figure 2010060981
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Figure 2010060981
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Figure 2010060981
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Figure 2010060981
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Figure 2010060981
Figure 2010060981

Figure 2010060981
Figure 2010060981

Figure 2010060981
Figure 2010060981

Figure 2010060981
Figure 2010060981

Figure 2010060981
Figure 2010060981

Figure 2010060981
Figure 2010060981

Figure 2010060981
Figure 2010060981

Figure 2010060981
Figure 2010060981

Figure 2010060981
Figure 2010060981

R=(4)フェニル
(5)4−エトキシカルボニルフェニル
(6)4−ブトキシフェニル
(7)p−ビフェニリル
(8)4−ピリジル
(9)2−ナフチル
(10)2−メチルフェニル
(11)3,4−ジメトキシフェニル
(12)2−フリル
R = (4) phenyl (5) 4-ethoxycarbonylphenyl (6) 4-butoxyphenyl (7) p-biphenylyl (8) 4-pyridyl (9) 2-naphthyl (10) 2-methylphenyl (11) 3 , 4-Dimethoxyphenyl (12) 2-furyl

Figure 2010060981
Figure 2010060981

R=(14)フェニル
(15)3−エトキシカルボニルフェニル
(16)3−ブトキシフェニル
(17)m−ビフェニリル
(18)3−フェニルチオフェニル
(19)3−クロロフェニル
(20)3−ベンゾイルフェニル
(21)3−アセトキシフェニル
(22)3−ベンゾイルオキシフェニル
(23)3−フェノキシカルボニルフェニル
(24)3−メトキシフェニル
(25)3−アニリノフェニル
(26)3−イソブチリルアミノフェニル
(27)3−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(28)3−(3−エチルウレイド)フェニル
(29)3−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(30)3−メチルフェニル
(31)3−フェノキシフェニル
(32)3−ヒドロキシフェニル
(33)4−エトキシカルボニルフェニル
(34)4−ブトキシフェニル
(35)p−ビフェニリル
(36)4−フェニルチオフェニル
(37)4−クロロフェニル
(38)4−ベンゾイルフェニル
(39)4−アセトキシフェニル
(40)4−ベンゾイルオキシフェニル
(41)4−フェノキシカルボニルフェニル
(42)4−メトキシフェニル
(43)4−アニリノフェニル
(44)4−イソブチリルアミノフェニル
(45)4−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(46)4−(3−エチルウレイド)フェニル
(47)4−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(48)4−メチルフェニル
(49)4−フェノキシフェニル
(50)4−ヒドロキシフェニル
(51)3,4−ジエトキシカルボニルフェニル
(52)3,4−ジブトキシフェニル
(53)3,4−ジフェニルフェニル
(54)3,4−ジフェニルチオフェニル
(55)3,4−ジクロロフェニル
(56)3,4−ジベンゾイルフェニル
(57)3,4−ジアセトキシフェニル
(58)3,4−ジベンゾイルオキシフェニル
(59)3,4−ジフェノキシカルボニルフェニル
(60)3,4−ジメトキシフェニル
(61)3,4−ジアニリノフェニル
(62)3,4−ジメチルフェニル
(63)3,4−ジフェノキシフェニル
(64)3,4−ジヒドロキシフェニル
(65)2−ナフチル
(66)3,4,5−トリエトキシカルボニルフェニル
(67)3,4,5−トリブトキシフェニル
(68)3,4,5−トリフェニルフェニル
(69)3,4,5−トリフェニルチオフェニル
(70)3,4,5−トリクロロフェニル
(71)3,4,5−トリベンゾイルフェニル
(72)3,4,5−トリアセトキシフェニル
(73)3,4,5−トリベンゾイルオキシフェニル
(74)3,4,5−トリフェノキシカルボニルフェニル
(75)3,4,5−トリメトキシフェニル
(76)3,4,5−トリアニリノフェニル
(77)3,4,5−トリメチルフェニル
(78)3,4,5−トリフェノキシフェニル
(79)3,4,5−トリヒドロキシフェニル
R = (14) phenyl (15) 3-ethoxycarbonylphenyl (16) 3-butoxyphenyl (17) m-biphenylyl (18) 3-phenylthiophenyl (19) 3-chlorophenyl (20) 3-benzoylphenyl (21 ) 3-acetoxyphenyl (22) 3-benzoyloxyphenyl (23) 3-phenoxycarbonylphenyl (24) 3-methoxyphenyl (25) 3-anilinophenyl (26) 3-isobutyrylaminophenyl (27) 3 -Phenoxycarbonylaminophenyl (28) 3- (3-ethylureido) phenyl (29) 3- (3,3-diethylureido) phenyl (30) 3-methylphenyl (31) 3-phenoxyphenyl (32) 3- Hydroxyphenyl (33) 4-ethoxycarbonylphene Nyl (34) 4-butoxyphenyl (35) p-biphenylyl (36) 4-phenylthiophenyl (37) 4-chlorophenyl (38) 4-benzoylphenyl (39) 4-acetoxyphenyl (40) 4-benzoyloxyphenyl (41) 4-phenoxycarbonylphenyl (42) 4-methoxyphenyl (43) 4-anilinophenyl (44) 4-isobutyrylaminophenyl (45) 4-phenoxycarbonylaminophenyl (46) 4- (3- Ethylureido) phenyl (47) 4- (3,3-diethylureido) phenyl (48) 4-methylphenyl (49) 4-phenoxyphenyl (50) 4-hydroxyphenyl (51) 3,4-diethoxycarbonylphenyl (52) 3,4-Dibutoxyphenyl (53) , 4-Diphenylphenyl (54) 3,4-Diphenylthiophenyl (55) 3,4-Dichlorophenyl (56) 3,4-Dibenzoylphenyl (57) 3,4-diacetoxyphenyl (58) 3,4- Dibenzoyloxyphenyl (59) 3,4-diphenoxycarbonylphenyl (60) 3,4-dimethoxyphenyl (61) 3,4-dianilinophenyl (62) 3,4-dimethylphenyl (63) 3,4- Diphenoxyphenyl (64) 3,4-dihydroxyphenyl (65) 2-naphthyl (66) 3,4,5-triethoxycarbonylphenyl (67) 3,4,5-tributoxyphenyl (68) 3,4, 5-triphenylphenyl (69) 3,4,5-triphenylthiophenyl (70) 3,4,5-trichlorofe (71) 3,4,5-tribenzoylphenyl (72) 3,4,5-triacetoxyphenyl (73) 3,4,5-tribenzoyloxyphenyl (74) 3,4,5-triphenoxycarbonyl Phenyl (75) 3,4,5-trimethoxyphenyl (76) 3,4,5-trianilinophenyl (77) 3,4,5-trimethylphenyl (78) 3,4,5-triphenoxyphenyl ( 79) 3,4,5-trihydroxyphenyl

Figure 2010060981
Figure 2010060981

R=(80)フェニル
(81)3−エトキシカルボニルフェニル
(82)3−ブトキシフェニル
(83)m−ビフェニリル
(84)3−フェニルチオフェニル
(85)3−クロロフェニル
(86)3−ベンゾイルフェニル
(87)3−アセトキシフェニル
(88)3−ベンゾイルオキシフェニル
(89)3−フェノキシカルボニルフェニル
(90)3−メトキシフェニル
(91)3−アニリノフェニル
(92)3−イソブチリルアミノフェニル
(93)3−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(94)3−(3−エチルウレイド)フェニル
(95)3−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(96)3−メチルフェニル
(97)3−フェノキシフェニル
(98)3−ヒドロキシフェニル
(99)4−エトキシカルボニルフェニル
(100)4−ブトキシフェニル
(101)p−ビフェニリル
(102)4−フェニルチオフェニル
(103)4−クロロフェニル
(104)4−ベンゾイルフェニル
(105)4−アセトキシフェニル
(106)4−ベンゾイルオキシフェニル
(107)4−フェノキシカルボニルフェニル
(108)4−メトキシフェニル
(109)4−アニリノフェニル
(110)4−イソブチリルアミノフェニル
(111)4−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(112)4−(3−エチルウレイド)フェニル
(113)4−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(114)4−メチルフェニル
(115)4−フェノキシフェニル
(116)4−ヒドロキシフェニル
(117)3,4−ジエトキシカルボニルフェニル
(118)3,4−ジブトキシフェニル
(119)3,4−ジフェニルフェニル
(120)3,4−ジフェニルチオフェニル
(121)3,4−ジクロロフェニル
(122)3,4−ジベンゾイルフェニル
(123)3,4−ジアセトキシフェニル
(124)3,4−ジベンゾイルオキシフェニル
(125)3,4−ジフェノキシカルボニルフェニル
(126)3,4−ジメトキシフェニル
(127)3,4−ジアニリノフェニル
(128)3,4−ジメチルフェニル
(129)3,4−ジフェノキシフェニル
(130)3,4−ジヒドロキシフェニル
(131)2−ナフチル
(132)3,4,5−トリエトキシカルボニルフェニル
(133)3,4,5−トリブトキシフェニル
(134)3,4,5−トリフェニルフェニル
(135)3,4,5−トリフェニルチオフェニル
(136)3,4,5−トリクロロフェニル
(137)3,4,5−トリベンゾイルフェニル
(138)3,4,5−トリアセトキシフェニル
(139)3,4,5−トリベンゾイルオキシフェニル
(140)3,4,5−トリフェノキシカルボニルフェニル
(141)3,4,5−トリメトキシフェニル
(142)3,4,5−トリアニリノフェニル
(143)3,4,5−トリメチルフェニル
(144)3,4,5−トリフェノキシフェニル
(145)3,4,5−トリヒドロキシフェニル
R = (80) phenyl (81) 3-ethoxycarbonylphenyl (82) 3-butoxyphenyl (83) m-biphenylyl (84) 3-phenylthiophenyl (85) 3-chlorophenyl (86) 3-benzoylphenyl (87 ) 3-acetoxyphenyl (88) 3-benzoyloxyphenyl (89) 3-phenoxycarbonylphenyl (90) 3-methoxyphenyl (91) 3-anilinophenyl (92) 3-isobutyrylaminophenyl (93) 3 -Phenoxycarbonylaminophenyl (94) 3- (3-ethylureido) phenyl (95) 3- (3,3-diethylureido) phenyl (96) 3-methylphenyl (97) 3-phenoxyphenyl (98) 3- Hydroxyphenyl (99) 4-ethoxycarbonylphenol Nyl (100) 4-butoxyphenyl (101) p-biphenylyl (102) 4-phenylthiophenyl (103) 4-chlorophenyl (104) 4-benzoylphenyl (105) 4-acetoxyphenyl (106) 4-benzoyloxyphenyl (107) 4-phenoxycarbonylphenyl (108) 4-methoxyphenyl (109) 4-anilinophenyl (110) 4-isobutyrylaminophenyl (111) 4-phenoxycarbonylaminophenyl (112) 4- (3- Ethylureido) phenyl (113) 4- (3,3-diethylureido) phenyl (114) 4-methylphenyl (115) 4-phenoxyphenyl (116) 4-hydroxyphenyl (117) 3,4-diethoxycarbonylphenyl (118 ) 3,4-dibutoxyphenyl (119) 3,4-diphenylphenyl (120) 3,4-diphenylthiophenyl (121) 3,4-dichlorophenyl (122) 3,4-dibenzoylphenyl (123) 3, 4-diacetoxyphenyl (124) 3,4-dibenzoyloxyphenyl (125) 3,4-diphenoxycarbonylphenyl (126) 3,4-dimethoxyphenyl (127) 3,4-dianilinophenyl (128) 3 , 4-dimethylphenyl (129) 3,4-diphenoxyphenyl (130) 3,4-dihydroxyphenyl (131) 2-naphthyl (132) 3,4,5-triethoxycarbonylphenyl (133) 3,4 5-Tributoxyphenyl (134) 3,4,5-triphenylphenyl (135 3,4,5-triphenylthiophenyl (136) 3,4,5-trichlorophenyl (137) 3,4,5-tribenzoylphenyl (138) 3,4,5-triacetoxyphenyl (139) 3, 4,5-tribenzoyloxyphenyl (140) 3,4,5-triphenoxycarbonylphenyl (141) 3,4,5-trimethoxyphenyl (142) 3,4,5-trianilinophenyl (143) 3 , 4,5-trimethylphenyl (144) 3,4,5-triphenoxyphenyl (145) 3,4,5-trihydroxyphenyl

Figure 2010060981
Figure 2010060981

R=(146)フェニル
(147)4−エトキシカルボニルフェニル
(148)4−ブトキシフェニル
(149)p−ビフェニリル
(150)4−フェニルチオフェニル
(151)4−クロロフェニル
(152)4−ベンゾイルフェニル
(153)4−アセトキシフェニル
(154)4−ベンゾイルオキシフェニル
(155)4−フェノキシカルボニルフェニル
(156)4−メトキシフェニル
(157)4−アニリノフェニル
(158)4−イソブチリルアミノフェニル
(159)4−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(160)4−(3−エチルウレイド)フェニル
(161)4−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(162)4−メチルフェニル
(163)4−フェノキシフェニル
(164)4−ヒドロキシフェニル
R = (146) phenyl (147) 4-ethoxycarbonylphenyl (148) 4-butoxyphenyl (149) p-biphenylyl (150) 4-phenylthiophenyl (151) 4-chlorophenyl (152) 4-benzoylphenyl (153 ) 4-acetoxyphenyl (154) 4-benzoyloxyphenyl (155) 4-phenoxycarbonylphenyl (156) 4-methoxyphenyl (157) 4-anilinophenyl (158) 4-isobutyrylaminophenyl (159) 4 -Phenoxycarbonylaminophenyl (160) 4- (3-ethylureido) phenyl (161) 4- (3,3-diethylureido) phenyl (162) 4-methylphenyl (163) 4-phenoxyphenyl (164) 4- Hydroxyfe Le

Figure 2010060981
Figure 2010060981

R=(165)フェニル
(166)4−エトキシカルボニルフェニル
(167)4−ブトキシフェニル
(168)p−ビフェニリル
(169)4−フェニルチオフェニル
(170)4−クロロフェニル
(171)4−ベンゾイルフェニル
(172)4−アセトキシフェニル
(173)4−ベンゾイルオキシフェニル
(174)4−フェノキシカルボニルフェニル
(175)4−メトキシフェニル
(176)4−アニリノフェニル
(177)4−イソブチリルアミノフェニル
(178)4−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(179)4−(3−エチルウレイド)フェニル
(180)4−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(181)4−メチルフェニル
(182)4−フェノキシフェニル
(183)4−ヒドロキシフェニル
R = (165) phenyl (166) 4-ethoxycarbonylphenyl (167) 4-butoxyphenyl (168) p-biphenylyl (169) 4-phenylthiophenyl (170) 4-chlorophenyl (171) 4-benzoylphenyl (172) ) 4-acetoxyphenyl (173) 4-benzoyloxyphenyl (174) 4-phenoxycarbonylphenyl (175) 4-methoxyphenyl (176) 4-anilinophenyl (177) 4-isobutyrylaminophenyl (178) 4 -Phenoxycarbonylaminophenyl (179) 4- (3-ethylureido) phenyl (180) 4- (3,3-diethylureido) phenyl (181) 4-methylphenyl (182) 4-phenoxyphenyl (183) 4- Hydroxyfe Le

Figure 2010060981
Figure 2010060981

R=(184)フェニル
(185)4−エトキシカルボニルフェニル
(186)4−ブトキシフェニル
(187)p−ビフェニリル
(188)4−フェニルチオフェニル
(189)4−クロロフェニル
(190)4−ベンゾイルフェニル
(191)4−アセトキシフェニル
(192)4−ベンゾイルオキシフェニル
(193)4−フェノキシカルボニルフェニル
(194)4−メトキシフェニル
(195)4−アニリノフェニル
(196)4−イソブチリルアミノフェニル
(197)4−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(198)4−(3−エチルウレイド)フェニル
(199)4−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(200)4−メチルフェニル
(201)4−フェノキシフェニル
(202)4−ヒドロキシフェニル
R = (184) phenyl (185) 4-ethoxycarbonylphenyl (186) 4-butoxyphenyl (187) p-biphenylyl (188) 4-phenylthiophenyl (189) 4-chlorophenyl (190) 4-benzoylphenyl (191 ) 4-acetoxyphenyl (192) 4-benzoyloxyphenyl (193) 4-phenoxycarbonylphenyl (194) 4-methoxyphenyl (195) 4-anilinophenyl (196) 4-isobutyrylaminophenyl (197) 4 -Phenoxycarbonylaminophenyl (198) 4- (3-ethylureido) phenyl (199) 4- (3,3-diethylureido) phenyl (200) 4-methylphenyl (201) 4-phenoxyphenyl (202) 4- Hydroxyfe Le

Figure 2010060981
Figure 2010060981

R=(203)フェニル
(204)4−エトキシカルボニルフェニル
(205)4−ブトキシフェニル
(206)p−ビフェニリル
(207)4−フェニルチオフェニル
(208)4−クロロフェニル
(209)4−ベンゾイルフェニル
(210)4−アセトキシフェニル
(211)4−ベンゾイルオキシフェニル
(212)4−フェノキシカルボニルフェニル
(213)4−メトキシフェニル
(214)4−アニリノフェニル
(215)4−イソブチリルアミノフェニル
(216)4−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(217)4−(3−エチルウレイド)フェニル
(218)4−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(219)4−メチルフェニル
(220)4−フェノキシフェニル
(221)4−ヒドロキシフェニル
R = (203) phenyl (204) 4-ethoxycarbonylphenyl (205) 4-butoxyphenyl (206) p-biphenylyl (207) 4-phenylthiophenyl (208) 4-chlorophenyl (209) 4-benzoylphenyl (210 ) 4-acetoxyphenyl (211) 4-benzoyloxyphenyl (212) 4-phenoxycarbonylphenyl (213) 4-methoxyphenyl (214) 4-anilinophenyl (215) 4-isobutyrylaminophenyl (216) 4 -Phenoxycarbonylaminophenyl (217) 4- (3-ethylureido) phenyl (218) 4- (3,3-diethylureido) phenyl (219) 4-methylphenyl (220) 4-phenoxyphenyl (221) 4- Hydroxyfe Le

Figure 2010060981
Figure 2010060981

R=(222)フェニル
(223)4−ブチルフェニル
(224)4−(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(225)4−(5−ノネニル)フェニル
(226)p−ビフェニリル
(227)4−エトキシカルボニルフェニル
(228)4−ブトキシフェニル
(229)4−メチルフェニル
(230)4−クロロフェニル
(231)4−フェニルチオフェニル
(232)4−ベンゾイルフェニル
(233)4−アセトキシフェニル
(234)4−ベンゾイルオキシフェニル
(235)4−フェノキシカルボニルフェニル
(236)4−メトキシフェニル
(237)4−アニリノフェニル
(238)4−イソブチリルアミノフェニル
(239)4−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(240)4−(3−エチルウレイド)フェニル
(241)4−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(242)4−フェノキシフェニル
(243)4−ヒドロキシフェニル
(244)3−ブチルフェニル
(245)3−(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(246)3−(5−ノネニル)フェニル
(247)m−ビフェニリル
(248)3−エトキシカルボニルフェニル
(249)3−ブトキシフェニル
(250)3−メチルフェニル
(251)3−クロロフェニル
(252)3−フェニルチオフェニル
(253)3−ベンゾイルフェニル
(254)3−アセトキシフェニル
(255)3−ベンゾイルオキシフェニル
(256)3−フェノキシカルボニルフェニル
(257)3−メトキシフェニル
(258)3−アニリノフェニル
(259)3−イソブチリルアミノフェニル
(260)3−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(261)3−(3−エチルウレイド)フェニル
(262)3−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(263)3−フェノキシフェニル
(264)3−ヒドロキシフェニル
(265)2−ブチルフェニル
(266)2−(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(267)2−(5−ノネニル)フェニル
(268)o−ビフェニリル
(269)2−エトキシカルボニルフェニル
(270)2−ブトキシフェニル
(271)2−メチルフェニル
(272)2−クロロフェニル
(273)2−フェニルチオフェニル
(274)2−ベンゾイルフェニル
(275)2−アセトキシフェニル
(276)2−ベンゾイルオキシフェニル
(277)2−フェノキシカルボニルフェニル
(278)2−メトキシフェニル
(279)2−アニリノフェニル
(280)2−イソブチリルアミノフェニル
(281)2−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(282)2−(3−エチルウレイド)フェニル
(283)2−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(284)2−フェノキシフェニル
(285)2−ヒドロキシフェニル
(286)3,4−ジブチルフェニル
(287)3,4−ジ(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(288)3,4−ジフェニルフェニル
(289)3,4−ジエトキシカルボニルフェニル
(290)3,4−ジドデシルオキシフェニル
(291)3,4−ジメチルフェニル
(292)3,4−ジクロロフェニル
(293)3,4−ジベンゾイルフェニル
(294)3,4−ジアセトキシフェニル
(295)3,4−ジメトキシフェニル
(296)3,4−ジ−N−メチルアミノフェニル
(297)3,4−ジイソブチリルアミノフェニル
(298)3,4−ジフェノキシフェニル
(299)3,4−ジヒドロキシフェニル
(300)3,5−ジブチルフェニル
(301)3,5−ジ(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(302)3,5−ジフェニルフェニル
(303)3,5−ジエトキシカルボニルフェニル
(304)3,5−ジドデシルオキシフェニル
(305)3,5−ジメチルフェニル
(306)3,5−ジクロロフェニル
(307)3,5−ジベンゾイルフェニル
(308)3,5−ジアセトキシフェニル
(309)3,5−ジメトキシフェニル
(310)3,5−ジ−N−メチルアミノフェニル
(311)3,5−ジイソブチリルアミノフェニル
(312)3,5−ジフェノキシフェニル
(313)3,5−ジヒドロキシフェニル
(314)2,4−ジブチルフェニル
(315)2,4−ジ(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(316)2,4−ジフェニルフェニル
(317)2,4−ジエトキシカルボニルフェニル
(318)2,4−ジドデシルオキシフェニル
(319)2,4−ジメチルフェニル
(320)2,4−ジクロロフェニル
(321)2,4−ジベンゾイルフェニル
(322)2,4−ジアセトキシフェニル
(323)2,4−ジメトキシフェニル
(324)2,4−ジ−N−メチルアミノフェニル
(325)2,4−ジイソブチリルアミノフェニル
(326)2,4−ジフェノキシフェニル
(327)2,4−ジヒドロキシフェニル
(328)2,3−ジブチルフェニル
(329)2,3−ジ(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(330)2,3−ジフェニルフェニル
(331)2,3−ジエトキシカルボニルフェニル
(332)2,3−ジドデシルオキシフェニル
(333)2,3−ジメチルフェニル
(334)2,3−ジクロロフェニル
(335)2,3−ジベンゾイルフェニル
(336)2,3−ジアセトキシフェニル
(337)2,3−ジメトキシフェニル
(338)2,3−ジ−N−メチルアミノフェニル
(339)2,3−ジイソブチリルアミノフェニル
(340)2,3−ジフェノキシフェニル
(341)2,3−ジヒドロキシフェニル
(342)2,6−ジブチルフェニル
(343)2,6−ジ(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(344)2,6−ジフェニルフェニル
(345)2,6−ジエトキシカルボニルフェニル
(346)2,6−ジドデシルオキシフェニル
(347)2,6−ジメチルフェニル
(348)2,6−ジクロロフェニル
(349)2,6−ジベンゾイルフェニル
(350)2,6−ジアセトキシフェニル
(351)2,6−ジメトキシフェニル
(352)2,6−ジ−N−メチルアミノフェニル
(353)2,6−ジイソブチリルアミノフェニル
(354)2,6−ジフェノキシフェニル
(355)2,6−ジヒドロキシフェニル
(356)3,4,5−トリブチルフェニル
(357)3,4,5−トリ(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(358)3,4,5−トリフェニルフェニル
(359)3,4,5−トリエトキシカルボニルフェニル
(360)3,4,5−トリドデシルオキシフェニル
(361)3,4,5−トリメチルフェニル
(362)3,4,5−トリクロロフェニル
(363)3,4,5−トリベンゾイルフェニル
(364)3,4,5−トリアセトキシフェニル
(365)3,4,5−トリメトキシフェニル
(366)3,4,5−トリ−N−メチルアミノフェニル
(367)3,4,5−トリイソブチリルアミノフェニル
(368)3,4,5−トリフェノキシフェニル
(369)3,4,5−トリヒドロキシフェニル
(370)2,4,6−トリブチルフェニル
(371)2,4,6−トリ(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(372)2,4,6−トリフェニルフェニル
(373)2,4,6−トリエトキシカルボニルフェニル
(374)2,4,6−トリドデシルオキシフェニル
(375)2,4,6−トリメチルフェニル
(376)2,4,6−トリクロロフェニル
(377)2,4,6−トリベンゾイルフェニル
(378)2,4,6−トリアセトキシフェニル
(379)2,4,6−トリメトキシフェニル
(380)2,4,6−トリ−N−メチルアミノフェニル
(381)2,4,6−トリイソブチリルアミノフェニル
(382)2,4,6−トリフェノキシフェニル
(383)2,4,6−トリヒドロキシフェニル
(384)ペンタフルオロフェニル
(385)ペンタクロロフェニル
(386)ペンタメトキシフェニル
(387)6−N−メチルスルファモイル−8−メトキシ−2−ナフチル
(388)5−N−メチルスルファモイル−2−ナフチル
(389)6−N−フェニルスルファモイル−2−ナフチル
(390)5−エトキシ−7−N−メチルスルファモイル−2−ナフチル
(391)3−メトキシ−2−ナフチル
(392)1−エトキシ−2−ナフチル
(393)6−N−フェニルスルファモイル−8−メトキシ−2−ナフチル
(394)5−メトキシ−7−N−フェニルスルファモイル−2−ナフチル
(395)1−(4−メチルフェニル)−2−ナフチル
(396)6,8−ジ−N−メチルスルファモイル−2−ナフチル
(397)6−N−2−アセトキシエチルスルファモイル−8−メトキシ−2−ナフチル
(398)5−アセトキシ−7−N−フェニルスルファモイル−2−ナフチル
(399)3−ベンゾイルオキシ−2−ナフチル
(400)5−アセチルアミノ−1−ナフチル
(401)2−メトキシ−1−ナフチル
(402)4−フェノキシ−1−ナフチル
(403)5−N−メチルスルファモイル−1−ナフチル
(404)3−N−メチルカルバモイル−4−ヒドロキシ−1−ナフチル
(405)5−メトキシ−6−N−エチルスルファモイル−1−ナフチル
(406)7−テトラデシルオキシ−1−ナフチル
(407)4−(4−メチルフェノキシ)−1−ナフチル
(408)6−N−メチルスルファモイル−1−ナフチル
(409)3−N,N−ジメチルカルバモイル−4−メトキシ−1−ナフチル
(410)5−メトキシ−6−N−ベンジルスルファモイル−1−ナフチル
(411)3,6−ジ−N−フェニルスルファモイル−1−ナフチル
(418)ベンジル
(419)4−メトキシベンジル
R = (222) phenyl (223) 4-butylphenyl (224) 4- (2-methoxy-2-ethoxyethyl) phenyl (225) 4- (5-nonenyl) phenyl (226) p-biphenylyl (227) 4 -Ethoxycarbonylphenyl (228) 4-butoxyphenyl (229) 4-methylphenyl (230) 4-chlorophenyl (231) 4-phenylthiophenyl (232) 4-benzoylphenyl (233) 4-acetoxyphenyl (234) 4 -Benzoyloxyphenyl (235) 4-phenoxycarbonylphenyl (236) 4-methoxyphenyl (237) 4-anilinophenyl (238) 4-isobutyrylaminophenyl (239) 4-phenoxycarbonylaminophenyl (240) 4 -(3-ethylure De) phenyl (241) 4- (3,3-diethylureido) phenyl (242) 4-phenoxyphenyl (243) 4-hydroxyphenyl (244) 3-butylphenyl (245) 3- (2-methoxy-2- (Ethoxyethyl) phenyl (246) 3- (5-nonenyl) phenyl (247) m-biphenylyl (248) 3-ethoxycarbonylphenyl (249) 3-butoxyphenyl (250) 3-methylphenyl (251) 3-chlorophenyl ( 252) 3-phenylthiophenyl (253) 3-benzoylphenyl (254) 3-acetoxyphenyl (255) 3-benzoyloxyphenyl (256) 3-phenoxycarbonylphenyl (257) 3-methoxyphenyl (258) 3-ani Linophenyl (259) 3 Isobutyrylaminophenyl (260) 3-phenoxycarbonylaminophenyl (261) 3- (3-ethylureido) phenyl (262) 3- (3,3-diethylureido) phenyl (263) 3-phenoxyphenyl (264) 3-hydroxyphenyl (265) 2-butylphenyl (266) 2- (2-methoxy-2-ethoxyethyl) phenyl (267) 2- (5-nonenyl) phenyl (268) o-biphenylyl (269) 2-ethoxy Carbonylphenyl (270) 2-butoxyphenyl (271) 2-methylphenyl (272) 2-chlorophenyl (273) 2-phenylthiophenyl (274) 2-benzoylphenyl (275) 2-acetoxyphenyl (276) 2-benzoyl Oxyphenyl (277 2-phenoxycarbonylphenyl (278) 2-methoxyphenyl (279) 2-anilinophenyl (280) 2-isobutyrylaminophenyl (281) 2-phenoxycarbonylaminophenyl (282) 2- (3-ethylureido) Phenyl (283) 2- (3,3-diethylureido) phenyl (284) 2-phenoxyphenyl (285) 2-hydroxyphenyl (286) 3,4-dibutylphenyl (287) 3,4-di (2-methoxy) 2-ethoxyethyl) phenyl (288) 3,4-diphenylphenyl (289) 3,4-diethoxycarbonylphenyl (290) 3,4-didodecyloxyphenyl (291) 3,4-dimethylphenyl (292) 3,4-dichlorophenyl (293) 3,4-dibenzo Ruphenyl (294) 3,4-diacetoxyphenyl (295) 3,4-dimethoxyphenyl (296) 3,4-di-N-methylaminophenyl (297) 3,4-diisobutyrylaminophenyl (298) 3 , 4-diphenoxyphenyl (299) 3,4-dihydroxyphenyl (300) 3,5-dibutylphenyl (301) 3,5-di (2-methoxy-2-ethoxyethyl) phenyl (302) 3,5- Diphenylphenyl (303) 3,5-diethoxycarbonylphenyl (304) 3,5-didodecyloxyphenyl (305) 3,5-dimethylphenyl (306) 3,5-dichlorophenyl (307) 3,5-dibenzoyl Phenyl (308) 3,5-diacetoxyphenyl (309) 3,5-dimethoxyphenyl 310) 3,5-di-N-methylaminophenyl (311) 3,5-diisobutyrylaminophenyl (312) 3,5-diphenoxyphenyl (313) 3,5-dihydroxyphenyl (314) 2,4 -Dibutylphenyl (315) 2,4-di (2-methoxy-2-ethoxyethyl) phenyl (316) 2,4-diphenylphenyl (317) 2,4-diethoxycarbonylphenyl (318) 2,4-di Dodecyloxyphenyl (319) 2,4-dimethylphenyl (320) 2,4-dichlorophenyl (321) 2,4-dibenzoylphenyl (322) 2,4-diacetoxyphenyl (323) 2,4-dimethoxyphenyl ( 324) 2,4-di-N-methylaminophenyl (325) 2,4-diisobutyrylaminophenyl Nyl (326) 2,4-diphenoxyphenyl (327) 2,4-dihydroxyphenyl (328) 2,3-dibutylphenyl (329) 2,3-di (2-methoxy-2-ethoxyethyl) phenyl (330 ) 2,3-diphenylphenyl (331) 2,3-diethoxycarbonylphenyl (332) 2,3-didodecyloxyphenyl (333) 2,3-dimethylphenyl (334) 2,3-dichlorophenyl (335) 2 , 3-Dibenzoylphenyl (336) 2,3-diacetoxyphenyl (337) 2,3-dimethoxyphenyl (338) 2,3-di-N-methylaminophenyl (339) 2,3-diisobutyrylamino Phenyl (340) 2,3-diphenoxyphenyl (341) 2,3-dihydroxyphenyl (3 2) 2,6-dibutylphenyl (343) 2,6-di (2-methoxy-2-ethoxyethyl) phenyl (344) 2,6-diphenylphenyl (345) 2,6-diethoxycarbonylphenyl (346) 2,6-didodecyloxyphenyl (347) 2,6-dimethylphenyl (348) 2,6-dichlorophenyl (349) 2,6-dibenzoylphenyl (350) 2,6-diacetoxyphenyl (351) 2, 6-dimethoxyphenyl (352) 2,6-di-N-methylaminophenyl (353) 2,6-diisobutyrylaminophenyl (354) 2,6-diphenoxyphenyl (355) 2,6-dihydroxyphenyl ( 356) 3,4,5-tributylphenyl (357) 3,4,5-tri (2-methoxy-2-eth Cyethyl) phenyl (358) 3,4,5-triphenylphenyl (359) 3,4,5-triethoxycarbonylphenyl (360) 3,4,5-tridodecyloxyphenyl (361) 3,4,5- Trimethylphenyl (362) 3,4,5-trichlorophenyl (363) 3,4,5-tribenzoylphenyl (364) 3,4,5-triacetoxyphenyl (365) 3,4,5-trimethoxyphenyl ( 366) 3,4,5-tri-N-methylaminophenyl (367) 3,4,5-triisobutyrylaminophenyl (368) 3,4,5-triphenoxyphenyl (369) 3,4,5 -Trihydroxyphenyl (370) 2,4,6-tributylphenyl (371) 2,4,6-tri (2-methoxy-2-ethoxy) (Til) phenyl (372) 2,4,6-triphenylphenyl (373) 2,4,6-triethoxycarbonylphenyl (374) 2,4,6-tridodecyloxyphenyl (375) 2,4,6- Trimethylphenyl (376) 2,4,6-trichlorophenyl (377) 2,4,6-tribenzoylphenyl (378) 2,4,6-triacetoxyphenyl (379) 2,4,6-trimethoxyphenyl ( 380) 2,4,6-tri-N-methylaminophenyl (381) 2,4,6-triisobutyrylaminophenyl (382) 2,4,6-triphenoxyphenyl (383) 2,4,6 -Trihydroxyphenyl (384) pentafluorophenyl (385) pentachlorophenyl (386) pentamethoxyphenyl ( 87) 6-N-methylsulfamoyl-8-methoxy-2-naphthyl (388) 5-N-methylsulfamoyl-2-naphthyl (389) 6-N-phenylsulfamoyl-2-naphthyl (390) ) 5-Ethoxy-7-N-methylsulfamoyl-2-naphthyl (391) 3-methoxy-2-naphthyl (392) 1-ethoxy-2-naphthyl (393) 6-N-phenylsulfamoyl-8 -Methoxy-2-naphthyl (394) 5-methoxy-7-N-phenylsulfamoyl-2-naphthyl (395) 1- (4-methylphenyl) -2-naphthyl (396) 6,8-di-N -Methylsulfamoyl-2-naphthyl (397) 6-N-2-acetoxyethylsulfamoyl-8-methoxy-2-naphthyl (398) 5-acetoxy- 7-N-phenylsulfamoyl-2-naphthyl (399) 3-benzoyloxy-2-naphthyl (400) 5-acetylamino-1-naphthyl (401) 2-methoxy-1-naphthyl (402) 4-phenoxy -1-naphthyl (403) 5-N-methylsulfamoyl-1-naphthyl (404) 3-N-methylcarbamoyl-4-hydroxy-1-naphthyl (405) 5-methoxy-6-N-ethylsulfa Moyl-1-naphthyl (406) 7-tetradecyloxy-1-naphthyl (407) 4- (4-methylphenoxy) -1-naphthyl (408) 6-N-methylsulfamoyl-1-naphthyl (409) 3-N, N-dimethylcarbamoyl-4-methoxy-1-naphthyl (410) 5-methoxy-6-N-benzylsulfamo -1-naphthyl (411) 3,6-di -N- phenyl sulfamoyl-1-naphthyl (418) Benzyl (419) 4-methoxybenzyl

Figure 2010060981
Figure 2010060981

Figure 2010060981
Figure 2010060981

R=(424)メチル
(425)フェニル
(426)ブチル
R = (424) methyl (425) phenyl (426) butyl

Figure 2010060981
Figure 2010060981

Figure 2010060981
Figure 2010060981

R=(430)メチル
(431)エチル
(432)ブチル
(433)オクチル
(434)ドデシル
(435)2−ブトキシ2−エトキシエチル
(436)ベンジル
(437)4−メトキシベンジル
R = (430) methyl (431) ethyl (432) butyl (433) octyl (434) dodecyl (435) 2-butoxy-2-ethoxyethyl (436) benzyl (437) 4-methoxybenzyl

Figure 2010060981
Figure 2010060981

Figure 2010060981
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本発明の一般式(1)で表される低分子化合物の合成例を示す。尚、下記合成例に示す以外の化合物に対しても、これらの例と同様に合成できる。   The synthesis example of the low molecular weight compound represented by General formula (1) of this invention is shown. In addition, it can synthesize | combine similarly to these examples also about compounds other than shown to the following synthesis example.

[合成例1]
(例示化合物I−(2)の合成)
2,4−ジ−m−トルイジノ−6−クロル−1,3,5−トリアジン8.1kg(25モル)と、p−アニシジン3.1kg(25モル)とを入れ、DMF20Lで溶解した。次いで、炭酸カリウム5.2kg(37.5モル)を加え120℃で2時間反応させた。冷却後、酢酸エチル100Lで抽出し、抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出液:n−ヘキサン/酢酸エチル=5/1(体積比))で単離し目的物を得た(収量9.1kg、収率88%)。化学構造はNMRスペクトル、MSスペクトルおよび元素分析で確認した。
[Synthesis Example 1]
(Synthesis of Exemplified Compound I- (2))
8.1 kg (25 mol) of 2,4-di-m-toluidino-6-chloro-1,3,5-triazine and 3.1 kg (25 mol) of p-anisidine were added and dissolved with 20 L of DMF. Subsequently, 5.2 kg (37.5 mol) of potassium carbonate was added and reacted at 120 ° C. for 2 hours. After cooling, extraction was performed with 100 L of ethyl acetate, and the extract was dried over anhydrous sodium sulfate. Ethyl acetate was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was isolated by silica gel chromatography (eluent: n-hexane / ethyl acetate = 5/1 (volume ratio)) to obtain the desired product (yield 9.1 kg, yield). 88%). The chemical structure was confirmed by NMR spectrum, MS spectrum and elemental analysis.

次に、本発明の前記一般式(2)で表される化合物について説明する。   Next, the compound represented by the general formula (2) of the present invention will be described.

前記一般式(2)で表される化合物は、直線的な分子構造を有することが好ましい。「直線的な分子構造」とは、熱力学的に最も安定な構造において棒状化合物の分子構造が直線的であることを意味する。「熱力学的に最も安定な構造」は、結晶構造解析または分子軌道計算によって求めることができる。例えば、分子軌道計算ソフト(例、WinMOPAC2000(富士通(株)製))を用いて分子軌道計算を行い、化合物の生成熱が最も小さくなるような分子の構造を求めることができる。「分子構造が直線的である」とは、前記のように分子軌道の計算等により求められる熱力学的に最も安定な構造において、分子構造全体の角度が140°〜180°であることを意味する。   The compound represented by the general formula (2) preferably has a linear molecular structure. “Linear molecular structure” means that the molecular structure of the rod-like compound is linear in the most thermodynamically stable structure. The “thermodynamically most stable structure” can be obtained by crystal structure analysis or molecular orbital calculation. For example, molecular orbital calculation is performed using molecular orbital calculation software (eg, WinMOPAC2000 (manufactured by Fujitsu Limited)), and the molecular structure that minimizes the heat of formation of the compound can be obtained. “The molecular structure is linear” means that the angle of the entire molecular structure is 140 ° to 180 ° in the thermodynamically most stable structure obtained by molecular orbital calculation as described above. To do.

一般式(2)において、R21及びR22は、それぞれ独立に、芳香族基である。本明細書において、「芳香族基」は、アリール基(芳香族性炭化水素基)、置換アリール基、芳香族性ヘテロ環基及び置換芳香族性ヘテロ環基を含む。前記芳香族基としては、アリール基及び置換アリール基の方が、芳香族性ヘテロ環基及び置換芳香族性ヘテロ環基よりも好ましい。芳香族性ヘテロ環基のヘテロ環は、一般には不飽和である。芳香族性ヘテロ環は、5員環、6員環または7員環であることが好ましく、5員環または6員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に最多の二重結合を有する。前記ヘテロ環のヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましく、窒素原子または硫黄原子がさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、及び1,3,5−トリアジン環が含まれる。 In the general formula (2), R 21 and R 22 are each independently an aromatic group. In the present specification, the “aromatic group” includes an aryl group (aromatic hydrocarbon group), a substituted aryl group, an aromatic heterocyclic group, and a substituted aromatic heterocyclic group. As the aromatic group, an aryl group and a substituted aryl group are more preferable than an aromatic heterocyclic group and a substituted aromatic heterocyclic group. The heterocyclic ring of the aromatic heterocyclic group is generally unsaturated. The aromatic heterocycle is preferably a 5-membered ring, 6-membered ring or 7-membered ring, more preferably a 5-membered ring or 6-membered ring. Aromatic heterocycles generally have the most double bonds. As the hetero atom of the heterocyclic ring, a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom is preferable, and a nitrogen atom or a sulfur atom is more preferable. Examples of aromatic heterocycles include furan ring, thiophene ring, pyrrole ring, oxazole ring, isoxazole ring, thiazole ring, isothiazole ring, imidazole ring, pyrazole ring, furazane ring, triazole ring, pyran ring, pyridine ring , A pyridazine ring, a pyrimidine ring, a pyrazine ring, and a 1,3,5-triazine ring.

前記芳香族基の芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環及びピラジン環が好ましく、ベンゼン環が特に好ましい。   As the aromatic ring of the aromatic group, a benzene ring, a furan ring, a thiophene ring, a pyrrole ring, an oxazole ring, a thiazole ring, an imidazole ring, a triazole ring, a pyridine ring, a pyrimidine ring and a pyrazine ring are preferable, and a benzene ring is particularly preferable preferable.

置換アリール基及び置換芳香族性ヘテロ環基の置換基の例には、ハロゲン原子(F、Cl、Br、I)、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、アルキルアミノ基(例、メチルアミノ、エチルアミノ、ブチルアミノ、ジメチルアミノ)、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、アルキルカルバモイル基(例、N−メチルカルバモイル、N−エチルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル)、スルファモイル基、アルキルスルファモイル基(例、N−メチルスルファモイル、N−エチルスルファモイル、N,N−ジメチルスルファモイル)、ウレイド基、アルキルウレイド基(例、N−メチルウレイド、N,N−ジメチルウレイド、N,N,N′−トリメチルウレイド)、アルキル基(例、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘプチル、オクチル、イソプロピル、s−ブチル、t−アミル、シクロヘキシル、シクロペンチル)、アルケニル基(例、ビニル、アリル、ヘキセニル)、アルキニル基(例、エチニル、ブチニル)、アシル基(例、ホルミル、アセチル、ブチリル、ヘキサノイル、ラウリル)、アシルオキシ基(例、アセトキシ、ブチリルオキシ、ヘキサノイルオキシ、ラウリルオキシ)、アルコキシ基(例、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ)、アリールオキシ基(例、フェノキシ)、アルコキシカルボニル基(例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘプチルオキシカルボニル)、アリールオキシカルボニル基(例、フェノキシカルボニル)、アルコキシカルボニルアミノ基(例、ブトキシカルボニルアミノ、ヘキシルオキシカルボニルアミノ)、アルキルチオ基(例、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘプチルチオ、オクチルチオ)、アリールチオ基(例、フェニルチオ)、アルキルスルホニル基(例、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、ブチルスルホニル、ペンチルスルホニル、ヘプチルスルホニル、オクチルスルホニル)、アミド基(例、アセトアミド、ブチルアミド基、ヘキシルアミド、ラウリルアミド)及び非芳香族性ヘテロ環基(例、モルホリル、ピラジニル)が含まれる。   Examples of the substituent of the substituted aryl group and the substituted aromatic heterocyclic group include a halogen atom (F, Cl, Br, I), a hydroxyl group, a carboxyl group, a cyano group, an amino group, an alkylamino group (eg, methyl). Amino, ethylamino, butylamino, dimethylamino), nitro group, sulfo group, carbamoyl group, alkylcarbamoyl group (eg, N-methylcarbamoyl, N-ethylcarbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl), sulfamoyl group, alkylsulfuryl group Famoyl group (eg, N-methylsulfamoyl, N-ethylsulfamoyl, N, N-dimethylsulfamoyl), ureido group, alkylureido group (eg, N-methylureido, N, N-dimethylureido) , N, N, N′-trimethylureido), an alkyl group (eg, methyl, ethyl, propyl, Til, pentyl, heptyl, octyl, isopropyl, sec-butyl, t-amyl, cyclohexyl, cyclopentyl), alkenyl group (eg, vinyl, allyl, hexenyl), alkynyl group (eg, ethynyl, butynyl), acyl group (eg, Formyl, acetyl, butyryl, hexanoyl, lauryl), acyloxy groups (eg, acetoxy, butyryloxy, hexanoyloxy, lauryloxy), alkoxy groups (eg, methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, pentyloxy, heptyloxy, octyloxy) An aryloxy group (eg, phenoxy), an alkoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, butoxycarbonyl, pentyloxycarbonyl, heptyloxycarbonyl), an Alkyloxy group (eg, phenoxycarbonyl), alkoxycarbonylamino group (eg, butoxycarbonylamino, hexyloxycarbonylamino), alkylthio group (eg, methylthio, ethylthio, propylthio, butylthio, pentylthio, heptylthio, octylthio), arylthio Group (eg, phenylthio), alkylsulfonyl group (eg, methylsulfonyl, ethylsulfonyl, propylsulfonyl, butylsulfonyl, pentylsulfonyl, heptylsulfonyl, octylsulfonyl), amide group (eg, acetamide, butylamide group, hexylamide, laurylamide) ) And non-aromatic heterocyclic groups (eg, morpholyl, pyrazinyl).

置換アリール基及び置換芳香族性ヘテロ環基の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、アルキル置換アミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基及びアルキル基が好ましい。   Examples of the substituent of the substituted aryl group and the substituted aromatic heterocyclic group include a halogen atom, a cyano group, a carboxyl group, a hydroxyl group, an amino group, an alkyl-substituted amino group, an acyl group, an acyloxy group, an amide group, an alkoxycarbonyl group, Alkoxy groups, alkylthio groups and alkyl groups are preferred.

上述のアルキルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基及びアルキルチオ基のアルキル部分と、アルキル基とは、さらに置換基を有していてもよい。アルキル部分及びアルキル基の置換基の例には、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、アルキルアミノ基、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、アルキルカルバモイル基、スルファモイル基、アルキルスルファモイル基、ウレイド基、アルキルウレイド基、アルケニル基、アルキニル基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アミド基及び非芳香族性ヘテロ環基が含まれる。アルキル部分及びアルキル基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニル基及びアルコキシ基が好ましい。   The alkyl part of the above-mentioned alkylamino group, alkoxycarbonyl group, alkoxy group and alkylthio group, and the alkyl group may further have a substituent. Examples of the alkyl moiety and the substituent of the alkyl group include halogen atom, hydroxyl group, carboxyl group, cyano group, amino group, alkylamino group, nitro group, sulfo group, carbamoyl group, alkylcarbamoyl group, sulfamoyl group, alkylsulfur group. Famoyl group, ureido group, alkylureido group, alkenyl group, alkynyl group, acyl group, acyloxy group, alkoxy group, aryloxy group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, alkoxycarbonylamino group, alkylthio group, arylthio group, An alkylsulfonyl group, an amide group, and a non-aromatic heterocyclic group are included. As the substituent for the alkyl moiety and the alkyl group, a halogen atom, a hydroxyl group, an amino group, an alkylamino group, an acyl group, an acyloxy group, an acylamino group, an alkoxycarbonyl group, and an alkoxy group are preferable.

一般式(2)において、Lは、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、−O−、−CO−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基を表す。前記アルキレン基は、鎖状でもよく環状構造を有していてもよい。環状アルキレン基としては、シクロヘキシレンが好ましく、1,4−シクロヘキシレンが特に好ましい。鎖状アルキレン基としては、直鎖状アルキレン基の方が分岐を有するアルキレン基よりも好ましい。アルキレン基の炭素数は、1〜20であることが好ましく、1〜15であることがより好ましく、1〜10であることがさらに好ましく、1〜8であることが特に好ましく、1〜6であることが最も好ましい。 In General Formula (2), L 1 represents a divalent linking group selected from the group consisting of an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, —O—, —CO—, and combinations thereof. The alkylene group may be a chain or may have a cyclic structure. As the cyclic alkylene group, cyclohexylene is preferable, and 1,4-cyclohexylene is particularly preferable. As the chain alkylene group, a linear alkylene group is more preferable than a branched alkylene group. The alkylene group preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 15 carbon atoms, still more preferably 1 to 10 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, and 1 to 6 carbon atoms. Most preferably it is.

アルケニレン基及びアルキニレン基は、環状構造よりも鎖状構造を有することが好ましく、分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造を有することがさらに好ましい。アルケニレン基及びアルキニレン基の炭素数は、2〜10であることが好ましく、2〜8であることがより好ましく、2〜6であることがさらに好ましく、2〜4であることが特に好ましく、炭素数2であること(ビニレンまたはエチニレン)が最も好ましい。   The alkenylene group and the alkynylene group preferably have a chain structure rather than a cyclic structure, and more preferably have a linear structure rather than a branched chain structure. The alkenylene group and the alkynylene group preferably have 2 to 10 carbon atoms, more preferably 2 to 8 carbon atoms, further preferably 2 to 6 carbon atoms, and particularly preferably 2 to 4 carbon atoms. The number 2 is most preferable (vinylene or ethynylene).

下記組み合わせからなる2価の連結基の例を示す。   The example of the bivalent coupling group which consists of the following combination is shown.

L−1:−O−CO−アルキレン基−CO−O−
L−2:−CO−O−アルキレン基−O−CO−
L−3:−O−CO−アルケニレン基−CO−O−
L−4:−CO−O−アルケニレン基−O−CO−
L−5:−O−CO−アルキニレン基−CO−O−
L−6:−CO−O−アルキニレン基−O−CO−
一般式(2)で表される化合物の分子構造において、Lを挟んで、R21とR22とが形成する角度は、140°〜180°であることが好ましい。
L-1: —O—CO-alkylene group —CO—O—
L-2: -CO-O-alkylene group -O-CO-
L-3: —O—CO—alkenylene group —CO—O—
L-4: -CO-O-alkenylene group -O-CO-
L-5: -O-CO-alkynylene group -CO-O-
L-6: -CO-O-alkynylene group -O-CO-
In the molecular structure of the compound represented by the general formula (2), the angle formed by R 21 and R 22 across L 1 is preferably 140 ° to 180 °.

一般式(2)で表される化合物の具体例を示す。   Specific examples of the compound represented by the general formula (2) are shown.

Figure 2010060981
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Figure 2010060981
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Figure 2010060981
Figure 2010060981

Figure 2010060981
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前記一般式(2)の例示化合物(1′)〜(34′)、(41′)、(42′)は、シクロヘキサン環の1位と4位とに二つの不斉炭素原子を有する。ただし、一般式(2)の例示化合物(1′)、(4′)〜(34′)、(41′)、(42′)は、対称なメソ型の分子構造を有するため光学異性体(光学活性)はなく、幾何異性体(トランス型とシス型)のみ存在する。一般式(2)の例示化合物(1′)のトランス型(1−trans)とシス型(1−cis)とを、以下に示す。   The exemplary compounds (1 ′) to (34 ′), (41 ′) and (42 ′) of the general formula (2) have two asymmetric carbon atoms at the 1-position and the 4-position of the cyclohexane ring. However, since the exemplified compounds (1 ′), (4 ′) to (34 ′), (41 ′) and (42 ′) of the general formula (2) have a symmetrical meso type molecular structure, There is no optical activity) and only geometric isomers (trans and cis forms) exist. The trans form (1-trans) and cis form (1-cis) of the exemplified compound (1 ′) of the general formula (2) are shown below.

Figure 2010060981
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上述したように、一般式(2)で表される化合物は直線的な分子構造を有することが好ましい。そのため、トランス型の方がシス型よりも好ましい。一般式(2)の例示化合物(2′)及び(3′)は、幾何異性体に加えて光学異性体(合計4種の異性体)を有する。前記幾何異性体については、同様にトランス型の方がシス型よりも好ましい。前記光学異性体については、特に優劣はなく、D、Lあるいはラセミ体のいずれでもよい。一般式(2)の例示化合物(43′)〜(45′)では、中心のビニレン結合にトランス型とシス型とがある。前記と同様の理由で、トランス型の方がシス型よりも好ましい。   As described above, the compound represented by the general formula (2) preferably has a linear molecular structure. Therefore, the trans type is preferable to the cis type. The exemplified compounds (2 ′) and (3 ′) of the general formula (2) have optical isomers (a total of four isomers) in addition to geometric isomers. As for the geometric isomer, the trans type is similarly preferable to the cis type. The optical isomer is not particularly superior or inferior, and may be D, L, or a racemate. In the exemplified compounds (43 ′) to (45 ′) of the general formula (2), the central vinylene bond includes a trans type and a cis type. For the same reason as described above, the trans type is preferable to the cis type.

本発明においては、溶液状態における紫外線吸収スペクトルにおいて最大吸収波長(λmax)が250nmより短波長側にある一般式(2)で表される化合物を、二種類以上併用してもよい。一般式(2)で表される化合物は、文献記載の方法を参照して合成できる。このような文献としては、「Mol.Cryst.Liq.Cryst.,」53巻、229ページ(1979年)、同89巻、93ページ(1982年)、同145巻、111ページ(1987年)、同170巻、43ページ(1989年)、J.Am.Chem.Soc.,113巻、1349ページ(1991年)、同118巻、5346ページ(1996年)、同92巻、1582ページ(1970年)、J.Org.Chem.,40巻、420ページ(1975年)、Tetrahedron、48巻16号、3437ページ(1992年)を挙げることができる。   In the present invention, two or more compounds represented by the general formula (2) having a maximum absorption wavelength (λmax) on the shorter wavelength side than 250 nm in the ultraviolet absorption spectrum in a solution state may be used in combination. The compound represented by the general formula (2) can be synthesized with reference to methods described in the literature. Such documents include “Mol. Cryst. Liq. Cryst.”, Vol. 53, 229 pages (1979), 89, 93 pages (1982), 145 volumes, 111 pages (1987), 170, 43 (1989), J. Am. Am. Chem. Soc. 113, p. 1349 (1991), p. 118, p. 5346 (1996), p. 92, p. 1582 (1970). Org. Chem. 40, 420 pages (1975), Tetrahedron, Vol. 48, No. 16, page 3437 (1992).

次に、本発明の前記一般式(3)の化合物について説明する。前記一般式(3)中、R31〜R37、R39及びR30はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。該置換基としては後述の置換基Tが適用できる。 Next, the compound of the general formula (3) of the present invention will be described. In the general formula (3), R 31 to R 37 , R 39 and R 30 each independently represent a hydrogen atom or a substituent. As the substituent, a substituent T 1 described later can be applied.

また、R31〜R35のうち少なくとも1つは電子供与性基を表す。一般式(3)においては、R31、R33またはR35のうちの1つが電子供与性基であることが好ましく、R33が電子供与性基であることがより好ましい。 At least one of R 31 to R 35 represents an electron donating group. In the general formula (3), it is preferable that one of R 31 , R 33 or R 35 is an electron donating group, and it is more preferable that R 33 is an electron donating group.

前記「電子供与性基」とはHammetのσp値が0以下のものを表し、Chem.Rev.,91,165(1991).記載のHammetのσp値が0以下のものが好ましく適用でき、より好ましくは−0.85〜0のものが用いられる。前記電子供与性基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基などが挙げられる。   The “electron-donating group” refers to one having a Hammett σp value of 0 or less. Rev. 91, 165 (1991). Those having a Hammett's σp value of 0 or less are preferably applicable, and those having −0.85 to 0 are more preferably used. Examples of the electron donating group include an alkyl group, an alkoxy group, an amino group, and a hydroxyl group.

前記電子供与性基として好ましくはアルキル基、アルコキシ基であり、より好ましくはアルコキシ基(好ましくは炭素数1〜12、より好ましくは炭素数1〜8、更に好ましくは炭素数1〜6、特に好ましくは炭素数1〜4である。)である。   The electron donating group is preferably an alkyl group or an alkoxy group, more preferably an alkoxy group (preferably having 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms, still more preferably 1 to 6 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 6 carbon atoms). Is a C1-C4).

一般式(3)におけるR31として好ましくは、水素原子または電子供与性基であり、より好ましくはアルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、更に好ましくは、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基であり、特に好ましくはアルコキシ基(好ましくは炭素数1〜12、より好ましくは炭素数1〜8、更に好ましくは炭素数1〜6、特に好ましくは炭素数1〜4)であり、最も好ましくはメトキシ基である。 R 31 in the general formula (3) is preferably a hydrogen atom or an electron donating group, more preferably an alkyl group, an alkoxy group, an amino group, or a hydroxyl group, and still more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. , An alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, particularly preferably an alkoxy group (preferably 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms, still more preferably 1 to 6 carbon atoms, particularly preferably 1 carbon atom). To 4), most preferably a methoxy group.

一般式(3)におけるR32として好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、より好ましくは、水素原子、アルキル基(好ましくは炭素数1〜4、より好ましくはメチル基である。)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜12、より好ましくは炭素数1〜8、更に好ましくは炭素数1〜6、特に好ましくは炭素数1〜4)である。特に好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基である。 R 32 in the general formula (3) is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an amino group, or a hydroxyl group, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group (preferably having 1 to 4 carbon atoms, more preferably methyl). And an alkoxy group (preferably having 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms, still more preferably 1 to 6 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 4 carbon atoms). Particularly preferred are a hydrogen atom, a methyl group and a methoxy group.

一般式(3)におけるR33として好ましくは、水素原子または電子供与性基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、更に好ましくは、アルキル基、アルコキシ基であり、特に好ましくはアルコキシ基(好ましくは炭素数1〜12、より好ましくは炭素数1〜8、更に好ましくは炭素数1〜6、特に好ましくは炭素数1〜4)である。最も好ましくはn−プロポキシ基、エトキシ基、メトキシ基である。 R 33 in the general formula (3) is preferably a hydrogen atom or an electron donating group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an amino group, or a hydroxyl group, and still more preferably an alkyl group or an alkoxy group. And particularly preferably an alkoxy group (preferably having 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms, still more preferably 1 to 6 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 4 carbon atoms). Most preferred are n-propoxy group, ethoxy group and methoxy group.

一般式(3)におけるR34として好ましくは、水素原子または電子供与性基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、更に好ましくは、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基(好ましくは炭素数1〜12、より好ましくは炭素数1〜8、更に好ましくは炭素数1〜6、特に好ましくは炭素数1〜4)であり、特に好ましくは水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基であり、最も好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基である。 R 34 in the general formula (3) is preferably a hydrogen atom or an electron donating group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an amino group, or a hydroxyl group, still more preferably a hydrogen atom or a carbon number. An alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms (preferably having 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms, still more preferably 1 to 6 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 4 carbon atoms). And particularly preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms and an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and most preferably a hydrogen atom, a methyl group and a methoxy group.

一般式(3)におけるR35として好ましい基は、R32で挙げた基と同じものが挙げられる。 Preferred examples of R 35 in the general formula (3) include the same groups as those exemplified for R 32 .

一般式(3)におけるR36、R37、R39及びR30として好ましくは、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは、水素原子、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子である。 R 36 , R 37 , R 39 and R 30 in the general formula (3) are preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and a halogen atom, more preferably. , A hydrogen atom or a halogen atom, more preferably a hydrogen atom.

一般式(3)中、R38は、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数2〜6のアルケニル基、炭素数2〜6のアルキニル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリールオキシ基、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基、炭素数2〜12のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表し、可能な場合には置換基を有してもよい。該置換基としては後述の置換基Tが適用できる。 In general formula (3), R38 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, Represents an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms, an acylamino group having 2 to 12 carbon atoms, a cyano group, or a halogen atom, if possible May have a substituent. As the substituent, a substituent T 1 described later can be applied.

一般式(3)におけるR38として好ましくは、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数2〜6のアルキニル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数2〜12アリールオキシ基であり、より好ましくは、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリールオキシ基であり、更に好ましくは炭素数1〜12のアルコキシ基(好ましくは炭素数1〜12、より好ましくは炭素数1〜8、更に好ましくは炭素数1〜6、特に好ましくは炭素数1〜4である。)であり、特に好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基である。 R 38 in the general formula (3) is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, or a carbon number. An aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and an aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 1 carbon atom. 12 alkoxy groups (preferably having 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms, still more preferably 1 to 6 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 4 carbon atoms). A methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an iso-propoxy group, and an n-butoxy group.

以下に置換基Tについて説明する。 Hereinafter, the substituent T 1 will be described.

前記置換基Tとしては、例えば、アルキル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜12、特に好ましくは炭素数1〜8であり、例えばメチル、エチル、iso−プロピル、tert−ブチル、n−オクチル、n−デシル、n−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜12、特に好ましくは炭素数2〜8であり、例えばビニル、アリル、2−ブテニル、3−ペンテニルなどが挙げられる。)、アルキニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜12、特に好ましくは炭素数2〜8であり、例えばプロパルギル、3−ペンチニルなどが挙げられる。)、アリール基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニル、p−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。)、置換または未置換のアミノ基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは炭素数0〜10、特に好ましくは炭素数0〜6であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜12、特に好ましくは炭素数1〜8であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜16、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニルオキシ、2−ナフチルオキシなどが挙げられる。)、アシル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは炭素数7〜16、特に好ましくは炭素数7〜10であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは炭素数7〜16、特に好ましくは炭素数7〜12であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、スルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。)、スルファモイル基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは炭素数0〜16、特に好ましくは炭素数0〜12であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。)、カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜16、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。)、アルキルスルホニル基またはアリールスルホニル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。)、アルキルスルフィニル基またはアリールスルフィニル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。)、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは1〜12であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる。)、シリル基(好ましくは、炭素数3〜40、より好ましくは炭素数3〜30、特に好ましくは、炭素数3〜24であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる)などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。 Examples of the substituent T 1 include an alkyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, such as methyl, ethyl, iso-propyl, tert-butyl, n-octyl, n-decyl, n-hexadecyl, cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, etc.), an alkenyl group (preferably having 2-20 carbon atoms, more preferably 2-12 carbon atoms, especially Preferably it has 2 to 8 carbon atoms, and examples thereof include vinyl, allyl, 2-butenyl, 3-pentenyl, etc.), alkynyl group (preferably 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, especially Preferably it is C2-C8, for example, propargyl, 3-pentynyl etc. are mentioned), an aryl group (preferably carbon 6 to 30, more preferably 6 to 20 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, such as phenyl, p-methylphenyl, naphthyl, etc.), substituted or unsubstituted amino groups (preferably Is a carbon number of 0-20, more preferably a carbon number of 0-10, particularly preferably a carbon number of 0-6, for example, amino, methylamino, dimethylamino, diethylamino, dibenzylamino, etc.), an alkoxy group (Preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably having 1 to 12 carbon atoms, and particularly preferably having 1 to 8 carbon atoms, such as methoxy, ethoxy, butoxy, etc.), an aryloxy group (preferably having a carbon number) 6-20, more preferably 6-16 carbon atoms, particularly preferably 6-12 carbon atoms, such as phenyloxy, 2-naphthylo ), An acyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as acetyl, benzoyl, formyl, pivaloyl, etc. An alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, such as methoxycarbonyl and ethoxycarbonyl), aryl An oxycarbonyl group (preferably having a carbon number of 7 to 20, more preferably a carbon number of 7 to 16, particularly preferably a carbon number of 7 to 10, such as phenyloxycarbonyl), an acyloxy group (preferably having a carbon number of 2 to 20, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms, Setokishi and benzoyloxy. ), An acylamino group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms, and examples thereof include acetylamino and benzoylamino), alkoxycarbonylamino group (Preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, such as methoxycarbonylamino), aryloxycarbonylamino group (preferably having carbon number) 7 to 20, more preferably 7 to 16 carbon atoms, particularly preferably 7 to 12 carbon atoms, such as phenyloxycarbonylamino, and the like, and sulfonylamino groups (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably Has 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms. And sulfamoyl group (preferably having 0 to 20 carbon atoms, more preferably 0 to 16 carbon atoms, particularly preferably 0 to 12 carbon atoms, such as sulfamoyl and methylsulfamoyl). , Dimethylsulfamoyl, phenylsulfamoyl, etc.), a carbamoyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as carbamoyl). , Methylcarbamoyl, diethylcarbamoyl, phenylcarbamoyl, etc.), an alkylthio group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as methylthio, Ethylthio etc.), arylthio group (preferably Has 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 16 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, and examples thereof include phenylthio.), An alkylsulfonyl group or an arylsulfonyl group (preferably 1 to 1 carbon atom). 20, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as mesyl, tosyl, etc.), alkylsulfinyl group or arylsulfinyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more Preferably it is C1-C16, Most preferably, it is C1-C12, for example, methanesulfinyl, benzenesulfinyl etc. are mentioned), a ureido group (preferably C1-C20, more preferably C1-C1). 16, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as ureido, methylureido, phenylurea And id. ), Phosphoric acid amide groups (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as diethyl phosphoric acid amide and phenylphosphoric acid amide. ), Hydroxy group, mercapto group, halogen atom (eg fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom), cyano group, sulfo group, carboxyl group, nitro group, hydroxamic acid group, sulfino group, hydrazino group, imino group, Heterocyclic group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, and examples of the hetero atom include a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, specifically, for example, imidazolyl, pyridyl, quinolyl, furyl, piperidyl , Morpholino, benzoxazolyl, benzimidazolyl, benzthiazolyl, etc.), Group (preferably, 3 to 40 carbon atoms, more preferably 3 to 30 carbon atoms, particularly preferably 3 to 24 carbon atoms, e.g., trimethylsilyl, etc. triphenylsilyl and the like) and the like. These substituents may be further substituted.

また、置換基T1が二つ以上ある場合は、同一でもよいし異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。   Moreover, when there are two or more substituents T1, they may be the same or different. If possible, they may be linked together to form a ring.

以下に一般式(3)で表される化合物に関して具体例をあげて詳細に説明する。但し、一般式(3)で表される化合物は以下の具体例によって何ら限定されることはない。   Hereinafter, the compound represented by the general formula (3) will be described in detail with specific examples. However, the compound represented by the general formula (3) is not limited by the following specific examples.

Figure 2010060981
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本発明において一般式(3)で表される化合物は、置換安息香酸とフェノール誘導体との一般的なエステル反応によって合成することができ、エステル結合形成反応であればどのような反応を用いてもよい。例えば、置換安息香酸を酸ハロゲン化物に官能基変換した後、フェノールと縮合する方法や、縮合剤または触媒を用いて置換安息香酸とフェノール誘導体とを脱水縮合する方法などが挙げられる。   In the present invention, the compound represented by the general formula (3) can be synthesized by a general ester reaction between a substituted benzoic acid and a phenol derivative, and any reaction can be used as long as it is an ester bond forming reaction. Good. Examples thereof include a method of converting a substituted benzoic acid to an acid halide and then condensing with phenol, a method of dehydrating condensation of a substituted benzoic acid and a phenol derivative using a condensing agent or a catalyst, and the like.

本発明においては、製造プロセス等を考慮すると置換安息香酸を酸ハロゲン化物に官能基変換した後、フェノールと縮合する方法が好ましい。   In the present invention, considering the production process and the like, a method in which a substituted benzoic acid is converted to an acid halide with a functional group and then condensed with phenol is preferable.

以下に一般式(3)で表される低分子化合物の合成法について具体的に記載するが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。   Although the synthesis method of the low molecular weight compound represented by the general formula (3) is specifically described below, the present invention is not limited by the following specific examples.

[合成例2]
(例示化合物A−12の合成)
2,4,5−トリメトキシ安息香酸45.0g(212ミリモル)、トルエン180ml、ジメチルホルムアミド1.8mlを60℃に加熱した後、塩化チオニル27.8g(233ミリモル)をゆっくりと滴下し、60℃で2.5時間加熱撹拌した。その後、あらかじめ4−ヒドロキシ安息香酸メチル35.4g(233ミリモル)をジメチルホルムアミド27mlに溶解させた液をゆっくりと添加し、80℃で3時間加熱撹拌した。その後、反応液を室温まで冷却し、メタノール270mlを加え、析出した結晶をろ過回収し、白色の結晶として目的化合物を64.5g(収率88%)得た。また化合物の同定はH−NMR(400MHz)およびマススペクトルにより行った。
[Synthesis Example 2]
(Synthesis of Exemplified Compound A-12)
After heating 45.0 g (212 mmol) of 2,4,5-trimethoxybenzoic acid, 180 ml of toluene, and 1.8 ml of dimethylformamide to 60 ° C., 27.8 g (233 mmol) of thionyl chloride was slowly added dropwise. And stirred for 2.5 hours. Thereafter, a solution prepared by previously dissolving 35.4 g (233 mmol) of methyl 4-hydroxybenzoate in 27 ml of dimethylformamide was slowly added, followed by heating and stirring at 80 ° C. for 3 hours. Thereafter, the reaction solution was cooled to room temperature, 270 ml of methanol was added, and the precipitated crystals were collected by filtration to obtain 64.5 g (yield 88%) of the target compound as white crystals. The compound was identified by 1 H-NMR (400 MHz) and mass spectrum.

H−NMR(CDCl)δ3.95(m,9H),3.99(s,3H),6.57(s,1H),7.28(d,2H),7.57(s,1H)8.11(d,2H)
マススペクトル:m/z 347(M+H)得られた化合物の融点は121〜123℃であった。
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ 3.95 (m, 9H), 3.99 (s, 3H), 6.57 (s, 1H), 7.28 (d, 2H), 7.57 (s, 1H) 8.11 (d, 2H)
Mass spectrum: m / z 347 (M + H) + The melting point of the obtained compound was 121-123 ° C.

次に、本発明の前記一般式(4)の化合物について説明する。   Next, the compound of the general formula (4) of the present invention will be described.

前記一般式(4)において、R41及びR43がアリール基または芳香族ヘテロ環を表す場合は、R41及びR43は互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。R41及びR43で表されるアリール基及びR43で表されるアリールカルボニル基に含まれるアリール基としては、好ましくは炭素数6〜30のアリール基である。上記前記アリール基は、単環であってもよいし、さらに他の環と縮合環を形成してもよい。また、可能な場合には置換基を有してもよく、該置換基としては後述の置換基Tが適用できる。なかでも、炭素数6〜20のアリール基がより好ましく、炭素数6〜12のアリール基が特に好ましい。上記前記アリール基としては、例えば、フェニル基、p−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。 In the general formula (4), when R 41 and R 43 represent an aryl group or an aromatic heterocycle, R 41 and R 43 may be different from each other or the same. The aryl group contained in the aryl group represented by R 41 and R 43 and the arylcarbonyl group represented by R 43 is preferably an aryl group having 6 to 30 carbon atoms. The aryl group may be a single ring or may form a condensed ring with another ring. Further, if possible, it may have a substituent, and the substituent T 2 described later can be applied as the substituent. Among these, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms is more preferable, and an aryl group having 6 to 12 carbon atoms is particularly preferable. As said aryl group, a phenyl group, p-methylphenyl group, a naphthyl group etc. are mentioned, for example.

一般式(4)において、R42はアリーレン基または芳香族ヘテロ環を表し、繰り返し単位中のR42は、すべて同一であってもよいし異なっていてもよい。前記アリーレン基として好ましくは炭素数6〜30のアリーレン基であり、前記アリーレン基は単環であってもよいし、さらに他の環と縮合環を形成してもよい。また、可能な場合には置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基T2が適用できる。 In the general formula (4), R 42 represents an arylene group or an aromatic heterocycle, and all R 42 in the repeating unit may be the same or different. The arylene group is preferably an arylene group having 6 to 30 carbon atoms, and the arylene group may be monocyclic or may form a condensed ring with another ring. Further, if possible, it may have a substituent, and the substituent T2 described later can be applied as the substituent.

一般式(4)中、R42で表されるアリーレン基としてより好ましくは炭素数6〜20のアリーレン基であり、特に好ましくは炭素数6〜12のアリーレン基である。このようなアリーレン基としては、例えばフェニレン基、p−メチルフェニレン基、ナフチレン基などが挙げられる。 In the general formula (4), more preferably an arylene group having 6 to 20 carbon atoms as the arylene group represented by R 42, especially preferably an arylene group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of such an arylene group include a phenylene group, a p-methylphenylene group, and a naphthylene group.

一般式(4)中、R41、R42、R43で表される芳香族ヘテロ環は、酸素原子、窒素原子または硫黄原子のうち少なくとも1つを含む芳香族ヘテロ環であり、好ましくは5または6員環の酸素原子、窒素原子または硫黄原子のうち少なくとも1つを含む芳香族ヘテロ環である。また、可能な場合にはさらに置換基を有してもよい。置換基としては後述の置換基T2が適用できる。 In the general formula (4), the aromatic heterocycle represented by R 41 , R 42 and R 43 is an aromatic heterocycle containing at least one of an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom, preferably 5 Or an aromatic heterocycle containing at least one of a six-membered oxygen atom, nitrogen atom or sulfur atom. Moreover, you may have a substituent further if possible. Substituent T2 described later can be applied as the substituent.

一般式(4)中、R41、R42、R43で表される芳香族ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデン、ピロロトリアゾール、ピラゾロトリアゾールなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましいものは、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾールである。 In the general formula (4), specific examples of the aromatic heterocycle represented by R 41 , R 42 , R 43 include, for example, furan, pyrrole, thiophene, imidazole, pyrazole, pyridine, pyrazine, pyridazine, triazole, triazine. , Indole, indazole, purine, thiazoline, thiazole, thiadiazole, oxazoline, oxazole, oxadiazole, quinoline, isoquinoline, phthalazine, naphthyridine, quinoxaline, quinazoline, cinnoline, pteridine, acridine, phenanthroline, phenazine, tetrazole, benzimidazole, benzoxazole Benzthiazole, benzotriazole, tetrazaindene, pyrrolotriazole, pyrazolotriazole and the like. Preferred as the aromatic heterocycle are benzimidazole, benzoxazole, benzthiazole, and benzotriazole.

一般式(4)中、L41、L42はそれぞれ独立に単結合または2価の連結基を表す。L41、L42は、同じであってもよく異なっていてもよい。また、繰り返し単位中のL42は、すべて同一であってもよいし異なっていてもよい。 In General Formula (4), L 41 and L 42 each independently represent a single bond or a divalent linking group. L 41 and L 42 may be the same or different. In addition, L 42 in the repeating unit may all be the same or different.

前記2価の連結基の例として好ましいものは、−NR−(Rは水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基またはアリール基を表す)で表される基、−SO−、−CO−、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、−O−、−S−、−SO−及びこれらの2価基を2つ以上組み合わせて得られる基であり、その内より好ましいものは−O−、−CO−、−SONR−、−NRSO−、−CONR−、−NRCO−、−COO−、及びOCO−、アルキニレン基であり、最も好ましくは−CONR−、−NRCO−、−COO−、及びOCO−、アルキニレン基である。 A preferable example of the divalent linking group is a group represented by —NR 7 — (R 7 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group which may have a substituent), —SO 2. -, -CO-, an alkylene group, a substituted alkylene group, an alkenylene group, a substituted alkenylene group, an alkynylene group, -O-, -S-, -SO- and a group obtained by combining two or more of these divalent groups. There, the preferred than them -O -, - CO -, - SO 2 NR 7 -, - NR 7 SO 2 -, - CONR 7 -, - NR 7 CO -, - COO-, and OCO-, alkynylene A group, most preferably —CONR 7 —, —NR 7 CO—, —COO—, OCO—, and an alkynylene group.

本発明の一般式(4)で表される化合物において、R42はL41及びL42と結合するが、R42がフェニレン基である場合、L41−R42−L42、及びL42−R42−L42は互いにパラ位(1,4−位)の関係にあることが最も好ましい。 In the compound represented by the general formula (4) of the present invention, the R 42 may bind to L 41 and L 42, when R 42 is a phenylene group, L 41 -R 42 -L 42, and L 42 - R 42 -L 42 are most preferably in a para-position (1,4-position) to each other.

一般式(4)中、nは3以上の整数を表し、好ましくは3〜7であり、より好ましくは3〜5である。   In general formula (4), n represents an integer greater than or equal to 3, Preferably it is 3-7, More preferably, it is 3-5.

以下に前述の一般式(4)における置換基Tについて説明する。 The substituent T 2 in the general formula (4) will be described below.

置換基Tとして好ましくは、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、アルキル基(好ましくは炭素数1〜30のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、t−ブチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基)、シクロアルキル基(好ましくは、炭素数3〜30の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、4−n−ドデシルシクロヘキシル基)、ビシクロアルキル基(好ましくは、炭素数5〜30の置換または無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数5〜30のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ[1,2,2]ヘプタン−2−イル、ビシクロ[2,2,2]オクタン−3−イル)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜30の置換または無置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基)、シクロアルケニル基(好ましくは、炭素数3〜30の置換または無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数3〜30のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、2−シクロペンテン−1−イル、2−シクロヘキセン−1−イル)、ビシクロアルケニル基(置換または無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数5〜30の置換または無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ[2,2,1]ヘプト−2−エン−1−イル、ビシクロ[2,2,2]オクト−2−エン−4−イル)、アルキニル基(好ましくは、炭素数2〜30の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基)、アリール基(好ましくは炭素数6〜30の置換または無置換のアリール基、例えばフェニル基、p−トリル基、ナフチル基)、ヘテロ環基(好ましくは5または6員の置換または無置換の、芳香族または非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、さらに好ましくは、炭素数3〜30の5または6員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、2−フリル基、2−チエニル基、2−ピリミジニル基、2−ベンゾチアゾリル基)、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基(好ましくは、炭素数1〜30の置換または無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、t−ブトキシ基、n−オクチルオキシ基、2−メトキシエトキシ基)、アリールオキシ基(好ましくは、炭素数6〜30の置換または無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、2−メチルフェノキシ基、4−tert−ブチルフェノキシ基、3−ニトロフェノキシ基、2−テトラデカノイルアミノフェノキシ基)、シリルオキシ基(好ましくは、炭素数3〜20のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、tert−ブチルジメチルシリルオキシ基)、ヘテロ環オキシ基(好ましくは、炭素数2〜30の置換または無置換のヘテロ環オキシ基、1−フェニルテトラゾール−5−オキシ基、2−テトラヒドロピラニルオキシ基)、アシルオキシ基(好ましくはホルミルオキシ基、炭素数2〜30の置換または無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数6〜30の置換または無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、p−メトキシフェニルカルボニルオキシ基)、カルバモイルオキシ基(好ましくは、炭素数1〜30の置換または無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、N,N−ジメチルカルバモイルオキシ基、N,N−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、N,N−ジ−n−オクチルアミノカルボニルオキシ基、N−n−オクチルカルバモイルオキシ基)、アルコキシカルボニルオキシ基(好ましくは、炭素数2〜30の置換または無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、tert−ブトキシカルボニルオキシ基、n−オクチルカルボニルオキシ基)、アリールオキシカルボニルオキシ基(好ましくは、炭素数7〜30の置換または無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、p−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、p−n−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基)、アミノ基(好ましくは、アミノ基、炭素数1〜30の置換または無置換のアルキルアミノ基、炭素数6〜30の置換または無置換のアニリノ基、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、N−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基)、アシルアミノ基(好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数1〜30の置換または無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数6〜30の置換または無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基)、アミノカルボニルアミノ基(好ましくは、炭素数1〜30の置換または無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、N,N−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、N,N−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30の置換または無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、tert−ブトキシカルボニルアミノ基、n−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、N−メチルーメトキシカルボニルアミノ基)、アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは、炭素数7〜30の置換または無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、p−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、m−n−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基)、スルファモイルアミノ基(好ましくは、炭素数0〜30の置換または無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、N,N−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、N−n−オクチルアミノスルホニルアミノ基)、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜30の置換または無置換のアルキルスルホニルアミノ、炭素数6〜30の置換または無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、2,3,5−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、p−メチルフェニルスルホニルアミノ基)、メルカプト基、アルキルチオ基(好ましくは、炭素数1〜30の置換または無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、n−ヘキサデシルチオ基)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜30の置換または無置換のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、p−クロロフェニルチオ基、m−メトキシフェニルチオ基)、ヘテロ環チオ基(好ましくは炭素数2〜30の置換または無置換のヘテロ環チオ基、例えば、2−ベンゾチアゾリルチオ基、1−フェニルテトラゾール−5−イルチオ基)、スルファモイル基(好ましくは炭素数0〜30の置換または無置換のスルファモイル基、例えば、N−エチルスルファモイル基、N−(3−ドデシルオキシプロピル)スルファモイル基、N,N−ジメチルスルファモイル基、N−アセチルスルファモイル基、N−ベンゾイルスルファモイル基、N−(N′フェニルカルバモイル)スルファモイル基)、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基(好ましくは、炭素数1〜30の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、6〜30の置換または無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、p−メチルフェニルスルフィニル基)、アルキル及びアリールスルホニル基(好ましくは、炭素数1〜30の置換または無置換のアルキルスルホニル基、6〜30の置換または無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、p−メチルフェニルスルホニル基)、アシル基(好ましくはホルミル基、炭素数2〜30の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数7〜30の置換または無置換のアリールカルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイルベンゾイル基)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは、炭素数7〜30の置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル基、o−クロロフェノキシカルボニル基、m−ニトロフェノキシカルボニル基、p−tert−ブチルフェノキシカルボニル基)、アルコキシカルボニル基(好ましくは、炭素数2〜30の置換または無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、n−オクタデシルオキシカルボニル基)、カルバモイル基(好ましくは、炭素数1〜30の置換または無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、N−メチルカルバモイル基、N,N−ジメチルカルバモイル基、N,N−ジ−n−オクチルカルバモイル基、N−(メチルスルホニル)カルバモイル基)、アリール及びヘテロ環アゾ基(好ましくは炭素数6〜30の置換または無置換のアリールアゾ基、炭素数3〜30の置換または無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ基、p−クロロフェニルアゾ基、5−エチルチオ−1,3,4−チアジアゾール−2−イルアゾ基)、イミド基(好ましくは、N−スクシンイミド基、N−フタルイミド基)、ホスフィノ基(好ましくは、炭素数2〜30の置換または無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基)、ホスフィニル基(好ましくは、炭素数2〜30の置換または無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基)、ホスフィニルオキシ基(好ましくは、炭素数2〜30の置換または無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基)、ホスフィニルアミノ基(好ましくは、炭素数2〜30の置換または無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基)、シリル基(好ましくは、炭素数3〜30の置換または無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基)を表わす。 The substituent T 2 is preferably a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom), an alkyl group (preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, or n-propyl. Group, isopropyl group, t-butyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group), cycloalkyl group (preferably a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, for example, cyclohexyl group, cyclopentyl group) 4-n-dodecylcyclohexyl group), a bicycloalkyl group (preferably a substituted or unsubstituted bicycloalkyl group having 5 to 30 carbon atoms, that is, one hydrogen atom removed from a bicycloalkane having 5 to 30 carbon atoms. For example, bicyclo [1,2,2] heptan-2-yl, bicyclo [2,2,2] octyl Tan-3-yl), an alkenyl group (preferably a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, for example, a vinyl group or an allyl group), a cycloalkenyl group (preferably a substituted or unsubstituted group having 3 to 30 carbon atoms). An unsubstituted cycloalkenyl group, that is, a monovalent group obtained by removing one hydrogen atom of a cycloalkene having 3 to 30 carbon atoms (for example, 2-cyclopenten-1-yl, 2-cyclohexen-1-yl), Bicycloalkenyl group (substituted or unsubstituted bicycloalkenyl group, preferably a substituted or unsubstituted bicycloalkenyl group having 5 to 30 carbon atoms, that is, a monovalent group obtained by removing one hydrogen atom of a bicycloalkene having one double bond. For example, bicyclo [2,2,1] hept-2-en-1-yl, bicyclo [2,2,2] oct-2-ene- -Yl), an alkynyl group (preferably a substituted or unsubstituted alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms, such as an ethynyl group or a propargyl group), an aryl group (preferably a substituted or unsubstituted aryl having 6 to 30 carbon atoms) A single hydrogen atom from a group such as a phenyl group, a p-tolyl group, a naphthyl group, a heterocyclic group (preferably a 5- or 6-membered substituted or unsubstituted aromatic or non-aromatic heterocyclic compound) A monovalent group, more preferably a 5- or 6-membered aromatic heterocyclic group having 3 to 30 carbon atoms, such as a 2-furyl group, a 2-thienyl group, a 2-pyrimidinyl group, 2- Benzothiazolyl group), cyano group, hydroxyl group, nitro group, carboxyl group, alkoxy group (preferably a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, such as Methoxy group, ethoxy group, isopropoxy group, t-butoxy group, n-octyloxy group, 2-methoxyethoxy group), aryloxy group (preferably a substituted or unsubstituted aryloxy group having 6 to 30 carbon atoms, For example, phenoxy group, 2-methylphenoxy group, 4-tert-butylphenoxy group, 3-nitrophenoxy group, 2-tetradecanoylaminophenoxy group), silyloxy group (preferably a silyloxy group having 3 to 20 carbon atoms, For example, a trimethylsilyloxy group, a tert-butyldimethylsilyloxy group), a heterocyclic oxy group (preferably a substituted or unsubstituted heterocyclic oxy group having 2 to 30 carbon atoms, a 1-phenyltetrazole-5-oxy group, 2 -Tetrahydropyranyloxy group), acyloxy group (preferably formyloxy) Si group, substituted or unsubstituted alkylcarbonyloxy group having 2 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted arylcarbonyloxy group having 6 to 30 carbon atoms, such as formyloxy group, acetyloxy group, pivaloyloxy group, stearoyloxy Group, benzoyloxy group, p-methoxyphenylcarbonyloxy group), carbamoyloxy group (preferably a substituted or unsubstituted carbamoyloxy group having 1 to 30 carbon atoms, such as N, N-dimethylcarbamoyloxy group, N, N-diethylcarbamoyloxy group, morpholinocarbonyloxy group, N, N-di-n-octylaminocarbonyloxy group, Nn-octylcarbamoyloxy group), alkoxycarbonyloxy group (preferably having 2 to 30 carbon atoms) Substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl Xy group such as methoxycarbonyloxy group, ethoxycarbonyloxy group, tert-butoxycarbonyloxy group, n-octylcarbonyloxy group), aryloxycarbonyloxy group (preferably substituted or unsubstituted aryl having 7 to 30 carbon atoms) An oxycarbonyloxy group, such as a phenoxycarbonyloxy group, a p-methoxyphenoxycarbonyloxy group, a pn-hexadecyloxyphenoxycarbonyloxy group, an amino group (preferably an amino group, a C1-C30 substituent or Unsubstituted alkylamino group, substituted or unsubstituted anilino group having 6 to 30 carbon atoms, such as amino group, methylamino group, dimethylamino group, anilino group, N-methyl-anilino group, diphenylamino group), acylamino Group (preferably Myramino group, substituted or unsubstituted alkylcarbonylamino group having 1 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted arylcarbonylamino group having 6 to 30 carbon atoms, such as formylamino group, acetylamino group, pivaloylamino group, lauroylamino Group, benzoylamino group), aminocarbonylamino group (preferably a substituted or unsubstituted aminocarbonylamino group having 1 to 30 carbon atoms, such as carbamoylamino group, N, N-dimethylaminocarbonylamino group, N, N -Diethylaminocarbonylamino group, morpholinocarbonylamino group), alkoxycarbonylamino group (preferably a substituted or unsubstituted alkoxycarbonylamino group having 2 to 30 carbon atoms such as methoxycarbonylamino group, ethoxycarbonylamino group, tert-butyl group) Toxylcarbonylamino group, n-octadecyloxycarbonylamino group, N-methyl-methoxycarbonylamino group), aryloxycarbonylamino group (preferably a substituted or unsubstituted aryloxycarbonylamino group having 7 to 30 carbon atoms, for example, , Phenoxycarbonylamino group, p-chlorophenoxycarbonylamino group, mn-octyloxyphenoxycarbonylamino group), sulfamoylamino group (preferably substituted or unsubstituted sulfamoylamino having 0 to 30 carbon atoms) Groups such as sulfamoylamino group, N, N-dimethylaminosulfonylamino group, Nn-octylaminosulfonylamino group, alkyl and arylsulfonylamino groups (preferably substituted or unsubstituted having 1 to 30 carbon atoms) Alkyl sulfo Ruamino, a substituted or unsubstituted arylsulfonylamino group having 6 to 30 carbon atoms, such as methylsulfonylamino group, butylsulfonylamino group, phenylsulfonylamino group, 2,3,5-trichlorophenylsulfonylamino group, p-methyl Phenylsulfonylamino group), mercapto group, alkylthio group (preferably a substituted or unsubstituted alkylthio group having 1 to 30 carbon atoms, such as methylthio group, ethylthio group, n-hexadecylthio group), arylthio group (preferably 6 carbon atoms) -30 substituted or unsubstituted arylthio groups, for example, phenylthio group, p-chlorophenylthio group, m-methoxyphenylthio group), heterocyclic thio group (preferably a substituted or unsubstituted heterocycle having 2 to 30 carbon atoms) Thio group such as 2-benzothiazolylthio Group, 1-phenyltetrazol-5-ylthio group), sulfamoyl group (preferably a substituted or unsubstituted sulfamoyl group having 0 to 30 carbon atoms such as N-ethylsulfamoyl group, N- (3-dodecyloxypropyl) ) Sulfamoyl group, N, N-dimethylsulfamoyl group, N-acetylsulfamoyl group, N-benzoylsulfamoyl group, N- (N′phenylcarbamoyl) sulfamoyl group), sulfo group, alkyl and arylsulfinyl group (Preferably, a substituted or unsubstituted alkylsulfinyl group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted arylsulfinyl group having 6 to 30 carbon atoms such as methylsulfinyl group, ethylsulfinyl group, phenylsulfinyl group, p-methylphenyl Sulfinyl group), alkyl and aryls A sulfonyl group (preferably a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted arylsulfonyl group having 6 to 30 carbon atoms such as a methylsulfonyl group, an ethylsulfonyl group, a phenylsulfonyl group, p- Methylphenylsulfonyl group), acyl group (preferably formyl group, substituted or unsubstituted alkylcarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted arylcarbonyl group having 7 to 30 carbon atoms, such as acetyl group, A valoylbenzoyl group), an aryloxycarbonyl group (preferably a substituted or unsubstituted aryloxycarbonyl group having 7 to 30 carbon atoms, such as a phenoxycarbonyl group, an o-chlorophenoxycarbonyl group, an m-nitrophenoxycarbonyl group, p-tert-butylphenoxycarbonyl ), An alkoxycarbonyl group (preferably a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms, such as a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a tert-butoxycarbonyl group, an n-octadecyloxycarbonyl group), a carbamoyl group ( Preferably, the substituted or unsubstituted carbamoyl group having 1 to 30 carbon atoms, for example, carbamoyl group, N-methylcarbamoyl group, N, N-dimethylcarbamoyl group, N, N-di-n-octylcarbamoyl group, N- (Methylsulfonyl) carbamoyl group), aryl and heterocyclic azo groups (preferably substituted or unsubstituted arylazo groups having 6 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted heterocyclic azo groups having 3 to 30 carbon atoms, such as phenylazo Group, p-chlorophenylazo group, 5-ethylthio- , 3,4-thiadiazol-2-ylazo group), imide group (preferably N-succinimide group, N-phthalimide group), phosphino group (preferably substituted or unsubstituted phosphino group having 2 to 30 carbon atoms, For example, dimethylphosphino group, diphenylphosphino group, methylphenoxyphosphino group), phosphinyl group (preferably a substituted or unsubstituted phosphinyl group having 2 to 30 carbon atoms, such as phosphinyl group, dioctyloxyphosphinyl group , Diethoxyphosphinyl group), phosphinyloxy group (preferably a substituted or unsubstituted phosphinyloxy group having 2 to 30 carbon atoms, such as diphenoxyphosphinyloxy group, dioctyloxyphosphinyl) An oxy group), a phosphinylamino group (preferably a substituted or unsubstituted group having 2 to 30 carbon atoms) A substituted phosphinylamino group such as a dimethoxyphosphinylamino group or a dimethylaminophosphinylamino group, a silyl group (preferably a substituted or unsubstituted silyl group having 3 to 30 carbon atoms such as a trimethylsilyl group , Tert-butyldimethylsilyl group, phenyldimethylsilyl group).

前記の一般式(4)における置換基Tの中で、水素原子を有するものはこれを取り去り、さらに前記の置換基Tで置換されていてもよい。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル基、p−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。 Among the substituents T 2 in the general formula (4), those having a hydrogen atom may be removed and further substituted with the substituents T 2 . Examples of such functional groups include an alkylcarbonylaminosulfonyl group, an arylcarbonylaminosulfonyl group, an alkylsulfonylaminocarbonyl group, and an arylsulfonylaminocarbonyl group. Examples thereof include a methylsulfonylaminocarbonyl group, a p-methylphenylsulfonylaminocarbonyl group, an acetylaminosulfonyl group, and a benzoylaminosulfonyl group.

また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。   Moreover, when there are two or more substituents, they may be the same or different. If possible, they may be linked together to form a ring.

以下に一般式(4)で表される化合物に関して具体例を挙げて詳細に説明するが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。   Hereinafter, the compound represented by the general formula (4) will be described in detail with specific examples, but the present invention is not limited to the following specific examples.

Figure 2010060981
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以下に一般式(4)で表される化合物の合成方法を述べる。以下の合成例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。   A method for synthesizing the compound represented by the general formula (4) will be described below. The materials, amounts used, ratios, processing details, processing procedures, and the like shown in the following synthesis examples can be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention should not be construed as being limited by the specific examples shown below.

[合成例3]
(例示化合物(1)aの合成)
下記スキームに従い、一般式(4)の例示化合物(1)aを合成した。
[Synthesis Example 3]
(Synthesis of Exemplary Compound (1) a)
According to the following scheme, exemplary compound (1) a of general formula (4) was synthesized.

Figure 2010060981
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−中間体(C)の合成−
2,4,5−トリメトキシ安息香酸300g、トルエン1200ml、ジメチルホルムアミド12mlを80℃に加熱した後、塩化チオニル112.1mlをゆっくりと45分かけて滴下し、滴下後80℃で1時間加熱攪拌した。その後、反応液に4−ヒドロキシ安息香酸214.8gをジメチルホルムアミド800mlに溶解させた溶液を加え、さらに80℃で2時間反応させた。反応後、トルエンを留去した後、室温まで冷却した。次いでメタノール2500mlを加え、析出した結晶をろ過回収し、白色の結晶として中間体(C)を263.8g(収率56.3%)得た。
-Synthesis of Intermediate (C)-
After heating 300 g of 2,4,5-trimethoxybenzoic acid, 1200 ml of toluene, and 12 ml of dimethylformamide to 80 ° C., 112.1 ml of thionyl chloride was slowly added dropwise over 45 minutes, and then the mixture was heated and stirred at 80 ° C. for 1 hour. . Thereafter, a solution prepared by dissolving 214.8 g of 4-hydroxybenzoic acid in 800 ml of dimethylformamide was added to the reaction solution, and further reacted at 80 ° C. for 2 hours. After the reaction, toluene was distilled off and then cooled to room temperature. Subsequently, 2500 ml of methanol was added, and the precipitated crystals were collected by filtration to obtain 263.8 g (yield 56.3%) of intermediate (C) as white crystals.

−例示化合物(1)aの合成−
中間体(C)108.4g、ジメチルアミノピリジン7.24g、上記化合物(D)32.67g、塩化メチレン500mlを加熱還流させた後、ジシクロヘキシルカルボジイミド67.31gの塩化メチレン200ml溶液をゆっくりと30分かけて滴下し、さらに2時間加熱還流させた。その後、反応液を室温まで冷却し、析出した結晶(ジシクロヘキシルウレア)をろ別し、ろ液を減圧濃縮した。残さをメタノールにて3回再結晶を行い、白色の結晶として一般式(4)の例示化合物(1)aを91.42g(収率75.8%)得た。また化合物の同定はH−NMR(400MHz)により行った。
-Synthesis of Exemplary Compound (1) a-
108.4 g of intermediate (C), 7.24 g of dimethylaminopyridine, 32.67 g of the above compound (D) and 500 ml of methylene chloride were heated to reflux, and then a solution of 67.31 g of dicyclohexylcarbodiimide in 200 ml of methylene chloride was slowly added for 30 minutes. The mixture was added dropwise and heated to reflux for 2 hours. Thereafter, the reaction solution was cooled to room temperature, the precipitated crystals (dicyclohexylurea) were filtered off, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The residue was recrystallized three times with methanol to obtain 91.42 g (yield 75.8%) of exemplary compound (1) a of the general formula (4) as white crystals. The compound was identified by 1 H-NMR (400 MHz).

H−NMR(CDCl)δ3.93(s,6H),3.95(s,6H),4.00(s,6H),6.61(s,2H),7.32(d,4H),7.38(d,4H),7.61(s,2H),7.68(d,4H),8.29(d,4H)
得られた化合物の融点は199〜200℃であった。
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ 3.93 (s, 6H), 3.95 (s, 6H), 4.00 (s, 6H), 6.61 (s, 2H), 7.32 (d, 4H), 7.38 (d, 4H), 7.61 (s, 2H), 7.68 (d, 4H), 8.29 (d, 4H)
The melting point of the obtained compound was 199 to 200 ° C.

次に、本発明の前記一般式(5)の化合物について説明する。   Next, the compound of the general formula (5) of the present invention will be described.

前記一般式(5)中、AR、ARはアリール基または芳香族ヘテロ環を表し、AR、ARで表されるアリール基としては、炭素数6〜30のアリール基が好ましく、該アリール基は、単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。また、可能な場合には置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Tが適用できる。 In the general formula (5), AR 1 and AR 2 represent an aryl group or an aromatic heterocycle, and the aryl group represented by AR 1 and AR 2 is preferably an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, The aryl group may be a single ring or may form a condensed ring with another ring. Further, if possible, it may have a substituent, and the substituent T 3 described later can be applied as the substituent.

一般式(5)中、AR、ARで表されるアリール基として、より好ましくは炭素数6〜20のアリール基であり、特に好ましくは炭素数6〜12アリール基である。このようなアリール基としては、例えばフェニル、p−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。 In the general formula (5), the aryl group represented by AR 1 and AR 2 is more preferably an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and particularly preferably an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of such an aryl group include phenyl, p-methylphenyl, naphthyl and the like.

一般式(5)中、AR、ARで表される芳香族ヘテロ環としては酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のうち少なくとも1つを含む芳香族ヘテロ環であれば特に限定されないが、好ましくは5または6員環の酸素原子、窒素原子もしくは硫黄原子のうち少なくとも1つを含む芳香族ヘテロ環である。また、可能な場合には更に置換基を有してもよい。置換基としては後述の置換基Tが適用できる。 In the general formula (5), the aromatic heterocycle represented by AR 1 or AR 2 is not particularly limited as long as it is an aromatic heterocycle containing at least one of an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom, but preferably Is an aromatic heterocycle containing at least one of a 5- or 6-membered oxygen atom, nitrogen atom or sulfur atom. Moreover, you may have a substituent further if possible. Substituent T 3 described later can be applied as the substituent.

一般式(5)中、AR、ARで表される芳香族ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデン、ピロロトリアゾール、ピラゾロトリアゾールなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾールが挙げられる。 In the general formula (5), specific examples of the aromatic heterocycle represented by AR 1 and AR 2 include, for example, furan, pyrrole, thiophene, imidazole, pyrazole, pyridine, pyrazine, pyridazine, triazole, triazine, indole, Indazole, purine, thiazoline, thiazole, thiadiazole, oxazoline, oxazole, oxadiazole, quinoline, isoquinoline, phthalazine, naphthyridine, quinoxaline, quinazoline, cinnoline, pteridine, acridine, phenanthroline, phenazine, tetrazole, benzimidazole, benzoxazole, benzthiazole , Benzotriazole, tetrazaindene, pyrrolotriazole, pyrazolotriazole and the like. Preferred examples of the aromatic heterocycle include benzimidazole, benzoxazole, benzthiazole, and benzotriazole.

一般式(5)中、L51、L52は、−C(=O)O−、または−C(=O)NR50−を表し。これらはどちらも同様に好ましい。 In General Formula (5), L 51 and L 52 represent —C (═O) O— or —C (═O) NR 50 —. Both of these are preferred as well.

前記R50は水素原子またはアルキル基を表し、R50として好ましくは水素原子または、炭素数1〜6アルキル基であり、より好ましくは水素原子、または炭素数1〜4のアルキル基であり、更に好ましくは水素原子、メチル基であり、特に好ましくは水素原子である。 R 50 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R 50 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, A hydrogen atom and a methyl group are preferable, and a hydrogen atom is particularly preferable.

一般式(5−A)におけるR51、R52、R53、R54、R55、R56、R57及びR58はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、該置換基としては後述の置換基Tが適用できる。 R 51 , R 52 , R 53 , R 54 , R 55 , R 56 , R 57 and R 58 in the general formula (5-A) each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and the substituent is described later. Substituent T 3 is applicable.

また、一般式(5−A)におけるR51、R52、R53、R54、R55、R56、R57及びR58として好ましくは、水素原子、アルキル基、アミノ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基、ヒドロキシ基、塩素原子、フッ素原子であり、特に好ましくは水素原子、フッ素原子であり、最も好ましくは水素原子である。 In addition, R 51 , R 52 , R 53 , R 54 , R 55 , R 56 , R 57 and R 58 in the general formula (5-A) are preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an amino group, an alkoxy group, hydroxy Group, a halogen atom, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxy group, or a halogen atom, still more preferably a hydrogen atom, a methyl group, or a methoxy group. Group, hydroxy group, chlorine atom and fluorine atom, particularly preferably hydrogen atom and fluorine atom, and most preferably hydrogen atom.

一般式(5−B)におけるR11、R12、R13、R14、R15、R16、R17及びR18はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、該置換基としては後述の置換基T3が適用できる。 R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 and R 18 in the general formula (5-B) each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and the substituent is described later. Substituent T3 can be applied.

また、一般式(5−B)におけるR11、R12、R13、R14、R15、R16、R17及びR18として好ましくは、水素原子、アルキル基、アミノ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基、ヒドロキシ基、塩素原子、フッ素原子であり、特に好ましくは水素原子、フッ素原子であり、最も好ましくは水素原子である。 Moreover, as R < 11 >, R < 12 >, R <13> , R <14> , R <15> , R <16> , R <17> and R < 18 > in the general formula (5-B), preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an amino group, an alkoxy group, hydroxy Group, a halogen atom, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxy group, or a halogen atom, still more preferably a hydrogen atom, a methyl group, or a methoxy group. Group, hydroxy group, chlorine atom and fluorine atom, particularly preferably hydrogen atom and fluorine atom, and most preferably hydrogen atom.

以下に前述の置換基Tについて説明する。 Hereinafter, the aforementioned substituent T 3 will be described.

置換基Tとしては、例えば、アルキル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜12、特に好ましくは炭素数1〜8であり、例えばメチル、エチル、iso−プロピル、tert−ブチル、n−オクチル、n−デシル、n−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜12、特に好ましくは炭素数2〜8であり、例えばビニル、アリル、2−ブテニル、3−ペンテニルなどが挙げられる。)、アルキニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜12、特に好ましくは炭素数2〜8であり、例えばプロパルギル、3−ペンチニルなどが挙げられる。)、アリール基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニル、p−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。)、置換または未置換のアミノ基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは炭素数0〜10、特に好ましくは炭素数0〜6であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜12、特に好ましくは炭素数1〜8であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜16、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニルオキシ、2−ナフチルオキシなどが挙げられる。)、アシル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは炭素数7〜16、特に好ましくは炭素数7〜10であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは炭素数7〜16、特に好ましくは炭素数7〜12であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、スルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。)、スルファモイル基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは炭素数0〜16、特に好ましくは炭素数0〜12であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。)、カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜16、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。)、スルホニル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。)、スルフィニル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。)、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは1〜12であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる。)、シリル基(好ましくは、炭素数3〜40、より好ましくは炭素数3〜30、特に好ましくは、炭素数3〜24であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる)などが挙げられる。これらの置換基Tは更に置換されてもよい。 Examples of the substituent T 3 include an alkyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, such as methyl, ethyl, iso-propyl, tert. -Butyl, n-octyl, n-decyl, n-hexadecyl, cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, etc.), an alkenyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, particularly preferably Has 2 to 8 carbon atoms, such as vinyl, allyl, 2-butenyl, 3-pentenyl, etc.), an alkynyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably having 2 to 12 carbon atoms, particularly preferably Has 2 to 8 carbon atoms, for example, propargyl, 3-pentynyl and the like, and an aryl group (preferably having 6 carbon atoms). To 30, more preferably 6 to 20 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, such as phenyl, p-methylphenyl, naphthyl, etc.), substituted or unsubstituted amino groups (preferably carbon 0 to 20, more preferably 0 to 10 carbon atoms, particularly preferably 0 to 6 carbon atoms, and examples thereof include amino, methylamino, dimethylamino, diethylamino, dibenzylamino, and the like, and alkoxy groups (preferably). Has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, and examples thereof include methoxy, ethoxy, butoxy and the like, and an aryloxy group (preferably 6 to 6 carbon atoms). 20, more preferably 6 to 16 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, such as phenyloxy, 2-naphthyloxy An acyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include acetyl, benzoyl, formyl, pivaloyl, and the like. ), An alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, etc.), aryloxy A carbonyl group (preferably having 7 to 20 carbon atoms, more preferably 7 to 16 carbon atoms, particularly preferably 7 to 10 carbon atoms, such as phenyloxycarbonyl), an acyloxy group (preferably having 2 carbon atoms) To 20, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms. Alkoxy, and benzoyloxy. ), An acylamino group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms, and examples thereof include acetylamino and benzoylamino), alkoxycarbonylamino group (Preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, such as methoxycarbonylamino), aryloxycarbonylamino group (preferably having carbon number) 7 to 20, more preferably 7 to 16 carbon atoms, particularly preferably 7 to 12 carbon atoms, such as phenyloxycarbonylamino, and the like, and sulfonylamino groups (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably Has 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms. And sulfamoyl group (preferably having 0 to 20 carbon atoms, more preferably 0 to 16 carbon atoms, particularly preferably 0 to 12 carbon atoms, such as sulfamoyl and methylsulfamoyl). , Dimethylsulfamoyl, phenylsulfamoyl, etc.), a carbamoyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as carbamoyl). , Methylcarbamoyl, diethylcarbamoyl, phenylcarbamoyl, etc.), an alkylthio group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as methylthio, Ethylthio etc.), arylthio group (preferably Has 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 16 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, such as phenylthio, and a sulfonyl group (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as mesyl, tosyl, etc.), sulfinyl group (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably Has 1 to 12 carbon atoms, such as methanesulfinyl, benzenesulfinyl, etc.), ureido group (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms). For example, ureido, methylureido, phenylureido, etc.), phosphoric acid amide group (preferably having 1 to 20 carbon atoms) More preferably, it is C1-C16, Most preferably, it is C1-C12, for example, diethyl phosphoric acid amide, phenylphosphoric acid amide etc. are mentioned. ), Hydroxy group, mercapto group, halogen atom (eg fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom), cyano group, sulfo group, carboxyl group, nitro group, hydroxamic acid group, sulfino group, hydrazino group, imino group, Heterocyclic group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, and examples of the hetero atom include a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, specifically, for example, imidazolyl, pyridyl, quinolyl, furyl, piperidyl , Morpholino, benzoxazolyl, benzimidazolyl, benzthiazolyl, etc.), silyl group (preferably having 3 to 40 carbon atoms, more preferably 3 to 30 carbon atoms, and particularly preferably 3 to 24 carbon atoms). For example, trimethylsilyl, triphenylsilyl, etc.) . These substituents T 3 may be further substituted.

また、置換基Tが二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。 Also, if the substituent T 3 there are two or more, it may be the same or different. If possible, they may be linked together to form a ring.

以下に一般式(5)で表される化合物について具体例を挙げて詳細に説明するが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。   Hereinafter, the compound represented by the general formula (5) will be described in detail with specific examples, but the present invention is not limited to the following specific examples.

Figure 2010060981
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Figure 2010060981
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Figure 2010060981
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本発明の一般式(5)で表される化合物は、置換安息香酸とフェノール、あるいはアニリン誘導体の一般的なエステル化反応、アミド化反応によって合成でき、エステル結合形成反応であればどのような反応を用いてもよい。例えば、置換安息香酸を酸ハロゲン化物に官能基変換した後、フェノール、あるいはアニリン誘導体と縮合する方法、縮合剤あるいは触媒を用いて置換安息香酸とフェノール、あるいはアニリン誘導体とを脱水縮合する方法などが挙げられる。   The compound represented by the general formula (5) of the present invention can be synthesized by a general esterification reaction or amidation reaction of a substituted benzoic acid and phenol or an aniline derivative. May be used. For example, a method of converting a substituted benzoic acid to an acid halide and then condensing with phenol or an aniline derivative, a method of dehydrating condensation of a substituted benzoic acid and phenol or an aniline derivative using a condensing agent or catalyst, etc. Can be mentioned.

製造プロセス等を考慮すると置換安息香酸を酸ハロゲン化物に官能基変換した後、フェノール、あるいはアニリン誘導体と縮合する方法が好ましい。   Considering the production process and the like, a method in which a substituted benzoic acid is converted to an acid halide and then condensed with phenol or an aniline derivative is preferable.

以下に一般式(5)で表される化合物の合成方法を述べる。以下の合成例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。   A method for synthesizing the compound represented by the general formula (5) will be described below. The materials, amounts used, ratios, processing details, processing procedures, and the like shown in the following synthesis examples can be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention should not be construed as being limited by the specific examples shown below.

[合成例4]
(例示化合物A′−1の合成)
2,4,5−トリメトキシ安息香酸40.1g(189ミリモル)、4、4′−ジヒドロキシビフェニル16.75g(90ミリモル)、トルエン200ml、ジメチルホルムアミド2mlを70℃に加熱した後、塩化チオニル23.6g(198ミリモル)をゆっくりと滴下し、70℃で2.5時間加熱攪拌した。その後、反応液を室温まで冷却し、メタノール300mlを加え、析出した結晶をろ過回収し、白色の結晶として目的化合物を48.4g(収率94%)得た。また化合物の同定はH−NMR(400MHz)により行った。
[Synthesis Example 4]
(Synthesis of Exemplified Compound A′-1)
After heating 40.1 g (189 mmol) of 2,4,5-trimethoxybenzoic acid, 16.75 g (90 mmol) of 4,4′-dihydroxybiphenyl, 200 ml of toluene and 2 ml of dimethylformamide to 70 ° C., thionyl chloride 23. 6 g (198 mmol) was slowly added dropwise and stirred with heating at 70 ° C. for 2.5 hours. Thereafter, the reaction solution was cooled to room temperature, 300 ml of methanol was added, and the precipitated crystals were collected by filtration to obtain 48.4 g (yield 94%) of the target compound as white crystals. The compound was identified by 1 H-NMR (400 MHz).

H−NMR(CDCl)δ3.93(s,6H),3.95(s,6H),3.99(s,6H),6.58(s,2H),7.28(d,4H),7.62(m,6H)
得られた化合物の融点は227〜229℃であった。
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ 3.93 (s, 6H), 3.95 (s, 6H), 3.99 (s, 6H), 6.58 (s, 2H), 7.28 (d, 4H), 7.62 (m, 6H)
The melting point of the obtained compound was 227 to 229 ° C.

本発明において、前記一般式(1)〜(5)で表される化合物の添加量は本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択されるが、セルロースエステル100質量部に対して、通常1.0〜30質量部、好ましくは2.0〜20質量部である。これらは2種以上を併用してもよい。   In the present invention, the amount of the compound represented by the general formulas (1) to (5) is appropriately selected within a range that does not impair the object of the present invention. It is 0-30 mass parts, Preferably it is 2.0-20 mass parts. Two or more of these may be used in combination.

《一般式(6)で表される化合物》
本発明の前記一般式(6)の化合物について説明する。
<< Compound Represented by Formula (6) >>
The compound of the general formula (6) of the present invention will be described.

前記一般式(6)において、R101及びR102は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、R103は置換基を表す。R101、R102及びR103が表す置換基としては例えば、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリフルオロメチル基等)、シクロアルキル基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、アリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)、アシルアミノ基(例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等)、アルケニル基(例えば、ビニル基、2−プロペニル基、3−ブテニル基、1−メチル−3−プロペニル基、3−ペンテニル基、1−メチル−3−ブテニル基、4−ヘキセニル基、シクロヘキセニル基等)、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等)、アルキニル基(例えば、プロパルギル基等)、複素環基(例えば、ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基等)、アルキルスルホニル基(例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基等)、アリールスルホニル基(例えば、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基等)、アルキルスルフィニル基(例えば、メチルスルフィニル基等)、アリールスルフィニル基(例えば、フェニルスルフィニル基等)、ホスホノ基、アシル基(例えば、アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等)、カルバモイル基(例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ブチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等)、スルファモイル基(例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル基等)、スルホンアミド基(例えば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基等)、シアノ基、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等)、複素環オキシ基、シロキシ基、アシルオキシ基(例えば、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等)、アミノカルボニルオキシ基、アミノ基(例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基等)、アニリノ基(例えば、フェニルアミノ基、クロロフェニルアミノ基、トルイジノ基、アニシジノ基、ナフチルアミノ基、2−ピリジルアミノ基等)、イミド基、ウレイド基(例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、2−ピリジルアミノウレイド基等)、アルコキシカルボニルアミノ基(例えば、メトキシカルボニルアミノ基、フェノキシカルボニルアミノ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェノキシカルボニル基等)、複素環チオ基、チオウレイド基、ヒドロキシル基、メルカプト基等の各基が挙げられる。これらの置換基は更に同様の置換基によって置換されていてもよい。 In the general formula (6), R 101 and R 102 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and R 103 represents a substituent. Examples of the substituent represented by R 101 , R 102 and R 103 include an alkyl group (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, t-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, dodecyl group, Trifluoromethyl group etc.), cycloalkyl group (eg cyclopentyl group, cyclohexyl group etc.), aryl group (eg phenyl group, naphthyl group etc.), acylamino group (eg acetylamino group, benzoylamino group etc.), alkylthio Group (for example, methylthio group, ethylthio group, etc.), arylthio group (for example, phenylthio group, naphthylthio group, etc.), alkenyl group (for example, vinyl group, 2-propenyl group, 3-butenyl group, 1-methyl-3-propenyl) Group, 3-pentenyl group, 1-methyl-3-butenyl group, 4-hexenyl group Group, cyclohexenyl group, etc.), halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom, etc.), alkynyl group (eg, propargyl group, etc.), heterocyclic group (eg, pyridyl group, thiazolyl group, etc.) Oxazolyl group, imidazolyl group, etc.), alkylsulfonyl group (eg, methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, etc.), arylsulfonyl group (eg, phenylsulfonyl group, naphthylsulfonyl group, etc.), alkylsulfinyl group (eg, methylsulfinyl group, etc.) ), Arylsulfinyl group (for example, phenylsulfinyl group), phosphono group, acyl group (for example, acetyl group, pivaloyl group, benzoyl group, etc.), carbamoyl group (for example, aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl) Group Aminocarbonyl group, cyclohexylaminocarbonyl group, phenylaminocarbonyl group, 2-pyridylaminocarbonyl group, etc.), sulfamoyl group (for example, aminosulfonyl group, methylaminosulfonyl group, dimethylaminosulfonyl group, butylaminosulfonyl group, hexylaminosulfonyl group) , Cyclohexylaminosulfonyl group, octylaminosulfonyl group, dodecylaminosulfonyl group, phenylaminosulfonyl group, naphthylaminosulfonyl group, 2-pyridylaminosulfonyl group, etc., sulfonamide group (for example, methanesulfonamide group, benzenesulfonamide group, etc.) ), Cyano group, alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, etc.), aryloxy group (for example, phenoxy group, naphthyloxy group) ), Heterocyclic oxy group, siloxy group, acyloxy group (for example, acetyloxy group, benzoyloxy group, etc.), aminocarbonyloxy group, amino group (for example, amino group, ethylamino group, dimethylamino group, butylamino group, Cyclopentylamino group, 2-ethylhexylamino group, dodecylamino group, etc.), anilino group (for example, phenylamino group, chlorophenylamino group, toluidino group, anisidino group, naphthylamino group, 2-pyridylamino group, etc.), imide group, ureido A group (for example, methylureido group, ethylureido group, pentylureido group, cyclohexylureido group, octylureido group, dodecylureido group, phenylureido group, naphthylureido group, 2-pyridylaminoureido group), alkoxycarbonylamino group ( For example, methoxycarbonylamino group, phenoxycarbonylamino group, etc.), alkoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, phenoxycarbonyl, etc.), aryloxycarbonyl group (eg, phenoxycarbonyl group, etc.), heterocyclic thio group , Thioureido group, hydroxyl group, mercapto group and the like. These substituents may be further substituted with the same substituent.

前記一般式(6)において、mは0〜4の整数を表す。mが2以上の整数を表す時、複数のR103は同一でも異なっていてもよく、また、隣り合うR103が互いに結合して環を形成してもよい。また、R103とR101またはR102のいずれかが互いに結合して環を形成してもよい。 In the said General formula (6), m represents the integer of 0-4. When m represents an integer of 2 or more, the plurality of R 103 may be the same or different, and adjacent R 103 may be bonded to each other to form a ring. R 103 and any of R 101 and R 102 may be bonded to each other to form a ring.

前記一般式(6)において、R101はアルキル基、アリール基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、シアノ基が好ましく、R102は水素原子、アルキル基が好ましく、R103は水素原子、アルキル基、アルコキシ基が好ましい。また、前記一般式(6)において、R101はアルコキシカルボニル基がより好ましく、R102は水素原子がより好ましく、R103はアルキル基がより好ましく、mは1〜2の整数が好ましい。 In the general formula (6), R 101 is preferably an alkyl group, aryl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group or cyano group, R 102 is preferably a hydrogen atom or alkyl group, and R 103 Is preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxy group. In the general formula (6), R 101 is more preferably an alkoxycarbonyl group, R 102 is more preferably a hydrogen atom, R 103 is more preferably an alkyl group, and m is preferably an integer of 1 to 2.

以下に本発明の一般式(6)で表される化合物の代表的具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。   Although the typical example of a compound represented by General formula (6) of this invention below is shown, this invention is not limited to these.

Figure 2010060981
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Figure 2010060981
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なお前記一般式(6)で表される構造の二重結合を軸とした幾何異性体はシス体、トランス体どちらでもよい。   The geometric isomer with the double bond having the structure represented by the general formula (6) as an axis may be either a cis isomer or a trans isomer.

本発明の一般式(6)で表される化合物は、日本化学会誌711(1998)等に記載の公知の合成法によって容易に合成することができる。   The compound represented by the general formula (6) of the present invention can be easily synthesized by a known synthesis method described in Journal of Chemical Society of Japan 711 (1998).

以下、本発明に係る前記一般式(6)で表される化合物の合成法を具体的に説明するが、本発明はこれらにより限定されるものではない。   Hereinafter, although the synthesis | combining method of the compound represented by the said General formula (6) based on this invention is demonstrated concretely, this invention is not limited by these.

[合成例5]
(例示化合物6−31の合成)
[Synthesis Example 5]
(Synthesis of Exemplified Compound 6-31)

Figure 2010060981
Figure 2010060981

630mlのトルエンに、157.4gのトリフェニルホスフィンを溶解し、117gのt−ブチルブロモアセテートを加えた。1時間放置後、析出した粗生成物をトルエンで洗浄し、中間体Aの結晶を定量的に得た。この中間体A260gに水650ml、トルエン650ml、炭酸ナトリウム73.3gを加え、室温で2時間撹拌した。有機層を分取後、減圧濃縮して、中間体Bの結晶を収率90%で得た。次に3,5−ジ−t−ブチルサリシルアルデヒド44.8gを470mlのメタノールに溶解し、これに中間体B72gを加えた。室温で1日放置後、反応液に酢酸エチルと水を加えて水洗し、有機層を分取後、減圧濃縮して、白色結晶を収率40%で得た。得られた結晶をH−NMR(400MHz)及びMASSスペクトルで分析することにより、例示化合物6−31であることが確認された。 157.4 g of triphenylphosphine was dissolved in 630 ml of toluene, and 117 g of t-butyl bromoacetate was added. After standing for 1 hour, the precipitated crude product was washed with toluene, and intermediate A crystals were obtained quantitatively. 650 ml of water, 650 ml of toluene, and 73.3 g of sodium carbonate were added to 260 g of this intermediate A, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. The organic layer was separated and concentrated under reduced pressure to obtain Intermediate B crystals in a yield of 90%. Next, 44.8 g of 3,5-di-t-butyl salicylaldehyde was dissolved in 470 ml of methanol, and 72 g of intermediate B was added thereto. After standing at room temperature for 1 day, ethyl acetate and water were added to the reaction solution and washed with water. The organic layer was separated and concentrated under reduced pressure to obtain white crystals in a yield of 40%. By analyzing the obtained crystal by 1 H-NMR (400 MHz) and MASS spectrum, it was confirmed to be Exemplified Compound 6-31.

H−NMR(CDCl)δ1.30(s,9H),1.43(s,9H),1.54(s,9H),5.28(s,1H),6.35(d,1H),7.29(d,1H),7.34(d,1H),7.86(d,1H)
得られた化合物の融点は97℃であった。
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ 1.30 (s, 9H), 1.43 (s, 9H), 1.54 (s, 9H), 5.28 (s, 1H), 6.35 (d, 1H), 7.29 (d, 1H), 7.34 (d, 1H), 7.86 (d, 1H)
The melting point of the obtained compound was 97 ° C.

本発明において、前記一般式(6)で表される化合物の添加量は本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択されるが、セルロースエステル100質量部に対して、通常0.001〜2.0質量部、好ましくは0.01〜1.0質量部、更に好ましくは、0.05〜0.5質量部である。これらは2種以上を併用してもよい。   In this invention, although the addition amount of the compound represented by the said General formula (6) is suitably selected in the range which does not impair the objective of this invention, it is 0.001-2. It is 0 mass part, Preferably it is 0.01-1.0 mass part, More preferably, it is 0.05-0.5 mass part. Two or more of these may be used in combination.

《光学フィルム》
次に、本発明の光学フィルムの詳細について説明する。
<Optical film>
Next, the details of the optical film of the present invention will be described.

本発明において光学フィルムとは、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイ等の各種表示装置に用いられる機能フィルムのことであり、詳しくは液晶表示装置用の偏光板保護フィルム、位相差フィルム、反射防止フィルム、輝度向上フィルム、ハードコートフィルム、防眩フィルム、帯電防止フィルム、視野角拡大等の光学補償フィルム等を含む。   In this invention, an optical film is a functional film used for various display apparatuses, such as a liquid crystal display, a plasma display, and an organic electroluminescent display. Specifically, it is a polarizing plate protective film for liquid crystal display apparatuses, retardation film, antireflection Films, brightness enhancement films, hard coat films, antiglare films, antistatic films, optical compensation films such as viewing angle expansion, and the like are included.

本発明の光学フィルムの基材となる樹脂フィルムに用いられる樹脂としては、セルロースエステル系樹脂単独、或いはセルロースエステル系樹脂に加えて、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアリレート系樹脂、アクリル系樹脂(共重合体も含む)、オレフィン系樹脂(ノルボルネン系樹脂、環状オレフィン系樹脂、環状共役ジエン系樹脂、ビニル脂環式炭化水素系樹脂等)、セルロースエーテル系樹脂、ビニル系樹脂(ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂等も含む)等の樹脂を併用したものを挙げることができる。この中で、セルロースエステル系樹脂単独、或いはセルロースエステル系樹脂にアクリル系樹脂を併用させたものが好ましく、中でもセルロースエステル系樹脂単独が最も好ましい。   As the resin used for the resin film which is the base material of the optical film of the present invention, in addition to the cellulose ester resin alone or the cellulose ester resin, polycarbonate resin, polystyrene resin, polysulfone resin, polyester resin, Polyarylate resins, acrylic resins (including copolymers), olefin resins (norbornene resins, cyclic olefin resins, cyclic conjugated diene resins, vinyl alicyclic hydrocarbon resins, etc.), cellulose ether resins And resins using a combination of resins such as vinyl resins (including polyvinyl acetate resins and polyvinyl alcohol resins). Of these, cellulose ester resins alone or those obtained by using an acrylic resin in combination with cellulose ester resins are preferred, and cellulose ester resins alone are most preferred.

セルロースエステル系樹脂は基材となる樹脂全体の好ましくは100〜30質量%含有され、より好ましくは100〜70質量%である。   The cellulose ester-based resin is preferably contained in an amount of 100 to 30% by mass, more preferably 100 to 70% by mass, based on the entire resin as a base material.

本発明に係る光学フィルムは、偏光板保護フィルム、位相差フィルム、光学補償フィルムに好ましく用いられる。位相差フィルムが偏光板保護フィルムを兼ねてもよい。   The optical film according to the present invention is preferably used for a polarizing plate protective film, a retardation film, and an optical compensation film. The retardation film may also serve as a polarizing plate protective film.

《セルロースエステル》
次に、本発明に係るセルロースエステル及びセルロースエステルを含有する光学フィルム(以下、単にセルロースエステルフィルムとも称する。)について、詳述する。
《Cellulose ester》
Next, the cellulose ester and the optical film containing the cellulose ester according to the present invention (hereinafter also simply referred to as a cellulose ester film) will be described in detail.

本発明に用いられるセルロースエステルフィルムは、溶液流延法、溶融流延法により製造される。溶液流延法は、セルロースエステルを溶媒中に溶解した溶液(ドープ)を支持体上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。溶融流延法では、セルロースエステルを加熱により溶融したもの(メルト)を支持体上に流延してフィルムを形成する。溶融流延法はフィルム製造時の有機溶媒使用量を、大幅に少なくすることができるため、従来の有機溶媒を多量に使用する溶液流延法に比較して、環境適性が大幅に向上したフィルムが得られるため、本発明においては溶融流延法により、セルロースエステルフィルムを製造することが好ましい。   The cellulose ester film used in the present invention is produced by a solution casting method or a melt casting method. In the solution casting method, a solution (dope) in which cellulose ester is dissolved in a solvent is cast on a support, and the solvent is evaporated to form a film. In the melt casting method, a film obtained by melting cellulose ester by heating (melt) is cast on a support. Since the melt casting method can significantly reduce the amount of organic solvent used during film production, the film is much more environmentally friendly than conventional solution casting methods that use large amounts of organic solvents. In the present invention, it is preferable to produce a cellulose ester film by a melt casting method.

本発明における溶融流延とは、溶媒を用いずにセルロースエステルを流動性を示す温度まで加熱溶融しこれを用いて製膜する方法であり、例えば流動性のセルロースエステルをダイスから押し出して製膜する方法である。なお溶融セルロースエステルを調製する過程の一部で溶媒を使用してもよいが、フィルム状に成形を行う溶融製膜プロセスにおいては溶媒を用いずに成形加工する。   The melt casting in the present invention is a method in which a cellulose ester is heated and melted to a temperature showing fluidity without using a solvent, and a film is formed using this, for example, a film is formed by extruding a fluid cellulose ester from a die. It is a method to do. In addition, although a solvent may be used in a part of the process of preparing the molten cellulose ester, in the melt film forming process for forming into a film shape, the forming process is performed without using a solvent.

光学フィルムを構成するセルロースエステルとしては、溶融製膜可能なセルロースエステルであれば特に限定はされず、例えば芳香族カルボン酸エステル等も用いられるが、光学特性等の得られるフィルムの特性を鑑みると、セルロースの低級脂肪酸エステルを使用するのが好ましい。本発明においてセルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が5以下の脂肪酸を意味し、例えばセルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースピバレート等がセルロースの低級脂肪酸エステルの好ましいものとして挙げられる。炭素原子数が6以上の脂肪酸で置換されたセルロースエステルでは、溶融製膜性は良好であるものの、得られるセルロースエステルフィルムの力学特性が低く、実質的に光学フィルムとして用いることが難しいためである。力学特性と溶融製膜性の双方を両立させるために、セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレート等のように混合脂肪酸エステルを用いてもよい。また、セルロースアセテートの残存ヒドロキシ基に、ヒドロキシ酸(例えば、ラクチド、ε−カプロラクトン等)が重合したセルロースエステルのグラフト体と用いてもよい。なお溶液流延製膜で一般に用いられているセルロースエステルであるトリアセチルセルロースについては、分解温度よりも溶融温度の方が高いセルロースエステルであるため、溶融製膜には用いることは困難である。   The cellulose ester constituting the optical film is not particularly limited as long as it is a meltable film-forming cellulose ester. For example, an aromatic carboxylic acid ester or the like is also used, but considering the characteristics of the obtained film such as optical characteristics. It is preferable to use a lower fatty acid ester of cellulose. In the present invention, the lower fatty acid in the lower fatty acid ester of cellulose means a fatty acid having 5 or less carbon atoms. For example, cellulose acetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose pivalate and the like are preferable lower cellulose esters of cellulose. It is mentioned as a thing. This is because cellulose ester substituted with a fatty acid having 6 or more carbon atoms has good melt film-forming properties, but the resulting cellulose ester film has low mechanical properties and is substantially difficult to use as an optical film. . In order to achieve both mechanical properties and melt film-forming properties, mixed fatty acid esters such as cellulose acetate propionate and cellulose acetate butyrate may be used. Moreover, you may use with the graft body of the cellulose ester which hydroxy acid (for example, lactide, (epsilon) -caprolactone, etc.) superposed | polymerized to the residual hydroxyl group of cellulose acetate. Triacetyl cellulose, which is a cellulose ester generally used in solution casting film formation, is a cellulose ester having a melting temperature higher than the decomposition temperature, and thus is difficult to use for melt film formation.

上記セルロースエステルの中でも、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートが好ましく用いられる。   Among the cellulose esters, cellulose acetate propionate and cellulose acetate butyrate are preferably used.

次に、本発明に用いられるセルロースエステルのアシル基の置換度について説明する。   Next, the substitution degree of the acyl group of the cellulose ester used for this invention is demonstrated.

セルロースには、1グルコース単位の2位、3位、6位に1個ずつ、計3個の水酸基があり、総置換度とは、平均して1グルコース単位にいくつのアシル基が結合しているかを示す数値である。従って、最大の置換度は3.0である。これらアシル基は、グルコース単位の2位、3位、6位に平均的に置換していてもよいし、分布をもって置換していてもよい。   Cellulose has a total of three hydroxyl groups, one at each of the 2nd, 3rd and 6th positions of 1 glucose unit. The total degree of substitution is the average number of acyl groups bonded to 1 glucose unit. It is a numerical value indicating whether or not. Therefore, the maximum substitution degree is 3.0. These acyl groups may be substituted on the 2nd, 3rd and 6th positions of the glucose unit on average, or may be substituted with a distribution.

混合脂肪酸エステルの置換度として、更に好ましいセルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートの低級脂肪酸エステルは炭素原子数2〜4のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をXとし、プロピオニル基またはブチリル基の置換度をYとした時、下記式(I)、(II)及び(III)を同時に満たすセルロースエステルを含むセルロース樹脂である。なお、アセチル基の置換度と他のアシル基の置換度は、ASTM−D817−96に規定の方法により求めたものである。   As the substitution degree of the mixed fatty acid ester, more preferred cellulose acetate propionate and lower fatty acid ester of cellulose acetate butyrate have an acyl group having 2 to 4 carbon atoms as a substituent, and the substitution degree of the acetyl group is X, When the substitution degree of propionyl group or butyryl group is Y, it is a cellulose resin containing a cellulose ester that simultaneously satisfies the following formulas (I), (II) and (III). In addition, the substitution degree of an acetyl group and the substitution degree of other acyl groups are determined by the method prescribed in ASTM-D817-96.

式(I) 2.4≦X+Y≦3.0
式(II) 0≦X≦2.9
式(III) 0.5≦Y≦2.9
この内、特にセルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられ、中でも1.2≦X≦2.1であり、0.6≦Y≦1.4であることが好ましい。アシル基の置換度の異なるセルロースエステルをブレンドして、セルロースエステルフィルム全体として上記範囲に入っていてもよい。上記アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在しているものである。これらは公知の方法で合成することができる。
Formula (I) 2.4 ≦ X + Y ≦ 3.0
Formula (II) 0 ≦ X ≦ 2.9
Formula (III) 0.5 ≦ Y ≦ 2.9
Of these, cellulose acetate propionate is particularly preferably used. Among them, 1.2 ≦ X ≦ 2.1 and 0.6 ≦ Y ≦ 1.4 are preferable. Cellulose esters having different degrees of substitution of acyl groups may be blended so that the entire cellulose ester film may fall within the above range. The part not substituted with the acyl group is usually present as a hydroxyl group. These can be synthesized by known methods.

本発明に用いられるセルロースエステルは、50000〜150000の数平均分子量(Mn)を有することが好ましく、55000〜120000の数平均分子量を有することが更に好ましく、60000〜100000の数平均分子量を有することが最も好ましい。   The cellulose ester used in the present invention preferably has a number average molecular weight (Mn) of 50,000 to 150,000, more preferably a number average molecular weight of 55,000 to 120,000, and a number average molecular weight of 60000 to 100,000. Most preferred.

更に、本発明に用いられるセルロースエステルは、重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)比が1.3〜5.5のものが好ましく用いられ、特に好ましくは1.5〜5.0であり、更に好ましくは1.7〜4.0であり、更に好ましくは2.0〜3.5のセルロースエステルが好ましく用いられる。   Further, the cellulose ester used in the present invention preferably has a weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn) ratio of 1.3 to 5.5, particularly preferably 1.5 to 5.0. More preferably, it is 1.7-4.0, More preferably, the cellulose ester of 2.0-3.5 is used preferably.

なお、Mn及びMw/Mnは下記の要領で、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより算出した。   Mn and Mw / Mn were calculated by gel permeation chromatography in the following manner.

測定条件は以下の通りである。   The measurement conditions are as follows.

溶媒 :テトヒドロフラン
装置 :HLC−8220(東ソー(株)製)
カラム :TSKgel SuperHM−M(東ソー(株)製)
カラム温度:40℃
試料濃度 :0.1質量%
注入量 :10μl
流量 :0.6ml/min
校正曲線 :標準ポリスチレン:PS−1(Polymer Laboratories社製)Mw=2,560,000〜580までの9サンプルによる校正曲線を使用した。
Solvent: Tetohydrofuran Equipment: HLC-8220 (manufactured by Tosoh Corporation)
Column: TSKgel SuperHM-M (manufactured by Tosoh Corporation)
Column temperature: 40 ° C
Sample concentration: 0.1% by mass
Injection volume: 10 μl
Flow rate: 0.6 ml / min
Calibration curve: Standard polystyrene: PS-1 (manufactured by Polymer Laboratories) Mw = 2, 560,000 to 580, a calibration curve with 9 samples was used.

本発明で用いられるセルロースエステルの原料セルロースは、木材パルプでも綿花リンターでもよく、木材パルプは針葉樹でも広葉樹でもよいが、針葉樹の方がより好ましい。製膜の際の剥離性の点からは綿花リンターが好ましく用いられる。これらから作られたセルロースエステルは適宜混合して、或いは単独で使用することができる。   The cellulose ester raw material cellulose used in the present invention may be wood pulp or cotton linter, and the wood pulp may be softwood or hardwood, but softwood is more preferred. A cotton linter is preferably used from the viewpoint of peelability during film formation. The cellulose ester made from these can be mixed suitably or can be used independently.

例えば、綿花リンター由来セルロースエステル:木材パルプ(針葉樹)由来セルロースエステル:木材パルプ(広葉樹)由来セルロースエステルの比率が100:0:0、90:10:0、85:15:0、50:50:0、20:80:0、10:90:0、0:100:0、0:0:100、80:10:10、85:0:15、40:30:30で用いることができる。   For example, the ratio of cellulose ester derived from cellulose linter: cellulose ester derived from wood pulp (coniferous): cellulose ester derived from wood pulp (hardwood) is 100: 0: 0, 90: 10: 0, 85: 15: 0, 50:50: 0, 20: 80: 0, 10: 90: 0, 0: 100: 0, 0: 0: 100, 80:10:10, 85: 0: 15, 40:30:30.

セルロースエステルは、例えば、原料セルロースの水酸基を無水酢酸、無水プロピオン酸及び/または無水酪酸を用いて常法によりアセチル基、プロピオニル基及び/またはブチル基を上記の範囲内に置換することで得られる。このようなセルロースエステルの合成方法は、特に限定はないが、例えば、特開平10−45804号或いは特表平6−501040号に記載の方法を参考にして合成することができる。   The cellulose ester can be obtained, for example, by substituting the hydroxyl group of the raw material cellulose with acetic anhydride, propionic anhydride and / or butyric anhydride in the usual manner using an acetyl group, propionyl group and / or butyl group within the above range. . The method for synthesizing such a cellulose ester is not particularly limited. For example, the cellulose ester can be synthesized with reference to the method described in JP-A-10-45804 or JP-A-6-501040.

本発明に用いられるセルロースエステルのアルカリ土類金属含有量は、1〜50ppmの範囲であることが好ましい。50ppmを超えるとリップ付着汚れが増加或いは熱延伸時や熱延伸後でのスリッティング部で破断しやすくなる。1ppm未満でも破断しやすくなるがその理由はよく分かっていない。1ppm未満にするには洗浄工程の負担が大きくなり過ぎるためその点でも好ましくない。更に1〜30ppmの範囲が好ましい。ここでいうアルカリ土類金属とはCa、Mgの総含有量のことであり、X線光電子分光分析装置(XPS)を用いて測定することができる。   The alkaline earth metal content of the cellulose ester used in the present invention is preferably in the range of 1 to 50 ppm. If it exceeds 50 ppm, lip adhesion stains increase or breakage tends to occur at the slitting part during or after hot stretching. Even if it is less than 1 ppm, it tends to break, but the reason is not well understood. In order to make it less than 1 ppm, since the burden of a washing | cleaning process will become large too much, it is unpreferable also in that point. Furthermore, the range of 1-30 ppm is preferable. The alkaline earth metal as used herein refers to the total content of Ca and Mg, and can be measured using an X-ray photoelectron spectrometer (XPS).

本発明に用いられるセルロースエステル中の残留硫酸含有量は、硫黄元素換算で0.1〜45ppmの範囲であることが好ましい。これらは塩の形で含有していると考えられる。残留硫酸含有量が45ppmを超えると熱溶融時のダイリップ部の付着物が増加するため好ましくない。また、熱延伸時や熱延伸後でのスリッティングの際に破断しやすくなるため好ましくない。少ない方が好ましいが、0.1未満とするにはセルロースエステルの洗浄工程の負担が大きくなり過ぎるため好ましくないだけでなく、逆に破断しやすくなることがあり好ましくない。これは洗浄回数が増えることが樹脂に影響を与えているのかもしれないがよく分かっていない。更に1〜30ppmの範囲が好ましい。残留硫酸含有量は、ASTM−D817−96に規定の方法により測定することができる。   The residual sulfuric acid content in the cellulose ester used in the present invention is preferably in the range of 0.1 to 45 ppm in terms of elemental sulfur. These are considered to be contained in the form of salts. If the residual sulfuric acid content exceeds 45 ppm, the deposits on the die lip during heat melting increase, such being undesirable. Moreover, since it becomes easy to fracture | rupture at the time of slitting at the time of hot drawing or after hot drawing, it is not preferable. A smaller amount is preferable, but if it is less than 0.1, it is not preferable because the load of the cellulose ester washing process becomes too large, and it is not preferable because it may easily break. This is not well understood, although an increase in the number of washings may affect the resin. Furthermore, the range of 1-30 ppm is preferable. The residual sulfuric acid content can be measured by a method prescribed in ASTM-D817-96.

本発明に用いられるセルロースエステル中の遊離酸含有量は、1〜500ppmであることが好ましい。500ppmを超えるとダイリップ部の付着物が増加し、また破断しやすくなる。洗浄で1ppm未満にすることは困難である。更に1〜100ppmの範囲であることが好ましく、更に破断しにくくなる。特に1〜70ppmの範囲が好ましい。遊離酸含有量はASTM−D817−96に規定の方法により測定することができる。   The free acid content in the cellulose ester used in the present invention is preferably 1 to 500 ppm. If it exceeds 500 ppm, deposits on the die lip will increase and breakage will easily occur. It is difficult to make it less than 1 ppm by washing. Furthermore, it is preferable that it is the range of 1-100 ppm, and also it becomes difficult to fracture | rupture. A range of 1 to 70 ppm is particularly preferable. The free acid content can be measured by the method prescribed in ASTM-D817-96.

合成したセルロースエステルの洗浄を、溶液流延法に用いられる場合に比べて、更に十分に行うことによって、残留酸含有量を上記の範囲とすることができ、溶融流延法によってフィルムを製造する際に、リップ部への付着が軽減され、平面性に優れるフィルムが得られ、寸法変化、機械強度、透明性、耐透湿性、後述するリターデーションRt値、Ro値が良好なフィルムを得ることができる。また、セルロースエステルの洗浄は、水に加えて、メタノール、エタノールのような貧溶媒、或いは結果として貧溶媒であれば貧溶媒と良溶媒の混合溶媒を用いることができ、残留酸以外の無機物、低分子の有機不純物を除去することができる。更に、セルロースエステルの洗浄は、ヒンダードアミン、亜リン酸エステルといった酸化防止剤の存在下で行うことが好ましく、セルロースエステルの耐熱性、製膜安定性が向上する。   By washing the synthesized cellulose ester more sufficiently than when it is used in the solution casting method, the residual acid content can be within the above range, and a film is produced by the melt casting method. In the process, adhesion to the lip portion is reduced, and a film having excellent flatness is obtained, and a film having good dimensional change, mechanical strength, transparency, moisture resistance, retardation Rt value and Ro value described later is obtained. Can do. In addition to washing with water, cellulose ester can be washed with a poor solvent such as methanol or ethanol, or as a result, a mixed solvent of a poor solvent and a good solvent can be used as a poor solvent. Low molecular organic impurities can be removed. Furthermore, washing of the cellulose ester is preferably performed in the presence of an antioxidant such as a hindered amine or a phosphite, which improves the heat resistance and film forming stability of the cellulose ester.

また、セルロースエステルの耐熱性、機械物性、光学物性等を向上させるため、セルロースエステルの良溶媒に溶解後、貧溶媒中に再沈殿させ、セルロースエステルの低分子量成分、その他不純物を除去することができる。この時、前述のセルロースエステルの洗浄同様に、酸化防止剤の存在下で行うことが好ましい。   In order to improve the heat resistance, mechanical properties, optical properties, etc. of cellulose ester, it can be dissolved in a good solvent of cellulose ester and then reprecipitated in a poor solvent to remove low molecular weight components and other impurities of cellulose ester. it can. At this time, it is preferable to carry out in the presence of an antioxidant as in the case of washing the cellulose ester.

更に、セルロースエステルの再沈殿処理の後、別のポリマー或いは低分子化合物を添加してもよい。   Furthermore, another polymer or a low molecular weight compound may be added after the cellulose ester reprecipitation treatment.

また、本発明で用いられるセルロースエステルはフィルムにした時の輝点異物が少ないものであることが好ましい。輝点異物とは、2枚の偏光板を直交に配置し(クロスニコル)、この間にセルロースエステルフィルムを配置して、一方の面から光源の光を当てて、もう一方の面からセルロースエステルフィルムを観察した時に、光源の光が漏れて見える点のことである。このとき評価に用いる偏光板は輝点異物がない保護フィルムで構成されたものであることが望ましく、偏光子の保護にガラス板を使用したものが好ましく用いられる。輝点異物はセルロースエステルに含まれる未酢化もしくは低酢化度のセルロースがその原因の1つと考えられ、輝点異物の少ないセルロースエステルを用いる(置換度の分散の小さいセルロースエステルを用いる)ことと、溶融したセルロースエステルを濾過すること、或いはセルロースエステルの合成後期の過程や沈殿物を得る過程の少なくともいずれかにおいて、一度溶液状態として同様に濾過工程を経由して輝点異物を除去することもできる。溶融樹脂は粘度が高いため、後者の方法の方が効率がよい。   Moreover, it is preferable that the cellulose ester used by this invention is a thing with few bright spot foreign materials when it is made into a film. A bright spot foreign material is an arrangement in which two polarizing plates are arranged orthogonally (crossed Nicols), a cellulose ester film is arranged between them, light from the light source is applied from one side, and the cellulose ester film is applied from the other side. This is the point where the light from the light source appears to leak when observed. At this time, the polarizing plate used for the evaluation is desirably composed of a protective film having no bright spot foreign matter, and a polarizing plate using a glass plate for protecting the polarizer is preferably used. One of the causes of bright spot foreign matter is the unacetylated or low acetylated cellulose contained in the cellulose ester. Use a cellulose ester with less bright spot foreign matter (use a cellulose ester with a small dispersion degree of substitution). And filtering the melted cellulose ester, or removing the bright spot foreign matters through the filtration process in the same way once in the solution state in at least one of the process of synthesizing the cellulose ester and the process of obtaining the precipitate You can also. Since the molten resin has a high viscosity, the latter method is more efficient.

フィルム膜厚が薄くなるほど単位面積当たりの輝点異物数は少なくなり、フィルムに含まれるセルロースエステルの含有量が少なくなるほど輝点異物は少なくなる傾向があるが、輝点異物は、輝点の直径0.01mm以上が200個/cm以下であることが好ましく、100個/cm以下であることがより好ましく、50個/cm以下であることが更に好ましく、30個/cm以下であることがさらにより好ましく、10個/cm以下であることが更に好ましいが、皆無であることが最も好ましい。また、0.005〜0.01mm以下の輝点についても200個/cm以下であることが好ましく、100個/cm以下であることがより好ましく、50個/cm以下であることがさらにより好ましく、30個/cm以下であることが更に好ましく、10個/cm以下であることが更に好ましいが、皆無であることが最も好ましい。 As the film thickness decreases, the number of bright spot foreign matter per unit area decreases, and as the cellulose ester content in the film decreases, the bright spot foreign matter tends to decrease. 0.01 mm or more is preferably 200 pieces / cm 2 or less, more preferably 100 pieces / cm 2 or less, further preferably 50 pieces / cm 2 or less, and 30 pieces / cm 2 or less. More preferably, it is more preferably 10 pieces / cm 2 or less, but most preferably none. Moreover, it is preferable that it is 200 pieces / cm < 2 > or less also about the bright spot of 0.005-0.01 mm or less, It is more preferable that it is 100 pieces / cm < 2 > or less, It is 50 pieces / cm < 2 > or less. Even more preferred is 30 / cm 2 or less, still more preferred is 10 / cm 2 or less, and most preferred is none.

輝点異物を溶融濾過によって除去する場合、セルロースエステルを単独で溶融させたものを濾過するよりも可塑剤、劣化防止剤、酸化防止剤等を添加混合したセルロースエステル組成物を濾過することが輝点異物の除去効率が高く好ましい。もちろん、セルロースエステルの合成の際に溶媒に溶解させて濾過により低減させてもよい。紫外線吸収剤、その他の添加物も適宜混合したものを濾過することができる。濾過はセルロースエステルを含む溶融物の粘度が10000Pa・s以下で濾過されることが好ましく、5000Pa・s以下がより好ましく、1000Pa・s以下が更に好ましく、500Pa・s以下であることがさらにより好ましい。濾材としては、ガラス繊維、セルロース繊維、濾紙、四フッ化エチレン樹脂等の弗素樹脂等の従来公知のものが好ましく用いられるが、特にセラミックス、金属等が好ましく用いられる。絶対濾過精度としては50μm以下のものが好ましく用いられ、30μm以下のものがより好ましく、10μm以下のものがさらにより好ましく、5μm以下のものが更に好ましく用いられる。これらは適宜組み合わせて使用することもできる。濾材はサーフェースタイプでもデプスタイプでも用いることができるが、デプスタイプの方が比較的目詰まりしにくく好ましく用いられる。   When removing bright spot foreign matter by melt filtration, filtering the cellulose ester composition to which a plasticizer, a deterioration inhibitor, an antioxidant, etc. are added and mixed is more effective than filtering the melted cellulose ester alone. It is preferable because the removal efficiency of point foreign matters is high. Of course, the cellulose ester may be dissolved in a solvent during the synthesis and reduced by filtration. What mixed the ultraviolet absorber and other additives suitably can be filtered. Filtration is preferably performed at a viscosity of a melt containing cellulose ester of 10,000 Pa · s or less, more preferably 5000 Pa · s or less, even more preferably 1000 Pa · s or less, and even more preferably 500 Pa · s or less. . As the filter medium, conventionally known materials such as glass fibers, cellulose fibers, filter paper, and fluorine resins such as tetrafluoroethylene resin are preferably used, and ceramics, metals and the like are particularly preferably used. The absolute filtration accuracy is preferably 50 μm or less, more preferably 30 μm or less, still more preferably 10 μm or less, and even more preferably 5 μm or less. These can be used in combination as appropriate. The filter medium can be either a surface type or a depth type, but the depth type is preferably used because it is relatively less clogged.

別の実施態様では、原料のセルロースエステルは少なくとも一度溶媒に溶解させた後、溶媒を乾燥させたセルロースエステルを用いてもよい。その際には可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、酸化防止剤及びマット剤の少なくとも1つ以上と共に溶媒に溶解させた後、乾燥させたセルロースエステルを用いる。溶媒としては、メチレンクロライド、酢酸メチル、ジオキソラン等の溶液流延法で用いられる良溶媒を用いることができ、同時にメタノール、エタノール、ブタノール等の貧溶媒を用いてもよい。溶解の過程で−20℃以下に冷却したり、80℃以上に加熱したりしてもよい。このようなセルロースエステルを用いると、溶融状態にした時の各添加物を均一にしやすく、光学特性を均一にできることがある。   In another embodiment, a cellulose ester obtained by dissolving the raw material cellulose ester at least once in a solvent and then drying the solvent may be used. In that case, a cellulose ester which is dissolved in a solvent together with at least one of a plasticizer, an ultraviolet absorber, a deterioration inhibitor, an antioxidant and a matting agent and then dried is used. As the solvent, a good solvent used in a solution casting method such as methylene chloride, methyl acetate or dioxolane can be used, and a poor solvent such as methanol, ethanol or butanol may be used at the same time. You may cool to -20 degrees C or less in the process of dissolution, or you may heat to 80 degrees C or more. When such a cellulose ester is used, each additive in a molten state can be easily made uniform, and optical characteristics can be made uniform.

本発明の光学フィルムはセルロースエステル以外の高分子成分を適宜混合したものでもよい。混合される高分子成分はセルロースエステルと相溶性に優れるものが好ましく、フィルムにした時の透過率が80%以上、更に好ましくは90%以上、更に好ましくは92%以上であることが好ましい。   The optical film of the present invention may be appropriately mixed with polymer components other than cellulose ester. The polymer component to be mixed is preferably one having excellent compatibility with the cellulose ester, and the transmittance when formed into a film is preferably 80% or more, more preferably 90% or more, and further preferably 92% or more.

《その他の添加剤》
その他の添加剤としては、酸化防止剤、可塑剤、粒子(マット剤)、紫外線吸収剤等が挙げられる。
《Other additives》
Examples of other additives include antioxidants, plasticizers, particles (matting agents), and ultraviolet absorbers.

《酸化防止剤》
本発明の光学フィルムの基材となる樹脂は、熱だけでなく酸素によっても分解が促進されるため、本発明の光学フィルムにおいては安定化剤として酸化防止剤を含有することが好ましい。
"Antioxidant"
Since the resin used as the base material of the optical film of the present invention is decomposed not only by heat but also by oxygen, the optical film of the present invention preferably contains an antioxidant as a stabilizer.

特に、溶融製膜が行われるような高温環境下では、フィルム成形材料の熱、及び酸素による分解が促進されるため、酸化防止剤を含有することが好ましい。   In particular, in a high temperature environment in which melt film formation is performed, since the decomposition of the film molding material by heat and oxygen is promoted, it is preferable to contain an antioxidant.

本発明において有用な酸化防止剤としては、酸素によるフィルム成形材料の劣化を抑制する化合物であれば制限なく用いることができるが、中でも有用な酸化防止剤としては、フェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系化合物、イオウ系化合物、アクリレート系化合物、ベンゾフラノン系化合物、酸素スカベンジャー等が挙げられ、これらの中でも、特にフェノール系化合物、リン系化合物、アクリレート系化合物、ベンゾフラノン系化合物が好ましい。これらの化合物を配合することにより、透明性、耐熱性等を低下させることなく、熱や熱酸化劣化等による成形体の着色や強度低下を防止できる。これらの酸化防止剤は、それぞれ単独で、或いは2種以上を組み合わせて用いることができる。   The antioxidant useful in the present invention can be used without limitation as long as it is a compound that suppresses the deterioration of the film molding material due to oxygen. Among the useful antioxidants, phenolic compounds, hindered amine compounds, Phosphorus compounds, sulfur compounds, acrylate compounds, benzofuranone compounds, oxygen scavengers and the like can be mentioned. Of these, phenol compounds, phosphorus compounds, acrylate compounds, and benzofuranone compounds are particularly preferable. By blending these compounds, it is possible to prevent coloring and strength reduction of the molded product due to heat, thermal oxidation degradation, and the like without reducing transparency, heat resistance, and the like. These antioxidants can be used alone or in combination of two or more.

(フェノール系化合物)
フェノール系化合物は既知の化合物であり、例えば、米国特許第4,839,405号明細書の第12〜14欄に記載されており、2,6−ジアルキルフェノール誘導体化合物が含まれる。このような化合物のうち好ましい化合物として、下記一般式(A)で表される化合物が好ましい。
(Phenolic compounds)
Phenol compounds are known compounds and are described, for example, in columns 12 to 14 of US Pat. No. 4,839,405, and include 2,6-dialkylphenol derivative compounds. Among such compounds, preferred compounds are those represented by the following general formula (A).

Figure 2010060981
Figure 2010060981

式中、R111〜R116は水素原子または置換基を表す。置換基としては、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子等)、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、t−ブチル基等)、シクロアルキル基(例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、アラルキル基(例えばベンジル基、2−フェネチル基等)、アリール基(例えばフェニル基、ナフチル基、p−トリル基、p−クロロフェニル基等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等)、アリールオキシ基(例えばフェノキシ基等)、シアノ基、アシルアミノ基(例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基等)、アルキルチオ基(例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基等)、アリールチオ基(例えばフェニルチオ基等)、スルホニルアミノ基(例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等)、ウレイド基(例えば3−メチルウレイド基、3,3−ジメチルウレイド基、1,3−ジメチルウレイド基等)、スルファモイルアミノ基(ジメチルスルファモイルアミノ基等)、カルバモイル基(例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基等)、スルファモイル基(例えばエチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基等)、アルコキシカルボニル基(例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えばフェノキシカルボニル基等)、スルホニル基(例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニル基等)、アシル基(例えばアセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基等)、アミノ基(メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基等)、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、ニトロソ基、アミンオキシド基(例えばピリジン−オキシド基)、イミド基(例えばフタルイミド基等)、ジスルフィド基(例えばベンゼンジスルフィド基、ベンゾチアゾリル−2−ジスルフィド基等)、カルボキシル基、スルホ基、ヘテロ環基(例えば、ピロール基、ピロリジル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等)等が挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。 Wherein, R 111 to R 116 represents a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom), an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, isopropyl group, hydroxyethyl group, methoxymethyl group, trifluoromethyl group, t-butyl group, etc.), A cycloalkyl group (eg, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), an aralkyl group (eg, benzyl group, 2-phenethyl group, etc.), an aryl group (eg, phenyl group, naphthyl group, p-tolyl group, p-chlorophenyl group, etc.), alkoxy Groups (eg methoxy, ethoxy, isopropoxy, butoxy), aryloxy (eg phenoxy), cyano, acylamino (eg acetylamino, propionylamino), alkylthio (eg methylthio) Group, ethylthio group, butylthio group, etc.), aryl O group (for example, phenylthio group), sulfonylamino group (for example, methanesulfonylamino group, benzenesulfonylamino group, etc.), ureido group (for example, 3-methylureido group, 3,3-dimethylureido group, 1,3-dimethylureido) Group), sulfamoylamino group (dimethylsulfamoylamino group etc.), carbamoyl group (eg methylcarbamoyl group, ethylcarbamoyl group, dimethylcarbamoyl group etc.), sulfamoyl group (eg ethylsulfamoyl group, dimethylsulfamoyl group) Moyl group etc.), alkoxycarbonyl group (eg methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group etc.), aryloxycarbonyl group (eg phenoxycarbonyl group etc.), sulfonyl group (eg methanesulfonyl group, butanesulfonyl group, phenylsulfonyl group) Group), acyl group (eg, acetyl group, propanoyl group, butyroyl group, etc.), amino group (methylamino group, ethylamino group, dimethylamino group, etc.), cyano group, hydroxy group, nitro group, nitroso group, amine oxide Group (for example, pyridine-oxide group), imide group (for example, phthalimide group, etc.), disulfide group (for example, benzene disulfide group, benzothiazolyl-2-disulfide group, etc.), carboxyl group, sulfo group, heterocyclic group (for example, pyrrole group, Pyrrolidyl group, pyrazolyl group, imidazolyl group, pyridyl group, benzimidazolyl group, benzthiazolyl group, benzoxazolyl group, etc.). These substituents may be further substituted.

また、R111は水素原子、R112、R116はt−ブチル基であるフェノール系化合物が好ましい。フェノール系化合物の具体例としては、n−オクタデシル3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート、n−オクタデシル3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−アセテート、n−オクタデシル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、n−ヘキシル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルベンゾエート、n−ドデシル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ネオ−ドデシル3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、ドデシルβ(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、エチルα−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)イソブチレート、オクタデシルα−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)イソブチレート、オクタデシルα−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2−(n−オクチルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ベンゾエート、2−(n−オクチルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−フェニルアセテート、2−(n−オクタデシルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルアセテート、2−(n−オクタデシルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ベンゾエート、2−(2−ヒドロキシエチルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、ジエチルグリコールビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−フェニル)プロピオネート、2−(n−オクタデシルチオ)エチル3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、ステアルアミドN,N−ビス−[エチレン3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、n−ブチルイミノN,N−ビス−[エチレン3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2−(2−ステアロイルオキシエチルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、2−(2−ステアロイルオキシエチルチオ)エチル7−(3−メチル−5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ヘプタノエート、1,2−プロピレングリコールビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、エチレングリコールビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ネオペンチルグリコールビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、エチレングリコールビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルアセテート)、グリセリン−l−n−オクタデカノエート−2,3−ビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルアセテート)、ペンタエリスリトールテトラキス−[3−(3′,5′−ジ−t−ブチル−4′−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、3,9−ビス−{2−〔3−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ〕−1,1−ジメチルエチル}−2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5.5〕ウンデカン、1,1,1−トリメチロールエタン−トリス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ソルビトールヘキサ−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2−ヒドロキシエチル7−(3−メチル−5−tブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2−ステアロイルオキシエチル7−(3−メチル−5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ヘプタノエート、1,6−n−ヘキサンジオール−ビス[(3′,5′−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ペンタエリスリトールテトラキス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナメート)が含まれる。 Further, a phenol compound in which R 111 is a hydrogen atom, and R 112 and R 116 are t-butyl groups is preferable. Specific examples of the phenol compound include n-octadecyl 3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) -propionate, n-octadecyl 3- (3,5-di-t-butyl-4 -Hydroxyphenyl) -acetate, n-octadecyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzoate, n-hexyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenylbenzoate, n-dodecyl 3,5 -Di-t-butyl-4-hydroxyphenylbenzoate, neo-dodecyl 3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, dodecyl beta (3,5-di-t-butyl-4 -Hydroxyphenyl) propionate, ethyl α- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl) isobutyrate, octadecyl α- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl) isobutyrate, octadecyl α- (4-hydroxy-3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 2- (n- Octylthio) ethyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-benzoate, 2- (n-octylthio) ethyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-phenylacetate, 2- (n-octadecyl) Thio) ethyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl acetate, 2- (n-octadecylthio) ethyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-benzoate, 2- (2-hydroxy Ethylthio) ethyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzoate, diethyl glycol bis- (3,5-di-t-butyl-4- Droxy-phenyl) propionate, 2- (n-octadecylthio) ethyl 3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, stearamide N, N-bis- [ethylene 3- (3,5 -Di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], n-butylimino N, N-bis- [ethylene 3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2- ( 2-stearoyloxyethylthio) ethyl 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzoate, 2- (2-stearoyloxyethylthio) ethyl 7- (3-methyl-5-tert-butyl-4-hydroxy) Phenyl) heptanoate, 1,2-propylene glycol bis- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxypheny ) Propionate], ethylene glycol bis- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], neopentyl glycol bis- [3- (3,5-di-t-butyl-4) -Hydroxyphenyl) propionate], ethylene glycol bis- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenylacetate), glycerin-ln-octadecanoate-2,3-bis- (3,5 -Di-t-butyl-4-hydroxyphenyl acetate), pentaerythritol tetrakis- [3- (3 ', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl) propionate], 3,9-bis- { 2- [3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy] -1,1-dimethylethyl -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane, 1,1,1-trimethylolethane-tris- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) Propionate], sorbitol hexa- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2-hydroxyethyl 7- (3-methyl-5-tbutyl-4-hydroxyphenyl) propionate 2-stearoyloxyethyl 7- (3-methyl-5-t-butyl-4-hydroxyphenyl) heptanoate, 1,6-n-hexanediol-bis [(3 ', 5'-di-t-butyl- 4-hydroxyphenyl) propionate], pentaerythritol tetrakis (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyhydrocinnamate) Be turned.

上記タイプのフェノール化合物は、例えば、チバ・ジャパン株式会社から、“Irganox1076”及び“Irganox1010”という商品名で市販されている。   The phenol compound of the above type is commercially available from Ciba Japan Co., Ltd. under the trade names “Irganox 1076” and “Irganox 1010”, for example.

(ヒンダードアミン系化合物)
本発明において有用な酸化防止剤の一つとして、下記一般式(B)で表されるヒンダードアミン系化合物が好ましい。
(Hindered amine compounds)
As one of the antioxidants useful in the present invention, a hindered amine compound represented by the following general formula (B) is preferable.

Figure 2010060981
Figure 2010060981

式中、R121〜R127は置換基を表す。置換基としては前記一般式(A)のR111〜R116で表される置換基と同義である。R124は水素原子、メチル基、R127は水素原子、R122、R123、R125、R126はメチル基が好ましい。 Wherein, R 121 to R 127 represents a substituent. The substituent is synonymous with the substituents represented by R 111 to R 116 in formula (A). R 124 is preferably a hydrogen atom or a methyl group, R 127 is preferably a hydrogen atom, and R 122 , R 123 , R 125 , or R 126 is preferably a methyl group.

ヒンダードミン系化合物の具体例としては、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)スクシネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(N−オクトキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(N−ベンジルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(N−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)2−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−ブチルマロネート、ビス(1−アクロイル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)2,2−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−ブチルマロネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)デカンジオエート、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルメタクリレート、4−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ]−1−[2−(3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ)エチル]−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、2−メチル−2−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)アミノ−N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)プロピオンアミド、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート等が挙げられる。   Specific examples of hindered amine compounds include bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) succinate, bis (1 , 2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (N-octoxy-2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (N-benzyloxy-2,2) , 6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (N-cyclohexyloxy-2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6- Pentamethyl-4-piperidyl) 2- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -2-butylmalonate, bis (1-acryloyl-2,2,6,6-te Lamethyl-4-piperidyl) 2,2-bis (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -2-butylmalonate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4- Piperidyl) decanedioate, 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl methacrylate, 4- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] -1- [ 2- (3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy) ethyl] -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 2-methyl-2- (2,2, 6,6-tetramethyl-4-piperidyl) amino-N- (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) propionamide, tetrakis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) ) , 2,3,4-butane tetracarboxylate, tetrakis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) 1,2,3,4-butane tetracarboxylate, and the like.

また、高分子タイプの化合物でもよく、具体例としては、N,N′,N″,N″′−テトラキス−[4,6−ビス−〔ブチル−(N−メチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)アミノ〕−トリアジン−2−イル]−4,7−ジアザデカン−1,10−ジアミン、ジブチルアミンと1,3,5−トリアジン−N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−1,6−ヘキサメチレンジアミンとN−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブチルアミンとの重縮合物、ジブチルアミンと1,3,5−トリアジンとN,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔{(1,1,3,3−テトラメチルブチル)アミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル}{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}ヘキサメチレン{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}〕、1,6−ヘキサンジアミン−N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)とモルフォリン−2,4,6−トリクロロ−1,3,5−トリアジンとの重縮合物、ポリ[(6−モルフォリノ−s−トリアジン−2,4−ジイル)〔(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ〕−ヘキサメチレン〔(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ〕]等の、ピペリジン環がトリアジン骨格を介して複数結合した高分子量HALS;コハク酸ジメチルと4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジンエタノールとの重合物、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジノールと3,9−ビス(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカンとの混合エステル化物等の、ピペリジン環がエステル結合を介して結合した化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Further, it may be a polymer type compound. As specific examples, N, N ′, N ″, N ″ ′-tetrakis- [4,6-bis- [butyl- (N-methyl-2,2,6, 6-tetramethylpiperidin-4-yl) amino] -triazin-2-yl] -4,7-diazadecane-1,10-diamine, dibutylamine and 1,3,5-triazine-N, N′-bis ( 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -1,6-hexamethylenediamine and N- (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) butylamine polycondensate, di Polycondensate of butylamine, 1,3,5-triazine and N, N′-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) butylamine, poly [{(1,1,3,3 -Tetramethylbutyl) amino-1,3,5-tri Gin-2,4-diyl} {(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino} hexamethylene {(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino}], Between 1,6-hexanediamine-N, N'-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) and morpholine-2,4,6-trichloro-1,3,5-triazine Polycondensate, poly [(6-morpholino-s-triazine-2,4-diyl) [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino] -hexamethylene [(2,2,6 , 6-tetramethyl-4-piperidyl) imino]], etc., high molecular weight HALS in which a plurality of piperidine rings are bonded via a triazine skeleton; dimethyl succinate and 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethyl- 1-piperidine ester Polymer with diol, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid, 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinol and 3,9-bis (2-hydroxy-1,1-dimethyl) (Ethyl) -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane and the like, and the like are exemplified by compounds in which a piperidine ring is bonded through an ester bond, but the present invention is not limited thereto. It is not a thing.

これらの中でも、ジブチルアミンと1,3,5−トリアジンとN,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔{(1,1,3,3−テトラメチルブチル)アミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル}{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}ヘキサメチレン{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}〕、コハク酸ジメチルと4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジンエタノールとの重合物等で、数平均分子量(Mn)が2,000〜5,000のものが好ましい。   Among these, polycondensates of dibutylamine, 1,3,5-triazine and N, N′-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) butylamine, poly [{(1, 1,3,3-tetramethylbutyl) amino-1,3,5-triazine-2,4-diyl} {(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino} hexamethylene {(2 , 2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino}], a polymer of dimethyl succinate and 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidineethanol, etc. Those having a molecular weight (Mn) of 2,000 to 5,000 are preferred.

上記タイプのヒンダードアミン化合物は、例えば、チバ・ジャパン株式会社から、“Tinuvin144”及び“Tinuvin770”、株式会社ADEKAから“ADK STAB LA−52”という商品名で市販されている。   The hindered amine compound of the above type is commercially available from Ciba Japan Co., Ltd. under the product names “Tinuvin 144” and “Tinuvin 770” and from ADEKA Co., Ltd. under the name “ADK STAB LA-52”.

(リン系化合物)
本発明において有用な酸化防止剤の一つとして、下記一般式(C−1)、(C−2)、(C−3)、(C−4)、(C−5)で表される部分構造を分子内に有する化合物が好ましい。
(Phosphorus compounds)
As one of the antioxidants useful in the present invention, a moiety represented by the following general formulas (C-1), (C-2), (C-3), (C-4), (C-5) A compound having a structure in the molecule is preferred.

Figure 2010060981
Figure 2010060981

式中、Ph及びPh′は置換基を表す。置換基としては前記一般式(A)のR111〜R116で表される置換基と同義である。より好ましくは、Ph及びPh′はフェニレン基を表し、該フェニレン基の水素原子はフェニル基、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数5〜8のシクロアルキル基、炭素数6〜12のアルキルシクロアルキル基または炭素数7〜12のアラルキル基で置換されていてもよい。Ph及びPh′は互いに同一でもよく、異なってもよい。Xは単結合、硫黄原子または−CHR−基を表す。Rは水素原子、炭素数1〜8のアルキル基または炭素数5〜8のシクロアルキル基を表す。また、これらは前記一般式(A)のR111〜R116で表される置換基と同義の置換基により置換されてもよい。 In the formula, Ph 1 and Ph ′ 1 represent a substituent. The substituent is synonymous with the substituents represented by R 111 to R 116 in formula (A). More preferably, Ph 1 and Ph ′ 1 represent a phenylene group, and the hydrogen atom of the phenylene group is a phenyl group, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, or 6 to 12 carbon atoms. Or an alkyl cycloalkyl group or an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms. Ph 1 and Ph ′ 1 may be the same as or different from each other. X a represents a single bond, a sulfur atom or a —CHR a — group. R a represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms. Moreover, these may be substituted by a substituent having the same definition as the substituent represented by R 111 to R 116 in the general formula (A).

Figure 2010060981
Figure 2010060981

式中、Ph及びPh′は置換基を表す。置換基としては前記一般式(A)のR111〜R116で表される置換基と同義である。より好ましくは、Ph及びPh′はフェニル基またはビフェニル基を表し、該フェニル基またはビフェニル基の水素原子は炭素数1〜8のアルキル基、炭素数5〜8のシクロアルキル基、炭素数6〜12のアルキルシクロアルキル基または炭素数7〜12のアラルキル基で置換されていてもよい。Ph及びPh′は互いに同一でもよく、異なってもよい。また、これらは前記一般式(A)のR111〜R116で表される置換基と同義の置換基により置換されてもよい。 Wherein, Ph 2 and Ph '2 each represent a substituent. The substituent is synonymous with the substituents represented by R 111 to R 116 in formula (A). More preferably, Ph 2 and Ph ′ 2 represent a phenyl group or a biphenyl group, and the hydrogen atom of the phenyl group or biphenyl group is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, or a carbon number. It may be substituted with a 6-12 alkylcycloalkyl group or an aralkyl group having 7-12 carbon atoms. Ph 2 and Ph ′ 2 may be the same as or different from each other. Moreover, these may be substituted by a substituent having the same definition as the substituent represented by R 111 to R 116 in the general formula (A).

Figure 2010060981
Figure 2010060981

式中、Phは置換基を表す。置換基としては前記一般式(A)のR111〜R116で表される置換基と同義である。より好ましくは、Phはフェニル基またはビフェニル基を表し、該フェニル基またはビフェニル基の水素原子は炭素数1〜8のアルキル基、炭素数5〜8のシクロアルキル基、炭素数6〜12のアルキルシクロアルキル基または炭素数7〜12のアラルキル基で置換されていてもよい。また、これらは前記一般式(A)のR111〜R116で表される置換基と同義の置換基により置換されてもよい。 In the formula, Ph 3 represents a substituent. The substituent is synonymous with the substituents represented by R 111 to R 116 in formula (A). More preferably, Ph 3 represents a phenyl group or a biphenyl group, and the hydrogen atom of the phenyl group or biphenyl group is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, or a 6 to 12 carbon atom. It may be substituted with an alkylcycloalkyl group or an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms. Moreover, these may be substituted by a substituent having the same definition as the substituent represented by R 111 to R 116 in the general formula (A).

Figure 2010060981
Figure 2010060981

式中、Phは置換基を表す。置換基としては前記一般式(A)のR111〜R116で表される置換基と同義である。より好ましくは、Phは炭素数1〜20のアルキル基またはフェニル基を表し、該アルキル基またはフェニル基は前記一般式(A)のR111〜R116で表される置換基と同義の置換基により置換されてもよい。 In the formula, Ph 4 represents a substituent. The substituent is synonymous with the substituents represented by R 111 to R 116 in formula (A). More preferably, Ph 4 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a phenyl group, and the alkyl group or phenyl group is a substituent having the same meaning as the substituent represented by R 111 to R 116 in the general formula (A). It may be substituted by a group.

Figure 2010060981
Figure 2010060981

式中、Ph、Ph′及びPh″は置換基を表す。置換基としては前記一般式(A)のR111〜R116で表される置換基と同義である。より好ましくは、Ph、Ph′及びPh″は炭素数1〜20のアルキル基またはフェニル基を表し、該アルキル基またはフェニル基は前記一般式(A)のR111〜R116で表される置換基と同義の置換基により置換されてもよい。 In the formula, Ph 5 , Ph ′ 5 and Ph ″ 5 represent a substituent. The substituent has the same meaning as the substituent represented by R 111 to R 116 in the general formula (A). More preferably, Ph 5 , Ph ′ 5 and Ph ″ 5 represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a phenyl group, and the alkyl group or phenyl group is a substituent represented by R 111 to R 116 in the general formula (A). It may be substituted with a substituent having the same meaning as

リン系化合物の具体例としては、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリス(ジノニルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、10−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド、6−[3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロポキシ]−2,4,8,10−テトラ−t−ブチルジベンズ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピン、トリデシルホスファイト等のモノホスファイト系化合物;4,4′−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト)、4,4′−イソプロピリデン−ビス(フェニル−ジ−アルキル(C12〜C15)ホスファイト)等のジホスファイト系化合物;トリフェニルホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)[1,1−ビフェニル]−4,4′−ジイルビスホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチル−5−メチルフェニル)[1,1−ビフェニル]−4,4′−ジイルビスホスホナイト等のホスホナイト系化合物;トリフェニルホスフィナイト、2,6−ジメチルフェニルジフェニルホスフィナイト等のホスフィナイト系化合物;トリフェニルホスフィン、トリス(2,6−ジメトキシフェニル)ホスフィン等のホスフィン系化合物;等が挙げられる。   Specific examples of phosphorus compounds include triphenyl phosphite, diphenylisodecyl phosphite, phenyl diisodecyl phosphite, tris (nonylphenyl) phosphite, tris (dinonylphenyl) phosphite, tris (2,4-di-). t-butylphenyl) phosphite, 10- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 6- [ 3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propoxy] -2,4,8,10-tetra-tert-butyldibenz [d, f] [1,3,2] dioxaphosphine Monophosphite compounds such as pin and tridecyl phosphite; 4,4'-butylidene-bis (3-methyl-6-t-butyl) Diphosphite compounds such as phenyl-di-tridecyl phosphite), 4,4'-isopropylidene-bis (phenyl-di-alkyl (C12-C15) phosphite); triphenylphosphonite, tetrakis (2,4- Di-tert-butylphenyl) [1,1-biphenyl] -4,4'-diylbisphosphonite, tetrakis (2,4-di-tert-butyl-5-methylphenyl) [1,1-biphenyl]- Phosphonite compounds such as 4,4'-diylbisphosphonite; phosphinite compounds such as triphenylphosphinite and 2,6-dimethylphenyldiphenylphosphinite; triphenylphosphine and tris (2,6-dimethoxyphenyl) Phosphine compounds such as phosphine; and the like.

上記タイプのリン系化合物は、例えば、住友化学株式会社から、“SumilizerGP”、株式会社ADEKAから“ADK STAB PEP−24G”、“ADK STAB PEP−36”及び“ADK STAB 3010”、チバ・ジャパン株式会社から“IRGAFOS P−EPQ”、堺化学工業株式会社から“GSY−P101”という商品名で市販されている。   Phosphorus compounds of the above type are, for example, from Sumitomo Chemical Co., Ltd. “Sumilizer GP”, from ADEKA Co., Ltd. “ADK STAB PEP-24G”, “ADK STAB PEP-36” and “ADK STAB 3010”, Ciba Japan Co., Ltd. It is commercially available under the trade name “IRGAFOS P-EPQ” from the company and “GSY-P101” from Sakai Chemical Industry Co., Ltd.

(イオウ系化合物)
本発明において有用な酸化防止剤の一つとして、下記一般式(D)で表されるイオウ系化合物が好ましい。
(Sulfur compounds)
As one of the antioxidants useful in the present invention, a sulfur compound represented by the following general formula (D) is preferable.

Figure 2010060981
Figure 2010060981

式中、R131及びR132は置換基を表す。置換基としては前記一般式(A)のR111〜R116で表される置換基と同義である。 In the formula, R 131 and R 132 each represent a substituent. The substituent is synonymous with the substituents represented by R 111 to R 116 in formula (A).

イオウ系化合物の具体例としては、ジラウリル3,3−チオジプロピオネート、ジミリスチル3,3′−チオジプロピオネート、ジステアリル3,3−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル3,3−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス(β−ラウリル−チオ−プロピオネート)、3,9−ビス(2−ドデシルチオエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン等が挙げられる。   Specific examples of the sulfur compound include dilauryl 3,3-thiodipropionate, dimyristyl 3,3'-thiodipropionate, distearyl 3,3-thiodipropionate, lauryl stearyl 3,3-thiodipropioate. And pentaerythritol-tetrakis (β-lauryl-thio-propionate), 3,9-bis (2-dodecylthioethyl) -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane and the like. .

上記タイプのイオウ系化合物は、例えば、住友化学株式会社から、“Sumilizer TPL−R”及び“Sumilizer TP−D”という商品名で市販されている。   The above-mentioned type of sulfur-based compound is commercially available from Sumitomo Chemical Co., Ltd. under the trade names “Sumilizer TPL-R” and “Sumilizer TP-D”, for example.

(アクリレート系化合物)
アクリレート系化合物としては、2−tert−ブチル−6−(3−tert−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート、2−[1−(2−ヒドロキシ−3、5−ジ−tert−ペンチルフェニル)エチル]−4,6−ジ−tert−ペンチルフェニルアクリレート等が挙げられる。
(Acrylate compounds)
Examples of the acrylate compound include 2-tert-butyl-6- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylbenzyl) -4-methylphenyl acrylate, 2- [1- (2-hydroxy-3, 5 -Di-tert-pentylphenyl) ethyl] -4,6-di-tert-pentylphenyl acrylate and the like.

上記タイプのアクリレート系化合物は、例えば、住友化学株式会社から、“SumilizerGM”及び“SumilizerGS”という商品名で市販されている。   Acrylate compounds of the above type are commercially available from Sumitomo Chemical Co., Ltd. under the trade names “Sumilizer GM” and “Sumilizer GS”, for example.

(ベンゾフラノン系化合物)
ベンゾフラノン系化合物としては、3−[4−(2−アセトキシエトキシ)フェニル]−5,7−ジ第三ブチルベンゾフラン−2−オン、5,7−ジ第三ブチル−3−[4−(2−ステアロイルオキシエトキシ)フェニル]ベンゾフラン−2−オン、3,3′−ビス[5,7−ジ第三ブチル−3−(4−[2−ヒドロキシエトキシ]フェニル)ベンゾフラン−2−オン]、5,7−ジ第三ブチル−3−(4−メトキシフェニル)ベンゾフラン−2−オン、5,7−ジ第三ブチル−3−フェニルベンゾフラン−2−オン、5,7−ジ第三ブチル−4−メチル−3−フェニルベンゾフラン−2−オン、3−(4−アセトキシ−3,5−ジメチルフェニル)−5,7−ジ第三ブチルベンゾフラン−2−オン、3−(3,5−ジメチル−4−ピバロイルオキシフェニル)−5,7−ジ第三ブチルベンゾフラン−2−オン、3−(3,4−ジメチルフェニル)−5,7−ジ第三ブチルベンゾフラン−2−オン、3−(2,3−ジメチルフェニル)−5,7−ジ第三ブチル−ベンゾフラン−2−オン等が挙げられる。
(Benzofuranone compounds)
Examples of the benzofuranone compounds include 3- [4- (2-acetoxyethoxy) phenyl] -5,7-ditert-butylbenzofuran-2-one, 5,7-ditert-butyl-3- [4- (2 -Stearoyloxyethoxy) phenyl] benzofuran-2-one, 3,3'-bis [5,7-ditert-butyl-3- (4- [2-hydroxyethoxy] phenyl) benzofuran-2-one], 5 , 7-ditert-butyl-3- (4-methoxyphenyl) benzofuran-2-one, 5,7-ditert-butyl-3-phenylbenzofuran-2-one, 5,7-ditert-butyl-4 -Methyl-3-phenylbenzofuran-2-one, 3- (4-acetoxy-3,5-dimethylphenyl) -5,7-ditert-butylbenzofuran-2-one, 3- (3,5-dimethyl- 4-Pivalloy Oxyphenyl) -5,7-ditert-butylbenzofuran-2-one, 3- (3,4-dimethylphenyl) -5,7-ditert-butylbenzofuran-2-one, 3- (2,3- Dimethylphenyl) -5,7-ditert-butyl-benzofuran-2-one and the like.

上記タイプのベンゾフラノン系化合物は、例えば、チバ・ジャパン株式会社から“HP−136”という商品名で市販されている。   The above type of benzofuranone-based compound is commercially available, for example, from Ciba Japan Co., Ltd. under the trade name “HP-136”.

酸化防止剤は、前述のセルロースエステル同様に、製造時から持ち越される、或いは保存中に発生する残留酸、無機塩、有機低分子等の不純物を除去することが好ましく、より好ましくは純度99%以上である。残留酸及び水としては、0.01〜100ppmであることが好ましく、セルロースエステルを溶融製膜する上で、熱劣化を抑制でき、製膜安定性、フィルムの光学物性、機械物性が向上する。   The antioxidant is preferably removed from impurities such as residual acids, inorganic salts, organic low molecules, etc. that are carried over from production or generated during storage, and more preferably has a purity of 99% or more, like the cellulose ester described above. It is. The residual acid and water are preferably 0.01 to 100 ppm. When melt-forming cellulose ester, thermal degradation can be suppressed, and film-forming stability, optical properties of the film, and mechanical properties are improved.

本発明においては、これらの酸化防止剤は、樹脂に対して各々0.01〜10質量%添加することが好ましく、更に0.05〜5質量%添加することが好ましく、更に0.1〜2質量%添加することが好ましい。   In the present invention, these antioxidants are each preferably added in an amount of 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.05 to 5% by mass, and further preferably 0.1 to 2% with respect to the resin. It is preferable to add mass%.

これらの酸化防止剤は、一種のみを用いるよりも数種の異なった系の化合物を併用することで相乗効果を得ることができる。例えば、フェノール系化合物、リン系化合物、アクリレート系化合物、ベンゾフラノン系化合物の併用は好ましい。   These antioxidants can obtain a synergistic effect by using several different types of compounds in combination rather than using only one kind. For example, the combined use of a phenol compound, a phosphorus compound, an acrylate compound, and a benzofuranone compound is preferable.

本発明において好ましい態様のセルロースエステルは、貧溶媒による懸濁洗浄時に酸化防止剤存在下で洗浄することも好ましい。   In the present invention, the preferred embodiment of the cellulose ester is preferably washed in the presence of an antioxidant during suspension washing with a poor solvent.

使用される酸化防止剤は、セルロースエステルに発生したラジカルを不活性化する、或いはセルロースエステルに発生したラジカルに酸素が付加したことが起因のセルロースエステルの劣化を抑制する化合物であれば制限なく用いることができる。   The antioxidant to be used is not limited as long as it is a compound that inactivates radicals generated in the cellulose ester or suppresses deterioration of the cellulose ester caused by addition of oxygen to the radical generated in the cellulose ester. be able to.

セルロースエステルの懸濁洗浄に使用する酸化防止剤は、洗浄後セルロースエステル中に残存していてもよい。残存量は0.01〜2000ppmがよく、より好ましくは0.05〜1000ppmである。更に好ましくは0.1〜100ppmである。   The antioxidant used for suspension washing of the cellulose ester may remain in the cellulose ester after washing. The remaining amount is preferably 0.01 to 2000 ppm, more preferably 0.05 to 1000 ppm. More preferably, it is 0.1-100 ppm.

酸化防止剤は、前述のセルロースエステル同様に、製造時から持ち越される、或いは保存中に発生する残留酸、無機塩、有機低分子等の不純物を除去することが好ましく、より好ましくは純度99%以上である。残留酸及び水としては、0.01〜100ppmであることが好ましく、セルロースエステルを溶融流延製膜する上で、熱劣化を抑制でき、製膜安定性、フィルムの光学物性、機械物性が向上する。   The antioxidant is preferably removed from impurities such as residual acids, inorganic salts, organic low molecules, etc. that are carried over from production or generated during storage, and more preferably has a purity of 99% or more, like the cellulose ester described above. It is. The residual acid and water are preferably from 0.01 to 100 ppm, and when melt casting film formation of cellulose ester, thermal deterioration can be suppressed, and film formation stability, film optical properties and mechanical properties are improved. To do.

《酸捕捉剤》
セルロースエステルは、溶融製膜が行われるような高温環境下では酸によっても分解が促進されるため、本発明の光学フィルムにおいては安定化剤として酸捕捉剤を含有することが好ましい。本発明において有用な酸捕捉剤としては、酸と反応して酸を不活性化する化合物であれば制限なく用いることができるが、中でも米国特許第4,137,201号明細書に記載されているような、エポキシ基を有する化合物が好ましい。このような酸捕捉剤としてのエポキシ化合物は当該技術分野において既知であり、種々のポリグリコールのジグリシジルエーテル、特にポリグリコール1モル当たりに約8〜40モルのエチレンオキシド等の縮合によって誘導されるポリグリコール、グリセロールのジグリシジルエーテル等、金属エポキシ化合物(例えば、塩化ビニルポリマー組成物において、及び塩化ビニルポリマー組成物と共に、従来から利用されているもの)、エポキシ化エーテル縮合生成物、ビスフェノールAのジグリシジルエーテル(即ち、4,4′−ジヒドロキシジフェニルジメチルメタン)、エポキシ化不飽和脂肪酸エステル(特に、2〜22個の炭素原子の脂肪酸の4〜2個程度の炭素原子のアルキルのエステル(例えば、ブチルエポキシステアレート)等)、及び種々のエポキシ化長鎖脂肪酸トリグリセリド等(例えば、エポキシ化大豆油、エポキシ化亜麻仁油等)の組成物によって代表され例示され得るエポキシ化植物油及び他の不飽和天然油(これらはときとしてエポキシ化天然グリセリドまたは不飽和脂肪酸と称され、これらの脂肪酸は一般に12〜22個の炭素原子を含有している)が含まれる。また、市販のエポキシ基含有エポキシド樹脂化合物として、EPON 815C、及び下記一般式(E)の他のエポキシ化エーテルオリゴマー縮合生成物も好ましく用いることができる。
<Acid scavenger>
Cellulose ester is preferably decomposed by an acid in a high temperature environment where melt film formation is performed. Therefore, the optical film of the present invention preferably contains an acid scavenger as a stabilizer. Any acid scavenger useful in the present invention can be used without limitation as long as it is a compound that reacts with an acid to inactivate the acid, and is described in U.S. Pat. No. 4,137,201. A compound having an epoxy group is preferred. Epoxy compounds as such acid scavengers are known in the art and are derived by condensation of various polyglycol diglycidyl ethers, particularly about 8 to 40 moles of ethylene oxide per mole of polyglycol. Glycol, diglycidyl ether of glycerol, etc., metal epoxy compounds (such as those conventionally used in and with vinyl chloride polymer compositions), epoxidized ether condensation products, diphenols of bisphenol A Glycidyl ether (ie, 4,4'-dihydroxydiphenyldimethylmethane), epoxidized unsaturated fatty acid ester (especially an ester of an alkyl of about 4 to 2 carbon atoms of a fatty acid of 2 to 22 carbon atoms (for example, Butyl epoxy stearate) And epoxidized vegetable oils and other unsaturated natural oils (sometimes epoxies) that may be represented and exemplified by compositions of various epoxidized long chain fatty acid triglycerides and the like (eg, epoxidized soybean oil, epoxidized linseed oil, etc.) Natural fatty glycerides or unsaturated fatty acids, which generally contain 12 to 22 carbon atoms). Further, as a commercially available epoxy group-containing epoxide resin compound, EPON 815C and other epoxidized ether oligomer condensation products of the following general formula (E) can also be preferably used.

Figure 2010060981
Figure 2010060981

式中、nは0〜12の整数である。用いることができるその他の酸捕捉剤としては、特開平5−194788号公報の段落87〜105に記載されているものが含まれる。   In formula, n is an integer of 0-12. Other acid scavengers that can be used include those described in paragraphs 87 to 105 of JP-A-5-194788.

酸捕捉剤は0.1〜10質量%添加することが好ましく、更に0.2〜5質量%添加することが好ましく、更に0.5〜2質量%添加することが好ましい。これらは2種以上を併用してもよい。   The acid scavenger is preferably added in an amount of 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.2 to 5% by mass, and further preferably 0.5 to 2% by mass. Two or more of these may be used in combination.

なお酸捕捉剤は、樹脂に対して酸掃去剤、酸捕獲剤、酸キャッチャー等と称されることもあるが、本発明においてはこれらの呼称による差異なく用いることができる。   In addition, although an acid scavenger may be called an acid scavenger, an acid capture agent, an acid catcher etc. with respect to resin, in this invention, it can use without a difference by these names.

《紫外線吸収剤》
紫外線吸収剤は、偏光子や表示装置の紫外線に対する劣化防止の観点から、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れており、かつ液晶表示性の観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。本発明に用いられる紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物、トリアジン系化合物等を挙げることができるが、ベンゾフェノン系化合物や着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物が好ましい。また、特開平10−182621号、同8−337574号公報記載の紫外線吸収剤、特開平6−148430号、特開2003−113317号公報記載の高分子紫外線吸収剤を用いてもよい。
<Ultraviolet absorber>
The ultraviolet absorber is excellent in the ability to absorb ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less from the viewpoint of preventing deterioration of the polarizer and the display device with respect to ultraviolet rays, and has little absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more from the viewpoint of liquid crystal display properties. Those are preferred. Examples of the ultraviolet absorber used in the present invention include oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, nickel complex compounds, triazine compounds, and the like. However, benzophenone compounds, less colored benzotriazole compounds, and triazine compounds are preferable. Further, ultraviolet absorbers described in JP-A Nos. 10-182621 and 8-337574, and polymer ultraviolet absorbers described in JP-A Nos. 6-148430 and 2003-113317 may be used.

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例として、2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−(3″,4″,5″,6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2,2−メチレンビス(4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール)、2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−(2−オクチルオキシカルボニルエチル)−フェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−(1−メチル−1−フェニルエチル)−5′−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール、オクチル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートと2−エチルヘキシル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。   Specific examples of the benzotriazole ultraviolet absorber include 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) benzo Triazole, 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) -5 Chlorobenzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′-(3 ″, 4 ″, 5 ″, 6 ″ -tetrahydrophthalimidomethyl) -5′-methylphenyl) benzotriazole, 2,2-methylenebis (4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol), 2- (2'-hydroxy- '-Tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-(2-octyloxycarbonylethyl) -phenyl) -5 -Chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 '-(1-methyl-1-phenylethyl) -5'-(1,1,3,3-tetramethylbutyl) -phenyl) benzotriazole, 2 -(2H-benzotriazol-2-yl) -6- (linear and side chain dodecyl) -4-methylphenol, octyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (chloro-2H- Benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate and 2-ethylhexyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (5-chloro-2) - can be exemplified mixtures of benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate, and the like.

また、市販品として、チヌビン(TINUVIN)171、チヌビン(TINUVIN)900、チヌビン(TINUVIN)928、チヌビン(TINUVIN)360(いずれもチバ・ジャパン社製)、LA31(株式会社ADEKA社製)、RUVA−100(大塚化学製)が挙げられる。   As commercially available products, TINUVIN 171, TINUVIN 900, TINUVIN 928, TINUVIN 360 (all manufactured by Ciba Japan), LA31 (manufactured by ADEKA Corporation), RUVA- 100 (manufactured by Otsuka Chemical).

ベンゾフェノン系化合物の具体例として、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン、ビス(2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルフェニルメタン)等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。   Specific examples of benzophenone compounds include 2,4-dihydroxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone, bis (2-methoxy-4-hydroxy- 5-benzoylphenylmethane) and the like, but are not limited thereto.

本発明においては、紫外線吸収剤は樹脂に対して0.1〜5質量%添加することが好ましく、更に0.2〜3質量%添加することが好ましく、更に0.5〜2質量%添加することが好ましい。これらは2種以上を併用してもよい。   In this invention, it is preferable to add 0.1-5 mass% of ultraviolet absorbers with respect to resin, Furthermore, it is preferable to add 0.2-3 mass%, Furthermore, 0.5-2 mass% is added. It is preferable. Two or more of these may be used in combination.

またベンゾトリアゾール構造やトリアジン構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にポリマーへペンダントされていてもよく、可塑剤、酸化防止剤、酸掃去剤等の他の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。   The benzotriazole structure or triazine structure may be part of the polymer, or may be regularly pendant to the polymer, and part of the molecular structure of other additives such as plasticizers, antioxidants, and acid scavengers. May be introduced.

従来公知の紫外線吸収性ポリマーとしては、特に限定されないが、例えば、RUVA−93(大塚化学製)を単独重合させたポリマー及びRUVA−93と他のモノマーとを共重合させたポリマー等が挙げられる。具体的には、RUVA−93とメチルメタクリレートを3:7の比(質量比)で共重合させたPUVA−30M、5:5の比(質量比)で共重合させたPUVA−50M等が挙げられる。更に、特開2003−113317号公報に記載のポリマー等が挙げられる。   Although it does not specifically limit as a conventionally well-known ultraviolet absorptive polymer, For example, the polymer which homopolymerized RUVA-93 (made by Otsuka Chemical), the polymer which copolymerized RUVA-93, and another monomer, etc. are mentioned. . Specific examples include PUVA-30M obtained by copolymerization of RUVA-93 and methyl methacrylate at a ratio (mass ratio) of 3: 7, and PUVA-50M obtained by copolymerization at a ratio of 5: 5 (mass ratio). It is done. Furthermore, the polymer etc. which are described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2003-113317 are mentioned.

《可塑剤》
本発明に係る光学フィルムの製造においては、フィルム成形材料中に少なくとも1種の可塑剤を添加することが好ましい。
《Plasticizer》
In the production of the optical film according to the present invention, it is preferable to add at least one plasticizer in the film molding material.

可塑剤とは、一般的には高分子中に添加することによって脆弱性を改良したり、柔軟性を付与したりする効果のある添加剤であるが、例えば、本発明における好ましい態様のセルロースエステルの場合、単独での溶融温度よりも溶融温度を低下させるため、また同じ加熱温度においてセルロース樹脂単独よりも可塑剤を含むフィルム構成材料の溶融粘度を低下させるために、可塑剤を添加する。また、セルロースエステルの親水性を改善し、光学フィルムの透湿度改善するためにも添加されるため透湿防止剤としての機能を有する。   The plasticizer is generally an additive that has an effect of improving brittleness or imparting flexibility by being added to a polymer. For example, a preferred embodiment of the cellulose ester in the present invention In this case, a plasticizer is added to lower the melting temperature than the melting temperature alone, and to lower the melt viscosity of the film constituent material containing the plasticizer than the cellulose resin alone at the same heating temperature. Moreover, since it adds also in order to improve the hydrophilic property of a cellulose ester and to improve the water vapor transmission rate of an optical film, it has a function as a moisture permeation preventive agent.

ここで、フィルム構成材料の溶融温度とは、該材料が加熱され流動性が発現された状態の温度を意味する。セルロースエステルを溶融流動させるためには、少なくともガラス転移温度よりも高い温度に加熱する必要がある。ガラス転移温度以上においては、熱量の吸収により弾性率或いは粘度が低下し、流動性が発現される。しかしセルロースエステルでは高温下では溶融と同時に熱分解によってセルロースエステルの分子量の低下が発生し、得られるフィルムの力学特性等に悪影響を及ぼすことがあるため、なるべく低い温度でセルロースエステルを溶融させる必要がある。フィルム構成材料の溶融温度を低下させるためには、セルロースエステルのガラス転移温度よりも低い融点またはガラス転移温度をもつ可塑剤を添加することで達成することができる。   Here, the melting temperature of the film constituting material means a temperature at which the material is heated and fluidity is developed. In order to melt and flow the cellulose ester, it is necessary to heat at least a temperature higher than the glass transition temperature. Above the glass transition temperature, the elastic modulus or viscosity decreases due to heat absorption, and fluidity is exhibited. However, in cellulose esters, the molecular weight of the cellulose ester may decrease due to thermal decomposition at the same time as melting at high temperatures, which may adversely affect the mechanical properties of the resulting film. Therefore, it is necessary to melt the cellulose ester at the lowest possible temperature. is there. In order to lower the melting temperature of the film constituent material, it can be achieved by adding a plasticizer having a melting point or glass transition temperature lower than the glass transition temperature of the cellulose ester.

本発明に係る光学フィルムは、可塑剤を好ましくは1〜25質量%含有することを特徴とする光学フィルムである。1質量%よりも少ないと平面性改善の効果が認められず、25質量%よりも多いとブリードアウトが発生しやすくなり、フィルムの経時安定性が低下するために好ましくない。より好ましくは可塑剤を3〜20質量%含有する光学フィルムであり、更に好ましくは5〜15質量%含有する光学フィルムである。   The optical film according to the present invention is an optical film characterized by containing 1 to 25% by mass of a plasticizer. When the content is less than 1% by mass, the effect of improving the flatness is not recognized, and when the content is more than 25% by mass, bleeding out easily occurs and the temporal stability of the film decreases, which is not preferable. More preferred is an optical film containing 3 to 20% by mass of a plasticizer, and further preferred is an optical film containing 5 to 15% by mass.

本発明においては、多価アルコールと1価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤、多価カルボン酸と1価のアルコールからなるエステル系可塑剤はセルロースエステルと親和性が高く、好ましい。   In the present invention, an ester plasticizer composed of a polyhydric alcohol and a monovalent carboxylic acid, and an ester plasticizer composed of a polyvalent carboxylic acid and a monovalent alcohol have a high affinity with the cellulose ester and are preferred.

本発明において好ましく用いられるエステル系可塑剤の原料である多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、グリセリン、ジグリセリン、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ジブチレングリコール、1,2,4−ブタントリオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、3−メチルペンタン−1,3,5−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、キシリトール等を挙げることができる。特に、エチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパンが好ましい。   Examples of the polyhydric alcohol that is a raw material of the ester plasticizer preferably used in the present invention include the following, but the present invention is not limited thereto. Adonitol, arabitol, ethylene glycol, glycerin, diglycerin, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1,2-butanediol 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, dibutylene glycol, 1,2,4-butanetriol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, hexanetriol, galactitol, mannitol, 3-methylpentane-1,3,5-triol, pinacol, sorbitol, trimethylolpropane, ditrimethylolpropane, trimethylolethane, pentaerythritol, dipentaerythritol, xyl Mention may be made of the toll and the like. In particular, ethylene glycol, glycerin, and trimethylolpropane are preferable.

多価アルコールエステル系の一つであるエチレングリコールエステル系の可塑剤としては、具体的には、エチレングリコールジアセテート、エチレングリコールジブチレート等のエチレングリコールアルキルエステル系の可塑剤、エチレングリコールジシクロプロピルカルボキシレート、エチレングリコールジシクロヘキルカルボキシレート等のエチレングリコールシクロアルキルエステル系の可塑剤、エチレングリコールジベンゾエート、エチレングリコールジ4−メチルベンゾエート等のエチレングリコールアリールエステル系の可塑剤が挙げられる。これらアルキレート基、シクロアルキレート基、アリレート基は、同一でもあっても異なっていてもよく、更に置換されていてもよい。またアルキレート基、シクロアルキレート基、アリレート基のミックスでもよく、またこれら置換基同志が共有結合で結合していてもよい。更にエチレングリコール部も置換されていてもよく、エチレングリコールエステルの部分構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。   Specific examples of ethylene glycol ester plasticizers that are one of the polyhydric alcohol esters include ethylene glycol alkyl ester plasticizers such as ethylene glycol diacetate and ethylene glycol dibutyrate, and ethylene glycol dicyclopropyl. Examples thereof include ethylene glycol cycloalkyl ester plasticizers such as carboxylate and ethylene glycol dicyclohexylcarboxylate, and ethylene glycol aryl ester plasticizers such as ethylene glycol dibenzoate and ethylene glycol di4-methylbenzoate. These alkylate groups, cycloalkylate groups, and arylate groups may be the same or different, and may be further substituted. Further, it may be a mix of alkylate group, cycloalkylate group and arylate group, and these substituents may be covalently bonded. Further, the ethylene glycol part may be substituted, and the ethylene glycol ester partial structure may be part of the polymer or regularly pendant, and may be an antioxidant, an acid scavenger, an ultraviolet absorber, etc. It may be introduced into a part of the molecular structure of the additive.

多価アルコールエステル系の一つであるグリセリンエステル系の可塑剤としては、具体的にはトリアセチン、トリブチリン、グリセリンジアセテートカプリレート、グリセリンオレートプロピオネート等のグリセリンアルキルエステル、グリセリントリシクロプロピルカルボキシレート、グリセリントリシクロヘキシルカルボキシレート等のグリセリンシクロアルキルエステル、グリセリントリベンゾエート、グリセリン4−メチルベンゾエート等のグリセリンアリールエステル、ジグリセリンテトラアセチレート、ジグリセリンテトラプロピオネート、ジグリセリンアセテートトリカプリレート、ジグリセリンテトララウレート、等のジグリセリンアルキルエステル、ジグリセリンテトラシクロブチルカルボキシレート、ジグリセリンテトラシクロペンチルカルボキシレート等のジグリセリンシクロアルキルエステル、ジグリセリンテトラベンゾエート、ジグリセリン3−メチルベンゾエート等のジグリセリンアリールエステル等が挙げられる。これらアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基は同一でもあっても異なっていてもよく、更に置換されていてもよい。またアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基のミックスでもよく、またこれら置換基同志が共有結合で結合していてもよい。更にグリセリン、ジグリセリン部も置換されていてもよく、グリセリンエステル、ジグリセリンエステルの部分構造がポリマーの一部、或いは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。   Specific examples of the glycerin ester plasticizer that is one of the polyhydric alcohol esters include glycerol alkyl esters such as triacetin, tributyrin, glycerol diacetate caprylate, glycerol oleate propionate, and glycerol tricyclopropylcarboxylate. Glycerol glycerol esters such as glycerol tricyclohexyl carboxylate, glycerol aryl esters such as glycerol tribenzoate and glycerol 4-methylbenzoate, diglycerol tetraacetylate, diglycerol tetrapropionate, diglycerol acetate tricaprylate, diglycerol Tetralaurate, diglycerin alkyl ester, diglycerin tetracyclobutylcarboxylate, diglycerin tet Diglycerol cycloalkyl esters such as cyclopentyl carboxylate, diglycerin tetrabenzoate, diglycerin aryl ester such as diglycerin 3-methylbenzoate or the like. These alkylate groups, cycloalkylcarboxylate groups, and arylate groups may be the same or different, and may be further substituted. Further, it may be a mixture of alkylate group, cycloalkylcarboxylate group, and arylate group, and these substituents may be bonded by a covalent bond. Furthermore, the glycerin and diglycerin part may be substituted, the partial structure of the glycerin ester and the diglycerin ester may be part of the polymer or regularly pendant, and the antioxidant, acid scavenger, You may introduce | transduce into a part of molecular structure of additives, such as a ultraviolet absorber.

その他の多価アルコールエステル系の可塑剤としては、具体的には特開2003−12823号公報の段落30〜33記載の多価アルコールエステル系可塑剤が挙げられる。   Specific examples of other polyhydric alcohol ester plasticizers include polyhydric alcohol ester plasticizers described in paragraphs 30 to 33 of JP-A No. 2003-12823.

これらアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基は、同一でもあっても異なっていてもよく、更に置換されていてもよい。またアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基のミックスでもよく、またこれら置換基同志が共有結合で結合していてもよい。更に多価アルコール部も置換されていてもよく、多価アルコールの部分構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。   These alkylate groups, cycloalkylcarboxylate groups, and arylate groups may be the same or different, and may be further substituted. Further, it may be a mixture of alkylate group, cycloalkylcarboxylate group, and arylate group, and these substituents may be bonded by a covalent bond. Furthermore, the polyhydric alcohol part may be substituted, and the partial structure of the polyhydric alcohol may be part of the polymer or regularly pendant, and may be an antioxidant, an acid scavenger, an ultraviolet absorber. May be introduced into a part of the molecular structure of the additive.

上記多価アルコールと1価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤の中では、アルキル多価アルコールアリールエステルが好ましく、具体的には上記のエチレングリコールジベンゾエート、グリセリントリベンゾエート、ジグリセリンテトラベンゾエート、ペンタエリスリトールテトラベンゾエート、特開2003−12823号公報の段落31記載例示化合物16が挙げられる。   Among the ester plasticizers composed of the polyhydric alcohol and the monovalent carboxylic acid, alkyl polyhydric alcohol aryl esters are preferable. Specifically, the ethylene glycol dibenzoate, glycerin tribenzoate, diglycerin tetrabenzoate, penta Examples include erythritol tetrabenzoate and exemplified compound 16 described in paragraph 31 of JP-A No. 2003-12823.

多価カルボン酸エステル系の一つであるジカルボン酸エステル系の可塑剤としては、具体的には、ジドデシルマロネート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート等のアルキルジカルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、ジシクロペンチルサクシネート、ジシクロヘキシルアジーペート等のアルキルジカルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、ジフェニルサクシネート、ジ4−メチルフェニルグルタレート等のアルキルジカルボン酸アリールエステル系の可塑剤、ジヘキシル−1,4−シクロヘキサンジカルボキシレート、ジデシルビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3−ジカルボキシレート等のシクロアルキルジカルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、ジシクロヘキシル−1,2−シクロブタンジカルボキシレート、ジシクロプロピル−1,2−シクロヘキシルジカルボキシレート等のシクロアルキルジカルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、ジフェニル−1,1−シクロプロピルジカルボキシレート、ジ2−ナフチル−1,4−シクロヘキサンジカルボキシレート等のシクロアルキルジカルボン酸アリールエステル系の可塑剤、ジエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−2−エチルヘキシルフタレート等のアリールジカルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、ジシクロプロピルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等のアリールジカルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、ジフェニルフタレート、ジ4−メチルフェニルフタレート等のアリールジカルボン酸アリールエステル系の可塑剤が挙げられる。これらアルコキシ基、シクロアルコキシ基は、同一でもあっても異なっていてもよく、また一置換でもよく、これらの置換基は更に置換されていてもよい。アルキル基、シクロアルキル基はミックスでもよく、またこれら置換基同志が共有結合で結合していてもよい。更にフタル酸の芳香環も置換されていてよく、ダイマー、トリマー、テトラマー等の多量体でもよい。またフタル酸エステルの部分構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にポリマーへペンダントされていてもよく、酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。   Specific examples of the dicarboxylic acid ester plasticizer that is one of the polyvalent carboxylic acid esters include alkyl dicarboxylic acid alkyl ester plasticizers such as didodecyl malonate, dioctyl adipate, and dibutyl sebacate. Alkyl dicarboxylic acid cycloalkyl ester type plasticizers such as cyclopentyl succinate and dicyclohexyl adipate, alkyl dicarboxylic acid aryl ester type plasticizers such as diphenyl succinate and di4-methylphenyl glutarate, dihexyl-1,4-cyclohexane Cycloalkyl dicarboxylic acid alkyl ester plasticizers such as dicarboxylate and didecylbicyclo [2.2.1] heptane-2,3-dicarboxylate, dicyclohexyl-1,2-cyclobutanedicarboxylate, dicis Cycloalkyldicarboxylic acid cycloalkyl ester plasticizers such as ropropyl-1,2-cyclohexyldicarboxylate, diphenyl-1,1-cyclopropyldicarboxylate, di2-naphthyl-1,4-cyclohexanedicarboxylate, etc. Cycloalkyldicarboxylic acid aryl ester plasticizer, diethyl phthalate, dimethyl phthalate, dioctyl phthalate, dibutyl phthalate, di-2-ethylhexyl phthalate, and other aryl dicarboxylic acid alkyl ester plasticizers, dicyclopropyl phthalate, dicyclohexyl phthalate, etc. Aryl dicarboxylic acid cycloalkyl ester plasticizers, and aryl dicarboxylic acid aryl ester plasticizers such as diphenyl phthalate and di-4-methylphenyl phthalate And the like. These alkoxy groups and cycloalkoxy groups may be the same or different, may be mono-substituted, and these substituents may be further substituted. The alkyl group and cycloalkyl group may be mixed, and these substituents may be bonded together by a covalent bond. Furthermore, the aromatic ring of phthalic acid may be substituted, and a multimer such as a dimer, trimer or tetramer may be used. Also, the partial structure of phthalate ester may be part of the polymer or regularly pendant to the polymer, and it may be part of the molecular structure of additives such as antioxidants, acid scavengers, and UV absorbers. It may be introduced.

その他の多価カルボン酸エステル系の可塑剤としては、具体的にはトリドデシルトリカルバレート、トリブチル−meso−ブタン−1,2,3,4−テトラカルボキシレート等のアルキル多価カルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、トリシクロヘキシルトリカルバレート、トリシクロプロピル−2−ヒドロキシ−1,2,3−プロパントリカルボキシレート等のアルキル多価カルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、トリフェニル2−ヒドロキシ−1,2,3−プロパントリカルボキシレート、テトラ3−メチルフェニルテトラヒドロフラン−2,3,4,5−テトラカルボキシレート等のアルキル多価カルボン酸アリールエステル系の可塑剤、テトラヘキシル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボキシレート、テトラブチル−1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボキシレート等のシクロアルキル多価カルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、テトラシクロプロピル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボキシレート、トリシクロヘキシル−1,3,5−シクロヘキシルトリカルボキシレート等のシクロアルキル多価カルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、トリフェニル−1,3,5−シクロヘキシルトリカルボキシレート、ヘキサ4−メチルフェニル−1,2,3,4,5,6−シクロヘキシルヘキサカルボキシレート等のシクロアルキル多価カルボン酸アリールエステル系の可塑剤、トリドデシルベンゼン−1,2,4−トリカルボキシレート、テトラオクチルベンゼン−1,2,4,5−テトラカルボキシレート等のアリール多価カルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、トリシクロペンチルベンゼン−1,3,5−トリカルボキシレート、テトラシクロヘキシルベンゼン−1,2,3,5−テトラカルボキシレート等のアリール多価カルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤トリフェニルベンゼン−1,3,5−テトラカルボキシレート、ヘキサ4−メチルフェニルベンゼン−1,2,3,4,5,6−ヘキサカルボキシレート等のアリール多価カルボン酸アリールエステル系の可塑剤が挙げられる。これらアルコキシ基、シクロアルコキシ基は、同一でもあっても異なっていてもよく、また1置換でもよく、これらの置換基は更に置換されていてもよい。アルキル基、シクロアルキル基はミックスでもよく、またこれら置換基同志が共有結合で結合していてもよい。更にフタル酸の芳香環も置換されていてよく、ダイマー、トリマー、テトラマー等の多量体でもよい。またフタル酸エステルの部分構造がポリマーの一部、或いは規則的にポリマーへペンダントされていてもよく、酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。   Examples of other polycarboxylic acid ester plasticizers include alkyl polycarboxylic acid alkyl esters such as tridodecyl tricarbarate and tributyl-meso-butane-1,2,3,4-tetracarboxylate. Plasticizers, alkylpolycarboxylic acid cycloalkyl ester plasticizers such as tricyclohexyltricarbarate, tricyclopropyl-2-hydroxy-1,2,3-propanetricarboxylate, triphenyl 2-hydroxy- Alkyl polyvalent carboxylic acid aryl ester plasticizers such as 1,2,3-propanetricarboxylate, tetra-3-methylphenyltetrahydrofuran-2,3,4,5-tetracarboxylate, tetrahexyl-1,2, 3,4-cyclobutanetetracarboxylate, tetrabu Cycloalkyl polycarboxylic acid alkyl ester plasticizers such as ru-1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylate, tetracyclopropyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylate, tricyclohexyl- Cycloalkyl polycarboxylic acid cycloalkyl ester plasticizers such as 1,3,5-cyclohexyl tricarboxylate, triphenyl-1,3,5-cyclohexyl tricarboxylate, hexa-4-methylphenyl-1,2, Cycloalkyl polycarboxylic acid aryl ester plasticizers such as 3,4,5,6-cyclohexylhexacarboxylate, tridodecylbenzene-1,2,4-tricarboxylate, tetraoctylbenzene-1,2,4 , 5-tetracarboxylate and other aryl polyvalent Rubinoic acid alkyl ester plasticizers, tricyclopentylbenzene-1,3,5-tricarboxylate, tetracyclohexylbenzene-1,2,3,5-tetracarboxylate and other aryl polyvalent carboxylic acid cycloalkyl esters Plasticizers of aryl polyvalent carboxylic acid aryl esters such as plasticizers triphenylbenzene-1,3,5-tetracarboxylate, hexa-4-methylphenylbenzene-1,2,3,4,5,6-hexacarboxylate Agents. These alkoxy groups and cycloalkoxy groups may be the same or different, and may be mono-substituted, and these substituents may be further substituted. The alkyl group and cycloalkyl group may be mixed, and these substituents may be bonded together by a covalent bond. Furthermore, the aromatic ring of phthalic acid may be substituted, and a multimer such as a dimer, trimer or tetramer may be used. Also, the partial structure of phthalate ester may be part of the polymer or regularly pendant into the polymer, and introduced into part of the molecular structure of additives such as antioxidants, acid scavengers, UV absorbers, etc. May be.

上記多価カルボン酸と1価のアルコールからなるエステル系可塑剤の中では、アルキルジカルボン酸アルキルエステルが好ましく、具体的には上記のジオクチルアジペートが挙げられる。   Among the ester plasticizers composed of the polyvalent carboxylic acid and the monohydric alcohol, alkyl dicarboxylic acid alkyl esters are preferable, and specific examples include the dioctyl adipate.

本発明に用いられるその他の可塑剤としては、燐酸エステル系可塑剤、炭水化物エステル系可塑剤、ポリマー可塑剤等が挙げられる。   Examples of other plasticizers used in the present invention include phosphate ester plasticizers, carbohydrate ester plasticizers, and polymer plasticizers.

燐酸エステル系の可塑剤としては、具体的には、トリアセチルホスフェート、トリブチルホスフェート等の燐酸アルキルエステル、トリシクロベンチルホスフェート、シクロヘキシルホスフェート等の燐酸シクロアルキルエステル、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリナフチルホスフェート、トリキシリルオスフェート、トリスオルト−ビフェニルホスフェート等の燐酸アリールエステルが挙げられる。これらの置換基は同一でもあっても異なっていてもよく、更に置換されていてもよい。またアルキル基、シクロアルキル基、アリール基のミックスでもよく、また置換基同志が共有結合で結合していてもよい。   Specific examples of the phosphoric acid ester plasticizer include phosphoric acid alkyl esters such as triacetyl phosphate and tributyl phosphate, phosphoric acid cycloalkyl esters such as tricyclobenthyl phosphate and cyclohexyl phosphate, triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, Examples thereof include phosphoric acid aryl esters such as cresylphenyl phosphate, octyl diphenyl phosphate, diphenyl biphenyl phosphate, trioctyl phosphate, tributyl phosphate, trinaphthyl phosphate, trixylyl phosphate, tris ortho-biphenyl phosphate. These substituents may be the same or different, and may be further substituted. Moreover, the mix of an alkyl group, a cycloalkyl group, and an aryl group may be sufficient, and substituents may couple | bond together by the covalent bond.

また、エチレンビス(ジメチルホスフェート)、ブチレンビス(ジエチルホスフェート)等のアルキレンビス(ジアルキルホスフェート)、エチレンビス(ジフェニルホスフェート)、プロピレンビス(ジナフチルホスフェート)等のアルキレンビス(ジアリールホスフェート)、フェニレンビス(ジブチルホスフェート)、ビフェニレンビス(ジオクチルホスフェート)等のアリーレンビス(ジアルキルホスフェート)、フェニレンビス(ジフェニルホスフェート)、ナフチレンビス(ジトルイルホスフェート)等のアリーレンビス(ジアリールホスフェート)等の燐酸エステルが挙げられる。これらの置換基は同一でもあっても異なっていてもよく、更に置換されていてもよい。またアルキル基、シクロアルキル基、アリール基のミックスでもよく、また置換基同志が共有結合で結合していてもよい。   Also, alkylene bis (dialkyl phosphate) such as ethylene bis (dimethyl phosphate), butylene bis (diethyl phosphate), alkylene bis (diaryl phosphate) such as ethylene bis (diphenyl phosphate), propylene bis (dinaphthyl phosphate), phenylene bis (dibutyl) Phosphate), arylene bis (dialkyl phosphate) such as biphenylene bis (dioctyl phosphate), phosphate esters such as arylene bis (diaryl phosphate) such as phenylene bis (diphenyl phosphate) and naphthylene bis (ditoluyl phosphate). These substituents may be the same or different, and may be further substituted. Moreover, the mix of an alkyl group, a cycloalkyl group, and an aryl group may be sufficient, and substituents may couple | bond together by the covalent bond.

更に燐酸エステルの部分構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。上記化合物の中では、燐酸アリールエステル、アリーレンビス(ジアリールホスフェート)が好ましく、具体的にはトリフェニルホスフェート、フェニレンビス(ジフェニルホスフェート)が好ましい。   Furthermore, the partial structure of the phosphate ester may be part of the polymer or may be regularly pendant, and may be introduced into part of the molecular structure of additives such as antioxidants, acid scavengers, and UV absorbers. It may be. Among the above-mentioned compounds, phosphoric acid aryl ester and arylene bis (diaryl phosphate) are preferable, and specifically, triphenyl phosphate and phenylene bis (diphenyl phosphate) are preferable.

次に、炭水化物エステル系可塑剤について説明する。炭水化物とは、糖類がピラノースまたはフラノース(6員環または5員環)の形態で存在する単糖類、二糖類または三糖類を意味する。炭水化物の非限定的例としては、グルコース、サッカロース、ラクトース、セロビオース、マンノース、キシロース、リボース、ガラクトース、アラビノース、フルクトース、ソルボース、セロトリオース及びラフィノース等が挙げられる。炭水化物エステルとは、炭水化物の水酸基とカルボン酸が脱水縮合してエステル化合物を形成したものを指し、詳しくは、炭水化物の脂肪族カルボン酸エステル、或いは芳香族カルボン酸エステルを意味する。脂肪族カルボン酸として、例えば酢酸、プロピオン酸等を挙げることができ、芳香族カルボン酸として、例えば安息香酸、トルイル酸、アニス酸等を挙げることができる。炭水化物は、その種類に応じた水酸基の数を有するが、水酸基の一部とカルボン酸が反応してエステル化合物を形成しても、水酸基の全部とカルボン酸が反応してエステル化合物を形成してもよい。本発明においては、水酸基の全部とカルボン酸が反応してエステル化合物を形成するのが好ましい。   Next, the carbohydrate ester plasticizer will be described. The carbohydrate means a monosaccharide, disaccharide or trisaccharide in which the saccharide is present in the form of pyranose or furanose (6-membered ring or 5-membered ring). Non-limiting examples of carbohydrates include glucose, saccharose, lactose, cellobiose, mannose, xylose, ribose, galactose, arabinose, fructose, sorbose, cellotriose and raffinose. The carbohydrate ester refers to an ester compound formed by dehydration condensation of a carbohydrate hydroxyl group and a carboxylic acid, and specifically means an aliphatic carboxylic acid ester or an aromatic carboxylic acid ester of a carbohydrate. Examples of the aliphatic carboxylic acid include acetic acid and propionic acid, and examples of the aromatic carboxylic acid include benzoic acid, toluic acid, and anisic acid. Carbohydrates have a number of hydroxyl groups depending on the type, but even if a part of the hydroxyl group reacts with the carboxylic acid to form an ester compound, the whole hydroxyl group reacts with the carboxylic acid to form an ester compound. Also good. In the present invention, it is preferable that all of the hydroxyl groups react with the carboxylic acid to form an ester compound.

炭水化物エステル系可塑剤として、具体的には、グルコースペンタアセテート、グルコースペンタプロピオネート、グルコースペンタブチレート、サッカロースオクタアセテート、サッカロースオクタベンゾエート等を好ましく挙げることができ、この内、サッカロースオクタアセテート、サッカロースオクタベンゾエートがより好ましく、サッカロースオクタベンゾエートが特に好ましい。   Specific examples of the carbohydrate ester plasticizer include glucose pentaacetate, glucose pentapropionate, glucose pentabtylate, saccharose octaacetate, saccharose octabenzoate, etc. Among these, saccharose octaacetate, saccharose Octabenzoate is more preferred, and sucrose octabenzoate is particularly preferred.

これらの化合物の一例を下記に挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Examples of these compounds are listed below, but the present invention is not limited thereto.

モノペットSB:第一工業製薬社製
モノペットSOA:第一工業製薬社製
ポリマー可塑剤としては、具体的には、脂肪族炭化水素系ポリマー、脂環式炭化水素系ポリマー、ポリアクリル酸エチル、ポリメタクリル酸メチル、メタクリル酸メチルとメタクリル酸−2−ヒドロキシエチルとの共重合体(例えば、共重合比1:99〜99:1の間の任意の比率)等のアクリル系ポリマー、ポリビニルイソブチルエーテル、ポリN−ビニルピロリドン等のビニル系ポリマー、ポリスチレン、ポリ4−ヒドロキシスチレン等のスチレン系ポリマー、ポリブチレンサクシネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド等のポリエーテル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリウレア等が挙げられる。数平均分子量は1000〜500000程度が好ましく、特に好ましくは、5000〜200000である。1000以下では揮発性に問題が生じ、500000を超えると可塑化能力が低下し、光学フィルムの機械的性質に悪影響を及ぼす。これらポリマー可塑剤は1種の繰り返し単位からなる単独重合体でも、複数の繰り返し構造体を有する共重合体でもよい。また、上記ポリマーを2種以上併用して用いてもよい。
Monopet SB: manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. Monopet SOA: manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. Specific examples of the polymer plasticizer include aliphatic hydrocarbon polymers, alicyclic hydrocarbon polymers, and ethyl polyacrylate. , Acrylic polymers such as polymethyl methacrylate, copolymers of methyl methacrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate (eg, any ratio between 1:99 and 99: 1), polyvinyl isobutyl Ethers, vinyl polymers such as poly N-vinyl pyrrolidone, styrene polymers such as polystyrene and poly 4-hydroxystyrene, polybutylene succinates, polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyethers such as polyethylene oxide and polypropylene oxide , Polyamide, polyureta , And a polyurea or the like. The number average molecular weight is preferably about 1,000 to 500,000, particularly preferably 5,000 to 200,000. If it is 1000 or less, a problem arises in volatility, and if it exceeds 500000, the plasticizing ability is lowered, and the mechanical properties of the optical film are adversely affected. These polymer plasticizers may be a homopolymer composed of one type of repeating unit or a copolymer having a plurality of repeating structures. Two or more of the above polymers may be used in combination.

その他の可塑剤の添加量はセルロースエステル100質量部に対して、通常0.1〜50質量部、好ましくは1〜30質量部、更に好ましくは3〜15質量部である。   The amount of the other plasticizer added is usually 0.1 to 50 parts by mass, preferably 1 to 30 parts by mass, and more preferably 3 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the cellulose ester.

本発明に係る光学フィルムにおいて、多価アルコールと1価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤、多価カルボン酸と1価のアルコールからなるエステル系可塑剤を1〜25質量%含有することが好ましいが、それ以外の可塑剤と併用してもよい。   The optical film according to the present invention preferably contains 1 to 25% by mass of an ester plasticizer comprising a polyhydric alcohol and a monovalent carboxylic acid, and an ester plasticizer comprising a polyvalent carboxylic acid and a monohydric alcohol. However, it may be used in combination with other plasticizers.

本発明に係る光学フィルムにおいて、多価アルコールと1価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤が更に好ましく、3価以上のアルコールと1価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤がセルロースエステルに対する相溶性が高く、高添加率で添加することができる特徴があるため、他の可塑剤や添加剤を併用してもブリードアウトを発生することがなく、必要に応じて他種の可塑剤や添加剤を容易に併用することができるので最も好ましい。   In the optical film according to the present invention, an ester plasticizer comprising a polyhydric alcohol and a monovalent carboxylic acid is more preferred, and an ester plasticizer comprising a trivalent or higher alcohol and a monovalent carboxylic acid is compatible with the cellulose ester. Because it is high and can be added at a high addition rate, it does not cause bleed-out even when other plasticizers and additives are used in combination, and other types of plasticizers and additives as required. Are most preferable because they can be easily used together.

なお、本発明に係る光学フィルムは、着色すると光学用途として影響を与えるため、好ましくは黄色度(イエローインデックス、YI)が3.0以下、より好ましくは1.0以下である。黄色度はJIS−K7103に基づいて測定することができる。   In addition, since the optical film which concerns on this invention will affect as an optical use when it colors, Preferably yellow degree (yellow index, YI) is 3.0 or less, More preferably, it is 1.0 or less. Yellowness can be measured based on JIS-K7103.

《粒子(マット剤)》
本発明に係る光学フィルムは、滑り性や光学的、機械的機能を付与するためにマット剤を添加することができる。マット剤としては、無機化合物の微粒子または有機化合物の微粒子が挙げられる。
<Particles (matting agent)>
In the optical film according to the present invention, a matting agent can be added in order to impart slipperiness, optical and mechanical functions. Examples of the matting agent include inorganic compound fine particles and organic compound fine particles.

マット剤の形状は、球状、棒状、針状、層状、平板状等の形状のものが好ましく用いられる。マット剤としては、例えば、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の金属の酸化物、リン酸塩、ケイ酸塩、炭酸塩等の無機微粒子や架橋高分子微粒子を挙げることができる。中でも、二酸化ケイ素がフィルムのヘイズを低くできるので好ましい。これらの微粒子は有機物により表面処理されていることが、フィルムのヘイズを低下できるため好ましい。   The shape of the matting agent is preferably a spherical shape, a rod shape, a needle shape, a layer shape, a flat shape or the like. Examples of the matting agent include silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, kaolin, talc, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate, and calcium phosphate. Examples thereof include inorganic fine particles such as oxides, phosphates, silicates, and carbonates, and crosslinked polymer fine particles. Among these, silicon dioxide is preferable because it can reduce the haze of the film. These fine particles are preferably surface-treated with an organic substance because the haze of the film can be reduced.

表面処理は、ハロシラン類、アルコキシシラン類、シラザン、シロキサン等で行うことが好ましい。微粒子の平均粒径が大きい方が滑り性効果は大きく、反対に平均粒径の小さい方は透明性に優れる。また、微粒子の一次粒子の平均粒径は0.01〜1.0μmの範囲である。好ましい微粒子の一次粒子の平均粒径は5〜50nmが好ましく、更に好ましくは、7〜14nmである。これらの微粒子は、光学フィルム表面に0.01〜1.0μmの凹凸を生成させるために好ましく用いられる。   The surface treatment is preferably performed with halosilanes, alkoxysilanes, silazane, siloxane, or the like. The larger the average particle size of the fine particles, the greater the sliding effect, and the smaller the average particle size, the better the transparency. The average primary particle size of the fine particles is in the range of 0.01 to 1.0 μm. The average particle size of the primary particles of preferable fine particles is preferably 5 to 50 nm, more preferably 7 to 14 nm. These fine particles are preferably used for generating irregularities of 0.01 to 1.0 μm on the optical film surface.

二酸化ケイ素の微粒子としては、日本アエロジル(株)製のアエロジル(AEROSIL)200、200V、300、R972、R972V、R974、R202、R812、OX50、TT600、NAX50等、日本触媒(株)製のKE−P10、KE−P30、KE−P100、KE−P150等を挙げることができ、好ましくはアエロジル200V、R972V、NAX50、KE−P30、KE−P100である。これらの微粒子は2種以上併用してもよい。   As the fine particles of silicon dioxide, Aerosil 200, 200V, 300, R972, R972V, R974, R202, R812, OX50, TT600, NAX50, etc. manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd. P10, KE-P30, KE-P100, KE-P150 and the like can be mentioned, and Aerosil 200V, R972V, NAX50, KE-P30 and KE-P100 are preferable. Two or more kinds of these fine particles may be used in combination.

2種以上併用する場合、任意の割合で混合して使用することができる。平均粒径や材質の異なる微粒子、例えば、アエロジル200VとR972Vを質量比で0.1:99.9〜99.9:0.1の範囲で使用できる。   When using 2 or more types together, it can mix and use in arbitrary ratios. Fine particles having different average particle sizes and materials, for example, Aerosil 200V and R972V can be used in a mass ratio of 0.1: 99.9 to 99.9: 0.1.

これらのマット剤の添加方法は混練する等によって行うことが好ましい。また、別の形態として予め溶媒に分散したマット剤と樹脂及び/または可塑剤及び/または酸化防止剤及び/または紫外線吸収剤を混合分散させた後、溶媒を揮発または沈殿させた固形物を得て、これを樹脂溶融物の製造過程で用いることが、マット剤が樹脂中で均一に分散できる観点から好ましい。   These matting agents are preferably added by kneading. Further, as another form, after mixing and dispersing a matting agent dispersed in a solvent in advance with a resin and / or a plasticizer and / or an antioxidant and / or an ultraviolet absorber, a solid material obtained by volatilizing or precipitating the solvent is obtained. It is preferable to use this in the process of producing the resin melt from the viewpoint that the matting agent can be uniformly dispersed in the resin.

上記マット剤は、フィルムの機械的、電気的、光学的特性改善のために添加することもできる。   The matting agent can also be added to improve the mechanical, electrical and optical properties of the film.

なお、これらの微粒子を添加するほど、得られるフィルムの滑り性は向上するが、添加するほどヘイズが上昇するため、含有量は好ましくは樹脂に対して0.001〜5質量%が好ましく、より好ましくは0.005〜1質量%であり、更に好ましくは0.01〜0.5質量%である。   In addition, although the slipperiness of the film obtained improves, so that these microparticles | fine-particles are added, since a haze raises so that it adds, content is preferably 0.001-5 mass% with respect to resin, and more. Preferably it is 0.005-1 mass%, More preferably, it is 0.01-0.5 mass%.

なお、本発明に係る光学フィルムとしては、ヘイズ値が1.0%を超えると光学用材料として影響を与えるため、好ましくはヘイズ値は1.0%未満、より好ましくは0.5%未満である。ヘイズ値はJIS−K7136に基づいて測定することができる。   As the optical film according to the present invention, if the haze value exceeds 1.0%, the optical material is affected. Therefore, the haze value is preferably less than 1.0%, more preferably less than 0.5%. is there. The haze value can be measured based on JIS-K7136.

フィルム構成材料は溶融及び製膜工程において、揮発成分が少ないまたは発生しないことが求められる。これは加熱溶融時に発泡して、フィルム内部の欠陥やフィルム表面の平面性劣化を削減または回避するためである。   The film constituent material is required to have little or no volatile component in the melting and film forming process. This is for foaming during heating and melting to reduce or avoid defects inside the film and flatness deterioration of the film surface.

フィルム構成材料が溶融されるときの揮発成分の含有量は、1質量%以下、好ましくは0.5質量%以下、更に好ましくは0.2質量%以下、さらにより好ましくは0.1質量%以下であることが望まれる。本発明においては、示差熱質量測定装置(セイコー電子工業社製TG/DTA200)を用いて、30℃から250℃までの加熱減量を求め、その量を揮発成分の含有量としている。   The content of the volatile component when the film constituent material is melted is 1% by mass or less, preferably 0.5% by mass or less, more preferably 0.2% by mass or less, and even more preferably 0.1% by mass or less. It is desirable that In the present invention, a heat loss from 30 ° C. to 250 ° C. is determined using a differential thermal mass measuring device (TG / DTA200 manufactured by Seiko Electronics Industry Co., Ltd.), and the amount is defined as the content of volatile components.

用いるフィルム構成材料は、前記水分や前記溶媒等に代表される揮発成分を、製膜する前に、または加熱時に除去することが好ましい。除去する方法は、公知の乾燥方法が適用でき、加熱法、減圧法、加熱減圧法等の方法で行うことができ、空気中または不活性ガスとして窒素を選択した雰囲気下で行ってもよい。これらの公知の乾燥方法を行うとき、フィルム構成材料が分解しない温度領域で行うことがフィルムの品質上好ましい。   It is preferable that the film constituent material used removes volatile components typified by the moisture and the solvent before film formation or during heating. A known drying method can be applied to the removal method, and it can be performed by a method such as a heating method, a decompression method, a heating decompression method, or the like. When these known drying methods are performed, it is preferable in terms of film quality to be performed in a temperature range where the film constituting material does not decompose.

製膜前に乾燥することにより、揮発成分の発生を削減することができ、樹脂単独、または樹脂とフィルム構成材料の内、樹脂以外の少なくとも1種以上の混合物または相溶物に分割して乾燥することもできる。乾燥温度は70℃以上が好ましい。乾燥する材料にガラス転移温度を有する物が存在するときには、そのガラス転移温度よりも高い乾燥温度に加熱すると、材料が融着して取り扱いが困難になることがあるので、乾燥温度は、ガラス転移温度以下であることが好ましい。複数の物質がガラス転移温度を有する場合は、ガラス転移温度が低い方のガラス転移温度を基準とする。より好ましくは70℃以上、(ガラス転移温度−5)℃以下、更に好ましくは110℃以上、(ガラス転移温度−20)℃以下である。乾燥時間は、好ましくは0.5〜24時間、より好ましくは1〜18時間、更に好ましくは1.5〜12時間である。乾燥温度が低くなり過ぎると揮発成分の除去率が低くなり、また乾燥するのに時間にかかり過ぎることになる。また、乾燥工程は2段階以上にわけてもよく、例えば、乾燥工程が、材料の保管のための予備乾燥工程と、製膜する直前〜1週間前の間に行う直前乾燥工程を含むものであってもよい。   By drying prior to film formation, the generation of volatile components can be reduced, and the resin can be divided into a single resin, or at least one mixture or compatible material other than resin, and dried. You can also The drying temperature is preferably 70 ° C. or higher. When a material having a glass transition temperature is present in the material to be dried, heating to a drying temperature higher than the glass transition temperature may cause the material to melt and become difficult to handle. It is preferable that it is below the temperature. When a plurality of substances have a glass transition temperature, the glass transition temperature with the lower glass transition temperature is used as a reference. More preferably, it is 70 degreeC or more and (glass transition temperature-5) degreeC or less, More preferably, it is 110 degreeC or more and (glass transition temperature-20) degreeC or less. The drying time is preferably 0.5 to 24 hours, more preferably 1 to 18 hours, still more preferably 1.5 to 12 hours. If the drying temperature is too low, the removal rate of volatile components will be low, and it will take too much time to dry. Further, the drying process may be divided into two or more stages. For example, the drying process includes a preliminary drying process for storage of materials and a just-before drying process performed immediately before film formation to one week before film formation. Also good.

《溶融流延法》
本発明の好ましい態様であるセルロースエステルを有してなる光学フィルムは、前述のように溶融流延によって製造することが好ましい。溶液流延法において用いられる溶媒(例えば塩化メチレン等)を用いずに、加熱溶融する溶融流延による成形法は、更に詳細には、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法等に分類できる。これらの中で、機械的強度及び表面精度等に優れる偏光板保護フィルムを得るためには、溶融押し出し法が優れている。
<Melt casting method>
The optical film comprising the cellulose ester which is a preferred embodiment of the present invention is preferably produced by melt casting as described above. The molding method by melt casting, which is heated and melted without using the solvent used in the solution casting method (for example, methylene chloride, etc.), more specifically, melt extrusion molding method, press molding method, inflation method, injection molding method And can be classified into blow molding, stretch molding and the like. Among these, in order to obtain a polarizing plate protective film having excellent mechanical strength and surface accuracy, the melt extrusion method is excellent.

以下、溶融押し出し法を例にとり、本発明の光学フィルムの製造方法について説明する。   Hereinafter, the manufacturing method of the optical film of the present invention will be described by taking the melt extrusion method as an example.

図1は、本発明に係る光学フィルムの製造方法を実施する装置の全体構成を示す概略フローシートであり、図2は、流延ダイから冷却ロール部分の拡大図である。   FIG. 1 is a schematic flow sheet showing the overall configuration of an apparatus for carrying out the method for producing an optical film according to the present invention, and FIG. 2 is an enlarged view of a cooling roll portion from a casting die.

図1と図2において、本発明による光学フィルムの製造方法は、セルロース樹脂等のフィルム材料を混合した後、押出し機1を用いて、流延ダイ4から第1冷却ロール5上に溶融押し出し、第1冷却ロール5に外接させるとともに、更に、第2冷却ロール7、第3冷却ロール8の合計3本の冷却ロールに順に外接させて、冷却固化してフィルム10とする。次いで、剥離ロール9によって剥離したフィルム10を、次いで延伸装置12によりフィルムの両端部を把持して幅方向に延伸した後、巻取り装置16により巻き取る。また、平面性を矯正するために溶融フィルムを第1冷却ロール5表面に挟圧するタッチロール6が設けられている。このタッチロール6は表面が弾性を有し、第1冷却ロール5との間でニップを形成している。タッチロール6についての詳細は後述する。   In FIG. 1 and FIG. 2, the manufacturing method of the optical film by this invention is melt-extruded from the casting die 4 on the 1st cooling roll 5 using the extruder 1, after mixing film materials, such as a cellulose resin, While circumscribing the 1st cooling roll 5, it is further circumscribed by the total of 3 cooling rolls of the 2nd cooling roll 7 and the 3rd cooling roll 8 in order, and it cools and solidifies to make the film 10. Next, after the film 10 peeled off by the peeling roll 9 is gripped at both ends of the film by the stretching device 12 and stretched in the width direction, it is wound up by the winding device 16. In addition, a touch roll 6 is provided that clamps the molten film on the surface of the first cooling roll 5 in order to correct the flatness. The touch roll 6 has an elastic surface and forms a nip with the first cooling roll 5. Details of the touch roll 6 will be described later.

本発明による光学フィルムの製造方法において、溶融押し出しの条件は、他のポリエステル等の熱可塑性樹脂に用いられる条件と同様にして行うことができる。材料は予め乾燥させておくことが好ましい。真空または減圧乾燥機や除湿熱風乾燥機等で水分を1000ppm以下、好ましくは200ppm以下に乾燥させることが望ましい。   In the method for producing an optical film according to the present invention, the conditions for melt extrusion can be carried out in the same manner as the conditions used for other thermoplastic resins such as polyester. The material is preferably dried beforehand. It is desirable to dry the moisture to 1000 ppm or less, preferably 200 ppm or less by using a vacuum or reduced pressure drier or a dehumidifying hot air drier.

例えば、熱風や真空または減圧下で乾燥したセルロースエステル系樹脂を押出し機1を用いて、押し出し温度200〜300℃程度で溶融し、リーフディスクタイプのフィルター2等で濾過し、異物を除去する。   For example, the cellulose ester resin dried under hot air, vacuum or reduced pressure is melted at an extrusion temperature of about 200 to 300 ° C. using the extruder 1, filtered through a leaf disk type filter 2, etc. to remove foreign matters.

供給ホッパー(図示略)から押出し機1へ導入する際は、真空下または減圧下や不活性ガス雰囲気下にして、酸化分解等を防止することが好ましい。   When introducing into the extruder 1 from a supply hopper (not shown), it is preferable to prevent oxidative decomposition or the like under vacuum, reduced pressure, or inert gas atmosphere.

可塑剤等の添加剤を予め混合しない場合は、それらを押出し機の途中で練り込んでもよい。均一に添加するために、スタチックミキサー3等の混合装置を用いることが好ましい。   When additives such as a plasticizer are not mixed in advance, they may be kneaded in the middle of the extruder. In order to add uniformly, it is preferable to use a mixing apparatus such as a static mixer 3.

本発明において、セルロースエステル系樹脂と、その他必要により添加される安定化剤等の添加剤は、溶融する前に混合しておくことが好ましく、セルロースエステル系樹脂と添加剤を加熱前に混合することが更に好ましい。混合は、混合機等により行ってもよく、また、前記したようにセルロース樹脂調製過程において混合してもよい。混合機を使用する場合は、V型混合機、円錐スクリュー型混合機、水平円筒型混合機等、ヘンシェルミキサー、リボンミキサー一般的な混合機を用いることができる。   In the present invention, the cellulose ester-based resin and other additives such as a stabilizer added as necessary are preferably mixed before melting, and the cellulose ester-based resin and the additive are mixed before heating. More preferably. Mixing may be performed by a mixer or the like, or may be mixed in the cellulose resin preparation process as described above. When a mixer is used, a general mixer such as a V-type mixer, a conical screw type mixer, a horizontal cylindrical type mixer, a Henschel mixer, or a ribbon mixer can be used.

上記のようにフィルム構成材料を混合した後に、その混合物を押出し機1を用いて直接溶融して製膜するようにしてもよいが、一旦、フィルム構成材料をペレット化した後、該ペレットを押出し機1で溶融して製膜するようにしてもよい。また、フィルム構成材料が、融点の異なる複数の材料を含む場合には、融点の低い材料のみが溶融する温度で一旦、いわゆるおこし状の半溶融物を作製し、半溶融物を押出し機1に投入して製膜することも可能である。フィルム構成材料に熱分解しやすい材料が含まれる場合には、溶融回数を減らす目的で、ペレットを作製せずに直接製膜する方法や、上記のようなおこし状の半溶融物を作ってから製膜する方法が好ましい。   After the film constituent materials are mixed as described above, the mixture may be melted directly using the extruder 1 to form a film. Once the film constituent materials are pelletized, the pellets are extruded. The film may be melted by the machine 1 to form a film. When the film constituent material includes a plurality of materials having different melting points, a so-called braided semi-melt is once produced at a temperature at which only the material having a low melting point is melted, and the semi-melt is supplied to the extruder 1. It is also possible to form a film by introducing it. If the film component contains a material that is easily pyrolyzed, in order to reduce the number of times of melting, a method of directly forming a film without producing pellets, or after making a paste-like semi-molten material as described above A method of forming a film is preferred.

押出し機1は、市場で入手可能な種々の押出し機を使用可能であるが、溶融混練押出し機が好ましく、単軸押出し機でも2軸押出し機でもよい。フィルム構成材料からペレットを作製せずに、直接製膜を行う場合、適当な混練度が必要であるため2軸押出し機を用いることが好ましいが、単軸押出し機でも、スクリューの形状をマドック型、ユニメルト型、ダルメージ等の混練型のスクリューに変更することにより、適度の混練が得られるので、使用可能である。フィルム構成材料として、一旦、ペレットやおこし状の半溶融物を使用する場合は、単軸押出し機でも2軸押出し機でも使用可能である。   As the extruder 1, various commercially available extruders can be used, but a melt-kneading extruder is preferable, and a single-screw extruder or a twin-screw extruder may be used. When forming a film directly without producing pellets from film constituent materials, it is preferable to use a twin-screw extruder because an appropriate degree of kneading is necessary, but even with a single-screw extruder, the screw shape is a Maddock type. By changing to a kneading type screw such as a unimelt type or a dull mage, moderate kneading can be obtained, so that it can be used. When a pellet or braided semi-melt is once used as a film constituent material, it can be used in either a single screw extruder or a twin screw extruder.

押出し機1内及び押し出した後の冷却工程は、窒素ガス等の不活性ガスで置換するか、或いは減圧することにより、酸素の濃度を下げることが好ましい。   In the extruder 1 and the cooling step after extrusion, it is preferable to reduce the oxygen concentration by replacing with an inert gas such as nitrogen gas or by reducing the pressure.

押出し機1内のフィルム構成材料の溶融温度は、フィルム構成材料の粘度や吐出量、製造するシートの厚み等によって好ましい条件が異なるが、一般的には、フィルムのガラス転移温度Tgに対して、Tg以上、Tg+100℃以下、好ましくはTg+10℃以上、Tg+90℃以下である。押し出し時の溶融粘度は、1〜10000Pa・s、好ましくは10〜1000Pa・sである。また、押出し機1内でのフィルム構成材料の滞留時間は短い方が好ましく、5分以内、好ましくは3分以内、より好ましくは2分以内である。滞留時間は、押出し機1の種類、押し出す条件にも左右されるが、材料の供給量やL/D、スクリュー回転数、スクリューの溝の深さ等を調整することにより短縮することが可能である。   The melting temperature of the film constituent material in the extruder 1 varies depending on the viscosity and discharge amount of the film constituent material, the thickness of the sheet to be produced, etc., but generally, with respect to the glass transition temperature Tg of the film, Tg or more and Tg + 100 ° C. or less, preferably Tg + 10 ° C. or more and Tg + 90 ° C. or less. The melt viscosity at the time of extrusion is 1 to 10000 Pa · s, preferably 10 to 1000 Pa · s. Further, the residence time of the film constituting material in the extruder 1 is preferably short, and is within 5 minutes, preferably within 3 minutes, more preferably within 2 minutes. The residence time depends on the type of the extruder 1 and the extrusion conditions, but can be shortened by adjusting the material supply amount, L / D, screw rotation speed, screw groove depth, and the like. is there.

押出し機1のスクリューの形状や回転数等は、フィルム構成材料の粘度や吐出量等により適宜選択される。本発明において押出し機1でのせん断速度は、1/秒〜10000/秒、好ましくは5/秒〜1000/秒、より好ましくは10/秒〜100/秒である。   The shape, rotation speed, and the like of the screw of the extruder 1 are appropriately selected depending on the viscosity, the discharge amount, and the like of the film constituent material. In the present invention, the shear rate in the extruder 1 is 1 / second to 10000 / second, preferably 5 / second to 1000 / second, more preferably 10 / second to 100 / second.

本発明に使用できる押出し機1としては、一般的にプラスチック成形機として入手可能である。   The extruder 1 that can be used in the present invention is generally available as a plastic molding machine.

押出し機1から押し出されたフィルム構成材料は、流延ダイ4に送られ、流延ダイ4のスリットからフィルム状に押し出される。流延ダイ4はシートやフィルムを製造するために用いられるものであれば特に限定はされない。流延ダイ4の材質としては、ハードクロム、炭化クロム、窒化クロム、炭化チタン、炭窒化チタン、窒化チタン、超鋼、セラミック(タングステンカーバイド、酸化アルミ、酸化クロム)等を溶射もしくはメッキし、表面加工としてバフ、#1000番手以降の砥石を用いるラッピング、#1000番手以上のダイヤモンド砥石を用いる平面切削(切削方向は樹脂の流れ方向に垂直な方向)、電解研磨、電解複合研磨等の加工を施したもの等が挙げられる。流延ダイ4のリップ部の好ましい材質は、流延ダイ4と同様である。またリップ部の表面精度は0.5S以下が好ましく、0.2S以下がより好ましい。   The film constituent material extruded from the extruder 1 is sent to the casting die 4 and extruded from the slit of the casting die 4 into a film shape. The casting die 4 is not particularly limited as long as it is used for producing a sheet or a film. The material of the casting die 4 is sprayed or plated with hard chromium, chromium carbide, chromium nitride, titanium carbide, titanium carbonitride, titanium nitride, super steel, ceramic (tungsten carbide, aluminum oxide, chromium oxide), etc. Processing such as buffing, lapping using a # 1000 or higher grinding wheel, plane cutting using a # 1000 or higher diamond grinding wheel (the cutting direction is perpendicular to the resin flow direction), electrolytic polishing, electrolytic composite polishing, etc. And the like. A preferred material for the lip portion of the casting die 4 is the same as that of the casting die 4. The surface accuracy of the lip is preferably 0.5S or less, and more preferably 0.2S or less.

この流延ダイ4のスリットは、そのギャップが調整可能なように構成されている。これを図3に示す。流延ダイ4のスリット32を形成する一対のリップのうち、一方は剛性の低い変形しやすいフレキシブルリップ33であり、他方は固定リップ34である。そして、多数のヒートボルト35が流延ダイ4の幅方向すなわちスリット32の長さ方向に一定ピッチで配列されている。各ヒートボルト5には、埋め込み電気ヒータ37と冷却媒体通路とを具えたブロック36が設けられ、各ヒートボルト35が各ブロック36を縦に貫通している。ヒートボルト35の基部はダイ本体31に固定され、先端はフレキシブルリップ33の外面に当接している。そしてブロック36を常時空冷しながら、埋め込み電気ヒータ37の入力を増減してブロック36の温度を上下させ、これによりヒートボルト35を熱伸縮させて、フレキシブルリップ33を変位させてフィルムの厚さを調整する。ダイ後流の所要箇所に厚さ計を設け、これによって検出されたウェブ厚さ情報を制御装置にフィードバックし、この厚さ情報を制御装置で設定厚み情報と比較し、同装置から来る補正制御量の信号によってヒートボルトの発熱体の電力またはオン率を制御するようにすることもできる。ヒートボルトは、好ましくは、長さ20〜40cm、直径7〜14mmを有し、複数、例えば数十本のヒートボルトが、好ましくはピッチ20〜40mmで配列されている。ヒートボルトの代わりに、手動で軸方向に前後動させることによりスリットギャップを調節するボルトを主体とするギャップ調節部材を設けてもよい。ギャップ調節部材によって調節されたスリットギャップは、通常200〜1000μm、好ましくは300〜800μm、より好ましくは400〜600μmである。   The slit of the casting die 4 is configured so that the gap can be adjusted. This is shown in FIG. Of the pair of lips forming the slit 32 of the casting die 4, one is a flexible lip 33 having low rigidity and easily deformed, and the other is a fixed lip 34. A large number of heat bolts 35 are arranged at a constant pitch in the width direction of the casting die 4, that is, in the length direction of the slits 32. Each heat bolt 5 is provided with a block 36 having an embedded electric heater 37 and a cooling medium passage, and each heat bolt 35 penetrates each block 36 vertically. The base of the heat bolt 35 is fixed to the die body 31, and the tip is in contact with the outer surface of the flexible lip 33. While constantly cooling the block 36, the input to the embedded electric heater 37 is increased or decreased to increase or decrease the temperature of the block 36, thereby causing the heat bolt 35 to thermally expand and contract, thereby displacing the flexible lip 33 and thereby increasing the film thickness. adjust. Thickness gauges are installed at the required locations in the wake of the die, and the web thickness information detected thereby is fed back to the control device. The thickness information is compared with the set thickness information by the control device, and correction control comes from the same device. It is also possible to control the power or the ON rate of the heat bolt heating element by the amount signal. The heat bolt preferably has a length of 20 to 40 cm and a diameter of 7 to 14 mm, and a plurality of, for example, several tens of heat bolts are preferably arranged at a pitch of 20 to 40 mm. Instead of the heat bolt, a gap adjusting member mainly composed of a bolt for adjusting the slit gap by manually moving back and forth in the axial direction may be provided. The slit gap adjusted by the gap adjusting member is usually 200 to 1000 μm, preferably 300 to 800 μm, more preferably 400 to 600 μm.

第1〜第3冷却ロールは、肉厚が20〜30mm程度のシームレスな鋼管製で、表面が鏡面に仕上げられている。その内部には、冷却液を流す配管が配置されており、配管を流れる冷却液によってロール上のフィルムから熱を吸収できるように構成されている。この第1乃至第3冷却ロールの内、第1冷却ロール5が本発明の回転支持体に相当する。   The first to third cooling rolls are made of seamless steel pipe having a wall thickness of about 20 to 30 mm, and the surface is finished to a mirror surface. Inside, a pipe for flowing a coolant is arranged so that heat can be absorbed from the film on the roll by the coolant flowing through the pipe. Of the first to third cooling rolls, the first cooling roll 5 corresponds to the rotary support of the present invention.

一方、第1冷却ロール5に当接するタッチロール6は、表面が弾性を有し、第1冷却ロール5への押圧力によって第1冷却ロール5の表面に沿って変形し、第1ロール5との間にニップを形成する。タッチロール6は挟圧回転体ともいう。タッチロール6としては、登録特許3194904号、登録特許3422798号、特開2002−36332号、特開2002−36333号などで開示されているタッチロールを好ましく用いることができる。これらは市販されているものを用いることもできる。以下にこれらについて、さらに詳細に説明する。   On the other hand, the touch roll 6 in contact with the first cooling roll 5 has an elastic surface and is deformed along the surface of the first cooling roll 5 by the pressing force to the first cooling roll 5. A nip is formed between the two. The touch roll 6 is also called a pinching rotary body. As the touch roll 6, a touch roll disclosed in registered patent 3194904, registered patent 3422798, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-36332, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-36333, or the like can be preferably used. These can also use what is marketed. These will be described in more detail below.

図4は挟圧回転体の一例を示す断面図である。(タッチロール6の第1の例(以下、タッチロールA)の概略断面)を示す。図に示すように、タッチロールAは、可撓性の金属スリーブ41の内部に弾性ローラ42を配したものである。   FIG. 4 is a cross-sectional view showing an example of the pinching rotator. (The 1st example of touch roll 6 (henceforth, outline section of touch roll A)) is shown. As shown in the drawing, the touch roll A has an elastic roller 42 disposed inside a flexible metal sleeve 41.

金属スリーブ41は厚さ0.3mmのステンレス製であり、可撓性を有する。金属スリーブ41が薄過ぎると強度が不足し、逆に厚過ぎると弾性が不足する。これらのことから、金属スリーブ41の厚さとしては、0.1〜1.5mmが好ましい。弾性ローラ42は、軸受を介して回転自在な金属製の内筒43の表面にゴム44を設けてロール状としたものである。そして、タッチロールAが第1冷却ロール5に向けて押圧されると、弾性ローラ42が金属スリーブ41を第1冷却ロール5に押しつけ、金属スリーブ41及び弾性ローラ42は第1冷却ロール5の形状になじんだ形状に対応しつつ変形し、第1冷却ロールとの間にニップを形成する。金属スリーブ41の内部で弾性ローラ42との間に形成される空間には、冷却水45が流される。   The metal sleeve 41 is made of stainless steel having a thickness of 0.3 mm and has flexibility. If the metal sleeve 41 is too thin, the strength is insufficient, whereas if it is too thick, the elasticity is insufficient. For these reasons, the thickness of the metal sleeve 41 is preferably 0.1 to 1.5 mm. The elastic roller 42 is formed in a roll shape by providing a rubber 44 on the surface of a metal inner cylinder 43 that is rotatable via a bearing. When the touch roll A is pressed toward the first cooling roll 5, the elastic roller 42 presses the metal sleeve 41 against the first cooling roll 5, and the metal sleeve 41 and the elastic roller 42 have the shape of the first cooling roll 5. It deforms corresponding to the familiar shape, and forms a nip with the first cooling roll. Cooling water 45 flows in a space formed between the metal sleeve 41 and the elastic roller 42.

図5は挟圧回転体の第2の例(以下、タッチロールB)を示す回転軸に垂直な平面での断面図である。   FIG. 5 is a cross-sectional view taken along a plane perpendicular to the rotation axis, showing a second example (hereinafter referred to as touch roll B) of the pinching rotator.

図6は挟圧回転体の第2の例(タッチロールB)の回転軸を含む平面の一例を示す断面図である。   FIG. 6 is a cross-sectional view showing an example of a plane including the rotation axis of the second example (touch roll B) of the pinching rotator.

図5、図6は挟圧回転体の別の実施形態であるタッチロールBを示している。タッチロールBは、可撓性を有する、シームレスなステンレス鋼管製(厚さ4mm)の外筒51と、この外筒51の内側に同一軸心状に配置された高剛性の金属内筒52とから概略構成されている。外筒51と内筒52との間の空間53には、冷却液54が流される。詳しくは、タッチロールBは、両端の回転軸55a、55bに外筒支持フランジ56a、56bが取付けられ、これら両外筒支持フランジ56a、56bの外周部間に薄肉金属外筒51が取付けられている。また、一方の回転軸55aの軸心部に形成されて流体戻り通路57を形成する流体排出孔58内に、流体供給管59が同一軸心状に配設され、この流体供給管59が薄肉金属外筒51内の軸心部に配置された流体軸筒60に接続固定されている。この流体軸筒60の両端部に内筒支持フランジ61a、61bがそれぞれ取り付けられ、これら内筒支持フランジ61a、61bの外周部間から他端側外筒支持フランジ56bにわたって約15〜20mm程度の肉厚を有する金属内筒52が取付けられている。そしてこの金属内筒52と薄肉金属外筒51との間に、例えば10mm程度の冷却液の流送空間53が形成され、また金属内筒52に両端部近傍には、流送空間53と内筒支持フランジ61a、61b外側の中間通路62a、62bとを連通する流出口52a及び流入口52bがそれぞれ形成されている。   5 and 6 show a touch roll B which is another embodiment of the pinching rotator. The touch roll B includes a flexible, seamless stainless steel pipe (thickness 4 mm) outer cylinder 51, and a highly rigid metal inner cylinder 52 arranged on the same axis as the inner side of the outer cylinder 51. It is roughly composed. A coolant 54 flows in the space 53 between the outer cylinder 51 and the inner cylinder 52. Specifically, in the touch roll B, outer cylinder support flanges 56a and 56b are attached to the rotation shafts 55a and 55b at both ends, and a thin metal outer cylinder 51 is attached between the outer peripheral portions of the both outer cylinder support flanges 56a and 56b. Yes. A fluid supply pipe 59 is disposed in the same axial center in a fluid discharge hole 58 formed in the axial center portion of one rotary shaft 55a and forming a fluid return passage 57. The fluid supply pipe 59 is thin-walled. It is connected and fixed to a fluid shaft cylinder 60 arranged at the axial center in the metal outer cylinder 51. Inner cylinder support flanges 61a and 61b are attached to both ends of the fluid shaft cylinder 60, respectively, and a thickness of about 15 to 20 mm between the outer periphery of the inner cylinder support flanges 61a and 61b and the other end side outer cylinder support flange 56b. A metal inner cylinder 52 having a thickness is attached. A cooling liquid flow space 53 of, for example, about 10 mm is formed between the metal inner cylinder 52 and the thin metal outer cylinder 51, and the metal inner cylinder 52 has a flow space 53 and an inner space near both ends. An outlet 52a and an inlet 52b are formed to communicate with the intermediate passages 62a and 62b outside the cylinder support flanges 61a and 61b, respectively.

また、外筒51は、ゴム弾性に近い柔軟性と可撓性、復元性をもたせるために、弾性力学の薄肉円筒理論が適用できる範囲内で薄肉化が図られている。この薄肉円筒理論で評価される可撓性は、肉厚t/ロール半径rで表されており、t/rが小さいほど可撓性が高まる。このタッチロールBではt/r≦0.03の場合に可撓性が最適の条件となる。通常、一般的に使用されているタッチロールは、ロール径R=200〜500mm(ロール半径r=R/2)、ロール有効幅L=500〜1600mmで、r/L<1で横長の形状である。そして図6に示すように、例えばロール径R=300mm、ロール有効幅L=1200mmの場合、肉厚tの適正範囲は150×0.03=4.5mm以下であるが、溶融シート幅を1300mmに対して平均線圧を98N/cmで挟圧する場合、同一形状のゴムロールと比較して、外筒51の肉厚を3mmとすることで相当ばね定数も等しく、外筒51と冷却ロールとのニップのロール回転方向のニップ幅kも約9mmで、このゴムロールのニップ幅約12mmとほぼ近い値を示し、同じような条件下で挟圧できることが分かる。なお、このニップ幅kにおけるたわみ量は0.05〜0.1mm程度である。   Further, the outer cylinder 51 is thinned within a range in which the thin cylinder theory of elastic mechanics can be applied in order to have flexibility, flexibility, and resilience close to rubber elasticity. The flexibility evaluated by the thin-walled cylinder theory is expressed by the thickness t / roll radius r, and the flexibility increases as t / r decreases. In this touch roll B, the flexibility is the optimum condition when t / r ≦ 0.03. Usually, the touch roll generally used has a roll diameter R = 200 to 500 mm (roll radius r = R / 2), a roll effective width L = 500 to 1600 mm, and a horizontally long shape with r / L <1. is there. As shown in FIG. 6, for example, when the roll diameter R = 300 mm and the roll effective width L = 1200 mm, the appropriate range of the wall thickness t is 150 × 0.03 = 4.5 mm or less, but the molten sheet width is 1300 mm. On the other hand, when the average linear pressure is clamped at 98 N / cm, the equivalent spring constant is equal by setting the wall thickness of the outer cylinder 51 to 3 mm compared to the rubber roll of the same shape. The nip width k in the roll rotation direction of the nip is also about 9 mm, which is almost the same as the nip width of this rubber roll of about 12 mm. The deflection amount at the nip width k is about 0.05 to 0.1 mm.

ここで、t/r≦0.03としたが、一般的なロール径R=200〜500mmの場合では、特に2mm≦t≦5mmの範囲とすると、可撓性も十分に得られ、また機械加工による薄肉化も容易に実施でき、極めて実用的な範囲となる。肉厚が2mm以下では加工時の弾性変形で高精度な加工ができない。   Here, t / r ≦ 0.03. However, in the case of a general roll diameter R = 200 to 500 mm, flexibility is sufficiently obtained especially in the range of 2 mm ≦ t ≦ 5 mm. Thinning by processing can be easily performed, and it is an extremely practical range. If the wall thickness is 2 mm or less, high-precision processing cannot be performed due to elastic deformation during processing.

この2mm≦t≦5mmの換算値は、一般的なロール径に対して0.008≦t/r≦0.05となるが、実用にあたってはt/r≒0.03の条件下でロール径に比例して肉厚も大きくするとよい。例えばロール径:R=200ではt=2〜3mm、ロール径:R=500ではt=4〜5mmの範囲で選択する。   The converted value of 2 mm ≦ t ≦ 5 mm is 0.008 ≦ t / r ≦ 0.05 with respect to a general roll diameter, but in practical use, the roll diameter under the condition of t / r≈0.03. The wall thickness should be increased in proportion to For example, when roll diameter: R = 200, t = 2 to 3 mm, and when roll diameter: R = 500, t = 4 to 5 mm.

このタッチロールA、Bは不図示の付勢手段により第1冷却ロールに向けて付勢される。その付勢手段の付勢力をF、ニップにおけるフィルムの、第1冷却ロール5の回転軸に沿った方向の幅Wを除した値F/W(線圧)は、9.8〜147N/cmに設定される。本実施の形態によれば、タッチロールA、Bと第1冷却ロール5との間にニップが形成され、当該ニップをフィルムが通過する間に平面性を矯正すればよい。従って、タッチロールが剛体で構成され、第1冷却ロールとの間にニップが形成されない場合と比べて、小さい線圧で長時間かけてフィルムを挟圧するので、平面性をより確実に矯正することができる。すなわち、線圧が9.8N/cmよりも小さいと、ダイラインを十分に解消することができなくなる。逆に、線圧が147N/cmよりも大きいと、フィルムがニップを通過しにくくなり、フィルムの厚さにかえってムラができてしまう。   The touch rolls A and B are urged toward the first cooling roll by urging means (not shown). The urging force of the urging means is F, and the value F / W (linear pressure) obtained by dividing the width of the film in the nip in the direction along the rotation axis of the first cooling roll 5 is 9.8 to 147 N / cm. Set to According to the present embodiment, a nip is formed between the touch rolls A and B and the first cooling roll 5, and the flatness may be corrected while the film passes through the nip. Accordingly, since the film is sandwiched over a long time with a small linear pressure compared to the case where the touch roll is formed of a rigid body and no nip is formed between the first cooling roll and the flatness is more reliably corrected. Can do. That is, when the linear pressure is smaller than 9.8 N / cm, the die line cannot be sufficiently eliminated. On the other hand, if the linear pressure is greater than 147 N / cm, the film is difficult to pass through the nip, resulting in unevenness in place of the film thickness.

また、タッチロールA、Bの表面を金属で構成することにより、タッチロールの表面がゴムである場合よりもタッチロールA、Bの表面を平滑にすることができるので、平滑性の高いフィルムを得ることができる。なお、弾性ローラ42のゴム44の材質としては、エチレンプロピレンゴム、ネオプレンゴム、シリコンゴム等を用いることができる。   Moreover, since the surface of the touch rolls A and B can be made smoother than the case where the surface of the touch rolls is made of rubber, the surface of the touch rolls A and B can be made smoother. Obtainable. In addition, as a material of the rubber 44 of the elastic roller 42, ethylene propylene rubber, neoprene rubber, silicon rubber, or the like can be used.

さて、タッチロール6によってダイラインを良好に解消するためには、タッチロール6がフィルムを挟圧するときのフィルムの粘度が適切な範囲であることが重要となる。また、セルロースエステルは温度による粘度の変化が比較的大きいことが知られている。従って、タッチロール6が光学フィルムを挟圧するときの粘度を適切な範囲に設定するためには、タッチロール6が光学フィルムを挟圧するときのフィルムの温度を適切な範囲に設定することが重要となる。光学フィルムのガラス転移温度をTgとしたとき、フィルムがタッチロール6に挟圧される直前のフィルムの温度Tを、Tg<T<Tg+110℃を満たすように設定することが好ましい。フィルム温度TがTgよりも低いとフィルムの粘度が高過ぎて、ダイラインを矯正できなくなる。逆に、フィルムの温度TがTg+110℃よりも高いと、フィルム表面とロールが均一に接着せず、やはりダイラインを矯正することができない。好ましくはTg+10℃<T2<Tg+90℃、更に好ましくはTg+20℃<T2<Tg+70℃である。タッチロール6が光学フィルムを挟圧するときのフィルムの温度を適切な範囲に設定するには、流延ダイ4から押し出された溶融物が第1冷却ロール5に接触する位置P1から第1冷却ロール5とタッチロール6とのニップの、第1冷却ロール5の回転方向に沿った長さLを調整すればよい。   Now, in order to satisfactorily eliminate the die line by the touch roll 6, it is important that the viscosity of the film when the touch roll 6 clamps the film is in an appropriate range. Cellulose esters are known to have a relatively large change in viscosity with temperature. Therefore, in order to set the viscosity when the touch roll 6 clamps the optical film to an appropriate range, it is important to set the temperature of the film when the touch roll 6 clamps the optical film to an appropriate range. Become. When the glass transition temperature of the optical film is Tg, it is preferable to set the temperature T of the film immediately before the film is sandwiched between the touch rolls 6 so as to satisfy Tg <T <Tg + 110 ° C. If the film temperature T is lower than Tg, the viscosity of the film is too high and the die line cannot be corrected. On the contrary, if the temperature T of the film is higher than Tg + 110 ° C., the film surface and the roll do not adhere uniformly, and the die line cannot be corrected. Preferably, Tg + 10 ° C. <T2 <Tg + 90 ° C., more preferably Tg + 20 ° C. <T2 <Tg + 70 ° C. In order to set the temperature of the film when the touch roll 6 clamps the optical film to an appropriate range, the first cooling roll starts from the position P1 at which the melt extruded from the casting die 4 contacts the first cooling roll 5. What is necessary is just to adjust the length L along the rotation direction of the 1st cooling roll 5 of the nip of 5 and the touch roll 6. FIG.

本発明において、第1ロール5、第2ロール6に好ましい材質は、炭素鋼、ステンレス鋼、樹脂、等が挙げられる。また、表面精度は高くすることが好ましく表面粗さとして0.3S以下、より好ましくは0.01S以下とする。   In the present invention, preferred materials for the first roll 5 and the second roll 6 include carbon steel, stainless steel, resin, and the like. The surface accuracy is preferably increased, and the surface roughness is set to 0.3 S or less, more preferably 0.01 S or less.

本発明においては、流延ダイ4の開口部(リップ)から第1ロール5までの部分を70kPa以下に減圧させることにより、上記、ダイラインの矯正効果がより大きく発現することを発見した。好ましくは減圧は50〜70kPaである。流延ダイ4の開口部(リップ)から第1ロール5までの部分の圧力を70kPa以下に保つ方法としては、特に制限はないが、流延ダイ4からロール周辺を耐圧部材で覆い、減圧する等の方法がある。このとき、吸引装置は、装置自体が昇華物の付着場所にならないようヒータで加熱する等の処置を施すことが好ましい。本発明では、吸引圧が小さ過ぎると昇華物を効果的に吸引できないため、適当な吸引圧とする必要がある。   In the present invention, it was discovered that the die line correction effect is more greatly manifested by reducing the pressure from the opening (lip) of the casting die 4 to the first roll 5 to 70 kPa or less. The reduced pressure is preferably 50 to 70 kPa. Although there is no restriction | limiting in particular as a method of keeping the pressure of the part from the opening part (lip | rip) of the casting die 4 to the 1st roll 5 below 70 kPa, Cover the roll periphery from the casting die 4 with a pressure | voltage resistant member, and reduce pressure. There are methods. At this time, the suction device is preferably subjected to a treatment such as heating with a heater so that the device itself does not become a place where the sublimate is attached. In the present invention, if the suction pressure is too small, the sublimate cannot be sucked effectively, so it is necessary to set the suction pressure to an appropriate value.

本発明において、流延ダイ4から溶融状態のフィルム状のセルロースエステル系樹脂を、第1ロール(第1冷却ロール)5、第2冷却ロール7、及び第3冷却ロール8に順次密着させて搬送しながら冷却固化させ、未延伸のセルロースエステル系樹脂フィルム10を得る。   In the present invention, a film-like cellulose ester-based resin in a molten state is sequentially brought into close contact with the first roll (first cooling roll) 5, the second cooling roll 7, and the third cooling roll 8 from the casting die 4. While cooling and solidifying, an unstretched cellulose ester resin film 10 is obtained.

図1に示す本発明の実施形態では、第3冷却ロール8から剥離ロール9によって剥離した冷却固化された未延伸のフィルム10は、ダンサーロール(フィルム張力調整ロール)11を経て延伸機12に導き、そこでフィルム10を横方向(幅方向)に延伸する。この延伸により、フィルム中の分子が配向される。   In the embodiment of the present invention shown in FIG. 1, the cooled and solidified unstretched film 10 peeled from the third cooling roll 8 by the peeling roll 9 is guided to a stretching machine 12 via a dancer roll (film tension adjusting roll) 11. Therefore, the film 10 is stretched in the transverse direction (width direction). By this stretching, the molecules in the film are oriented.

フィルムを幅方向に延伸する方法は、公知のテンター等を好ましく用いることができる。特に延伸方向を幅方向とすることで、偏光フィルムとの積層がロール形態で実施できるので好ましい。幅方向に延伸することで、セルロースエステル系樹脂フィルムからなる光学フィルムの遅相軸は幅方向になる。   As a method for stretching the film in the width direction, a known tenter or the like can be preferably used. In particular, it is preferable to set the stretching direction to the width direction because lamination with a polarizing film can be performed in a roll form. By stretching in the width direction, the slow axis of the optical film made of the cellulose ester resin film is in the width direction.

一方、偏光フィルムの透過軸も、通常、幅方向である。偏光フィルムの透過軸と光学フィルムの遅相軸とが平行になるように積層した偏光板を液晶表示装置に組み込むことで、液晶表示装置の表示コントラストを高くすることができるとともに、良好な視野角が得られるのである。   On the other hand, the transmission axis of the polarizing film is also usually in the width direction. By incorporating a polarizing plate in which the transmission axis of the polarizing film and the slow axis of the optical film are parallel to each other into the liquid crystal display device, the display contrast of the liquid crystal display device can be increased and a good viewing angle can be obtained. Is obtained.

フィルム構成材料のガラス転移温度Tgはフィルムを構成する材料種及び構成する材料の比率を異ならしめることにより制御できる。光学フィルムとして位相差フィルムを作製する場合、Tgは120℃以上、好ましくは135℃以上とすることが好ましい。液晶表示装置においては、画像の表示状態において、装置自身の温度上昇、例えば光源由来の温度上昇によってフィルムの温度環境が変化する。このときフィルムの使用環境温度よりもフィルムのTgが低いと、延伸によってフィルム内部に固定された分子の配向状態に由来するリターデーション値及びフィルムとしての寸法形状に大きな変化を与えることとなる。フィルムのTgが高過ぎると、フィルム構成材料をフィルム化するとき温度が高くなるために加熱するエネルギー消費が高くなり、またフィルム化するときの材料自身の分解、それによる着色が生じることがあり、従って、Tgは250℃以下が好ましい。   The glass transition temperature Tg of the film constituting material can be controlled by varying the material type constituting the film and the ratio of the constituting material. When a retardation film is produced as an optical film, Tg is preferably 120 ° C. or higher, preferably 135 ° C. or higher. In the liquid crystal display device, in the image display state, the temperature environment of the film changes due to the temperature rise of the device itself, for example, the temperature rise derived from the light source. At this time, if the Tg of the film is lower than the use environment temperature of the film, the retardation value derived from the orientation state of the molecules fixed inside the film by stretching and the dimensional shape as the film are greatly changed. If the Tg of the film is too high, the temperature is increased when the film constituent material is made into a film, so that the energy consumption for heating is increased, and the material itself may be decomposed when it is made into a film, resulting in coloring. Therefore, Tg is preferably 250 ° C. or lower.

また延伸工程には公知の熱固定条件、冷却、緩和処理を行ってもよく、目的とする光学フィルムに要求される特性を有するように適宜調整すればよい。   The stretching step may be performed by known heat setting conditions, cooling, and relaxation treatment, and may be appropriately adjusted so as to have the characteristics required for the target optical film.

位相フィルムの物性と液晶表示装置の視野角拡大のための位相フィルムの機能付与するために、上記延伸工程、熱固定処理は適宜選択して行われている。このような延伸工程、熱固定処理を含む場合、加熱加圧工程は、それらの延伸工程、熱固定処理の前に行うようにする。   In order to provide the physical properties of the phase film and the function of the phase film for expanding the viewing angle of the liquid crystal display device, the stretching step and the heat setting treatment are appropriately selected and performed. When such a stretching step and heat setting treatment are included, the heating and pressurizing step is performed before the stretching step and heat setting treatment.

光学フィルムとして位相差フィルムを製造し、更に偏光板保護フィルムの機能を複合させる場合、屈折率制御を行う必要が生じるが、その屈折率制御は延伸操作により行うことが可能であり、また延伸操作が好ましい方法である。以下、その延伸方法について説明する。   When producing a retardation film as an optical film and further combining the functions of a polarizing plate protective film, it is necessary to control the refractive index. However, the refractive index can be controlled by a stretching operation. Is a preferred method. Hereinafter, the stretching method will be described.

位相差フィルムの延伸工程において、セルロース樹脂の1方向に1.0〜2.0倍及びフィルム面内にそれと直交する方向に1.01〜2.5倍延伸することで、必要とされるリターデーションRo及びRtを制御することができる。ここで、Roとは面内リターデーションを示し、Rtとは厚み方向リターデーションを示す。   In the retardation film stretching step, the required litter is obtained by stretching 1.0 to 2.0 times in one direction of the cellulose resin and 1.01 to 2.5 times in the direction perpendicular to the film plane. The foundation Ro and Rt can be controlled. Here, Ro indicates in-plane retardation, and Rt indicates thickness direction retardation.

リターデーションRo、Rtは下記式により求められる。   Retardation Ro and Rt are calculated | required by a following formula.

式(i) Ro=(nx−ny)×d
式(ii) Rt=((nx+ny)/2−nz)×d
(式中、nxはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、nyはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、nzはフィルムの厚み方向の屈折率(屈折率は23℃、55%RHの環境下、波長590nmで測定)、dはフィルムの厚さ(nm)を表す。)
光学フィルムの屈折率は、アッベ屈折率計(4T)を用いて、フィルムの厚さは市販のマイクロメーターを用いて、リターデーション値は、自動複屈折計KOBRA−21ADH(王子計測機器(株)製)等を用いて、各々測定することが出来る。
Formula (i) Ro = (nx−ny) × d
Formula (ii) Rt = ((nx + ny) / 2−nz) × d
(Where nx is the refractive index in the slow axis direction in the film plane, ny is the refractive index in the fast axis direction in the film plane, nz is the refractive index in the thickness direction of the film (refractive index is 23 ° C., 55%) (Measured at a wavelength of 590 nm in an RH environment), d represents the thickness (nm) of the film.)
The refractive index of the optical film is an Abbe refractometer (4T), the thickness of the film is a commercially available micrometer, and the retardation value is an automatic birefringence meter KOBRA-21ADH (Oji Scientific Instruments). Etc.) can be used for each measurement.

延伸は、例えばフィルムの長手方向及びそれとフィルム面内で直交する方向、即ち幅方向に対して、逐次または同時に行うことができる。このとき少なくとも1方向に対しての延伸倍率が小さ過ぎると十分な位相差が得られず、大き過ぎると延伸が困難となりフィルム破断が発生してしまう場合がある。   Stretching can be performed, for example, sequentially or simultaneously in the longitudinal direction of the film and the direction orthogonal to the longitudinal direction of the film, that is, the width direction. At this time, if the stretching ratio in at least one direction is too small, a sufficient phase difference cannot be obtained, and if it is too large, stretching becomes difficult and film breakage may occur.

例えば溶融流延方向に延伸した場合、幅方向の収縮が大き過ぎると、nzの値が大きくなり過ぎてしまう。この場合、フィルムの幅収縮を抑制、或いは幅方向にも延伸することで改善できる。幅方向に延伸する場合、幅方向で屈折率に分布が生じることがある。この分布は、テンター法を用いた場合に現れることがあり、フィルムを幅方向に延伸したことで、フィルム中央部に収縮力が発生し、端部は固定されていることにより生じる現象で、いわゆるボーイング現象と呼ばれるものと考えられる。この場合でも、流延方向に延伸することで、ボーイング現象を抑制でき、幅方向の位相差の分布を少なくできる。   For example, when stretching in the melt casting direction, if the shrinkage in the width direction is too large, the value of nz becomes too large. In this case, it can be improved by suppressing the width shrinkage of the film or stretching in the width direction. When stretching in the width direction, the refractive index may be distributed in the width direction. This distribution may appear when the tenter method is used. By stretching the film in the width direction, a shrinkage force is generated at the center of the film, and the phenomenon is caused by the end being fixed. It is thought to be called the Boeing phenomenon. Even in this case, by stretching in the casting direction, the bowing phenomenon can be suppressed and the distribution of the phase difference in the width direction can be reduced.

互いに直行する2軸方向に延伸することにより、得られるフィルムの膜厚変動が減少できる。位相差フィルムの膜厚変動が大き過ぎると位相差のムラとなり、液晶ディスプレイに用いたとき着色等のムラが問題となることがある。   By stretching in the biaxial directions perpendicular to each other, the film thickness variation of the obtained film can be reduced. When the film thickness variation of the retardation film is too large, the retardation becomes uneven, and unevenness such as coloring may be a problem when used in a liquid crystal display.

光学フィルムの膜厚変動は、±3%、更に±1%の範囲とすることが好ましい。以上のような目的において、互いに直交する2軸方向に延伸する方法は有効であり、互いに直交する2軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的には流延方向に1.0〜2.0倍、幅方向に1.01〜2.5倍の範囲とすることが好ましく、流延方向に1.01〜1.5倍、幅方向に1.05〜2.0倍に範囲で行うことが必要とされるリターデーション値を得るためにより好ましい。   The film thickness variation of the optical film is preferably in the range of ± 3%, and more preferably ± 1%. For the purposes as described above, the method of stretching in the biaxial directions perpendicular to each other is effective, and the stretching ratio in the biaxial directions perpendicular to each other is finally 1.0 to 2.0 times in the casting direction. The width direction is preferably 1.01 to 2.5 times, the casting direction is 1.01 to 1.5 times, and the width direction is 1.05 to 2.0 times. It is more preferred to obtain the required retardation value.

長手方向に偏光子の吸収軸が存在する場合、幅方向に偏光子の透過軸が一致することになる。長尺状の偏光板を得るためには、位相差フィルムは、幅方向に遅相軸を得るように延伸することが好ましい。   When the absorption axis of the polarizer exists in the longitudinal direction, the transmission axis of the polarizer coincides with the width direction. In order to obtain a long polarizing plate, the retardation film is preferably stretched so as to obtain a slow axis in the width direction.

応力に対して、正の複屈折を得るセルロースエステルを用いる場合、上述の構成から、幅方向に延伸することで、位相差フィルムの遅相軸が幅方向に付与することができる。この場合、表示品質の向上のためには、位相差フィルムの遅相軸が、幅方向にあるほうが好ましく、目的とするリターデーション値を得るためには、
式、(幅方向の延伸倍率)>(流延方向の延伸倍率)
の条件を満たすことが必要である。
When cellulose ester that obtains positive birefringence with respect to stress is used, the slow axis of the retardation film can be provided in the width direction by stretching in the width direction from the above configuration. In this case, in order to improve the display quality, the slow axis of the retardation film is preferably in the width direction, and in order to obtain the desired retardation value,
Formula (stretch ratio in the width direction)> (stretch ratio in the casting direction)
It is necessary to satisfy the following conditions.

延伸後、フィルムの端部をスリッター13により製品となる幅にスリットして裁ち落とした後、エンボスリング14及びバックロール15よりなるナール加工装置によりナール加工(エンボッシング加工)をフィルム両端部に施し、巻取り機16によって巻き取ることにより、光学フィルム(元巻き)F中の貼り付きや、すり傷の発生を防止する。ナール加工の方法は、凸凹のパターンを側面に有する金属リングを加熱や加圧により加工することができる。なお、フィルム両端部のクリップの把持部分は通常、変形しており、フィルム製品として使用できないので、切除されて、原料として再利用される。   After stretching, after slitting the edge of the film to a product width by the slitter 13, the film is subjected to knurling (embossing) on both ends of the film by a knurling device comprising an embossing ring 14 and a back roll 15. By winding with the winder 16, sticking in the optical film (original winding) F and generation of scratches are prevented. The knurling method can process a metal ring having an uneven pattern on its side surface by heating or pressing. In addition, since the grip part of the clip of the both ends of a film is deform | transforming normally and cannot be used as a film product, it is cut out and reused as a raw material.

次に、フィルムの巻取り工程は、円筒形巻きフィルムの外周面とこれの直前の移動式搬送ロールの外周面との間の最短距離を一定に保持しながらフィルムを巻取りロールに巻き取るものである。かつ巻取りロールの手前には、フィルムの表面電位を除去または低減する除電ブロア等の手段が設けられている。   Next, in the film winding process, the film is wound on the take-up roll while keeping the shortest distance between the outer peripheral face of the cylindrical roll film and the outer peripheral face of the mobile transport roll immediately before the roll. It is. In addition, a means such as a static elimination blower for removing or reducing the surface potential of the film is provided in front of the winding roll.

本発明に係る光学フィルムの製造に係わる巻き取り機は一般的に使用されているものでよく、定テンション法、定トルク法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等の巻き取り方法で巻き取ることができる。なお、偏光板保護フィルムの巻取り時の初期巻取り張力が90.2〜300.8N/mであるのが好ましい。   The winding machine related to the production of the optical film according to the present invention may be a commonly used winding method such as a constant tension method, a constant torque method, a taper tension method, a program tension control method with a constant internal stress, etc. Can be rolled up. In addition, it is preferable that the initial winding tension at the time of winding of a polarizing plate protective film is 90.2-300.8 N / m.

本発明の方法におけるフィルムの巻き取り工程では、温度20〜30℃、湿度20〜60%RHの環境条件にて、フィルムを巻き取ることが好ましい。このように、フィルムの巻き取り工程での温度及び湿度を規定することにより、厚み方向リターデーション(Rt)の湿度変化の耐性が向上する。   In the film winding step in the method of the present invention, the film is preferably wound under environmental conditions of a temperature of 20 to 30 ° C. and a humidity of 20 to 60% RH. Thus, the tolerance of the humidity change of the thickness direction retardation (Rt) improves by prescribing the temperature and humidity in the film winding process.

巻き取り工程における温度が20℃未満であれば、シワが発生し、フィルム巻品質劣化のため実用に耐えないので、好ましくない。フィルムの巻き取り工程における温度が30℃を超えると、やはりシワが発生し、フィルム巻品質劣化のため実用に耐えないので、好ましくない。   If the temperature in the winding process is less than 20 ° C., wrinkles are generated and the film winding quality is deteriorated, which is unpractical. If the temperature in the film winding process exceeds 30 ° C., wrinkles are also generated, and the film winding quality is deteriorated, so that it cannot be put into practical use.

また、フィルムの巻き取り工程における湿度が20%RH未満であれば、帯電しやすく、フィルム巻品質劣化のため実用に耐えないので、好ましくない。フィルムの巻き取り工程における湿度が60%RHを超えると、巻品質、貼り付き故障、搬送性が劣化するので、好ましくない。   Moreover, if the humidity in the film winding process is less than 20% RH, it is not preferable because it is easily charged and cannot be put into practical use due to deterioration in film winding quality. If the humidity in the film winding process exceeds 60% RH, the winding quality, sticking failure, and transportability deteriorate, which is not preferable.

偏光板保護フィルムをロール状に巻き取る際の、巻きコアとしては、円筒上のコアであれは、どのような材質のものであってもよいが、好ましくは中空プラスチックコアであり、プラスチック材料としては加熱処理温度にも耐える耐熱性プラスチックであればどのようなものであってもよく、フェノール樹脂、キシレン樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂が挙げられる。またガラス繊維等の充填材により強化した熱硬化性樹脂が好ましい。例えば、中空プラスチックコア:FRP製の外径6インチ(以下、インチは2.54cmを表す。)、内径5インチの巻きコアが用いられる。   When winding the polarizing plate protective film in a roll shape, the winding core may be any material as long as it is a cylindrical core, but is preferably a hollow plastic core, as a plastic material May be any heat-resistant plastic that can withstand the heat treatment temperature, and examples thereof include phenol resins, xylene resins, melamine resins, polyester resins, and epoxy resins. A thermosetting resin reinforced with a filler such as glass fiber is preferred. For example, a hollow plastic core: a wound core made of FRP and having an outer diameter of 6 inches (hereinafter, inch represents 2.54 cm) and an inner diameter of 5 inches is used.

これらの巻きコアへの巻き数は、100巻き以上であることが好ましく、500巻き以上であることが更に好ましく、巻き厚は5cm以上であることが好ましく、フィルム基材の幅は80cm以上であることが好ましく、1m以上であることが特に好ましい。   The number of windings to these winding cores is preferably 100 windings or more, more preferably 500 windings or more, the winding thickness is preferably 5 cm or more, and the width of the film substrate is 80 cm or more. It is preferably 1 m or more.

本発明に係る光学フィルムの膜の厚さは、使用目的によって異なるが、仕上がりフィルムとして、10〜500μmが好ましい。特に、下限は20μm以上、好ましくは35μm以上である。上限は150μm以下、好ましくは120μm以下である。特に好ましい範囲は25〜90μmである。位相差フィルムが偏光板保護フィルムを兼ねる場合、フィルムが厚いと、偏光板加工後の偏光板が厚くなり過ぎ、ノート型パソコンやモバイル型電子機器に用いる液晶表示においては、特に薄型軽量の目的に適さない。一方、フィルムが薄いと、位相差フィルムとしてのリターデーションの発現が困難となり、加えてフィルムの透湿性が高くなり、偏光子を湿度から保護する能力が低下してしまうために好ましくない。   Although the thickness of the film of the optical film according to the present invention varies depending on the purpose of use, the finished film is preferably 10 to 500 μm. In particular, the lower limit is 20 μm or more, preferably 35 μm or more. The upper limit is 150 μm or less, preferably 120 μm or less. A particularly preferable range is 25 to 90 μm. When the retardation film also serves as a polarizing plate protective film, if the film is thick, the polarizing plate after polarizing plate processing becomes too thick, especially for liquid crystal displays used in notebook computers and mobile electronic devices for thin and lightweight purposes. Not suitable. On the other hand, if the film is thin, it is difficult to develop retardation as a retardation film. In addition, the moisture permeability of the film increases, and the ability to protect the polarizer from humidity decreases, which is not preferable.

位相差フィルムの遅相軸または進相軸がフィルム面内に存在し、製膜方向とのなす角度をθ1とすると、θ1は−1〜+1°、好ましくは−0.5〜+0.5°となるようにする。   When the slow axis or the fast axis of the retardation film exists in the film plane and the angle formed with the film forming direction is θ1, θ1 is −1 to + 1 °, preferably −0.5 to + 0.5 °. To be.

このθ1は配向角として定義でき、θ1の測定は、自動複屈折計KOBRA−21ADH(王子計測機器社製)を用いて行うことができる。   This θ1 can be defined as an orientation angle, and the measurement of θ1 can be performed using an automatic birefringence meter KOBRA-21ADH (manufactured by Oji Scientific Instruments).

θ1が各々上記関係を満たすことは、表示画像において高い輝度を得ること、光漏れを抑制または防止することに寄与し、カラー液晶表示装置においては忠実な色再現に寄与する。   When each θ1 satisfies the above relationship, it contributes to obtaining high luminance in a display image, suppressing or preventing light leakage, and contributing to faithful color reproduction in a color liquid crystal display device.

位相差フィルムがマルチドメイン化されたVAモードに用いられるとき、位相差フィルムの配置は、位相差フィルムの進相軸がθ1として上記領域に配置することで、表示画質の向上に寄与し、偏光板及び液晶表示装置としてMVAモードとしたとき、例えば図7に示す構成をとることができる。   When the retardation film is used for the multi-domain VA mode, the retardation film is arranged in the above region with the fast axis of the retardation film being θ1, which contributes to the improvement of display image quality. When the plate and the liquid crystal display device are in the MVA mode, for example, the configuration shown in FIG. 7 can be adopted.

図7において、21a、21bは保護フィルム、22a、22bは位相差フィルム、25a、25bは偏光子、23a、23bはフィルムの遅相軸方向、24a、24bは偏光子の透過軸方向、26a、26bは偏光板、27は液晶セル、29は液晶表示装置を示している。   In FIG. 7, 21a and 21b are protective films, 22a and 22b are retardation films, 25a and 25b are polarizers, 23a and 23b are slow axis directions of the film, 24a and 24b are transmission axis directions of the polarizer, 26a, Reference numeral 26b denotes a polarizing plate, 27 denotes a liquid crystal cell, and 29 denotes a liquid crystal display device.

光学フィルムの面内方向のリターデーションRo分布は、5%以下に調整することが好ましく、より好ましくは2%以下であり、特に好ましくは、1.5%以下である。また、フィルムの厚み方向のリターデーションRt分布を10%以下に調整することが好ましいが、更に好ましくは、2%以下であり、特に好ましくは、1.5%以下である。   The retardation Ro distribution in the in-plane direction of the optical film is preferably adjusted to 5% or less, more preferably 2% or less, and particularly preferably 1.5% or less. The retardation Rt distribution in the thickness direction of the film is preferably adjusted to 10% or less, more preferably 2% or less, and particularly preferably 1.5% or less.

位相差フィルムとしては、リターデーション値の分布変動が小さい方が好ましく、液晶表示装置に位相差フィルムを含む偏光板を用いるとき、該リターデーション分布変動が小さいことが色ムラ等を防止する観点で好ましい。   As the retardation film, it is preferable that the retardation value distribution fluctuation is small. When a polarizing plate including a retardation film is used in a liquid crystal display device, the retardation distribution fluctuation is small from the viewpoint of preventing color unevenness and the like. preferable.

位相差フィルムを、VAモードまたはTNモードの液晶セルの表示品質の向上に適したリターデーション値を有するように調整し、特にVAモードとして上記のマルチドメインに分割してMVAモードに好ましく用いられるようにするには、面内リターデーションRoを30nmよりも大きく、95nm以下に、かつ厚み方向リターデーションRtを70nmよりも大きく、400nm以下の値に調整することが求められる。   The retardation film is adjusted to have a retardation value suitable for improving the display quality of the VA mode or TN mode liquid crystal cell, and is preferably used for the MVA mode by dividing the retardation film into the above multi-domain as the VA mode. To achieve this, it is required to adjust the in-plane retardation Ro to a value greater than 30 nm and 95 nm or less, and a thickness direction retardation Rt greater than 70 nm and 400 nm or less.

上記の面内リターデーションRoは、2枚の偏光板がクロスニコルに配置され、偏光板の間に液晶セルが配置された、例えば図7に示す構成であるときに、表示面の法線方向から観察するときを基準にしてクロスニコル状態にあるとき、表示面の法線から斜めに観察したとき、偏光板のクロスニコル状態からのずれが生じ、これが要因となる光漏れを、主に補償する。厚さ方向のリターデーションは、上記TNモードやVAモード、特にMVAモードにおいて液晶セルが黒表示状態であるときに、同様に斜めから見たときに認められる液晶セルの複屈折を主に補償するために寄与する。   The in-plane retardation Ro is observed from the normal direction of the display surface when the two polarizing plates are arranged in crossed Nicols and the liquid crystal cell is arranged between the polarizing plates, for example, in the configuration shown in FIG. When the light is in the crossed Nicol state with respect to the time when the display is taken, the polarizing plate is displaced from the crossed Nicol state when observed obliquely from the normal of the display surface, and light leakage caused by this is mainly compensated. The retardation in the thickness direction mainly compensates for the birefringence of the liquid crystal cell similarly observed when viewed from an oblique direction when the liquid crystal cell is in a black display state in the TN mode or VA mode, particularly in the MVA mode. To contribute.

図7に示すように、液晶表示装置において、液晶セルの上下に偏光板が二枚配置された構成である場合、図中の22a及び22bは、厚み方向リターデーションRtの配分を選択することができ、上記範囲を満たしかつ厚み方向リターデーションRtの両者の合計値が140nmよりも大きくかつ500nm以下にすることが好ましい。このとき22a及び22bの面内リターデーションRo、厚み方向リターデーションRtが両者同じであることが、工業的な偏光板の生産性向上において好ましい。特に好ましくは面内リターデーションRoが35nmよりも大きくかつ65nm以下であり、かつ厚み方向リターデーションRtが90nmよりも大きく180nm以下で、図7の構成でMVAモードの液晶セルに適用することである。   As shown in FIG. 7, in the liquid crystal display device, when two polarizing plates are arranged above and below the liquid crystal cell, 22a and 22b in the figure can select the distribution of the thickness direction retardation Rt. Preferably, the total value of both of the above-mentioned ranges and the thickness direction retardation Rt is larger than 140 nm and 500 nm or less. At this time, the in-plane retardation Ro and the thickness direction retardation Rt of 22a and 22b are preferably the same for improving productivity of an industrial polarizing plate. Particularly preferably, the in-plane retardation Ro is larger than 35 nm and not larger than 65 nm, and the thickness direction retardation Rt is larger than 90 nm and not larger than 180 nm, and is applied to the MVA mode liquid crystal cell in the configuration of FIG. .

液晶表示装置において、一方の偏光板に例えば市販の偏光板保護フィルムとして面内リターデーションRo=0〜4nm及び厚み方向リターデーションRt=20〜50nmで厚さ35〜85μmのTACフィルムが、例えば図7の22bの位置で使用されている場合、他方の偏光板に配置される偏光フィルム、例えば、図7の22aに配置する位相差フィルムは、面内リターデーションRoが30nmよりも大きく95nm以下であり、かつ厚み方向リターデーションRtが140nmよりも大きく400nm以下であるものを使用するようにする。表示品質が向上し、かつフィルムの生産面からも好ましい。   In a liquid crystal display device, a TAC film having an in-plane retardation Ro = 0 to 4 nm and a thickness direction retardation Rt = 20 to 50 nm and a thickness of 35 to 85 μm as, for example, a commercially available polarizing plate protective film on one polarizing plate. 7 is used at the position 22b, the polarizing film disposed on the other polarizing plate, for example, the retardation film disposed on 22a in FIG. 7, has an in-plane retardation Ro of more than 30 nm and not more than 95 nm. And having a thickness direction retardation Rt of more than 140 nm and 400 nm or less. The display quality is improved, and this is preferable from the viewpoint of film production.

《偏光板》
本発明に係る光学フィルムを偏光板保護フィルムとして用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。本発明の光学フィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、処理した光学フィルムを、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面にも本発明の光学フィルムを用いても、別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。本発明の光学フィルムに対して、もう一方の面に用いられる偏光板保護フィルムは市販の光学フィルムを用いることが出来る。例えば、市販の光学フィルムとして、KC8UX2M、KC4UX、KC5UX、KC4UY、KC8UY、KC12UR、KC8UCR−3、KC8UCR−4、KC4FR−1、KC8UY−HA、KC8UX−RHA(以上、コニカミノルタオプト(株)製)等が好ましく用いられる。或いは更にディスコチック液晶、棒状液晶、コレステリック液晶などの液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムを用いることも好ましい。例えば、特開2003−98348号記載の方法で光学異方性層を形成することが出来る。本発明の光学フィルムと組み合わせて使用することによって、平面性に優れ、安定した視野角拡大効果を有する偏光板を得ることが出来る。或いは、セルロースエステルを有してなる光学フィルム以外の環状オレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル、ポリカーボネート等のフィルムをもう一方の面の偏光板保護フィルムとして用いてもよい。
"Polarizer"
When using the optical film which concerns on this invention as a polarizing plate protective film, the preparation methods of a polarizing plate are not specifically limited, It can manufacture by a general method. The back side of the optical film of the present invention is subjected to alkali saponification treatment, and the treated optical film is bonded to at least one surface of a polarizing film produced by immersing and stretching in an iodine solution using a completely saponified polyvinyl alcohol aqueous solution. It is preferable. The optical film of the present invention may be used on the other surface, or another polarizing plate protective film may be used. With respect to the optical film of the present invention, a commercially available optical film can be used as the polarizing plate protective film used on the other surface. For example, as a commercially available optical film, KC8UX2M, KC4UX, KC5UX, KC4UY, KC8UY, KC12UR, KC8UCR-3, KC8UCR-4, KC4FR-1, KC8UY-HA, KC8UX-RHA (above, Konica Minolta Opto) Etc. are preferably used. Alternatively, it is also preferable to use a polarizing plate protective film that also serves as an optical compensation film having an optical anisotropic layer formed by aligning liquid crystal compounds such as discotic liquid crystal, rod-shaped liquid crystal, and cholesteric liquid crystal. For example, the optically anisotropic layer can be formed by the method described in JP-A-2003-98348. By using in combination with the optical film of the present invention, a polarizing plate having excellent flatness and a stable viewing angle expansion effect can be obtained. Or you may use films, such as cyclic olefin resin other than the optical film which has a cellulose ester, an acrylic resin, polyester, a polycarbonate, as a polarizing plate protective film of the other surface.

上記アルカリ処理の代わりに特開平6−94915号公報、同6−118232号公報に記載されているような易接着加工を施して偏光板加工を行ってもよい。   Instead of the alkali treatment, polarizing plate processing may be performed by performing easy adhesion processing as described in JP-A-6-94915 and JP-A-6-118232.

偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。偏光膜の膜厚は5〜40μm、好ましくは5〜30μmであり、特に好ましくは5〜20μmである。該偏光膜の面上に、本発明の光学フィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。   The polarizing film, which is the main component of the polarizing plate, is an element that transmits only light having a polarization plane in a certain direction. A typical polarizing film known at present is a polyvinyl alcohol polarizing film, which is a polyvinyl alcohol film. There are one in which iodine is dyed on a system film and one in which dichroic dye is dyed. As the polarizing film, a polyvinyl alcohol aqueous solution is formed and dyed by uniaxially stretching or dyed, or uniaxially stretched after dyeing, and then preferably subjected to a durability treatment with a boron compound. The thickness of the polarizing film is 5 to 40 μm, preferably 5 to 30 μm, and particularly preferably 5 to 20 μm. On the surface of the polarizing film, one side of the optical film of the present invention is bonded to form a polarizing plate. It is preferably bonded with an aqueous adhesive mainly composed of completely saponified polyvinyl alcohol or the like.

偏光膜は一軸方向(通常は長手方向)に延伸されているため、偏光板を高温高湿の環境下に置くと延伸方向(通常は長手方向)は縮み、延伸と垂直方向(通常は幅方向)には伸びる。偏光板保護用フィルムの膜厚が薄くなるほど偏光板の伸縮率は大きくなり、特に偏光膜の延伸方向の収縮量が大きい。通常、偏光膜の延伸方向は偏光板保護用フィルムの流延方向(MD方向)と貼り合わせるため、偏光板保護用フィルムを薄膜化する場合は、特に流延方向の伸縮率を抑えることが重要である。本発明の光学フィルムは極めて寸法安定に優れる為、このような偏光板保護フィルムとして好適に使用される。   Since the polarizing film is stretched in a uniaxial direction (usually the longitudinal direction), when the polarizing plate is placed in a high-temperature and high-humidity environment, the stretching direction (usually the longitudinal direction) shrinks, and the direction perpendicular to the stretching (usually the width direction) ) Will grow. As the thickness of the polarizing plate protective film becomes thinner, the expansion / contraction ratio of the polarizing plate increases, and in particular, the amount of contraction in the stretching direction of the polarizing film increases. Normally, the stretching direction of the polarizing film is bonded to the casting direction (MD direction) of the polarizing plate protective film. Therefore, when making the polarizing plate protective film thin, it is particularly important to suppress the stretching rate in the casting direction. It is. Since the optical film of the present invention is extremely excellent in dimensional stability, it is suitably used as such a polarizing plate protective film.

即ち60℃、90%RHの条件での耐久性試験によっても波打ち状のむらが増加することはなく、裏面側に光学補償フィルムを有する偏光板であっても、耐久性試験後に視野角特性が変動することなく良好な視認性を提供することが出来る。   That is, even when the durability test is performed at 60 ° C. and 90% RH, the wavy unevenness does not increase, and even if the polarizing plate has an optical compensation film on the back side, the viewing angle characteristics fluctuate after the durability test. Good visibility can be provided without doing so.

偏光板は偏光子及びその両面を保護する保護フィルムで構成されており、更に該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成することが出来る。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。また、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶セルへ貼合する面側に用いられる。   The polarizing plate is composed of a polarizer and a protective film for protecting both surfaces of the polarizer, and can further be constructed by laminating a protective film on one surface of the polarizing plate and a separate film on the opposite surface. The protective film and the separate film are used for the purpose of protecting the polarizing plate at the time of shipping the polarizing plate and at the time of product inspection. In this case, the protect film is bonded for the purpose of protecting the surface of the polarizing plate, and is used on the side opposite to the surface where the polarizing plate is bonded to the liquid crystal plate. Moreover, a separate film is used in order to cover the contact bonding layer bonded to a liquid crystal board, and is used for the surface side which bonds a polarizing plate to a liquid crystal cell.

《液晶表示装置》
本発明の光学フィルムを用いた偏光板保護フィルム(位相差フィルムを兼ねる場合も含む)を含む偏光板は、通常の偏光板と比較して高い表示品質を発現させることができ、特にマルチドメイン型の液晶表示装置、より好ましくは複屈折モードによってマルチドメイン型の液晶表示装置への使用に適している。
<Liquid crystal display device>
A polarizing plate including a polarizing plate protective film (including a case where it also serves as a retardation film) using the optical film of the present invention can exhibit high display quality as compared with a normal polarizing plate, particularly a multi-domain type. The liquid crystal display device is more suitable for use in a multi-domain liquid crystal display device, more preferably by a birefringence mode.

本発明の偏光板は、MVA(Multi−domain Vertical Alignment)モード、PVA(Patterned Vertical Alignment)モード、CPA(Continuous Pinwheel Alignment)モード、OCB(Optical Compensated Bend)モード、IPS(In Place Switching)モード等に用いることができ、特定の液晶モード、偏光板の配置に限定されるものではない。   The polarizing plate of the present invention includes an MVA (Multi-domain Vertical Alignment) mode, a PVA (Patterned Vertical Alignment) mode, a CPA (Continuous Pinweal Alignment Mode), an OCB (Optical Compensated Bend Mode) It can be used, and is not limited to a specific liquid crystal mode and the arrangement of polarizing plates.

液晶表示装置はカラー化及び動画表示用の装置としても応用されつつあり、本発明により表示品質が改良され、コントラストの改善や偏光板の耐性が向上したことにより、疲れにくく忠実な動画像表示が可能となる。   Liquid crystal display devices are being applied as devices for colorization and moving image display, and the display quality is improved by the present invention, and the improvement of contrast and the resistance of polarizing plates improve the display of moving images that are less fatigued and faithful. It becomes possible.

位相差フィルムを含む偏光板を少なくとも含む液晶表示装置においては、本発明の光学フィルムとしての偏光板保護フィルムを含む偏光板を、液晶セルに対して、一枚配置するか、或いは液晶セルの両側に二枚配置する。このとき偏光板に含まれる偏光板保護フィルム側が液晶表示装置の液晶セルに面するように用いることで表示品質の向上に寄与できる。図7においては22a及び22bのフィルムが液晶表示装置の液晶セルに面することになる。   In a liquid crystal display device including at least a polarizing plate including a retardation film, one polarizing plate including a polarizing plate protective film as the optical film of the present invention is disposed on the liquid crystal cell, or on both sides of the liquid crystal cell. Place two in a row. At this time, it can contribute to the improvement of display quality by using the polarizing plate protective film side included in the polarizing plate so as to face the liquid crystal cell of the liquid crystal display device. In FIG. 7, the films 22a and 22b face the liquid crystal cell of the liquid crystal display device.

このような構成において、本発明の光学フィルムとしての偏光板保護フィルムは、液晶セルを光学的に補償することができる。本発明の偏光板を液晶表示装置に用いる場合は、液晶表示装置の偏光板の内の少なくとも一つの偏光板を、本発明の偏光板とすればよい。本発明の偏光板を用いることで、表示品質が向上し、視野角特性に優れた液晶表示装置が提供できる。   In such a configuration, the polarizing plate protective film as the optical film of the present invention can optically compensate the liquid crystal cell. When the polarizing plate of the present invention is used in a liquid crystal display device, at least one polarizing plate in the liquid crystal display device may be the polarizing plate of the present invention. By using the polarizing plate of the present invention, a liquid crystal display device with improved display quality and excellent viewing angle characteristics can be provided.

本発明の偏光板において、偏光子からみて本発明の光学フィルムとしての偏光板保護フィルムとは反対側の面には、セルロース誘導体の偏光板保護フィルムが用いられ、汎用のTACフィルム等を用いることができる。液晶セルから遠い側に位置する偏光板保護フィルムは、表示装置の品質を向上する上で、他の機能性層を配置することも可能である。   In the polarizing plate of the present invention, a polarizing plate protective film of a cellulose derivative is used on the surface opposite to the polarizing plate protective film as the optical film of the present invention as viewed from the polarizer, and a general-purpose TAC film or the like is used. Can do. The polarizing plate protective film located on the side far from the liquid crystal cell can be provided with another functional layer in order to improve the quality of the display device.

例えば、反射防止、防眩、耐キズ、ゴミ付着防止、輝度向上のためにディスプレイとしての公知の機能層を構成物として含むフィルムや、または本発明の偏光板表面に貼付してもよいがこれらに限定されるものではない。   For example, it may be affixed to a film containing a known functional layer as a constituent for display in order to prevent reflection, anti-glare, scratch resistance, dust adhesion prevention, brightness improvement, or the polarizing plate surface of the present invention. It is not limited to.

一般に位相差フィルムでは、上述のリターデーションRoまたはRtの変動が少ないことが安定した光学特性を得るために求められている。特に複屈折モードの液晶表示装置は、これらの変動が画像のムラを引き起こす原因となることがある。   In general, a retardation film is required to obtain stable optical characteristics that the above-described retardation Ro or Rt does not fluctuate little. In particular, in a liquid crystal display device in a birefringence mode, these fluctuations may cause image unevenness.

本発明に従い溶融流延製膜法により製造される長尺状偏光板保護フィルムは、セルロースエステルを主体として構成されるため、セルロースエステル固有のケン化を活用してアルカリ処理工程を活用することができる。これは、偏光子を構成する樹脂がポリビニルアルコールであるとき、従来の偏光板保護フィルムと同様に完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて偏光板保護フィルムと貼合することができる。このために本発明は、従来の偏光板加工方法が適用できる点で優れており、特に長尺状であるロール偏光板が得られる点で優れている。   Since the long polarizing plate protective film produced by the melt casting film forming method according to the present invention is mainly composed of cellulose ester, it is possible to utilize an alkali treatment step by utilizing saponification inherent to cellulose ester. it can. When the resin which comprises a polarizer is polyvinyl alcohol, this can be bonded with a polarizing plate protective film using the completely saponified polyvinyl alcohol aqueous solution similarly to the conventional polarizing plate protective film. For this reason, this invention is excellent in the point which can apply the conventional polarizing plate processing method, and is excellent especially in the point from which the roll polarizing plate which is elongate is obtained.

本発明により得られる製造的効果は、特に100m以上の長尺の巻物においてより顕著となり、1500m、2500m、5000mとより長尺化する程、偏光板製造の製造的効果を得る。   The production effect obtained by the present invention becomes more remarkable particularly in a long roll of 100 m or more, and the longer the length is 1500 m, 2500 m, or 5000 m, the more the production effect of polarizing plate production is obtained.

例えば、偏光板保護フィルム製造において、ロール長さは、生産性と運搬性を考慮すると、10〜5000m、好ましくは50〜4500mであり、このときのフィルムの幅は、偏光子の幅や製造ラインに適した幅を選択することができる。0.5〜4.0m、好ましくは0.6〜3.0mの幅でフィルムを製造してロール状に巻き取り、偏光板加工に供してもよく、また、目的の倍幅以上のフィルムを製造してロールに巻き取った後、断裁して目的の幅のロールを得て、このようなロールを偏光板加工に用いるようにしてもよい。   For example, in the production of a polarizing plate protective film, the roll length is 10 to 5000 m, preferably 50 to 4500 m in consideration of productivity and transportability. At this time, the width of the film is the width of the polarizer or the production line. A suitable width can be selected. A film with a width of 0.5 to 4.0 m, preferably 0.6 to 3.0 m, may be wound into a roll shape and used for polarizing plate processing. After being manufactured and wound on a roll, it may be cut to obtain a roll having a desired width, and such a roll may be used for polarizing plate processing.

偏光板保護フィルム製造に際し、延伸の前及び/または後で帯電防止層、ハードコート層、易滑性層、接着層、防眩層、バリアー層等の機能性層を塗設してもよい。この際、コロナ放電処理、プラズマ処理、薬液処理等の各種表面処理を必要に応じて施すことができる。   In the production of the polarizing plate protective film, functional layers such as an antistatic layer, a hard coat layer, a slippery layer, an adhesive layer, an antiglare layer, and a barrier layer may be coated before and / or after stretching. At this time, various surface treatments such as corona discharge treatment, plasma treatment, and chemical treatment can be performed as necessary.

製膜工程において、カットされたフィルム両端のクリップ把持部分は、粉砕処理された後、或いは必要に応じて造粒処理を行った後、同じ品種のフィルム用原料としてまたは異なる品種のフィルム用原料として再利用してもよい。   In the film forming process, the clip gripping portions at both ends of the cut film are pulverized or granulated as necessary, and then used as a film material of the same product type or as a film material of a different product type. It may be reused.

前述の可塑剤、紫外線吸収剤、マット剤等の添加物濃度が異なるセルロースエステルを含む組成物を共押し出しして、積層構造の光学フィルムを作製することもできる。例えば、スキン層/コア層/スキン層といった構成の光学フィルムを作ることができる。例えば、マット剤は、スキン層に多く、またはスキン層のみに入れることができる。可塑剤、紫外線吸収剤はスキン層よりもコア層に多く入れることができ、コア層のみに入れてもよい。また、コア層とスキン層で可塑剤、紫外線吸収剤の種類を変更することもでき、例えば、スキン層に低揮発性の可塑剤及び/または紫外線吸収剤を含ませ、コア層に可塑性に優れた可塑剤、或いは紫外線吸収性に優れた紫外線吸収剤を添加することもできる。スキン層とコア層のガラス転移温度が異なっていてもよく、スキン層のガラス転移温度よりコア層のガラス転移温度が低いことが好ましい。このとき、スキンとコアの両者のガラス転移温度を測定し、これらの体積分率より算出した平均値を上記ガラス転移温度Tgと定義して同様に扱うこともできる。また、溶融流延時のセルロースエステルを含む溶融物の粘度もスキン層とコア層で異なっていてもよく、スキン層の粘度>コア層の粘度でも、コア層の粘度≧スキン層の粘度でもよい。   An optical film having a laminated structure can also be produced by coextruding compositions containing cellulose esters having different additive concentrations such as the plasticizer, ultraviolet absorber, and matting agent. For example, an optical film having a structure of skin layer / core layer / skin layer can be produced. For example, the matting agent can be contained in the skin layer in a large amount or only in the skin layer. The plasticizer and the ultraviolet absorber can be contained in the core layer more than the skin layer, and may be contained only in the core layer. In addition, the type of plasticizer and ultraviolet absorber can be changed between the core layer and the skin layer. For example, the skin layer contains a low-volatile plasticizer and / or an ultraviolet absorber, and the core layer has excellent plasticity. It is also possible to add a plasticizer or an ultraviolet absorber excellent in ultraviolet absorption. The glass transition temperature of the skin layer and the core layer may be different, and the glass transition temperature of the core layer is preferably lower than the glass transition temperature of the skin layer. At this time, the glass transition temperatures of both the skin and the core can be measured, and the average value calculated from these volume fractions can be defined as the glass transition temperature Tg and handled in the same manner. Further, the viscosity of the melt containing the cellulose ester during melt casting may be different between the skin layer and the core layer, and the viscosity of the skin layer> the viscosity of the core layer or the viscosity of the core layer ≧ the viscosity of the skin layer may be used.

本発明に係る光学フィルムは、寸度安定性が、23℃、55%RHに24時間放置したフィルムの寸法を基準としたとき、80℃、90%RHにおける寸法の変動値が±2.0%未満であり、好ましくは1.0%未満であり、更に好ましくは0.5%未満である。   The optical film according to the present invention has a dimensional stability of ± 2.0 when measured at 80 ° C. and 90% RH, based on the dimensions of the film left at 23 ° C. and 55% RH for 24 hours. %, Preferably less than 1.0%, more preferably less than 0.5%.

本発明に係る光学フィルムを位相差フィルムとして偏光板保護フィルムに用いる際に、位相差フィルム自身が上記の範囲内の変動であると、偏光板としてのリターデーションの絶対値と配向角が当初の設定がずれないために、表示品質の向上能の減少或いは表示品質の劣化を引き起こすことがないため好ましい。   When the optical film according to the present invention is used for a polarizing plate protective film as a retardation film, the retardation film itself has a variation within the above range, and the retardation has an absolute value and an orientation angle as the initial values. Since the setting does not shift, it is preferable because it does not cause a decrease in display quality improvement ability or display quality deterioration.

以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

実施例1
〔セルロースエステルを有してなる光学フィルム(以下、単にセルロースエステルフィルムと称する)1の作製〕
下記のように、セルロースエステルと各種添加剤を用いて溶融流延によりセルロースエステルフィルム1を作製した。
Example 1
[Production of Optical Film Having Cellulose Ester (hereinafter, simply referred to as Cellulose Ester Film) 1]
As described below, a cellulose ester film 1 was produced by melt casting using a cellulose ester and various additives.

セルロースエステルC−1(後述参照) 100質量部
PETB 8.0質量部
例示化合物I−2 4.0質量部
例示化合物6−31 0.15質量部
IRGANOX1010(チバ・ジャパン社製) 0.50質量部
IRGAFOS168(チバ・ジャパン社製) 0.10質量部
SumilizerGS(住友化学社製) 0.20質量部
TINUVIN928(チバ・ジャパン社製) 1.5質量部
Cellulose ester C-1 (see later) 100 parts by weight PETB 8.0 parts by weight Exemplified compound I-2 4.0 parts by weight Exemplified compound 6-31 0.15 parts by weight IRGANOX 1010 (manufactured by Ciba Japan) 0.50 parts by weight Part IRGAFOS168 (manufactured by Ciba Japan) 0.10 parts by mass Sumilizer GS (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 0.20 parts by mass TINUVIN 928 (manufactured by Ciba Japan) 1.5 parts by mass

Figure 2010060981
Figure 2010060981

セルロースエステルを70℃、3時間減圧下で乾燥を行い室温まで冷却した後、添加剤を混合した。   The cellulose ester was dried under reduced pressure at 70 ° C. for 3 hours and cooled to room temperature, and then the additive was mixed.

以上の混合物を2軸式押出し機を用いて230℃で溶融混合しペレット化した。なお、このペレットのガラス転移温度Tgは137℃であった。   The above mixture was melt-mixed at 230 ° C. using a twin-screw extruder and pelletized. In addition, the glass transition temperature Tg of this pellet was 137 degreeC.

このペレットを用いて窒素雰囲気下、250℃にて溶融して流延ダイ4から第1冷却ロール5上に押し出し、第1冷却ロール5とタッチロール6との間にフィルムを挟圧して成形した。また押出し機1中間部のホッパー開口部から、滑り剤としてシリカ粒子アエロジル200V(日本アエロジル社製)を、0.5質量部となるよう添加した。   Using this pellet, it was melted at 250 ° C. in a nitrogen atmosphere, extruded from the casting die 4 onto the first cooling roll 5, and formed by pressing the film between the first cooling roll 5 and the touch roll 6. . Further, silica particle Aerosil 200V (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) was added as a slip agent from the hopper opening in the middle of the extruder 1 so as to be 0.5 part by mass.

流延ダイ4のギャップの幅がフィルムの幅方向端部から30mm以内では0.5mm、その他の場所では1mmとなるようにヒートボルトを調整した。タッチロールとしては、タッチロールAを使用し、その内部に冷却水として80℃の水を流した。   The heat bolt was adjusted so that the gap width of the casting die 4 was 0.5 mm within 30 mm from the end in the width direction of the film and 1 mm at other locations. The touch roll A was used as the touch roll, and 80 ° C. water was poured as cooling water therein.

流延ダイ4から押し出された樹脂が第1冷却ロール5に接触する位置P1から第1冷却ロール5とタッチロール6とのニップの第1冷却ロール5回転方向上流端の位置P2までの、第1冷却ローラ5の周面に沿った長さLを20mmに設定した。その後、タッチロール6を第1冷却ロール5から離間させ、第1冷却ロール5とタッチロール6とのニップに挟圧される直前の溶融部の温度Tを測定した。本実施例において、第1冷却ロール5とタッチロール6とのニップに挟圧される直前の溶融部の温度Tは、ニップ上流端P2よりも更に1mm上流側の位置で、温度計(安立計器株式会社製HA−200E)により測定した。本実施例では測定の結果、温度Tは141℃であった。タッチロール6の第1冷却ロール5に対する線圧は14.7N/cmとした。更に、テンターに導入し、巾方向に160℃で1.3倍延伸した後、巾方向に3%緩和しながら30℃まで冷却し、その後クリップから開放し、クリップ把持部を裁ち落とし、フィルム両端に幅10mm、高さ5μmのナーリング加工を施し、巻き取り張力220N/m、テーパー40%で巻芯に巻き取った。なお、フィルムは、厚さが80μmとなるように、押し出し量及び引き取り速度を調整し、仕上がりのフィルム幅は、1430mm幅になるようにスリットし、巻き取った。巻芯の大きさは、内径152mm、外径165〜180mm、長さ1550mmであった。この巻芯母材として、エポキシ樹脂をガラス繊維、カーボン繊維に含浸させたプリプレグ樹脂を用いた。巻芯表面にはエポキシ導電性樹脂をコーティングし、表面を研磨して、表面粗さRaは0.3μmに仕上げた。なお、巻長は2500mとした。この本発明のフィルム原反試料をセルロースエステルフィルム1とする。   From the position P1 at which the resin extruded from the casting die 4 contacts the first cooling roll 5 to the position P2 at the upstream end in the rotation direction of the first cooling roll 5 in the nip between the first cooling roll 5 and the touch roll 6. 1 The length L along the peripheral surface of the cooling roller 5 was set to 20 mm. Thereafter, the touch roll 6 was separated from the first cooling roll 5, and the temperature T of the melted part immediately before being sandwiched between the first cooling roll 5 and the touch roll 6 was measured. In the present embodiment, the temperature T of the melted part immediately before being sandwiched between the nips of the first cooling roll 5 and the touch roll 6 is 1 mm upstream from the nip upstream end P2, and a thermometer (an independent meter). It was measured by HA-200E manufactured by Co., Ltd. As a result of the measurement in this example, the temperature T was 141 ° C. The linear pressure of the touch roll 6 against the first cooling roll 5 was 14.7 N / cm. Furthermore, after introducing into a tenter and stretching 1.3 times at 160 ° C in the width direction, cooling to 30 ° C while relaxing 3% in the width direction, then releasing from the clip, cutting off the clip gripping part, Was subjected to a knurling process with a width of 10 mm and a height of 5 μm, and wound on a winding core with a winding tension of 220 N / m and a taper of 40%. In addition, the extrusion amount and the take-up speed were adjusted so that the film had a thickness of 80 μm, and the finished film width was slit and wound up so as to have a width of 1430 mm. The winding core had an inner diameter of 152 mm, an outer diameter of 165 to 180 mm, and a length of 1550 mm. A prepreg resin obtained by impregnating glass fibers and carbon fibers with an epoxy resin was used as the core material for the core. The surface of the core was coated with an epoxy conductive resin, the surface was polished, and the surface roughness Ra was finished to 0.3 μm. The winding length was 2500 m. The film original fabric sample of the present invention is referred to as a cellulose ester film 1.

〔セルロースエステルフィルム2〜26の作製〕
セルロースエステルフィルム1の作製において、セルロースエステルの種類、本発明の前記一般式(1)〜(5)で表される化合物、及び本発明の前記一般式(6)で表される化合物を表1のように変更した以外は同様にして、セルロースエステルフィルム2〜26を作製した。なお、使用したセルロースエステルC−1に代わるセルロースエステルの添加量は、セルロースエステルC−1と同じ質量部とし、また、本発明に使用される前記一般式(1)〜(5)で表される化合物;例示化合物I−2に代わる化合物の添加量、及び前記一般式(6)で表される化合物;例示化合物6−31に代わる化合物の添加量は、表1に記載の質量部とした。
[Production of Cellulose Ester Films 2 to 26]
Table 1 shows the types of cellulose ester, the compounds represented by the general formulas (1) to (5) of the present invention, and the compound represented by the general formula (6) of the present invention. Cellulose ester films 2 to 26 were produced in the same manner except that the above was changed. In addition, the addition amount of the cellulose ester instead of the used cellulose ester C-1 is the same mass part as the cellulose ester C-1, and is represented by the general formulas (1) to (5) used in the present invention. The addition amount of the compound in place of Exemplified Compound I-2 and the compound represented by the general formula (6); the addition amount of the compound in place of Exemplified Compound 6-31 was in parts by mass shown in Table 1. .

以下に、実施例1で使用した化合物の詳細を示す。   The details of the compound used in Example 1 are shown below.

C−1:セルロースアセテートプロピオネート(アセチル基置換度1.4、プロピオニル基置換度1.3、分子量Mn=86,000、Mw/Mn=2.5)
C−2:セルロースアセテートプロピオネート(アセチル基置換度1.3、プロピオニル基置換度1.2、分子量Mn=66,000、Mw/Mn=3.0)
C−3:セルロースアセテートプロピオネート(アセチル基置換度1.6、プロピオニル基置換度1.2、分子量Mn=79,000、Mw/Mn=2.9)
C−4:セルロースアセテートプロピオネート(アセチル基置換度2.0、プロピオニル基置換度0.7、分子量Mn=91,000、Mw/Mn=2.4)
C-1: Cellulose acetate propionate (acetyl group substitution degree 1.4, propionyl group substitution degree 1.3, molecular weight Mn = 86,000, Mw / Mn = 2.5)
C-2: Cellulose acetate propionate (acetyl group substitution degree 1.3, propionyl group substitution degree 1.2, molecular weight Mn = 66,000, Mw / Mn = 3.0)
C-3: Cellulose acetate propionate (acetyl group substitution degree 1.6, propionyl group substitution degree 1.2, molecular weight Mn = 79,000, Mw / Mn = 2.9)
C-4: Cellulose acetate propionate (acetyl group substitution degree 2.0, propionyl group substitution degree 0.7, molecular weight Mn = 91,000, Mw / Mn = 2.4)

Figure 2010060981
Figure 2010060981

Figure 2010060981
Figure 2010060981

表1において、添加量はセルロースエステル100質量部に対する質量部を表す。   In Table 1, the addition amount represents parts by mass with respect to 100 parts by mass of the cellulose ester.

試料No.1〜26は、PETBを8.0質量部、IRGAFOS168を0.10質量部、SumilizerGSを0.20質量部、TINUVIN928を1.5質量部、アエロジル 200Vを0.2質量部、及びSEAHOSTAR KE−P100を0.02質量部含有する。   Sample No. 1-26 is 8.0 parts by weight of PETB, 0.10 parts by weight of IRGAFOS168, 0.20 parts by weight of Sumilizer GS, 1.5 parts by weight of TINUVIN928, 0.2 parts by weight of Aerosil 200V, and SEAHOSTAR KE- Contains 0.02 parts by mass of P100.

得られたセルロースエステルフィルム原反試料に対して、下記方法で評価を行った。評価の結果を表2に示す。また、原反試料から一部セルロースエステルフィルムを切り出し、下記方法でリターデーション値とそのばらつき、及びヘイズの評価を行った。   The obtained cellulose ester film original fabric sample was evaluated by the following method. The evaluation results are shown in Table 2. In addition, a part of the cellulose ester film was cut out from the raw fabric sample, and the retardation value, its variation, and haze were evaluated by the following methods.

(馬の背故障、巻芯転写)
巻き取ったセルロースエステルフィルム原反試料をポリエチレンシートで2重に包み、図8(a)、(b)、(c)に示すような保存方法で、25℃、50%の条件下で30日間保存した。その後、箱から取り出し、ポリエチレンシートを開け、フィルム原反試料表面に点灯している蛍光灯の管を反射させて映し、その歪み或いは細かい乱れを観察し、馬の背故障を下記レベルにランク分けした。
(Horse spine failure, core transfer)
The wound cellulose ester film original sample is wrapped twice with a polyethylene sheet and stored for 30 days under conditions of 25 ° C. and 50% by the storage method as shown in FIGS. 8 (a), (b) and (c). saved. Then, it was taken out from the box, the polyethylene sheet was opened, and the fluorescent lamp tube lit on the surface of the film original film sample was reflected and imaged. The distortion or fine disturbance was observed, and the horse back failure was ranked to the following level.

A:蛍光灯が真っすぐに見える
B:蛍光灯が部分的に曲がって見える
C:蛍光灯がまだらに映って見える
また、保存後のフィルム原反試料を巻き返して、50μm以上の点状の変形、または幅手方向の帯状の変形がはっきり見える巻芯転写が、巻芯部分より何mまで発生しているかを測定し、下記レベルにランク分けを行った。
A: Fluorescent lamps appear straight B: Fluorescent lamps appear to be bent partially C: Fluorescent lamps appear to be mottled In addition, the original film sample after storage is rewound to form a spot-like deformation of 50 μm or more, Alternatively, it was measured how many meters of the core transfer, in which the strip-shaped deformation in the width direction was clearly visible, from the core portion, and was ranked according to the following levels.

A:巻芯部分より15m未満
B:巻芯部分より15〜30m未満
C:巻芯部分より30〜50m未満
D:巻芯部分より50m以上
(巻始めシワ)
巻芯に原反フィルムを巻き取る作業を行い、巻始めでシワが発生して不良となった場合は巻芯から原反フィルムを取り外して、再度巻き取る作業を行った。この時の不良回数をカウントした。この作業を10回行平均値を求め、下記レベルにランク分けを行った。
A: Less than 15 m from the core part B: Less than 15 to 30 m from the core part C: Less than 30 to 50 m from the core part D: 50 m or more from the core part (winding wrinkle)
An operation of winding the original film on the core was performed, and when wrinkles occurred at the beginning of the winding and it became defective, the original film was removed from the core and the operation of rewinding was performed. The number of defects at this time was counted. This operation was averaged 10 times and ranked to the following levels.

A:0回以上1回未満
B:1回以上3回未満
C:3回以上5回未満
D:5回以上
(リターデーション値とそのばらつき(CV))
まず切り出したセルロースエステルフィルムの幅手方向の中央位置のリターデーション値を測定し、次に幅手方向に端から端まで1cm間隔でリターデーション値を測定し、下記式より得られたリターデーション値のばらつき(CV)で表した。測定には自動複屈折計KOBURA・21ADH(王子計測器(株)製)を用いて、23℃、55%RHの環境下で、波長が590nmにおいて、試料の幅手方向に1cm間隔で3次元複屈折率測定を行い、測定値を次式に代入して求めた。なお、ばらつき(CV)は小さい方が好ましい。
A: 0 times or more and less than 1 time B: 1 time or more and less than 3 times C: 3 times or more and less than 5 times D: 5 times or more (Retardation value and its variation (CV))
First, the retardation value at the center position in the width direction of the cut cellulose ester film was measured, then the retardation value was measured at intervals of 1 cm from end to end in the width direction, and the retardation value obtained from the following formula: It was expressed by variation (CV). For measurement, an automatic birefringence meter KOBURA 21ADH (manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd.) is used and is three-dimensionally spaced at 1 cm intervals in the width direction of the sample at a wavelength of 590 nm in an environment of 23 ° C. and 55% RH. The birefringence was measured, and the measured value was substituted into the following equation. It is preferable that the variation (CV) is small.

面内リターデーションRo=(nx−ny)×d
厚み方向リターデーションRt=((nx+ny)/2−nz)×d
式中、dはフィルムの厚み(nm)、屈折率nx(フィルムの面内の最大の屈折率、遅相軸方向の屈折率ともいう)、ny(フィルム面内で遅相軸に直角な方向の屈折率)、nz(厚み方向におけるフィルムの屈折率)である。得られた面内及び厚み方向のリターデーション値をそれぞれ(n−1)法による標準偏差を求めた。
In-plane retardation Ro = (nx−ny) × d
Thickness direction retardation Rt = ((nx + ny) / 2−nz) × d
In the formula, d is the thickness (nm) of the film, the refractive index nx (the maximum refractive index in the plane of the film, also referred to as the refractive index in the slow axis direction), ny (the direction perpendicular to the slow axis in the film plane). ) (Refractive index of the film in the thickness direction). The standard deviation by the (n-1) method was calculated | required for the obtained in-plane and thickness direction retardation value, respectively.

リターデーション値の分布は以下で示されるばらつき(CV)を求め、指標とした。実際の測定にあたっては、nとしては130に設定した。   Retardation value distribution was obtained as an index by obtaining the variation (CV) shown below. In actual measurement, n was set to 130.

ばらつき(CV)=標準偏差/リターデーション平均値
A:ばらつきが(CV)が1.5%未満
B:ばらつき(CV)が1.5%以上5%未満
C:ばらつき(CV)が5%以上、10%未満
D:ばらつき(CV)が10%以上
(ヘイズ)
セルロースエステルフィルムをヘイズ計(1001DP型、日本電色工業(株)製)を用いて測定した結果から、試料の厚さが80μmの場合のヘイズの値に比例的に換算し(例、20μmにおいて1%ならば、80μm換算で4%ということ)、下記基準に従って評価を行った。
Variation (CV) = standard deviation / retardation average value A: Variation (CV) is less than 1.5% B: Variation (CV) is 1.5% or more and less than 5% C: Variation (CV) is 5% or more Less than 10% D: Variation (CV) is 10% or more (Haze)
From the result of measuring the cellulose ester film using a haze meter (1001DP type, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.), it was proportionally converted to the haze value when the thickness of the sample was 80 μm (eg, at 20 μm) 1% was 4% in terms of 80 μm), and the evaluation was performed according to the following criteria.

A:ヘイズが0.5%未満
B:ヘイズが0.5〜1.0%未満表
C:ヘイズが1.0〜1.5%未満
D:ヘイズが1.5%以上
A: Haze is less than 0.5% B: Haze is less than 0.5-1.0% Table C: Haze is less than 1.0-1.5% D: Haze is 1.5% or more

Figure 2010060981
Figure 2010060981

表2より、本発明に係る前記一般式(1)〜(5)で表される化合物の少なくとも1種と前記一般式(6)で表される化合物の少なくとも1種の両方を含有するセルロースエステルフィルム原反試料1〜15は、比較例のセルロースエステルフィルム原反試料16〜26に対して、長期間保存しても馬の背故障、巻芯転写が少なく、巻始めシワ等のフィルム原反の変形故障が発生しにくいセルロースエステルフィルムであることが分かる。また、原反から切り出したセルロースエステルフィルム自身も、比較例に対し、リターデーション値のばらつきが小さく、ヘイズ特性で優れていることが分かる。   From Table 2, the cellulose ester containing both at least one of the compounds represented by the general formulas (1) to (5) and at least one of the compounds represented by the general formula (6) according to the present invention. Film original fabric samples 1 to 15 have less horse back failure and core transfer even when stored for a long time than the cellulose ester film original fabric samples 16 to 26 of the comparative example. It turns out that it is a cellulose-ester film which is hard to generate | occur | produce a failure. Moreover, it turns out that the cellulose-ester film itself cut out from the raw fabric also has a small variation in retardation value as compared with the comparative example and is excellent in haze characteristics.

実施例2
光学フィルム上に機能性層を設ける場合の塗工性能について以下の手順で帯電防止層、カール防止層、ハードコート層を塗布した。
Example 2
Regarding the coating performance when a functional layer is provided on an optical film, an antistatic layer, an anti-curl layer, and a hard coat layer were applied by the following procedure.

下記の組成物を調製した。   The following composition was prepared:

(帯電防止層塗布組成物(1))
ポリメチルメタアクリレート(重量平均分子量55万、Tg:90℃)0.5質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 60質量部
メチルエチルケトン 16質量部
乳酸エチル 5質量部
メタノール 8質量部
導電性ポリマー樹脂P−1(0.1〜0.3μm粒子) 0.5質量部
(Antistatic layer coating composition (1))
Polymethyl methacrylate (weight average molecular weight 550,000, Tg: 90 ° C.) 0.5 part by mass Propylene glycol monomethyl ether 60 parts by mass Methyl ethyl ketone 16 parts by mass Ethyl lactate 5 parts by mass Methanol 8 parts by mass Conductive polymer resin P-1 (0 0.5-part by mass

Figure 2010060981
Figure 2010060981

(ハードコート層塗布組成物(2))
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体 60質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート2量体 20質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート3量体以上の成分 20質量部
ジエトキシベンゾフェノン光反応開始剤 6質量部
シリコーン系界面活性剤 1質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 75質量部
メチルエチルケトン 75質量部
(カール防止層塗布組成物(3))
アセトン 35質量部
酢酸エチル 45質量部
イソプロピルアルコール 5質量部
ジアセチルセルロース 0.5質量部
超微粒子シリカ2%アセトン分散液(アエロジル:200V、日本アエロジル(株)製) 0.1質量部
下記に従って、機能層を付与した偏光板保護フィルムを作製した。
(Hardcoat layer coating composition (2))
Dipentaerythritol hexaacrylate monomer 60 parts by weight Dipentaerythritol hexaacrylate dimer 20 parts by weight Dipentaerythritol hexaacrylate trimer or higher component 20 parts by weight Diethoxybenzophenone photoinitiator 6 parts by weight Silicone surface activity Agent 1 part by weight Propylene glycol monomethyl ether 75 parts by weight Methyl ethyl ketone 75 parts by weight (Anti-curl coating composition (3))
Acetone 35 parts by weight Ethyl acetate 45 parts by weight Isopropyl alcohol 5 parts by weight Diacetylcellulose 0.5 part by weight Ultrafine silica 2% acetone dispersion (Aerosil: 200 V, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 0.1 part by weight A polarizing plate protective film provided with a layer was prepared.

(偏光板保護フィルム)
実施例1で作製した本発明のセルロースエステルフィルム原反試料1をポリエチレンシートで2重に包み、図8に示すような保存方法で25℃、50%RHの条件下で30日間、この後、40℃、80%RHの条件下で保存した。その後、それぞれポリエチレンシートを外して、それぞれの原反試料から巻き出したセルロースエステルフィルムの片面に、カール防止層塗布組成物(3)をウェット膜厚13μmとなるようにグラビアコートし、乾燥温度80±5℃にて乾燥させた。これを試料1Aとする。
(Polarizing plate protective film)
The cellulose ester film original fabric sample 1 of the present invention produced in Example 1 was wrapped twice with a polyethylene sheet, and stored for 30 days under conditions of 25 ° C. and 50% RH by the storage method as shown in FIG. It was stored under conditions of 40 ° C. and 80% RH. Then, the polyethylene sheet was removed, and the anti-curl layer coating composition (3) was gravure-coated to a wet film thickness of 13 μm on one side of the cellulose ester film unwound from each original fabric sample, and a drying temperature of 80 Dry at ± 5 ° C. This is designated as Sample 1A.

このセルロースエステルフィルムのもう1方の面に帯電防止層塗布組成物(1)を28℃、82%RHの環境下でウェット膜厚で7μmとなるようにフィルムの搬送速度30m/minで塗布幅1mで塗布し、次いで80±5℃に設定された乾燥部で乾燥して乾燥膜厚で約0.2μmの樹脂層を設け、帯電防止層付きセルロースエステルフィルムを得た。これを試料1Bとする。   On the other side of the cellulose ester film, the antistatic layer coating composition (1) was coated at a film conveyance speed of 30 m / min so that the wet film thickness was 7 μm in an environment of 28 ° C. and 82% RH. It was applied at 1 m, and then dried in a drying section set at 80 ± 5 ° C. to provide a resin layer having a dry film thickness of about 0.2 μm to obtain a cellulose ester film with an antistatic layer. This is designated as Sample 1B.

更に、この帯電防止層の上にハードコート層塗布組成物(2)をウェット膜厚で13μmとなるように塗設し、乾燥温度90℃にて乾燥させた後、紫外線を150mJ/mとなるように照射して、乾燥膜厚で5μmのクリアハードコート層を設けた。これを試料1Cとする。 Further, the hard coat layer coating composition (2) was applied on the antistatic layer so as to have a wet film thickness of 13 μm, dried at a drying temperature of 90 ° C., and then irradiated with ultraviolet rays at 150 mJ / m 2 . The clear hard coat layer having a dry film thickness of 5 μm was provided. This is designated as Sample 1C.

得られた本発明のセルロースエステルフィルム試料1A、試料1B、試料1Cはともにブラッシングを起こすこともなく、乾燥後の亀裂の発生も認められず、塗布性は良好であった。   The obtained cellulose ester film samples 1A, 1B, and 1C of the present invention did not cause brushing, no cracks were observed after drying, and the coating property was good.

セルロースエステルフィルム原反試料1に代えて、本発明のセルロースエステルフィルム原反試料2〜15に変更した以外は同様の方法で塗布を行った。その結果、何れも良好な塗布性が確認された。   It apply | coated by the same method except having replaced with the cellulose-ester film original fabric sample 1 and having changed into the cellulose-ester film original fabric samples 2-15 of this invention. As a result, good applicability was confirmed in all cases.

比較として、比較のセルロースエステルフィルム原反試料16〜26について、それぞれ上記と同様な方法で塗布を行った。   For comparison, each of the comparative cellulose ester film original fabric samples 16 to 26 was coated in the same manner as described above.

カール防止層塗布組成物(3)を塗布したものをそれぞれ試料16A〜26A、更に帯電防止層塗布組成物(1)を塗布したものをそれぞれ試料16B〜26B、更にこの帯電防止層の上にハードコート層塗布組成物(2)を塗布したものをそれぞれ試料16C〜26Cとした。   Samples 16A to 26A coated with the anti-curl layer coating composition (3), and samples 16B to 26B coated with the anti-static layer coating composition (1) were hardened on the respective anti-static layers. Samples coated with the coating layer coating composition (2) were designated as Samples 16C to 26C, respectively.

その結果、高湿度環境で塗布したとき、試料16A〜26Aでブラッシングが起こった。また、試料16B〜26Bでは乾燥後微細な亀裂が認められることがあり、試料16C〜26Cでは乾燥後微細な亀裂が明確に認められた。   As a result, when applied in a high humidity environment, brushing occurred in Samples 16A to 26A. Samples 16B to 26B sometimes had fine cracks after drying, and Samples 16C to 26C clearly had fine cracks after drying.

実施例3
(偏光板の作製と評価)
厚さ120μmのポリビニルアルコールフィルムを沃素1質量部、沃化カリウム2質量部、ホウ酸4質量部を含む水溶液に浸漬し50℃で4倍に延伸し偏光子を作製した。
Example 3
(Production and evaluation of polarizing plate)
A 120 μm-thick polyvinyl alcohol film was immersed in an aqueous solution containing 1 part by mass of iodine, 2 parts by mass of potassium iodide, and 4 parts by mass of boric acid, and stretched 4 times at 50 ° C. to produce a polarizer.

実施例1で作製した本発明のセルロースエステルフィルム原反試料1〜15及び比較のセルロースエステルフィルム原反試料16〜26をポリエチレンシートで2重に包み、図8に示すような保存方法で25℃、50%RHの条件下で30日間、この後、40℃、80%RHの条件下で保存した。その後、それぞれポリエチレンシートを外して、それぞれの原反試料から巻き出したセルロースエステルフィルムを40℃の2.5mol/L水酸化ナトリウム水溶液で60秒間アルカリ処理し、更に水洗乾燥して表面をアルカリ処理した。   The cellulose ester film original fabric samples 1 to 15 of the present invention prepared in Example 1 and the comparative cellulose ester film original fabric samples 16 to 26 are wrapped in a double layer with a polyethylene sheet and stored at 25 ° C. by a storage method as shown in FIG. , Under conditions of 50% RH for 30 days, and then stored under conditions of 40 ° C. and 80% RH. Then, each polyethylene sheet was removed, and the cellulose ester film unwound from each original fabric sample was alkali treated with a 2.5 mol / L sodium hydroxide aqueous solution at 40 ° C. for 60 seconds, and further washed with water and dried to be alkali treated. did.

前記偏光子の一方の面に、本発明のセルロースエステルフィルム1〜15及び比較のセルロースエステルフィルム16〜26のアルカリ処理面を、もう一方の面に、コニカミノルタタックKC8UX(コニカミノルタオプト(株)製)の同様にアルカリ処理した面を、完全鹸化型ポリビニルアルコール5%水溶液を接着剤として貼合し、保護フィルムが形成された本発明の偏光板1〜15、及び比較の偏光板16〜26を作製した。   The alkali-treated surface of the cellulose ester films 1 to 15 of the present invention and the comparative cellulose ester films 16 to 26 are provided on one surface of the polarizer, and Konica Minoltack KC8UX (Konica Minolta Opto Co., Ltd.) is provided on the other surface. The surface treated with alkali in the same manner as described above was bonded with a 5% aqueous solution of fully saponified polyvinyl alcohol as an adhesive, and the polarizing plates 1 to 15 of the present invention having a protective film formed thereon, and the comparative polarizing plates 16 to 26 Was made.

なお、発明のセルロースエステルフィルム1〜15及び比較のセルロースエステルフィルム16〜26の幅手方向と偏光子の透過軸が平行になるように貼り合わせた。   In addition, it bonded together so that the transversal direction of the cellulose-ester films 1-15 of invention and the comparative cellulose-ester films 16-26 and the transmission axis of a polarizer might become parallel.

得られた本発明の偏光板1〜15は比較の偏光板16〜26に対して、平面性が良好で、光学的に優れている保護フィルムで両面が保護されているため、本発明の偏光板は偏光能が高く、光漏れがない優れた偏光性能を有していた。   Since the obtained polarizing plates 1 to 15 of the present invention have good flatness with respect to the comparative polarizing plates 16 to 26 and are protected on both sides by an optically excellent protective film, the polarizing plates of the present invention The plate had high polarization ability and excellent polarization performance with no light leakage.

実施例4
〔液晶表示装置としての特性評価〕
VA型液晶表示装置である、シャープ(株)製42型テレビLC−42RX1Wの偏光板を剥がし、上記で作製した各々の偏光板を液晶セルのサイズに合わせて断裁した。コニカミノルタタックKC8UXの側を外側にして液晶セルを挟むようにして、前記作製した偏光板2枚を偏光板の偏光軸が元と変わらないように互いに直交するように貼り付け、42型VA型カラー液晶ディスプレイを作製し、セルロースエステルフィルムの偏光板としての特性を評価したところ、本発明の偏光板1〜15を用いた液晶表示装置は、比較の偏光板16〜26を用いた液晶表示装置に対して視野角が広く、更にはコントラストも高い優れた表示性を示した。これにより、液晶ディスプレイ等の画像表示装置用の偏光板として優れていることが確認された。
Example 4
[Characteristic evaluation as a liquid crystal display]
The polarizing plate of the 42-inch television LC-42RX1W manufactured by Sharp Corporation, which is a VA type liquid crystal display device, was peeled off, and each of the polarizing plates produced above was cut according to the size of the liquid crystal cell. 42 type VA type color liquid crystal is bonded so that the Konica Minol Tack KC8UX side is outside and the liquid crystal cell is sandwiched, and the two polarizing plates thus prepared are orthogonal to each other so that the polarizing axis of the polarizing plate does not change. When the display was produced and the characteristic as a polarizing plate of a cellulose-ester film was evaluated, the liquid crystal display device using the polarizing plates 1-15 of this invention was compared with the liquid crystal display device using the comparative polarizing plates 16-26. Excellent display performance with a wide viewing angle and high contrast. Thereby, it was confirmed that it is excellent as a polarizing plate for image display apparatuses, such as a liquid crystal display.

本発明に係るセルロースエステルフィルムの製造方法を実施する装置の1つの実施形態を示す概略フローシートである。It is a general | schematic flow sheet which shows one embodiment of the apparatus which enforces the manufacturing method of the cellulose-ester film which concerns on this invention. 図1の製造装置の要部拡大フローシートである。It is a principal part expansion flow sheet of the manufacturing apparatus of FIG. 図3(a)は流延ダイの要部の外観図、図3(b)は流延ダイの要部の断面図である。3A is an external view of the main part of the casting die, and FIG. 3B is a cross-sectional view of the main part of the casting die. 挟圧回転体の第1実施形態の断面図である。It is sectional drawing of 1st Embodiment of a pinching rotary body. 挟圧回転体の第2実施形態の回転軸に垂直な平面での断面図である。It is sectional drawing in the plane perpendicular | vertical to the rotating shaft of 2nd Embodiment of a pinching rotary body. 挟圧回転体の第2実施形態の回転軸を含む平面での断面図である。It is sectional drawing in the plane containing the rotating shaft of 2nd Embodiment of a pinching rotary body. 液晶表示装置の構成図の概略を示す分解斜視図である。It is a disassembled perspective view which shows the outline of the block diagram of a liquid crystal display device. セルロースエステルフィルム原反の保管の状態を示す図である。It is a figure which shows the state of the storage of a cellulose-ester film original fabric.

符号の説明Explanation of symbols

1 押出し機
2 フィルター
3 スタチックミキサー
4 流延ダイ
5 回転支持体(第1冷却ロール)
6 挟圧回転体(タッチロール)
7 回転支持体(第2冷却ロール)
8 回転支持体(第3冷却ロール)
9、11、13、14、15 搬送ロール
10 フィルム
12 延伸機
16 巻取り装置
21a、21b 保護フィルム
22a、22b 位相差フィルム
23a、23b フィルムの遅相軸方向
24a、24b 偏光子の透過軸方向
25a、25b 偏光子
26a、26b 偏光板
27 液晶セル
29 液晶表示装置
31 ダイ本体
32 スリット
41 金属スリーブ
42 弾性ローラ
43 金属製の内筒
44 ゴム
45 冷却水
51 外筒
52 内筒
53 空間
54 冷却液
55a、55b 回転軸
56a、56b 外筒支持フランジ
60 流体軸筒
61a、61b 内筒支持フランジ
62a、62b 中間通路
110 巻芯本体
117 支え板
118 架台
120 セルロースエステルフィルム原反
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Extruder 2 Filter 3 Static mixer 4 Casting die 5 Rotating support body (1st cooling roll)
6 Nipping pressure rotating body (touch roll)
7 Rotating support (second cooling roll)
8 Rotating support (3rd cooling roll)
9, 11, 13, 14, 15 Transport roll 10 Film 12 Stretcher 16 Winding device 21a, 21b Protective film 22a, 22b Phase difference film 23a, 23b Film slow axis direction 24a, 24b Polarizer transmission axis direction 25a , 25b Polarizers 26a, 26b Polarizing plate 27 Liquid crystal cell 29 Liquid crystal display device 31 Die body 32 Slit 41 Metal sleeve 42 Elastic roller 43 Metal inner cylinder 44 Rubber 45 Cooling water 51 Outer cylinder 52 Inner cylinder 53 Space 54 Coolant 55a , 55b Rotating shaft 56a, 56b Outer cylinder support flange 60 Fluid shaft cylinder 61a, 61b Inner cylinder support flange 62a, 62b Intermediate passage 110 Core body 117 Support plate 118 Base 120 Cellulose ester film original fabric

Claims (5)

下記一般式(1)〜(5)で表される化合物から選ばれる少なくとも1種と、下記一般式(6)で表される化合物の少なくとも1種と、セルロースエステルとを含有することを特徴とする光学フィルム。
Figure 2010060981
(式中、R、R及びRはそれぞれ独立して、芳香族環またはヘテロ環を表し、Xは単結合、−NR−、−O−または−S−を表し、Xは単結合、−NR−、−O−または−S−を表し、Xは単結合、−NR−、−O−または−S−を表す。R、R及びRはそれぞれ独立して、水素原子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。)
一般式(2):R21−L−R22
(式中、R21及びR22は、それぞれ独立に芳香族基を表し、Lは、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、−O−、−CO−、またはこれらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基を表す。)
Figure 2010060981
(式中、R31〜R37、R39及びR30はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基及びハロゲン原子から選ばれる基を表し、R31〜R35のうち少なくとも1つは電子供与性基を表す。R38は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数2〜6のアルケニル基、炭素数2〜6のアルキニル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリールオキシ基、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基、炭素数2〜12のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。)
一般式(4):R41−L41−(R42−L42)n−R43
(式中、R41、R43は、それぞれ独立にアリール基、アリールカルボニル基または芳香族ヘテロ環を表し、R42はアリーレン基または芳香族ヘテロ環を表し、L41、L42はそれぞれ独立に単結合または2価の連結基を表す。nは3以上の整数を表し、それぞれR42、Lは同一であってもよいし異なっていてもよい。)
一般式(5):AR−L51−X−L52−AR
(式中、AR、ARはそれぞれ独立にアリール基または芳香族ヘテロ環を表す。L51、L52は、それぞれ独立に−C(=O)O−、または−C(=O)NR50−を表す。R50は水素原子またアルキル基を表す。Xは下記一般式(5−A)または一般式(5−B)を表す。)
Figure 2010060981
(式中、R51、R52、R53、R54、R55、R56、R57及びR58はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アミノ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基及びハロゲン原子から選ばれる基を表す。)
Figure 2010060981
(式中、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17及びR18はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アミノ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基及びハロゲン原子から選ばれる基を表す。)
Figure 2010060981
(式中、R101及びR102は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アシルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルケニル基、ハロゲン原子、アルキニル基、複素環基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、ホスホノ基、アシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホンアミド基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、シロキシ基、アシルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、アミノ基(例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基等)、アニリノ基、イミド基、ウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環チオ基、チオウレイド基、ヒドロキシル基及びメルカプト基から選ばれる基を表し、R103は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アシルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルケニル基、ハロゲン原子、アルキニル基、複素環基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、ホスホノ基、アシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホンアミド基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、シロキシ基、アシルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、アミノ基(例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基等)、アニリノ基、イミド基、ウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環チオ基、チオウレイド基、ヒドロキシル基及びメルカプト基から選ばれる基を表し、mは0〜4の整数を表す。mが2以上の整数を表す時、複数のR103は同一でも異なっていてもよく、また、隣り合うR103が互いに結合して環を形成してもよい。また、R103とR101またはR102のいずれかが互いに結合して環を形成してもよい。)
It contains at least one selected from compounds represented by the following general formulas (1) to (5), at least one compound represented by the following general formula (6), and a cellulose ester. Optical film.
Figure 2010060981
(Wherein R 1 , R 2 and R 3 each independently represents an aromatic ring or a heterocyclic ring, X 1 represents a single bond, —NR 4 —, —O— or —S—, and X 2 Represents a single bond, —NR 5 —, —O— or —S—, X 3 represents a single bond, —NR 6 —, —O— or —S—, wherein R 4 , R 5 and R 6 are each Independently represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group, aryl group or heterocyclic group.
Formula (2): R 21 -L 1 -R 22
(In the formula, R 21 and R 22 each independently represent an aromatic group, and L 1 is selected from the group consisting of an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, —O—, —CO—, or a combination thereof. Represents a divalent linking group.
Figure 2010060981
(In the formula, R 31 to R 37 , R 39 and R 30 each independently represent a group selected from a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an amino group, a hydroxyl group and a halogen atom, and at least of R 31 to R 35 ) One represents an electron-donating group, and R 38 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 6 carbon atoms, or an aryl having 6 to 12 carbon atoms. A group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms, an acylamino group having 2 to 12 carbon atoms, a cyano group, or a halogen atom.
Formula (4): R 41 -L 41 - (R 42 -L 42) n-R 43
(Wherein R 41 and R 43 each independently represents an aryl group, an arylcarbonyl group or an aromatic heterocycle, R 42 represents an arylene group or an aromatic heterocycle, and L 41 and L 42 each independently represent Represents a single bond or a divalent linking group, n represents an integer of 3 or more, and R 42 and L 2 may be the same or different, respectively.
Formula (5): AR 1 -L 51 -X-L 52 -AR 2
(In the formula, AR 1 and AR 2 each independently represent an aryl group or an aromatic heterocycle. L 51 and L 52 each independently represent —C (═O) O— or —C (═O) NR. 50 represents-R 50 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and X represents the following general formula (5-A) or general formula (5-B).
Figure 2010060981
Wherein R 51 , R 52 , R 53 , R 54 , R 55 , R 56 , R 57 and R 58 are each independently selected from a hydrogen atom, an alkyl group, an amino group, an alkoxy group, a hydroxy group and a halogen atom. Represents a group.
Figure 2010060981
(Wherein R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 and R 18 are each independently selected from a hydrogen atom, an alkyl group, an amino group, an alkoxy group, a hydroxy group and a halogen atom) Represents a group.
Figure 2010060981
Wherein R 101 and R 102 are each independently a hydrogen atom, alkyl group, cycloalkyl group, aryl group, acylamino group, alkylthio group, arylthio group, alkenyl group, halogen atom, alkynyl group, heterocyclic group, alkyl Sulfonyl group, arylsulfonyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, phosphono group, acyl group, carbamoyl group, sulfamoyl group, sulfonamido group, cyano group, alkoxy group, aryloxy group, heterocyclic oxy group, siloxy group, acyloxy Group, aminocarbonyloxy group, amino group (for example, amino group, ethylamino group, dimethylamino group, butylamino group, cyclopentylamino group, 2-ethylhexylamino group, dodecylamino group), anilino group, imide group, ureido Group Job aryloxycarbonyl amino group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a heterocyclic thio group, a group selected from the thioureido group, hydroxyl group and mercapto group, R 103 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an acylamino Group, alkylthio group, arylthio group, alkenyl group, halogen atom, alkynyl group, heterocyclic group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, phosphono group, acyl group, carbamoyl group, sulfamoyl group, sulfone Amido group, cyano group, alkoxy group, aryloxy group, heterocyclic oxy group, siloxy group, acyloxy group, aminocarbonyloxy group, amino group (for example, amino group, ethylamino group, dimethylamino group, butylamino group) Group, cyclopentylamino group, 2-ethylhexylamino group, dodecylamino group, etc.), anilino group, imide group, ureido group, alkoxycarbonylamino group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, heterocyclic thio group, thioureido group, hydroxyl group Represents a group selected from a group and a mercapto group, and m represents an integer of 0 to 4. When m represents an integer of 2 or more, a plurality of R 103 may be the same or different, and adjacent R 103 May be bonded to each other to form a ring, or any of R 103 and R 101 or R 102 may be bonded to each other to form a ring.)
前記光学フィルムが、更にフェノール系化合物、リン系化合物、アクリレート系化合物及びベンゾフラノン系化合物からなる群より選ばれる化合物の少なくとも1種を含有することを特徴とする請求項1に記載の光学フィルム。 2. The optical film according to claim 1, wherein the optical film further contains at least one compound selected from the group consisting of a phenolic compound, a phosphorus compound, an acrylate compound, and a benzofuranone compound. 請求項1または2に記載の光学フィルムが、溶融流延法によって製造されることを特徴とする光学フィルムの製造方法。 The optical film according to claim 1 or 2 is manufactured by a melt casting method. 請求項1または2に記載の光学フィルム、または請求項3に記載の光学フィルムの製造方法により得られた光学フィルムを偏光子の少なくとも一方の面に有することを特徴とする偏光板。 A polarizing plate comprising an optical film according to claim 1 or 2 or an optical film obtained by the method for producing an optical film according to claim 3 on at least one surface of a polarizer. 請求項4に記載の偏光板を液晶セルの少なくとも一方の面に用いることを特徴とする液晶表示装置。 A liquid crystal display device comprising the polarizing plate according to claim 4 on at least one surface of a liquid crystal cell.
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