JP2010060212A - 加熱調理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】臭気を吸着した吸着剤の再生に必要なエネルギーおよび時間が低減され、脱臭能力が向上する加熱調理装置を提供する。
【解決手段】調理庫１２を形成する本体１１の内壁には、塗膜層部２８が設けられている。塗膜層部２８は、物理吸着剤としてのゼオライトを含む耐熱性のシリコーン樹脂で形成されている。水との親和性を有するゼオライトは、オーブン調理やグリル調理に比較して低温の例えば６０℃程度で水蒸気を吸着する。そのため、塗膜層部２８のゼオライトに吸着された臭気成分は、水蒸気供給部１５から供給された水蒸気によって置換され、ゼオライトから脱離する。ゼオライトから脱離した臭気成分は、供給された水蒸気の凝縮によって生成した水滴に溶解する。その結果、６０℃程度の比較的低温で臭気成分を吸着したゼオライトは再生される。これにより、臭気を吸着したゼオライトの再生に必要なエネルギーおよび時間が低減される。
【選択図】図１

Description

本発明は、加熱調理装置に関する。

加熱調理装置による調理の際に発生する臭気は、加熱調理時に調理庫を形成する本体の壁面に付着する。この臭気は、使用者に不衛生な印象を与えるとともに、他の調理時に調理庫に収容された調理物に付着するおそれがある。そこで、調理庫を形成する本体の壁面に触媒や吸着剤などを含む塗膜層部を設けることが提案されている（例えば、特許文献１、２参照）。例えば特許文献1の場合、オーブンやグリル調理時のように壁面の温度が高くなると、加熱された触媒によって臭気が分解される。一方、壁面の温度が低いときでも、臭気は吸着剤に吸着される。これらの結果、調理庫内に残留する臭気は低減される。また、特許文献１の場合、オーブン調理やグリル調理の際に調理庫内を加熱することにより、吸着剤に吸着された臭気は、吸着剤から脱離するとともに、触媒によって分解される。その結果、吸着剤による吸着脱臭能力を再生させることができる。
特許第３２３４６８２号明細書 特許第２９３４１２２号明細書

しかしながら加熱調理装置の通常の利用では、オーブン調理やグリル調理の頻度は、マイクロ波を用いたレンジ調理の頻度に比較して低い。そのため、通常の利用では、吸着剤を十分に再生させることが困難であるという問題がある。また、吸着剤を再生するためには、オーブン調理やグリル調理に相当する１５０℃から２００℃程度まで加熱する必要がある。そのため、吸着剤の再生に大きなエネルギーおよび長時間を必要とするという問題がある。

そこで、本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、臭気を吸着した吸着剤の再生に必要なエネルギーおよび時間が低減され、脱臭能力が向上する加熱調理装置を提供することにある。

上記の課題を解決するために、本願の加熱調理装置は、調理庫を形成する本体と、前記調理庫を形成している前記本体の内壁の少なくとも一部に設けられ、水との親和性を有する物理吸着剤を含む耐熱性シリコーン膜からなる塗膜層部と、前記調理庫の温度を検出する温度検出手段と、前記温度検出手段で検出した前記調理庫の温度が予め設定された上限温度以下であるとき、前記塗膜層部へ加熱水蒸気を供給する水蒸気供給手段と、を備えることを特徴とする。

水との親和性を有する物理吸着剤は、オーブン調理やグリル調理に比較して低温の上限温度以下であるときに水蒸気供給手段から供給される水蒸気と結合する。そのため、物理吸着剤に吸着された臭気成分は、水蒸気によって置換され、物理吸着剤から脱離する。そして、物理吸着剤から脱離した臭気成分は、水蒸気の供給によって生成した水滴に溶解する。その結果、比較的低温で臭気成分を吸着した吸着剤は再生される。したがって、臭気を吸着した吸着剤の再生に必要なエネルギーおよび時間を低減することができ、脱臭能力を向上することができる。

以下、本発明の複数の実施形態による加熱調理装置を図面に基づいて説明する。
（第１実施形態）
本発明の第１実施形態による加熱調理装置を図１に示す。加熱調理装置１０は、箱状の本体１１を備えている。本体１１は、内部に調理庫１２を形成している。調理の対象となる食品は、調理庫１２に収容される。加熱調理装置１０は、調理庫１２に収容された食品を加熱調理するための加熱手段としての加熱ヒータ１３を備えている。加熱ヒータ１３は、図２および図３に示すように調理庫１２を形成する本体１１の後壁に設けられている。加熱ヒータ１３は、例えば矩形状あるいは円形状などの任意の枠状に形成されている。この加熱ヒータ１３の内側に循環ファン１４が配置されている。循環ファン１４は、調理庫１２に気流を形成し、調理庫１２の温度を概ね均一に保持する。循環ファン１４が駆動されると、調理庫１２の空気は加熱ヒータ１３の近傍を通過しながら調理庫１２を循環する。これにより、加熱ヒータ１３に通電されているとき、調理庫１２の空気は加熱ヒータ１３によって加熱され、調理庫１２も加熱される。一方、加熱ヒータ１３に通電されていないとき、調理庫１２の空気は加熱ヒータ１３によって加熱されることなく調理庫１２を循環する。加熱ヒータ１３および循環ファン１４は、調理庫１２に加熱した空気すなわち温風を供給する温風供給手段を構成している。

加熱調理装置１０は、水蒸気供給手段としての水蒸気供給部１５を備えている。水蒸気供給部１５は、図２に示すように貯水タンク１６、給水ポンプ１７および加熱部１８などを有している。本実施形態の場合、貯水タンク１６は、本体１１の底壁側に設けられている。加熱部１８は、貯水タンク１６から供給された水を貯える容器状に形成されている。貯水タンク１６と加熱部１８との間は、給水パイプ１９で接続されている。貯水タンク１６は、本体１１から着脱可能に設けられ、加熱部１８に供給される水が貯えられている。給水ポンプ１７は、給水パイプ１９を経由して貯水タンク１６に貯えられている水を加熱部１８へ供給する。給水ポンプ１７によって貯水タンク１６から吸入された水は、給水パイプ１９を経由して加熱部１８へ供給される。加熱部１８は、例えばアルミニウムダイカストなどにより容器状に形成され、ヒータ２１が取り付けられている。これにより、ヒータ２１に通電することにより、加熱部１８に貯えられている水は加熱される。これにより、加熱部１８では、水蒸気が発生する。加熱部１８で発生した水蒸気は、本体１１の左側壁に設けられている水蒸気孔２２を経由して調理庫１２へ供給される。

加熱調理装置１０は、加熱手段として上述した加熱ヒータ１３に加えて例えばマグネトロン２３やグリル用の面状のヒータ２４などを備える構成としてもよい。マグネトロン２３は、調理庫１２を形成する本体１１の外側に設けられ、高周波を発生する。マグネトロン２３で発生した高周波は、図示しない導波管を通して本体１１の底壁側から調理庫１２へ照射される。また、面状のヒータ２４は、調理庫１２を形成する本体１１の天壁側に設けられ、赤外線などの電磁波を発生する。ヒータ２４で発生した電磁波は、例えば本体１１の天壁側から調理庫１２へ照射される。

加熱調理装置１０は、換気部２５を備えている。換気部２５は、図示しない換気用ファン、本体１１に設けられている図示しない吸気口および排気口を有している。換気部２５は、換気用ファンを駆動することにより、調理庫１２に外気を導入するとともに、調理庫１２の空気を外部へ排出する。加熱調理装置１０は、調理庫１２に温度検出手段としての温度センサ２６を備えている。温度センサ２６は、例えばサーミスタなどを有しており、調理庫１２の温度を検出する。調理庫１２は、図１に示すように前方に設けられた蓋２７によって開閉される。

加熱調理装置１０は、本体１１の内壁に塗膜層部２８を備えている。塗膜層部２８は、調理庫１２を形成する本体１１の内壁に設けられている。塗膜層部２８は、本体１１の内壁の全体に設けてもよく、本体１１の内壁の一部に設けてもよい。塗膜層部２８は、水との親和性を有する物理吸着剤を含む耐熱性シリコーン膜で形成されている。具体的には、塗膜層部２８は、物理吸着剤としてゼオライトを含んでいる。ゼオライトは、周知の通りシリカ成分とアルミナ成分とを含み、水との親和性を有している。本実施形態の場合、塗膜層部２８のゼオライトに含まれるシリカおよびアルミナのモル比は、シリカ／アルミナ≦１０に設定されている。塗膜層部２８は、ゼオライトなどの吸着剤に加え、臭気成分を分解するマンガン系の触媒も含んでいる。塗膜層部２８は、例えば３質量％から２０質量％のゼオライト系の吸着剤、およびマンガン系の触媒として５質量％から４０質量％の二酸化マンガンを含んでいる。ゼオライトおよびマンガン系の触媒が上記の混合範囲であれば、耐熱性のシリコーン膜から形成される塗膜層部２８は塗膜としての性能が確保され、剥離などを招くことがない。

次に、図４に基づいて、加熱調理装置１０の電気的な構成について説明する。加熱調理装置１０は、制御部３１を備えている。制御部３１は、ＣＰＵ、ＲＯＭおよびＲＡＭを有するマイクロコンピュータを主体として構成されている。制御部３１は、ＲＯＭに格納された制御プログラムにしたがって加熱調理装置１０の各部を制御する。具体的には、制御部３１は、例えば図１に示すようにキーやスイッチなど本体１１の外側に設けられている操作部３２から選択的に実施される操作入力に基づいて、予め設定された調理メニューに応じて加熱調理装置１０の全体を制御する。制御部３１には、操作部３２のキーやスイッチなどの操作による各種の入力信号、および温度センサ２６からの温度検出信号などが入力される。制御部３１は、操作部３２の操作によって調理庫１２における設定温度が入力される。すなわち、使用者は、操作部３２を操作することにより、調理メニューを入力する。制御部３１は、操作部３２を経由して入力された調理メニューに基づいて、調理温度すなわち調理庫１２の温度を設定温度として設定する。制御部３１の出力側には、加熱ヒータ１３、循環ファン１４、水蒸気供給部１５の給水ポンプ１７およびヒータ２１、マグネトロン２３、面状のヒータ２４、ならびに換気部２５などが接続している。これら加熱ヒータ１３、循環ファン１４、給水ポンプ１７、ヒータ２１、マグネトロン２３、ヒータ２４および換気部２５は、それぞれ図示しない駆動回路を経由して制御部３１によって制御される。また、制御部３１は、照明３３の点灯または消灯を制御する。照明３３は、調理庫１２の内部に光を照射し、加熱調理装置１０が作動中であることを使用者に認識させる。さらに、制御部３１には、本体１１の外側に設けられている表示部３４が接続している。表示部３４は、例えば液晶表示装置などから構成され、制御部３１の制御により調理メニューや調理庫１２内の温度など種々の情報を表示する。

次に、塗膜層部２８による臭気の吸着および脱離について説明する。
例えばマイクロ波を用いたレンジ調理のように調理庫１２の温度が比較的低いとき、図５（Ａ）に示すように調理庫１２の内部の臭気成分の分子４０は塗膜層部２８に含まれるゼオライトに吸着される。ゼオライトは、微細な多孔質構造を有しているため、臭気成分を吸着する。これにより、レンジ調理の際に発生する臭気成分は、塗膜層部２８に含まれるゼオライトによって除去される。一方、塗膜層部２８に含まれるゼオライトによる臭気成分の吸着が進むにつれて、塗膜層部２８による臭気成分の吸着能力すなわち脱臭能力は低下する。そのため、塗膜層部２８に含まれるゼオライトは、臭気成分の脱離すなわち再生を適宜実施する必要がある。

本実施形態の場合、臭気成分を吸着した塗膜層部２８には、水蒸気供給部１５から水蒸気が供給される。ゼオライトは、上述のように水との親和性が高い。すなわち、ゼオライトは、臭気成分に対する吸着能力よりも水の吸着能力の方が高い。そのため、水蒸気供給部１５から塗膜層部２８へ水蒸気を供給すると、図５（Ｂ）に示すようにゼオライトに吸着されている臭気成分の分子４０は水蒸気すなわち水分子４１に置換される。言い換えると、塗膜層部２８へ水蒸気を供給することにより、ゼオライトに水分子４１が吸着され、ゼオライトに吸着されている臭気成分の分子４０はゼオライトから追い出される。そして、ゼオライトから脱離すなわち追い出された臭気成分は、水蒸気の凝縮によって生成した水とともに塗膜層部２８の表面すなわち本体１１の内壁に付着する。これにより、例えば布巾などで本体１１の内壁を拭くことにより、ゼオライトから脱離した臭気成分は水とともに除去される。また、ゼオライトに吸着されている水分子４１は、例えば加熱ヒータ１３を用いたオーブン調理などにより調理庫１２を加熱することにより、ゼオライトから脱離する。これらの結果、塗膜層部２８のゼオライトの再生が実施される。

塗膜層部２８に含まれるゼオライトは、上述のようにモル比がシリカ／アルミナ≦１０であり、アルミナの含有率が高められている。そのため、ゼオライトは水に対する親和性が高められ、臭気成分を吸着した後における水分子との置換性能が向上する。この塗膜層部２８による臭気成分と水分子との置換について図６を用いて説明する。図６では、水蒸気の供給時間と塗膜層部２８に残留する臭気成分の量との関係を示している。この場合、塗膜層部２８を形成したテストピースには、予め一定の臭気成分を吸着させた後、１００℃の水蒸気を供給している。塗膜層部２８に残留する臭気成分の量は、塗膜層部２８が形成されたテストピースを２６０℃に加熱し、塗膜層部２８に吸着された臭気成分を脱離させ、ガスクロマトグラフィーを用いて検量している。また、比較例として、水蒸気を供給することなく、テストピースを単に１００℃で加熱した場合も示している。

図６では、塗膜層部２８に吸着された臭気成分は水蒸気の供給から数分程度の短時間で塗膜層部２８から脱離することが分かる。比較例のように水蒸気を供給することなく塗膜層部２８を単に１００℃で加熱する場合でも、塗膜層部２８に吸着された臭気成分は塗膜層部２８から脱離する。しかし、水蒸気を供給することにより、臭気成分の脱離はより迅速に生じる。これにより、塗膜層部２８のゼオライトに吸着された臭気成分は、水蒸気で置換されることにより塗膜層部２８から迅速に脱離することが分かる。

次に、上記の構成による加熱調理装置１０による塗膜層部２８の再生手順について図７に基づいて説明する。図７では、使用者が任意の時期に臭気を除去する場合について説明する。使用者は、例えば魚など臭いの強い食品を調理した後、臭いに敏感な調理をしたい場合、あるいは調理庫１２の内部の臭いが気になるときなど、任意の時期に操作部３２から「水蒸気消臭コース」を選択し、塗膜層部２８の再生を実施する。

まず、使用者は、蓋２７を開けて調理庫１２の内部に食品が収容されていないかを確認する（Ｓ１０１）。そして、使用者は、調理庫１２の内部に食品が収容されていないことを確認すると、操作部３２から「水蒸気消臭コース」を入力する（Ｓ１０２）。制御部３１は、操作部３２から入力があると、調理庫１２に設けられている照明３３を点灯させる（Ｓ１０３）。照明３３の点灯を確認することにより、使用者は加熱調理装置１０が正常に動作していること認識することができる。

制御部３１は、照明３３を点灯させた後、温度センサ２６から調理庫１２の温度を取得し、調理庫１２の温度が６０℃以下であるか否かを判断する（Ｓ１０４）。調理庫１２の内部の温度が高い場合、水蒸気供給部１５から調理庫１２へ供給された水蒸気は凝縮しにくい。上述のように塗膜層部２８のゼオライトに吸着された臭気成分は、ゼオライトから脱離した後、塗膜層部２８の表面に凝縮した水に溶解する。そのため、調理庫１２の内部は、水蒸気が凝縮し結露する程度の温度であることが望ましい。すなわち、調理庫１２の内部の温度が低いほど、ゼオライトにおける臭気成分の分子４０と水分子４１との置換、および脱離した臭気成分の水への溶解が促進される。そこで、制御部３１は、調理庫１２の温度が上限温度である６０℃以下であるか否かを判断する。制御部３１は、ステップＳ１０４において調理庫１２の温度が６０℃より高いと判断すると、使用者に調理庫１２の温度が６０℃以下になるまで待機を促す（Ｓ１０５）。制御部３１は、例えば表示部３４などに待機を促す表示を行う。

制御部３１は、ステップＳ１０４において調理庫１２の温度が６０℃以下であると判断すると、水蒸気供給部１５へ通電する（Ｓ１０６）。水蒸気供給部１５では、給水ポンプ１７が貯水タンク１６から加熱部１８へ水を供給する。給水ポンプ１７により貯水タンク１６から加熱部１８へ供給された水は、加熱部１８においてヒータ２１で１００℃以上に加熱される。これにより、加熱部１８で水蒸気が発生し、発生した水蒸気は調理庫１２の内部へ供給される。調理庫１２の内部へ供給された水蒸気は、調理庫１２を形成する本体１１の内壁に設けられた塗膜層部２８においてゼオライトを再生する。

制御部３１は、水蒸気供給部１５への通電から所定時間が経過すると、水蒸気供給部１５への通電を停止するとともに、終了を報知する（Ｓ１０７）。制御部３１は、例えば表示部３４に終了を示す表示、あるいは図示しないブザーの鳴動などにより水蒸気の供給が終了したことを報知する。使用者は、ステップＳ１０７において終了が報知されると、蓋２７を開放し、例えば布巾や雑巾などで調理庫１２の水滴を拭き取る（Ｓ１０８）。水蒸気の供給が終了したとき、調理庫１２を形成する本体１１の内壁すなわち塗膜層部２８の表面には臭気物質が溶解した水滴が付着している。そのため、調理庫１２の水滴を拭き取ることにより、再生によってゼオライトから脱離した臭気成分は、結露した水滴とともに除去される。

ここで、調理庫１２の温度と水蒸気の凝縮量および臭気成分の脱離割合との関係について図８を用いて説明する。図８は、調理庫１２の内壁すなわち塗膜層部２８の温度と水蒸気の凝縮量（ｍｇ／ｃｍ^２）および臭気成分の脱離割合（％）との関係を示している。水蒸気の凝縮量とは、調理庫１２の内壁に結露した水滴の量を意味する。また、脱離割合とは、臭気成分を吸着した塗膜層部２８の再生の前における吸着量と再生の後における吸着量との比である。具体的には、魚の臭気成分として代表的な１０ｐｐｍのトリメチルアミンを含む１０リットルの空気を封入した容器に塗膜層部２８を形成したテストピースを１時間入れる。そして、このテストピースを２５０℃で加熱したときに放出されたトリメチルアミンを、吸着総量すなわち塗膜層部２８の再生前の吸着量Ａ０として設定した。上記と同一の条件でトリメチルアミンを吸着させたテストピースをそれぞれ設定した所定の温度まで加熱した後、各テストピースに水蒸気を１分間供給した。これにより、塗膜層部２８に吸着されたトリメチルアミンは一部が水滴とともに表面に付着し、残部が塗膜層部２８に残留する。各温度まで加熱して水蒸気を供給した後のテストピースは、いずれも２５０℃まで加熱して、放出されたトリメチルアミンの量を検出した。この放出されたトリメチルアミンの量Ａと上述の再生前の吸着量Ａ０から脱離割合を算出した。したがって、塗膜層部２８におけるトリメチルアミンの残留量Ａが上記の吸着量Ａ０と同一のＡ＝Ａ０であるとき脱離割合は０％となり、塗膜層部２８におけるトリメチルアミンの残留量Ａが０のＡ＝０のとき脱離割合は１００％となる。

図８に示すように、調理庫１２の温度が低いほど塗膜層部２８の表面に結露する水滴の量は増加する。これに対し、０℃から６０℃程度では調理庫１２の温度の上昇にともなってゼオライトにおける臭気成分（トリメチルアミン）の分子と水分子との置換が促進されるため、脱離割合は上昇する。しかし、調理庫１２の温度が６０℃を超えると、塗膜層部２８の表面への水滴付着量が減少するため、ゼオライトにおける臭気成分の分子と水分子との置換が低下し、水蒸気の供給による塗膜層部２８の再生効率は悪化する。したがって、水蒸気を用いて塗膜層部２８を再生する場合、調理庫１２の温度を３０℃から６０℃程度に維持することが望ましい。

一方、１００℃以上のように調理庫１２の温度がさらに上昇すると、塗膜層部２８に水滴がほとんど付着しないため、水蒸気の供給による臭気成分の置換効果は低下するものの、物理的な臭気成分の脱離が促進される。しかし、調理庫１２の温度を高めると、調理庫１２の加熱に多大なエネルギーを必要とするとともに、塗膜層部２８の再生を実施した後の調理庫１２の温度が高く次の調理への移行が困難になる。

以上説明したように、本発明の第１実施形態では、以下のような効果を奏する。
水との親和性を有するゼオライトは、オーブン調理やグリル調理に比較して低温の上限温度以下（例えば６０℃以下）であるときに水蒸気供給部１５から供給される水蒸気を吸着しやすい。そのため、塗膜層部２８のゼオライトに吸着された臭気成分は、供給された水蒸気によって置換され、ゼオライトから脱離する。そして、ゼオライトから脱離した臭気成分は、供給された水蒸気の凝縮によって生成した水滴に溶解する。その結果、６０℃程度の比較的低温で臭気成分を吸着したゼオライトは再生される。したがって、臭気を吸着したゼオライトの再生に必要なエネルギーおよび時間を低減することができ、脱臭能力を向上することができる。

ゼオライトに含まれるシリカおよびアルミナの割合をモル比でシリカ／アルミナ≦１０に設定したことにより、ゼオライトは水との親和性が向上する。そのため、ゼオライトに吸着された臭気成分の分子は、供給された水蒸気によって置換される。したがって、より少ないエネルギーで塗膜層部２８に含まれるゼオライトを再生することができる。

（第２実施形態）
本発明の第２実施形態による加熱調理装置について説明する。
第２実施形態の場合、加熱調理装置１０の構成は第１実施形態と同一であり、塗膜層部２８の再生の処理手順が第１実施形態と異なる。したがって、第２実施形態では、図９に基づいて塗膜層部２８の再生手順について説明する。また、第１実施形態と同一の処理については詳細な説明を省略する。
まず、使用者は、蓋２７を開けて調理庫１２の内部に食品が収容されていないかを確認する（Ｓ２０１）。そして、調理庫１２の内部に食品が収容されていないことを確認すると、操作部３２から「水蒸気消臭コース」を入力する（Ｓ２０２）。制御部３１は、操作部３２から入力があると、調理庫１２に設けられている照明３３を点灯させる（Ｓ２０３）。制御部３１は、照明３３を点灯させた後、温度センサ２６から調理庫１２の温度を取得し、調理庫１２の温度が６０℃以下であるか否かを判断する（Ｓ２０４）。制御部３１は、ステップＳ２０４において調理庫１２の温度が６０℃より高いと判断すると、使用者に調理庫１２の温度が６０℃以下になるまで待機を促す（Ｓ２０５）。一方、制御部３１は、ステップＳ２０４において調理庫１２の温度が６０℃以下であると判断すると、水蒸気供給部１５へ通電する（Ｓ２０６）。

制御部３１は、水蒸気供給部１５へ通電することにより、調理庫１２へ水蒸気を供給する。そして、制御部３１は、水蒸気供給部１５へ通電から所定時間が経過すると、調理庫１２の内壁すなわち塗膜層部２８の表面に付着した水滴を乾燥させる（Ｓ２０７）。このとき、制御部３１は、オーブン調理に利用する加熱ヒータ１３に通電するとともに、循環ファン１４および換気部２５を駆動する。これにより、調理庫１２の内部の温度は上昇し、調理庫１２の内壁に付着している臭気成分を含む水滴は乾燥される。循環ファン１４を用いることにより、加熱ヒータ１３で加熱された空気は温風となって調理庫１２へ供給される。そして、換気部２５を駆動することにより、調理庫１２へ供給された温風によって気化した水蒸気および臭気成分は調理庫１２の外部へ排出される。そのため、調理庫１２の内部は、布巾などにより拭き取りをすることなく乾燥される。制御部３１は、調理庫１２の乾燥が終了すると、加熱ヒータ１３、循環ファン１４および換気部２５への通電を停止するとともに、終了を報知する（Ｓ２０８）。

第２実施形態では、上記の第１実施形態の効果に加え以下のような効果を奏する。
水蒸気供給部１５から調理庫１２の塗膜層部２８へ加熱した水蒸気を供給した後、調理庫１２には加熱ヒータ１３および循環ファン１４から温風が供給される。そのため、水蒸気の供給によって調理庫１２の内壁に結露した水滴は、引き続いて供給される温風によって乾燥される。これにより、水滴に溶解した臭気成分は、水滴とともに気化する。このとき、換気部２５も駆動されるため、気化した臭気成分は水滴の気化によって生じた水蒸気とともに調理庫１２の外部へ排出される。その結果、水蒸気の供給によってゼオライトから置換された臭気成分は、気化した水蒸気とともに外部へ排出される。したがって、調理庫１２の内壁の拭き取りなどが不要となり、取り扱いをより容易にすることができる。

また、第２実施形態のように水蒸気の供給後に調理庫１２を加熱する場合でも、触媒によって臭気成分を分解するほどの高温は不要である。すなわち、調理庫１２の内部は、臭気成分が溶解した水滴を水蒸気へ気化させる程度に加熱すれば足りる。したがって、オーブン調理機能を利用して例えば調理庫１２の内部の温度を２００℃以上の高温に加熱する場合と比較して、より少ないエネルギーで調理庫１２の内部を乾燥および臭気成分を除去することができる。また、水滴が結露する場合でも、調理庫１２の内部は短時間で乾燥される。したがって、塗膜層部２８や本体１１各部の腐食を低減することができる。

（その他の実施形態）
以上説明した複数の実施形態では、物理吸着剤としてゼオライトを例に説明した。しかし、物理吸着剤は、耐熱性および水との親和性を有しており、粉末状で塗膜層部２８に分散可能な吸着剤であれば、例えばシリカ粉末、アルミナ粉末、触媒能を併せ持つ二酸化マンガンなどの金属酸化物、あるいは活性炭などゼオライトに限らず適用することができる。
また、第２実施形態では、加熱調理装置１０が備える加熱ヒータ１３および循環ファン１４を利用して調理庫１２へ温風を供給する例について説明した。しかし、調理庫１２の内部を乾燥させるためのヒータなどを別途設けてもよい。

本発明の第１実施形態による加熱調理装置の蓋を開放した状態を示す概略斜視図 本発明の第１実施形態による加熱調理装置の構成を説明するために蓋側から本体を見た模式図 図２のIII−III線で切断した断面を示す模式図 本発明の第１実施形態による加熱調理装置の電気的な構成を示すブロック図 本発明の第１実施形態による加熱調理装置の塗膜層部を示す模式図であって、（Ａ）は臭気成分の分子の吸着を示す図であり、（Ｂ）は水分子の吸着によって追い出される臭気成分の分子を示す図 水蒸気の供給時間と塗膜層部に残留する臭気成分の量との関係を示す概略図 本発明の第１実施形態による加熱調理装置において塗膜層部の再生の手順を示す概略図 調理庫の内壁の温度と水蒸気の凝縮量および臭気成分の脱離割合との関係を示す概略図 本発明の第２実施形態による加熱調理装置において塗膜層部の再生の手順を示す概略図

符号の説明

図面中、１０は加熱調理装置、１１は本体、１２は調理庫、１３は加熱ヒータ（温風供給手段）、１４は循環ファン（温風供給手段）、１５は水蒸気供給部（水蒸気供給手段）、２６は温度センサ（温度検出手段）、２８は塗膜層部を示す。

Claims (3)

1. 調理庫を形成する本体と、
   前記調理庫を形成している前記本体の内壁の少なくとも一部に設けられ、水との親和性を有する物理吸着剤を含む耐熱性シリコーン膜からなる塗膜層部と、
   前記調理庫の温度を検出する温度検出手段と、
   前記温度検出手段で検出した前記調理庫の温度が予め設定された上限温度以下であるとき、前記塗膜層部へ加熱水蒸気を供給する水蒸気供給手段と、
   を備えることを特徴とする加熱調理装置。
2. 前記物理吸着剤は、ゼオライトであって、
   前記ゼオライトに含まれるシリカおよびアルミナのモル比がシリカ／アルミナ≦１０であることを特徴とする請求項１記載の加熱調理装置。
3. 前記水蒸気供給手段によって前記塗膜層部へ前記加熱水蒸気を供給した後、前記調理庫へ加熱した温風を供給する温風供給手段をさらに備えることを特徴とする請求項１または２記載の加熱調理装置。

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