JP2010058330A - Method for forming image pattern and image pattern and semiconductor device, electric circuit, display module, color filter, and light emitting element - Google Patents
Method for forming image pattern and image pattern and semiconductor device, electric circuit, display module, color filter, and light emitting element Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010058330A JP2010058330A JP2008224954A JP2008224954A JP2010058330A JP 2010058330 A JP2010058330 A JP 2010058330A JP 2008224954 A JP2008224954 A JP 2008224954A JP 2008224954 A JP2008224954 A JP 2008224954A JP 2010058330 A JP2010058330 A JP 2010058330A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ink
- image pattern
- printing plate
- forming method
- pattern forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Printing Methods (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
【課題】パターンの粗密や押圧条件、塗布インキの溶液特性によらず、高精細かつ平坦性に優れた画像パターンを形成することが可能な画像パターン形成方法を提供する。
【解決手段】画像パターン形成方法は、転写ブランケット1の主表面1aにインキ材料を塗布するインキ塗布工程と、前記インキ塗布工程を経た前記主表面1aを、インキ親液部5とインキ撥液部4とが所望のパターンで互いに区分された印刷版3に密着させることによって、前記主表面1aに塗布された前記インキ材料のうち前記インキ親液部5に対応する領域に塗布されていたものを前記印刷版3に転写させる部分的インキ除去工程と、前記部分的インキ除去工程を経た前記主表面1aを被印刷基材に密着させることによって、前記主表面1a上に残存している前記インキ材料を前記被印刷基材の表面に転写するインキ転写工程とを含む。
【選択図】図5An image pattern forming method capable of forming an image pattern with high definition and excellent flatness irrespective of pattern density, pressing conditions, and solution characteristics of coating ink.
An image pattern forming method includes an ink application process for applying an ink material to a main surface 1a of a transfer blanket 1, and an ink lyophilic part 5 and an ink lyophobic part that are obtained by passing the ink application process. 4 and the ink material applied to the main surface 1a by being in close contact with the printing plate 3 separated from each other in a desired pattern, the one applied to the region corresponding to the ink lyophilic portion 5 The ink material remaining on the main surface 1a by bringing the main surface 1a after the partial ink removing step to be transferred to the printing plate 3 and the partial ink removing step into close contact with the substrate to be printed An ink transfer step of transferring the ink to the surface of the substrate to be printed.
[Selection] Figure 5
Description
本発明は、画像パターン形成方法および画像パターン並びに半導体デバイス、電気回路、表示体モジュール、カラーフィルタおよび発光素子に関するものである。 The present invention relates to an image pattern forming method, an image pattern, a semiconductor device, an electric circuit, a display module, a color filter, and a light emitting element.
本発明は、レジスト剤や導電性ペースト材料などといった機能性樹脂材料、あるいは液晶用カラーフィルタ材料などを、印刷法を用いて所望のパターンに形成する際、従来のフォトリソグラフィ品質に近い高精細かつ樹脂表面の平坦性に優れた高品質画像を得るための画像パターン形成方法に関するものである。さらにその画像パターン形成方法により形成された画像パターン、半導体デバイス、電気回路、表示体モジュール、カラーフィルタ、発光素子に関するものである。 In the present invention, when a functional resin material such as a resist agent or a conductive paste material, or a color filter material for liquid crystal is formed into a desired pattern by using a printing method, it has a high definition close to the conventional photolithography quality. The present invention relates to an image pattern forming method for obtaining a high quality image excellent in the flatness of a resin surface. Further, the present invention relates to an image pattern, a semiconductor device, an electric circuit, a display module, a color filter, and a light emitting element formed by the image pattern forming method.
近年の平版オフセット印刷では、印刷版の非画線部をインキに対して撥液性を有する材料、すなわちシリコーンゴムやフッ素化合物などで形成することにより、いわゆる「湿し水」を使用せずにインキを画線部のみに選択的に付着させる水なし平版を用いた平版水なしオフセット印刷が主流となっている。一般的に平版オフセット印刷機は、多くの練りローラーと印刷版面にインキを塗布する付けローラーとを装備しており、インキはローラー間で練り合わせることにより均一に広げられ、付けローラーを介して印刷版面に塗布され、さらに印刷版からブランケット、ブランケットから被印刷基材へと転写されることにより所望の画像パターンが形成される。このとき、インキは両側に引き裂かれて凝集破壊することにより転写しているため、インキ間に糸引き現象が生じる場合がある。そのため、転写後の画像パターンに膜厚ムラや体積ムラが発生し、結果的に画像パターンの解像度や平坦性の劣化の原因となっていた。 In recent lithographic offset printing, the non-image area of the printing plate is formed of a material having liquid repellency with respect to ink, that is, silicone rubber, fluorine compound, etc., without using so-called “fountain solution”. Planographic waterless offset printing using a waterless lithographic plate that selectively deposits ink only on the image area is the mainstream. In general, a lithographic offset printing machine is equipped with many kneading rollers and an attaching roller that applies ink to the printing plate surface, and the ink is spread evenly by kneading between the rollers, and printing is performed via the attaching roller. A desired image pattern is formed by being applied to the plate surface and further transferred from the printing plate to the blanket and from the blanket to the substrate to be printed. At this time, since the ink is transferred by tearing to both sides and causing cohesive failure, a stringing phenomenon may occur between the inks. Therefore, film thickness unevenness and volume unevenness occur in the transferred image pattern, resulting in deterioration of resolution and flatness of the image pattern.
このような糸引き現象による解像度や平坦性の劣化を解決する方法として、特許第3689536号公報(特許文献1)では、インキ層が塗布形成されたシリコーン樹脂性ブランケットを、所定形状に凸部が形成された凸版印刷版上に転動/接触させることにより、前記凸部に対応する部分のインキのみを全量転写除去し、その後、ブランケット上に残ったインキを被印刷基材に転写することによって、前記糸引き現象を解消する画像パターン形成方法が開示されている。しかしながら、前記特許文献1に記載の画像パターン形成方法では、非画線部/画線部をブランケットと凸版印刷版との接触/非接触によりパターニングしているため、転写時の押圧によるブランケット歪みや凸版印刷版上のパターン粗密の程度によって該ブランケットと該凸版印刷版との誤接触が生じてしまった場合、正確な画像パターンを形成できなくなるおそれがある。この問題を解消するための画像パターン形成方法として、インキに対する親液性/撥液性を利用して非画線部/画線部パターンを形成し、画線部インキのみを分断/転写する画像パターン形成方法が特許文献1および特公平7−80342号公報(特許文献2)に開示されている。
As a method for solving such degradation of resolution and flatness due to the stringing phenomenon, Japanese Patent No. 3689536 (Patent Document 1) discloses a method in which a silicone resin blanket with an ink layer applied thereon is formed with a convex portion in a predetermined shape. By rolling / contacting on the formed relief printing plate, the entire amount of ink corresponding to the projection is transferred and removed, and then the ink remaining on the blanket is transferred to the printing substrate. An image pattern forming method for eliminating the yarn drawing phenomenon is disclosed. However, in the image pattern forming method described in
さらに、関連する技術が特開2004−249696号公報(特許文献3)に開示されている。
特許文献1に開示されている画像パターン形成方法について、図9〜図11を参照して以下に詳細に説明する。
The image pattern forming method disclosed in
まず、図9に示すように、親液性/撥液性パターンが形成された印刷版100上に、キャップコーター、ダイコーター、またはドクターブレードなどを用いてインキ層101を形成する。続いて、表面にインキ撥液性を付与した画像転写シート104をインキ層101を介して印刷版100に対して密着させ、押圧する。
First, as shown in FIG. 9, an
その後、印刷版100と画像転写シート104とを引き離すことにより、図10に示すように、インキ親液部102上においてはインキが印刷版100側に残り、インキ撥液部103上にあったインキ101b1,101c1のみが画像転写シート104上に転写される。その後さらに、画像転写シート104を被印刷基材105に密着させ、押圧する。その後、図11に示すように、画像転写シート104と被印刷基材105とを引き離すことにより、画像転写シート104上にあったインキ101b1,101c1が被印刷基材105上に転写される。このようにして、被印刷基材105上に所望の画像パターンが形成される。
Thereafter, by separating the
しかしながら、印刷版100上にインキ層101を形成する際、印刷版100の表面は均質ではなく、印刷版100の表面にはインキ親液部102とインキ撥液部103とが形成されている。そのため、塗布インキの溶液特性によっては、図9に示すようにインキ親液部102にインキが多く偏在してインキ撥液部103上のインキが少なくなり、その結果、インキ層101にインキ厚膜部101aとインキ薄膜部101b,101cとが形成されてしまう。このインキ厚膜部101aとインキ薄膜部101b,101cとの各膜厚は、印刷版100上の画像パターンの粗密により変化し、周辺のインキ親液部が大きいほどインキの偏在が激しく、インキ薄膜部のインキ膜厚がより薄くなってしまう。図9に示した例では、インキ薄膜部101cでの膜厚はインキ薄膜部101bでの膜厚よりも薄くなっている。図10、図11におけるインキ101b1,101c1はそれぞれインキ薄膜部101b,101cから転写されるインキである。
However, when the
このように画像パターンの粗密によってインキの膜厚がばらついてしまうことによって、最終的に被印刷基材105上に形成される画像パターンの膜厚均一性が低下し、平坦性が低下するおそれがある。さらには、インキ溶液特性が極端な場合、特にインキの表面張力が非常に高く、親液/撥液のコントラストが非常に高い場合、具体的にはインキ親液部102に対する接触角が15°以下、かつインキ撥液部103に対する接触角が40°以上という特性を満たす場合には、インキ親液部102へのインキ凝集が激しくなるためにインキ撥液部103にインキが塗布できず、印刷版100上に全域にわたるインキ層101を形成することができないという事態になる。このような事態に陥ると画像パターンを形成することができない。
In this way, the thickness of the ink pattern varies due to the density of the image pattern, so that the uniformity of the film thickness of the image pattern finally formed on the
これに対し、特許文献2に開示されている画像パターン形成方法では、まず最初に、親液性/撥液性パターンが形成された印刷媒体(印刷版)ではなく、図12に示すように、不要インキ除去体200を用意し、その表面にインキ層201を形成する。続いて、インキ親液部(インキ受容体部)203およびインキ撥液部204が形成された印刷媒体(印刷版)202をインキ層201を介して前記不要インキ除去体200に密着させて押圧し、その後で印刷媒体(印刷版)202と不要インキ除去体200とを引き離すことにより、図13に示すように、インキ親液部203部分にのみインキ層が転写される。さらに、この印刷媒体(印刷版)202を被印刷基材205に密着させて押圧し、その後で印刷媒体(印刷版)202と被印刷基材205とを引き離すことにより、図14に示すようにインキ親液部203部分のインキが被印刷基材205に転写され、所望の画像パターンが形成される。
On the other hand, in the image pattern forming method disclosed in
ここで、特許文献2に開示されている画像パターン形成方法では、不要インキ除去体200の表面は一様な材質からなる面であるので、不要インキ除去体200の表面においては、塗布インキの溶液特性によらず、均一なインキ層201を形成することが可能となる。しかしながら、ガラス基板やプリント基板のような非可撓性の被印刷基材表面への画像パターンの追従を考慮した場合、印刷媒体(印刷版)202はゴムや樹脂などの可撓性材料によって構成されている必要があるため、印刷媒体(印刷版)202上に形成できる親液性/撥液性パターンのパターン精度は、従来のオフセット印刷版材料であるAl基板やガラス基板などのような非可撓性材料上でのパターン精度に比べて、解像度、平坦性ともに大きく低下してしまう。
Here, in the image pattern forming method disclosed in
また、特許文献2に開示されている画像パターン形成方法では、インキ転写の際、インキ層を挟んで、印刷媒体(印刷版)202と不要インキ除去体200とが、あるいは、印刷媒体(印刷版)202と被印刷基材205とが、図15(a)に示すように密着する状態となるが、このとき、ゴムや樹脂などの可撓性材料からなる印刷媒体(印刷版)の場合、インキ転写時の押圧圧力により図15(b)に示すように印刷媒体(印刷版)202が伸びてしまう。したがって、この印刷媒体202上に形成された画像パターンも同様に伸びてしまう。すなわち、図15(b)に示すように長さLから長さL′に変化してしまう。印刷媒体202を不要インキ除去体200から離すと、図15(c)に示すようにインキが付着している部分は長さLに戻るが、被印刷基材205に押し当てた際には、図15(d)に示すように印刷媒体202のインキが付着している部分は長さL′に伸びる。その結果、図15(e)に示すように被印刷基材205上に長さL′の画像パターンとして印刷されてしまう。これは、画像パターンの解像度が低下することを意味する。
Further, in the image pattern forming method disclosed in
さらに、特許文献2に開示されている画像パターン形成方法では、最終的に印刷媒体(印刷版)上に形成されたインキ親液部(インキ受容体)に残ったインキ層を被印刷基材に転写する必要があるため、被印刷基材表面は前記インキ親液部に比べてさらにインキ親液性を有する材料で構成されていなければならず、被印刷基材の材料がきわめて限定されてしまう、あるいは被印刷基材の表面に表面粗面化などの処理を行なってインキ親液性を予め向上させておく必要が生じるなどの問題がある。さらにまた、インキ親液部からよりインキ親液性の高い被印刷基材への転写であるため、インキの全量転写が困難であり、インキの凝集破壊による糸引き現象が発生するおそれがある。そのため、高精細かつ平坦性に優れた画像を形成することができないという問題をも有する。
Furthermore, in the image pattern forming method disclosed in
本発明は上述の諸問題点に鑑みてなされたものであり、パターンの粗密や押圧条件、塗布インキの溶液特性によらず、高精細かつ平坦性に優れた画像パターンを形成することが可能な画像パターン形成方法、およびその方法より製造された画像パターンを提供することを目的とする。さらに、前記画像パターン形成方法により製造された半導体デバイス、電気回路、表示体モジュール、カラーフィルタ、発光素子を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-described problems, and it is possible to form an image pattern with high definition and excellent flatness regardless of the density of the pattern, the pressing conditions, and the solution characteristics of the coating ink. An object is to provide an image pattern forming method and an image pattern produced by the method. Furthermore, it aims at providing the semiconductor device manufactured by the said image pattern formation method, an electric circuit, a display body module, a color filter, and a light emitting element.
上記目的を達成するため、本発明に基づく画像パターン形成方法は、転写ブランケットの主表面にインキ材料を塗布するインキ塗布工程と、前記インキ塗布工程を経た前記主表面を、インキ親液部とインキ撥液部とが所望のパターンで互いに区分された印刷版に密着させることによって、前記主表面に塗布された前記インキ材料のうち前記インキ親液部に対応する領域に塗布されていたものを前記印刷版に転写させる部分的インキ除去工程と、前記部分的インキ除去工程を経た前記主表面を被印刷基材に密着させることによって、前記主表面上に残存している前記インキ材料を前記被印刷基材の表面に転写するインキ転写工程とを含む。 In order to achieve the above object, an image pattern forming method according to the present invention includes an ink application step of applying an ink material to the main surface of a transfer blanket, and the main surface that has undergone the ink application step. A liquid repellent part and the ink material applied to the main surface of the ink material applied to the region corresponding to the ink lyophilic part by adhering to a printing plate partitioned from each other in a desired pattern. A partial ink removing step to be transferred to a printing plate, and the main surface that has undergone the partial ink removing step are brought into close contact with a substrate to be printed, thereby allowing the ink material remaining on the main surface to be printed. And an ink transfer process for transferring to the surface of the substrate.
本発明によれば、パターンの粗密や押圧条件、塗布インキの溶液特性によらず、均一なインキ層を形成/転写することができるため、高精細かつ平坦性に優れた画像パターンを形成することができる。 According to the present invention, a uniform ink layer can be formed / transferred regardless of the density of the pattern, pressing conditions, and the solution characteristics of the applied ink, so that an image pattern with high definition and excellent flatness can be formed. Can do.
(実施の形態1)
(構成)
本発明に基づく実施の形態1における画像パターン形成方法について説明する。画像パターン形成方法は、転写ブランケットの主表面にインキ材料を塗布するインキ塗布工程と、前記インキ塗布工程を経た前記主表面を、インキ親液部とインキ撥液部とが所望のパターンで互いに区分された印刷版に密着させることによって、前記主表面に塗布された前記インキ材料のうち前記インキ親液部に対応する領域に塗布されていたものを前記印刷版に転写させる部分的インキ除去工程と、前記部分的インキ除去工程を経た前記主表面を被印刷基材に密着させることによって、前記主表面上に残存している前記インキ材料を前記被印刷基材の表面に転写するインキ転写工程とを含む。
(Embodiment 1)
(Constitution)
An image pattern forming method according to the first embodiment of the present invention will be described. In the image pattern forming method, an ink application process in which an ink material is applied to the main surface of a transfer blanket, and the main surface that has undergone the ink application process are separated from each other in a desired pattern by an ink lyophilic part and an ink lyophobic part. A partial ink removing step of transferring, to the printing plate, the one applied to the region corresponding to the ink lyophilic portion of the ink material applied to the main surface by closely contacting the printed plate; An ink transfer step of transferring the ink material remaining on the main surface to the surface of the substrate to be printed by bringing the main surface that has undergone the partial ink removal step into close contact with the substrate to be printed; including.
言い換えれば、本発明に基づく画像パターン形成方法は、インキ材料を全面に塗布した転写ブランケットをインキ親液部とインキ撥液部とによる画像パターンが形成された印刷版上に密着させ、該印刷版のインキ親液部に対応する前記転写ブランケット上のインキ材料を印刷版上に転写させることによって除去した後、前記転写ブランケット上に残存しているインキ材料を被印刷基材表面に転写することを特徴としている。 In other words, in the image pattern forming method according to the present invention, the transfer blanket coated with the ink material on the entire surface is brought into intimate contact with the printing plate on which the image pattern of the ink lyophilic part and the ink lyophobic part is formed. Removing the ink material on the transfer blanket corresponding to the ink lyophilic portion of the ink by transferring it onto the printing plate, and then transferring the ink material remaining on the transfer blanket to the surface of the printing substrate. It is a feature.
(作用・効果)
本実施の形態における画像パターン形成方法によれば、パターンの粗密や押圧条件、塗布インキの溶液特性によらず、均一なインキ層を形成/転写することができるため、高精細かつ平坦性に優れた画像パターンを形成することができる。
(Action / Effect)
According to the image pattern forming method in the present embodiment, a uniform ink layer can be formed / transferred regardless of the density of the pattern, the pressing conditions, and the solution characteristics of the coating ink, so that it has high definition and excellent flatness. An image pattern can be formed.
(実施例1)
図1〜図7を参照して、さらに具体的な実施例について説明する。
Example 1
A more specific embodiment will be described with reference to FIGS.
本実施例では、インキ材料としてCF用インキ(緑)とAgナノ粒子分散インキを用い、塗布膜厚を約1.5μmとし、L/S=20μm/20μmパターンの印刷版を用いてガラス基板上に画像パターンを形成した。「L/S」とは、Line/Spaceの意味であり、最終的な印刷対象物上においてインキを載せるべき部分の幅と空白となるべき部分(インキを載せない部分)の幅との比率である。また、各インキのインキ撥液部4(シリコーン樹脂)および、インキ親液部5(レジスト樹脂)に対する接触角は、CF用インキ(緑)ではそれぞれ5°,35°であり、Agナノ粒子分散インキではそれぞれ10°,55°であった。 In this example, CF ink (green) and Ag nanoparticle-dispersed ink are used as ink materials, the coating film thickness is about 1.5 μm, and a printing plate with a pattern of L / S = 20 μm / 20 μm is used on a glass substrate. An image pattern was formed. “L / S” means Line / Space, which is the ratio of the width of the part where ink should be placed on the final printed object to the width of the part that should be blank (the part where ink is not placed). is there. In addition, the contact angles of each ink with respect to the ink lyophobic part 4 (silicone resin) and the ink lyophilic part 5 (resist resin) are 5 ° and 35 ° for the CF ink (green), respectively, and Ag nanoparticle dispersion For the ink, they were 10 ° and 55 °, respectively.
まず、図1に示すように、シリコーン樹脂製ゴムからなる表面層とウレタン樹脂からなるクッション層との積層体からなる転写ブランケット1の主表面1aの全面にスリットコータを用いてインキ層2を塗布形成した。なお、インキ層2の別の形成方法として、図2に示すように、転写ブランケット1よりもインキ撥液性の高い表面を有するインキ展延シート11上にインキ層2を形成し、図3に示すように前記転写ブランケット1をインキ層2を介してインキ展延シート11と密着させて押圧することにより、図4に示すように転写ブランケット1上に均一なインキ層2を形成することも可能である。
First, as shown in FIG. 1, the
また、転写ブランケット1の材質としては、印刷版や被印刷基材の表面形状に追従して密着する必要があるとともに、最終的にインキ材料を被印刷基材に全量転写する必要があるため、シリコーン樹脂製ゴムやフッ素樹脂系ゴムなどの離型性および可撓性に優れた表面層とウレタン樹脂や織布などのクッション層材料との積層体を用いることができる。
Further, as the material of the
続いて、図5に示すように、Al薄板からなる支持体上にシリコーン樹脂からなるインキ撥液部4とレジスト樹脂からなるインキ親液部5によって画像パターンが形成された印刷版3にインキ層2を介して転写ブランケット1を密着させる。密着させて押圧した後で剥離することにより、図6に示すように、インキ親液部5上のインキ層だけが印刷版3上に全量転写された状態となり、インキ撥液部4上のインキ層2だけが転写ブランケット1上に全量残留する。すなわち、転写ブランケット1からはインキ層2が部分的に除去された形となる。
Subsequently, as shown in FIG. 5, an ink layer is formed on a
なお、本実施例で用いた前記印刷版3は、シリコーン樹脂からなるインキ撥液部4とレジスト樹脂からなるインキ親液部5との段差が約0.5μmであって、塗布膜厚1.5μmよりも小さくなっている。この印刷版3は、略平板印刷版である。
The
また、印刷版3の支持体としては、印刷時にかかる荷重に耐え得る材質である必要があるため、一般的にはAl薄板のような金属薄板、ポリエチレンテレフタレートのようなプラスチックフィルム、ゴム、石英ガラスなど、あるいはそれらの複合体を用いることができる。また、インキ撥液部4にはシリコーン樹脂、あるいはフッ素系樹脂を熱硬化させたものを用いることが可能であり、インキ親液部5にはAl、Ti薄膜などの金属薄膜層、あるいはレジスト樹脂やエポキシ樹脂、ゼラチン、ウレタン樹脂などを熱硬化させたものを用いることができる。
Further, since the support of the
さらに、図7に示すように、ガラス基板であるところの被印刷基材6に対して前記転写ブランケット1を密着させて押圧した後で剥離することにより、前記転写ブランケット1上に残存するインキ層が被印刷基材6上に転写された。これにより、CF用インキ(緑)とAgナノ粒子分散インキとの両方ともガラス基板上にL/S=20μm/20μmの画像パターンとして形成することができた。その後、各インキ材料に適した焼成処理を行ない、溶媒を蒸発させてインキを固化することにより各インキ材料からなる画像パターンを完成させた。
Further, as shown in FIG. 7, the ink layer remaining on the
なお、それぞれの画像パターンの膜厚は、CF用インキ(緑)が1.2μmであり、Agナノ粒子分散インキが1.0μmであり、表面平坦性はどちらも約0.1μm以下であった。 The film thickness of each image pattern was 1.2 μm for the CF ink (green), 1.0 μm for the Ag nanoparticle-dispersed ink, and both surface flatness was about 0.1 μm or less. .
(比較例1)
比較例1として、インキ撥液部とインキ親液部の間の段差が塗布膜厚よりも大きく、約2.5μmとなっている印刷版を用いて、実施例1と同様の画像パターン形成方法に従って、ガラス基板上に画像パターンを形成した。なお、その他の材料および使用インキなどは全て実施例1と同じものを用いた。
(Comparative Example 1)
As Comparative Example 1, the same image pattern forming method as in Example 1 using a printing plate in which the step between the ink lyophobic part and the ink lyophilic part is larger than the coating film thickness and is about 2.5 μm. Thus, an image pattern was formed on the glass substrate. All other materials and inks used were the same as in Example 1.
本比較例においては、インキ撥液部とインキ親液部との間の段差が約2.5μmと、インキ膜厚の1.5μmよりも大きいため、印刷版と転写ブランケットとを、インキ層2を介して密着させて押圧した際に均一なインキ層が形成されず、転写ブランケット上に残留したインキ撥液部上のインキ層の膜厚が不均一になり、最終的に得られた画像パターンの膜厚均一性が実施例1に比べて大きく低下した。 In this comparative example, the level difference between the ink lyophobic part and the ink lyophilic part is about 2.5 μm, which is larger than the ink film thickness of 1.5 μm. A uniform ink layer is not formed when pressed through close contact with the ink, and the film thickness of the ink layer on the ink repellent part remaining on the transfer blanket becomes non-uniform, and the finally obtained image pattern The film thickness uniformity was greatly reduced as compared with Example 1.
(比較例2)
比較例2として、インキ撥液部、あるいは転写ブランケット表面層に通常の紙印刷などに用いられるNBRゴムを用いて、実施例1と同様の画像パターン形成方法に従って、ガラス基板上に画像パターンを形成した。なお、その他の材料および使用インキなどは全て実施例1と同じものを用いた。
(Comparative Example 2)
As Comparative Example 2, an image pattern was formed on a glass substrate in accordance with the same image pattern forming method as in Example 1 using NBR rubber used for normal paper printing or the like on the ink repellent part or the transfer blanket surface layer. did. All other materials and inks used were the same as in Example 1.
本比較例においては、NBRゴムはシリコーン樹脂、あるいはフッ素系樹脂と同等の高撥液性を有するものの離型性が低いため、インキ転写の過程においてインキの全量転写が行なわれず、両側に引き裂かれて凝集破壊することにより部分転写してしまい、転写後の画像パターンに膜厚ムラや体積ムラが発生し、最終的に得られた画像パターンの解像度や平坦性が大きく低下した。 In this comparative example, NBR rubber has high liquid repellency equivalent to silicone resin or fluorine resin, but has low releasability, so that the entire amount of ink is not transferred in the process of ink transfer and is torn on both sides. As a result, partial transfer occurred due to cohesive failure, resulting in film thickness unevenness and volume unevenness in the transferred image pattern, and the resolution and flatness of the finally obtained image pattern were greatly reduced.
(比較例3)
比較例3として、実施例1と同様のインキを用いて、特許文献1に記載の画像パターン形成方法に従って、ガラス基板上に画像パターンを形成した。なお、印刷版の基材、インキ撥液部、インキ親液部および画像転写シートについては実施例1と同じ材料を用いた。
(Comparative Example 3)
As Comparative Example 3, an image pattern was formed on a glass substrate in accordance with the image pattern forming method described in
本比較例においては、前記CF用インキ(緑)を用いた場合には、ガラス基板上にL/S=20μm/20μmの画像パターンを形成することができ、膜厚1.2μm、表面平坦性は約0.2μmであった。 In this comparative example, when the CF ink (green) is used, an image pattern of L / S = 20 μm / 20 μm can be formed on the glass substrate, the film thickness is 1.2 μm, and the surface flatness. Was about 0.2 μm.
一方、前記Agナノ粒子分散インキを用いた場合には、インキ撥液部(シリコーン樹脂)に対する接触角が10°、インキ親液部(レジスト樹脂)に対する接触角が55°と接触角のコントラストが非常に高いためにインキ親液部にインキが偏在してしまい、印刷版上に均一なインキ層を形成することができず、画像パターンを形成することができなかった。 On the other hand, when the Ag nanoparticle-dispersed ink is used, the contact angle with respect to the ink lyophobic part (silicone resin) is 10 ° and the contact angle with respect to the ink lyophilic part (resist resin) is 55 °. Since the ink is very high, the ink is unevenly distributed in the ink lyophilic part, and a uniform ink layer cannot be formed on the printing plate, and an image pattern cannot be formed.
(比較例4)
比較例4として、実施例1と同様のインキを用いて、特許文献2に記載の画像パターン形成方法に従って、ガラス基板上に画像パターンを形成した。なお、不要インキ除去体、および印刷媒体の基材、インキ撥液部、インキ親液部および画像転写シートについては実施例1と同じ材料を用いた。
(Comparative Example 4)
As Comparative Example 4, an image pattern was formed on a glass substrate according to the image pattern forming method described in
本比較例においては、CF用インキ(緑)、Agナノ粒子分散インキのどちらを用いた場合においても、不要インキ除去体へのインキ層形成工程、印刷媒体(印刷版)インキ親液部へのインキ転写工程に関しては問題なくインキ塗布/転写が行われた。しかしながら、どちらのインキを用いた場合においても、表面処理を施していないガラス基板上に対して部分的にしかインキを転写することができず、転写された画像パターンの膜厚は0.5〜0.6μm程度と非常に薄く、表面平坦性も0.3〜0.4μm以上と非常に劣ったものであった。 In this comparative example, regardless of whether CF ink (green) or Ag nanoparticle-dispersed ink is used, the ink layer forming process on the unnecessary ink removing body, the printing medium (printing plate) ink lyophilic part Ink transfer / transfer was performed without any problem with respect to the ink transfer process. However, in either case, the ink can only be partially transferred onto a glass substrate that has not been subjected to surface treatment, and the film thickness of the transferred image pattern is 0.5 to It was very thin, about 0.6 μm, and the surface flatness was very inferior, 0.3 to 0.4 μm or more.
(作用・効果)
以上のように、本発明に基づく画像パターン形成方法では、まず最初に均一表面である転写ブランケット表面にインキ材料を塗布し、インキに対する親液性/撥液性コントラストにより非画線部/画線部をパターニングし、画像パターンを形成することを特徴としている。したがって、パターンの粗密や押圧条件、塗布インキの溶液特性によらず、均一、高精細かつ平坦性に優れた画像パターンを形成することが可能となる
また、本発明に基づく印刷版は、インキ撥液部とインキ親液部との段差が塗布インキ層膜厚よりも小さい略平板印刷版であるため、転写ブランケット上のインキ層が印刷版の表面形状に追従して全面、かつ均一圧力で密着/押圧されるため、膜厚の面内均一性に優れた画像パターンを形成することができる。さらに、本発明に基づく印刷版は略平板印刷版であるため、インキ撥液部とインキ親液部のインキを分断する際に上下対称に力がかかるので、分断されたインキの断面形状が略長方形となり、従来に比べて高アスペクト比のパターンを形成することが可能となる。
(Action / Effect)
As described above, in the image pattern forming method according to the present invention, the ink material is first applied to the surface of the transfer blanket that is a uniform surface, and the non-image area / image area is determined by the lyophilic / liquid-repellent contrast to the ink. It is characterized in that the portion is patterned to form an image pattern. Accordingly, it is possible to form a uniform, high-definition and excellent flatness image pattern regardless of pattern density, pressing conditions, and coating ink solution properties. Since the level difference between the liquid part and the ink lyophilic part is a substantially lithographic printing plate whose thickness is smaller than the coating ink layer thickness, the ink layer on the transfer blanket follows the surface shape of the printing plate and adheres to the entire surface with uniform pressure. / Because it is pressed, an image pattern having excellent in-plane uniformity of film thickness can be formed. Furthermore, since the printing plate based on the present invention is a substantially flat printing plate, force is applied in a vertically symmetrical manner when dividing the ink of the ink lyophobic portion and the ink lyophilic portion, so that the sectional shape of the divided ink is substantially the same. It becomes a rectangle, and it becomes possible to form a pattern with a higher aspect ratio than in the prior art.
また、転写ブランケット表面層がシリコーン樹脂製ゴムやフッ素樹脂系ゴムなどの材料で形成されているが、これらの材料は離型性および可撓性に優れ、かつ印刷版上のインキ親液部よりもインキ撥液性が高く、インキ撥液部よりもインキ親液性が高い材料であるので、被印刷基材としてプラスチック材料、ガラス基板、金属材料など一般的なインキ親液材料を幅広く用いることができると同時に、インキの全量転写が可能となるため、糸引き現象が発生せず、従来に比べて高精細かつ平坦性に優れた画像パターンを形成することが可能となる。 The transfer blanket surface layer is formed of a material such as silicone resin rubber or fluororesin rubber, but these materials are excellent in releasability and flexibility, and more than the ink lyophilic part on the printing plate. Is a material with higher ink repellency and higher ink lyophilicity than the ink lyophobic part. Therefore, use a wide range of general ink lyophilic materials such as plastic materials, glass substrates, and metal materials as printing substrates. At the same time, since the entire amount of ink can be transferred, a stringing phenomenon does not occur, and it is possible to form an image pattern with high definition and excellent flatness as compared with the prior art.
さらに、本発明では、転写ブランケット上ではなく印刷版上にインキ親液性/撥液性パターンを形成しているため、インキ転写時の押圧圧力により転写ブランケットが伸びてしまった場合にも、印刷版上に形成された画像パターンは伸びることはない。その理由は図8(a)〜(e)に示されるとおりである。すなわち、図8(a)に示すように印刷版3上に長さLのインキ撥液部4が形成されているとき、図8(b)に示すように押圧されて伸びたインキ層2がこの長さLのインキ撥液部4に当接することになる。転写ブランケット1を印刷版3から離したときには図8(c)に示すようにインキ層2は長さLではなくより短い長さL′になる。しかし、このインキ層を被印刷基材6に密着させて押圧したときには図8(d)に示すように長さL′であったインキ層は再び伸びて長さLとなるので、図8(e)に示すように、最終的に被印刷基材6には長さLの画像パターンが形成される。すなわち、最終的に印刷版上と同様の解像度、平坦性を有する画像パターンを形成することが可能となる。
Furthermore, in the present invention, since the ink lyophilic / liquid-repellent pattern is formed on the printing plate instead of on the transfer blanket, the printing blanket can be printed even when the transfer blanket extends due to the pressing pressure during ink transfer. The image pattern formed on the plate does not stretch. The reason is as shown in FIGS. 8 (a) to 8 (e). That is, when the ink
さらに、インキ転写時のブランケット変形に関しても、親液性/撥液性パターンが変形するブランケット上ではなく印刷版上に形成されているため、特許文献2に記載の画像パターン形成方法のように、画線部の線幅がインキ転写時の押圧圧力によるブランケット変形により増大することがない。
Furthermore, regarding the blanket deformation at the time of ink transfer, because the lyophilic / liquid repellent pattern is formed on the printing plate instead of the deformed blanket, like the image pattern forming method described in
本発明によれば、被印刷基材への転写の際、インキ撥液性を有するブランケット表面に残ったインキを被印刷基材へ転写するため、被印刷基材の選択の幅が広がると同時にインキの全量転写が可能となる。これにより、特許文献2に記載の画像パターン形成方法に比べてより多くの被印刷基材に対して、高精細かつ平坦性に優れた画像パターンを形成することが可能となり、半導体デバイス、電気回路、表示体モジュール、カラーフィルタ、発光素子など幅広い応用製品の更なる高性能化、および低コスト化を実現することが可能となる。
According to the present invention, at the time of transfer to a substrate to be printed, the ink remaining on the surface of the blanket having ink repellency is transferred to the substrate to be printed. The entire amount of ink can be transferred. As a result, it becomes possible to form a high-definition and excellent flatness image pattern on a larger number of substrates to be printed compared to the image pattern forming method described in
(さらに好ましい形態)
本実施の形態における画像パターン形成方法のより好ましい条件について説明する。
(More preferable form)
More preferable conditions of the image pattern forming method in the present embodiment will be described.
前記インキ塗布工程は、前記転写ブランケットの前記主表面よりもインキ撥液性の高い表面を有するインキ展延材上に全面塗布されたインキ層を前記主表面上に転写する工程を含むことが好ましい。この構成を採用することにより、転写ブランケットが平板形状でなく円筒形状であるような場合においても、転写ブランケット上に均一なインキ層を形成することができる。 Preferably, the ink application step includes a step of transferring an ink layer coated on the entire surface of the ink spreading material having a surface having higher ink repellency than the main surface of the transfer blanket onto the main surface. . By adopting this configuration, a uniform ink layer can be formed on the transfer blanket even when the transfer blanket is not flat but cylindrical.
さらに、前記インキ材料が、前記印刷版のインキ親液部に対する接触角が20°以下であり、かつ前記印刷版のインキ撥液部に対する接触角が40°以上であるようなインキ材料であることが好ましい。このような接触角特性を有するインキ材料、すなわち、特許文献1に記載の方法では印刷版上に均一なインキ層を形成できないような特性のインキ材料においては、本発明を適用することにより均一なインキ層を形成することが可能となり、高精細かつ平坦性に優れた画像パターンを形成することができる。
Further, the ink material is an ink material having a contact angle with respect to the ink lyophilic portion of the printing plate of 20 ° or less and a contact angle with respect to the ink lyophobic portion of the printing plate of 40 ° or more. Is preferred. Ink materials having such a contact angle characteristic, that is, an ink material having such a characteristic that a uniform ink layer cannot be formed on a printing plate by the method described in
前記印刷版における前記インキ親液部と前記インキ撥液部との段差が、前記転写ブランケットから前記印刷版に転写されることによって塗布された前記インキ材料の膜厚よりも小さくなっていることが好ましい。この構成を採用することにより、均一なインキ層を形成することが可能となり、高精細かつ平坦性に優れた画像パターンを形成することができる。 The level difference between the ink lyophilic part and the ink lyophobic part in the printing plate is smaller than the thickness of the ink material applied by being transferred from the transfer blanket to the printing plate. preferable. By adopting this configuration, a uniform ink layer can be formed, and an image pattern with high definition and excellent flatness can be formed.
前記印刷版の前記インキ撥液部および前記転写ブランケットの前記主表面がシリコーン樹脂材料からなることが好ましい。この構成を採用することにより、高撥液性と高離型性を併せ持つシリコーン樹脂材料が前記印刷版のインキ撥液部および転写ブランケット表面に用いられているので、インクの全量転写を実現し、高精細かつ平坦性に優れた画像パターンを形成することが可能となる。 It is preferable that the ink lyophobic part of the printing plate and the main surface of the transfer blanket are made of a silicone resin material. By adopting this configuration, the silicone resin material that has both high liquid repellency and high releasability is used on the ink liquid repellent part and the transfer blanket surface of the printing plate, so that the entire amount of ink can be transferred, It is possible to form an image pattern with high definition and excellent flatness.
前記印刷版の前記インキ撥液部および前記転写ブランケットの前記主表面がフッ素化合物樹脂材料からなることが好ましい。この構成を採用することにより、高撥液性と高離型性を併せ持つフッ素系化合物樹脂材料が前記印刷版のインキ撥液部および転写ブランケット表面層に用いられているので、インクの全量転写を実現し、高精細かつ平坦性に優れた画像パターンを形成することが可能となる。 It is preferable that the ink lyophobic part of the printing plate and the main surface of the transfer blanket are made of a fluorine compound resin material. By adopting this configuration, the fluorine compound resin material having both high liquid repellency and high releasability is used for the ink liquid repellent part and the transfer blanket surface layer of the printing plate. This makes it possible to form an image pattern with high definition and excellent flatness.
(画像パターン)
本発明に基づく画像パターンは、上述のいずれかの画像パターン形成方法を用いて製造した画像パターンである。このような画像パターンとすることにより、低コストな印刷法により高精細かつ平坦性に優れた画像パターンを形成することが可能となる。したがって、半導体デバイス、電気回路、表示体モジュール、カラーフィルタ、発光素子などの応用製品のさらなる高性能化および低コスト化を実現することができる。
(Image pattern)
The image pattern based on this invention is an image pattern manufactured using one of the above-mentioned image pattern formation methods. By using such an image pattern, it becomes possible to form an image pattern with high definition and excellent flatness by a low-cost printing method. Therefore, it is possible to realize further higher performance and lower cost of applied products such as semiconductor devices, electric circuits, display modules, color filters, and light emitting elements.
本発明に基づく半導体デバイスは、上述のいずれかの画像パターン形成方法を用いて製造された半導体デバイスである。 A semiconductor device according to the present invention is a semiconductor device manufactured using any one of the image pattern forming methods described above.
本発明に基づく電気回路は、上述のいずれかの画像パターン形成方法を用いて製造された電気回路である。 An electric circuit according to the present invention is an electric circuit manufactured by using any one of the image pattern forming methods described above.
本発明に基づく表示体モジュールは、上述のいずれかの画像パターン形成方法を用いて製造された表示体モジュールである。 The display module according to the present invention is a display module manufactured by using any one of the image pattern forming methods described above.
本発明に基づくカラーフィルタは、上述のいずれかの画像パターン形成方法を用いて製造されたカラーフィルタである。 The color filter based on this invention is a color filter manufactured using one of the above-mentioned image pattern formation methods.
本発明に基づく発光素子は、上述のいずれかの画像パターン形成方法を用いて製造された発光素子である。 A light emitting device according to the present invention is a light emitting device manufactured using any one of the above-described image pattern forming methods.
これらの製品に関しても上述のいずれかの画像パターン形成方法を用いて製造することによって、容易に均一なインキ層を形成/転写することができるため、高性能化および低コスト化を実現することができる。 These products can also be manufactured using any of the image pattern forming methods described above, so that a uniform ink layer can be easily formed / transferred, thereby realizing high performance and low cost. it can.
なお、今回開示した上記実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではない。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更を含むものである。 In addition, the said embodiment disclosed this time is an illustration in all the points, Comprising: It is not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and includes all modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.
1 転写ブランケット、1a 主表面、2 インキ層、3 印刷版、4 インキ撥液部、5 インキ親液部、6,205 被印刷基材、100 印刷版、101 インキ層、101a インキ厚膜部、101b,101c インキ薄膜部、101b1,101c1 インキ、102 インキ親液部、103,204 インキ撥液部、200 不要インキ除去体、201 インキ層、202 印刷媒体(印刷版)、203 インキ親液部(インキ受容体部)。 1 transfer blanket, 1a main surface, 2 ink layer, 3 printing plate, 4 ink lyophobic part, 5 ink lyophilic part, 6,205 substrate to be printed, 100 printing plate, 101 ink layer, 101a ink thick film part, 101b, 101c Ink thin film part, 101b1, 101c1 ink, 102 Ink lyophilic part, 103, 204 Ink lyophobic part, 200 Unnecessary ink remover, 201 Ink layer, 202 Print medium (printing plate), 203 Ink lyophilic part ( Ink receptor part).
Claims (12)
前記インキ塗布工程を経た前記主表面を、インキ親液部とインキ撥液部とが所望のパターンで互いに区分された印刷版に密着させることによって、前記主表面に塗布された前記インキ材料のうち前記インキ親液部に対応する領域に塗布されていたものを前記印刷版に転写させる部分的インキ除去工程と、
前記部分的インキ除去工程を経た前記主表面を被印刷基材に密着させることによって、前記主表面上に残存している前記インキ材料を前記被印刷基材の表面に転写するインキ転写工程とを含む、画像パターン形成方法。 An ink application process for applying an ink material to the main surface of the transfer blanket;
Among the ink materials applied to the main surface, the main surface that has undergone the ink application step is brought into close contact with a printing plate in which an ink lyophilic part and an ink lyophobic part are separated from each other in a desired pattern. A partial ink removal step of transferring the material applied to the area corresponding to the ink lyophilic part to the printing plate;
An ink transfer step of transferring the ink material remaining on the main surface to the surface of the substrate to be printed by bringing the main surface that has undergone the partial ink removal step into close contact with the substrate to be printed; An image pattern forming method.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008224954A JP2010058330A (en) | 2008-09-02 | 2008-09-02 | Method for forming image pattern and image pattern and semiconductor device, electric circuit, display module, color filter, and light emitting element |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008224954A JP2010058330A (en) | 2008-09-02 | 2008-09-02 | Method for forming image pattern and image pattern and semiconductor device, electric circuit, display module, color filter, and light emitting element |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010058330A true JP2010058330A (en) | 2010-03-18 |
Family
ID=42185701
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008224954A Pending JP2010058330A (en) | 2008-09-02 | 2008-09-02 | Method for forming image pattern and image pattern and semiconductor device, electric circuit, display module, color filter, and light emitting element |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2010058330A (en) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013045635A (en) * | 2011-08-24 | 2013-03-04 | Sony Corp | Organic el display device, manufacturing method therefor and electronic apparatus |
| CN104685592A (en) * | 2012-09-25 | 2015-06-03 | 独立行政法人产业技术综合研究所 | Method for forming pattern |
| US9711723B2 (en) | 2012-01-19 | 2017-07-18 | Joled Inc. | Display and method of manufacturing the same, unit, transfer printing method, organic electroluminescence unit and method of manufacturing the same, and electronic apparatus |
| CN112223889A (en) * | 2020-12-10 | 2021-01-15 | 四川英创力电子科技股份有限公司 | Method for printing characters with multiple colors on same side of printed board and manufacturing method of printed board |
| WO2021193143A1 (en) * | 2020-03-24 | 2021-09-30 | 富士フイルム株式会社 | Method for forming metal pattern |
| CN113703243A (en) * | 2020-05-22 | 2021-11-26 | 川奇光电科技(扬州)有限公司 | Cover plate for electronic ink screen and manufacturing method thereof |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008194884A (en) * | 2007-02-09 | 2008-08-28 | Toppan Printing Co Ltd | Printing lithographic plate, manufacturing method thereof, printing method and color filter manufacturing method |
| JP2008246702A (en) * | 2007-03-29 | 2008-10-16 | Toppan Printing Co Ltd | Image forming method |
-
2008
- 2008-09-02 JP JP2008224954A patent/JP2010058330A/en active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008194884A (en) * | 2007-02-09 | 2008-08-28 | Toppan Printing Co Ltd | Printing lithographic plate, manufacturing method thereof, printing method and color filter manufacturing method |
| JP2008246702A (en) * | 2007-03-29 | 2008-10-16 | Toppan Printing Co Ltd | Image forming method |
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013045635A (en) * | 2011-08-24 | 2013-03-04 | Sony Corp | Organic el display device, manufacturing method therefor and electronic apparatus |
| CN102956840A (en) * | 2011-08-24 | 2013-03-06 | 索尼公司 | Organic electroluminescence display device, method of manufacturing organic electroluminescence display device, and electronic system |
| US9711723B2 (en) | 2012-01-19 | 2017-07-18 | Joled Inc. | Display and method of manufacturing the same, unit, transfer printing method, organic electroluminescence unit and method of manufacturing the same, and electronic apparatus |
| CN104685592A (en) * | 2012-09-25 | 2015-06-03 | 独立行政法人产业技术综合研究所 | Method for forming pattern |
| EP2903007A4 (en) * | 2012-09-25 | 2016-07-20 | Nat Inst Of Advanced Ind Scien | PATTERN FORMATION METHOD |
| US9697954B2 (en) | 2012-09-25 | 2017-07-04 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Method for forming pattern |
| TWI620668B (en) * | 2012-09-25 | 2018-04-11 | Aist | Pattern formation method |
| CN115299189A (en) * | 2020-03-24 | 2022-11-04 | 富士胶片株式会社 | Method for forming metal pattern |
| WO2021193143A1 (en) * | 2020-03-24 | 2021-09-30 | 富士フイルム株式会社 | Method for forming metal pattern |
| JPWO2021193143A1 (en) * | 2020-03-24 | 2021-09-30 | ||
| US20230028779A1 (en) * | 2020-03-24 | 2023-01-26 | Fujifilm Corporation | Metal pattern forming method |
| US12185472B2 (en) | 2020-03-24 | 2024-12-31 | Fujifilm Corporation | Metal pattern forming method |
| CN115299189B (en) * | 2020-03-24 | 2025-05-06 | 富士胶片株式会社 | Method for forming metal pattern |
| CN113703243A (en) * | 2020-05-22 | 2021-11-26 | 川奇光电科技(扬州)有限公司 | Cover plate for electronic ink screen and manufacturing method thereof |
| CN112223889B (en) * | 2020-12-10 | 2021-03-02 | 四川英创力电子科技股份有限公司 | Method for printing characters of multiple colors on the same side of a printed board and method for making a printed board |
| CN112223889A (en) * | 2020-12-10 | 2021-01-15 | 四川英创力电子科技股份有限公司 | Method for printing characters with multiple colors on same side of printed board and manufacturing method of printed board |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4580830B2 (en) | Image forming method and image forming apparatus using the same | |
| JP2006289983A (en) | Electronic device manufacturing method and manufacturing apparatus using roll-to-roll rotary printing method | |
| JP2010058330A (en) | Method for forming image pattern and image pattern and semiconductor device, electric circuit, display module, color filter, and light emitting element | |
| KR20050105044A (en) | Method for fabricating cliche and method for forming pattern using the same | |
| CN100578356C (en) | Printed matter manufacturing method | |
| JP4322226B2 (en) | Pattern forming method using printing method | |
| JP5452880B2 (en) | Rubber blanket for printing | |
| KR101291878B1 (en) | Roller apparatus, printing method and method of fabricating liquid crystal display device using the same | |
| JP2010076400A (en) | Printing apparatus for flexible base material, and printing method | |
| JP2008162197A (en) | Screen mask and manufacturing method thereof | |
| JP2008132743A (en) | Printer and printing process | |
| TW201421535A (en) | Printing plate for reverse lithography and preparation method thereof | |
| JP5019395B2 (en) | Image forming method and image pattern | |
| JP5891861B2 (en) | Reverse printing method and reverse printing apparatus | |
| JP2008194884A (en) | Printing lithographic plate, manufacturing method thereof, printing method and color filter manufacturing method | |
| KR20160092359A (en) | Gravure roller and gravure printing apparatus including the same | |
| JP4513334B2 (en) | Image forming apparatus and image forming method | |
| JP2015189114A (en) | Printing plate and method for producing printing plate | |
| KR101002711B1 (en) | Stacked Gravure Offset Roller | |
| JP6798281B2 (en) | Printing equipment | |
| JP2010076189A (en) | Printing plate and printing method using the same | |
| JP7493704B2 (en) | Printing device and printing method | |
| JP2012011667A (en) | Flexographic printing apparatus | |
| JP2010076426A (en) | Image formation method, image formation device, and image pattern | |
| JP2009274365A (en) | Printing method, printing apparatus, printing plate used in it, and pattern film |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100826 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120417 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120918 |