JP2010054555A - 電気光学装置および電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】液滴吐出ヘッドから吐出される吐出量のばらつきに起因するスジ状の濃淡ムラが低減された電気光学装置を提供する。
【解決手段】液状体を吐出する複数のノズル５２が列状に配置されたノズル列５２ａと基板Ｂとを主走査方向に相対移動させながら、前記ノズル５２から前記液状体が前記基板Ｂ上に吐出されて形成される複数の膜形成領域Ｑを有する電気光学装置において、前記膜形成領域Ｑには、前記ノズル列５２ａ方向のノズル５２間隔と前記主走査方向の吐出間隔とにより前記液状体が着弾する複数の着弾可能位置９０が設定され、少なくとも２つ以上の膜形成領域Ｑ１，Ｑ２は、同時に前記複数のノズル５２と対向する前記着弾可能位置９０の数の合算値が前記主走査方向において同一である部分を含む。
【選択図】図９

Description

本発明は、多数の画素が形成された電気光学装置、この電気光学装置を備えた電子機器に関するものである。

携帯電話機、パーソナルコンピュータやＰＤＡ（Personal Digital Assistants）などの電子機器に使用される表示装置としては、液晶表示装置や有機ＥＬ（Electroluminescence）装置等の電気光学装置がある。これらの電気光学装置を製造するにあたって、その液晶表示装置のカラーフィルタや、有機ＥＬ装置の発光層等の薄膜の形成を、液滴吐出法（インクジェット方式）で行うことが知られている（例えば、特許文献１参照）。

液滴吐出法を用いた薄膜形成技術では、用いる液滴吐出ヘッドの解像度に応じて微少な液状体を所望の位置に塗布することができる。そのため、凸版印刷等の他の印刷技術に比べて、微細なパターンの形成が可能である。例えば、基板に、赤、緑、青のカラーフィルタ層を形成する場合には、赤、緑、青の着色材料を含む液状体を液滴吐出ヘッドのノズルから基板上の区画された領域（画素）に吐出し、これを乾燥、固化してカラーフィルタ層を形成することができる。近年、画素の開口面積を増加させることを目的に画素内に画素電極に電圧を印加するＴＦＴ等のスイッチング素子等を配置する切り欠き部を有するカラーフィルタが提案されている（例えば、特許文献２参照）。

また、有機ＥＬ装置では、基板上の発光層等を形成すべき領域（画素）に機能性材料を含む液状体を吐出し、これを乾燥、固化して各薄膜層を形成することができる。これらの画素は、矩形形状に形成されているものが多かったが、近年、解像度アップや無駄のない画素配置を目的に三角形状や多角形状をした画素形状が提案されている（例えば、特許文献３参照）。

特開２００６−３４６５７５号公報 特開平１０−７８５９０号公報 特開２００１−１４３８６８号公報

液滴吐出法で均一な薄膜を形成するために、液滴吐出ヘッドから吐出される液状体の量（以下、吐出量という）が、画素を含む基板全面で均一であることが要求される。しかしながら、多数のノズルを備える液滴吐出ヘッドにおいて、液状体の吐出量はノズル間でばらつきが発生する場合がある。ノズル間における吐出量のばらつきの要因のひとつとして、ノズルデューティの変化によるものがある。ノズルデューティとは、液滴吐出ヘッドに設けられた複数のノズルのうち、実際に使用されているノズルの割合、すなわちノズルの使用率（使用ノズル／全ノズル）をいう。ノズルデューティが変化すると、液滴吐出ヘッドにおいて構造的なクロストーク（共通インクリザーバを使うことによるインク供給差や隣接ノズル間の物理的な影響など）が発生して、その結果として吐出量のばらつきが発生する。

上述の異形形状をした画素が多数形成された基板に対して、液滴吐出法を用いて液状体を吐出すると、液滴吐出ヘッドの走査において、吐出パターン、すなわち複数のノズルのうち使用するノズルと使用しないノズルの組み合わせが異なる。そのため、ノズルデューティが変化して、液状体の吐出量のばらつきが発生する。液状体の吐出量のばらつきが発生すると、得られるカラーフィルタや発光層にスジ状の濃淡ムラが発生してしまうことがある。このようなスジ状の濃淡ムラは視認され易く、表示される画像の画質を低下させてしまう。

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。

（適用例１）液状体を吐出する複数のノズルが列状に配置されたノズル列と基板とを主走査方向に相対移動させながら、前記ノズルから前記液状体が前記基板上に吐出されて形成される複数の膜形成領域を有する電気光学装置において、前記膜形成領域には、前記ノズル列方向のノズル間隔と前記主走査方向の吐出間隔とにより前記液状体が着弾する複数の着弾可能位置が設定され、少なくとも２つ以上の前記膜形成領域は、同時に前記複数のノズルと対向する前記着弾可能位置の数の合算値が前記主走査方向において同一である部分を含むことを特徴とする電気光学装置。

この構成によれば、画素が形成される膜形成領域を有する電気光学装置において、少なくとも２つ以上の膜形成領域を、ノズル列方向の着弾可能位置の数の合算値を同一にするように配置することができる。そのため、同一タイミングで液状体を吐出するノズルの数を同一にすることができる。すなわち、ノズルデューティの変化を低減させることができる。その結果、ノズルデューティの変化に起因する吐出量のばらつきを低減させることができ、得られるカラーフィルタや発光層のスジ状の濃淡ムラを低減させることができる。従って、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等の電気光学装置の画像の画質の低下を防止することができる。

（適用例２）前記膜形成領域は、前記主走査方向において同時に前記複数のノズルと対向する前記着弾可能位置の数が変動する部分を含むことを特徴とする上記の電気光学装置。

（適用例３）複数の前記膜形成領域は、形状または配置が異なる第１領域と第２領域とからなり、前記複数のノズルと同時に対向する前記着弾可能位置の数が、前記第１領域と前記第２領域とは異なる数に設定されている部分を含むことを特徴とする上記の電気光学装置。

これらの構成によれば、電気光学装置において、画素形状すなわち膜形成領域の形状は、三角形や多角形等の矩形形状以外の形状に構成されていてもよく、膜形成領域は、形状または配置が異なる第１領域と第２領域とから構成されていてもよい。このような膜形成領域においても、ノズル列方向の着弾可能位置の数の合算値を同一にすることができる。そのため、ノズル列から同一タイミングで吐出されるノズルの数を同一にすることができ、ノズルデューティの変化を低減させることができる。その結果、ノズルデューティの変化に起因する吐出量のばらつきを低減させることができる。

（適用例４）液状体を吐出する複数のノズルが列状に配置されたノズル列と基板とを主走査方向に相対移動させながら、前記ノズルから前記液状体が前記基板上に吐出されて形成される複数の膜形成領域を有する電気光学装置において、前記膜形成領域には、前記ノズル列方向のノズル間隔と前記主走査方向の吐出間隔とにより前記液状体が着弾する複数の着弾可能位置が設定され、前記ノズル列に対向する少なくとも２つ以上の前記膜形成領域は、同時に前記複数のノズルと対向する前記着弾可能位置の数の合算値が、前記主走査方向において同一であることを特徴とする電気光学装置。

この構成によれば、画素が形成される膜形成領域を有する電気光学装置において、少なくとも２つ以上の膜形成領域を、ノズル列方向の着弾可能位置の数の合算値を同一にするように配置することができる。そのため、同一タイミングで液状体を吐出するノズルの数を同一にすることができる。すなわち、ノズルデューティの変化を低減させることができる。その結果、ノズルデューティの変化に起因する吐出量のばらつきを低減させることができ、得られるカラーフィルタや発光層のスジ状の濃淡ムラを低減させることができる。従って、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等の電気光学装置の画像の画質の低下を防止することができる。

（適用例５）前記膜形成領域は、前記主走査方向において同時に前記複数のノズルと対向する前記着弾可能位置の数が変動することを特徴とする上記の電気光学装置。

（適用例６）複数の前記膜形成領域は、形状または配置が異なる第１領域と第２領域とからなり、前記複数のノズルと同時に対向する前記着弾可能位置の数が、前記第１領域と前記第２領域とは異なる数に設定されていることを特徴とする上記の電気光学装置。

これらの構成によれば、電気光学装置において、画素形状すなわち膜形成領域の形状は、三角形や多角形等の矩形形状以外の形状に構成されていてもよく、膜形成領域は、形状または配置が異なる第１領域と第２領域とから構成されていてもよい。このような膜形成領域においても、ノズル列方向の着弾可能位置の数の合算値を同一にすることができる。そのため、ノズル列から同一タイミングで吐出されるノズルの数を同一にすることができ、ノズルデューティの変化を低減させることができる。その結果、ノズルデューティの変化に起因する吐出量のばらつきを低減させることができる。

（適用例７）前記第１領域内の前記着弾可能位置の数と前記第２領域内の前記着弾可能位置の数とは同数に設定されていることを特徴とする上記の電気光学装置。

この構成によれば、同一形状の画素が異なる配置に形成される電気光学装置においても、第１画素（第１領域）と第２画素（第２領域）とを、ノズル列方向の着弾可能位置の数の合算値を同一にするように配置することができる。そのため、ノズル列から同一タイミングで吐出されるノズルの数を同一にすることができる。すなわち、ノズルデューティの変化を低減させることができる。

（適用例８）上記の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。

この構成によれば、上記の電気光学装置を備えることにより、スジ状の濃淡ムラが低減された高い画像品質を有する電子機器を提供することができる。

本発明を、基板上に区画された膜形成領域としての複数の画素に複数色の着色層を有するカラーフィルタを例にとり説明する。着色層は画素構成要素であり、複数のノズルから膜形成領域に向けて着色層形成材料を含む液状体を液滴として吐出して形成する。この液状体を液滴として吐出するには、以下に説明する液状体吐出装置を用いる。

（液状体吐出装置の構成について）
まず、液状体を吐出する液滴吐出ヘッドを備えた液状体吐出装置について図１を参照して説明する。図１は、液状体吐出装置の構成を示す概略斜視図である。
図１に示すように、液状体吐出装置１０は、被吐出物としての基板Ｂを主走査方向に移動させる基板移動機構２０と、複数の液滴吐出ヘッドを有するヘッドユニット９を副走査方向に移動させるヘッド移動機構３０とを備えている。この液状体吐出装置１０は、基板Ｂとヘッドユニット９との相対位置を変化させつつ、ヘッドユニット９に搭載された複数の液滴吐出ヘッドから液状体を液滴として吐出して、基板Ｂに液状体で所定の機能膜を形成するものである。なお、図中のＸ方向は基板Ｂの移動方向すなわち主走査方向を示し、Ｙ方向はヘッドユニット９の移動方向すなわち副走査方向を示し、Ｚ方向は、Ｘ方向とＹ方向とに直交する方向を示している。

このような液状体吐出装置１０を用いて、例えば、赤、緑および青の３色のフィルタエレメントを有するカラーフィルタを製造する場合は、液状体吐出装置１０の各々の液滴吐出ヘッドから、赤、緑および青の３色の液状体のいずれかを基板Ｂの膜形成領域に液滴として吐出して、赤、緑および青の３色のフィルタエレメントを形成する。

ここで、液状体吐出装置１０の各構成について説明する。
基板移動機構２０は、一対のガイドレール２１と、一対のガイドレール２１に沿って移動する移動テーブル２２と、移動テーブル２２上に基板Ｂを吸着固定可能に載置するステージ５とを備えている。移動テーブル２２は、ガイドレール２１の内部に設けられた図示しないエアスライダとリニアモータによりＸ方向（主走査方向）に移動する。

ヘッド移動機構３０は、一対のガイドレール３１と、一対のガイドレール３１に沿って移動する第１の移動台３２とを備えている。第１の移動台３２にはキャリッジ８が設けられ、キャリッジ８には複数の液滴吐出ヘッド５０（図２参照）を搭載したヘッドユニット９が取り付けられている。そして、第１の移動台３２は、キャリッジ８をＹ方向（副走査方向）に移動させてヘッドユニット９を基板Ｂに対してＺ方向に所定の間隔をあけて対向配置する。

液状体吐出装置１０は、上記構成の他にも、ヘッドユニット９に搭載された複数の液滴吐出ヘッド５０のノズルの目詰まりの解消等のメンテナンスを行うメンテナンス機構６０を備えている。また、液状体吐出装置１０は、液滴吐出ヘッド５０に液状体を供給するための液状体供給機構や、液滴吐出ヘッド５０もしくはノズルごとに吐出された液状体を受けて、その吐出重量を計測する電子天秤等の計測器を有する吐出量計測機構が設けられている。これらの各機構は、制御部４（図４参照）によって制御される。図１では、制御部４、液状体供給機構および吐出量計測機構は、図示省略した。

（液滴吐出ヘッドについて）
ここで複数のノズルを有する液滴吐出ヘッドについて図２および図３を参照して説明する。図２は液滴吐出ヘッドの構造を示す概略図である。（ａ）は概略分解斜視図、（ｂ）はノズル部の構造を示す断面図である。図３は、ヘッドユニットにおける液滴吐出ヘッドの配置を示す概略平面図である。詳しくは、基板Ｂに対向する側から見た図である。なお、図３に示すＸ方向、Ｙ方向は、図１に示すＸ方向、Ｙ方向と同一な方向を示す。

図２（ａ）および（ｂ）に示すように、液滴吐出ヘッド５０は、液滴Ｄが吐出される複数のノズル５２を有するノズルプレート５１と、複数のノズル５２がそれぞれ連通するキャビティ５５を区画する隔壁５４を有するキャビティプレート５３と、各キャビティ５５に対応する駆動素子としての振動子５９を有する振動板５８とが、順に積層され接合された構造となっている。

キャビティプレート５３は、ノズル５２に連通するキャビティ５５を区画する隔壁５４と、キャビティ５５に液状体を充填するための流路５６，５７とを有している。流路５７は、ノズルプレート５１と振動板５８とによって挟まれ、出来上がった空間が、液状体が貯留されるリザーバの役目を果たす。液状体は、液状体供給機構から配管を通じて供給され、振動板５８に設けられた供給孔５８ａを通じてリザーバに貯留された後に、流路５６を通じて各キャビティ５５に充填される。

図２（ｂ）に示すように、振動子５９は、ピエゾ素子５９ｃと、ピエゾ素子５９ｃを挟む一対の電極５９ａ，５９ｂとからなる圧電素子である。外部から一対の電極５９ａ，５９ｂに、駆動信号としての駆動波形が印加されることにより接合された振動板５８を変形させる。これにより隔壁５４で仕切られたキャビティ５５の体積が増加して、液状体がリザーバからキャビティ５５に吸引される。そして、駆動波形の印加が終了すると、振動板５８は元に戻り充填された液状体を加圧する。これにより、ノズル５２から液状体を液滴Ｄとして吐出できる構造となっている。ピエゾ素子５９ｃへ印加される駆動波形を制御することにより、それぞれのノズル５２に対して液状体の吐出制御を行うことができる。

このとき、液滴吐出ヘッド５０に設けられた複数のノズル５２のうち、実際に使用されているノズル５２の割合、すなわちノズルデューティが変化する場合がある。この場合、液滴吐出ヘッド５０において、あるノズル５２の振動子５９の振動が共通リザーバの液状体を伝わり隣接するノズル５２の液状体に伝播して液状体の加圧状況が変化する、すなわちクロストークが発生してノズル５２ごとに吐出量のばらつきが発生する虞がある。

図３に示すように、上述の液滴吐出ヘッド５０は、ヘッドユニット９のヘッドプレート９ａに配置される。ヘッドプレート９ａには、３つの液滴吐出ヘッド５０からなるヘッド群５０Ａと、同じく３つの液滴吐出ヘッド５０からなるヘッド群５０Ｂの合計６個の液滴吐出ヘッド５０が搭載されている。この場合、ヘッド群５０Ａの液滴吐出ヘッド５０（ヘッドＲ１）とヘッド群５０Ｂの液滴吐出ヘッド５０（ヘッドＲ２）とは同種の液状体を吐出する。他のヘッドＧ１とヘッドＧ２、ヘッドＢ１とヘッドＢ２においても同様である。すなわち、３種の異なる液状体を吐出可能な構成となっている。

各液滴吐出ヘッド５０は、一定のノズルピッチＰで配設された複数（１８０個）のノズル５２からなるノズル列５２ａを有している。そのため、１つの各液滴吐出ヘッド５０は長さＬなる吐出幅を有している。ヘッドＲ１とヘッドＲ２とは、主走査方向（Ｘ方向）から見て隣り合うノズル列５２ａが主走査方向と直交する副走査方向（Ｙ方向）に１ノズルピッチＰを置いて連続するように主走査方向に並列して配設されている。そのため、ヘッドＲ１およびヘッドＲ２は、長さ２Ｌの吐出幅を有している。

本実施例では、ノズル列５２ａが１列の場合について説明しているがこれに限定されない。液滴吐出ヘッド５０は、複数のノズル列５２ａが図中Ｘ方向に一定の間隔をおいて、Ｙ方向に１／２ピッチ（Ｐ／２）ずれて配列されていてもよい。このようにすることにより、実質的なノズルピッチＰが狭くなり、高精細に液滴Ｄを吐出することができる。

（液状体吐出装置の制御系について）
次に液状体吐出装置１０の制御系について図４を参照して説明する。図４は、液状体吐出装置の制御系を示すブロック図である。
図４に示すように、液状体吐出装置１０の制御系は、液滴吐出ヘッド５０、基板移動機構２０、ヘッド移動機構３０等を駆動する各種ドライバを有する駆動部４６と、駆動部４６を含め液状体吐出装置１０を制御する制御部４とを備えている。駆動部４６は、基板移動機構２０およびヘッド移動機構３０の各リニアモータをそれぞれ駆動制御する移動用ドライバ４７と、液滴吐出ヘッド５０を吐出制御するヘッドドライバ４８と、液滴吐出ヘッド５０のノズル５２からの液滴の吐出状態として着弾状態もしくは塗布状態を検査する吐出検査機構７０を制御する吐出検査用ドライバ６８と、メンテナンス機構６０の各メンテナンス用ユニットを駆動制御するメンテナンス用ドライバ４９と、吐出量計測機構を制御する図示しない吐出量計測用ドライバとを備えている。

制御部４は、ＣＰＵ４１と、ＲＯＭ４２と、ＲＡＭ４３と、Ｐ−ＣＯＮ４４とを備え、これらは互いにバス４５を介して接続されている。Ｐ−ＣＯＮ４４には、上位コンピュータ１１が接続されている。ＲＯＭ４２は、ＣＰＵ４１で処理する制御プログラム等を記憶する制御プログラム領域と、描画動作や機能回復処理等を行うための制御データ等を記憶する制御データ領域とを有している。

ＲＡＭ４３は、基板Ｂにパターンを描画するパターンデータを記憶するパターンデータ記憶部等の各種記憶部を有し、制御処理のための各種作業領域として使用される。Ｐ−ＣＯＮ４４には、駆動部４６の各種ドライバ等が接続されており、ＣＰＵ４１の機能を補うとともに、周辺回路とのインタフェース信号を取り扱うための論理回路が構成されて組み込まれている。このため、Ｐ−ＣＯＮ４４は、上位コンピュータ１１からの各種指令等をそのままあるいは加工してバス４５に取り込むとともに、ＣＰＵ４１と連動して、ＣＰＵ４１等からバス４５に出力されたデータや制御信号を、そのままあるいは加工して駆動部４６に出力する。

そして、ＣＰＵ４１は、ＲＯＭ４２内の制御プログラムに従って、Ｐ−ＣＯＮ４４を介して各種検出信号、各種指令、各種データ等を入力し、ＲＡＭ４３内の各種データ等を処理した後、Ｐ−ＣＯＮ４４を介して駆動部４６等に各種の制御信号を出力することにより、液状体吐出装置１０全体を制御している。例えば、ＣＰＵ４１は、液滴吐出ヘッド５０、基板移動機構２０およびヘッド移動機構３０を制御して、ヘッドユニット９と基板Ｂとを対向配置させる。そして、ヘッドユニット９と基板Ｂとの相対移動に同期して、ヘッドユニット９に搭載された各液滴吐出ヘッド５０の所定数のノズル５２から基板Ｂに液状体を液滴Ｄとして吐出してパターンを形成する。

この場合、Ｘ方向への基板Ｂの移動に同期して液状体を吐出することを主走査と呼び、Ｙ方向にヘッドユニット９を移動させることを副走査と呼ぶ。本実施例の液状体吐出装置１０は、主走査と副走査とを組み合わせて複数回繰り返すことにより液状体を吐出することができる。主走査は、液滴吐出ヘッド５０に対して一方向への基板Ｂの移動に限らず、基板Ｂを往復させて行うこともできる。

上位コンピュータ１１は、制御プログラムや制御データ等の制御情報を液状体吐出装置１０に送出するだけでなく、これらの制御情報を修正することもできる。また、ノズル５２の位置情報等に基づいて、基板上の吐出領域ごとに必要量の液状体を液滴Ｄとして配置する配置情報を生成する配置情報生成部としての機能を有している。配置情報は、吐出させるノズル５２と待機させるノズル５２との分類および吐出領域における液滴Ｄの吐出位置（言い換えれば、基板Ｂとノズル５２との相対位置）、液滴Ｄの配置数（言い換えれば、ノズル５２ごとの吐出数、吐出割合）、主走査における複数のノズル５２のＯＮ／ＯＦＦ、吐出タイミング等の情報を、例えば、ビットマップとして現したものである。

（第１実施例）
ここで、上述の液状体吐出装置を用いた電気光学装置としての液晶表示装置の製造方法およびこの製造方法を用いて製造された液晶表示装置について説明する。

（液晶表示装置について）
まず、液晶表示装置について、図５および図６を参照して説明する。図５は、液晶表示装置の構造を示す概略斜視図であり、図６はカラーフィルタの画素形状および画素配列例を示す平面図である。

図５に示すように、本実施例の液晶表示装置５００は、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）透過型の液晶表示パネル５２０と、液晶表示パネル５２０を照明する照明装置５１６とを備えている。液晶表示パネル５２０は、色要素としてのカラーフィルタを有する基板としての対向基板５０１と、画素電極５１０に３端子のうちの１つが接続されたＴＦＴ素子５１１を有する素子基板５０８と、両基板５０１，５０８によって挟持された液晶（図示省略）とを備えている。また、液晶表示パネル５２０の外面側となる両基板５０１，５０８の表面には、透過する光を偏向させる上偏光板５１４と下偏光板５１５とが配設される。

対向基板５０１は、透明なガラス等の材料からなり、液晶を挟む表面側に隔壁部５０４によってマトリクス状に区画された複数の膜形成領域Ｑに複数種の色要素としてＲＧＢ３色のカラーフィルタ５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂが形成されている。隔壁部５０４は、Ｃｒなどの遮光性を有する金属あるいはその酸化膜からなるブラックマトリクスと呼ばれる下層バンク５０２と、下層バンク５０２の上（図面では下向き）に形成された有機化合物からなる上層バンク５０３とにより構成されている。また対向基板５０１は、隔壁部５０４と隔壁部５０４によって区画されたカラーフィルタ５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂとを覆う平坦化層としてのオーバーコート層（ＯＣ層）５０６と、ＯＣ層５０６を覆うように形成されたＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透明導電膜からなる対向電極５０７とを備えている。カラーフィルタ５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂは後述する液晶表示装置の製造方法を用いて製造されている。

素子基板５０８は、同じく透明なガラス等の材料からなり、液晶を挟む表面側に絶縁膜５０９を介してマトリクス状に形成された画素電極５１０と、画素電極５１０に対応して形成された複数のＴＦＴ素子５１１とを有している。ＴＦＴ素子５１１の３端子のうち、画素電極５１０に接続されない他の２端子は、互いに絶縁された状態で画素電極５１０を囲むように格子状に配設された走査線５１２とデータ線５１３とに接続されている。

照明装置５１６は、光源として白色のＬＥＤ、ＥＬ、冷陰極管等を用い、これらの光源からの光を液晶表示パネル５２０に向かって出射することができる導光板や拡散板、反射板等の構成を備えたものであれば、どのようなものでもよい。

なお、液晶表示パネル５２０は、アクティブ素子としてＴＦＴ素子に限らずＴＦＤ（Thin Film Diode）素子を有したものでもよく、さらには、少なくとも一方の基板にカラーフィルタを備えるものであれば、画素を構成する電極が互いに交差するように配置されるパッシブ型の液晶表示装置でもよい。また、上下偏光板５１４，５１５は、視角依存性を改善する目的等で用いられる位相差フィルムなどの光学機能性フィルムと組み合わされたものでもよい。

なお、本実施例のカラーフィルタ５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂは、図５および図６に示すように、矩形の１つの角に四角の切り欠き部Ａを有する略矩形形状に形成され、２つの隣り合う画素を一組として切り欠き部Ａが互い違いなる様に配置され各色ごと列状に構成されている。このカラーフィルタ５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂが形成される領域のそれぞれが、膜形成領域Ｑに相当する。この実施例では、カラーフィルタ５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂの切り欠き部Ａに対向する部位に、素子基板５０８のＴＦＴ素子５１１を設けるようにしている。このように形成することによって、画素の開口面積を有効活用できるとともに、膜形成領域Ｑに吐出される液状体の有効活用が実現できる。

（液晶表示装置の製造方法）
次に本実施例の液晶表示装置の製造方法について図７〜９に基づいて説明する。図７は、液晶表示装置の製造方法を示すフローチャートである。図８は、液晶表示装置の製造方法を示す概略断面図である。図９は液滴吐出ヘッドと膜形成領域との位置関係を説明する図である。

図７に示すように、本実施例の液晶表示装置５００の製造方法は、対向基板５０１の表面に隔壁部５０４を形成する工程と、隔壁部５０４によって区画された膜形成領域Ｑを表面処理する工程とを備えている。また、上述の液状体吐出装置１０を用いて表面処理された膜形成領域Ｑに色要素形成材料としてのカラーフィルタ形成材料を含む３種（３色）の液状体を付与して、カラーフィルタ５０５を描画する色要素描画工程と、描画されたカラーフィルタ５０５を乾燥して成膜化する成膜工程とを備えている。さらに隔壁部５０４とカラーフィルタ５０５とを覆うようにＯＣ層５０６を形成する工程と、ＯＣ層５０６を覆うようにＩＴＯからなる透明な対向電極５０７を形成する工程とを備えている。

図７のステップＳ１１は、隔壁部５０４を形成する工程である。ステップＳ１１では、図８（ａ）に示すように、まずブラックマトリクスとしての下層バンク５０２を対向基板５０１上に形成する。下層バンク５０２の材料は、例えば、Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｌ等の不透明な金属、あるいはこれらの金属の酸化物等の化合物を用いることができる。下層バンク５０２の形成方法としては、蒸着法あるいはスパッタ法で上記材料からなる膜を対向基板５０１上に成膜する。膜厚は、遮光性が保たれる膜厚を選定された材料に応じて設定すればよい。例えば、Ｃｒならば、１００〜２００ｎｍが好ましい。そして、フォトリソグラフィ法により開口部５０２ａに対応する部分以外をレジストで膜を覆い、上記材料に対応する酸等のエッチング液を用いて膜をエッチングする。これにより開口部５０２ａを有する下層バンク５０２が形成される。

次に上層バンク５０３を下層バンク５０２の上に形成する。上層バンク５０３の材料としては、アクリル系の感光性樹脂材料を用いることができる。また、感光性樹脂材料は、遮光性を有することが好ましい。上層バンク５０３の形成方法としては、例えば、下層バンク５０２が形成された対向基板５０１の表面に感光性樹脂材料をロールコート法やスピンコート法で塗布し、乾燥させて厚みがおよそ２μｍの感光性樹脂層を形成する。そして、膜形成領域Ｑに対応した大きさで開口部が設けられたマスクを対向基板５０１と所定の位置で対向させて露光・現像することにより、上層バンク５０３を形成する方法が挙げられる。これにより対向基板５０１上に複数の膜形成領域Ｑをマトリクス状に区画する隔壁部５０４が形成される。そしてステップＳ１２へ進む。

図７のステップＳ１２は、表面処理工程である。ステップＳ１２では、Ｏ₂を処理ガスとするプラズマ処理とフッ素系ガスを処理ガスとするプラズマ処理とを行う。すなわち、膜形成領域Ｑが親液処理され、その後感光性樹脂からなる上層バンク５０３の表面（壁面を含む）が撥液処理される。そしてステップＳ１３へ進む。

図７のステップＳ１３は、色要素としてのカラーフィルタの描画工程である。ステップＳ１３では、図８（ｂ）に示すように、表面処理された各膜形成領域Ｑのそれぞれに、前述の液状体吐出装置１０を用いて、液状体８０Ｒ，８０Ｇ，８０Ｂを供給してカラーフィルタ５０５を描画する。液状体８０ＲはＲ（赤色）のカラーフィルタ形成材料を含むものであり、液状体８０ＧはＧ（緑色）のカラーフィルタ形成材料を含むものであり、液状体８０ＢはＢ（青色）のカラーフィルタ形成材料を含むものである。

ここで、液状体を膜形成領域Ｑに供給する方法について説明する。
図１に示す液状体吐出装置１０のステージ５に基板Ｂとして対向基板５０１を搭載する。このことによって、対向基板５０１は、ヘッドユニット９に搭載された液滴吐出ヘッド５０に対して対向配置される。本実施例では、図９（ａ）に示すように、１つの液滴吐出ヘッド５０のノズル５２に対して１組の膜形成領域Ｑ１，Ｑ２が対向配置される。

このとき、膜形成領域Ｑ１，Ｑ２には、液状体が着弾する着弾可能位置９０が設定される。液状体の着弾可能位置９０は、副走査方向（Ｙ方向）のノズル間隔と主走査方向（Ｘ方向）の液状体の吐出間隔とによって決定される。副走査方向（Ｙ方向）のノズル間隔は、液滴吐出ヘッド５０に形成されたノズルピッチＰおよび走査方向によって決定される。主走査方向（Ｘ方向）の吐出間隔は、基板移動機構２０によるステージ５の移動速度（主走査速度）および吐出信号の周波数等によって決定される。なお、本実施例では、副走査方向のノズル間隔は、図３に示すノズルピッチＰとし、主走査方向の吐出間隔は、ステージ５の移動速度および吐出信号の周波数によって決定されるピッチＶとしている。

本実施例では、例えば、膜形成領域Ｑ１，Ｑ２は、矩形の１つの角に四角の切り欠き部Ａを有する略矩形形状に形成され、切り欠き部Ａが互い違いすなわち図中点Ｈを中心に点対称になる様に配置されている。そのため、膜形成領域Ｑ１，Ｑ２内には、切り欠きがない部分においてｍ個の着弾可能位置９０からなる着弾可能位置列９２ｍを３列有し、切り欠きがある部分においてｎ（ｍ＞ｎ）個の着弾可能位置９０からなる着弾可能位置列９２ｎを３列有する。すなわち、膜形成領域Ｑ１，Ｑ２は、主走査方向において同時に複数のノズル５２と対向する着弾可能位置９０の数が変動する部分を含む。

ここで、膜形成領域Ｑ１，Ｑ２内に対向する液滴吐出ヘッド５０のノズル５２から液状体を吐出すると、図９（ｂ）に示すように、マトリクス状に配置された着弾可能位置９０のＹ方向に沿う１列目に液状体が着弾する。このとき、膜形成領域Ｑ１では、ｍ個の着弾可能位置９０に液状体が付与され、膜形成領域Ｑ２では、ｎ個の着弾可能位置９０に液状体が付与される。すなわち、液滴吐出ヘッド５０の１８０個のノズル５２のうち、ｍ＋ｎ個のノズルから液状体が吐出され、ノズルデューティは（ｍ＋ｎ）／１８０となる。

次いで、図１に示す液状体吐出装置１０の基板移動機構２０によりステージ５に搭載された対向基板５０１をＸ方向にピッチＶだけ移動させながらノズル５２から液状体を吐出する。この動作を２回繰り返す。その結果、図９（ｃ）に示すように、切り欠きのない部分に対応する膜形成領域Ｑ１、および切り欠きのある部分に対応する膜形成領域Ｑ２に対して液状体を供給することができる。

さらに、対向基板５０１をＸ方向にピッチＶだけ移動させ、ノズル５２から膜形成領域Ｑ１，Ｑ２内に液状体を吐出する。その結果、図９（ｄ）に示すように、４列目に液状体が着弾して、膜形成領域Ｑ１では、ｎ個の着弾可能位置９０に液状体が付与され、膜形成領域Ｑ２では、ｍ個の着弾可能位置９０に液状体が付与される。すなわち、液滴吐出ヘッド５０の１８０個のノズル５２のうち、ｍ＋ｎ個のノズルから液状体が吐出される。従って、ノズルデューティは（ｍ＋ｎ）／１８０となる。この動作を２回繰り返すことによって、膜形成領域Ｑ１，Ｑ２の領域内に液状体を付与することができる。

図８（ｂ）に示すように、膜形成領域Ｑに付与された各液状体８０Ｒ，８０Ｇ，８０Ｂは、膜形成領域Ｑに濡れ拡がり、表面張力によって盛り上がる。そしてステップＳ１４へ進む。

図７のステップＳ１４は、描画されたカラーフィルタ５０５を乾燥して成膜化する工程である。ステップＳ１４では、図８（ｃ）に示すように、吐出描画されたカラーフィルタ５０５を一括乾燥し、各液状体８０Ｒ，８０Ｇ，８０Ｂから溶剤成分を除去してカラーフィルタ５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂを成膜する。乾燥方法としては、溶剤成分を均質に乾燥可能な減圧乾燥などの方法が望ましい。そしてステップＳ１５へ進む。

図７のステップＳ１５は、ＯＣ層形成工程である。ステップＳ１５では、図８（ｄ）に示すように、カラーフィルタ５０５と上層バンク５０３とを覆うようにＯＣ層５０６を形成する。ＯＣ層５０６の材料としては、透明なアクリル系樹脂材料を用いることができる。形成方法としては、スピンコート法、オフセット印刷などの方法が挙げられる。ＯＣ層５０６は、カラーフィルタ５０５が形成された対向基板５０１の表面の凹凸を緩和して、後にこの表面に膜付けされる対向電極５０７を平担化するために設けられている。また、対向電極５０７との密着性を確保するために、ＯＣ層５０６の上にさらにＳｉＯ₂などの薄膜を形成してもよい。そしてステップＳ１６へ進む。

図７のステップＳ１６は、対向電極５０７を形成する工程である。ステップＳ１６では、図８（ｅ）に示すように、スパッタ法や蒸着法を用いてＩＴＯなどの透明電極材料を真空中で成膜して、ＯＣ層５０６を覆うように全面に対向電極５０７を形成する。

このようにして出来上がった対向基板５０１と画素電極５１０およびＴＦＴ素子５１１を有する素子基板５０８とを接着剤を用いて所定の位置で接着し、両基板５０１，５０８との間に液晶を充填すれば、液晶表示装置５００ができ上がる。

以下、第１実施例の効果を記載する。
（１）この液晶表示装置５００において、カラーフィルタ５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂの膜形成領域Ｑ１，Ｑ２は、液滴吐出ヘッド５０のノズル列５２ａ方向の着弾可能位置９０の数の合算値をｍ＋ｎ個にするようにできる。そのため、同一タイミングで液状体を吐出するノズル５２の数をｍ＋ｎ個にすることができる。すなわち、ノズルデューティは、常に（ｍ＋ｎ）／１８０となりノズルデューティを安定させ、ノズルデューティの変化に起因する吐出量のばらつきを低減させることができる。従って、カラーフィルタ５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂのスジ状の濃淡ムラを低減させることができ、電気光学装置としての液晶表示装置５００の画質の向上させることができる。

（第２実施例）
ここで、第２実施例について、図１０を参照して説明する。図１０は第２実施例における液滴吐出ヘッドと膜形成領域との位置関係を説明する図である。なお、第１実施例と同様な構成および内容については、符号を等しくして説明を省略する。

図１０（ａ）に示すように、第２実施例にかかる膜形成領域Ｑａ１，Ｑａ２は、矩形形状の長辺である上辺もしくは下辺の略中央部に四角の切り欠きを有する形状に形成され、２つの隣り合う膜形成領域Ｑａ１，Ｑａ２を一組として切り欠き部Ａが上辺および下辺に互い違いに位置するように配置されている。この切り欠き部Ａに対向する部位に、素子基板５０８のＴＦＴ素子５１１（図５参照）を設けられている。

ここで、この膜形成領域Ｑａ１，Ｑａ２に液状体を供給する方法について説明する。
図１に示す液状体吐出装置１０のステージ５に基板Ｂとして対向基板５０１を搭載する。このことによって、対向基板５０１は、ヘッドユニット９に搭載された液滴吐出ヘッド５０に対して対向配置される。本実施例では、図１０（ａ）に示すように、１つの液滴吐出ヘッド５０のノズル５２に対して１組の膜形成領域Ｑａ１，Ｑａ２が対向配置される。

このとき、膜形成領域Ｑａ１，Ｑａ２には、液状体が着弾する着弾可能位置９０が設定される。液状体の着弾可能位置９０は、副走査方向（Ｙ方向）のノズル間隔と主走査方向（Ｘ方向）の液状体の吐出間隔とによって決定される。副走査方向（Ｙ方向）のノズル間隔は、液滴吐出ヘッド５０に形成されたノズルピッチＰおよび走査方向によって決定される。主走査方向（Ｘ方向）の吐出間隔は、基板移動機構２０によるステージ５の移動速度（主走査速度）および吐出信号の周波数等によって決定される。なお、本実施例では、副走査方向のノズル間隔は、図３に示すノズルピッチＰとし、主走査方向の吐出間隔は、ステージ５の移動速度および吐出信号の周波数によって決定されるピッチＶとしている。

本実施例では、例えば、膜形成領域Ｑａ１，Ｑａ２内には、切り欠きがない部分においてｍ'個の着弾可能位置９０からなる着弾可能位置列９２ｍ'を４列有し、切り欠きがある部分においてｎ'（ｍ'＞ｎ'）個の着弾可能位置９０からなる着弾可能位置列９２ｎ'を２列有する。すなわち、膜形成領域Ｑａ１，Ｑａ２は、主走査方向において同時に複数のノズル５２と対向する着弾可能位置９０の数が変動する部分を含む。

ここで、膜形成領域Ｑａ１，Ｑａ２内に対向する液滴吐出ヘッド５０のノズル５２から液状体を吐出すると、図１０（ｂ）に示すように、マトリクス状に配置された着弾可能位置９０のＹ方向に沿う１列目に液状体が着弾する。このとき、膜形成領域Ｑａ１では、ｎ'個の着弾可能位置９０に液状体が付与され、膜形成領域Ｑａ２では、ｍ'個の着弾可能位置９０に液状体が付与される。すなわち、液滴吐出ヘッド５０の１８０個のノズル５２のうち、ｍ'＋ｎ'個のノズルから液状体が吐出され、ノズルデューティは（ｍ'＋ｎ'）／１８０となる。

次いで、図１に示す液状体吐出装置１０の基板移動機構２０によりステージ５に搭載された対向基板５０１をＸ方向にピッチＶだけ移動させながらノズル５２から液状体を吐出する。その結果、切り欠きのある部分に対応する膜形成領域Ｑａ１および切り欠きのない部分に対応する膜形成領域Ｑａ２に対して液状体を供給することができる。

さらに、対向基板５０１をＸ方向にピッチＶだけ移動させ、ノズル５２から膜形成領域Ｑａ１，Ｑａ２内に液状体を吐出する。その結果、図１０（ｃ）に示すように、３列目に液状体が着弾して、膜形成領域Ｑａ１では、ｍ'個の着弾可能位置９０に液状体が付与され、膜形成領域Ｑａ２では、ｍ'個の着弾可能位置９０に液状体が付与される。すなわち、液滴吐出ヘッド５０の１８０個のノズル５２のうち、ｍ'＋ｍ'個のノズルから液状体が吐出される。従って、ノズルデューティは２ｍ'／１８０となる。この動作を２回繰り返すことによって、膜形成領域Ｑａ１，Ｑａ２の領域の３列目と４列目の着弾可能位置９０に液状体を付与することができる。

次いで、対向基板５０１をＸ方向にピッチＶだけ移動させ、ノズル５２から膜形成領域Ｑａ１，Ｑａ２内に液状体を吐出する。その結果、図１０（ｄ）に示すように、５列目に液状体が着弾して、膜形成領域Ｑａ１では、ｍ'個の着弾可能位置９０に液状体が付与され、膜形成領域Ｑａ２では、ｎ'個の着弾可能位置９０に液状体が付与される。すなわち、液滴吐出ヘッド５０の１８０個のノズル５２のうち、ｍ'＋ｎ'個のノズルから液状体が吐出される。従って、ノズルデューティは（ｍ'＋ｎ'）／１８０となる。この動作を繰り返すことによって、膜形成領域Ｑａ１，Ｑａ２の領域の５列目と６列目の着弾可能位置９０に液状体を付与することができる。その結果、膜形成領域Ｑａ１，Ｑａ２の全領域内に液状体を付与することができる。
以降、第１実施例と同様な方法を用いて、液晶表示装置５００を製造する。

以下、第２実施例の効果を記載する。
（１）この液晶表示装置５００において、膜形成領域Ｑａ１，Ｑａ２は、切り欠きがある部分を互い違いに配置することによって、切り欠きのある部分に対して液滴吐出ヘッド５０のノズル列５２ａ方向の着弾可能位置９０の数の合算値をｍ'＋ｎ'個にすることができる。そのため、膜形成領域Ｑａ１，Ｑａ２の切り欠きのある部分に対して、同一タイミングで液状体を吐出するノズル５２の数をｍ'＋ｎ'個にすることができる。また、切り欠きのない部分は、同一タイミングで液状体を吐出するノズル５２の数が２ｍ'個となるが、無作為に膜形成領域Ｑａ１，Ｑａ２を配置する場合と比較して、ノズルデューティのばらつきを低減させ、ノズルデューティの変化に起因する吐出量のばらつきを低減させることができる。従って、カラーフィルタ５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂのスジ状の濃淡ムラを低減させることができ、電気光学装置としての液晶表示装置５００の画質の向上させることができる。

（第３実施例）
ここで、上述の液状体吐出装置を用いた電気光学装置としての有機ＥＬ装置の製造方法およびこの製造方法を用いて製造された有機ＥＬ装置について説明する。なお、第１実施例および第２実施例と同様な構成および内容については、符号を等しくして説明を省略する。

（有機ＥＬ装置）
図１１は、有機ＥＬ装置の要部構造を示す概略断面図である。図１１に示すように、本実施例の電気光学装置としての有機ＥＬ装置６００は、発光素子部６０３を有する素子基板６０１と、素子基板６０１と空間６２２を隔てて封着された封止基板６２０とを備えている。また素子基板６０１は、素子基板６０１上に回路素子部６０２を備えており、発光素子部６０３は、回路素子部６０２上に重畳して形成され、回路素子部６０２により駆動されるものである。発光素子部６０３には、３色の発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂがそれぞれの膜形成領域Ｑｂに形成される。素子基板６０１は、３色の発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂに対応する３つの色要素を１組の絵素とし、この絵素が素子基板６０１の回路素子部６０２上にマトリクス状に配置されたものである。本実施例の有機ＥＬ装置６００は、発光素子部６０３からの発光が素子基板６０１側に出射するものである。

封止基板６２０は、ガラス又は金属からなるもので、封止樹脂を介して素子基板６０１に接合されており、封止された内側の表面には、ゲッター剤６２１が貼り付けられている。ゲッター剤６２１は、素子基板６０１と封止基板６２０との間の空間６２２に侵入した水又は酸素を吸収して、発光素子部６０３が侵入した水又は酸素によって劣化することを防ぐものである。なお、このゲッター剤６２１は省略しても良い。

本実施例の素子基板６０１は、回路素子部６０２上に複数の膜形成領域Ｑｂを有するものであって、複数の膜形成領域Ｑｂを区画する隔壁部としてのバンク６１８と、複数の膜形成領域Ｑｂに形成された電極６１３と、電極６１３に積層された正孔注入／輸送層６１７ａとを備えている。また複数の膜形成領域Ｑｂ内に発光層形成材料を含む３種の液状体を付与して形成された発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂを有する色要素としての発光素子部６０３を備えている。バンク６１８は、下層バンク６１８ａと膜形成領域Ｑｂを実質的に区画する上層バンク６１８ｂとからなり、下層バンク６１８ａは、膜形成領域Ｑｂの内側に張り出すように設けられて、電極６１３と各発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂとが直接接触して電気的に短絡することを防止するためにＳｉＯ₂等の無機絶縁材料により形成されている。

素子基板６０１は、例えばガラス等の透明な基板からなり、素子基板６０１上にシリコン酸化膜からなる下地保護膜６０６が形成され、この下地保護膜６０６上に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜６０７が形成されている。なお、半導体膜６０７には、ソース領域６０７ａ及びドレイン領域６０７ｂが高濃度Ｐイオン打ち込みにより形成されている。なお、Ｐが導入されなかった部分がチャネル領域６０７ｃとなっている。さらに下地保護膜６０６及び半導体膜６０７を覆う透明なゲート絶縁膜６０８が形成され、ゲート絶縁膜６０８上にはＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等からなるゲート電極６０９が形成され、ゲート電極６０９及びゲート絶縁膜６０８上には透明な第１層間絶縁膜６１１ａと第２層間絶縁膜６１１ｂが形成されている。ゲート電極６０９は半導体膜６０７のチャネル領域６０７ｃに対応する位置に設けられている。また、第１層間絶縁膜６１１ａおよび第２層間絶縁膜６１１ｂを貫通して、半導体膜６０７のソース領域６０７ａ、ドレイン領域６０７ｂにそれぞれ接続されるコンタクトホール６１２ａ，６１２ｂが形成されている。そして、第２層間絶縁膜６１１ｂ上に、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等からなる透明な電極６１３が所定の形状にパターニングされて配置され（電極形成工程）、一方のコンタクトホール６１２ａがこの電極６１３に接続されている。また、もう一方のコンタクトホール６１２ｂが電源線６１４に接続されている。このようにして、回路素子部６０２には、各電極６１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ６１５が形成されている。なお、回路素子部６０２には、保持容量とスイッチング用の薄膜トランジスタも形成されているが、図１１ではこれらの図示を省略している。

発光素子部６０３は、陽極としての電極６１３と、電極６１３上に順次積層された正孔注入／輸送層６１７ａ、各発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂ（総称して発光層６１７ｂ）と、上層バンク６１８ｂと発光層６１７ｂとを覆うように積層された陰極６０４とを備えている。なお、陰極６０４と封止基板６２０およびゲッター剤６２１を透明な材料で構成すれば、封止基板６２０側から発光する光を出射させることができる。

有機ＥＬ装置６００は、ゲート電極６０９に接続された走査線（図示省略）とソース領域６０７ａに接続された信号線（図示省略）とを有し、走査線に伝わった走査信号によりスイッチング用の薄膜トランジスタ（図示省略）がオンになると、そのときの信号線の電位が保持容量に保持され、該保持容量の状態に応じて、駆動用の薄膜トランジスタ６１５のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用の薄膜トランジスタ６１５のチャネル領域６０７ｃを介して、電源線６１４から電極６１３に電流が流れ、さらに正孔注入／輸送層６１７ａと発光層６１７ｂとを介して陰極６０４に電流が流れる。発光層６１７ｂは、これを流れる電流量に応じて発光する。有機ＥＬ装置６００は、このような発光素子部６０３の発光メカニズムにより、所望の文字や画像などを表示することができる。

なお、本実施例の発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂは、図１２に示すように、三角形状に形成され、２つの隣り合う同色の発光層６１７を一組として、三角形の頂点と底辺とが互い違いになるように配置され各色ごと列状に構成されている。この発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂが形成される領域のそれぞれが、膜形成領域Ｑｂに相当する。このように形成することによって、解像度アップや無駄のない画素配置が実現できる。

（有機ＥＬ装置の製造方法）
次に本実施例の有機ＥＬ装置の製造方法について図１３および図１４に基づいて説明する。図１３は、有機ＥＬ装置の製造方法を示すフローチャート、図１４は、有機ＥＬ装置の製造方法を示す概略断面図である。なお、図１４（ａ）〜（ｆ）においては、素子基板６０１上に形成された回路素子部６０２は、図示を省略している。

図１３に示すように、有機ＥＬ装置の製造方法は、素子基板６０１の複数の膜形成領域Ｑｂに対応する位置に電極６１３を形成する工程と、電極６１３に一部が掛かるように下層バンク６１８ａを形成し、さらに下層バンク６１８ａ上に実質的に膜形成領域Ｑｂを区画するように上層バンク６１８ｂを形成するバンク（隔壁部）形成工程とを備えている。また上層バンク６１８ｂで区画された膜形成領域Ｑｂの表面処理を行う工程と、表面処理された膜形成領域Ｑｂに正孔注入／輸送層形成材料を含む液状体を付与して正孔注入／輸送層６１７ａを吐出描画する工程と、吐出された液状体を乾燥して正孔注入／輸送層６１７ａを成膜する工程とを備えている。また、正孔注入／輸送層６１７ａが形成された膜形成領域Ｑｂの表面処理を行う工程と、表面処理された膜形成領域Ｑｂに色要素形成材料としての発光層形成材料を含む３種の液状体を付与して発光層６１７ｂを吐出描画する色要素描画工程としての発光層描画工程と、吐出された３種の液状体を乾燥して発光層６１７ｂを成膜する工程とを備えている。さらに、上層バンク６１８ｂと発光層６１７ｂを覆うように陰極６０４を形成する工程を備えている。各液状体の膜形成領域Ｑｂへの付与は、液状体吐出装置１０を用いて行う。

図１３のステップＳ２１は、電極（陽極）形成工程である。ステップＳ２１では、図１４（ａ）に示すように、回路素子部６０２がすでに形成された素子基板６０１の膜形成領域Ｑｂに対応する位置に電極６１３を形成する。形成方法としては、例えば、素子基板６０１の表面にＩＴＯ等の透明電極材料を用いて真空中でスパッタ法あるいは蒸着法で透明電極膜を形成する。その後、フォトリソグラフィ法にて必要な部分だけを残してエッチングして電極６１３を形成する方法が挙げられる。また、フォトレジストで素子基板６０１を先に覆って、電極６１３を形成する領域が開口するように露光・現像する。そして開口部にＩＴＯ等の透明電極膜を形成し、残存したフォトレジストを除く方法でもよい。そしてステップＳ２２へ進む。

図１３のステップＳ２２は、バンク（隔壁部）形成工程である。ステップＳ２２では、図１４（ｂ）に示すように、素子基板６０１の複数の電極６１３の一部を覆うように下層バンク６１８ａを形成する。下層バンク６１８ａの材料としては、無機材料である絶縁性のＳｉＯ₂（酸化珪素）を用いている。下層バンク６１８ａの形成方法としては、例えば、後に形成される発光層６１７ｂに対応して、各電極６１３の表面をレジスト等を用いてマスキングする。そしてマスキングされた素子基板６０１を真空装置に投入し、ＳｉＯ₂をターゲットあるいは原料としてスパッタリングや真空蒸着することにより下層バンク６１８ａを形成する方法が挙げられる。レジスト等のマスキングは、後に剥離する。なお、下層バンク６１８ａは、ＳｉＯ₂により形成されているため、その膜厚が２００ｎｍ以下であれば十分な透明性を有しており、後に正孔注入／輸送層６１７ａおよび発光層６１７ｂが積層されても発光を阻害することはない。

続いて、各膜形成領域Ｑｂを実質的に区画するように下層バンク６１８ａの上に上層バンク６１８ｂを形成する。上層バンク６１８ｂの材料としては、後述する発光層形成材料を含む３種の液状体８４Ｒ，８４Ｇ，８４Ｂの溶媒に対して耐久性を有するものであることが望ましく、さらに、フッ素系ガスを処理ガスとするプラズマ処理によりテトラフルオロエチレン化できること、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、感光性ポリイミドなどといった有機材料が好ましい。上層バンク６１８ｂの形成方法としては、例えば、下層バンク６１８ａが形成された素子基板６０１の表面に感光性の前記有機材料をロールコート法やスピンコート法で塗布し、乾燥させて厚みがおよそ２μｍの感光性樹脂層を形成する。そして、膜形成領域Ｑｂに対応した大きさで開口部が設けられたマスクを素子基板６０１と所定の位置で対向させて露光・現像することにより、上層バンク６１８ｂを形成する方法が挙げられる。これにより下層バンク６１８ａと上層バンク６１８ｂとを有する隔壁部としてのバンク６１８が形成される。そして、ステップＳ２３へ進む。

図１３のステップＳ２３は、膜形成領域Ｑｂを表面処理する工程である。ステップＳ２３では、バンク６１８が形成された素子基板６０１の表面を、まずＯ₂ガスを処理ガスとしてプラズマ処理する。これにより電極６１３の表面、下層バンク６１８ａの張り出し部および上層バンク６１８ｂの表面（壁面を含む）を活性化させて親液処理する。次にＣＦ₄等のフッ素系ガスを処理ガスとしてプラズマ処理する。これにより有機材料である感光性樹脂からなる上層バンク６１８ｂの表面のみにフッ素系ガスが反応して撥液処理される。そして、ステップＳ２４へ進む。

図１３のステップＳ２４は、正孔注入／輸送層形成工程である。ステップＳ２４では、図１４（ｃ）に示すように、正孔注入／輸送層形成材料を含む液状体８２を膜形成領域Ｑｂに付与する。液状体８２を付与する方法としては、前述の液状体吐出装置１０を用いる。液滴吐出ヘッド５０から吐出された液状体８２は、液滴として素子基板６０１の電極６１３に着弾する。この液状体の付与方法については後述する。そしてステップＳ２５へ進む。

図１３のステップＳ２５は、乾燥・成膜工程である。ステップＳ２５では、素子基板６０１を例えばランプアニール等の方法で加熱することにより、液状体８２の溶媒成分を乾燥させて除去し、電極６１３の下層バンク６１８ａにより区画された領域に正孔注入／輸送層６１７ａが形成される。本実施例では、正孔注入／輸送層形成材料としてＰＥＤＯＴ（Polyethylene Dioxy Thiophene；ポリエチレンジオキシチオフェン）を用いた。なお、この場合、各膜形成領域Ｑｂに同一材料からなる正孔注入／輸送層６１７ａを形成したが、後の発光層の形成材料に対応して正孔注入／輸送層６１７ａの材料を膜形成領域Ｑｂごとに変えてもよい。そしてステップＳ２６へ進む。

図１３のステップＳ２６は、正孔注入／輸送層６１７ａが形成された素子基板６０１を表面処理する工程である。ステップＳ２６では、上記の正孔注入／輸送層形成材料を用いて正孔注入／輸送層６１７ａを形成した場合、その表面が、次のステップＳ２７で用いられる３種の液状体８４Ｒ，８４Ｇ，８４Ｂに対して撥液性を有するので、少なくとも膜形成領域Ｑｂの領域内を再び親液性を有するように表面処理を行う。表面処理の方法としては、３種の液状体８４Ｒ，８４Ｇ，８４Ｂに用いられる溶媒を塗布して乾燥する。溶媒の塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法等の方法が挙げられる。そしてステップＳ２７へ進む。

図１３のステップＳ２７は、ＲＧＢ発光層描画工程である。ステップＳ２７では、図１４（ｄ）に示すように、液状体吐出装置１０を用いて異なる液滴吐出ヘッド５０から複数の膜形成領域Ｑｂに発光層形成材料を含む３種の液状体８４Ｒ，８４Ｇ，８４Ｂを付与する。液状体８４Ｒは発光層６１７Ｒ（赤色）を形成する材料を含み、液状体８４Ｇは発光層６１７Ｇ（緑色）を形成する材料を含み、液状体８４Ｂは発光層６１７Ｂ（青色）を形成する材料を含んでいる。着弾した各液状体８４Ｒ，８４Ｇ，８４Ｂは、膜形成領域Ｑｂに濡れ拡がって断面形状が円弧状に盛り上がる。この液状体の付与方法については後述する。そして、ステップＳ２８へ進む。

図１３のステップＳ２８は、乾燥・成膜工程である。ステップＳ２８では、図１４（ｅ）に示すように、吐出描画された各液状体８４Ｒ，８４Ｇ，８４Ｂの溶媒成分を乾燥させて除去し、各膜形成領域Ｑｂの正孔注入／輸送層６１７ａに各発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂが積層されるように成膜化する。各液状体８４Ｒ，８４Ｇ，８４Ｂが吐出描画された素子基板６０１の乾燥方法としては、溶媒の蒸発速度をほぼ一定とすることが可能な、減圧乾燥が好ましい。そしてステップＳ２９へ進む。

図１３のステップＳ２９は、陰極形成工程である。ステップＳ２９では、図１４（ｆ）に示すように、素子基板６０１の各発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂと上層バンク６１８ｂの表面とを覆うように陰極６０４を形成する。陰極６０４の材料としては、Ｃａ、Ｂａ、Ａｌ等の金属やＬｉＦ等のフッ化物を組み合わせて用いるのが好ましい。特に発光層に近い側に仕事関数が小さいＣａ、Ｂａ、ＬｉＦの膜を形成し、遠い側に仕事関数が大きいＡｌ等の膜を形成するのが好ましい。また、陰極６０４の上にＳｉＯ₂、ＳｉＮ等の保護層を積層してもよい。このようにすれば、陰極６０４の酸化を防止することができる。陰極６０４の形成方法としては、蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等が挙げられる。特に発光層の熱による損傷を防止できるという点では、蒸着法が好ましい。このようにして出来上がった素子基板６０１を用いて有機ＥＬ装置６００を製造する。

（液状体の付与方法について）
ここで、膜形成領域Ｑｂに、正孔注入／輸送層形成材料を含む液状体８２および発光層形成材料を含む３種の液状体８４Ｒ，８４Ｇ，８４Ｂを付与する方法について説明する。

図１に示す液状体吐出装置１０のステージ５に基板Ｂとして素子基板６０１を搭載する。このことによって、素子基板６０１は、ヘッドユニット９に搭載された液滴吐出ヘッド５０に対して対向配置される。本実施例では、図１５（ａ）に示すように、１つの液滴吐出ヘッド５０のノズル５２に対して１組の膜形成領域Ｑｂ１，Ｑｂ２が対向配置される。

このとき、膜形成領域Ｑｂ１，Ｑｂ２には、液状体が着弾する着弾可能位置９０が設定される。液状体の着弾可能位置９０は、副走査方向（Ｙ方向）のノズル間隔と主走査方向（Ｘ方向）の液状体の吐出間隔とによって決定される。副走査方向（Ｙ方向）のノズル間隔は、液滴吐出ヘッド５０に形成されたノズルピッチＰおよび走査方向によって決定される。主走査方向（Ｘ方向）の吐出間隔は、基板移動機構２０によるステージ５の移動速度（主走査速度）および吐出信号の周波数等によって決定される。なお、本実施例では、副走査方向のノズル間隔は、図３に示すノズルピッチＰとし、主走査方向の吐出間隔は、ステージ５の移動速度および吐出信号の周波数によって決定されるピッチＶとしている。

本実施例では、例えば、膜形成領域Ｑｂ１，Ｑｂ２は、三角形状に形成され、２つの隣り合う同色の膜形成領域Ｑｂ１，Ｑｂ２を一組として、三角形の頂点と底辺とが互い違いになるように配置されている。そのため、膜形成領域Ｑｂ１，Ｑｂ２内には、三角形の底辺に平行な位置に最大ｋ個の着弾可能位置９０を有し、三角形の頂点に近い位置に１個の着弾可能位置９０を有している。また、主走査方向において列を移動するごとに着弾可能位置９０の数は２個ずつ増減するようになっている。

ここで、膜形成領域Ｑｂ１，Ｑｂ２内に対向する液滴吐出ヘッド５０のノズル５２から液状体を吐出すると、図１５（ｂ）に示すように、マトリクス状に配置された着弾可能位置９０のＹ方向に沿う１列目に液状体が着弾する。このとき、膜形成領域Ｑｂ１では、１個の着弾可能位置９０に液状体が付与され、膜形成領域Ｑｂ２では、ｋ個の着弾可能位置９０に液状体が付与される。すなわち、液滴吐出ヘッド５０の１８０個のノズル５２のうち、１＋ｋ個のノズルから液状体が吐出され、ノズルデューティは（１＋ｋ）／１８０となる。

次いで、図１に示す液状体吐出装置１０の基板移動機構２０によりステージ５に搭載された素子基板６０１をＸ方向にピッチＶだけ移動させながらノズル５２から液状体を吐出する。この動作を２回繰り返す。その結果、図１５（ｃ）に示すように、膜形成領域Ｑｂ１、および膜形成領域Ｑｂ２に対してＸ方向３列目まで液状体を供給することができる。

このとき、２列目では、膜形成領域Ｑｂ１では、３個の着弾可能位置９０に液状体が付与され、膜形成領域Ｑｂ２では、ｋ−２個の着弾可能位置９０に液状体が付与される。すなわち、液滴吐出ヘッド５０の１８０個のノズル５２のうち、３＋（ｋ−２）個のノズルから液状体が吐出され、ノズルデューティは（１＋ｋ）／１８０となる。３列目では、膜形成領域Ｑｂ１では、５個の着弾可能位置９０に液状体が付与され、膜形成領域Ｑｂ２では、ｋ−４個の着弾可能位置９０に液状体が付与される。すなわち、液滴吐出ヘッド５０の１８０個のノズル５２のうち、５＋（ｋ−４）個のノズルから液状体が吐出され、ノズルデューティは（１＋ｋ）／１８０となる。

このようにして、素子基板６０１をＸ方向にピッチＶだけ移動させながら、図１５（ｄ）に示すように、各列ごとにノズル５２から膜形成領域Ｑｂ１，Ｑｂ２内に液状体を吐出する。この場合、上記と同様に各列ごとに、液滴吐出ヘッド５０の１８０個のノズル５２のうち、１＋ｋ個のノズル５２から液状体が吐出され、ノズルデューティは（１＋ｋ）／１８０となる。

以下、第３実施例の効果を記載する。
（１）この有機ＥＬ装置６００において、膜形成領域Ｑｂ１，Ｑｂ２は、液滴吐出ヘッドのノズル列５２ａ方向の着弾可能位置９０の数の合算値を常に１＋ｋ個にすることができる。そのため、同一タイミングで液状体を吐出するノズル５２の数を１＋ｋ個にすることができる。すなわち、ノズルデューティは、常に（１＋ｋ）／１８０となりノズルデューティを安定させ、ノズルデューティの変化に起因する吐出量のばらつきを低減させることができる。従って、発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂおよび正孔注入／輸送層６１７ａのスジ状の濃淡ムラを低減させることができ、電気光学装置としての有機ＥＬ装置６００の画質の向上させることができる。

（第４実施例）
次に第１実施例または第２実施例の液晶表示装置あるいは第３実施例の有機ＥＬ装置を搭載した電子機器について説明する。図１６は、電子機器としての携帯型情報処理装置を示す概略斜視図である。

図１６に示すように、本実施形態の電子機器としての携帯型情報処理装置７００は、入力用のキーボード７０２を有する情報処理装置本体７０１と、表示部７０３とを備えている。表示部７０３には、液晶表示装置５００あるいは有機ＥＬ装置６００が搭載されている。

第４実施例の効果は、以下の通りである。
（１）本実施形態の携帯型情報処理装置７００は、第１実施例または第２実施例の液晶表示装置あるいは第３実施例の有機ＥＬ装置を搭載しているため、スジ状の濃淡ムラ等の表示不具合の少ない、高い表示品質で文字や画像等の情報を確認することが可能な電子機器としての携帯型情報処理装置７００を提供することができる。

以上、本発明の実施形態について説明したが、上記実施形態に対しては、本発明の趣旨から逸脱しない範囲で様々な変形を加えることができる。例えば上記実施形態以外の変形例は、以下の通りである。

（変形例１）上記の膜形成領域Ｑの形状は、実施例であり上述した形状に限定されず、様々な変形が可能である。例えば、変形例を説明する図である図１７に示すように、２つの隣り合う矩形形状の画素において、向かい合う一方の短辺に凸部を有し、他方の短辺に凹部を有し相互に面積を補完する形状であってもよい。すなわち、少なくとも２つ以上の膜形成領域Ｑにおいては、同時に複数のノズル５２と対向する着弾可能位置９０の数の合算値が主走査方向において同一である部分を含んでいればよい。

液状体吐出装置の構成を示す概略斜視図。 液滴吐出ヘッドの構造を示す概略図。 ヘッドユニットにおける液滴吐出ヘッドの配置を示す概略平面図。 液状体吐出装置の制御系を示すブロック図。 液晶表示装置の構造を示す概略斜視図。 第１実施例におけるカラーフィルタの画素形状および画素配列例を示す図。 液晶表示装置の製造方法を示すフローチャート。 液晶表示装置の製造方法を示す概略断面図。 第１実施例における液滴吐出ヘッドと膜形成領域との位置関係を説明する図。 第２実施例における液滴吐出ヘッドと膜形成領域との位置関係を説明する図。 第３実施例における有機ＥＬ装置の要部構造を示す概略断面図。 第３実施例における有機ＥＬ装置の画素形状および画素配列例を示す図。 有機ＥＬ装置の製造方法を示すフローチャート。 有機ＥＬ装置の製造方法を示す概略断面図。 第３実施例における液滴吐出ヘッドと膜形成領域との位置関係を説明する図。 第４実施例における電子機器としての携帯型情報処理装置を示す斜視図。 変形例を説明する図。

符号の説明

１０…液状体吐出装置、２０…基板移動機構、３０…ヘッド移動機構、５０…液滴吐出ヘッド、５２…ノズル、５２ａ…ノズル列、９０…着弾可能位置、５００…液晶表示装置、５０１…対向基板、５０５，５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂ…カラーフィルタ、６００…有機ＥＬ装置、６０１…素子基板、６１７，６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂ…発光層、６１７ａ…正孔注入／輸送層、Ｑ，Ｑａ，Ｑａ１，Ｑａ２，Ｑｂ，Ｑｂ１，Ｑｂ２…膜形成領域。

Claims (8)

1. 液状体を吐出する複数のノズルが列状に配置されたノズル列と基板とを主走査方向に相対移動させながら、前記ノズルから前記液状体が前記基板上に吐出されて形成される複数の膜形成領域を有する電気光学装置において、
   前記膜形成領域には、前記ノズル列方向のノズル間隔と前記主走査方向の吐出間隔とにより前記液状体が着弾する複数の着弾可能位置が設定され、
   少なくとも２つ以上の前記膜形成領域は、同時に前記複数のノズルと対向する前記着弾可能位置の数の合算値が前記主走査方向において同一である部分を含むことを特徴とする電気光学装置。
2. 前記膜形成領域は、前記主走査方向において同時に前記複数のノズルと対向する前記着弾可能位置の数が変動する部分を含むことを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
3. 複数の前記膜形成領域は、形状または配置が異なる第１領域と第２領域とからなり、
   前記複数のノズルと同時に対向する前記着弾可能位置の数が、前記第１領域と前記第２領域とは異なる数に設定されている部分を含むことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の電気光学装置。
4. 液状体を吐出する複数のノズルが列状に配置されたノズル列と基板とを主走査方向に相対移動させながら、前記ノズルから前記液状体が前記基板上に吐出されて形成される複数の膜形成領域を有する電気光学装置において、
   前記膜形成領域には、前記ノズル列方向のノズル間隔と前記主走査方向の吐出間隔とにより前記液状体が着弾する複数の着弾可能位置が設定され、
   前記ノズル列に対向する少なくとも２つ以上の前記膜形成領域は、同時に前記複数のノズルと対向する前記着弾可能位置の数の合算値が、前記主走査方向において同一であることを特徴とする電気光学装置。
5. 前記膜形成領域は、前記主走査方向において同時に前記複数のノズルと対向する前記着弾可能位置の数が変動することを特徴とする請求項４に記載の電気光学装置。
6. 複数の前記膜形成領域は、形状または配置が異なる第１領域と第２領域とからなり、
   前記複数のノズルと同時に対向する前記着弾可能位置の数が、前記第１領域と前記第２領域とは異なる数に設定されていることを特徴とする請求項４または請求項５に記載の電気光学装置。
7. 前記第１領域内の前記着弾可能位置の数と前記第２領域内の前記着弾可能位置の数とは同数に設定されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の電気光学装置。
8. 請求項１乃至７のいずれか一項に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。

Images