[go: up one dir, main page]

JP2009227590A - Method for producing alicyclic saturated hydrocarbon compound - Google Patents

Method for producing alicyclic saturated hydrocarbon compound Download PDF

Info

Publication number
JP2009227590A
JP2009227590A JP2008072215A JP2008072215A JP2009227590A JP 2009227590 A JP2009227590 A JP 2009227590A JP 2008072215 A JP2008072215 A JP 2008072215A JP 2008072215 A JP2008072215 A JP 2008072215A JP 2009227590 A JP2009227590 A JP 2009227590A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
saturated hydrocarbon
hydrocarbon compound
alicyclic saturated
adsorbent
liquid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008072215A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Satoru Hirano
哲 平野
Taiichi Furukawa
泰一 古川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JSR Corp
Original Assignee
JSR Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by JSR Corp filed Critical JSR Corp
Priority to JP2008072215A priority Critical patent/JP2009227590A/en
Publication of JP2009227590A publication Critical patent/JP2009227590A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

【課題】193nmにおける透過率に優れる液浸露光用液体として好適な脂環式飽和炭化水素化合物の透過率をより向上させることができると共に、製造コストを抑え、安定的に液浸露光用液体を工業的に製造する。
【解決手段】波長193nmにおける液体の光路長1mmあたりの透過率の平均値が99%以上である脂環式飽和炭化水素化合物を製造する方法であって、原料脂環式飽和炭化水素化合物をアルミナ、シリカアルミナおよびゼオライトから選ばれた少なくとも1つの吸着剤に2時間〜20時間接触させる液接触工程を含み、該工程に用いられる上記吸着剤の形状がペレットまたはビーズなどの粒塊である。
【選択図】なし
[PROBLEMS] To improve the transmittance of an alicyclic saturated hydrocarbon compound suitable as an immersion exposure liquid having excellent transmittance at 193 nm, and to reduce the manufacturing cost and stably provide an immersion exposure liquid. Manufactured industrially.
A method for producing an alicyclic saturated hydrocarbon compound having an average transmittance of 99% or more per 1 mm optical path length of a liquid at a wavelength of 193 nm, the raw alicyclic saturated hydrocarbon compound being alumina. And a liquid contact step in which at least one adsorbent selected from silica alumina and zeolite is contacted for 2 to 20 hours, and the shape of the adsorbent used in the step is agglomerates such as pellets or beads.
[Selection figure] None

Description

本発明は脂環式飽和炭化水素化合物の製造方法に関し、特に液浸露光装置または液浸露光方法に用いるために透過率を向上させることができる脂環式飽和炭化水素化合物の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing an alicyclic saturated hydrocarbon compound, and more particularly to a method for producing an alicyclic saturated hydrocarbon compound capable of improving the transmittance for use in an immersion exposure apparatus or an immersion exposure method.

半導体素子等を製造するのに際し、フォトマスクとしてのレチクルのパターンを投影光学系を介して、フォトレジストが塗布されたウエハ上の各ショット領域に転写するステッパー型、またはステップアンドスキャン方式の投影露光装置が使用されている。
投影露光装置に備えられている投影光学系の解像度の理論限界値は、使用する露光波長が短く、投影光学系の開口数が大きいほど高くなる。そのため、集積回路の微細化に伴い投影露光装置で使用される放射線の波長である露光波長は年々短波長化しており、投影光学系の開口数も増大してきている。
このように、半導体素子等の製造分野においては、従来、露光光源の短波長化、開口数の増大により集積回路の微細化要求に応えてきており、現在では露光光源としてArFエキシマレーザ(波長193nm)を用いた1L1S(1:1ラインアンドスペース)ハーフピッチ90nmノードの量産化が検討されている。しかしながら、更に微細化が進んだ次世代のハーフピッチ65nmノードあるいは45nmノードについてはArFエキシマレーザの使用のみによる達成は困難であるといわれている。そこで、これらの次世代技術についてはF2エキシマレーザ(波長157nm)、EUV(波長13nm)等の短波長光源の使用が検討されている。しかしながら、これらの光源の使用については技術的難易度が高く、現状ではまだ使用が困難な状況にある。
Stepper-type or step-and-scan projection exposure that transfers a reticle pattern as a photomask to each shot area on a photoresist-coated wafer via a projection optical system when manufacturing semiconductor elements, etc. The device is in use.
The theoretical limit value of the resolution of the projection optical system provided in the projection exposure apparatus becomes higher as the exposure wavelength used is shorter and the numerical aperture of the projection optical system is larger. For this reason, with the miniaturization of integrated circuits, the exposure wavelength, which is the wavelength of radiation used in the projection exposure apparatus, has become shorter year by year, and the numerical aperture of the projection optical system has also increased.
As described above, in the field of manufacturing semiconductor devices and the like, conventionally, the exposure light source has been shortened in wavelength and the numerical aperture has been increased to meet the demand for miniaturization of an integrated circuit. At present, an ArF excimer laser (wavelength: 193 nm) is used as an exposure light source. ) Using 1L1S (1: 1 line and space) half pitch 90 nm node is under study. However, it is said that it is difficult to achieve the next generation half pitch 65 nm node or 45 nm node, which is further miniaturized, only by using an ArF excimer laser. Thus, for these next-generation technologies, the use of short-wavelength light sources such as F 2 excimer laser (wavelength 157 nm), EUV (wavelength 13 nm), etc. is being studied. However, the use of these light sources is technically difficult and is still difficult to use.

ところで、上記の露光技術においては、露光されるウエハ表面にはフォトレジスト膜が形成されており、このフォトレジスト膜にパターンが転写される。従来の投影露光装置では、ウエハが配置される空間は屈折率が1の空気または窒素で満たされている。
屈折率nの液体を投影露光装置のレンズとウエハの間に満たし、適当な光学系を設定することにより、解像度の限界値および焦点深度をそれぞれn分の1、n倍にすることが理論的に可能である。例えば、ArFプロセスで、レンズとウエハの間に満たす液体として水を使用すると波長193nmの光の水中での屈折率nはn=1.44であるから、空気または窒素を媒体とする露光時と比較し、解像度が69.4%、焦点深度が144%となる光学系の設計が理論上可能となる。
このように露光するための放射線の実効波長を短波長化し、より微細なパターンを転写できる投影露光する方法を液浸露光といい、今後のリソグラフィーの微細化、特に数10nm単位のリソグラフィーには、必須の技術と考えられている。
In the above exposure technique, a photoresist film is formed on the exposed wafer surface, and a pattern is transferred to the photoresist film. In a conventional projection exposure apparatus, a space in which a wafer is placed is filled with air or nitrogen having a refractive index of 1.
Theoretically, the limit value of resolution and the depth of focus are increased to 1 / n and n times, respectively, by filling a liquid of refractive index n between the lens of the projection exposure apparatus and the wafer and setting an appropriate optical system. Is possible. For example, in the ArF process, when water is used as the liquid filled between the lens and the wafer, the refractive index n of water having a wavelength of 193 nm in water is n = 1.44. In comparison, it is theoretically possible to design an optical system with a resolution of 69.4% and a focal depth of 144%.
A projection exposure method capable of shortening the effective wavelength of radiation for exposure and transferring a finer pattern is referred to as immersion exposure, and for future miniaturization of lithography, particularly lithography of several tens of nanometers, It is considered an essential technology.

本願出願人は、液浸露光方法において、従来液浸露光用液体として使用されている純水よりも屈折率が大きく、優れた透過性を有し、フォトレジスト膜あるいはその上層膜成分(とりわけ親水性成分)の溶出や溶解を防ぎ、レンズを浸食せずレジストパターンの生成時の欠陥を抑えることができ、液浸用液体として使用した場合、より解像度および焦点深度の優れたパターンを形成できる液浸露光用液体の提供を目的として、種々の化合物について検討を行なった結果、遠紫外領域における吸収が小さく、液浸露光用液体として好適な高屈折率を有する脂環式飽和炭化水素化合物について出願している(特許文献1)。
しかし、公知の方法で合成され、または市場で入手できる脂環式飽和炭化水素化合物を液浸露光用液体に用いた場合、一般に遠紫外領域に大きな吸収を有するため、透過率の不足により、感度低下に伴うスループットの低下、液体の光吸収による液体の発熱による屈折率変動に起因する光学像のデフォーカス、歪み、あるいは光学像のデフォーカスによる解像度、パターン形状の劣化等の問題が生じる場合があった。
In the immersion exposure method, the applicant of the present invention has a refractive index larger than that of pure water conventionally used as a liquid for immersion exposure, and has excellent transparency, and a photoresist film or its upper layer film component (especially hydrophilic layer). Liquid) that can prevent elution and dissolution of the active ingredient), suppress the defects during resist pattern generation without eroding the lens, and can form patterns with better resolution and depth of focus when used as an immersion liquid. As a result of investigating various compounds for the purpose of providing immersion exposure liquids, we have filed applications for alicyclic saturated hydrocarbon compounds that have low absorption in the far ultraviolet region and have a high refractive index suitable as immersion exposure liquids. (Patent Document 1).
However, when an alicyclic saturated hydrocarbon compound synthesized by a known method or available on the market is used as a liquid for immersion exposure, it generally has a large absorption in the far ultraviolet region. There are cases where problems such as degradation of throughput due to decrease in throughput due to reduction, optical image defocus and distortion due to refractive index fluctuation due to heat generation of liquid due to light absorption of liquid, degradation of pattern shape, etc. due to defocus of optical image there were.

遠紫外領域における吸収は、非常に微量であっても透過率に大きく影響する炭素−炭素不飽和結合または芳香族環を有する化合物、カルボニル基、水酸基等の官能基を有する化合物が不純物として原料となる脂環式飽和炭化水素化合物に僅かに存在しているためと考えられることから、処理温度の異なる複数の硫酸洗浄処理工程を含み、少なくとも最終硫酸洗浄処理工程の処理温度が該洗浄処理工程より前の処理工程の処理温度よりも低い処理温度で処理することを特徴とする方法を本発明者等は既に提案している(特許文献2)。 また、吸着剤を用いて脂環式飽和炭化水素化合物を精製する方法が開示されている(特許文献3および4)。
しかしながら、上記精製方法であっても脂環式飽和炭化水素化合物の193nmにおける透過率が十分に向上しなかったり、工数が煩雑になったりするという問題がある。例えば特許文献3の方法では193nmにおける透過率を光路長1mmあたり99%以上に高められない。また特許文献4の方法では透過率を高めるのに2種類の吸着剤を使用しなくてはならないという問題がある。更に、特許文献3および特許文献4の方法では、液浸露光用液体の工業的製造を図ろうとした場合に、効率よく脂環式飽和炭化水素化合物を吸着剤で処理できないという問題がある。
Absorption in the far-ultraviolet region is a compound having a carbon-carbon unsaturated bond or an aromatic ring, which has a large influence on the transmittance even in a very small amount, and a compound having a functional group such as a carbonyl group or a hydroxyl group as impurities. The alicyclic saturated hydrocarbon compound is considered to be slightly present, and therefore includes a plurality of sulfuric acid washing treatment steps having different treatment temperatures, and at least the final sulfuric acid washing treatment step has a treatment temperature higher than that of the washing treatment step. The present inventors have already proposed a method characterized by processing at a processing temperature lower than the processing temperature of the previous processing step (Patent Document 2). Moreover, the method of refine | purifying an alicyclic saturated hydrocarbon compound using an adsorbent is disclosed (patent documents 3 and 4).
However, even with the above purification method, there are problems that the transmittance at 193 nm of the alicyclic saturated hydrocarbon compound is not sufficiently improved, and the man-hours are complicated. For example, in the method of Patent Document 3, the transmittance at 193 nm cannot be increased to 99% or more per 1 mm of the optical path length. Further, the method of Patent Document 4 has a problem that two kinds of adsorbents must be used to increase the transmittance. Furthermore, the methods of Patent Document 3 and Patent Document 4 have a problem that when an attempt is made to industrially manufacture a liquid for immersion exposure, an alicyclic saturated hydrocarbon compound cannot be efficiently treated with an adsorbent.

吸着剤処理によって液浸露光用液体の工業的製造を実施する手法としては、固定層法、攪拌槽吸着法、移動層法、流動層法などが挙げられるが、一般的には固定層法または攪拌槽吸着法がよく用いられる。しかし攪拌槽吸着法によって、193nmにおける透過率を光路長1mmあたり99%以上となるように脂環式飽和炭化水素化合物中の不純物を除去しようとした場合、バッチ攪拌操作を複数回実施する必要がある。場合によっては3回以上のバッチ攪拌操作が必要となるため、工程数や設備点数が増加し、製品コストが上昇したり品質管理が困難になったりする可能性がある。一方、固定層法の工程は簡素であり、設備点数が少ない。また、吸着処理に必要な吸着剤量が攪拌槽法より少なくなるため、製品コストを下げることができる。固定層法では、吸着剤単位重量あたりで除去できる不純物量が多くなるためである。   Techniques for industrial production of immersion exposure liquid by adsorbent treatment include fixed bed method, stirring tank adsorption method, moving bed method, fluidized bed method, etc. A stirred tank adsorption method is often used. However, when an attempt is made to remove impurities in the alicyclic saturated hydrocarbon compound so that the transmittance at 193 nm is 99% or more per 1 mm of the optical path length by the stirring tank adsorption method, it is necessary to carry out the batch stirring operation a plurality of times. is there. In some cases, the batch agitation operation is required three times or more, which increases the number of processes and the number of equipment, which may increase the product cost and make quality control difficult. On the other hand, the process of the fixed bed method is simple and has a small number of equipment. Moreover, since the amount of adsorbent required for the adsorption treatment is smaller than that of the stirring tank method, the product cost can be reduced. This is because the amount of impurities that can be removed per unit weight of the adsorbent increases in the fixed bed method.

吸着剤の粒子径は、不純物を吸着する速度に大きく関与する。例えば粉末状の吸着剤は表面積が大きいため、ペレット状やビーズ状の吸着剤と比較して吸着速度が大きい。すなわち、固定層式で粉末状の吸着剤を使用する場合、カラム長を短くできるため小型装置が必要とされるオンサイトでの吸着処理に適する。ここで、「ペレット」とは円柱状の固体を指し、「ビーズ」とは球状の固体のことを指す。
しかし、粉末状の吸着剤を使用すると圧力損失が大きくなるという問題がある。同一の送液ポンプを使用する場合は流速を低減させる必要があるが、流量低下に伴って生産性が低下するため好ましくない。流量を維持するためにはカラム直径を大きくする必要があるが、カラム直径が大きくなるとカラム内の流れに偏りが生じやすくなり、不純物除去が不十分である脂環式飽和炭化水素化合物が得られてしまう可能性がある。
また、液浸露光用液体を固定層式で、かつ粉末状の吸着剤を使用して工業的製造を図ろうとした場合、ハンドリングが悪いという問題がある。粒径が数〜数100μmの粉末はカラムや攪拌槽への投入時に舞い上がりやすく、作業性が悪い。作業員が好適に作業し、周囲の環境を汚染させないためには、粉塵除去設備などを設置して吸着剤を回収する必要がある。しかし、回収した吸着剤は、液浸露光用液体という製品の品質上、廃棄せざるを得ない。
WO2005/114711 特願2006−329265 WO2005/119371 WO2006/115268
The particle size of the adsorbent is greatly related to the rate of adsorbing impurities. For example, since the powdery adsorbent has a large surface area, the adsorption rate is higher than that of the pellet-like or bead-like adsorbent. That is, when a powdered adsorbent is used in a fixed bed type, the column length can be shortened, which is suitable for on-site adsorption processing that requires a small apparatus. Here, “pellet” refers to a cylindrical solid, and “bead” refers to a spherical solid.
However, when a powdery adsorbent is used, there is a problem that pressure loss increases. When the same liquid feed pump is used, it is necessary to reduce the flow rate, but this is not preferable because productivity decreases with a decrease in flow rate. In order to maintain the flow rate, it is necessary to increase the column diameter. However, as the column diameter increases, the flow in the column tends to be biased, and an alicyclic saturated hydrocarbon compound with insufficient impurity removal can be obtained. There is a possibility that.
Further, when the liquid for immersion exposure is a fixed layer type and an industrial production is attempted using a powdery adsorbent, there is a problem that handling is bad. A powder having a particle size of several to several hundreds of μm is likely to rise when put into a column or a stirring tank, and the workability is poor. In order for workers to work properly and not contaminate the surrounding environment, it is necessary to install dust removal equipment and collect the adsorbent. However, the collected adsorbent must be discarded due to the quality of the product called immersion exposure liquid.
WO2005 / 114711 Japanese Patent Application No. 2006-329265 WO2005 / 119371 WO2006 / 115268

本発明はこのような問題に対処するためになされたもので、吸着剤を用いる精製方法で、193nmにおける透過率に優れる液浸露光用液体として好適な脂環式飽和炭化水素化合物の透過率をより向上させることができると共に、製造コストを抑え、安定的に液浸露光用液体を工業的に製造する方法の提供を目的とする。   The present invention has been made in order to cope with such a problem. In a purification method using an adsorbent, the transmittance of an alicyclic saturated hydrocarbon compound suitable as an immersion exposure liquid excellent in transmittance at 193 nm is obtained. An object of the present invention is to provide a method for industrially producing a liquid for immersion exposure, which can be further improved, can be produced at a reduced cost.

吸着剤を用いる精製方法で、脂環式飽和炭化水素化合物に含まれる不純物を効率よく除去することに関して種々の検討を行なった。
吸着剤の形状および粒径はカラム内部の圧力損失に関与している。粒径の小さい粉末状の吸着剤を使用した場合は送液ポンプの能力で流速が制限され、期待した流量以下となる場合がある。この問題は粒径が大きいペレット状またはビーズ状等の粒塊状の吸着剤を使用すれば解決できる。粒塊の粒径が大きくなるに従って、不純物を吸着する速度が低下する問題があるが、充填高の増加および滞留時間の延長によって、粉末状の吸着剤を使用した場合と同等の透過率の脂環式飽和炭化水素化合物を得ることができた。
本発明は上記知見に基づきなされたものである。すなわち、本発明の脂環式飽和炭化水素化合物の製造方法は、波長193nmにおける液体の光路長1mmあたりの透過率の平均値が99%以上である脂環式飽和炭化水素化合物を製造する方法であって、原料脂環式飽和炭化水素化合物を吸着剤に接触させる液接触工程を含み、該工程に用いられる上記吸着剤の形状が粒塊であることを特徴とする。
特に上記粒塊がペレットまたはビーズであることを特徴とする。
また、上記液接触工程において、原料と吸着剤とを接触させる接触時間が0.5時間〜20時間であることを特徴とする。
また、上記吸着剤は、アルミナ、シリカアルミナおよびゼオライトから選ばれた少なくとも1つの吸着剤であることを特徴とする。
Various studies have been conducted on efficiently removing impurities contained in alicyclic saturated hydrocarbon compounds by a purification method using an adsorbent.
The shape and particle size of the adsorbent are responsible for the pressure loss inside the column. When a powdery adsorbent with a small particle size is used, the flow rate is limited by the ability of the liquid feed pump, which may be less than the expected flow rate. This problem can be solved by using a pellet-like or bead-like adsorbent having a large particle size. There is a problem that the rate of adsorbing impurities decreases as the particle size of the agglomerates increases, but the increase in filling height and extension of the residence time leads to a fat with the same permeability as when a powdery adsorbent is used. A cyclic saturated hydrocarbon compound could be obtained.
The present invention has been made based on the above findings. That is, the method for producing an alicyclic saturated hydrocarbon compound of the present invention is a method for producing an alicyclic saturated hydrocarbon compound having an average transmittance of 99% or more per 1 mm of the optical path length of a liquid at a wavelength of 193 nm. And a liquid contact step of bringing the raw material alicyclic saturated hydrocarbon compound into contact with the adsorbent, wherein the shape of the adsorbent used in the step is agglomerate.
In particular, the agglomerates are pellets or beads.
Moreover, in the said liquid contact process, the contact time which makes a raw material and an adsorbent contact is 0.5 to 20 hours, It is characterized by the above-mentioned.
The adsorbent is at least one adsorbent selected from alumina, silica alumina, and zeolite.

粉末の吸着剤ではなく、ペレットなどの粒塊の吸着剤を使用することによって、圧力損失を低減させることができた。これによって、送液ポンプの能力を極端に上げたり、カラム直径を大きくしたりする必要がなくなり、製造コストを抑えることができる。また、吸着剤の充填高さと脂環式飽和炭化水素化合物の滞留時間を調節することによって、粉末の吸着剤を使用した場合と同等の透過率99.5%/mmの脂環式飽和炭化水素化合物を得ることができる。
この製造方法で精製された脂環式飽和炭化水素化合物を使用することにより、光吸収による発熱を抑えることができ、屈折率変動に起因する光学像のデフォーカス、歪み、あるいは光学像のデフォーカスによる解像度、パターン形状の劣化等の問題を抑えることができる。
Pressure loss could be reduced by using agglomerate adsorbents such as pellets instead of powder adsorbents. As a result, it is not necessary to extremely increase the capacity of the liquid feed pump or increase the column diameter, and the manufacturing cost can be reduced. Moreover, by adjusting the filling height of the adsorbent and the residence time of the alicyclic saturated hydrocarbon compound, an alicyclic saturated hydrocarbon having a transmittance of 99.5% / mm equivalent to that when using a powder adsorbent is used. A compound can be obtained.
By using an alicyclic saturated hydrocarbon compound purified by this production method, heat generation due to light absorption can be suppressed, and defocusing, distortion, or defocusing of the optical image due to refractive index variation. Problems such as resolution and pattern shape deterioration due to the above can be suppressed.

本発明の製造方法により製造される脂環式飽和炭化水素化合物は、波長193nmにおける光の透過率が液体の光路長1mmあたり99%以上である。
光路長1mmあたりの透過率Tと光路長1cmあたりの吸光度Aとの間には、

T(%) = 100 × 10−0.1A

の関係があるので、光路長1mmあたり99%以上の透過率は、光路長1cmあたりの吸光度0.0437以下に相当する。
本発明の製造方法において、透過率は複数の測定結果の平均値として表される値である。また、3σ値は0.1以下である。ここでσ値は透過率の測定値が正規分布をするとして計算された測定試料の標準偏差である。好ましくは測定数が5以上の統計値である。
透過率の平均値および3σ値が上記範囲となることにより、光吸収による発熱を抑えることができ、屈折率変動に起因する光学像のデフォーカス、歪み、あるいは光学像のデフォーカスによる解像度、パターン形状の劣化等の問題を再現性よく抑えることができる。
The alicyclic saturated hydrocarbon compound produced by the production method of the present invention has a light transmittance at a wavelength of 193 nm of 99% or more per 1 mm of the optical path length of the liquid.
Between the transmittance T per 1 mm of the optical path length and the absorbance A per 1 cm of the optical path length,

T (%) = 100 × 10 −0.1 A

Therefore, a transmittance of 99% or more per 1 mm of the optical path length corresponds to an absorbance of 0.0437 or less per 1 cm of the optical path length.
In the production method of the present invention, the transmittance is a value expressed as an average value of a plurality of measurement results. Further, the 3σ value is 0.1 or less. Here, the σ value is a standard deviation of the measurement sample calculated on the assumption that the measured value of transmittance has a normal distribution. Preferably, the number of measurements is a statistical value of 5 or more.
When the average value of transmittance and the 3σ value are within the above ranges, heat generation due to light absorption can be suppressed, and the resolution and pattern due to defocusing or distortion of the optical image due to refractive index fluctuations, or defocusing of the optical image. Problems such as shape deterioration can be suppressed with good reproducibility.

原料となる脂環式飽和炭化水素化合物と吸着剤との接触は、吸着剤を適当な時間原料化合物に浸漬させる方法、吸着剤と原料化合物を適当な時間撹拌混合する方法、吸着剤をカラムに充填して原料化合物を通過させるカラムクロマトグラフィー法が挙げられる。   The contact between the alicyclic saturated hydrocarbon compound as the raw material and the adsorbent is performed by immersing the adsorbent in the raw material compound for an appropriate time, stirring the adsorbent and the raw material compound for an appropriate time, and adsorbing the adsorbent to the column. A column chromatography method in which the raw material compound is allowed to pass through is packed.

上記カラムは、吸着剤が内部に充填されている容器である。好ましくは両端に開口部を有する筒状の容器であり、一方の開口部より原料となる脂環式飽和炭化水素化合物を投入し、精製物が他方の開口部より回収できる容器である。カラムに充填した吸着剤の粒子密度(ρp(g/cm3))と嵩密度(ρb(g/cm3))とから算出される充填率(100ρb/ρp)は15%以上が好ましい。粒子密度ρpは、ピクノメーターを用いて測定することができ、嵩密度ρb(g/cm3)はカラムに吸着剤をいれ、そのときの単位体積あたりの吸着剤の質量として算出できる。 The column is a container filled with an adsorbent. Preferably, it is a cylindrical container having openings at both ends, and is a container in which an alicyclic saturated hydrocarbon compound as a raw material is introduced from one opening and the purified product can be recovered from the other opening. The packing ratio (100ρ b / ρ p ) calculated from the particle density (ρ p (g / cm 3 )) and bulk density (ρ b (g / cm 3 )) of the adsorbent packed in the column is 15% or more. Is preferred. The particle density ρ p can be measured using a pycnometer, and the bulk density ρ b (g / cm 3 ) can be calculated as the mass of the adsorbent per unit volume when an adsorbent is placed in the column.

本発明で使用できる吸着剤は、アルミナ、シリカアルミナ、ゼオライト、またはこれらを組み合わせて得られる酸化物である。
アルミナは組成式がAl23で表される酸化物である。シリカアルミナは無定形シリカ・アルミナと称されるものであり、ゼオライトは、結晶性アルミノケイ酸塩と称されるものである。
The adsorbent that can be used in the present invention is alumina, silica alumina, zeolite, or an oxide obtained by combining these.
Alumina is an oxide whose composition formula is represented by Al 2 O 3 . Silica alumina is called amorphous silica-alumina, and zeolite is called crystalline aluminosilicate.

吸着剤の形状は、粉末状ではなく、粉末よりも粒子径が大きい粒塊である。粒塊の平均粒子径は篩い分け法で測定して0.5mm〜50mmであることが好ましい。
0.5mm未満であると圧力損失の増大によって流量の制限が必要になったり、作業中に飛散しやすく取り扱いが困難であったりするため、工業的に有用でなく、50mmをこえると、不純物の吸着速度が著しく低下し、生産性が低下するため好ましくない。
粒塊の形状としては、平均粒径として数mm〜数cm程度を有する、粒子状、球状、円柱状、角柱状、円筒状、角筒状等の形状をした塊が挙げられる。
好ましい粒塊としては、ペレットまたはビーズである。
The shape of the adsorbent is not powder, but is a lump having a particle size larger than that of the powder. The average particle size of the agglomerates is preferably 0.5 mm to 50 mm as measured by a sieving method.
If it is less than 0.5 mm, it becomes necessary to restrict the flow rate due to an increase in pressure loss, or it is difficult to handle industrially because it tends to scatter during work. The adsorption rate is remarkably lowered and productivity is lowered, which is not preferable.
Examples of the shape of the agglomerate include an agglomerate having an average particle diameter of about several millimeters to several centimeters, such as particulate, spherical, cylindrical, prismatic, cylindrical, and rectangular tube shapes.
Preferable agglomerates are pellets or beads.

原料の脂環式飽和炭化水素化合物と上記吸着剤とを接触させる接触時間は、0.5時間〜20時間、好ましくは2時間〜20時間、より好ましくは4時間〜10時間である。
ここで接触時間は、大気圧下、接触温度25℃において、[吸着剤の体積(ml)/脂環式飽和炭化水素化合物の流速(ml/h)]として定義される滞留時間である。接触時間が0.5時間未満であると不純物を含有した低透過率の1,1'−ビシクロヘキシルなどの脂環式飽和炭化水素化合物が流出する可能性があるため好ましくない。また、接触時間が20時間をこえると処理効率が低下し、生産量の減少および製品価格の上昇の原因となるため好ましくない。
The contact time for contacting the raw material alicyclic saturated hydrocarbon compound and the adsorbent is 0.5 to 20 hours, preferably 2 to 20 hours, more preferably 4 to 10 hours.
Here, the contact time is a residence time defined as [volume of adsorbent (ml) / flow rate of alicyclic saturated hydrocarbon compound (ml / h)] at a contact temperature of 25 ° C. under atmospheric pressure. A contact time of less than 0.5 hours is not preferable because an alicyclic saturated hydrocarbon compound such as 1,1′-bicyclohexyl having a low transmittance containing impurities may flow out. Further, if the contact time exceeds 20 hours, the processing efficiency is lowered, which causes a decrease in production volume and an increase in product price.

本発明で使用できる吸着剤は、以下の方法により評価したとき、上記吸着剤に接触させた後の吸光度と、上記吸着剤に接触させる前の脂環式飽和炭化水素化合物の吸光度との比が1.1以下であれば使用できる。
<評価方法>
ガラス製容器内に波長193nmにおける液体の光路長1cmあたり0.0437以下の脂環式飽和炭化水素化合物30mlを入れ、この脂環式飽和炭化水素化合物中に1.5gの吸着剤を加えて窒素雰囲気下において、25℃で72時間静置する。吸着剤に接触させる前の吸光度(A)と、接触させた後の吸光度(B)とを波長193nmの光で測定し、その吸光度比(B/A)を算出する。
When the adsorbent that can be used in the present invention is evaluated by the following method, the ratio between the absorbance after contacting with the adsorbent and the absorbance of the alicyclic saturated hydrocarbon compound before contacting with the adsorbent is 1.1 or less can be used.
<Evaluation method>
30 ml of alicyclic saturated hydrocarbon compound of 0.0437 or less per 1 cm of optical path length of liquid at a wavelength of 193 nm is put in a glass container, and 1.5 g of adsorbent is added to this alicyclic saturated hydrocarbon compound to form nitrogen. Let stand at 25 ° C. for 72 hours under atmosphere. The absorbance (A) before contact with the adsorbent and the absorbance (B) after contact are measured with light having a wavelength of 193 nm, and the absorbance ratio (B / A) is calculated.

本発明で使用するために、吸着剤は200〜500℃、好ましくは250〜500℃の温度で使用前に焼成することが好ましい。200℃未満の焼成であると、上記評価の値を達成することができなくなり、500℃をこえると粒塊の形状を維持できなくなる場合がある。   For use in the present invention, the adsorbent is preferably calcined before use at a temperature of 200-500 ° C, preferably 250-500 ° C. If the firing is less than 200 ° C., the above evaluation value cannot be achieved, and if it exceeds 500 ° C., the shape of the agglomerates may not be maintained.

本発明の製造方法において、原料となる脂環式飽和炭化水素化合物を上記吸着剤と不活性ガス雰囲気内で接触させる。
本発明に使用できる不活性ガスは、25℃で大気圧下において脂環式飽和炭化水素化合物と接触することにより、該化合物の193nmにおける透過率を低下させない気体をいう。
上記不活性ガスとしては、ヘリウム、アルゴンなどの希ガス、窒素ガス等が挙げられる。工業的利用のしやすさから窒素ガスが好ましい。
また、上記不活性ガスは脂環式飽和炭化水素化合物の透過率を低下させる要因となる成分を含まないことが好ましい。透過率を低下させる成分としては酸素、炭化水素(特に不飽和炭化水素)等が挙げられる。
本発明の製造方法において、酸素濃度が0.1体積%以下、炭化水素濃度が1体積ppm以下である不活性ガス、特に酸素濃度が0.1体積%以下、炭化水素濃度が1体積ppm以下である窒素ガスが好ましい。酸素濃度が0.1体積%以下、炭化水素濃度が1体積ppm以下である窒素ガス雰囲気下で原料となる脂環式飽和炭化水素化合物と吸着剤とを接触させることにより、透過率の平均値が99%以上、3σ値が0.1以下の脂環式飽和炭化水素化合物が得られる。
なお、酸素濃度の測定は大気圧イオン化質量分析法により、炭化水素濃度は水素炎イオン化検出器付ガスクロマトグラフィ法により、それぞれ測定できる。
In the production method of the present invention, an alicyclic saturated hydrocarbon compound as a raw material is brought into contact with the adsorbent in an inert gas atmosphere.
The inert gas that can be used in the present invention refers to a gas that does not decrease the transmittance of the compound at 193 nm by contact with an alicyclic saturated hydrocarbon compound at 25 ° C. under atmospheric pressure.
Examples of the inert gas include noble gases such as helium and argon, nitrogen gas, and the like. Nitrogen gas is preferred because of its ease of industrial use.
Moreover, it is preferable that the said inert gas does not contain the component used as the factor which reduces the transmittance | permeability of an alicyclic saturated hydrocarbon compound. Examples of components that lower the transmittance include oxygen and hydrocarbons (particularly unsaturated hydrocarbons).
In the production method of the present invention, an inert gas having an oxygen concentration of 0.1 volume% or less and a hydrocarbon concentration of 1 volume ppm or less, particularly an oxygen concentration of 0.1 volume% or less, and a hydrocarbon concentration of 1 volume ppm or less. Nitrogen gas is preferred. By contacting the adsorbent with an alicyclic saturated hydrocarbon compound as a raw material in an atmosphere of nitrogen gas having an oxygen concentration of 0.1 vol% or less and a hydrocarbon concentration of 1 vol ppm or less, the average value of the transmittance Is 99% or more, and an alicyclic saturated hydrocarbon compound having a 3σ value of 0.1 or less is obtained.
The oxygen concentration can be measured by atmospheric pressure ionization mass spectrometry, and the hydrocarbon concentration can be measured by gas chromatography with a flame ionization detector.

上記形状の吸着剤を用いる精製法において、原料となる脂環式飽和炭化水素化合物としては、1,1'−ビシクロヘキシル、exo−テトラヒドロジシクロペンタジエン、およびtrans−デカヒドロナフタレンから選ばれる少なくとも1つの脂環式飽和炭化水素化合物であることが本発明の製造方法により透過率を99%/mm以上としやすいため、好ましい。
特に、1,1'−ビシクロヘキシルが容易に透過率を99%/mm以上としやすいため好ましい。
また、原料となる脂環式飽和炭化水素化合物は吸着剤に接触させる前のGC純度が99質量%以上であることが好ましい。GC純度は、Agilent6890ガスクロマトグラフィシステム、カラム(TC1701)、キャリアガス(ヘリウム)、検出器(TCD)で測定できる。
In the purification method using the adsorbent of the above shape, the alicyclic saturated hydrocarbon compound used as a raw material is at least one selected from 1,1′-bicyclohexyl, exo-tetrahydrodicyclopentadiene, and trans-decahydronaphthalene. One alicyclic saturated hydrocarbon compound is preferable because the transmittance is easily set to 99% / mm or more by the production method of the present invention.
In particular, 1,1′-bicyclohexyl is preferable because the transmittance is easily set to 99% / mm or more.
Moreover, it is preferable that GC purity before making the alicyclic saturated hydrocarbon compound used as a raw material contact an adsorbent is 99 mass% or more. The GC purity can be measured with an Agilent 6890 gas chromatography system, a column (TC1701), a carrier gas (helium), and a detector (TCD).

脂環式飽和炭化水素化合物と吸着剤との組み合わせは、脂環式飽和炭化水素化合物が1,1'−ビシクロヘキシルまたはexo−テトラヒドロジシクロペンタジエンの場合、吸
着剤はシリカアルミナ、ゼオライト、またはこれらの混合物が原料となる脂環式炭化水素化合物中に含まれている不純物を効率的に除去できるという理由で好ましい。
また、脂環式飽和炭化水素化合物がtrans−デカヒドロナフタレンの場合、アルミナ、シリカアルミナ、ゼオライト、またはこれらの混合物が原料となる脂環式炭化水素化合物中に含まれている不純物を効率的に除去できるという理由で好ましい。
The combination of the alicyclic saturated hydrocarbon compound and the adsorbent is such that when the alicyclic saturated hydrocarbon compound is 1,1′-bicyclohexyl or exo-tetrahydrodicyclopentadiene, the adsorbent is silica alumina, zeolite, or these This mixture is preferable because the impurities contained in the alicyclic hydrocarbon compound as a raw material can be efficiently removed.
Further, when the alicyclic saturated hydrocarbon compound is trans-decahydronaphthalene, the impurities contained in the alicyclic hydrocarbon compound from which alumina, silica alumina, zeolite, or a mixture thereof is used as a raw material can be efficiently removed. It is preferable because it can be removed.

本発明方法で製造された脂環式飽和炭化水素化合物は、レジスト成分とりわけ、揮発性不純物の溶出が少ないため、簡便な方法で回収、精製を行なうことにより、光学特性を再現性よく回復し、再利用することができる。
再利用する場合の精製の方法としては、水洗処理、酸洗浄(硫酸洗浄)、アルカリ洗浄、精密蒸留、適当なフィルター(充填カラム)を用いた精製、ろ過等の方法および、上記本発明方法による精製法、あるいはこれらの精製法の組み合わせによる方法が挙げられる。この中で、本発明方法による精製処理、水洗処理、アルカリ洗浄、酸洗浄、精密蒸留、酸化物吸着あるいはこれらの精製法の組み合わせにより精製を行なうのが好ましい。
上記アルカリ洗浄は液浸露光用液体に溶出した露光により発生した酸の除去、酸洗浄は液浸露光用液体に溶出したレジスト中の塩基性成分の除去、水洗処理は液浸露光用液体に溶出したレジスト膜中の光酸発生剤、塩基性添加剤、露光時に発生した酸等の溶出物の除去に対して有効である。
本発明で開示した脂環式飽和炭化水素化合物の製造方法は上記回収、精製においても有効であり、本方法により、樹脂中の酸解離性保護基の分解または、液体への放射線の照射により生じる光反応生成物である炭素、炭素不飽和結合を有する不純物の除去を有効にできるため、透過率の変動を防ぐことが可能である。
なお、精製時において精密蒸留を行なうことができる。精密蒸留は、上記添加剤のうち低揮発性の化合物の除去に対して有効な他、露光時にレジスト中の保護基の分解により発生する疎水性成分を除去するのに有効である。
Since the alicyclic saturated hydrocarbon compound produced by the method of the present invention has little elution of volatile impurities, particularly the resist components, the optical properties are recovered with good reproducibility by performing recovery and purification by a simple method. Can be reused.
As a purification method in the case of reusing, a method such as washing with water, acid washing (sulfuric acid washing), alkali washing, precision distillation, purification using an appropriate filter (packed column), filtration, etc., and the above-described method of the present invention Examples thereof include a purification method or a method using a combination of these purification methods. Among these, it is preferable to carry out purification by the purification treatment, water washing treatment, alkali washing, acid washing, precision distillation, oxide adsorption or a combination of these purification methods according to the method of the present invention.
The above alkali cleaning removes the acid generated by the exposure eluted in the immersion exposure liquid, the acid cleaning removes the basic components in the resist eluted in the immersion exposure liquid, and the water washing process elutes in the immersion exposure liquid. It is effective for removal of a photoacid generator, a basic additive, and an eluate such as an acid generated during exposure in the resist film.
The method for producing an alicyclic saturated hydrocarbon compound disclosed in the present invention is also effective in the above recovery and purification, and is caused by the decomposition of an acid-dissociable protecting group in a resin or irradiation of a liquid with radiation by this method. Since removal of impurities having carbon and carbon unsaturated bonds, which are photoreaction products, can be effectively performed, fluctuations in transmittance can be prevented.
In addition, precision distillation can be performed at the time of purification. Precision distillation is effective for removing low-volatile compounds among the above additives, and is effective for removing hydrophobic components generated by the decomposition of protecting groups in the resist during exposure.

フォトレジスト膜、または液浸用上層膜が形成されたフォトレジスト膜に本発明で製造された脂環式飽和炭化水素化合物を媒体として、所定のパターンを有するマスクを通して放射線を照射し、次いで現像することにより、レジストパターンを形成することができる。
液浸露光に用いられる放射線は、使用されるフォトレジスト膜およびフォトレジスト膜と液浸用上層膜との組み合わせに応じて、例えば可視光線;g線、i線等の紫外線;エキシマレーザ等の遠紫外線;シンクロトロン放射線等のX線;電子線等の荷電粒子線の如き各種放射線を選択使用することができる。特にArFエキシマレーザ(波長193nm)あるいはKrFエキシマレーザ(波長248nm)が好ましい。
The photoresist film or the photoresist film on which the upper layer film for immersion is formed is irradiated with radiation through a mask having a predetermined pattern using the alicyclic saturated hydrocarbon compound produced in the present invention as a medium, and then developed. Thus, a resist pattern can be formed.
The radiation used for immersion exposure depends on the photoresist film used and the combination of the photoresist film and the upper layer film for immersion, for example, visible rays; ultraviolet rays such as g rays and i rays; Various types of radiation such as ultraviolet rays; X-rays such as synchrotron radiation; and charged particle beams such as electron beams can be selectively used. In particular, an ArF excimer laser (wavelength 193 nm) or a KrF excimer laser (wavelength 248 nm) is preferable.

以下に実施例を示す。なお、吸光度は酸素濃度50ppm以下に管理した窒素雰囲気のグローブボックス中でポリテトラフルオロエチレン製蓋付の光路長1cmおよび2cmのセルに液体のサンプリングを行ない、日本分光社製JASCO−V7100を用いて、上記液体の入ったセルをサンプル、空気をリファレンスとして吸光度を測定し、両者の差を1cmあたりの吸光度とした。測定温度は23℃である。この値を元にランベルトベールの法則により1mmあたりの透過率を算出した。サンプルの透過光強度をl0、リファレンスの透過光強度をlとすると、吸光度はlog10(l0/l)で示される。各実施例で示す値はセルの反射を計算により補正した値である。 Examples are shown below. The absorbance was sampled in a 1 cm and 2 cm optical path length cell with a polytetrafluoroethylene lid in a nitrogen atmosphere glove box controlled to an oxygen concentration of 50 ppm or less, and JASCO-V7100 manufactured by JASCO Corporation was used. The absorbance was measured using the cell containing the liquid as a sample and air as a reference, and the difference between the two was defined as the absorbance per 1 cm. The measurement temperature is 23 ° C. Based on this value, the transmittance per mm was calculated according to Lambert Beer's law. If the transmitted light intensity of the sample is l 0 and the transmitted light intensity of the reference is l, the absorbance is expressed as log 10 (l 0 / l). The values shown in each example are values obtained by correcting cell reflection by calculation.

吸着剤は以下のものを使用した。各吸着剤は500℃で3時間焼成して使用した。
ゼオライト−1:東ソー社製、F−9(粉末状:平均粒子径6.2μm)
ゼオライト−2:東ソー社製、F−9(円柱状:直径1.5mm、長さ3mm)
The following adsorbents were used. Each adsorbent was used after baking at 500 ° C. for 3 hours.
Zeolite-1: manufactured by Tosoh Corporation, F-9 (powder: average particle size 6.2 μm)
Zeolite-2: manufactured by Tosoh Corporation, F-9 (columnar shape: diameter 1.5 mm, length 3 mm)

実施例1
窒素雰囲気下(酸素濃度50ppm以下、窒素純度99.999%)、ゼオライト−2を180g粗充填した内径3cmのガラス製カラムに、193nmにおける透過率が80.45%/mmの1,1'−ビシクロヘキシル を820ml通液した。通液には22時間を要し、滞留時間は5.6時間であった。この液体の193nmにおける透過率を測定したところ、99.51%/mmであった。
Example 1
Under a nitrogen atmosphere (oxygen concentration 50 ppm or less, nitrogen purity 99.999%), 1,1′− with a transmittance of 80.45% / mm at 193 nm was applied to a glass column having an inner diameter of 3 cm and roughly packed with 180 g of zeolite-2. 820 ml of bicyclohexyl was passed through. The liquid passage required 22 hours, and the residence time was 5.6 hours. The transmittance of this liquid at 193 nm was measured and found to be 99.51% / mm.

実施例2
窒素雰囲気下(酸素濃度50ppm以下、窒素純度99.999%)、ゼオライト−2を68g粗充填した内径3cmのガラス製カラムに、193nmにおける透過率が80.45%/mmの1,1'−ビシクロヘキシル を820ml通液した。通液には8時間を要し、滞留時間は0.85時間であった。この液体の193nmにおける透過率を測定したところ、99.23%/mmであった。
Example 2
In a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 50 ppm or less, nitrogen purity 99.999%), 1,1′- with a transmittance of 80.45% / mm at 193 nm was applied to a glass column having an inner diameter of 3 cm and roughly 68 g of zeolite-2. 820 ml of bicyclohexyl was passed through. The liquid passage required 8 hours, and the residence time was 0.85 hours. The transmittance of this liquid at 193 nm was measured and found to be 99.23% / mm.

比較例1
窒素雰囲気下(酸素濃度50ppm以下、窒素純度99.999%)、ゼオライト−1を20g粗充填した内径7cmのガラス製カラムに、193nmにおける透過率が80.45%/mmの1,1'−ビシクロヘキシルを550ml通液した。
193nmにおける透過率が99.54%/mmの1,1'−ビシクロヘキシルを得るためには、通液に88時間を要し、滞留時間は5.2時間であった。
Comparative Example 1
Under a nitrogen atmosphere (oxygen concentration 50 ppm or less, nitrogen purity 99.999%), 1,1′- with a transmittance of 80.45% / mm at 193 nm was applied to a glass column having an inner diameter of 7 cm and roughly packed with 20 g of zeolite-1. 550 ml of bicyclohexyl was passed through.
In order to obtain 1,1′-bicyclohexyl having a transmittance at 193 nm of 99.54% / mm, it took 88 hours to pass through and the residence time was 5.2 hours.

実施例1、実施例2および比較例1より、粉末の吸着剤ではなくペレットの吸着剤を使用することによって、圧力損失を低減させ、かつ粉末の吸着剤を使用した場合と同等の透過率99%/mm以上の1,1'−ビシクロヘキシルを得ることができた。   From Example 1, Example 2, and Comparative Example 1, by using a pellet adsorbent instead of a powder adsorbent, the pressure loss is reduced and the transmittance 99 is the same as when a powder adsorbent is used. % / Mm or more of 1,1′-bicyclohexyl could be obtained.

本発明の脂環式飽和炭化水素化合物の製造方法は、原料となる脂環式飽和炭化水素化合物を粒塊の形状である吸着剤に接触させることにより、波長193nmにおける液体の光路長1mmあたりの透過率の平均値が99%以上である脂環式飽和炭化水素化合物を製造する方法なので、脂環式飽和炭化水素化合物中に含まれる不純物を効率よく除去し、再現性よく、光学的性質が安定している液浸露光用液体が製造できる。そのため、今後更に微細化が進行すると予想される半導体デバイスの製造に必須の技術である液浸露光に用いられる液体として極めて好適に使用することができる。   In the method for producing an alicyclic saturated hydrocarbon compound of the present invention, an alicyclic saturated hydrocarbon compound as a raw material is brought into contact with an adsorbent that is in the form of agglomerates, so that the liquid has an optical path length of 1 mm per wavelength of 193 nm. Since it is a method for producing an alicyclic saturated hydrocarbon compound having an average transmittance of 99% or more, impurities contained in the alicyclic saturated hydrocarbon compound are efficiently removed, with good reproducibility and optical properties. A stable immersion exposure liquid can be produced. Therefore, it can be used very suitably as a liquid used in immersion exposure, which is an essential technique for manufacturing semiconductor devices that are expected to be further miniaturized in the future.

Claims (4)

波長193nmにおける液体の光路長1mmあたりの透過率の平均値が99%以上である脂環式飽和炭化水素化合物を製造する方法であって、
前記原料脂環式飽和炭化水素化合物を吸着剤に接触させる液接触工程を含み、
該接触工程に用いられる前記吸着剤の形状が粒塊であることを特徴とする脂環式飽和炭化水素化合物の製造方法。
A method for producing an alicyclic saturated hydrocarbon compound having an average transmittance of 99% or more per 1 mm of the optical path length of a liquid at a wavelength of 193 nm,
A liquid contact step of bringing the raw material alicyclic saturated hydrocarbon compound into contact with an adsorbent,
The method for producing an alicyclic saturated hydrocarbon compound, wherein the adsorbent used in the contacting step is agglomerate.
前記粒塊がペレットまたはビーズであることを特徴とする請求項1記載の脂環式飽和炭化水素化合物の製造方法。   The method for producing an alicyclic saturated hydrocarbon compound according to claim 1, wherein the agglomerates are pellets or beads. 前記液接触工程において、前記原料と前記吸着剤とを接触させる接触時間が0.5時間〜20時間であることを特徴とする請求項1または請求項2記載の脂環式飽和炭化水素化合物の製造方法。   3. The alicyclic saturated hydrocarbon compound according to claim 1, wherein in the liquid contact step, the contact time for contacting the raw material with the adsorbent is 0.5 hours to 20 hours. Production method. 前記吸着剤は、アルミナ、シリカアルミナおよびゼオライトから選ばれた少なくとも1つの吸着剤であることを特徴とする請求項1、請求項2または請求項3記載の脂環式飽和炭化水素化合物の製造方法。   4. The method for producing an alicyclic saturated hydrocarbon compound according to claim 1, wherein the adsorbent is at least one adsorbent selected from alumina, silica alumina, and zeolite. .
JP2008072215A 2008-03-19 2008-03-19 Method for producing alicyclic saturated hydrocarbon compound Pending JP2009227590A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008072215A JP2009227590A (en) 2008-03-19 2008-03-19 Method for producing alicyclic saturated hydrocarbon compound

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008072215A JP2009227590A (en) 2008-03-19 2008-03-19 Method for producing alicyclic saturated hydrocarbon compound

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009227590A true JP2009227590A (en) 2009-10-08

Family

ID=41243408

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008072215A Pending JP2009227590A (en) 2008-03-19 2008-03-19 Method for producing alicyclic saturated hydrocarbon compound

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2009227590A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6757411B2 (en) Solution, solution container, actinic or radiation-sensitive resin composition, pattern forming method, semiconductor device manufacturing method
JP3969457B2 (en) Immersion exposure liquid and immersion exposure method
US20070009841A1 (en) Semiconductor fabrication apparatus and pattern formation method using the same
WO2006080250A1 (en) Immersion exposure system, and recycle method and supply method of liquid for immersion exposure
JP2009227590A (en) Method for producing alicyclic saturated hydrocarbon compound
KR100921040B1 (en) Liquid for immersion exposure, method of purifying the same, and immersion exposure method
JP2009023967A (en) Method for producing alicyclic saturated hydrocarbon compound
JP2009215265A (en) Process for producing bicyclohexyl
JP7629083B2 (en) Drug solution, drug solution container
JP2009018996A (en) Process for producing 1,1&#39;-bicyclohexyl
JP2009209051A (en) Method for producing bicyclohexyl
JP2009018230A (en) Method for activating adsorbent
JP2008290990A (en) Method for producing alicyclic saturated hydrocarbon compound
JP4830303B2 (en) Method for manufacturing and recycling liquid for immersion exposure
KR102886989B1 (en) Treatment solution and treatment solution receptor
JP2006222186A (en) Liquid for immersion exposure and method for producing the same
JP2008308471A (en) Method for producing alicyclic saturated hydrocarbon compound
JP2009013120A (en) Method for producing bicyclohexyl
TW202347051A (en) Chemical solution
JP2009028654A (en) Method for reactivating adsorbent
JP4687334B2 (en) Immersion exposure liquid and immersion exposure method
KR102901692B1 (en) Chemical solution and chemical solution container
JP2007081099A (en) Immersion exposure liquid and immersion exposure method
JP2007182436A (en) Process for producing saturated hydrocarbon compounds
JP2008263106A (en) Liquid recycling method for immersion exposure