JP2009217030A - 光学系ならびに該光学系を用いた撮像装置およびデジタル機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の光学系1Aは、光学像を所定の結像面に結像する撮像レンズ系11と、撮像レンズ系11の光軸上におけるいずれかの位置に配設され、入射光を直線偏光に変えて射出する直線偏光子12Aとを備え、撮像レンズ系11は、光の進行方向において直線偏光子12Aよりも上流側に、p偏光の反射率とs偏光の反射率とに差が有る薄膜13を備える。
【選択図】図1
Description
1[%]≦Rs(α)−Rp(α) ・・・(1)
40[°]<α<60[°] ・・・(2)
ただし、αは、薄膜への光線入射角[°]であり、Rs(α)は、光線入射角α[°]で薄膜へ入射した場合におけるs偏光の反射率[%]であり、そして、Rp(α)は、光線入射角α[°]で薄膜へ入射した場合におけるp偏光の反射率[%]である。
1[%]≦Rs(α)−Rp(α) ・・・(1)
40[°]<α<60[°] ・・・(2)
ただし、αは、薄膜への光線入射角[°]であり、Rs(α)は、光線入射角α[°]で薄膜へ入射した場合におけるs偏光の反射率[%]であり、そして、Rp(α)は、光線入射角α[°]で薄膜へ入射した場合におけるp偏光の反射率[%]である。
Rp(50)<1.5[%] ・・・(3)
ただし、Rp(50)は、光線入射角50[°]で薄膜へ入射した場合におけるp偏光の反射率[%]である。
Rp(50)<1.5[%] ・・・(3)
ただし、Rp(50)は、光線入射角50[°]で薄膜へ入射した場合におけるp偏光の反射率[%]である。
図1は、第1実施形態における撮像装置および光学系の説明のための、その構成を模式的に示したレンズ断面図である。図1において、撮像装置21Aは、光学系1Aと、光学像を電気的な信号に変換する撮像素子2と備え、光学系1Aが撮像素子2の受光面上に例えば物体(被写体)等の光学像を形成可能とされている。
図2は、第2実施形態における撮像装置および光学系の説明のための、その構成を模式的に示したレンズ断面図である。第1実施形態における光学系1Aおよび撮像装置21Aでは、直線偏光子12Aは、撮像レンズ系11の像側に配設されたが、図2に示すように、第2実施形態における光学系1Bおよび撮像装置21Bは、撮像レンズ系11内に、より具体的には第3レンズL3と第4レンズL4との間に、さらにより具体的には、開口絞り14と第4レンズL4との間(開口絞り14の像側)に配設される。第2実施形態における光学系1Bおよび撮像装置21Bは、直線偏光子12Aの配設位置が異なるだけで、他は、第1実施形態における光学系1Aおよび撮像装置21Aと同様であるので、その説明を省略する。
図3は、第3実施形態における撮像装置および光学系の説明のための、その構成を模式的に示したレンズ断面図である。第3実施形態における光学系1Cおよび撮像装置21Cでは、直線偏光子12Bは、図3に示すように、フォトニック結晶で構成されている。第3実施形態における光学系1Cおよび撮像装置21Cは、直線偏光子12Aに代え、フォトニック結晶で構成される直線偏光子12Bが用いられるだけで、他は、第1実施形態における光学系1Aおよび撮像装置21Aと同様であるので、その説明を省略する。
図4は、第4実施形態における撮像装置および光学系の説明のための、その構成を模式的に示したレンズ断面図である。第4実施形態における光学系1Dおよび撮像装置21Dは、図4に示すように、第2レンズL2における物体側の光学面に形成される薄膜13−1を備えると共に、第1レンズL1における像側の光学面に形成される薄膜13−2も備えている。薄膜13−1および薄膜13−2は、p偏光の反射率とs偏光の反射率とに差が有る反射防止膜であり、薄膜13−1と薄膜13−2とは、同一であってもよく、また異なっていてもよい。同一である場合では、異なるレンズであっても同時に蒸着可能であり、大量生産に適当であり、低コスト化に繋がる。また異なっている場合では、各レンズへの迷光の入射角を考慮して最適な膜設計を行うことができ、より迷光の低減が可能となる。
図5は、第5実施形態における撮像装置および光学系の説明のための、その構成を模式的に示したレンズ断面図である。第5実施形態における光学系1Eおよび撮像装置21Eは、図5に示すように、前記薄膜13(13−1)が形成されている第2レンズL2における物体側の光学面を除く撮像レンズ系11内の各光学面に形成される一般的な反射防止膜15(15−1〜15−6)を備えている。
図6は、第6実施形態における撮像装置および光学系の説明のための、その構成を模式的に示したレンズ断面図である。第6実施形態における光学系1Fおよび撮像装置21Fは、図6に示すように、それら主軸が互いに異なる方向に向くように配置された2枚の直線偏光子12A−1、12A−2を備えている。
1[%]≦Rs(α)−Rp(α) ・・・(1)
40[°]<α<60[°] ・・・(2)
光線入射角αが40度を上回る条件で、p偏光の反射率とs偏光の反射率との差を1パーセント以上とすることで、薄膜の製造難度を既存の薄膜と同程度に抑えつつ、偏光子によって迷光強度を効果的に低減することが可能となる。一方、光線入射角αが60度を下回る条件で、p偏光の反射率とs偏光の反射率との差を1パーセント以上とすることでもまた、薄膜の製造難度を既存の薄膜と同程度に抑えつつ、偏光子によって迷光強度を低減することが可能となる。
1.2[%]≦Rs(α)−Rp(α) ・・・(1’)
40[°]<α<60[°] ・・・(2’)
上記(1’)および(2’)の条件式を満足することによって、より迷光を効果的に低減し、本来の像の情報をさらにより適切に得ることが可能となる。
1.5[%]≦Rs(α)−Rp(α) ・・・(1”)
40[°]<α<60[°] ・・・(2”)
上記(1”)および(2”)の条件式を満足することによって、さらに、より迷光を効果的に低減し、本来の像の情報をさらにより適切に得ることが可能となる。
Rp(50)<1.5[%] ・・・(3)
一般に、薄膜では、p偏光の反射率を小さくするとs偏光の反射率が高くなる傾向にある。このような構成の各光学系1A〜1Fおよび各撮像装置21A〜21Fでは、直線偏光子12A、12Bを備えているので、s偏光と異なる方向に主軸を持つ直線偏光子によって、s偏光の迷光を低減することが可能であるから、p偏光の反射率を小さくすることが可能となる。そして、上記構成の各光学系1A〜1Fおよび各撮像装置21A〜21Fでは、前記薄膜13のp偏光の反射率を撮像素子2において最も重視される参照波長に対し、1.5パーセント未満とすることによって、撮影した画像に対し迷光を効果的に低減することが可能となる。
Rp(50)<1.0[%] ・・・(3’)
上記(3’)の条件式を満足することによって、より迷光を効果的に低減し、本来の像の情報をより適切に得ることが可能となる。
Rp(50)<0.5[%] ・・・(3”)
上記(3”)の条件式を満足することによって、さらに、より迷光を効果的に低減し、本来の像の情報をより適切に得ることが可能となる。
(薄膜13の第1実施例)
第1実施例の薄膜13Aは、設計中心波長λ0=550nmの光に対する7層構成の反射防止膜であり、BK7の基板上に、表1に示す材料および光学的膜厚で第1層から第7層まで順次に積層されて構成された。なお、表1において、ZrTiO4は、ここではオプトロン株式会社製「OH−5」である。表2および表3も同様である。
第2実施例の薄膜13Bは、設計中心波長λ0=850nmの光に対する4層構成の反射防止膜であり、BK7の基板上に、表2に示す材料および光学的膜厚で第1層から第4層まで順次に積層されて構成された。
第1実施例の薄膜13Cは、設計中心波長λ0=550nmの光に対する3層構成の反射防止膜であり、BK7の基板上に、表3に示す材料および光学的膜厚で第1層から第3層まで順次に積層されて構成された。
第4実施例の薄膜13Dは、設計中心波長λ0=550nmの光に対する4層構成の反射防止膜であり、ZEONEX(商標)E48Rの基板上に、表4に示す材料および光学的膜厚で第1層から第4層まで順次に積層されて構成された。
2 撮像素子
3 デジタル機器
11 撮像レンズ系
12(12A、12B) 直線偏光子
13 薄膜
21 撮像装置
Claims (12)
- 光学像を所定の結像面に結像する撮像レンズ系と、
前記撮像レンズ系の光軸上におけるいずれかの位置に配設され、入射光を直線偏光に変えて射出する直線偏光子とを備え、
前記撮像レンズ系は、光の進行方向において前記直線偏光子よりも上流側に、p偏光の反射率とs偏光の反射率とに差が有る薄膜を備えること
を特徴とする光学系。 - 前記撮像レンズ系は、少なくともガラスレンズを備え
前記薄膜は、前記ガラスレンズに備えられ、下記(1)および(2)の条件式を満足すること
を特徴とする請求項1に記載の光学系。
1[%]≦Rs(α)−Rp(α) ・・・(1)
40[°]<α<60[°] ・・・(2)
ただし、
α:薄膜への光線入射角[°]
Rs(α):光線入射角α[°]で薄膜へ入射した場合におけるs偏光の反射率[%]
Rp(α):光線入射角α[°]で薄膜へ入射した場合におけるp偏光の反射率[%] - 前記撮像レンズ系は、少なくとも樹脂材料製レンズを備え、
前記薄膜は、前記樹脂材料製レンズに備えられ、下記(1)および(2)の条件式を満足すること
を特徴とする請求項1に記載の光学系。
1[%]≦Rs(α)−Rp(α) ・・・(1)
40[°]<α<60[°] ・・・(2)
ただし、
α:薄膜への光線入射角[°]
Rs(α):光線入射角α[°]で薄膜へ入射した場合におけるs偏光の反射率[%]
Rp(α):光線入射角α[°]で薄膜へ入射した場合におけるp偏光の反射率[%] - 前記薄膜は、p偏光の反射率が450nm乃至650nmの波長域で、下記(3)の条件式を満足すること
を特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の光学系。
Rp(50)<1.5[%] ・・・(3)
ただし、
Rp(50):光線入射角50[°]で薄膜へ入射した場合におけるp偏光の反射率[%] - 前記直線偏光子は、少なくとも2枚含まれ、それら主軸が互いに異なる方向に向くように配置されること
を特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれかに記載の光学系。 - 前記直線偏光子は、フォトニック結晶で構成されること
を特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の光学系。 - 請求項1、請求項2、請求項3、請求項5および請求項6のうちのいずれかに記載の光学系と、
光学像を電気的な信号に変換する撮像素子とを備え、
前記光学系が前記撮像素子の受光面上に光学像を形成可能とされていること
を特徴とする撮像装置。 - 前記光学系の前記薄膜は、前記撮像素子の参照波長で、下記(3)の条件式を満足すること
を特徴とする請求項7に記載の撮像装置。
Rp(50)<1.5[%] ・・・(3)
ただし、
Rp(50):光線入射角50[°]で薄膜へ入射した場合におけるp偏光の反射率[%] - 前記薄膜は、前記撮像素子に到達する強度の強い迷光の反射面に備えること
を特徴とする請求項7または請求項8に記載の撮像装置。 - 前記撮像素子から出力される画像信号から迷光を除去するための画像処理部をさらに備えること
を特徴とする請求項7ないし請求項9のいずれかに記載の撮像装置。 - 前記撮像素子および前記直線偏光子は、偏光撮像システムであること
を特徴とする請求項7ないし請求項10のいずれかに記載の撮像装置。 - 請求項7ないし請求項11のいずれかに記載の撮像装置と、
前記撮像装置に、被写体の静止画撮影および動画撮影の少なくとも一方の撮影を行わせる制御部とを備えること
を特徴とするデジタル機器。
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