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JP2009201509A - Culture vessel formed by transparent electroconductive film processing and method for producing the same - Google Patents

Culture vessel formed by transparent electroconductive film processing and method for producing the same Download PDF

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JP2009201509A
JP2009201509A JP2009038573A JP2009038573A JP2009201509A JP 2009201509 A JP2009201509 A JP 2009201509A JP 2009038573 A JP2009038573 A JP 2009038573A JP 2009038573 A JP2009038573 A JP 2009038573A JP 2009201509 A JP2009201509 A JP 2009201509A
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conductive film
transparent conductive
heater
cell culture
container
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Japanese (ja)
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Kunio Isono
邦夫 磯野
Masashi Iketani
雅視 池谷
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Individual
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a culture vessel for more precise culture environment by solving the problems that the cell culture environment using a conventional culture vessel has an apparatus including microscope observation system and functions including temperature control or the like of the culture chamber on an observation stand thereof, and the temperature control is carried out with a measure to control the atmospheric temperature in the culture chamber without controlling temperature in the vicinity of a cell sample, therefore, explication concerning the basis associated with proliferation, life or death of cells has been recently expected. <P>SOLUTION: The method includes forming a resistive element and an electroconductive film by making use of each characteristic of materials for the transparent electroconductive film, making use of transparency, forming the film to have a scaffold structure and making use of antimicrobial actions as physical properties. In addition, the temperature control, one of factors in culture, is carried out by processingly installing a heater made of a transparent electroconductive film allowed to control temperature by bringing the heater to directly heat a sample, and a sensor by using the film to cell culture vessels such as petri dishes. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、培養環境の精度を改善する機能性を有する細胞培養容器に関するものである。透明導電膜からなるヒーター部を培養容器に取付けて、その容器の局所部を任意な温度で直接的に熱伝導を行わせ、その温度を制御し、且つ簡易及び安価な形態で提供するものである。その目的の一つは、測温及び監視とする温度センサーをヒーター発熱部の近傍又は同一パターン上に設けて、培養試料部の温度を正確に制御する事である。二つ目は、顕微鏡観察時において支障をきたさない様に培養容器の蓋部に防曇機能を設けたトップ透明プレートを設ける事である。三つ目は、シャーレ、ウェルプレート、試験管もしくはフラスコの表面又は胴体側の外周面もしくは底面に上記記載のヒーター部及びセンサー部を形成するものである。方法としては培養容器本体に透明導電膜の成膜を行い、次いで適切に機能化させる為にヒーター部又はセンサー部においてパターン加工を行うものである。  The present invention relates to a cell culture vessel having functionality for improving the accuracy of a culture environment. A heater part made of a transparent conductive film is attached to a culture vessel, and the local part of the vessel is directly conducted at an arbitrary temperature to control the temperature, and is provided in a simple and inexpensive form. is there. One of the purposes is to accurately control the temperature of the culture sample part by providing a temperature sensor for temperature measurement and monitoring in the vicinity of the heater heating part or on the same pattern. The second is to provide a top transparent plate with an anti-fogging function on the lid of the culture vessel so as not to cause any trouble during microscopic observation. The third is to form the heater part and the sensor part described above on the surface of the petri dish, well plate, test tube or flask, or on the outer peripheral surface or bottom surface on the body side. As a method, a transparent conductive film is formed on the culture vessel main body, and then pattern processing is performed in the heater unit or the sensor unit in order to appropriately function.

再生医療分野では万能細胞及びタンパク質等に関する基礎研究、臨床、創薬及び疾患治療の開発が進められ細胞培養試験、観察評価、分析法も進化している。併せて、その培養容器も高精度及び高機能化が求められている。  In the field of regenerative medicine, basic research related to universal cells and proteins, clinical development, drug discovery, and disease treatment are being developed, and cell culture tests, observation evaluations, and analytical methods have evolved. In addition, the culture vessel is also required to have high accuracy and high functionality.

培養環境の中でも温度環境は重要である。培養容器に就いても正確に温度の制御が可能となる温度環境に応えるものが望まれる。その容器に加熱手段として導電性ポリマーを用いた提案がある。
特表2003−512809 しかしながら、この提案では従来の課題である発熱面の熱分布の不均一課題を克服するものではなく、さらにこの方法では顕微鏡による高倍率観察の対応がとれない。
Among the culture environments, the temperature environment is important. What responds to the temperature environment which can control temperature correctly also about a culture container is desired. There is a proposal using a conductive polymer as a heating means in the container.
Special table 2003-512809 However, this proposal does not overcome the problem of non-uniform heat distribution on the heat generation surface, which is a conventional problem, and this method cannot cope with high-magnification observation with a microscope.

さらに培養容器の底の表面に温度応答性高分子を付着させその底面に発熱抵抗体を用いて温度制御をさせる提案もある。
公開2007−174982 この提案も(0003)項と同様に高分子材料である事による成形上の課題からその肉厚の限界から40〜100倍という高倍率観察が可能となる様には底面が形成されない。また、加熱手段が細胞容器の近傍に有る事と、その温度監視となるセンサーに就いては提案されていないので、細胞試料面を正確に制御する法としては課題がある。この目的では細胞培養細胞の剥離、回収の為でありより正確な制御と高倍率観察を必要としない。さらに加熱手段に用いる発熱抵抗体も半導体製造法である露光装置などを用いる大かがりな製造手段を用いる提案である。これは、この高分子材料基材を外部加熱手段を用いて加温させる事であり、本発明の様に透明なプレートである発熱基材にセンサーを同時形成する提案とは異なる。
There is also a proposal for temperature control using a heating resistor attached to the bottom surface of the culture vessel and a temperature-responsive polymer attached to the bottom surface.
Published 2007-174982 In this proposal as well, the bottom surface is not formed so that high magnification observation of 40 to 100 times is possible from the limit of the wall thickness due to molding problems due to being a polymer material as in the case of (0003). In addition, since the heating means is in the vicinity of the cell container and the sensor for monitoring the temperature has not been proposed, there is a problem as a method for accurately controlling the cell sample surface. For this purpose, cell culture cells are detached and collected, and more precise control and high magnification observation are not required. Further, the heating resistor used for the heating means is also proposed to use a large manufacturing means using an exposure apparatus or the like which is a semiconductor manufacturing method. This is to heat the polymer material substrate using an external heating means, which is different from the proposal of simultaneously forming a sensor on a heat generating substrate which is a transparent plate as in the present invention.

他の側面として、顕微鏡下での培養細胞の観察時においては温度コントロールは重要で有り顕微鏡観察を阻害しない様に透明加熱ヒーターが用いられており、そのヒーター機能として以下の提案も有る。
公開2004−206069 公開2007−212633 しかし、これらの方法では、顕微鏡ステージ上に設置する加熱板を通じて加熱をさせる為、シャーレ等の培養容器へは該容器を収納するその加熱板を構成するチャンバーを通じて加熱を行う間接的加熱となり、シャーレ内の培養試料を真に所定する温度で加熱すると云うには限界があった。即ち培養試料直下で所定する温度を達成する為にはより熱伝導ロスを少なくする方法を具備する培養容器が求められる。
As another aspect, temperature control is important when observing cultured cells under a microscope, and a transparent heater is used so as not to obstruct the microscope observation.
Published 2004-206069 Published 2007-212633 However, in these methods, since heating is performed through a heating plate installed on the microscope stage, the culture vessel such as a petri dish becomes indirect heating in which heating is performed through a chamber constituting the heating plate that houses the vessel. There was a limit to heating the cultured sample at a truly predetermined temperature. That is, in order to achieve a predetermined temperature directly under the culture sample, a culture vessel having a method for reducing heat conduction loss is required.

一方で、温度制御を行う為にはセンサーは必須であり、特に透明な薄膜センサーは光学顕微鏡観察向けには期待がされている。次の報告の中にITOセンサーが提案されているが、これらもフォトリソグラフィ法等の高価な装置を用いて作るので、更により安価で簡便な手法での製造も待たれていた。本発明者らは、レーザー加工法の一つであるレーザー加工法を用いて、ヒーター発熱面を形成する同一のITO薄膜を温度センサー化する事で、重装備な装置と複雑な製法を用いる事無く低コストで対応できる製法を提案している。。
マイクロ加工技術を応用した深海用DNA精製デバイスの開発(生産研究2004年50巻6号29〜32頁)
On the other hand, a sensor is indispensable for temperature control, and a transparent thin film sensor is expected for observation with an optical microscope. In the next report, ITO sensors have been proposed. Since these sensors are also manufactured using an expensive apparatus such as a photolithographic method, they have been awaited to be manufactured by an even cheaper and simpler method. The present inventors use a laser processing method, which is one of laser processing methods, to use a heavy equipment and a complicated manufacturing method by converting the same ITO thin film forming the heater heating surface into a temperature sensor. We have proposed a manufacturing method that can be used at low cost. .
Development of DNA purification device for deep sea using microfabrication technology (Production Research 2004, Vol. 50, No. 6, pp. 29-32)

他の透明な薄膜温度センサーの例としては、ヒーターと同一基体上ではなくその反対する側に温度センサーを使用する報告がある。これは上の項(0006)と同様な理由により、ヒーター部とセンサー部を別々な面に形成する等コストがかかる他、単独にセンサーを形成する提案である。本発明の様に透明導電膜を利用して加熱を主目的とするヒーターを形成し、その同一基板上にセンサーを設ける細胞培養容器として機能させる構造のものとは違いがある。
公開平10−340802
Another example of a transparent thin film temperature sensor is the use of a temperature sensor on the opposite side of the heater rather than on the same substrate. For the same reason as the above item (0006), it is a proposal to form a sensor independently, in addition to cost such as forming the heater part and the sensor part on separate surfaces. This is different from the structure of the present invention in which a heater mainly for heating is formed using a transparent conductive film and a sensor is provided on the same substrate to function as a cell culture vessel.
Open hei 10-340802

更に細胞培養時に於いては、細胞容器は常時加温されているので、シャーレの蓋内部に曇りを生じてしまい、倒立顕微鏡観察においても観察側の皿部底面に対物レンズを用い、その細胞培養器の蓋面からは透過光を照射する必要から顕微鏡観察に支障をきたす事もあった。  In addition, during cell culture, the cell container is always heated, so the inside of the petri dish becomes clouded, and the object lens is used on the bottom of the dish on the observation side in the inverted microscope observation. From the lid surface of the vessel, it was necessary to irradiate transmitted light, which sometimes hindered microscopic observation.

本発明者らは、実登録3142507号において、樹脂製もしくはガラス製のスライドガラス基板及びバイオ基板に透明導電膜を成膜したヒーターを一体化させたものを提案し、且つヒーター部を均一発熱できるようにスリット形状加工を設けた抵抗回路を設け機能させるものを提供できることを開示し、又、このヒーターパターン回路の加工はレーザー装置で簡単に加工する事ができるものであった。  In the actual registration No. 3142507, the present inventors proposed a resin or glass slide glass substrate and a bio substrate in which a heater having a transparent conductive film formed thereon is integrated, and the heater part can uniformly generate heat. Thus, it is disclosed that a resistor circuit provided with a slit shape processing can be provided and functioned, and the heater pattern circuit can be easily processed by a laser device.

更に特願2007−285543号において、より発熱エリアを分画して、その分画エリア毎に異なった発熱ができるヒーターパターンとなる加工提案も行っている。1個の基板上に同時に複数の異種温度を発熱させるものである。  Further, in Japanese Patent Application No. 2007-285543, a processing proposal is made for a heater pattern in which a heat generation area is further fractionated and different heat generation is performed for each fractionation area. A plurality of different temperatures are generated simultaneously on one substrate.

しかし、これらの考案ないし該発明は、本来の特徴である直接加熱法をより正確に制御させる方法としての温度制御は従来のセンシング法に頼っており、その対応に課題を残していた。  However, these devices and inventions depend on the conventional sensing method for temperature control as a method for more accurately controlling the direct heating method, which is the original feature, and there remains a problem in dealing with it.

本発明の目的は、透明導電膜材料の各特性である、電気及び光学並びに物性形体を発揮できる様にする機能性を有する細胞培養容器の発明である。電気特性としては抵抗体及び導電膜を形成する事と、光学特性としてはその透過率を活かす事、形体からは細胞外基質の足場構造体とする事、並びに物性としては抗菌作用を利用する事である。  The objective of this invention is invention of the cell culture container which has the function which enables it to exhibit the electrical and optical and physical property which are each characteristic of a transparent conductive film material. For electrical properties, use resistors and conductive films; for optical properties, make use of their transmittance; for shapes, use scaffold structures for extracellular matrix; and for physical properties, use antibacterial action. It is.

抵抗体を活かして発熱ヒーターとして作用させるには、透明導電膜材料の一つであるインジウム酸化物とスズ酸化物の混合物であるITOを用いてヒーターとなるパターン部を形成する事と、その同一パターン部をその形成に用いた同一の装置を用いて透明なる温度センサー部を透明プレート上に形成する事である。これを培養容器そのものに取付ける事で、正確に細胞試料面の温度環境を構築できる。さらに培養容器を収納させる加温用チャンバーを不要にできる事である。尚、透明導電膜材料は、ZnO、TiO2などの透明酸化物の材料を用いる事もできる。  In order to make the resistor act as a heat generating heater, it is the same as forming a pattern part to be a heater using ITO, which is a mixture of indium oxide and tin oxide, which is one of transparent conductive film materials. A transparent temperature sensor portion is formed on a transparent plate using the same apparatus used for forming the pattern portion. By attaching this to the culture vessel itself, the temperature environment of the cell sample surface can be accurately constructed. Furthermore, it is possible to eliminate the need for a heating chamber for accommodating the culture vessel. The transparent conductive film material may be a transparent oxide material such as ZnO or TiO 2.

この温度センサーを用いて、ヒーター面の発熱部温度を検出してフィードバックさせる事により温度コントロールを容易に行なわせる事である。  Using this temperature sensor, the temperature control is easily performed by detecting and feeding back the temperature of the heat generating part on the heater surface.

またセンサーを低コストで製造する加工法としては、発熱部を均一化させる目的として使用するスリット加工回路形成に用いたレーザー加工法を採用する事で対応できる。  Further, as a processing method for manufacturing the sensor at a low cost, it can be dealt with by adopting a laser processing method used for forming a slit processing circuit used for the purpose of uniformizing the heat generating portion.

培養試料の局所を正確に直接加温制御するには、ヒーター面を測温する課題が有り、ヒーターとセンサーが同一面上に形成されたボトム透明プレートを、培養容器であるシャーレ又はウェルプレートの皿部に適切に取り付ける事である。  In order to control the temperature of a culture sample directly and accurately, there is a problem of measuring the temperature of the heater surface. A bottom transparent plate with the heater and sensor formed on the same surface is attached to a petri dish or well plate as a culture vessel. Appropriately attaching to the pan.

さらに、ヒーターとセンサーとなる透明導電膜パターンを培養容器の表面、胴体側外周面もしくは底部に適切に取り付ける事である。  Furthermore, a transparent conductive film pattern serving as a heater and a sensor is appropriately attached to the surface of the culture vessel, the outer peripheral surface of the trunk, or the bottom.

本発明の目的の二つ目は、このヒーターとなる透明導電膜パターンが形成されたトップ透明プレートを用いて、シャーレ又はウェルプレートの蓋となる部分に搭載すると、防曇用途にも対応できるようにしたものを提供することである。この場合、シャーレ又はウェルプレートの各々の蓋に直接その透明導電膜パターンを形成する事もできる。  The second object of the present invention is to use the top transparent plate on which the transparent conductive film pattern to be the heater is formed and mount it on the portion that becomes the lid of the petri dish or well plate, so that it can also be used for anti-fogging applications. It is to provide what was made. In this case, the transparent conductive film pattern can be directly formed on each lid of the petri dish or well plate.

請求項1記載の透明プレートは顕微鏡観察用のカバーガラスとしての役割も兼ねる事から、低屈折率、高透過率の性能を満足させる石英又はホウケイ酸ガラスもしくは光学性能を有する樹脂製のものを提供する事である。  Since the transparent plate according to claim 1 also serves as a cover glass for microscopic observation, it provides quartz or borosilicate glass that satisfies the performance of low refractive index and high transmittance, or a resin that has optical performance. Is to do.

さらに、他の目的は培養容器の細胞付着面側に形成する透明導電膜の電気導電性に着目して、電気化学手法に対応する培養容器を提供する事である。併せて細胞付着面側に細胞外基質となるその接着因子としての機能の一つである足場構造となる該培養容器を提供する事である。  Furthermore, another object is to provide a culture vessel corresponding to an electrochemical method by paying attention to the electrical conductivity of a transparent conductive film formed on the cell adhesion surface side of the culture vessel. At the same time, it is to provide the culture vessel having a scaffold structure which is one of functions as an adhesion factor serving as an extracellular matrix on the cell attachment surface side.

一方本発明の該細胞容器はそれを収納させる培養チャンバーを不要とする小型培養容器となるという特長を有しており、特に顕微鏡下の経時観察では、温度環境の他に、生存環境としての炭酸ガスフラン器を必要とし、これらを組込み培養装置とする小型化が望まれていた。  On the other hand, the cell container of the present invention has a feature that it becomes a small culture container that does not require a culture chamber for storing the cell container. There was a demand for miniaturization that requires gas furan vessels and uses them as built-in culture devices.

本発明の請求項1に係るものは、付着性細胞を培養するための細胞培養容器本体に形成された透明導電膜を備えた該細胞培養容器において、前記透明導電膜はヒーター部と電流検出センサー部備えた事を特徴とする細胞培養容器とするものである。該細胞培養容器本体は、孔開け加工を行ったものにボトム透明プレートが取付けた形体と、孔開け加工がされていない形体とからなる。。  According to claim 1 of the present invention, there is provided a cell culture vessel comprising a transparent conductive film formed on a cell culture vessel main body for culturing adherent cells, wherein the transparent conductive film comprises a heater part and a current detection sensor. The cell culture vessel is characterized by having a portion. The cell culture vessel main body has a shape in which a bottom transparent plate is attached to a hole-performed one and a shape that is not perforated. .

本発明の請求項2に係るものは、細胞培養容器であるシャーレの皿部に孔開け加工を行ってその孔を塞ぐ様にして皿の底部を形成するボトム透明プレートからなるものである。該ボトム透明プレートは、裏面に透明導電膜を成膜加工がされ、さらにその透明導電膜をヒーターとする抵抗回路形成と、さらに前記抵抗を所望する抵抗値を得る電流検出とするセンサーを設けてある。ヒーターパターン回路とセンサー回路を同一基板上に設ける事により、より正確なヒーターエリア部の温度情報が得られる。該ボトム透明プレートの回路パターンの特徴は、一対の対向をなす縦溝からなる陽極側と陰極側の各々のスリットを設けた事を特徴とする細胞培養容器である。ここで用いる細胞培養容器の本体シャーレは、ポリスチレン等の樹脂製のものを使用する。According to the second aspect of the present invention, the bottom plate of the dish is formed by punching a dish portion of a petri dish, which is a cell culture container, so as to close the hole. The bottom transparent plate has a transparent conductive film formed on the back surface, further includes a resistance circuit formation using the transparent conductive film as a heater, and a sensor for detecting the current to obtain a desired resistance value. is there. By providing the heater pattern circuit and the sensor circuit on the same substrate, more accurate temperature information of the heater area can be obtained. A characteristic of the circuit pattern of the bottom transparent plate is a cell culture vessel characterized in that a slit on each of an anode side and a cathode side made of a pair of opposing longitudinal grooves is provided. The cell petri dish used here is made of resin such as polystyrene.

本発明の請求項3に係るものは、細胞培養容器であるシャーレの蓋部に孔開け加工を行ってその孔を塞ぐ様にして蓋上部を形成するトップ透明プレートから製造するものである。該トップ透明プレートは、表面に透明導電膜を成膜加工がされ、さらにその透明導電膜をヒーターとする抵抗回路形成を設けた事を特徴とする細胞培養容器である。 本項の目的は、蓋部が結露すると、正立顕微鏡観察に支障をきたしたり、又、倒立顕微鏡観察法においては顕微鏡のステージ上側からの照明光を阻害する事になり観察に支障をきたしていたが、蓋部にヒーター回路を設ける事で防曇用となる事である。上記0023項とは異なり、防曇機能のみであるから、センサー回路と均一発熱させるヒーター回路は不要であり、該防曇機能とするには皿の底部を形成するボトム透明プレートによるヒーター温度より上回る発熱とすればよい。  According to the third aspect of the present invention, a lid is formed on a petri dish serving as a cell culture container, and is manufactured from a top transparent plate that forms an upper lid so as to close the hole. The top transparent plate is a cell culture vessel characterized in that a transparent conductive film is formed on the surface and a resistance circuit is formed using the transparent conductive film as a heater. The purpose of this section is that if the lid condenses, it will interfere with the observation of an upright microscope, and in the inverted microscope observation method, the illumination light from the upper side of the microscope will be obstructed and the observation will be hindered. However, the provision of a heater circuit in the lid part is to prevent fogging. Unlike the above-mentioned item 0023, since only the anti-fogging function is provided, the sensor circuit and the heater circuit for uniformly generating heat are not necessary, and the anti-fogging function is higher than the heater temperature by the bottom transparent plate that forms the bottom of the dish. It only has to generate heat.

本発明の請求項4に係るものは、細胞培養容器にあっては、培養庫で培養していた細胞を顕微鏡下で経時的観察する必要がある時には、生存させる培養環境として、温度以外にpH(水素濃度イオン指数)を管理する手段としての炭酸ガス供給と灌流が必要となる事がある。これらに対応すべく、該細胞培養容器であるシャーレの蓋部に炭酸ガスの注入筒と排出筒と、灌流注入筒と排出筒とを簡易に取付けられる様にしたものである。該注入及び排出筒は、その外径は4mm前後とし耐腐食性の材質のもので製造する。その使用はシリコン製又はナイロン製チューブ(図示しない)等に連結して使用する。  In the cell culture container according to claim 4 of the present invention, when it is necessary to observe the cells cultured in the incubator with time under a microscope, the culture environment to survive is pH other than temperature. Carbon dioxide supply and perfusion may be required as a means of managing (hydrogen concentration ion index). In order to cope with these, a carbon dioxide injection cylinder, a discharge cylinder, a perfusion injection cylinder, and a discharge cylinder can be easily attached to the lid portion of the petri dish which is the cell culture container. The injection and discharge cylinders are made of a corrosion-resistant material having an outer diameter of around 4 mm. It is used by connecting it to a silicon or nylon tube (not shown).

本発明の請求項5に係るものは、請求項2項に記載の該ボトム透明プレートの下側に透明導電膜が形成される構造と比較して、前記細胞の局所への熱伝導及び加温をより遅滞無く正確にする事を可能とする様に、該ボトム透明プレートの細胞が付着する面の上側に透明導電膜が形成された該細胞培養容器である。  According to a fifth aspect of the present invention, compared to the structure in which a transparent conductive film is formed on the lower side of the bottom transparent plate according to the second aspect, heat conduction and heating to the local area of the cell In this cell culture container, a transparent conductive film is formed on the upper side of the surface of the bottom transparent plate to which the cells adhere so as to make it possible to make the accuracy more accurate.

本発明の請求項6に係るものは、請求項2の該細胞培養容器において、電流を流すべく陽極と陰極との対の電極針を備え、該ボトム透明プレートの上側に透明導電膜面を形成し微弱電流発生装置(図示しない)を用いて微弱電流を流す事を可能とする様に形成された事を特徴とする細胞培養容器である。電極針は接触端子径が1mm内外の小径のコンタクトプローブを用いる。 本項の目的は、細胞培養を行う面である該ボトム透明プレートの上側の透明導電膜面に微弱電流を流す事で、新たな電気化学的な培養実験を開拓するものである。According to a sixth aspect of the present invention, in the cell culture container according to the second aspect, a pair of electrode needles of an anode and a cathode is provided to allow a current to flow, and a transparent conductive film surface is formed on the upper side of the bottom transparent plate The cell culture vessel is characterized by being formed so as to allow a weak current to flow using a weak current generator (not shown). As the electrode needle, a contact probe having a small diameter with a contact terminal diameter of 1 mm is used. The purpose of this section is to pioneer a new electrochemical culture experiment by applying a weak current to the transparent conductive film on the upper side of the bottom transparent plate, which is a surface for cell culture.

本発明の請求項7に係るものは、該培養容器へ該トップ透明プレート又は該ボトム透明プレートを用いる事なく直接、透明導電膜の成膜とパターン形成するもので、光学顕微鏡観察の対物レンズの60〜100倍の高倍率観察には適さないが、各々の透明プレート加工が不要となるので低コストで供給できる。  According to the seventh aspect of the present invention, a transparent conductive film is formed and patterned directly on the culture vessel without using the top transparent plate or the bottom transparent plate. Although it is not suitable for high-magnification observation of 60 to 100 times, each transparent plate processing becomes unnecessary, so that it can be supplied at low cost.

本発明の請求項8に係るものは、シャーレの他の細胞培養容器であるマイクロウェルプレート又は試験管もしくはフラスコの培養容器に同様な加工をなしたものである。  According to the eighth aspect of the present invention, the same processing is performed on a microwell plate, which is another cell culture container of a petri dish, or a culture container of a test tube or a flask.

本発明の上記各請求項に係るものは、細胞培養容器に透明導電膜を成膜加工を行い、発熱エリアとなるヒーターパターンと温度センサーパターンをレーザー加工装置により形成することである。その導電性に着目して、ヒーターパターン回路とセンサー回路を同一基板上に設ける事により、より正確な発熱エリア部の温度情報が得られる。尚該透明プレートの形状は矩形又は円形で対応する。  According to the above-mentioned respective claims of the present invention, a transparent conductive film is formed on a cell culture vessel, and a heater pattern and a temperature sensor pattern serving as a heat generation area are formed by a laser processing apparatus. By paying attention to the conductivity, the heater pattern circuit and the sensor circuit are provided on the same substrate, whereby more accurate temperature information of the heat generation area can be obtained. The shape of the transparent plate corresponds to a rectangle or a circle.

ヒーターとして機能するのは、印加する電圧制御によりヒーター端子間の抵抗値に電力負荷が加わり電流値の変動が生じる事から、ヒーター温度を設定するには、印加する電流と電圧の比例関係に於いて設定される。その時の電流値と比例関係にある発熱温度との相関関係を利用するものである。予めその所定温度を得る必要な電圧を印加し、この時センサーにより電流を計測検出し、温度に換算して、電圧を調整する事で温度制御を行う。端子間の抵抗値を測定する事から、この関係を用いて温度センサーとして利用するものである。  The function of the heater is that the electric load is applied to the resistance value between the heater terminals due to the applied voltage control, and the current value fluctuates.To set the heater temperature, the proportional relationship between the applied current and voltage is used. Is set. The correlation between the current value at that time and the heat generation temperature that is proportional to the current value is used. A voltage necessary to obtain the predetermined temperature is applied in advance, and at this time, the current is measured and detected by a sensor, converted into temperature, and the voltage is adjusted to perform temperature control. Since the resistance value between the terminals is measured, this relationship is used as a temperature sensor.

本発明は、透明な温度センサーの提案であるが、従来のその製法は(0006)項記載のようにマスク製造を伴う重装備なフォトリソグラフィ設備を用いて製造する提案であったが、下記に述べるレーザー加工装置装置を用いる事で低コストで製造できるメリットを有する。以下に低コストでセンサー回路を形成するレーザー法を用いた透明センサー部の形成を提案する。その形成は、(1)センサー部を単独で設ける方法(図10)、(2)センサー部をヒーターパターンとなる内部に設ける方法(図11)、並びに(3)ヒーター発熱部とその発熱部の端子部をセンサー制御部として利用する方法(図12)が考えられるが、使用目的又は製造目的に併せて選択すれば良い。本案ではレーザー加工とするパターンは一対の対向をなす縦溝からなる陽極側と陰極側の各々のスリット形成を行う提案である。  Although the present invention is a proposal of a transparent temperature sensor, the conventional manufacturing method has been a proposal to manufacture using a heavy equipment photolithographic equipment accompanied by mask manufacturing as described in the paragraph (0006). By using the laser processing apparatus to be described, there is an advantage that it can be manufactured at low cost. Below, we propose the formation of a transparent sensor part using a laser method for forming a sensor circuit at low cost. The formation includes (1) a method of providing the sensor unit alone (FIG. 10), (2) a method of providing the sensor unit inside the heater pattern (FIG. 11), and (3) the heater heating unit and the heating unit. A method of using the terminal part as a sensor control part (FIG. 12) is conceivable, but it may be selected according to the purpose of use or the purpose of manufacture. In this proposal, the laser processing pattern is a proposal for forming slits on the anode side and the cathode side each consisting of a pair of opposing vertical grooves.

成膜加工する透明導電膜であるITOの透過率は約80%なので、これを改善する為に反射防止膜を透明導電膜の上に積層形成して透過率を改善させる事もできる。  Since the transmittance of ITO, which is a transparent conductive film to be formed, is about 80%, in order to improve this, an antireflection film can be laminated on the transparent conductive film to improve the transmittance.

本発明は、外部加熱装置を用いる間接加熱法では無く、観察培養細胞を直接加熱ができ、その熱伝導を効率良く伝える局所直接加熱法の為に、培養細胞直下を所定の設定された培養温度にする事ができる。  The present invention is not an indirect heating method using an external heating device, but can directly heat an observation cultured cell, and for a local direct heating method that efficiently conveys the heat conduction, a predetermined culture temperature is set directly below the cultured cell. Can be made.

本発明は、細胞培養には加温が伴う事により蓋部が結露するが、防曇目的とする透明ヒーターを形成しているので、正立顕微鏡観察又は倒立顕微鏡観察法を阻害する事なく観察ができる。  In the present invention, although the lid portion is condensed due to heating during cell culture, a transparent heater is formed for the purpose of anti-fogging, so observation without obstructing upright microscope observation or inverted microscope observation method Can do.

本発明は、培養容器であるシャーレ等にヒーターを取り付け培養容器に一体化させて、更にその機能向上の為に温度フィードバック用の透明な温度センサーを設ける事により、温度制御を容易にするものとなるので、シャーレの蓋を開けて測温する事も無く、別途外部温度センサーを付加する必要も無くなり、構成としてもシンプルとなる。又、センサーパターンは成膜されているヒーターと同材質の為、透明性が得られるので顕微鏡観察による支障が無くなる。  The present invention facilitates temperature control by attaching a heater to a petri dish or the like that is a culture vessel and integrating it with the culture vessel, and further providing a transparent temperature sensor for temperature feedback to improve its function. Therefore, there is no need to open the petri dish lid to measure the temperature, there is no need to add an external temperature sensor, and the configuration is simple. Further, since the sensor pattern is made of the same material as the heater formed, transparency can be obtained, so that there is no trouble with observation with a microscope.

ヒーター部を発熱均一目的でスリット加工によるヒーターパターン化と、センサーパターン加工が同一のレーザー加工装置を使用する事になり、さらに同一工程で製造する事による為製造コストが安価となる。  The heater patterning of the heater part by the slit processing for the purpose of uniform heat generation and the sensor pattern processing use the same laser processing apparatus, and further, the manufacturing cost is low because it is manufactured in the same process.

本発明は、細胞培養を行う面上に形成される透明導電膜面に微弱電流を流す事で、電気刺激による細胞制御又は神経細胞等の電気生理実験等の新たな電気化学的な培養実験を光学顕微鏡観察下で行えるものである。更に細胞培養面に形成された導電膜面に細胞外細胞外基質となるその接着因子としての機能の一つである足場構造となる。  The present invention allows new electrochemical culture experiments such as cell control by electrical stimulation or electrophysiological experiments such as nerve cells by passing a weak current through the transparent conductive film surface formed on the surface where cell culture is performed. It can be done under an optical microscope. Furthermore, a scaffold structure which is one of the functions as an adhesion factor serving as an extracellular extracellular matrix is formed on the conductive film surface formed on the cell culture surface.

以下、図面を用いて本発明の非限定的な実施例を基に説明を行う。  The following description is based on non-limiting examples of the present invention with reference to the drawings.

図1(A)は、上記記載の該トップ透明プレート1をシャーレ蓋部に、該ボトム透明プレート35を皿部に各々取り付けたものの斜視図である。(B)はその断面図である。培養容器であるシャーレ容器3は、その蓋部と皿部は事前に孔開け開口されており、それを塞ぐ様に該トップ透明プレート1及び該ボトム透明プレート35を有した構造である。  FIG. 1A is a perspective view of the above-described top transparent plate 1 attached to a petri dish lid part and the bottom transparent plate 35 attached to a dish part. (B) is a sectional view thereof. The petri dish container 3 which is a culture container has a structure in which the lid and the dish are previously perforated and have the top transparent plate 1 and the bottom transparent plate 35 so as to close it.

該シャーレ容器3の形体は、外径が35mm、深さ10mmからなる円筒形である。また該容器はポリスチレン等の樹脂で製造され、その蓋部と皿部の中央部分に、被培養細胞(図示しない)をできるだけ多く付着できるようにその外径を大きくとり、20mm内外の開口部31が設けられている。  The petri dish 3 has a cylindrical shape having an outer diameter of 35 mm and a depth of 10 mm. The container is made of a resin such as polystyrene. The outer diameter of the container is increased so that as many cells to be cultured (not shown) can be attached to the central part of the lid and the dish as much as possible. Is provided.

さらにその蓋部12と皿部13には、各々の外側に各々の開口部31を塞ぐ為に、該トップ透明プレート1及び該ボトム透明プレート35をシリコン系の硬化型接着剤を介して連結する。該トップ透明プレート1及び該ボトム透明プレート35の形体は顕微鏡観察用のカバーガラス並みの厚さ170μm内外、外径30mm内外とし、材質は光学品質の高いホウケイ酸硝子もしくは樹脂製を使用する。 接着剤材料としては、ガラス並の屈折率(1.6)を有するシリコーン系の光硬化性又は熱硬化性樹脂を用いる事もできる。例えば株式会社ADEKA製のナノハイブリッドシリコーン材料はその一例である。  Further, the top transparent plate 1 and the bottom transparent plate 35 are connected to the lid portion 12 and the dish portion 13 via a silicon-based curable adhesive in order to close each opening 31 on the outside. . The shapes of the top transparent plate 1 and the bottom transparent plate 35 are 170 μm in thickness and inside and outside the outer diameter of 30 mm, which are the same as a cover glass for microscopic observation, and are made of borosilicate glass or resin with high optical quality. As the adhesive material, a silicone-based photocurable or thermosetting resin having a refractive index (1.6) comparable to that of glass can be used. For example, a nano hybrid silicone material manufactured by ADEKA Corporation is an example.

また該ボトム透明プレートの下面35bには、被細胞への局所加温が正確に行えるように、レーザー加工法によりヒーター作用とセンサー作用とする為のスリットパターンが設けられている。  In addition, a slit pattern is provided on the lower surface 35b of the bottom transparent plate so as to perform a heater action and a sensor action by a laser processing method so that local heating to the cell can be performed accurately.

蓋部12の結露防止用とする為に、その開口部31aを塞ぐ為に、上記記載の項0038及び0039と同様に蓋部の上面12に該トップ透明プレート1をシリコン系の硬化型接着剤を介して連結する。尚該トップ透明プレートの上面1aには、レーザー加工法によりヒーターとする為のスリットパターンが設けられている。  In order to prevent the condensation of the lid 12, the top transparent plate 1 is placed on the upper surface 12 of the lid in the same manner as the above-described items 0038 and 0039 in order to close the opening 31 a. Connect through. A slit pattern is provided on the upper surface 1a of the top transparent plate to form a heater by a laser processing method.

図2(A)は、上記記載のシャーレのその容器の蓋部に炭酸ガスの注入筒とその排出筒、及び培養液の灌流筒とその排出筒とを備えたものの斜視図である。(B)はその断面図である。本培養容器3を用いて炭酸ガス及び培養液を循環させる灌流の培養システムは図15記載にするが、炭酸ガス注入筒37及び灌流注入筒39とその炭酸ガス排出筒38及び灌流排出筒40を備える培養容器である。これらへの流入には図示しない細径のチューブを接続して使用するものである。該注入筒とその排出筒の形体は外径は4mm前後とし耐腐食性の材質のもので製造する。その使用はシリコン、又はナイロン製又はシリコン製チューブ(図示しない)等に連結して使用する。この注入筒を通じて生理活性作用のある、酸素及びオゾン等の気体を供給する事ができる。  FIG. 2 (A) is a perspective view of a petri dish having the above-mentioned petri dish provided with a carbon dioxide gas injection cylinder and its discharge cylinder, and a culture medium perfusion cylinder and its discharge cylinder. (B) is a sectional view thereof. The perfusion culture system for circulating carbon dioxide and culture medium using the main culture vessel 3 is shown in FIG. 15, but the carbon dioxide injection cylinder 37 and the perfusion injection cylinder 39 and its carbon dioxide discharge cylinder 38 and perfusion discharge cylinder 40 are provided. It is a culture vessel provided. A small-diameter tube (not shown) is connected and used for inflow into these. The shape of the injection cylinder and its discharge cylinder is made of a corrosion-resistant material having an outer diameter of around 4 mm. It is used by being connected to silicon, nylon, or a silicone tube (not shown). Gases such as oxygen and ozone that have physiological activity can be supplied through this injection cylinder.

図3は、前記容器3の皿部13の開口部31bに取付けられた上記記載の該ボトム透明プレートの上面35aと、該容器の内面13aと下面13b及び外周辺部13cとに透明導電膜を先ず成膜し、次いでレーザー加工によりヒーターパターンとセンサーパターン加工を行い形成し、さらに前記容器3の蓋部は前記0042項と同様に形成するものの断面図である。シャーレの13a及び13b並びに13cには図示しない導通用の電極端子をレーザー加工にて行う。これは皿部13の該ボトム透明プレートの上面35aである細胞付着面に発熱エリアを設けるものである。  FIG. 3 shows a transparent conductive film formed on the upper surface 35a of the bottom transparent plate and the inner surface 13a, the lower surface 13b, and the outer peripheral portion 13c of the container, which are attached to the opening 31b of the dish portion 13 of the container 3. FIG. 3 is a cross-sectional view of a film formed first, then formed by laser processing to form a heater pattern and a sensor pattern, and the lid portion of the container 3 is formed in the same manner as in the item 0042. On the petri dishes 13a, 13b and 13c, conductive electrode terminals (not shown) are formed by laser processing. This is to provide a heat generation area on the cell attachment surface which is the upper surface 35a of the bottom transparent plate of the dish portion 13.

図4(A)は、前記容器3の蓋部の内面12bと、底部13にあっては該ボトム透明プレート35が取り付けられている該皿部の内面13a及び下面13b並びに外周辺側面部13cと、該ボトム透明プレートの上面35aと該下面35bとに、透明導電膜を先ず成膜がなされ、次いでレーザー加工によりヒーターパターンとセンサーパターン加工を行い形成するものの斜視図である。(B)はその断面図である。  FIG. 4A shows the inner surface 12b of the lid portion of the container 3, the inner surface 13a and the lower surface 13b of the plate portion to which the bottom transparent plate 35 is attached, and the outer peripheral side surface portion 13c. FIG. 3 is a perspective view of a transparent conductive film first formed on the upper surface 35a and the lower surface 35b of the bottom transparent plate and then formed by laser processing and heater pattern and sensor pattern processing. (B) is a sectional view thereof.

また図4(A)は、前記容器3の蓋部の内面12bに透明導電膜加工がなされているが、該蓋部の外面12aには、透明性の抗菌剤がコート60がされているものの斜視図である。(B)はその断面図である。該容器に用いるポリスチレン樹脂は細胞が付着し易いものであり、逆に他の細胞の侵入等に対処する様に該前記容器本体の一部、本例では該蓋部の外面12aに酸化チタンTiO2等を用いてコートするものである。  In FIG. 4A, the inner surface 12b of the lid portion of the container 3 is processed with a transparent conductive film. The outer surface 12a of the lid portion is coated with a transparent antibacterial agent 60. It is a perspective view. (B) is a sectional view thereof. The polystyrene resin used in the container is easy to attach cells, and conversely, titanium oxide TiO2 is applied to a part of the container main body, in this example, the outer surface 12a of the lid, so as to deal with invasion of other cells. Etc. are used for coating.

この他に、図3又は図4において、該ボトム透明プレートの上面35aに用いる透明導電膜15は塗布法によるITOインク(微粒子)を用いる事ができる。該透明導電膜の特徴は、ナノ単位の粒子径の粒度分布状態からなり、導電性という特性の他に、その表面状態の微粒子の凹凸性状を利用して、細胞外細胞外基質となるその接着因子となる足場構造とするものである。  In addition, in FIG. 3 or FIG. 4, the transparent conductive film 15 used for the upper surface 35a of the bottom transparent plate can use ITO ink (fine particles) by a coating method. The transparent conductive film is characterized by a particle size distribution state of a nano-unit particle diameter, and in addition to the property of conductivity, its adhesion to become an extracellular extracellular matrix by utilizing the irregularity of fine particles in the surface state. The scaffold structure is a factor.

同様に、図3又は図4において、該ボトム透明プレートの上面35aに用いる導電膜にはダイヤモンド様炭素膜であるDLC膜を用いる事もできる。これは上記記載0049項と同様にこのDLC膜も細胞培養の足場構造として利用するものである。  Similarly, in FIG. 3 or FIG. 4, a DLC film that is a diamond-like carbon film can be used as the conductive film used for the upper surface 35a of the bottom transparent plate. As in the above item 0049, this DLC membrane is also used as a scaffold structure for cell culture.

図5は、電流を流すべく陽極52と陰極53との対の電極針を備え、皿部に取付けられている該ボトム透明プレートのト側35aに透明導電膜面を形成し微弱電流発生装置(図示しない)を用いて微弱電流を流す事を可能とするものの断面図である。電極針は接触端子径が1mm内外の小径のコンタクトプローブを用いる。また該ボトム透明プレートの下面35bには、被細胞への局所加温が正確に行えるように、レーザー加工法によりヒーターとセンサーとする為のスリットパターンが設けられている。  5 includes a pair of electrode needles of an anode 52 and a cathode 53 in order to pass an electric current, and forms a transparent conductive film surface on the side 35a of the bottom transparent plate attached to the dish portion to form a weak current generator ( It is sectional drawing of what enables a weak electric current to flow using (not shown). As the electrode needle, a contact probe having a small diameter with a contact terminal diameter of 1 mm is used. In addition, a slit pattern for forming a heater and a sensor by a laser processing method is provided on the lower surface 35b of the bottom transparent plate so as to accurately perform local heating on the cell.

図6は、図1記載の前記容器3の皿部13に取付けられている該ボトム透明プレートの下面35b側のヒーターとセンサーとする為スリットパターンが設けられている面に反射防止膜を形成するものである。  FIG. 6 shows an antireflection film formed on the surface on which the slit pattern is provided in order to serve as a heater and a sensor on the lower surface 35b side of the bottom transparent plate attached to the dish portion 13 of the container 3 shown in FIG. Is.

図7(A)は、前記容器3の蓋部の上面12aと皿部の下面13bに透明導電膜を先ず成膜し、次いでレーザー加工によりヒーターパターンとセンサーパターン加工を行い形成するものの斜視図である。これは透明プレートを用いないでシャーレそのものへ発熱エリアとセンサーを設けるものである。(B)はその断面図である。  FIG. 7A is a perspective view of what is formed by first forming a transparent conductive film on the upper surface 12a of the lid portion of the container 3 and the lower surface 13b of the dish portion, and then processing the heater pattern and sensor pattern by laser processing. is there. In this method, a heat generating area and a sensor are provided on the petri dish itself without using a transparent plate. (B) is a sectional view thereof.

図8(A)は、6穴用のウェルプレート41において、前記ボトム透明プレート35を該皿部の底面に取り付け、さらに前記トップ透明プレート1を該蓋部の上面に取り付けたものの平面図である。(B)はその断面図である。一般的なウェルプレート41の形体は85mmx127mmの外径寸法であり、前記ウェルプレートでは35mm径のウェルを6個配置するものの例である。  FIG. 8A is a plan view of a well plate 41 for 6 holes in which the bottom transparent plate 35 is attached to the bottom surface of the dish portion and the top transparent plate 1 is attached to the top surface of the lid portion. . (B) is a sectional view thereof. The shape of a general well plate 41 has an outer diameter of 85 mm × 127 mm, and the well plate is an example in which six wells having a diameter of 35 mm are arranged.

図9(A)は、試験管の表面及周辺側面部に透明導電膜を先ず成膜し、次いでレーザー加工によりヒーターパターンとセンサーパターン加工を行い形成するものの上面図である。(B)はその斜視図である。  FIG. 9A is a top view of a film formed by first forming a transparent conductive film on the surface and peripheral side surface of a test tube, and then forming a heater pattern and a sensor pattern by laser processing. (B) is the perspective view.

図10は、温度センサー部5を単独で設ける方法の一例であり、印加させる陽極側端子6及び陰極側端子7とからなる発熱部4とセンサー部5を搭載した、パターンの平面図である。レーザー加工法により、スリットパターン部30を形成すると発熱は所望する所に起こす事が可能となる。ヒーター4中心部の発熱を高める事が可能になる。  FIG. 10 is an example of a method of providing the temperature sensor unit 5 alone, and is a plan view of a pattern in which the heat generating unit 4 and the sensor unit 5 including the anode side terminal 6 and the cathode side terminal 7 to be applied are mounted. When the slit pattern portion 30 is formed by a laser processing method, heat generation can occur at a desired place. Heat generation at the center of the heater 4 can be increased.

透明ヒーター部4を形成する方法は、本発明者らが実願2007−3637、特願2007−285543号において記載した方法で行うもので、そのヒーターとなる発熱部の温度均一化の為にレーザー加工装置を用いて陽極側スリット30aと陰極側スリット30bとなる加工を行ってパターン化を行う。  The method of forming the transparent heater part 4 is performed by the present inventors by the method described in the actual application 2007-3637 and Japanese Patent Application No. 2007-285543, and a laser is used to make the temperature of the heat generating part to be the heater uniform. Patterning is performed by processing the anode side slit 30a and the cathode side slit 30b using a processing apparatus.

センサー部5は、ヒーターとして最もよく活用される部位の近傍に加工配置し、センサーの両端には検出端子部A(8)、と検出端子B(9)を設ける。以下に透明導電膜材料であるITOを用いて透明な温度センサーとなる製造法を示す。  The sensor unit 5 is processed and arranged in the vicinity of a part that is most often used as a heater, and a detection terminal A (8) and a detection terminal B (9) are provided at both ends of the sensor. The manufacturing method which becomes a transparent temperature sensor using ITO which is a transparent conductive film material is shown below.

パターンを形成する該ボトム透明プレート35又は容器本体皿部13に、発熱部4とセンサー部5となる様に設計を行い各々図示したその範囲が作用できる回路パターンとする。  The bottom transparent plate 35 or the container main body tray portion 13 that forms the pattern is designed so as to be the heat generating portion 4 and the sensor portion 5, and a circuit pattern in which the range shown in FIG.

例えば、生細胞の生存保温温度として約40度の保温を目指す発熱抵抗回路を形成するには、透明導電膜であるITOを先ず、シート抵抗値10Ω/□以下で成膜し、その成膜面に必要とする端子間抵抗値になる様にレーザー加工装置にてスリットパターン30となる加工回路を作る。  For example, in order to form a heating resistor circuit that aims to keep the living cells at about 40 ° C., ITO, which is a transparent conductive film, is first formed with a sheet resistance value of 10Ω / □ or less, and the film formation surface. A processing circuit to be the slit pattern 30 is made by a laser processing apparatus so as to obtain a resistance value between terminals required for the above.

水溶液が約80%封入されている35mm径シャーレを用いて、それを加熱容器として機能を発揮できる能力は、表1に示す。これから判る様に発熱部に必要なヒーターW数は10W以下のものを用いれば良い。この時、35mm径のシャーレ内の培養液量は7065mm3であり、10W時に要求される熱量(Wx秒sec)は578J(ジュール)となる。一方2.2W時は150Jである。尚表1は、発熱部に必要なヒーター能力を定める時のシュミレーションである。これは設定する端子間抵抗値を決め、その時必要とされる、W数、電圧、電流値の相関関係である。又、ヒーターの昇温性能を定めるのは、1分間の上昇温度という要素である。  Table 1 shows the ability of a 35 mm diameter petri dish in which about 80% of the aqueous solution is sealed to function as a heating container. As can be seen, the heater W required for the heat generating part may be 10 W or less. At this time, the amount of the culture solution in the 35 mm diameter petri dish is 7065 mm 3, and the amount of heat (Wx seconds sec) required at 10 W is 578 J (joules). On the other hand, it is 150J at 2.2W. Table 1 shows the simulation for determining the heater capacity required for the heat generating part. This determines the resistance value between terminals to be set, and is a correlation between the number of W, the voltage, and the current value required at that time. Further, the temperature raising performance of the heater is determined by a factor of 1 minute rising temperature.

ヒーター能力2.2W、端子間抵抗値10Ωの場合は、1分間の上昇温度は、J/水(比熱x体積)から求められ、5.08℃となる。この時の測定値は表2に示す。各測定温度位置は、図示の図1の32(▲1▼)、33(▲2▼)、34(▲3▼)である。  In the case of a heater capacity of 2.2 W and an inter-terminal resistance value of 10Ω, the rising temperature for 1 minute is obtained from J / water (specific heat x volume) and is 5.08 ° C. The measured values at this time are shown in Table 2. The measured temperature positions are 32 (1), 33 (2), and 34 (3) in FIG.

この時のヒーター能力2.2Wの実測値及び設定値との関係をしめしたものは表3データとなる。  Table 3 data shows the relationship between the measured value and the set value of the heater capacity of 2.2 W at this time.

このデータから判る事はヒーター能力が低いと実温度は約7分を経過すると飽和温度に達してしまい、設定値に対して実温度との比較は5℃程低い温度となる。これは他の要因として放熱ロス等が生じてしまうと予想され、ヒーター性能を重視する時は次項に示すものが推奨される。  From this data, it can be seen that if the heater capacity is low, the actual temperature reaches the saturation temperature after about 7 minutes, and the comparison with the actual temperature is about 5 ° C. lower than the set value. This is expected to cause heat dissipation loss as another factor, and when the heater performance is important, the following items are recommended.

次いで、印加を行う両電極である陽極側端子部6と陰極側端子部7を発熱部とに区分するスリットである6a、6b、7a、7bと発熱部のスリット部位30a及び30bをレーザー加工装置を用いて除去を行う。図のグレー部は除去されない透明導電膜による発熱部であリ、除去部は、空白で示されているスリット部である。  Next, the laser processing apparatus is used to form slits 6a, 6b, 7a, and 7b and slit portions 30a and 30b of the heat generating portion that divide the anode side terminal portion 6 and the cathode side terminal portion 7 that are both electrodes to be applied into heat generating portions. Use to remove. The gray part in the figure is a heat generating part made of a transparent conductive film that is not removed, and the removed part is a slit part indicated by a blank.

更に、温度センサー部5の作用させるパターンは、該ボトム透明プレート35のサイズを20x20mm、印加電源として想定3Vとする時、図10の様になる。水平回路10と波形回路11からなる回路を形成し、3V、150mAの印加を基にすると、発熱温度20℃では、端子間抵抗値は、20Ω、30度では、30Ω、40度では、50Ωというパラメータが得られる。これを実現するには、図10記載の様に、検出端子長さ(L1+L2+L3)を20mm、その端子幅(W1)を3mm、端子水平部の(W2)1.5mm、長さ(L1又はL2)5mm、山谷からなる波形を5山とし、端子幅(W3)0.5mの回路を形成すると良い。両端に検出端子A(8)と検出端子B(9)を設ける。  Furthermore, when the size of the bottom transparent plate 35 is assumed to be 20 × 20 mm and the applied power source is assumed to be 3V, the pattern that the temperature sensor unit 5 acts is as shown in FIG. When a circuit composed of the horizontal circuit 10 and the waveform circuit 11 is formed and based on the application of 3 V and 150 mA, the resistance value between terminals is 20Ω at an exothermic temperature of 20 ° C., 30Ω at 30 °, and 50Ω at 40 °. A parameter is obtained. To achieve this, as shown in FIG. 10, the detection terminal length (L1 + L2 + L3) is 20 mm, the terminal width (W1) is 3 mm, the horizontal terminal portion (W2) is 1.5 mm, and the length (L1 or L2). It is preferable to form a circuit having a terminal width (W3) of 0.5 m, with 5 waveforms having 5 mm and peaks and valleys. A detection terminal A (8) and a detection terminal B (9) are provided at both ends.

図11は、温度センサー部5を発熱部4となる内部に設ける方法の平面図である。これはヒーター発熱部4のより近傍へ温度センサー部を配置形成するものである。  FIG. 11 is a plan view of a method of providing the temperature sensor unit 5 inside the heat generating unit 4. This arranges and forms the temperature sensor part closer to the heater heat generating part 4.

本例では、先に記載した0059項から0069項と同様の設計する事で対応できる。In this example, this can be dealt with by designing in the same manner as the above-mentioned items 0059 to 0069.

図12は、本例は発熱部4とその発熱部印加させる端子部をセンサー制御部として利用する方法の平面図である。発熱用とセンサー制御用の二つの印加方法を採用する。発熱用端子部である陽極側端子6及び陰極側端子7はこの時センサー制御端子部である検出端子A(8)及び検出端子B(9)と兼用させる。即ち端子兼検出部A(56)及び端子兼検出部B(57)の抵抗は高抵抗(例として50Ω)とし、発熱部4の抵抗はそれより低い低抵抗(例として30Ω)とするパターン加工を行う。本図では陽極側のスリット30a、陰極側のスリット30b、陽極側のスリットの30c1及び30c2、陰極側のスリットの30d1及び30d2である。  FIG. 12 is a plan view of a method of using the heat generating portion 4 and the terminal portion to which the heat generating portion is applied as a sensor control portion in this example. Two application methods for heat generation and sensor control are adopted. At this time, the anode side terminal 6 and the cathode side terminal 7 which are heat generating terminals are also used as the detection terminal A (8) and the detection terminal B (9) which are sensor control terminal parts. That is, the resistance of the terminal / detection unit A (56) and the terminal / detection unit B (57) is a high resistance (for example, 50Ω), and the resistance of the heat generating unit 4 is a lower resistance (for example, 30Ω). I do. In the drawing, the slit 30a on the anode side, the slit 30b on the cathode side, the slits 30c1 and 30c2 on the anode side, and the slits 30d1 and 30d2 on the cathode side are shown.

図13は、図12記載した2系統の回路図である。対向する電源回路を発熱用回路58と制御用回路59と交互に切り替えて使用するものである。図示しないヒーター電源を用いて印加し、発熱部4の所望する温度にする為に電圧を制御する。対向する陽極側端子6及び陰極側端子7に電圧を印加して発熱をさせ、切り替えて端子兼検出部A(56)及び端子兼検出部B(57)の電流を監視計測して、発熱部4の電圧にフィードバックをかけるものである。  FIG. 13 is a circuit diagram of the two systems described in FIG. The opposing power supply circuit is used by alternately switching between the heat generation circuit 58 and the control circuit 59. Application is performed using a heater power source (not shown), and the voltage is controlled in order to obtain a desired temperature of the heat generating portion 4. A voltage is applied to the opposing anode-side terminal 6 and cathode-side terminal 7 to generate heat, and the current of the terminal / detection unit A (56) and terminal / detection unit B (57) is monitored and measured to generate the heat generation unit. The voltage of 4 is fed back.

以上の設計に基づき、レーザー装置を用いてヒーターパターンもしくはセンサーパターンをレーザーカッティング(トリミングとも云う)加工を行う。  Based on the above design, laser cutting (also referred to as trimming) of the heater pattern or sensor pattern is performed using a laser device.

図14は、当該シャーレ容器3を用いて加温させる使用方法を示した断面図である。但し、印加をする電源部は図示を省いてある。ヒーターとセンサーが一体化された図1記載のシャーレ容器3を、電源と接続されている電極路22を通じて、倒立顕微鏡用試料搭載ホルダーリング部23と一体となっている皿部固定ホルダー17内に挿入を行い、電極が対応する所定の位置に圧接固定をして使用するものである。本例は倒立顕微鏡を想定したもので、下部に対物レンズ24が配置されている。  FIG. 14 is a cross-sectional view showing a method of using the petri dish container 3 for heating. However, the power supply unit to which the voltage is applied is not shown. The petri dish 3 shown in FIG. 1 in which the heater and the sensor are integrated is put into the dish fixing holder 17 integrated with the sample mounting holder ring portion 23 for the inverted microscope through the electrode path 22 connected to the power source. Insertion is performed, and the electrode is used by being pressed and fixed at a predetermined position corresponding to the electrode. In this example, an inverted microscope is assumed, and an objective lens 24 is disposed in the lower part.

皿部固定ホルダー17内のホルダー側電極A(18)ホルダー側電極B(19)とからなる電極部へ、当該シャーレ容器3上の発熱部の陽極側端子(6)及び陰極側端子(7)を圧接固定して印加を行うものである。  To the electrode part composed of the holder side electrode A (18) and the holder side electrode B (19) in the dish fixing holder 17, the anode side terminal (6) and the cathode side terminal (7) of the heat generating part on the petri dish 3 Is applied by pressing and fixing.

次に蓋部固定ホルダー25を被せて、当該シャーレ蓋12の圧接固定を行う。この時、蓋部固定ホルダー25の上・蓋部固定ホルダー電極A(26)及び上・蓋部固定ホルダー電極B(27)と、電極パッドA(20)電極パッドB(21)とを、圧接固定して印加を行うものである。  Next, the lid fixing holder 25 is put over and the petri dish lid 12 is pressed and fixed. At this time, the upper / lid portion fixing holder electrode A (26) and the upper / lid portion fixing holder electrode B (27) and the electrode pad A (20) and the electrode pad B (21) are pressure-contacted to each other. A fixed application is performed.

皿部固定ホルダー17内のホルダー側検出端子A(28)ホルダー側検出端子B(29)0を用いて検出を行うものである。  Detection is performed using the holder-side detection terminal A (28) and the holder-side detection terminal B (29) 0 in the dish-fixing holder 17.

セットが完了したら、図示しない電源部を用いて印加を行う。  When the setting is completed, application is performed using a power supply unit (not shown).

図15は、ヒーター能力2.2W、端子間抵抗値10Ωの温度特性図である。  FIG. 15 is a temperature characteristic diagram of a heater capacity of 2.2 W and a resistance value between terminals of 10Ω.

図16は、本発明のヒーターとセンサーが組込まれた培養容器を倒立顕微鏡下で使用する時の概略斜視図である。従来の大型のガスボンベを用いる装置では、培養条件を変える為に実験毎に対応するのでは煩雑であり、即ち高圧ガス容器の取り扱いに由来するので当然の事に装置が大型化していた。本発明を用いる事で培養試験環境装置の小型化が図る事ができ、顕微鏡観察する机上のスペースを有効に活用できる。  FIG. 16 is a schematic perspective view when the culture vessel in which the heater and sensor of the present invention are incorporated is used under an inverted microscope. In a conventional apparatus using a large gas cylinder, it is complicated to cope with each experiment in order to change the culture conditions, that is, the apparatus is naturally enlarged because it is derived from handling of the high-pressure gas container. By using the present invention, it is possible to reduce the size of the culture test environment device, and the space on the desk for microscopic observation can be used effectively.

当該シャーレ3をその固定するホルダー17へ収納させて、それを倒立顕微鏡の対物レンズ真上の架台上に配置し、図示しない電源につなぎ、炭酸ガス供給ユニット46から、炭酸ガスをチューブ47を通じてコントローラ50へ供給して、ここで培養に適した濃度をセンシングして、そのセンシング値を培養に適する濃度(約5%)とする様に炭酸ガス供給ユニット46で微調整を行い、チューブ48を通じて当該シャーレ3内へ供給するものである。チューブ49は排出用である。灌流に使用する循環装置は図示を省いてある。  The petri dish 3 is housed in the holder 17 for fixing the petri dish 3 and placed on a stand just above the objective lens of the inverted microscope, connected to a power source (not shown), and carbon dioxide gas is supplied from the carbon dioxide supply unit 46 through the tube 47 to the controller. 50, the concentration suitable for the culture is sensed, and the carbon dioxide gas supply unit 46 performs fine adjustment so that the sensed value is suitable for the culture (about 5%). It supplies to the petri dish 3. The tube 49 is for discharge. A circulator used for perfusion is not shown.

炭酸ガス供給ユニット46に用いるガス源は小型ミニガスシリンダー61を用い、例として日本炭酸瓦斯社製のミニガスカートリッジNo.6(74g)を使用とする。この寸法は長さ134mmx胴径40mmと小型であり、100%濃度の圧縮ガスを開放するとその容量は約37Lである。細胞培養では5%前後濃度の炭酸ガスとする為には空気と混合させパ−ジメーター方式のフローメーター62を用い、図示を省いてあるレギュレーター又はフローコントローラーで制御を行う。流入させるチューブは4mm口径前後とし、材質はナイロン又はフレキ管を使用する。  The gas source used for the carbon dioxide supply unit 46 is a small mini gas cylinder 61. As an example, a mini gas cartridge No. 6 (74 g) is used. This dimension is as small as 134 mm long x 40 mm barrel diameter, and its capacity is about 37 L when 100% concentrated compressed gas is released. In cell culture, in order to obtain a carbon dioxide gas having a concentration of about 5%, it is mixed with air and a purge meter type flow meter 62 is used, and control is performed by a regulator or a flow controller not shown. The tube to be introduced is about 4 mm in diameter, and the material is nylon or flexible tube.

炭酸ガス使用圧は0.1MPa前後とし、5%前後の混合ガス流量を0.2L/minの仕様とする場合は、空気ガス容量(190mL/min)と炭酸ガス(10mL/min)を混合して流入させる。この条件で当該小型ミニガスシリンダー1本で、数日間の使用ができ、当該ガス源は形体が小型故複数個設置する事で長期間使用が可能となる。  When the carbon dioxide gas pressure is around 0.1 MPa and the mixed gas flow rate around 5% is 0.2 L / min, the air gas capacity (190 mL / min) and carbon dioxide gas (10 mL / min) are mixed. Inflow. Under this condition, the small mini gas cylinder can be used for several days, and the gas source can be used for a long time by installing a plurality of gas sources because of its small size.

長期間の細胞培養には培養液のpHを一定する事が重要であり、例えばpH7.4に維持する為には炭酸ガス濃度を5%にする必要がある。コントローラ50では、温度制御は0072項記載の様に印加して行うが、炭酸ガス濃度はセンサーを用いて濃度監視する事ができる。例として濃度センサー63は、VAISARA社製のモデルGMM111が使用できる。  For long-term cell culture, it is important to keep the pH of the culture medium constant. For example, in order to maintain the pH at 7.4, the carbon dioxide concentration needs to be 5%. In the controller 50, temperature control is performed by applying as described in the paragraph 0072, but the concentration of carbon dioxide can be monitored using a sensor. As an example, the concentration sensor 63 can use model GMM111 manufactured by VAISARA.

(A)は該シャーレ容器に、該透明プレートをシャーレ蓋部及び皿部に取り付けたものの斜視図である。(B)はその断面図である(A) is a perspective view of the petri dish container with the transparent plate attached to the petri dish lid and dish. (B) is a sectional view thereof. (A)は、上記記載のシャーレの該容器の蓋部に炭酸ガスの注入筒とその排出筒、及び培養液の灌流筒とその排出筒とを備えたものの斜視図である。(B)はその断面図である。(A) is a perspective view of a container provided with a carbon dioxide injection cylinder and its discharge cylinder, and a culture medium perfusion cylinder and its discharge cylinder on the lid of the petri dish of the above-mentioned petri dish. (B) is a sectional view thereof. 該シャーレ容器の皿部のボトム透明プレートの細胞が付着する面上側に透明導電膜が形成された細胞培養容器の断面図である。It is sectional drawing of the cell culture container in which the transparent conductive film was formed in the surface upper surface to which the cell of the bottom transparent plate of the dish part of this petri dish container adheres. 図4(A)は、該シャーレ容器の蓋部内面、及び皿部の内面及び下面並びに外周辺側面部、さらに皿部に取付けられているボトム透明プレートの両面に透明導電膜とヒーターとセンサー加工をなすものであり、蓋部外面には抗菌剤がコートされているものの斜視図である。(B)はその断面図である。FIG. 4A shows a transparent conductive film, a heater, and a sensor processed on both the inner surface of the lid of the petri dish, the inner and lower surfaces of the dish, the outer peripheral side, and the bottom transparent plate attached to the dish. FIG. 2 is a perspective view of the outer surface of the lid portion coated with an antibacterial agent. (B) is a sectional view thereof. 図5は、該シャーレ容器において電極針を備え、皿部に取付けられている該ボトム透明プレートの上面に微弱電流を流す事を可能とするものの断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view of the petri dish container provided with electrode needles and allowing a weak current to flow through the upper surface of the bottom transparent plate attached to the dish portion. 図6は、該シャーレ容器においてそのボトム透明プレート下面側に反射防止膜を形成したものの断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view of the petri dish container in which an antireflection film is formed on the bottom transparent plate lower surface side. 図7(A)は、該シャーレ容器において透明プレートを用いないでシャーレそのものへ発熱部とセンサーを設けるものの斜視図である。(B)はその断面図である。FIG. 7A is a perspective view of the petri dish container provided with a heat generating part and a sensor on the petri dish itself without using a transparent plate. (B) is a sectional view thereof. 図8は透明プレートを各々、6穴用のウェルプレートの皿部の底面と、蓋部の上面に取り付けたものの平面図である。(B)はその断面図である。FIG. 8 is a plan view of the transparent plates attached to the bottom surface of the plate portion and the top surface of the lid portion of the well plate for 6 holes, respectively. (B) is a sectional view thereof. 図9(A)は、試験管の表面及周辺側面部に発熱部とセンサーパターン加工を行い形成するものの上面図である。(B)はその斜視図である。FIG. 9 (A) is a top view of what is formed by processing the heat generating part and the sensor pattern on the surface and the peripheral side surface of the test tube. (B) is the perspective view. 図10は、センサー部を単独で設ける方法であり、発熱部とセンサーとからなるパターンの平面図である。FIG. 10 is a method of providing a sensor unit alone, and is a plan view of a pattern including a heat generation unit and a sensor. 図11は、センサー部を発熱部となる内部に設ける方法の平面図である。FIG. 11 is a plan view of a method for providing the sensor portion inside the heat generating portion. 図12は、発熱部とその発熱部を印加させる端子部をセンサー制御部として利用する方法の平面図である。FIG. 12 is a plan view of a method of using a heat generating portion and a terminal portion to which the heat generating portion is applied as a sensor control portion. 図13は、図12記載した2系統の回路図である。FIG. 13 is a circuit diagram of the two systems described in FIG. 図14は、図1記載のシャーレを固定して印加、検出する為のホルダー概要断面図である。FIG. 14 is a schematic cross-sectional view of a holder for fixing and applying and detecting the petri dish shown in FIG. 図15は、図1記載のシャーレのヒーター能力2.2W、端子間抵抗値10Ωの性能のものの温度特性図である。FIG. 15 is a temperature characteristic diagram of the petri dish having the performance of the heater capacity of 2.2 W and the resistance value between terminals of 10Ω shown in FIG. 図16は、本発明のヒーターとセンサーが組込まれた図1記載の培養容器を倒立顕微鏡下で使用する時の参考斜視図である。ポンプ等の循環装置は図示を省いてある。FIG. 16 is a reference perspective view when the culture vessel shown in FIG. 1 in which the heater and sensor of the present invention are incorporated is used under an inverted microscope. A circulating device such as a pump is not shown.

1.トップ透明プレート
1a.トップ透明プレート上面
1b.トップ透明プレート下面
2.矩形スライドガラス基板
3シャーレ容器
4.発熱部(透明ヒーター部)
5.温度センサー部
6.陽極側端子
7.陰極側端子
8.検出端子A
9.検出端子B
10.水平回路
11.波形回路
12.シャーレ蓋
12a.シャーレ蓋上面
12b.シャーレ蓋下面
13.シャーレ皿
13a.シャーレ皿内面
13b.シャーレ皿下面
13c.シャーレ皿外周面
14.培養液
15.透明導電膜
16.反射防止膜
17.皿部固定ホルダー
18.ホルダー側電極A
19.ホルダー側電極B
20.電極パッドA
21.電極パッドB
22.電源供給回路
23.顕微鏡用試料搭載ホルダーリング
24.対物レンズ
25.上・蓋部固定ホルダー
26.上・蓋部固定ホルダー電極A
27.上・蓋部固定ホルダー電極B
28.ホルダー側検出端子A
29.ホルダー側検出端子B
30.スリットパターン部
30a.陽極側のスリット
30b.陰極側のスリット
30c1、30c2.陽極側のスリット
30d1、30d2.陰極側のスリット
31.シャーレ開孔部
31a.シャーレ開孔部上
31b.シャーレ開孔部下
32.温度測定ポイント(底部端)
33.温度測定ポイント(底部中心)
34.温度測定ポイント(水溶液中心部)
35.ボトム透明プレート
35a.ボトム透明プレート上面
35b.ボトム透明プレート下面
36.透明導電膜
37.炭酸ガス注入筒
38.炭酸ガス排出筒
39.灌流注入筒
40.灌流排出筒
41.ウェルプレート
42.ウェル
43.試験管
44.試験管胴部
45.倒立顕微鏡
46.炭酸ガス供給チューブ
47.炭酸ガス供給チューブ1
43.試験管
44.試験管胴部
45.倒立顕微鏡
46.炭酸ガス供給チューブ
47.炭酸ガス供給チューブ1
48.炭酸ガス供給チューブ2
49.炭酸ガス排出チューブ
50.コントローラ
51.透明導電面
52.微小電極用針(+)
53.微小電極用針(−)
54.検出端子C
55.検出端子D
56.端子兼検出部A
57.端子兼検出部B
58.発熱回路
59.制御回路
60.抗菌コート
61.小型ミニガスシリンダー
62.フローメーター
63.炭酸ガス濃度センサー
1. Top transparent plate 1a. Top transparent plate upper surface 1b. 1. Top transparent plate bottom surface Rectangular slide glass substrate 3 Petri dish 4 Heat generation part (transparent heater part)
5. 5. Temperature sensor unit 6. Anode side terminal Cathode side terminal 8. Detection terminal A
9. Detection terminal B
10. Horizontal circuit 11. Waveform circuit 12. Petri dish lid 12a. Petri dish top surface 12b. Petri dish lower surface 13. Petri dish 13a. Petri dish inner surface 13b. Petri dish lower surface 13c. Petri dish outer peripheral surface 14. Culture medium15. Transparent conductive film 16. Antireflection film 17. Dish unit fixing holder 18. Holder side electrode A
19. Holder side electrode B
20. Electrode pad A
21. Electrode pad B
22. Power supply circuit 23. Microscope sample mounting holder ring 24. Objective lens 25. Upper / lid fixing holder 26. Upper and lid fixing holder electrode A
27. Upper and lid fixing holder electrode B
28. Holder side detection terminal A
29. Holder side detection terminal B
30. Slit pattern portion 30a. Slit 30b on the anode side. Cathode side slits 30c1, 30c2. Slits 30d1, 30d2. Slit on the cathode side 31. Petri dish opening 31a. On the petri dish opening 31b. Below petri dish opening part 32. Temperature measurement point (bottom edge)
33. Temperature measurement point (bottom center)
34. Temperature measurement point (aqueous solution center)
35. Bottom transparent plate 35a. Bottom transparent plate upper surface 35b. Bottom transparent plate lower surface 36. Transparent conductive film 37. Carbon dioxide injection cylinder 38. Carbon dioxide discharge tube 39. Perfusion tube 40. Perfusion discharge tube 41. Well plate 42. Well 43. Test tube 44. Test tube barrel 45. Inverted microscope 46. Carbon dioxide supply tube 47. Carbon dioxide supply tube 1
43. Test tube 44. Test tube barrel 45. Inverted microscope 46. Carbon dioxide supply tube 47. Carbon dioxide supply tube 1
48. Carbon dioxide supply tube 2
49. Carbon dioxide discharge tube 50. Controller 51. Transparent conductive surface 52. Microelectrode needle (+)
53. Microelectrode needle (-)
54. Detection terminal C
55. Detection terminal D
56. Terminal / Detector A
57. Terminal / detector B
58. Heat generation circuit 59. Control circuit 60. Antibacterial coat 61. Small mini gas cylinder 62. Flow meter 63. Carbon dioxide concentration sensor

Claims (8)

付着性細胞を培養するための細胞培養容器本体に形成された透明導電膜を備えた該細胞培養容器において、前記透明導電膜はヒーター部と電流検出センサー部を備えた事を特徴とする細胞培養容器。  A cell culture container comprising a transparent conductive film formed on a cell culture container body for culturing adherent cells, wherein the transparent conductive film comprises a heater part and a current detection sensor part. container. 請求項1記載の細胞培養容器において、前記容器本体の皿部は、前記細胞を付着させる為にボトム透明プレート部を備え、該ボトム透明プレートの下側には透明導電膜が形成され、その透明導電膜をヒーターとする抵抗回路形成と、さらに前記抵抗を所望する抵抗値を得る電流検出とするセンサーとを設けて、前記細胞の局所への加温を正確にする事を可能とする様に形成された一対の対向をなす縦溝からなる陽極側と陰極側の各々のスリットを設けた事を特徴とする細胞培養容器。  The cell culture container according to claim 1, wherein the dish part of the container body includes a bottom transparent plate part for attaching the cells, and a transparent conductive film is formed below the bottom transparent plate, It is possible to provide a resistance circuit formation using a conductive film as a heater and a sensor for detecting the current to obtain a desired resistance value for the resistance, thereby enabling accurate local heating of the cells. A cell culture vessel characterized by comprising a slit on each of an anode side and a cathode side formed of a pair of formed longitudinal grooves. 請求項1記載の細胞培養容器において、前記容器本体の蓋部は、トップ透明プレート部を備え、該トップ透明プレートの上側には透明導電膜が形成され、その透明導電膜をヒーターとする抵抗回路形成を設けて、前記細胞容器の蓋部を防曇可能とする様に形成された事を特徴とする細胞培養容器。The cell culture container according to claim 1, wherein the lid of the container body includes a top transparent plate portion, a transparent conductive film is formed on the top transparent plate, and the transparent conductive film serves as a heater. A cell culture container characterized in that it is formed so that the lid portion of the cell container can be fogged. 請求項1に記載する細胞培養容器であって、該容器の蓋部に炭酸ガスの注入筒とその排出筒、及び培養液の灌流注入筒とその排出筒とを備える事を特徴とする細胞培養容器。  The cell culture container according to claim 1, wherein the lid of the container is provided with a carbon dioxide gas injection cylinder and its discharge cylinder, and a culture medium perfusion injection cylinder and its discharge cylinder. container. 請求項2の細胞培養容器において、前記本体の皿部は、前記細胞を付着させる為にボトム透明プレート部を備え、該ボトム透明プレートの細胞が付着する面の上側に透明導電膜が形成され、その透明導電膜をヒーターとする抵抗回路形成と、さらに前記抵抗を所望する抵抗値を得る電流検出とするセンサーとを設けて、請求項2項に記載の該透明プレートの下側に透明導電膜が形成される構造と比較して前記細胞の局所への熱伝導及び加温を正確にする事を可能とする様に形成された一対の対向をなす縦溝からなる陽極側と陰極側の各々のスリットを設けた事を特徴とする細胞培養容器。  The cell culture container according to claim 2, wherein the dish portion of the main body includes a bottom transparent plate portion for attaching the cells, and a transparent conductive film is formed on an upper surface of the bottom transparent plate to which the cells adhere, A resistance circuit formation using the transparent conductive film as a heater and a sensor for detecting a current for obtaining a desired resistance value of the resistance are further provided, and the transparent conductive film is provided below the transparent plate according to claim 2. Each of the anode side and the cathode side formed of a pair of opposed longitudinal grooves formed so as to enable accurate heat conduction and heating to the local area of the cell as compared with the structure in which the cell is formed A cell culture vessel characterized by providing a slit. 請求項1又は2もしくは5の細胞培養容器において、電流を流すべく陽極と陰極との対の電極針を備え、該ボトム透明プレートの上側に透明導電膜面を形成し微弱電流を流す事を可能とする様に形成された事を特徴とする細胞培養容器。  6. The cell culture vessel according to claim 1, 2 or 5, comprising a pair of anode and cathode electrode needles for passing a current, and forming a transparent conductive film surface on the upper side of the bottom transparent plate to allow a weak current to flow. A cell culture vessel characterized by being formed as described above. 請求項1記載の細胞培養容器本体において、前記容器の皿部の外表面底部に直接透明導電膜を形成し、該透明導電膜をヒーターとする抵抗回路形成と、さらに前記抵抗を所望するする抵抗値を得る電流検出とするセンサー部とを設けて、前記細胞の局所への加温を正確にする事を可能とする様に形成された一対の対向をなす縦溝からなる陽極側と陰極側の各々のスリットを設けた事を特徴とし、さらに、前記本体の蓋部には、外表面上部に直接透明導電膜を形成し、該透明導電膜をヒーターとする抵抗回路形成を設けて、前記細胞容器の蓋部を防曇可能とする様に形成された事とを特徴とする細胞培養容器。  The cell culture container main body according to claim 1, wherein a transparent conductive film is directly formed on the bottom of the outer surface of the dish part of the container, and a resistance circuit is formed using the transparent conductive film as a heater, and a resistance for which the resistance is desired. An anode side and a cathode side consisting of a pair of opposed vertical grooves formed so as to enable accurate heating of the cells to the local area by providing a sensor unit for current detection to obtain a value In addition, the lid portion of the main body is formed with a transparent conductive film directly on the outer surface, and a resistance circuit is formed using the transparent conductive film as a heater. A cell culture container characterized by being formed so that the lid of the cell container can be anti-fogged. 請求項1記載の細胞培養容器本体の周囲には透明導電膜が形成され、該透明導電膜をヒーターとする抵抗回路形成と、さらに前記抵抗を所望する抵抗値を得る電流検出とするセンサーとを設けて、前記培養容器本体内の試料への加温を正確にする事を可能とする様に形成された一対の対向をなす縦溝からなる陽極側と陰極側の各々のスリットを設けた事を特徴とするマイクロウェルプレート、試験管又はフラスコである培養容器。  A transparent conductive film is formed around the cell culture vessel main body according to claim 1, a resistor circuit is formed using the transparent conductive film as a heater, and a sensor for detecting current that obtains a desired resistance value is provided. And provided with slits on the anode side and the cathode side, each of which is formed of a pair of opposed longitudinal grooves formed so as to enable accurate heating of the sample in the culture vessel body. A culture vessel which is a microwell plate, test tube or flask characterized by.
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