JP2009290044A - Wiring substrate - Google Patents
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Abstract
【課題】 配線基板に搭載する電子部品に出し入れする信号にノイズの発生が少なく、搭載する電子部品を正常に作動させることが可能な配線基板を提供すること。
【解決手段】 絶縁基板1の上面に配線導体層2の一部から成る信号用、接地用および電源用の電子部品接続パッド5が形成されているとともに、絶縁基板1の下面に配線導体層2および貫通導体4を介して電子部品接続パッド5に電気的に接続された信号用,接地用および電源用の外部接続パッド6が形成されて成る配線基板であって、接地用または電源用の外部接続パッド6の一方は、下面側の最外層の絶縁層1bに設けた開口A内にそれよりも内側の配線導体2の一部を露出させることにより形成されている配線基板である。
【選択図】 図1PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wiring board capable of operating a mounted electronic component normally with less noise generated in a signal to be taken in and out of the electronic component mounted on the wiring board.
An electronic component connection pad for signal, grounding, and power supply composed of a part of a wiring conductor layer is formed on an upper surface of an insulating substrate, and a wiring conductor layer is formed on a lower surface of the insulating substrate. And a wiring board formed with signal, grounding and power supply external connection pads 6 electrically connected to the electronic component connection pads 5 through the through conductors 4 and external to the grounding or power supply One of the connection pads 6 is a wiring board formed by exposing a part of the wiring conductor 2 inside the opening A provided in the outermost insulating layer 1b on the lower surface side.
[Selection] Figure 1
Description
本発明は、半導体素子等の電子部品を搭載するために用いられる配線基板に関する。 The present invention relates to a wiring board used for mounting electronic components such as semiconductor elements.
従来、半導体素子等の電子部品を搭載するために用いられる配線基板は、図3に示すように、例えばガラス−エポキシ板等から成るコア用の絶縁層11aとエポキシ樹脂等から成るビルドアップ用の絶縁層11bとを複数層積層して成る絶縁基板11の各絶縁層11a,11bの表面に銅箔や銅めっき膜等の導体層から成る複数の配線導体層12を設けるとともにコア用の絶縁層11aを貫通する貫通導体(以下スルーホール導体と呼ぶ)13およびビルドアップ用の各絶縁層11bを貫通する貫通導体(以下ビア導体と呼ぶ)14により上下の配線導体層12を接続して成る。このような配線基板においては、絶縁基板11の上面側における最外層の絶縁層11bの表面に設けた配線導体層12の一部が半導体素子等の電子部品Eの電極に半田バンプBを介して電気的に接続される電子部品接続パッド15を形成しているとともに絶縁基板11の下面側における最外層の絶縁層11bの表面に設けた配線導体層12の一部が外部電気回路基板(不図示)に半田ボール等の外部接続端子Tを介して電気的に接続される外部接続パッド16を形成しており、これらの電子部品接続パッド15と外部接続パッド16とは絶縁基板11の上下面の間に設けた配線導体層12およびスルーホール導体13,ビア導体14を介してそれぞれ互いに電気的に接続されている。なお、最外層の絶縁層11bの表面には電子部品接続パッド15や外部接続パッド16を所定の形状および大きさで露出させるソルダーレジスト層17が積層されている。
Conventionally, as shown in FIG. 3, a wiring board used for mounting an electronic component such as a semiconductor element is a build-up layer made of a core insulating layer 11a made of, for example, a glass-epoxy plate, and an epoxy resin. A plurality of
そして、この配線基板は、電子部品Eの電極を半田バンプBを介して電子部品接続パッド15に電気的に接続した後、外部接続パッド16を半田ボール等の外部接続端子Tを介して外部電気回路基板(不図示)の配線導体に接続することにより搭載する電子部品Eが外部電気回路に電気的に接続されることとなる。
In this wiring board, after the electrodes of the electronic component E are electrically connected to the electronic
ところで、このような配線基板における配線導体層12は、用途によって信号用の配線導体層12(S)と接地用の配線導体層12(G)と電源用の配線導体12(P)とに機能化されている。このうち信号用の配線導体層12(S)は、半導体素子等の電子部品Eと外部電気回路基板との間で電気信号を伝播させるための導電路として機能し、細い帯状の導体パターンを有している。
By the way, the
また、接地用の配線導体層12(G)や電源用の配線導体層12(P)は、配線基板に搭載される電子部品Eにそれぞれ接地電位や電源電位を供給する供給路としての機能を有しているとともに信号用の配線導体層12(S)に対する電磁シールド機能や特性インピーダンスの調整機能を有しており、信号用の配線導体層12(S)に対向または隣接する広面積の導体パターンを有している。 Further, the grounding conductor layer 12 (G) and the power source conductor layer 12 (P) function as a supply path for supplying a ground potential and a power source potential to the electronic component E mounted on the wiring board, respectively. A large-area conductor that has an electromagnetic shielding function and a characteristic impedance adjustment function for the signal wiring conductor layer 12 (S) and is opposite to or adjacent to the signal wiring conductor layer 12 (S). Has a pattern.
そしてこれらの信号用,接地用および電源用の配線導体層12(S),12(G),12(P)に接続された電子部品接続パッド15や外部接続パッド16もそれぞれに対応して信号用,接地用および電源用の電子部品接続パッド15(S),15(G),15(P)や信号用,接地用および電源用の外部接続パッド16(S),16(G),16(P)に分類されるが、これらは最外層の絶縁層11b表面に設けた配線導体層12の一部がそれぞれ同じ形状および大きさでソルダーレジスト層17から露出することで形成されている。
しかしながら、従来の配線基板によると、電子部品接続パッドおよび外部接続パッドは、それぞれ最外層の絶縁層の表面に設けた配線導体層の一部から形成されており、その内側に位置する配線導体層にビア導体を介して接続されている。このようなビア導体はその直径が30〜100μm程度あり、1個あたり数十pH程度のインダクタンス成分として作用するので、その分、電子部品接続パッドと外部接続パッドとの間の電気的な経路におけるインダクタンスを高めることになる。接地用や電源用の電子部品接続パッドと外部接続用パッドとの間の電気的な経路におけるインダクタンスが高い場合、配線基板に搭載する電子部品に外部接続パッドを通して例えば3GHz以上の高速の信号を出し入れすると、信号にリンギングノイズと呼ばれるノイズが発生して搭載する電子部品を正常に作動させることが困難となる。 However, according to the conventional wiring board, the electronic component connection pad and the external connection pad are each formed from a part of the wiring conductor layer provided on the surface of the outermost insulating layer, and the wiring conductor layer positioned inside thereof. Is connected to the via conductor. Such a via conductor has a diameter of about 30 to 100 μm and acts as an inductance component of about several tens of pH per piece, and accordingly, in the electrical path between the electronic component connection pad and the external connection pad. The inductance will be increased. When the inductance in the electrical path between the electronic component connection pad for grounding and power supply and the external connection pad is high, a high-speed signal of, for example, 3 GHz or more is input / output through the external connection pad to the electronic component mounted on the wiring board. As a result, noise called ringing noise is generated in the signal, and it becomes difficult to normally operate the mounted electronic component.
本発明は、かかる従来の問題点に鑑み案出されたものであり、その目的は、配線基板に搭載する電子部品に3Hz以上の高速の信号を出し入れした場合であっても、信号にノイズの発生が少なく、搭載する電子部品を正常に作動させることが可能な配線基板を提供することにある。 The present invention has been devised in view of such conventional problems. The purpose of the present invention is to reduce noise in a signal even when a high-speed signal of 3 Hz or higher is input / output to / from an electronic component mounted on a wiring board. An object of the present invention is to provide a wiring board that is less likely to occur and can normally operate electronic components to be mounted.
本発明の配線基板は、複数の絶縁層が積層されて成る絶縁基板と、該絶縁基板の表面および各絶縁層間に配設された配線導体層と、前記各絶縁層をそれぞれ貫通し、上下の前記配線導体層同士を接続する貫通導体とを有し、前記絶縁基板の上面に前記配線導体層の一部から成る信号用、接地用および電源用の電子部品接続パッドが形成されているとともに、前記絶縁基板の下面に前記配線導体層および前記貫通導体を介して前記電子部品接続パッドに電気的に接続された前記配線導体層の一部から成る信号用,接地用および電源用の外部接続パッドが形成されて成る配線基板であって、前記接地用または電源用の外部接続パッドの一方は、前記下面側の最外層の前記絶縁層に設けた開口内に該絶縁層よりも内側の前記配線導体層の一部を露出させることにより形成されていることを特徴とするものである。 The wiring board according to the present invention includes an insulating substrate formed by laminating a plurality of insulating layers, a wiring conductor layer disposed between the surface of the insulating substrate and each insulating layer, and each of the insulating layers. The wiring conductor layers have through conductors connecting the wiring conductor layers, and signal connection, grounding and power supply electronic component connection pads made of a part of the wiring conductor layers are formed on the upper surface of the insulating substrate, External connection pads for signal, grounding and power supply comprising a part of the wiring conductor layer electrically connected to the electronic component connection pad via the wiring conductor layer and the through conductor on the lower surface of the insulating substrate The wiring board formed by forming one of the external connection pads for grounding or power supply inside the insulating layer in an opening provided in the insulating layer of the outermost layer on the lower surface side Exposed part of the conductor layer And it is characterized in that it is formed by causing.
本発明の配線基板によれば、接地用または電源用の外部接続パッドの一方は、絶縁基板の下面側の最外層の絶縁層に設けた開口内に該絶縁層よりも内側の配線導体層の一部を露出させることにより形成されていることから、接地および電源用の外部接続パッドの両方が絶縁基板の下面側の最外層の表面に設けた配線導体層の一部から成る場合に比べて接地用または電源用の電子部品接続パッドと外部接続パッドとを接続するための貫通導体を絶縁層の一層分だけ少ないものとすることができる。したがってその分だけ接地用または電源用の電子部品接続パッドと外部接続パッドとの間の電気的な経路におけるインダクタンスを低いものとすることができる。これにより、配線基板に搭載する電子部品に3GHz以上の高速の信号を出し入れした場合であっても、信号にノイズの発生が少なく、搭載する電子部品を正常に作動させることが可能な配線基板を提供することができる。 According to the wiring board of the present invention, one of the external connection pads for grounding or power supply is provided in the opening provided in the outermost insulating layer on the lower surface side of the insulating substrate in the wiring conductor layer inside the insulating layer. Compared to the case where both the grounding and power supply external connection pads are made of a part of the wiring conductor layer provided on the outermost layer surface on the lower surface side of the insulating substrate because it is formed by exposing a part. The number of through conductors for connecting the electronic component connection pads for grounding or power supply and the external connection pads can be reduced by one layer of the insulating layer. Accordingly, the inductance in the electrical path between the grounding or power supply electronic component connection pad and the external connection pad can be reduced accordingly. As a result, even when a high-speed signal of 3 GHz or more is input / output to / from an electronic component mounted on the wiring board, a wiring board that generates less noise in the signal and can normally operate the mounted electronic component. Can be provided.
次に、本発明の配線基板を添付の図面に基づき詳細に説明する。
図1は、本発明の配線基板の実施形態の一例を示す断面模式図である。図1において1は絶縁基板、2は配線導体、3,4は貫通導体、5は電子部品接続パッド、6は外部接続パッドであり、主としてこれらで半導体素子等の電子部品Eを搭載するための配線基板が構成される。
Next, the wiring board of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of an embodiment of a wiring board according to the present invention. In FIG. 1, 1 is an insulating substrate, 2 is a wiring conductor, 3 and 4 are through conductors, 5 is an electronic component connection pad, and 6 is an external connection pad. These are mainly used for mounting an electronic component E such as a semiconductor element. A wiring board is configured.
絶縁基板1は、例えばガラス繊維を縦横に織り込んだガラス織物にエポキシ樹脂やビスマレイミドトリアジン樹脂等の熱硬化性樹脂を含浸させて成るコア用の絶縁層1aの上下面にエポキシ樹脂やビスマレイミドトリアジン樹脂等の熱硬化性樹脂から成るビルドアップ用の絶縁層1bがそれぞれ複数層ずつ積層されて成り、各絶縁層1a,1bの表面に銅箔や銅めっき膜等の導体層から成る複数の配線導体層2が形成されているとともに、コア用の絶縁層1aを貫通して貫通導体(以下スルーホール導体と呼ぶ)3および各ビルドアップ用の絶縁層1bを貫通して貫通導体(以下ビア導体と呼ぶ)4が形成されている。
The
絶縁基板1を構成するコア用の絶縁層1aは、厚みが0.3〜1.5mm程度であり、その上面から下面にかけて直径が0.2〜1.0mm程度の複数の貫通孔(以下スルーホールと呼ぶ)7を有している。そして、その上下面には配線導体層2が被着されているとともに各スルーホール7の内面には、スルーホール導体3が被着されており、絶縁層1aの上下面の配線導体層2がスルーホール導体3を介して電気的に接続されている。
The core insulating layer 1a constituting the
このような絶縁層1aは、ガラス織物に未硬化の熱硬化性樹脂を含浸させたシートを熱硬化させた後、これに上面から下面にかけてドリル加工を施すことにより製作される。なお、絶縁層1a上下面の配線導体層2は、絶縁層1a用のシートの上下全面に厚みが5〜50μm程度の銅箔を貼着しておくとともに、この銅箔をシートの硬化後にエッチング加工することにより所定のパターンに形成される。また、スルーホール7内面のスルーホール導体3は、絶縁層1aにスルーホール7を設けた後に、このスルーホール7内面に無電解めっき法および電解めっき法により厚みが5〜50μm程度の銅めっき膜を析出させることにより形成される。
Such an insulating layer 1a is manufactured by thermally curing a sheet in which a glass fabric is impregnated with an uncured thermosetting resin, and then drilling the sheet from the upper surface to the lower surface. In addition, the
さらに、絶縁層1aは、そのスルーホール7の内部にエポキシ樹脂やビスマレイミドトリアジン樹脂等の熱硬化性樹脂から成る孔埋め樹脂8が充填されている。孔埋め樹脂8は、スルーホール7を塞ぐことによりスルーホール7の直上および直下にビルドアップ用の絶縁層1bを形成可能とするためのものであり、未硬化のペースト状の熱硬化性樹脂をスルーホール7内にスクリーン印刷法により充填し、これを熱硬化させた後、その上下面を略平坦に研磨することにより形成される。そして、この孔埋め樹脂8を含む絶縁層1aの上下面に絶縁層1bが積層されている。
Furthermore, the insulating layer 1 a is filled with a
絶縁層1aの上下面に積層された絶縁層1bは、それぞれの厚みが20〜50μm程度であり、各層の上面から下面にかけて直径が30〜100μm程度の複数の貫通孔(以下ビアホールと呼ぶ)9を有している。これらの絶縁層1bは、複数の配線導体層2を高密度に配線するための絶縁間隔を提供するためのものであり、絶縁層1bにはその表面に配線導体層2およびビアホール9内にビア導体4が形成されている。そして、上層の配線導体層2と下層の配線導体層2とをビアホール9内のビア導体4を介して電気的に接続することにより高密度配線を立体的に形成可能としている。
The insulating
このような絶縁層1bは、厚みが20〜50μm程度の未硬化の熱硬化性樹脂フィルムを絶縁層1aの上下面に貼着し、これを熱硬化させるとともにレーザ加工によりビアホール9を穿孔し、さらにその上に同様にして次の絶縁層1bを順次積み重ねることによって形成される。なお、各絶縁層1b表面に形成された配線導体層2およびビアホール9内に形成されたビア導体4は、各絶縁層1bを形成する毎に各絶縁層1bの表面およびビアホール9内に5〜50μm程度の厚みの銅めっき膜を公知のセミアディティブ法やサブトラクティブ法等のパターン形成法により所定のパターンに被着させることによって形成される。
Such an insulating
さらに、この例では最外層の絶縁層1b上にソルダーレジスト層10が被着されている。ソルダーレジスト層10は、例えばアクリル変性エポキシ樹脂にシリカやタルク等の無機物粉末フィラーを30〜70質量%程度分散させた絶縁材料から成り、最外層の配線導体層2同士の電気的絶縁信頼性を高める作用をなす。
Further, in this example, the solder resist
このようなソルダーレジスト層10は、その厚みが10〜50μm程度であり、感光性を有するソルダーレジスト層10用の未硬化樹脂ペーストをロールコーター法やスクリーン印刷法を採用して最外層の絶縁層1b上に塗布し、これを乾燥させた後、露光および現像処理を行なって電子部品接続パッド5や外部接続パッド6を露出させる開口を形成した後、これを熱硬化させることによって形成される。あるいは、ソルダーレジスト層10用の未硬化の樹脂フィルムを最上層の絶縁層1b上に貼着した後、これを熱硬化させ、しかる後、電子部品接続パッド5や外部接続パッド6に対応する位置にレーザ光を照射し、硬化した樹脂フィルムを部分的に除去することによって電子部品接続パッド5や外部接続パッド6を露出させる開口を有するように形成される。
Such a solder resist
絶縁基板1の絶縁層1a,1bの表面に形成された配線導体層2は、半導体素子等の電子部品Eの各電極(信号用,接地用および電源用電極)を外部電気回路基板(不図示)に電気的に接続するための導電路として機能し、電子部品Eの各電極に対応して信号用の配線導体層2(S),接地用の配線導体層2(G),電源用の配線導体層2(P)をそれぞれ有しており、絶縁基板1の上面側における最外層の絶縁層1bの表面に設けた配線導体層2の一部が半導体素子等の電子部品Eの電極に半田バンプBを介して電気的に接続される電子部品接続パッド5を形成しているとともに絶縁基板1の下面側における最外層の絶縁層1bの表面に設けた配線導体層2の一部が外部電気回路基板(不図示)に半田ボール等の外部接続端子Tを介して電気的に接続される外部接続パッド6を形成しており、これらの電子部品接続パッド5と外部接続パッド6とは絶縁基板1の上下面の間に設けた配線導体層2およびスルーホール導体3,ビア導体4を介してそれぞれ互いに電気的に接続されている。なお、電子部品接続パッド5および外部接続パッド6も、これらに接続される配線導体層2に対応して信号用の電子部品接続パッド5(S),接地用の電子部品接続パッド5(G)および電源用の電子部品接続パッド5(P)と信号用の外部接続パッド6(S),接地用の外部接続パッド6(G)および電源用の外部接続パッド6(P)を有している。
The
信号用の配線導体層2(S)は、搭載される電子部品Eと外部電気回路基板(不図示)との間で周波数が100M〜10GHz程度の高速の電気信号を伝播させるための細い帯状パターンを例えば絶縁基板1の上面側における最外層の絶縁層1bと次層の絶縁層1bとの間に有している。そして、この帯状パターンの一端部は絶縁基板1の上面側における最外層の絶縁層1bを貫通するビア導体4を介して最外層の絶縁層1bの表面に設けた信号用の電子部品接続パッド5(S)に接続されており、他端部はこの帯状パターンより下側の絶縁層1bに設けたビア導体4および絶縁層1aに設けたスルーホール導体3を介して絶縁基板1の下面側における最外層の絶縁層1bの表面に設けた信号用の外部接続パッド6(S)に電気的に接続されている。
The signal wiring conductor layer 2 (S) is a thin strip pattern for propagating a high-speed electric signal having a frequency of about 100 M to 10 GHz between the electronic component E to be mounted and an external electric circuit board (not shown). For example, between the outermost insulating
接地用の配線導体層2(G)は、搭載される電子部品Eに接地電位を供給するとともに信号用の配線導体層2(S)に対する電磁シールド機能や特性インピーダンス調整機能をもたらすために二次元的な広がりを有して延在する広面積の導体プレーンを例えば絶縁基板1の上面側および下面側における最外層の絶縁層1bの表面ならびに絶縁層1aの下面に有している。このうち、絶縁基板1の上面側における最外層の絶縁層1bの表面に形成された接地用の配線導体層2(G)の一部はソルダーレジスト層10から露出して接地用の電子部品接続パッド5(G)を形成しており、絶縁基板1の下面側における最外層の絶縁層1bの表面に形成された接地用の配線導体層2(G)の一部はソルダーレジスト層10から露出して接地用の外部接続パッド6(G)を形成している。そして、絶縁層1aに設けたスルーホール導体3および絶縁層1bに設けたビア導体4を介して互に電気的に接続されている。なお、絶縁基板1の上面側および下面側における最外層の絶縁層1bの表面ならびに絶縁層1aの下面に延在する導体プレーンから成る接地用の配線導体層2(G)は、同一面上に信号用および電源用の配線導体層2(S),2(P)が存在する位置では、それらの配線導体層2(S),2(P)を所定の間隔で取り囲むクリアランスを有して延在している。
The ground wiring conductor layer 2 (G) is two-dimensional in order to supply a ground potential to the electronic component E to be mounted and to provide an electromagnetic shield function and a characteristic impedance adjustment function for the signal wiring conductor layer 2 (S). A wide-area conductor plane extending with a general spread is provided on the surface of the outermost insulating
電源用の配線導体層2(P)は、搭載される電子部品Eに電源電位を供給するとともに信号用の配線導体層2(S)に対する電磁シールド機能や特性インピーダンス調整機能をもたらすために二次元的な広がりを有して延在する広面積の導体プレーンを例えば絶縁層1aの上面および絶縁基板1の下面側における最外層の絶縁層1bと次の絶縁層1bとの間に有している。このうち、絶縁層1aの上面に形成された電源用の配線導体層2(P)はそれより上側の絶縁層1bを貫通するビア導体4を介して電源用の電子部品接続パッド5(P)に接続されており、絶縁基板1の下面側における最外層の絶縁層1bと次の絶縁層1bとの間に設けられた配線導体層2(P)の一部は電源用の外部接続パッド6(P)を形成している。そして、絶縁層1aに設けたスルーホール導体3および絶縁層1bに設けたビア導体4を介して互に電気的に接続されている。なお、絶縁層1aの上面および絶縁基板1の下面側における最外層の絶縁層1bと次の絶縁層1bとの間に延在する導体プレーンから成る電源用の配線導体層2(P)は、同一面上に信号用および接地用の配線導体層2(S),2(G)が存在する位置では、それらの配線導体層2(S),2(G)を所定の間隔で取り囲むクリアランスを有して延在している。
The power supply wiring conductor layer 2 (P) is two-dimensional in order to supply a power supply potential to the mounted electronic component E and to provide an electromagnetic shielding function and a characteristic impedance adjustment function for the signal wiring conductor layer 2 (S). For example, a conductor plane having a wide area extending with a general spread is provided between the outermost insulating
そして本発明においては、絶縁基板1の下面側における最外層の絶縁層1bに、それよりも内側に設けられた電源用の配線導体層2(P)の一部を露出させる開口Aが形成されており、この開口A内に露出する電源用の配線導体層2(P)が電源用の外部接続パッド6(P)を形成している。このように、電源用の外部接続パッド6(P)が絶縁基板1の下面側における最外層の絶縁層1bに設けた開口A内にそれよりも内側の電源用配線導体層2(P)の一部を露出させることにより形成されていることから、電源用の外部接続パッド6(P)が絶縁基板1の下面側における最外層の絶縁層1b表面に設けられた場合と比較して、電源用の電子部品接続パッド5(P)と外部接続パッド6(P)とを接続するためのビア導体4を絶縁層1bの一層分だけ少なくすることができる。したがって、その分だけ電源用の電子部品接続パッド5(P)と外部接続パッド6(P)との間の電気的な経路におけるインダクタンスを低いものとすることができるので、配線基板に搭載する電子部品Eに3GHz以上の高速の信号を出し入れした場合であっても、信号にノイズの発生が少なく、搭載する電子部品Eを正常に作動させることが可能な配線基板を提供することができる。
In the present invention, the outermost insulating
このとき、電源用の外部接続パッド6(P)を形成する配線導体層2(P)が絶縁層1b間に二次元的な広がりを有して延在する導体プレーンである場合、この導体プレーンにより電源用の電子部品接続パッド5(P)と外部接続パッド6(P)との間の電気的な経路におけるインダクタンスをさらに低いものとすることができる。したがって、電源用の外部接続パッド6(P)を形成する配線導体層2(P)は絶縁層1b間に二次元的な広がりを有して延在する導体プレーンであることが好ましい。
At this time, when the wiring conductor layer 2 (P) forming the external connection pad 6 (P) for power supply is a conductor plane extending with a two-dimensional extension between the insulating
なお、絶縁基板1の下面側における最外層の絶縁層1bに、それよりも内側に設けられた電源用の配線導体層2(P)の一部を電源用の外部接続パッド6(P)として露出させる開口Aを形成するには、図2(a)に示すように、最外層の絶縁層1bの表面にソルダーレジスト層10を形成した後、図2(b)に示すように、絶縁基板1の下面側の最下層の絶縁層1bにレーザ加工を施し、開口Aを形成した後、電源用の外部接続パッド6(P)の表面に残る樹脂残渣を化学的あるいは物理的に除去する方法が採用される。
A part of the power supply conductor layer 2 (P) provided on the outermost insulating
なお、本発明は上述の実施形態例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲であれば、種々の変更は可能であり、例えば上述の実施形態例では電源用の外部接続パッド6(P)を形成するための配線導体層2(P)を絶縁基板1の下面側における最外層の絶縁層1bとその次の絶縁層1bとの間に設け、その一部を最外層の絶縁層1bに設けた開口A内に露出させることにより電源用の外部接続パッド6(P)を形成した例を示したが、上述の例における接地用の配線導体層2(G)と電源用の配線導体層2(P)とを入替え、接地用の外部接続パッド6(G)を形成するための配線導体層2(G)を絶縁基板1の下面側における最外層の絶縁層1bとその次の絶縁層1bとの間に設け、その一部を最外層の絶縁層1bに設けた開口A内に露出させることにより接地用の外部接続パッド6(G)を形成した構成としても良い。さらには電子部品接続パッド5においても同様の構成により接地用または電源用の電子部品接続パッド5(G),5(P)を形成してもよい。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the gist of the present invention. For example, in the above-described embodiment, an external connection for a power source is possible. A wiring conductor layer 2 (P) for forming the pad 6 (P) is provided between the outermost insulating
1:絶縁基板
1a,1b:絶縁層
2:配線導体層
2(S):信号用の配線導体層
2(G):接地用の配線導体層
2(P):電源用の配線導体層
3:貫通導体(スルーホール導体)
4:貫通導体(ビア導体)
5:電子部品接続パッド
5(S):信号用の電子部品接続パッド
5(G):接地用の電子部品接続パッド
5(P):電源用の電子部品接続パッド
6:外部接続パッド
6(S):信号用の外部接続パッド
6(G):接地用の外部接続パッド
6(P):電源用の外部接続パッド
A:絶縁層1bに設けた開口
1: Insulating
4: Through conductor (via conductor)
5: Electronic component connection pad 5 (S): Signal electronic component connection pad 5 (G): Ground electronic component connection pad 5 (P): Power supply electronic component connection pad 6: External connection pad 6 (S ): External connection pad for signal 6 (G): External connection pad for grounding 6 (P): External connection pad for power supply A: Opening provided in insulating
Claims (2)
Priority Applications (1)
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| JP2008141919A JP2009290044A (en) | 2008-05-30 | 2008-05-30 | Wiring substrate |
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012023362A1 (en) * | 2010-08-20 | 2012-02-23 | シャープ株式会社 | Ion generation device and electrical device |
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-
2008
- 2008-05-30 JP JP2008141919A patent/JP2009290044A/en active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012023362A1 (en) * | 2010-08-20 | 2012-02-23 | シャープ株式会社 | Ion generation device and electrical device |
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