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JP2009245504A - Master disk for manufacturing optical information recording medium - Google Patents

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JP2009245504A
JP2009245504A JP2008090183A JP2008090183A JP2009245504A JP 2009245504 A JP2009245504 A JP 2009245504A JP 2008090183 A JP2008090183 A JP 2008090183A JP 2008090183 A JP2008090183 A JP 2008090183A JP 2009245504 A JP2009245504 A JP 2009245504A
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Japan
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master
layer
heat
optical information
information recording
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Application number
JP2008090183A
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Japanese (ja)
Inventor
Shigenori Murakami
重則 村上
Nobuki Yamaoka
信樹 山岡
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Pioneer Corp
Original Assignee
Pioneer Electronic Corp
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a master disk for manufacturing an optical information recording medium, which improves thermal interference occurring when a convex-type structure is formed. <P>SOLUTION: The master disk for manufacturing the optical information recording medium comprises a recording layer including a laminate of a recording auxiliary layer provided in contact with the substrate and a thermosensitive layer. The thermosensitive layer includes a base material which changes a state due to exposure, and the recording auxiliary layer is formed of material absorbing light of a wavelength to be used for exposure and having heat conductivity higher than that of the substrate. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、光ディスクなどの光学情報記録媒体に関し、特に、光学情報記録媒体のレプリケーションのための光学情報記録媒体製造用の原盤に関する。   The present invention relates to an optical information recording medium such as an optical disk, and more particularly to a master for manufacturing an optical information recording medium for replication of the optical information recording medium.

データの記録密度が高められた高密度光ディスクが研究されている。高密度光ディスクにおいては、大容量を実現するため、データの記録再生に用いるレーザ光のビームスポット径を非常に小さく絞らなければならない。たとえば、ビームスポット径を小さく絞るためには、レーザ光を集光するための対物レンズの開口数(NA)を0.7以上、例えば0.85程度まで大きくすると共に、レーザ光の波長λを450nm以下、例えば400nm程度まで短くする。   High-density optical discs with increased data recording density have been studied. In a high-density optical disc, in order to realize a large capacity, the beam spot diameter of a laser beam used for recording / reproducing data must be very small. For example, in order to reduce the beam spot diameter, the numerical aperture (NA) of the objective lens for condensing the laser beam is increased to 0.7 or more, for example, about 0.85, and the wavelength λ of the laser beam is set to be small. It is shortened to 450 nm or less, for example, about 400 nm.

従来のCD、DVD、BDなど光ディスクには、読み出し専用でデータの追記や書き換えができないタイプのROM(Read Only Memory)型光ディスクと、データの追記はできるがデータの書き換えはできない追記型光ディスクと、データの書き換えが可能なタイプの書き換え型光ディスクとに大別できる。   Conventional optical discs such as CDs, DVDs, and BDs are a read-only ROM (Read Only Memory) type optical disc that cannot be additionally written or rewritten, and a write-once optical disc that can additionally write data but cannot rewrite data. It can be roughly divided into rewritable optical discs of the type that can rewrite data.

ROM型光ディスクにおいては、製造段階において基板に形成されるプリピットによりデータがあらかじめ記録され、追記型や書き換え型光ディスクにおいては、プリピットやトラックがあらかじめ形成され、その上に有機色素等や相変化材料等からなる記録材料層が形成され、記録材料層の化学的物理的変化に基づく光学特性の変化を利用してデータが記録される。これらROM型以外の光ディスクにおいても、一般的に、光ディスクの回転制御に用いられるウォブリング信号など回転制御情報やデータの記録時の位置検索などに必要なアドレス情報などの信号は、原盤製造時に、予め凹又は凸部であるトラック(グルーブ又はランド)に記録されている。いずれの光ディスクもレプリケーションにて製造され、トラックなど凹凸パターンを原盤に記録し、記録原盤からディスクスタンパを形成し、該ディスクスタンパを用いて合成樹脂などを加熱プレス加工または射出成形し、該パターンが原盤から転写された記録面を備えた透光性基板などが形成されて、得られる。   In ROM type optical discs, data is pre-recorded by pre-pits formed on the substrate in the manufacturing stage, and in write-once and rewritable optical discs, pre-pits and tracks are formed in advance, on which organic dyes, phase change materials, etc. A recording material layer is formed, and data is recorded using a change in optical characteristics based on a chemical physical change in the recording material layer. In these optical discs other than ROM type, generally, signals such as wobbling signals used for optical disc rotation control and address information necessary for position search at the time of data recording are pre- It is recorded on a track (groove or land) which is a concave or convex portion. Both optical disks are manufactured by replication, and a concave / convex pattern such as a track is recorded on a master, a disk stamper is formed from the master, and a synthetic resin or the like is heated and pressed or injection molded using the disk stamper. A translucent substrate having a recording surface transferred from the master is formed and obtained.

所定パターンの原盤への記録は、例えばLBR(Laser beam recording)では、カッティング装置によってなされ、ブランク原盤を回転させつつ、その記録面へレーザビームをスポット照射し、レーザビームを半径方向に送ることにより、レーザスポットが所定ピッチで螺旋状のトラック軌跡を描き、その軌跡上において、記録原盤の回転速度及び情報内容に応じてレーザビームをオン/オフさせることにより原盤上にピット又はグルーブを記録する。   For example, in LBR (Laser beam recording), the recording of a predetermined pattern is performed by a cutting device. While rotating the blank master, the recording surface is irradiated with a laser beam, and the laser beam is sent in the radial direction. The laser spot draws a spiral track locus at a predetermined pitch, and a pit or groove is recorded on the master disk by turning on / off the laser beam in accordance with the rotation speed and information content of the recording master disk on the locus.

近年、BDの記録密度を越えるより高密度化された記録媒体の研究開発が進められ、かかるトラックのピッチの極細化が望まれている。   In recent years, research and development of a recording medium with a higher density exceeding the recording density of the BD has been promoted, and it is desired to make the pitch of the track extremely fine.

プリピットやトラックを高解像度でパターニングを実現するため、高密度光ディスクの原盤作製手段として、有機レジストとLBRの組み合わせや、無機レジストとPTM(Phase transition mastering)の組み合わせや、無機レジストとEBR(Electronic beam recording)の組み合わせによる作製プロセスが一般的である。   In order to realize high resolution patterning of pre-pits and tracks, as a means for producing a high-density optical disc master, a combination of organic resist and LBR, a combination of inorganic resist and PTM (Phase Transition Mastering), an inorganic resist and EBR (Electronic beam) The production process by the combination of recording) is common.

現在主流のBD−ROM(片面容量25GB/直径120cm)用原盤の作成法は、LBR及びPTMを使用したものが主流であるが、更なる高密度の原盤を作製するには、レジスト層の高解像化が容易なPTM、EBRを使用した手法が採用されている。PTMにおいては、以下の提案がある。   Currently, the mainstream of BD-ROM (single-sided capacity 25GB / diameter 120cm) master disk is the one that uses LBR and PTM. A technique using PTM and EBR that can be easily resolved is employed. In PTM, there are the following proposals.

プリピットやトラック等の凹凸パターンを有するオーサリング用光記録媒体の製造方法として、支持基板上に第1の誘電体層、光吸収層、第2の誘電体層を順次積層する工程、レーザ光を照射し情報を記録する工程、溶液エッチングにより、第2の誘電体層の未記録部分を除去し凸状に加工する工程を少なくとも含む方法が提案されている(特許文献1参照)。   As a method for producing an authoring optical recording medium having a concavo-convex pattern such as prepits and tracks, a step of sequentially laminating a first dielectric layer, a light absorbing layer, and a second dielectric layer on a support substrate, and laser irradiation There has been proposed a method including at least a step of recording information and a step of removing a non-recorded portion of the second dielectric layer and processing it into a convex shape by solution etching (see Patent Document 1).

トラックピッチを縮小し高記録密度を達成できる構造の光記録媒体として、光照射により発熱する発熱材料、構造体、光照射により発熱し情報が記録される記録材料が少なくとも積層され、該構造体は、シリコン化合物(材料A)と、硫化物材料、セレン化物材料、フッ化物材料、窒化物材料、金属材料、半導体材料の群から選ばれる少なくとも1つの材料(材料B)の混合体材料からなり、かつ構造体が媒体面内において隣接する構造体と完全に分離した状態で設けられている光記録媒体が提案されている(特許文献2参照)。   As an optical recording medium having a structure capable of reducing the track pitch and achieving a high recording density, at least a heating material that generates heat by light irradiation, a structure, and a recording material that generates heat and records information by light irradiation are laminated. A mixture material of a silicon compound (material A) and at least one material (material B) selected from the group of sulfide materials, selenide materials, fluoride materials, nitride materials, metal materials, and semiconductor materials, An optical recording medium has been proposed in which the structure is provided in a state where the structure is completely separated from the adjacent structure in the medium plane (see Patent Document 2).

簡便なプロセスで微細な構造体を安価に形成する光記録媒体の製造方法として、光吸収層と熱反応層の積層構成を有する媒体を用い、少なくとも、該媒体に対して光を照射する工程、該媒体をエッチング加工する工程により微細な構造体を形成する構造体形成方法において、熱反応層:Si酸化物(A)と硫化物、セレン化物、フッ素化合物のうち少なくとも1つの材料(B)の混合が提案されている(特許文献3参照)。   As a method for producing an optical recording medium that forms a fine structure at a low cost with a simple process, using a medium having a laminated structure of a light absorption layer and a thermal reaction layer, at least irradiating the medium with light, In the structure forming method of forming a fine structure by a process of etching the medium, the thermal reaction layer: at least one material (B) of Si oxide (A) and sulfide, selenide, or fluorine compound is used. Mixing has been proposed (see Patent Document 3).

光学情報記録媒体に微細構造を形成する方法として、微細構造が形成される前記媒体が、レーザ光照射により変化する反応材料を有し、該媒体に微細構造を形成する工程が、大気もしくは酸素ガスもしくは水蒸気ガスと該反応材料が接する状態でレーザ光を照射するレーザ照射工程を少なくとも含む方法が提案されている(特許文献4参照)。   As a method for forming a fine structure on an optical information recording medium, the medium on which the fine structure is formed has a reactive material that changes by laser light irradiation, and the step of forming the fine structure on the medium is performed by air or oxygen gas. Alternatively, a method including at least a laser irradiation step of irradiating a laser beam in a state where the water vapor gas and the reaction material are in contact with each other has been proposed (see Patent Document 4).

光学情報記録媒体の構造と製法について、構造体を形成する媒体が、光吸収層と熱反応層の積層からなり、前記媒体に対して構造体を形成する工程が、少なくとも、前記媒体に対してレーザ光を照射する工程と、前記媒体をエッチング加工する工程と、を含む構造体形成方法が提案されている(特許文献5参照)。   Regarding the structure and manufacturing method of the optical information recording medium, the medium for forming the structure comprises a laminate of a light absorption layer and a heat reaction layer, and the step of forming the structure on the medium is at least for the medium. There has been proposed a structure forming method including a step of irradiating a laser beam and a step of etching the medium (see Patent Document 5).

微細で高精度の凸状構造体を支持基板上に有する凸構造基体とその製造方法において、支持基板上にシリコン酸化物を含有する熱変化可能なA層とレーザ光の吸収により発熱する熱変化可能なB層が順次設けられた積層体に、所定の送り周期をもつレーザ光を照射し、逐次B層とA層の状態を変化させ、エッチング処理して、支持基板上にA層、B層積層の構成の何れかからなる凸状の構造を有する凸構造基体の支持基板をディスク状に、凸状の構造体をスパイラル状または同心円状として記録媒体用原盤とすることが提案されている(特許文献6参照)。
特開2005−158191 特開2005−322365 特開2006−004594 特開2006−252671 特開2007−179607 特開2007−242183
Convex structure base having fine and highly accurate convex structure on supporting substrate and manufacturing method thereof, heat changeable A layer containing silicon oxide on supporting substrate and heat change generated by absorption of laser beam The layered body in which possible B layers are sequentially provided is irradiated with laser light having a predetermined feeding period, the states of the B layer and the A layer are sequentially changed, and etching processing is performed, so that the A layer and the B layer are formed on the supporting substrate. It has been proposed to use a support substrate of a convex structure base having a convex structure composed of any one of layered layers as a disk and a convex structure as a spiral or concentric circle as a recording medium master. (See Patent Document 6).
JP-A-2005-158191 JP 2005-322365 A JP 2006-004594 A JP 2006-252671 A JP2007-179607 JP2007-242183

PTMは、装置コスト、ランニングコストの面からも容量200GB/直径120cmまでの高密度原盤の製造で有用であると考えられる。さらに、上記特許文献でも、ZnS−SiO膜をレジスト層とする記録が示され、ZnS−SiOは高解像度での有望な記録材料である。 PTM is considered to be useful in the production of a high-density master having a capacity of 200 GB / diameter of 120 cm in terms of equipment cost and running cost. Further, the above patent document also shows recording using a ZnS—SiO 2 film as a resist layer, and ZnS—SiO 2 is a promising recording material with high resolution.

しかしながら、実験により、例えば、特許文献5記載のZnS−SiO膜の感熱層とSi膜の光吸収層とからなる2層構造ではPTMにより、単一マークとスペースの記録では問題となることは無いが、2層構造では光吸収層が厚い徐冷構造となって1−7変調などのランダムパターンを記録した際の熱干渉によるピット形状の不正確になる問題が知見された。 However, according to experiments, for example, in a two-layer structure composed of a heat-sensitive layer of ZnS-SiO 2 film and a light absorption layer of Si film described in Patent Document 5, there is a problem in recording a single mark and a space due to PTM. However, it has been found that in the two-layer structure, the light absorption layer has a thick slow cooling structure and the pit shape is inaccurate due to thermal interference when a random pattern such as 1-7 modulation is recorded.

発明者は、SnやZnS等の無機材料を用いて簡単な膜構成で良好な光記録が可能であるが、従来の凸型構造体形成時の熱干渉改善の必要性があると考える。   The inventor thinks that there is a need for improvement in thermal interference during the formation of a conventional convex structure, although good optical recording is possible with a simple film configuration using an inorganic material such as Sn or ZnS.

そこで、本発明の解決しようとする課題には、ZnS−SiOなど無機材料を感熱層とする凸型構造体形成時の熱干渉を改善できる光学情報記録媒体製造用の原盤を提供することが一例として挙げられる。 Accordingly, the problem to be solved by the present invention is to provide a master for producing an optical information recording medium that can improve the thermal interference when forming a convex structure using an inorganic material such as ZnS-SiO 2 as a heat-sensitive layer. As an example.

本発明の光学情報記録媒体製造用の原盤は、基板と、前記基板上に接して設けられた記録補助層及び感熱層の積層体を含む記録層と、を有する光学情報記録媒体製造用の原盤であって、前記感熱層は露光で状態変化を起こす母材を含み、前記記録補助層が露光に使用する波長の光を吸収すると共に前記基板の熱伝導率よりも高い熱伝導率を有する材料からなることを特徴とする。   The master for producing an optical information recording medium of the present invention is a master for producing an optical information recording medium having a substrate and a recording layer including a laminate of a recording auxiliary layer and a heat-sensitive layer provided in contact with the substrate. The heat-sensitive layer includes a base material that undergoes a state change upon exposure, and the recording auxiliary layer absorbs light having a wavelength used for exposure and has a thermal conductivity higher than the thermal conductivity of the substrate. It is characterized by comprising.

本発明の光学情報記録媒体製造用の原盤の製造方法は、基板と、前記基板上に接して設けられた記録補助層及び感熱層の積層体を含む記録層と、を有し、前記感熱層が露光で状態変化を起こす母材を含み、前記記録補助層が露光に使用する波長の光を少なくとも吸収する材料からなる光学情報記録媒体製造用の原盤の製造方法であって、
前記原盤の前記感熱層側から入射し前記記録補助層を照射露光する工程と、
露光した前記原盤を現像し、凸パターン構造体を形成する現像工程と、
前記凸パターン構造体上をメッキ処理して、金属原盤を形成する電鋳工程と、
前記金属原盤を前記露光した原盤11から剥離する電鋳工程と、を含み、
前記電鋳工程において、前記感熱層が露光され現像された後の前記凸パターン構造体を覆う金属材料膜を形成する工程と、を含むこと、
前記金属材料膜が前記記録補助層の材料と共通する金属を含み、剥離後の後処理において、前記感熱層及び前記金属材料膜を一括して除去すること、を特徴とする。
The method for producing a master for producing an optical information recording medium of the present invention comprises a substrate, and a recording layer including a laminate of a recording auxiliary layer and a heat-sensitive layer provided in contact with the substrate, and the heat-sensitive layer Including a base material that undergoes a state change upon exposure, and the recording auxiliary layer is a method of manufacturing a master for manufacturing an optical information recording medium made of a material that absorbs at least light having a wavelength used for exposure,
Incident from the heat sensitive layer side of the master and irradiating and exposing the recording auxiliary layer; and
Developing the exposed master, and forming a convex pattern structure; and
An electroforming step of plating the convex pattern structure to form a metal master;
An electroforming step of peeling the metal master from the exposed master 11,
Forming a metal material film covering the convex pattern structure after the heat-sensitive layer is exposed and developed in the electroforming step,
The metal material film includes a metal common to the material of the recording auxiliary layer, and the heat-sensitive layer and the metal material film are collectively removed in post-treatment after peeling.

発明を実施するための形態BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

以下、本発明による実施の形態の例を図面を参照して詳細に説明する。   Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

第1の実施形態の光学情報記録媒体製造用の原盤11は、図1に示すように、ガラスからなる円形の基板12と、基板12上に、記録補助層14及びこれに接する感熱層16を有して記録層18が設けられて構成されている。このように、原盤11は、基板12と、基板12上に接して設けられた記録補助層14及び感熱層16の積層体を含む記録層18と、を有する。このような構造の原盤11に対しては、感熱層16側からレーザビームを集光照射することによってデータの記録が行なわれる。   As shown in FIG. 1, a master 11 for manufacturing an optical information recording medium according to the first embodiment includes a circular substrate 12 made of glass, and a recording auxiliary layer 14 and a heat-sensitive layer 16 in contact with the recording auxiliary layer 14 on the substrate 12. And a recording layer 18 is provided. As described above, the master 11 includes the substrate 12 and the recording layer 18 including the laminated body of the recording auxiliary layer 14 and the thermosensitive layer 16 provided in contact with the substrate 12. Data recording is performed on the master 11 having such a structure by focusing and irradiating a laser beam from the heat sensitive layer 16 side.

基板12は、原盤11に求められる機械的強度を確保するための基体としての役割を果たすように基板12の厚さは設定され、その材料としてはガラス、SiC、GaN、AlNまたはSiの材料を用いることが可能である。   The thickness of the substrate 12 is set so that the substrate 12 serves as a base for ensuring the mechanical strength required for the master 11, and the material is glass, SiC, GaN, AlN, or Si. It is possible to use.

記録補助層14は、露光に使用する波長の光を吸収すると共に基板12の熱伝導率よりも高い熱伝導率を有するように構成された材料からなる。以下の表1に材料の熱伝導率を示す。   The recording auxiliary layer 14 is made of a material configured to absorb light having a wavelength used for exposure and to have a thermal conductivity higher than that of the substrate 12. Table 1 below shows the thermal conductivity of the materials.

Figure 2009245504
Figure 2009245504

また、例えば、図1に示すように、記録補助層14は、基板12側に設けられた放熱層141と、感熱層16側に設けられた光吸収層142とを含むように構成できる。記録補助層14(特に放熱層141)に求められる性能は、大きな熱伝導率と、大きなk(消衰係数)が必要となりAg、Au、Al、Cuとその合金などが最適となる。記録層の3層構造の場合、Si、Geなどの光吸収層142で熱を蓄積し、Ag、Alなどの放熱層141で余分熱を逃がす構造である。また、記録層の2層構造の場合、熱を蓄積することと余分な熱を放熱することを記録補助層14単層のみで行うため、200GB/120cmなどの高密度記録領域でのランダム信号記録ではAg、Alなどの大きな熱伝導率と大きな消衰係数kを持ったものが必要となる。   For example, as shown in FIG. 1, the recording auxiliary layer 14 can be configured to include a heat dissipation layer 141 provided on the substrate 12 side and a light absorption layer 142 provided on the heat sensitive layer 16 side. The performance required for the recording auxiliary layer 14 (particularly the heat dissipation layer 141) requires a large thermal conductivity and a large k (extinction coefficient), and Ag, Au, Al, Cu and alloys thereof are optimal. In the case of the three-layer structure of the recording layer, heat is accumulated in the light absorption layer 142 such as Si and Ge, and excess heat is released by the heat dissipation layer 141 such as Ag and Al. Further, in the case of the two-layer structure of the recording layer, since the heat is accumulated and the excess heat is radiated only by the single recording auxiliary layer 14, random signal recording in a high-density recording area such as 200 GB / 120 cm is performed. Then, a material having a large thermal conductivity such as Ag or Al and a large extinction coefficient k is required.

放熱層141は、基板12の熱伝導率よりも高い熱伝導率を有する。放熱層141は、Ag、Al、Au、Cuうちの少なくとも1つを主成分とする合金、たとえばAgPdCuが用いられる。ここで言う主成分は、記録補助層14を構成する材料の50原子%以上を占めることが好ましく、より好ましくは80原子%である。   The heat dissipation layer 141 has a thermal conductivity higher than that of the substrate 12. For the heat dissipation layer 141, an alloy containing at least one of Ag, Al, Au, and Cu as a main component, for example, AgPdCu is used. The main component referred to here preferably accounts for 50 atomic% or more of the material constituting the recording auxiliary layer 14, and more preferably 80 atomic%.

光吸収層142は、露光波長のレーザビームを吸収し、熱に変換する。光吸収層142は、Sb、Si、Ge、Snのうちの少なくとも1つを主成分として含む。光吸収層142の膜厚は、レーザビームがスポット照射されることによって感熱層16を変化させるために充分な膜厚であり、なおかつ必要以上に積層すると、より多くの熱量が必要となるため1〜50nmであることが好ましい。   The light absorption layer 142 absorbs a laser beam having an exposure wavelength and converts it into heat. The light absorption layer 142 includes at least one of Sb, Si, Ge, and Sn as a main component. The thickness of the light absorption layer 142 is sufficient to change the heat-sensitive layer 16 by spot irradiation with a laser beam, and more heat is required if laminated more than necessary. It is preferably ˜50 nm.

放熱層141を追加して3層構造するにあたり、光吸収層142を薄くし急冷構造とするので、光吸収層142の膜厚は50nm以下が望ましい。さらに、放熱層141を追加するに当たり、膜ノイズ増加を抑止するため、粒径が小さくなる材料及び高レート成膜を採用ことが好ましい。   In forming the three-layer structure by adding the heat dissipation layer 141, the light absorption layer 142 is thinned to form a rapid cooling structure, and thus the film thickness of the light absorption layer 142 is desirably 50 nm or less. Furthermore, when adding the heat dissipation layer 141, it is preferable to employ a material with a small particle size and high-rate film formation in order to suppress an increase in film noise.

感熱層16は、エネルギー照射で状態変化を起こす母材を含み、すなわち、母材として、レーザビーム照射のエネルギーにより、後工程のエッチングに対する耐性等の物性が変化される状態変化材料を含んで構成されている。感熱層16の母材は、状態変化を起こす材料であれば特に限定されず、例えば、酸化物、硫化物、窒化物またはこれらの組み合わせを主成分として用いることができる。具体的には、Al、AlN、ZnO、ZnS、GeN、GeCrN、CeO、SiO、SiO、SiN、Ta及びSiCからなる群より選択される少なくとも1種を主成分とすることが好ましい。また、感熱層16は、硫化物と、シリコン酸化物、ジルコン酸化物、ニオブ酸化物の群から選ばれる少なくとも1つと、の混合物であることが好ましい。例えば、またSiO混合成分に代えて、ZrO、Nbなどの別の化合物でも混合可能である。さらにまた、感熱層16は、ZnS−SiOの混合物を主成分とすることがより好ましく、SiOは5mol%〜90mol%組成比でも可能であり、5mol%〜30mol%が望ましい。 The heat-sensitive layer 16 includes a base material that undergoes a state change by energy irradiation, that is, includes a state-change material whose physical properties such as resistance to etching in a later process are changed by the energy of laser beam irradiation as the base material. Has been. The base material of the heat-sensitive layer 16 is not particularly limited as long as it is a material that causes a state change. For example, an oxide, sulfide, nitride, or a combination thereof can be used as a main component. Specifically, the main component is at least one selected from the group consisting of Al 2 O 3 , AlN, ZnO, ZnS, GeN, GeCrN, CeO 2 , SiO, SiO 2 , SiN, Ta 2 O 5 and SiC. It is preferable to do. The heat sensitive layer 16 is preferably a mixture of a sulfide and at least one selected from the group consisting of silicon oxide, zircon oxide, and niobium oxide. For example, another compound such as ZrO 2 or Nb 2 O 5 can be mixed instead of the SiO 2 mixed component. Furthermore, it is more preferable that the heat-sensitive layer 16 is mainly composed of a mixture of ZnS—SiO 2 , and SiO 2 can be in a composition ratio of 5 mol% to 90 mol%, and is preferably 5 mol% to 30 mol%.

前記記録補助層14は、接している感熱層の反応を促進させる層であり、所定以上の書き込みパワーを持つレーザ光が照射されたとき、その変換した熱によって、感熱層16が部分的または全体的に状態変化(例えばアモルファスが結晶化へ移行)することにより潜像が形勢される。   The recording auxiliary layer 14 is a layer that promotes the reaction of the heat-sensitive layer that is in contact therewith, and when the laser light having a predetermined writing power or higher is irradiated, the heat-sensitive layer 16 is partially or entirely formed by the converted heat. Thus, the latent image is formed by a state change (for example, the transition from amorphous to crystallization).

また、感熱層16の膜厚は特に限定されないが、5〜200nmであることが好ましい。この膜厚が5nm未満であると、母材の充分な状態変化があったとしても、層全体として後工程のエッチングに対する充分な耐性が望めない。一方、膜厚が200nmを超えると、成膜時間が長くなり生産性が低下する恐れがあり、更に、感熱層16の残留応力によってクラックが発生する恐れがある。また、前記記録補助層14の熱影響が及ばない部分が残ることも考えられる。   Moreover, the film thickness of the thermosensitive layer 16 is not particularly limited, but is preferably 5 to 200 nm. When this film thickness is less than 5 nm, even if there is a sufficient change in the state of the base material, the entire layer cannot be expected to have sufficient resistance to subsequent etching. On the other hand, if the film thickness exceeds 200 nm, the film formation time may be prolonged and the productivity may be reduced, and further, cracks may be generated due to the residual stress of the heat sensitive layer 16. It is also conceivable that a portion of the recording auxiliary layer 14 that is not affected by heat remains.

次に、未記録のブランクの原盤の製造方法の一例について説明する。   Next, an example of a method for manufacturing an unrecorded blank master will be described.

まず、ガラスなどの平坦な円形基板12上に放熱層141を形成する。放熱層141の形成には、例えば気相成長法を用いることができる。このような気相成長法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法等が挙げられる。   First, the heat dissipation layer 141 is formed on a flat circular substrate 12 such as glass. For example, a vapor deposition method can be used to form the heat dissipation layer 141. Examples of such a vapor phase growth method include a vacuum deposition method and a sputtering method.

次に、放熱層141上に光吸収層142を積層形成して記録補助層14を構成する。この光吸収層142も、放熱層141と同様にして、気相成長法を用いて形成することができる。更に、記録補助層14の光吸収層142上に光入射側の感熱層16を形成する。この感熱層16も、気相成長法を用いて形成することができる。以上により、ブランクの原盤の製造が完了する。   Next, the recording auxiliary layer 14 is configured by laminating and forming the light absorption layer 142 on the heat dissipation layer 141. This light absorption layer 142 can also be formed by vapor phase growth in the same manner as the heat dissipation layer 141. Further, the heat-sensitive layer 16 on the light incident side is formed on the light absorption layer 142 of the recording auxiliary layer 14. The heat sensitive layer 16 can also be formed using a vapor phase growth method. This completes the production of the blank master.

次に、上記ブランクの原盤を用いた高密度光ディスク用原盤製造方法について説明する。   Next, a method for producing a master for a high-density optical disk using the blank master will be described.

図2に示すように、レーザカッティング工程として、回転するブランクの原盤11に対して、所定のNA、波長、出力を有するレーザビームLBを感熱層16側から入射し記録補助層14を照射露光する。   As shown in FIG. 2, as a laser cutting process, a laser blank LB having a predetermined NA, wavelength, and output is incident on the rotating blank master 11 from the heat-sensitive layer 16 side, and the recording auxiliary layer 14 is irradiated and exposed. .

このようなレーザビームLBの照射により、記録補助層14の照射部分がレーザビームLBにより加熱され、加熱部分が接する感熱層16の部分に影響を与えて、部分的または全体的に状態変化(例えばアモルファスから結晶への移行)して、潜像laMが形成される。潜像の形成された部分の物性は、それ以外の部分(未記録領域)の物性と十分に異なった状態となる。従って、潜像部分とそれ以外の部分とでのエッチング速度の相違により、現像することができる。これにより、所望とする光ディスクのランド及びグルーブ等に応じた潜像パターンがガラス基板12上感熱層16に形成される。   By such irradiation with the laser beam LB, the irradiated portion of the recording auxiliary layer 14 is heated by the laser beam LB, affecting the portion of the heat sensitive layer 16 that is in contact with the heated portion, and partially or totally changing the state (for example, The latent image laM is formed by transition from amorphous to crystal). The physical property of the part where the latent image is formed is in a state sufficiently different from the physical property of the other part (unrecorded area). Therefore, development can be performed due to the difference in etching rate between the latent image portion and the other portions. As a result, a latent image pattern corresponding to the desired land and groove of the optical disk is formed on the heat-sensitive layer 16 on the glass substrate 12.

次に、現像工程として、図3に示すように、露光した原盤11を現像装置(図示せず)に装着し、原盤11を現像して潜像laM部分以外の感熱層16を除去し、露光した原盤11上に記録すべき信号に対応する凸パターンを設け、基板12と凸パターン構造体とからなる現像原盤11(光学情報記録媒体製造用の原盤)を得る。   Next, as shown in FIG. 3, as a development process, the exposed master 11 is mounted on a developing device (not shown), the master 11 is developed to remove the heat-sensitive layer 16 other than the latent image laM portion, and exposure is performed. A convex pattern corresponding to a signal to be recorded is provided on the master 11, and a development master 11 (master for manufacturing an optical information recording medium) composed of a substrate 12 and a convex pattern structure is obtained.

次に、電鋳工程として、図4に示すように、現像原盤11の凸パターン感熱層16上にニッケル又は銀などの導電膜CMをスパッタリング又は蒸着などの成膜方法によって形成する。次に、図5に示すように、メッキ処理により原盤11の凹凸パターン上にニッケル等の金属を析出させてメッキして肉厚のメッキ層105(金属原盤)を形成する。   Next, as an electroforming process, as shown in FIG. 4, a conductive film CM such as nickel or silver is formed on the convex pattern heat-sensitive layer 16 of the development master 11 by a film forming method such as sputtering or vapor deposition. Next, as shown in FIG. 5, a thick plating layer 105 (metal master) is formed by depositing and plating a metal such as nickel on the uneven pattern of the master 11 by plating.

次に、図6に示すように、この金属原盤105を原盤11から剥離した後、後処理工程において、酸及び又はアルカリ処理により金属原盤105上に残った感熱層16及び銀などの導電膜3を除去して、トリミングを施して整形して、ディスクスタンパ106が得られる。ここで、例えば、放熱層141にAlまたはAl合金(Al−Tiなど)を採用した場合、感熱層16を酸処理の現像して凸部を形成した後の電鋳工程において、感熱層16の潜像laMの上に導電膜CMとしてAlまたはAl合金を成膜し、その後、Niスパッタ、電鋳を行えば、原盤11と金属原盤105との剥離後の後処理が、アルカリ処理のみで終えることができる。すなわち、原盤11において感熱層16を覆う導電膜CM(アルカリ可溶な膜)を備えることができ、これにより、工程数を減らすことができる。すなわち、電鋳プロセスは、凸パターン感熱層16上に必ずニッケル又は銀などの導電膜を成膜し、ニッケル電鋳する構成となるが、ガラス原盤とNi原盤を剥離する際に、Ni原盤側に、導電膜材料や感熱層材料などが付着してしまう場合がある。その際それら材料を除去するために、弱酸など処理液に接触させ除去するが、Niも酸に溶けてしまうために表面が荒れてしまう可能性がある。そこで、凸型構造体にNi又はAgの導電膜を成膜する前に、Alなどのアルカリ溶液に可溶な金属材料膜を若干量(凸型構造体の形状に影響がない程度の膜厚、5nmほど)成膜しておくことで、剥離残り材料の除去にアルカリ溶液で安全かつ確実に行えることを、知見した。さらに放熱層141にAgではなくAlを使用しておけば、このAl膜がガラス原盤側からNi原盤側に持っていかれるということが起こっても、アルカリ溶液だけで処理できる効果がある。例えば、酸に可溶な膜はAl膜、Ag膜、ニッケル膜、硫化物膜などがあり、アルカリに可溶な膜はAl膜、Si膜などがある。このように、記録補助層の材料と可溶性の共通する金属で凸型構造体を覆えば、工程数を減らすことができる。   Next, as shown in FIG. 6, after the metal master 105 is peeled from the master 11, the heat-sensitive layer 16 and the conductive film 3 such as silver remaining on the metal master 105 by acid and / or alkali treatment in a post-processing step. The disc stamper 106 is obtained by trimming and shaping. Here, for example, when Al or Al alloy (Al-Ti or the like) is adopted for the heat dissipation layer 141, in the electroforming process after the heat-sensitive layer 16 is developed by acid treatment to form a convex portion, the heat-sensitive layer 16 If an Al or Al alloy film is formed on the latent image laM as the conductive film CM, and then Ni sputtering and electroforming are performed, the post-treatment after the separation of the master 11 and the metal master 105 is completed with only alkali treatment. be able to. In other words, the conductive film CM (alkali-soluble film) that covers the heat-sensitive layer 16 in the master 11 can be provided, whereby the number of steps can be reduced. That is, in the electroforming process, a conductive film such as nickel or silver is necessarily formed on the convex pattern heat-sensitive layer 16 and nickel electroforming is performed. When the glass master and the Ni master are separated, the Ni master side In addition, a conductive film material or a heat-sensitive layer material may adhere to the surface. At that time, in order to remove these materials, they are removed by contacting with a treatment solution such as a weak acid. However, since Ni is also dissolved in the acid, the surface may be roughened. Therefore, before forming the Ni or Ag conductive film on the convex structure, a slight amount of metal material film soluble in an alkaline solution such as Al (thickness that does not affect the shape of the convex structure). It has been found that, by forming a film (about 5 nm), it is possible to remove the remaining peeling material safely and reliably with an alkaline solution. Further, if Al instead of Ag is used for the heat dissipation layer 141, even if this Al film is brought from the glass master side to the Ni master side, there is an effect that it can be treated only with the alkaline solution. For example, an acid-soluble film includes an Al film, an Ag film, a nickel film, and a sulfide film, and an alkali-soluble film includes an Al film and an Si film. Thus, if the convex structure is covered with a metal common to the material of the recording auxiliary layer and soluble, the number of steps can be reduced.

そして、このディスクスタンパ106を射出成形装置の金型に装着し、金型を閉じてキャビティを形成し、このキャビティ内にポリカーボネート(PC)等の溶融樹脂を注入後、硬化させて、金型から取り出すことで、ディスクスタンパ106の凹凸が転写された光ディスク基板が得られる。   Then, the disc stamper 106 is mounted on a mold of an injection molding apparatus, the mold is closed to form a cavity, and after molten resin such as polycarbonate (PC) is injected into the cavity, the mold is cured and the mold is removed. By taking out, an optical disk substrate to which the unevenness of the disk stamper 106 is transferred is obtained.

(実施例1)
ブランク原盤を次のように作製した。まず、直径120mmのガラス基板をスパッタリング装置にセットし、この基板上に、膜厚80nmのAg−Pd−Cuの放熱層、次に膜厚30nmのSiの光吸収層、膜厚50nmのZnS−SiOの混合物(SiO組成比20mol%)からなる感熱層を順次、スパッタ法により形成した。
(Example 1)
A blank master was produced as follows. First, a glass substrate having a diameter of 120 mm was set in a sputtering apparatus, and an Ag—Pd—Cu heat dissipation layer having a film thickness of 80 nm, an Si light absorption layer having a film thickness of 30 nm, and a ZnS— film having a film thickness of 50 nm were formed on the substrate. a mixture of SiO 2 and heat-sensitive layer made of (SiO 2 composition ratio 20 mol%) were sequentially formed by sputtering.

ブランク原盤に次のように情報を記録した。レーザビーム露光(波長405nm)により、線速度一定で、トラックピッチ160nmで2Tピット長75nmで1−7PP変調(チャンネルクロック周期をTとし、2T〜8Tの長さの凸部ピット及びスペースの組合せによる変調)のランダムパターン記録を行った。この条件で光ディスクの100GB相当の密度が得られた。また、単一マークとスペースのパターン記録も行った。   Information was recorded on the blank master as follows. Laser beam exposure (wavelength 405 nm), linear velocity constant, track pitch 160 nm, 2T pit length 75 nm, 1-7PP modulation (channel clock period is T, combination of convex pits and spaces 2T to 8T in length) Modulation) random pattern recording was performed. Under this condition, a density equivalent to 100 GB of the optical disk was obtained. A single mark and space pattern was also recorded.

露光した原盤を、1%の硫酸水溶液にて浸漬攪拌現像した。   The exposed master was immersed and developed with a 1% aqueous sulfuric acid solution.

現像後、原盤を純水洗浄し、エアーブローにて乾燥すると、露光されていない部分が除去され、露光部分が凸部パターンとして残り、実施例1のガラス原盤が得られた。   After the development, the master was washed with pure water and dried by air blow to remove the unexposed part, leaving the exposed part as a convex pattern, and the glass master of Example 1 was obtained.

ガラス原盤の凸部パターン面にNi、Agの反射膜を成膜した。その後、反射膜Niなどで電鋳工程を実行した。その後、剥離しNi原盤を作製した。   A reflective film of Ni and Ag was formed on the convex pattern surface of the glass master. Thereafter, an electroforming process was performed with a reflective film Ni or the like. Then, it peeled and produced Ni original disk.

Ni原盤は、まず、酸処理、次にアルカリ処理、次に酸処理を経て、成形用Ni原盤が得られた。   The Ni master was first subjected to acid treatment, then alkali treatment, and then acid treatment to obtain a forming Ni master.

(実施例2)
放熱層を膜厚80nmのAl−Tiとした以外、基板、光吸収層、感熱層を実施例1と同一としてブランク原盤を作製し、実施例1と同様に1−7PP変調パターン記録を行い、現像後、実施例2のガラス原盤を得た。
(比較例)
放熱層を設けず膜厚100nmのSiの光吸収層を形成した記録補助層とした以外、他は実施例1と同一条件としてブランク原盤を作製し、実施例1と同様に1−7PP変調パターン記録及び単一マークスペース記録を行い、現像後、比較例のガラス原盤を得た。
(評価)
図7及び図8は、それぞれ実施例1の1−7変調ランダムパターン記録及び単一マークスペース記録されたガラス原盤のSEM写真である。
(Example 2)
A blank master was prepared with the substrate, the light absorption layer, and the heat-sensitive layer being the same as in Example 1 except that the heat dissipation layer was made of Al-Ti with a thickness of 80 nm, and 1-7PP modulation pattern recording was performed in the same manner as in Example 1. After development, a glass master disk of Example 2 was obtained.
(Comparative example)
A blank master was produced under the same conditions as in Example 1 except that a heat-absorbing layer was not provided and a Si light-absorbing layer having a thickness of 100 nm was formed, and a 1-7PP modulation pattern was prepared in the same manner as in Example 1. Recording and single mark space recording were performed, and after development, a glass master disk of a comparative example was obtained.
(Evaluation)
7 and 8 are SEM photographs of glass masters on which 1-7 modulation random pattern recording and single mark space recording of Example 1 were performed, respectively.

図9は、実施例2の1−7変調のランダムパターン記録されたガラス原盤のSEM写真である。   FIG. 9 is an SEM photograph of the glass master disc on which a 1-7 modulation random pattern was recorded in Example 2.

図10及び図11は、それぞれ比較例の1−7変調ランダムパターン記録及び単一マークスペース記録されたガラス原盤のSEM写真である。図11から明らかなように、熱干渉が発生し正常な記録が行えない。   FIGS. 10 and 11 are SEM photographs of glass masters on which 1-7 modulation random pattern recording and single mark space recording of a comparative example were performed, respectively. As apparent from FIG. 11, thermal interference occurs and normal recording cannot be performed.

図8及び図11から明らかなように、実施例1及び比較例では、単一マークスペース記録では問題となることはなかった。   As is clear from FIGS. 8 and 11, in Example 1 and the comparative example, there was no problem in single mark space recording.

図7、図9及び図10から明らかなように、ランダムパターン(長ピット、短スペース、短マーク等のパターン)を記録した際に熱干渉により不正確な凸部ピットが記録されるが、実施例では放熱層をガラス基板と光吸収層の間に追加することにより、余分な熱を効果的に逃がすことが可能となり、単一マークとスペースの繰り返しの記録のみならず、ランダムパターンを記録した際も正確で安定した凸部ピットを作成することができた。実施例1及び2の放熱層Ag−Pd−Cu及びAl−Tiがヒートシンク(放熱)の熱干渉改善効果を発揮していることが分かる。   As is clear from FIGS. 7, 9 and 10, inaccurate convex pits are recorded due to thermal interference when a random pattern (pattern of long pits, short spaces, short marks, etc.) is recorded. In the example, by adding a heat dissipation layer between the glass substrate and the light absorption layer, it becomes possible to effectively release excess heat, and not only repeated recording of single marks and spaces, but also random patterns were recorded. It was possible to create an accurate and stable convex pit. It can be seen that the heat dissipation layers Ag-Pd-Cu and Al-Ti of Examples 1 and 2 exhibit the effect of improving the heat interference of the heat sink (heat dissipation).

さらに、実施例2では、熱干渉改善効果に加えて剥離後の処理の改善も達成できた。すなわち、放熱層にAl−Tiを採用しているので、感熱層ZnS−SiOを現像して凸部ピットを形成した後のNi原盤作製工程において、凸部ピット感熱層の上にAl合金を形成し、その後、Niスパッタ、電鋳を行えば、基板とNi原盤との剥離後の後処理が、アルカリ処理のみ(Si及びAl−Tiはアルカリにて可溶の為、同一処理が可能となる)で終えることができ、工程数を減らすことができた。 Furthermore, in Example 2, in addition to the effect of improving thermal interference, improvement of treatment after peeling could be achieved. That is, since Al—Ti is adopted for the heat dissipation layer, in the Ni master manufacturing process after developing the heat sensitive layer ZnS—SiO 2 to form the convex pit, an Al alloy is formed on the convex pit heat sensitive layer. After forming, and then performing Ni sputtering and electroforming, the post-treatment after peeling the substrate and the Ni master is only alkali treatment (Since Si and Al-Ti are soluble in alkali, the same treatment is possible. ) And the number of processes could be reduced.

このように、図2で示すように、感熱層16の材料であるZnS−SiOは、露光に使用する波長の光吸収が無いため、レーザビームLBを吸収せずに殆どが透過する。そのため、Siなどの感熱層材料より光吸収の大きな光吸収層142が必要で、この光吸収層142で光を吸収し熱に変換して感熱層16を熱変化させる。 Thus, as shown in FIG. 2, ZnS—SiO 2 which is the material of the heat sensitive layer 16 does not absorb the light having the wavelength used for exposure, and thus almost does not absorb the laser beam LB. For this reason, a light absorption layer 142 that absorbs light more than the heat-sensitive layer material such as Si is required, and the light absorption layer 142 absorbs light and converts it into heat to thermally change the heat-sensitive layer 16.

記録補助層(光吸収層142、Si層など)で光が熱に変わるのは良いが、それが必要な変化を感熱層16に与えた後は熱が不要となるので、直ぐに冷えることが望ましい。しかしながら、Si層などの光吸収層142では、その性質上温度が徐々にしか下がらない事及び熱が徐々に縦横方向に拡散していくため、目標とした大きさどおりの凸部ピットを記録することが難しくなり、不揃いな凸部ピットになってしまう。   It is preferable that light is changed into heat in the recording auxiliary layer (light absorption layer 142, Si layer, etc.), but heat is no longer necessary after applying the necessary change to the heat sensitive layer 16, so it is desirable to cool immediately. . However, in the light absorption layer 142 such as the Si layer, the temperature gradually decreases due to its property and the heat gradually diffuses in the vertical and horizontal directions, so that convex pits having a target size are recorded. It becomes difficult and it becomes an uneven convex pit.

そこで、放熱層141(Ag、Al、Au、Cuまたはそれらを主成分とする合金)を更に設けることにより、その冷却促進と熱拡散を抑制することで、目標どおりの大きさで揃った凸部ピットを形成することが容易になる。   Therefore, by further providing a heat dissipation layer 141 (Ag, Al, Au, Cu or an alloy containing them as a main component), by suppressing the promotion of the cooling and thermal diffusion, the convex portions having the same size as the target. It becomes easy to form pits.

(実施例3)
記録補助層を放熱層と光吸収層とに分けずに膜厚20nmのAg−Pd−Cuとした以外、実施例1と同一として、ブランク原盤を作製し、実施例1と同様に1−7PP変調パターン記録を行い、現像後、実施例3のガラス原盤を得た。実施例3も実施例1、2同様の効果を確認した。Ag−Pd−Cu記録補助層は、ヒートシンク(放熱)及び光吸収の役割を担い、高密度なランダムパターンを露光した際の余分な熱を逃がし、正確で安定した凸型ピットを作製する機能を有する。
Example 3
A blank master was produced in the same manner as in Example 1 except that the recording auxiliary layer was not divided into a heat dissipation layer and a light absorption layer, and Ag—Pd—Cu having a film thickness of 20 nm was used. A modulation pattern was recorded, and after development, a glass master disk of Example 3 was obtained. In Example 3, the same effect as in Examples 1 and 2 was confirmed. The Ag-Pd-Cu recording auxiliary layer plays a role of heat sink (heat dissipation) and light absorption, and releases the excess heat when exposing a high-density random pattern, and has the function of producing accurate and stable convex pits. Have.

したがって、感熱層と光吸収層と放熱層とからなる3層構造あるいは感熱層と記録補助層とからなる2層構造であっても、記録補助層が露光に使用する波長の光を吸収すると共に基板の熱伝導率よりも高い熱伝導率を有する材料からなることとすれば、ランダムパターンを記録現像しても安定的なピット形状を得ることができる。   Therefore, even in a three-layer structure composed of a heat-sensitive layer, a light absorption layer, and a heat dissipation layer, or a two-layer structure composed of a heat-sensitive layer and a recording auxiliary layer, the recording auxiliary layer absorbs light having a wavelength used for exposure. If it is made of a material having a thermal conductivity higher than that of the substrate, a stable pit shape can be obtained even if a random pattern is recorded and developed.

図12に示すように、光吸収層(Si層など)を省略した記録補助層14が一層構成では、ZnS−SiOの感熱層16を酸で現像(エッチング)しているため、記録補助層14が金属層一層とあると、記録補助層自体が溶解することにより、ガラス基板からZnS−SiOの凸型構造体自体の膜浮きや剥がれの問題が懸念されるが、実際は1%程度の低濃度硫酸溶液を使用すれば、溶液の濃度自体が低いので、いずれの金属でもまったく問題にならない、さらに、記録補助層14をAu及びAu合金にすることでその問題を完全解決することもできる。 As shown in FIG. 12, in the case where the recording auxiliary layer 14 in which the light absorption layer (Si layer or the like) is omitted is a single layer structure, the ZnS-SiO 2 heat sensitive layer 16 is developed (etched) with an acid. When 14 is a single metal layer, the recording auxiliary layer itself dissolves, and there is a concern about the problem of film floating or peeling of the ZnS-SiO 2 convex structure itself from the glass substrate. If a low-concentration sulfuric acid solution is used, since the concentration of the solution itself is low, there is no problem with any metal. Furthermore, the problem can be completely solved by using Au and an Au alloy for the recording auxiliary layer 14. .

本発明による実施の形態の第1例に係る光学情報記録媒体製造用の原盤を示す概略部分断面図である。It is a schematic fragmentary sectional view which shows the original disc for optical information recording medium manufacture concerning the 1st example of embodiment by this invention. 本発明による実施の形態の光学情報記録媒体製造用原盤の製造方法を説明するための概略部分断面図である。It is a general | schematic fragmentary sectional view for demonstrating the manufacturing method of the master for optical information recording medium manufacture of embodiment by this invention. 本発明による実施の形態の光学情報記録媒体製造用原盤の製造方法を説明するための概略部分断面図である。It is a general | schematic fragmentary sectional view for demonstrating the manufacturing method of the master for optical information recording medium manufacture of embodiment by this invention. 本発明による実施の形態の光学情報記録媒体製造用原盤の製造方法を説明するための概略部分断面図である。It is a general | schematic fragmentary sectional view for demonstrating the manufacturing method of the master for optical information recording medium manufacture of embodiment by this invention. 本発明による実施の形態の光学情報記録媒体製造用原盤の製造方法を説明するための概略部分断面図である。It is a general | schematic fragmentary sectional view for demonstrating the manufacturing method of the master for optical information recording medium manufacture of embodiment by this invention. 本発明による実施の形態の光学情報記録媒体製造用原盤の製造方法を説明するための概略部分断面図である。It is a general | schematic fragmentary sectional view for demonstrating the manufacturing method of the master for optical information recording medium manufacture of embodiment by this invention. 本発明による実施例1の1−7変調ランダムパターン記録されたガラス原盤のSEM写真である。It is a SEM photograph of the glass original disc by which 1-7 modulation random pattern recording of Example 1 by this invention was recorded. 本発明による実施例1の単一マークスペース記録されたガラス原盤のSEM写真である。It is a SEM photograph of the glass original disc by which single mark space recording of Example 1 by the present invention was recorded. 本発明による実施例2の1−7変調のランダムパターン記録されたガラス原盤のSEM写真である。It is a SEM photograph of the glass master disc on which 1-7 modulation random pattern recording of Example 2 by the present invention was recorded. 比較例の1−7変調ランダムパターン記録されたガラス原盤のSEM写真である。It is a SEM photograph of the glass original disc by which 1-7 modulation random pattern recording of the comparative example was carried out. 比較例の単一マークスペース記録されたガラス原盤のSEM写真である。It is a SEM photograph of the glass original disc by which single mark space recording of the comparative example was carried out. 本発明による実施の形態の第2例に係る光学情報記録媒体製造用の原盤を示す概略部分断面図である。It is a general | schematic fragmentary sectional view which shows the original disc for optical information recording medium manufacture concerning the 2nd example of embodiment by this invention.

符号の説明Explanation of symbols

11 原盤
12 基板
14 記録補助層
16 感熱層
18 記録層
141 放熱層
142 光吸収層
LB レーザビーム
laM 潜像
CM 導電膜
11 Master 12 Substrate 14 Recording auxiliary layer 16 Heat sensitive layer 18 Recording layer 141 Heat radiation layer 142 Light absorption layer LB Laser beam
laM latent image
CM conductive film

Claims (13)

基板と、前記基板上に接して設けられた記録補助層及び感熱層の積層体を含む記録層と、を有する光学情報記録媒体製造用の原盤であって、
前記感熱層は露光で状態変化を起こす母材を含み、前記記録補助層が露光に使用する波長の光を吸収すると共に前記基板の熱伝導率よりも高い熱伝導率を有する材料からなることを特徴とする光学情報記録媒体製造用の原盤。
A master for manufacturing an optical information recording medium, comprising: a substrate; and a recording layer including a laminate of a recording auxiliary layer and a thermosensitive layer provided in contact with the substrate,
The heat-sensitive layer includes a base material that undergoes a state change upon exposure, and the recording auxiliary layer is made of a material that absorbs light having a wavelength used for exposure and has a thermal conductivity higher than that of the substrate. A master for producing optical information recording media.
前記記録補助層が、前記基板側に設けられ前記基板の熱伝導率よりも高い熱伝導率を有する放熱層と、前記感熱層側に設けられ、露光に使用する波長の光を吸収する光吸収層とを含むことを特徴とする請求項1記載の光学情報記録媒体製造用の原盤。   The recording auxiliary layer is provided on the substrate side and has a heat dissipation layer having a thermal conductivity higher than that of the substrate, and the light absorption layer provided on the heat sensitive layer side and absorbs light having a wavelength used for exposure. The master for manufacturing an optical information recording medium according to claim 1, further comprising a layer. 前記放熱層が、Ag、Al、Au、Cuうちの少なくとも1つを主成分とする合金からなることを特徴とする請求項2記載の光学情報記録媒体製造用の原盤。   3. The master for manufacturing an optical information recording medium according to claim 2, wherein the heat dissipation layer is made of an alloy containing at least one of Ag, Al, Au, and Cu as a main component. 前記光吸収層が、Sb、Si、Ge、Snのうちの少なくとも1つを主成分として含むことを特徴とする請求項2または3記載の光学情報記録媒体製造用の原盤。   4. The master for producing an optical information recording medium according to claim 2, wherein the light absorption layer contains at least one of Sb, Si, Ge, and Sn as a main component. 前記記録補助層が、Ag、Al、Au、Cuのうちの少なくとも1つを主成分とすることを特徴とする請求項1記載の光学情報記録媒体製造用の原盤。   2. The master for producing an optical information recording medium according to claim 1, wherein the recording auxiliary layer contains at least one of Ag, Al, Au, and Cu as a main component. 前記感熱層が、硫化物と、シリコン酸化物、ジルコン酸化物、ニオブ酸化物の群から選ばれる少なくとも1つと、の混合物であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1に記載の光学情報記録媒体製造用の原盤。   The heat-sensitive layer is a mixture of a sulfide and at least one selected from the group of silicon oxide, zircon oxide, and niobium oxide, according to any one of claims 1 to 5. Master for manufacturing optical information recording media. 前記感熱層が、ZnS−SiOからなり、SiOが5〜30mol%含まれていることを特徴とする請求項6記載の光学情報記録媒体製造用の原盤。 The master for manufacturing an optical information recording medium according to claim 6, wherein the heat-sensitive layer is made of ZnS-SiO 2 and contains 5 to 30 mol% of SiO 2 . 前記基板が、ガラス、SiC、GaN、AlN及びSiのいずれか1つからなることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1に記載の光学情報記録媒体製造用の原盤。   The master for producing an optical information recording medium according to any one of claims 1 to 7, wherein the substrate is made of any one of glass, SiC, GaN, AlN, and Si. 前記感熱層が露光され現像された後の前記感熱層を覆うアルカリ可溶な膜を備えることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1に記載の光学情報記録媒体製造用の原盤。   The master for producing an optical information recording medium according to claim 1, further comprising an alkali-soluble film that covers the heat-sensitive layer after the heat-sensitive layer is exposed and developed. 前記金属材料膜の前記共通する金属は、同一のアルカリまたは酸への接触による処理で溶解される金属であることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1に記載の光学情報記録媒体製造用の原盤。   The optical information recording medium production according to any one of claims 1 to 8, wherein the common metal of the metal material film is a metal that is dissolved by a treatment by contact with the same alkali or acid. Master. 基板と、前記基板上に接して設けられた記録補助層及び感熱層の積層体を含む記録層と、を有し、前記感熱層が露光で状態変化を起こす母材を含み、前記記録補助層が露光に使用する波長の光を少なくとも吸収する材料からなる光学情報記録媒体製造用の原盤の製造方法であって、
前記原盤の前記感熱層側から入射し前記記録補助層を照射露光する工程と、
露光した前記原盤を現像し、凸パターン構造体を形成する現像工程と、
前記凸パターン構造体上をメッキ処理して、金属原盤を形成する電鋳工程と、
前記金属原盤を前記露光した原盤11から剥離する電鋳工程と、を含み、
前記電鋳工程において、前記感熱層が露光され現像された後の前記凸パターン構造体を覆う金属材料膜を形成する工程と、を含むこと、
前記金属材料膜が前記記録補助層の材料と可溶性の共通する金属を含み、剥離後の後処理において、前記感熱層及び前記金属材料膜を一括して除去すること、を特徴とする光学情報記録媒体製造用の原盤の製造方法。
A recording layer including a substrate, and a recording auxiliary layer provided on and in contact with the substrate, and a recording layer including a heat sensitive layer, wherein the heat sensitive layer includes a base material that undergoes a state change upon exposure, and the recording auxiliary layer Is a method of manufacturing a master for manufacturing an optical information recording medium made of a material that absorbs at least light having a wavelength used for exposure,
Incident from the heat sensitive layer side of the master and irradiating and exposing the recording auxiliary layer; and
Developing the exposed master, and forming a convex pattern structure; and
An electroforming step of plating the convex pattern structure to form a metal master;
An electroforming step of peeling the metal master from the exposed master 11,
Forming a metal material film covering the convex pattern structure after the heat-sensitive layer is exposed and developed in the electroforming step,
The optical information recording, wherein the metal material film contains a common metal that is soluble with the material of the recording auxiliary layer, and the heat-sensitive layer and the metal material film are collectively removed in post-treatment after peeling. A method for producing a master for producing a medium.
前記金属材料膜の前記可溶性の共通する金属は、同一金属であることを特徴とする請求項11記載の光学情報記録媒体製造用の原盤の製造方法。   12. The method of manufacturing a master for manufacturing an optical information recording medium according to claim 11, wherein the soluble common metals of the metal material film are the same metal. 前記金属材料膜の前記可溶性の共通する金属は、同一のアルカリまたは酸への接触による処理で溶解される金属であることを特徴とする請求項11記載の光学情報記録媒体製造用の原盤の製造方法。   12. The production of a master for producing an optical information recording medium according to claim 11, wherein the soluble common metal of the metal material film is a metal which is dissolved by a treatment by contact with the same alkali or acid. Method.
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