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JP2009241300A - Process-less photosensitive lithographic printing plate - Google Patents

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Publication number
JP2009241300A
JP2009241300A JP2008088369A JP2008088369A JP2009241300A JP 2009241300 A JP2009241300 A JP 2009241300A JP 2008088369 A JP2008088369 A JP 2008088369A JP 2008088369 A JP2008088369 A JP 2008088369A JP 2009241300 A JP2009241300 A JP 2009241300A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
polymer
water
photosensitive layer
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008088369A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideo Seiyama
日出男 清山
Ryota Awa
亮太 阿波
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Paper Mills Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Paper Mills Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Paper Mills Ltd filed Critical Mitsubishi Paper Mills Ltd
Priority to JP2008088369A priority Critical patent/JP2009241300A/en
Publication of JP2009241300A publication Critical patent/JP2009241300A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

【課題】高湿度の環境下で長期保存をしても感光層と裏塗り層が張り付いたり、感光層が剥がれる事がなく、更に裏からの光の反射、散乱による画質の低下が改善されたプロセスレス平版印刷版を提供する事である。
【解決手段】プラスチックフィルム支持体上に親水性層と、側鎖にビニル基が置換したフェニル基を有するカチオン性水溶性重合体または側鎖にビニル基が置換したフェニル基及びスルホン酸基を含有する水溶性重合体と、光重合開始剤または光酸発生剤を含有する感光層を少なくともこの順に有し、プラスチックフィルム支持体の該感光層を有する側の反対側の面に金属酸化物とカーボンブラックを含有する裏塗り層を有するプロセスレス感光性平版印刷版。
【選択図】なし
[PROBLEMS] To prevent the photosensitive layer and the backing layer from sticking or peeling off even when stored for a long time in a high humidity environment, and further, the deterioration of image quality due to reflection and scattering of light from the back is improved. Processless planographic printing plates.
SOLUTION: A hydrophilic layer and a cationic water-soluble polymer having a phenyl group substituted with a vinyl group on a side chain or a phenyl group substituted with a vinyl group on a side chain and a sulfonic acid group on a plastic film support. A water-soluble polymer and a photosensitive layer containing a photopolymerization initiator or photoacid generator in at least this order, and a metal oxide and carbon on the surface of the plastic film support opposite to the side having the photosensitive layer Processless photosensitive lithographic printing plate having a backing layer containing black.
[Selection figure] None

Description

本発明はプラスチックフィルムを支持体とし、支持体上に親水性層及び、感光層を少なくともこの順に有するプロセスレス平版印刷版に関する。特に、露光した後に水現像可能な、もしくは露光した後に印刷機に装着して、インキと湿し水の版面への供給により非画像部を取り去るプロセスレス感光性平版印刷版に関する。   The present invention relates to a processless lithographic printing plate having a plastic film as a support, and having a hydrophilic layer and a photosensitive layer at least in this order on the support. In particular, the present invention relates to a processless photosensitive lithographic printing plate that can be developed with water after exposure, or is mounted on a printing press after exposure to remove non-image areas by supplying ink and dampening water to the plate surface.

製版システムのデジタル化に伴い、コンピュータ画面上で組版したデータを直接平版印刷版に出力する、コンピュータートゥープレートシステム(CTPシステムと呼ぶ)に適した印刷版の需要が高まっている。特に、デジタル機器の近くで従来の印刷版では通常行われていた特殊な薬品を使用した現像システムから、水による現像又は印刷機上で現像できる、プロセスレス感光性平版印刷版、或いは熱による相転移やインクジェットを利用した現像処理工程の全くない、感光性ではないプロセスレス平版印刷版が注目されている。   With the digitization of the plate making system, there is an increasing demand for a printing plate suitable for a computer-to-plate system (referred to as a CTP system) that directly outputs data formatted on a computer screen to a planographic printing plate. In particular, a processless photosensitive lithographic printing plate that can be developed with water or developed on a printing press from a development system that uses special chemicals normally used in conventional printing plates near a digital device, or a thermal phase. Non-photosensitive processless lithographic printing plates which have no development process using transfer or ink jet have attracted attention.

これらのCTPシステムに於いては、特殊な現像用薬品を使用しないために、処理薬品コストがかからない、或いは廃液処理コストが安く済むと同時に環境負荷低減のメリットを持つ。更に、プラスチックフィルム支持体の印刷システムは、ロール供給が可能な上、アルミ支持体の印刷版に比べて軽く、取り扱いがしやすいという利点がある。   In these CTP systems, since no special developing chemical is used, processing chemical costs are not required, or waste liquid processing costs are reduced, and at the same time, there is a merit of reducing environmental load. Furthermore, the printing system for the plastic film support is advantageous in that it can be supplied in rolls and is lighter and easier to handle than the printing plate on the aluminum support.

これらのCTPシステムとしては、例えば、ワックスを塗布した印刷版に対してサーマルヘッドや高出力近赤外半導体レーザーによって画像部のワックスを溶かし、これが親油性の画像部となり、ワックスの溶解していない部分が親水性となるプロセスレス平版印刷版、熱によって画像形成層を溶融固着させ、固着していない部分を水又は印刷機上で除去するプロセスレス平版印刷版、或いはインクジェットヘッドで親油性物質を画像状に版面表面に印字するプロセスレス平版印刷版などが知られている。   As these CTP systems, for example, the wax in the image area is melted with a thermal head or a high-power near-infrared semiconductor laser to a printing plate coated with wax, and this becomes an oleophilic image area, and the wax is not dissolved. Processless lithographic printing plate in which the part becomes hydrophilic, processless lithographic printing plate in which the image forming layer is melted and fixed by heat, and the non-fixed part is removed with water or a printing machine, or an oleophilic substance is removed with an inkjet head Processless planographic printing plates that print on the plate surface in an image form are known.

インクジェット方式で版面に親油性物質を画像状に印字するプロセスレス平版印刷版としては、特開2007−144823号公報に記載されている様に、硫酸エステル基を有するポリマーと金属酸化物を含有する親水性層を設けたプロセスレス平版印刷版が開示されている。特開2000−158839号公報ではアクリル樹脂とコロイダルシリカを一定の割合で支持体上に塗布して加熱する事によって親水性層を設けたプロセスレス平版印刷版が開示されている。   As described in JP-A-2007-144823, the processless lithographic printing plate for printing an oleophilic substance on the plate surface in an image form by an ink jet method contains a polymer having a sulfate ester group and a metal oxide. A processless lithographic printing plate provided with a hydrophilic layer is disclosed. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-158839 discloses a processless lithographic printing plate in which an acrylic resin and colloidal silica are coated on a support at a certain ratio and heated to provide a hydrophilic layer.

熱溶融性の平版印刷版としては、特開2006−281470号公報に記載されているように、熱により疎水性になる層と、その上に平均分子量1万以上のポリアクリル酸が含有する親水性層を有するプロセスレス平版印刷版が開示されている。   As described in JP-A-2006-281470, as a hot-melt lithographic printing plate, a hydrophilic layer containing a layer that becomes hydrophobic by heat and a polyacrylic acid having an average molecular weight of 10,000 or more is formed thereon. A processless lithographic printing plate having a conductive layer is disclosed.

また熱によって画像形成層を架橋反応させるプロセスレス平版印刷版としては、特開2005−238527号公報のように、光熱変換剤を含む画像形成層を支持体の上に塗布し、その上に、親水性層を塗布し、赤外線で露光した箇所の親水層を、水又は機上現像で除去する方法が開示されている。   In addition, as a processless lithographic printing plate in which an image forming layer is subjected to a crosslinking reaction by heat, as in JP-A-2005-238527, an image forming layer containing a photothermal conversion agent is applied on a support, A method is disclosed in which a hydrophilic layer is applied and the hydrophilic layer exposed at infrared rays is removed by water or on-machine development.

更に、特定の波長の光に感光性を有する光重合性感光層を親水層の上に設け、露光後に水現像或いは機上現像によって未露光部を除去する方法がある。このような感光層を得るための光重合性組成物としては特開2003−215801号公報(特許文献1)に記載される。同公報によれば、プラスチックフィルム支持体上に、親水性層を設け、その上に、側鎖にビニル基が置換したフェニル基を有するカチオン性水溶性重合体又は、側鎖にビニル基が置換したフェニル基及びスルホン酸塩基を有する水溶性重合体、及び光重合開始剤又は酸発生剤を含有する事を特徴とする感光層を塗布する事で、露光とそれに続く水現像によって、未露光部が除去され、親油性の画像部及び、親水性層の非画像部を形成する事が出来る。   Further, there is a method in which a photopolymerizable photosensitive layer having photosensitivity to light of a specific wavelength is provided on a hydrophilic layer, and an unexposed portion is removed by water development or on-machine development after exposure. A photopolymerizable composition for obtaining such a photosensitive layer is described in JP-A No. 2003-215801 (Patent Document 1). According to the publication, a hydrophilic layer is provided on a plastic film support, and a cationic water-soluble polymer having a phenyl group with a vinyl group substituted on the side chain, or a vinyl group substituted on the side chain. By applying a photosensitive layer characterized by containing a water-soluble polymer having a phenyl group and a sulfonate group, and a photopolymerization initiator or an acid generator, an unexposed portion can be obtained by exposure and subsequent water development. Is removed, and a lipophilic image portion and a non-image portion of the hydrophilic layer can be formed.

上記光重合性感光層を用いると、例えば熱による画像形成方法と比較して低いエネルギーで画像を得る事が出来るという利点がある。更に、インクジェットと比較して、高精細な画質の刷版、更にはこれを使用する事により高画質の印刷物を得る事が出来る。   The use of the photopolymerizable photosensitive layer has an advantage that an image can be obtained with lower energy compared to, for example, an image forming method using heat. Furthermore, it is possible to obtain a high-definition printing plate as compared with an ink jet, and further to obtain a high-quality printed matter by using this.

しかしながら、上記光重合性感光層は、水溶性の高い重合体を含有する為に、吸湿性が高く、高湿度条件下で保存すると、例えばロールの形で保存したり、シート状で保存する場合、感光層と支持体が接着したり、支持体に感光層が転写するという問題がある。通常、支持体を有する感光層を有する側の反対面は、印刷版を印刷機の胴に巻き付けて使用する際に位置合わせの微調整をしやすくするために裏塗り層に微粒子を添加して印刷機の胴に対して滑りやすくしたり、或いは静電気を発生しにくくする為に裏塗り層に導電性物質を添加したりするが、高湿度の環境下で長期保存した場合、感光層と裏塗り層が張り付いたりまたこれに伴い感光層が剥がれるという問題があった。   However, since the photopolymerizable photosensitive layer contains a highly water-soluble polymer, it is highly hygroscopic, and when stored under high humidity conditions, for example, in the form of a roll or in the form of a sheet There is a problem that the photosensitive layer and the support adhere to each other or the photosensitive layer is transferred to the support. Usually, the opposite side of the side having the photosensitive layer having the support is added with fine particles in the backing layer in order to facilitate fine adjustment of the alignment when the printing plate is wound around the cylinder of the printing press. A conductive material is added to the backing layer to make it slippery with respect to the cylinder of the printing press, or to prevent static electricity from being generated. There is a problem that the coating layer sticks and the photosensitive layer peels off.

更に、プラスチックフィルム支持体の多くはアルミニウム支持体と異なり、光透過性を少なからずとも有するため、該プラスチックフィルム支持体上に親水性層を設け、感光層を更に設けた場合、露光時に、裏からの光の反射、散乱により得られる画像の画質が悪くなるという問題が有る。
特開2003−215801号公報
Furthermore, since most plastic film supports are different from aluminum supports in that they have at least a light transmission property, when a hydrophilic layer is provided on the plastic film support and a photosensitive layer is further provided, the back side is exposed during exposure. There is a problem that the image quality of the image obtained by the reflection and scattering of light from the light deteriorates.
JP 2003-215801 A

本発明の目的は、高湿度の環境下で長期保存をしても感光層と裏塗り層が張り付いたり、感光層が剥がれる事がなく、更に裏からの光の反射、散乱による画質の低下が改善されたプロセスレス平版印刷版を提供する事である。   The object of the present invention is to prevent the photosensitive layer and the backing layer from sticking or peeling off even if stored for a long time in a high humidity environment, and further to reduce the image quality due to light reflection and scattering from the back side. Is to provide an improved processless lithographic printing plate.

本発明は以下の発明により達成された。
プラスチックフィルム支持体上に親水性層と、側鎖にビニル基が置換したフェニル基を有するカチオン性水溶性重合体または側鎖にビニル基が置換したフェニル基及びスルホン酸基を含有する水溶性重合体、及び光重合開始剤又は光酸発生剤を含有する感光層を少なくともこの順に有し、プラスチックフィルム支持体の該感光層を有する側の反対側の面に金属酸化物とカーボンブラックを含有する裏塗り層を有するプロセスレス感光性平版印刷版。
The present invention has been achieved by the following invention.
Water-soluble polymer containing a hydrophilic layer on a plastic film support and a cationic water-soluble polymer having a phenyl group substituted with a vinyl group on the side chain or a phenyl group substituted with a vinyl group on the side chain and a sulfonic acid group And a photosensitive layer containing at least a photopolymerization initiator or a photoacid generator in this order, and containing a metal oxide and carbon black on the surface of the plastic film support opposite to the side having the photosensitive layer. Processless photosensitive lithographic printing plate with a backing layer.

本発明により、高湿度の環境下で長期保存をしても感光層と裏塗り層が張り付いたり、感光層が表から剥がれる事がなく、更に裏からの光の反射、散乱による画質の低下が改善されたプロセスレス平版印刷版を提供する事が出来る。   According to the present invention, there is no sticking of the photosensitive layer and the backing layer even when stored for a long time in a high humidity environment, and the photosensitive layer is not peeled off from the front surface. Further, the image quality is deteriorated due to reflection and scattering of light from the back side. Can provide an improved processless planographic printing plate.

本発明において金属酸化物の金属とは、金属及び半金属を含むものであり、例えばナトリウム、マグネシウム、アルミニウム、カリウム、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、ニッケル、銅、亜鉛、ストロンチウム、ジルコニウム、モリブデン、錫、インジウム、バリウムが挙げられる。   In the present invention, the metal of the metal oxide includes metals and metalloids, such as sodium, magnesium, aluminum, potassium, titanium, vanadium, chromium, manganese, iron, nickel, copper, zinc, strontium, zirconium, Examples include molybdenum, tin, indium, and barium.

かかる金属酸化物としては、例えばMgO、Al23、TiO2、V25、ZnO、ZrO2、MoO3、SnO2、In23、BaTiO3、SrTiO3が好適に挙げられる。中でもAl2O3、TiO2が好ましい。これらの金属酸化物は、例えば市販品として、アルミナ(例えば日本軽金属(株)社製のA32、A33Fなど、住友化学(株)社製AES11、AES−12、AES−23など、昭和電工社製A−43M、A−50Kなど)、酸化チタン(例えば石原産業(株)社製のR−780、R−830、CR−50、富士チタン工業(株)社製のTA100、TA200、TA300)等の微粒子が挙げられる。 Suitable examples of such metal oxides include MgO, Al 2 O 3 , TiO 2 , V 2 O 5 , ZnO, ZrO 2 , MoO 3 , SnO 2 , In 2 O 3 , BaTiO 3 , and SrTiO 3 . Of these, Al2O3 and TiO2 are preferable. These metal oxides are, for example, commercially available products such as alumina (for example, A32 and A33F manufactured by Nippon Light Metal Co., Ltd., AES11, AES-12 and AES-23 manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., manufactured by Showa Denko KK A-43M, A-50K, etc.), titanium oxide (for example, R-780, R-830, CR-50 manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., TA100, TA200, TA300 manufactured by Fuji Titanium Industrial Co., Ltd.), etc. Fine particles.

これらの金属酸化物は、単独で用いる事も、2種以上を併用する事も出来る。2種以上を併用する場合、これらの混合物の微粒子として添加する事も出来る。   These metal oxides can be used alone or in combination of two or more. When using 2 or more types together, it can also be added as fine particles of these mixtures.

上記混合物の微粒子として、金属酸化物のうち1種以上を組成に含む天然鉱物微粒子も好適に用いられる。例えばカオリン(主成分:SiO2、Al23、及びH2O)、パミス(主成分:SiO2、Al23)、タルク(主成分:SiO2、MgO)が挙げられる。 As the fine particles of the above mixture, natural mineral fine particles containing at least one of metal oxides in the composition are also preferably used. Examples thereof include kaolin (main components: SiO 2 , Al 2 O 3 , and H 2 O), pumice (main components: SiO 2 , Al 2 O 3 ), and talc (main components: SiO 2 , MgO).

本発明で用いる金属酸化物の平均粒径は0.01〜30μmであるのが好ましく、0.1〜5μmで有るのが好ましい。また、裏塗り層中の金属酸化物の含有量は裏塗り層が含有する全固形分に対して10〜60質量%で有るのが好ましく、20〜50質量%がより好ましい。   The average particle size of the metal oxide used in the present invention is preferably from 0.01 to 30 μm, and preferably from 0.1 to 5 μm. Moreover, it is preferable that it is 10-60 mass% with respect to the total solid content which a backing layer contains, and, as for content of the metal oxide in a backing layer, 20-50 mass% is more preferable.

また、金属酸化物は、必要に応じて種々の表面処理が施されていても良い。表面処理は、例えばケイ酸アルカリ水溶液等による親水化処理、界面活性剤による分散安定化等から、目的に応じ適宜選択する事が出来る。   In addition, the metal oxide may be subjected to various surface treatments as necessary. The surface treatment can be appropriately selected according to the purpose from, for example, a hydrophilic treatment with an alkali silicate aqueous solution, a dispersion stabilization with a surfactant, and the like.

本発明の裏塗り層は、上述した金属酸化物に加え、金属酸化物を安定に分散させ、又、塗布後は、摩擦等で上記金属酸化物が支持体から取れてしまうのを防ぐためにバインダーを含有するのが好ましい。かかるバインダーとしては、アクリル樹脂、ビニル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂等の合成高分子化合物や、アラビアガム、デンプン、ゼラチン等の天然高分子化合物が挙げられる。また、本発明ではこれらが水、有機溶剤等の溶媒に分散させたエマルジョンであってもよい。本発明で用いるバインダーとしては、ゼラチンが好適に使用される。   The backing layer of the present invention is a binder for stably dispersing the metal oxide in addition to the above-described metal oxide and preventing the metal oxide from being removed from the support by friction after coating. It is preferable to contain. Examples of the binder include synthetic polymer compounds such as acrylic resin, vinyl resin, polyurethane resin, and polyester resin, and natural polymer compounds such as gum arabic, starch, and gelatin. In the present invention, these may be emulsions dispersed in a solvent such as water or an organic solvent. As the binder used in the present invention, gelatin is preferably used.

本発明の裏塗り層としてゼラチンを用いる場合、他の上記合成或いは天然高分子化合物やエマルジョンを併用して用いる事も出来る。更に、裏塗り層は、架橋剤を含有する事が望ましい。架橋剤としては、例えばクロムミョウバンのような無機化合物、ホルマリン、グリオキザール、マレアルデヒド、グルタルアルデヒドのようなアルデヒド類、尿素やエチレン尿素等のN−メチロール化合物、ムコクロル酸、2,3−ジヒドロキシ−1,4−ジオキサン、2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリアジン塩や、2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリアジン塩のような活性ハロゲンを有する化合物、ジビニルスルホン、ジビニルケトンやN,N,N−トリアクロイルヘキサヒドロトリアジン、活性な3員環であるエチレンイミノ基やエポキシ基を分子内に2個以上有する化合物類、高分子硬膜剤としてのジアルデヒド澱粉等の種々の化合物を1種もしくは2種以上を用いる事が出来る。   When gelatin is used as the backing layer of the present invention, other synthetic or natural polymer compounds or emulsions can be used in combination. Further, the backing layer preferably contains a cross-linking agent. Examples of the crosslinking agent include inorganic compounds such as chrome alum, aldehydes such as formalin, glyoxal, malealdehyde and glutaraldehyde, N-methylol compounds such as urea and ethyleneurea, mucochloric acid, and 2,3-dihydroxy-1 , 4-dioxane, 2,4-dichloro-6-hydroxy-s-triazine salt, compounds having active halogen such as 2,4-dichloro-6-hydroxy-s-triazine salt, divinyl sulfone, divinyl ketone, Various compounds such as N, N, N-triacroylhexahydrotriazine, compounds having two or more active three-membered ethyleneimino groups and epoxy groups in the molecule, and dialdehyde starch as a polymer hardener These compounds can be used alone or in combination of two or more.

裏塗り層中のバインダーの含有量は裏塗り層が含有する全固形分に対して、5〜60質量%であるのが好ましく、10〜50質量%がより好ましい。上記範囲であれば、表面の粗さが適度に保たれ、更に上述の金属酸化物が裏塗り層表面に現れるので、感光層が裏塗り層に張り付く事が無い。   The content of the binder in the backing layer is preferably 5 to 60% by mass and more preferably 10 to 50% by mass with respect to the total solid content contained in the backing layer. If it is the said range, since the roughness of the surface is kept moderate and the above-mentioned metal oxide appears on the surface of the backing layer, the photosensitive layer does not stick to the backing layer.

更に、本発明の裏塗り層は、カーボンブラックを含有する。かかるカーボンブラックは粒子径、ストラクチャー、表面形状に特に制限はないが、粒子径が小さく、分散性の良好なものが隠蔽力が高くなるため好ましく使用される。但し、添加量が多いと印刷面の画像部の視認性が低下する場合があるため、必要最低限の添加量がよい。具体的には、粒子径5〜100nmのカーボンブラックを0.1〜5質量%、好ましくは1〜4質量%の量で裏塗り層に含有させる事が好ましい。   Further, the backing layer of the present invention contains carbon black. Such carbon black is not particularly limited in particle size, structure, and surface shape, but those having a small particle size and good dispersibility are preferably used because of high hiding power. However, if the addition amount is large, the visibility of the image area on the printed surface may be lowered, so the minimum necessary addition amount is good. Specifically, carbon black having a particle diameter of 5 to 100 nm is preferably contained in the backing layer in an amount of 0.1 to 5% by mass, preferably 1 to 4% by mass.

裏塗り層は更に、様々な添加剤を適宜添加する事が出来る。着色のための染料や顔料、塗布性を良好にするためのアニオン性、もしくはカチオン性の界面活性剤や、滑り性を良くする為に油脂化合物を添加する事ができる。   Further, various additives can be appropriately added to the backing layer. A dye or pigment for coloring, an anionic or cationic surfactant for improving coatability, and an oil or fat compound for improving slipperiness can be added.

本発明の裏塗り層の厚さは0.5〜10μmが好ましく、1〜5μmがより好ましい。   The thickness of the backing layer of the present invention is preferably 0.5 to 10 μm, more preferably 1 to 5 μm.

本発明のプロセスレス平版印刷版は支持体上に親水性層を有しその上に感光層を有する。本発明に用いる親水性層とは、具体的には親水性ポリマー及び親水性無機微粒子を含有し、更に、親水性ポリマーを架橋剤で架橋する事で、親水性層の支持体との接着を確保し、更に、印刷に対する強度を保たせる事が出来る。親水性層を構成する親水性ポリマーは、少なくとも親水性を有するモノマーと架橋剤と架橋反応をする事が出来るモノマーとの共重合体を用いる事が好ましい。親水性を与える為のモノマーとしては、アニオン性、カチオン性等のイオン性を有するモノマーが挙げられる。具体的には、ビニルスルホン酸、アリルスルホン酸、メタリルスルホン酸、スチレンスルホン酸、2−スルホエチルメタクリレート、3−スルホプロピルメタクリレート、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸等のスルホ基含有モノマー及びこれらの塩、ビニルホスホン酸等のリン酸基含有モノマー及びこれらの塩、塩化ジメチルジアリルアンモニウム、塩化2−トリメチルアンモニウムエチルアクリレート、塩化2−トリメチルアンモニウムエチルメタクリレート、塩化2−トリエチルアンモニウムエチルアクリレート、塩化2−トリエチルアンモニウムエチルメタクリレート、塩化3−トリメチルアンモニウムプロピルアクリルアミド、3−ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、塩化N,N、N−トリメチル−N−(4−ビニルベンジル)アンモニウム等の4級アンモニウム塩、アクリルアミド、メタクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジメチルメタクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、N−イソプロピルメタクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド類、メタクリル酸メトキシジエチレングリコールモノエステル、メタクリル酸メトキシポリエチレングリコールモノエステル、メタクリル酸ポリプロピレングリコールモノエステル等のアルキレンオキシ基含有(メタ)アクリレート類、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。   The processless lithographic printing plate of the present invention has a hydrophilic layer on a support and a photosensitive layer thereon. Specifically, the hydrophilic layer used in the present invention contains a hydrophilic polymer and hydrophilic inorganic fine particles, and further, the hydrophilic polymer is cross-linked with a cross-linking agent to thereby adhere the hydrophilic layer to the support. It is possible to secure the strength against printing. As the hydrophilic polymer constituting the hydrophilic layer, it is preferable to use a copolymer of at least a monomer having hydrophilicity and a monomer capable of undergoing a crosslinking reaction with a crosslinking agent. Examples of the monomer for imparting hydrophilicity include anionic, cationic and other ionic monomers. Specifically, sulfo group-containing monomers such as vinyl sulfonic acid, allyl sulfonic acid, methallyl sulfonic acid, styrene sulfonic acid, 2-sulfoethyl methacrylate, 3-sulfopropyl methacrylate, and 2-acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid And salts thereof, phosphate group-containing monomers such as vinylphosphonic acid and salts thereof, dimethyldiallylammonium chloride, 2-trimethylammonium chloride, 2-trimethylammonium chloride, 2-triethylammonium chloride, chloride 2-triethylammonium ethyl methacrylate, 3-trimethylammonium propylacrylamide chloride, 3-dimethylaminopropylmethacrylamide, N, N, N-trimethyl-N-chloride (Meth) such as quaternary ammonium salts such as 4-vinylbenzyl) ammonium, acrylamide, methacrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N, N-dimethylmethacrylamide, N, N-diethylacrylamide, N-isopropylmethacrylamide Examples include acrylamides, alkyleneoxy group-containing (meth) acrylates such as methacrylic acid methoxydiethylene glycol monoester, methacrylic acid methoxypolyethylene glycol monoester, and methacrylic acid polypropylene glycol monoester, N-vinylpyrrolidone, and N-vinylcaprolactam. It is not limited to these.

架橋剤と架橋反応するモノマーとしては、カルボキシル基、アミノ基、水酸基、及びアセトアセトキシ基を有するモノマーが挙げられ、特に好ましい例は、カルボキシル基、アミノ基、水酸基が挙げられる。これらの反応性基を分子内に有する親水性ポリマーを得るには、該反応性基を有する各種モノマーを共重合する形で組み込む事が好ましく行われる。かかるモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、2−カルボキシエチルアクリレート、2−カルボキシエチルメタクリレート、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、桂皮酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸モノアルキルエステル、4−カルボキシスチレン、アクリルアミド−N−グリコール酸等のカルボキシル基含有モノマー及びこれらの塩、アリルアミン、ジアリルアミン、2−ジメチルアミノエチルアクリレート、2−ジメチルアミノエチルメタクリレート、2−ジエチルアミノエチルアクリレート、3−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、3−ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、4−アミノスチレン、4−アミノメチルスチレン、N,N−ジメチル−N−(4−ビニルベンジル)アミン、N,N−ジエチル−N−(4−ビニルベンジル)アミン等のアミノ基含有モノマー、4−ビニルピリジン、2−ビニルピリジン、N−ビニルイミダゾール等の含窒素複素環含有モノマー、N−メチロールアクリルアミド、4−ヒドロキシフェニルアクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド類、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、グリセロールモノメタクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類及びアセトアセトキシメタクリレート等が挙げられる。好ましい親水性ポリマーの例を下記に示す。   Examples of the monomer that undergoes a crosslinking reaction with the crosslinking agent include monomers having a carboxyl group, an amino group, a hydroxyl group, and an acetoacetoxy group, and particularly preferred examples include a carboxyl group, an amino group, and a hydroxyl group. In order to obtain a hydrophilic polymer having these reactive groups in the molecule, it is preferable to incorporate various monomers having the reactive groups in a copolymerized form. Such monomers include acrylic acid, methacrylic acid, 2-carboxyethyl acrylate, 2-carboxyethyl methacrylate, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, cinnamic acid, maleic acid monoalkyl ester, fumaric acid monoalkyl ester, Carboxyl group-containing monomers such as 4-carboxystyrene and acrylamide-N-glycolic acid and their salts, allylamine, diallylamine, 2-dimethylaminoethyl acrylate, 2-dimethylaminoethyl methacrylate, 2-diethylaminoethyl acrylate, 3-dimethylamino Propylacrylamide, 3-dimethylaminopropylmethacrylamide, 4-aminostyrene, 4-aminomethylstyrene, N, N-dimethyl-N- (4-vinylbenzyl) amine Amino group-containing monomers such as N, N-diethyl-N- (4-vinylbenzyl) amine, nitrogen-containing heterocycle-containing monomers such as 4-vinylpyridine, 2-vinylpyridine and N-vinylimidazole, N-methylolacrylamide, (Meth) acrylamides such as 4-hydroxyphenylacrylamide, hydroxyalkyl (meth) acrylates such as 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, glycerol monomethacrylate and the like; Examples include acetoacetoxy methacrylate. Examples of preferred hydrophilic polymers are shown below.

Figure 2009241300
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親水性ポリマーの平均分子量は5000〜500000が好ましく、更に、10000〜200000がより好ましい。これより分子量が低い場合、親水性層が水と接触すると溶解したり、剥がれたりする場合がある。又この範囲を超えると、塗液の粘度が高くなり、均一な塗布が不可能になる場合がある。   The average molecular weight of the hydrophilic polymer is preferably 5,000 to 500,000, and more preferably 10,000 to 200,000. When the molecular weight is lower than this, the hydrophilic layer may dissolve or peel off when it comes into contact with water. On the other hand, if it exceeds this range, the viscosity of the coating liquid becomes high and uniform coating may not be possible.

親水性層に用いられる架橋剤としては、エポキシ化合物、オキサゾリン基を有する化合物、イソシアネート基を有する化合物が挙げられる。本発明に用いられるエポキシ化合物は、水又はメタノールやエタノールに可溶なものであり、分子内に親水性基と2個以上のエポキシ基を有するものが好ましい。これらの化合物はナガセケムテックス(株)より「デナコール」の商品名で販売されており、容易に入手できる。   Examples of the crosslinking agent used for the hydrophilic layer include an epoxy compound, a compound having an oxazoline group, and a compound having an isocyanate group. The epoxy compound used in the present invention is soluble in water, methanol or ethanol, and preferably has a hydrophilic group and two or more epoxy groups in the molecule. These compounds are sold by Nagase ChemteX Corporation under the trade name “Denacol” and can be easily obtained.

上記のようなエポキシ化合物と親水性ポリマーとの間で効率的に架橋反応が進行するためには、親水性ポリマー中に含まれる反応性基としては、カルボキシル基やアミノ基が特に好ましい。   In order for the crosslinking reaction to proceed efficiently between the epoxy compound and the hydrophilic polymer as described above, the reactive group contained in the hydrophilic polymer is particularly preferably a carboxyl group or an amino group.

オキサゾリン化合物としては、置換基として下記に示す基を分子内に2個以上含む化合物が好ましく、市販される各種化合物として例えば、(株)日本触媒から「エポクロス」の商品名で提供される各種グレードの化合物が好ましく使用される。こうしたオキサゾリン化合物と該水溶性ポリマーとの間で効率的に架橋反応が進行するためには、親水性ポリマー中に含まれる反応性基としては、カルボキシル基が特に好ましい。   As the oxazoline compound, a compound containing two or more of the following groups as substituents in the molecule is preferable. Examples of commercially available compounds include various grades provided by Nippon Shokubai Co., Ltd. under the trade name “Epocross”. These compounds are preferably used. In order for the crosslinking reaction to proceed efficiently between such an oxazoline compound and the water-soluble polymer, a carboxyl group is particularly preferred as the reactive group contained in the hydrophilic polymer.

Figure 2009241300
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イソシアネート化合物としては、水中で安定である化合物が好ましく、いわゆる自己乳化性イソシアネート化合物や、ブロックイソシアネート化合物が好ましく使用される。自己乳化性イソシアネート化合物としては、例えば、特公昭55−7472号公報(米国特許第3,996,154号明細書)、特開平5−222150号(米国特許第5,252,696号明細書)、特開平9−71720号公報、特開平9−328654号公報、特開平10−60073号公報等に記載されるような自己乳化性イソシアネートを指す。具体的には、例えば、脂肪族或いは脂環族ジイソシアネートから形成される環状三量体骨格のイソシアヌレート構造を分子内に有するポリイソシアネートや、ビュレット構造、ウレタン構造等を分子内に有するポリイソシアネートをベースポリイソシアネートとし、これに片末端エーテル化したポリエチレングリコール等をポリイソシアネート基の内一部のみに付加させて得られる構造のポリイソシアネート化合物が極めて好ましい例として挙げられる。こうした構造のイソシアネート化合物の合成法については上記の明細書中に記載されている。こうしたイソシアネート化合物の具体的な例としては、ヘキサメチレンジイソシアネート等を出発原料とした環状三量化によるポリイソシアネートをベースポリイソシアネートとしたものが市販されており、例えば、旭化成工業株式会社からデユラネートWB40或いはWX1741等の名称で入手可能である。ブロックイソシアネート化合物としては、例えば特開平4−184335号公報、特開平6−175252号公報等に見られるように、重亜硫酸塩、アルコール類、ラクタム類、オキシム類、活性メチレン類などでブロックされたブロックイソシアネートが好ましく用いられる。こうしたイソシアネート化合物と該水溶性ポリマーとの間で効率的に架橋反応が進行するためには、親水性ポリマー中に含まれる反応性基としては、水酸基やアミノ基が特に好ましい。   As the isocyanate compound, a compound that is stable in water is preferable, and a so-called self-emulsifiable isocyanate compound or a blocked isocyanate compound is preferably used. Examples of the self-emulsifying isocyanate compound include Japanese Patent Publication No. 55-7472 (U.S. Pat. No. 3,996,154) and Japanese Patent Laid-Open No. 5-222150 (U.S. Pat. No. 5,252,696). Self-emulsifiable isocyanate as described in JP-A-9-71720, JP-A-9-328654, JP-A-10-60073, and the like. Specifically, for example, a polyisocyanate having an isocyanurate structure of a cyclic trimer skeleton formed from an aliphatic or alicyclic diisocyanate in the molecule, or a polyisocyanate having a burette structure, a urethane structure or the like in the molecule. A very preferable example is a polyisocyanate compound having a structure obtained by adding a polyethylene glycol or the like having one terminal etherification to only a part of the polyisocyanate group as a base polyisocyanate. A method for synthesizing an isocyanate compound having such a structure is described in the above specification. Specific examples of such isocyanate compounds are commercially available in which polyisocyanates obtained by cyclic trimerization using hexamethylene diisocyanate or the like as a starting material are used as base polyisocyanates. And so on. The blocked isocyanate compound is blocked with bisulfite, alcohols, lactams, oximes, active methylenes, etc. as seen in, for example, JP-A-4-184335 and JP-A-6-175252. Blocked isocyanate is preferably used. In order for the crosslinking reaction to proceed efficiently between such an isocyanate compound and the water-soluble polymer, the reactive group contained in the hydrophilic polymer is particularly preferably a hydroxyl group or an amino group.

上記のような種々の架橋剤と親水性ポリマーとの比率に関しては好ましい範囲が存在する。親水性ポリマー100質量部に対して架橋剤は1〜40質量部の範囲で用いる事が好ましい。又、上記記載の種々の架橋剤はいずれも好ましく使用されるが、特に好ましい架橋剤はエポキシ化合物である。   There is a preferred range for the ratio of the various crosslinking agents and hydrophilic polymers as described above. The crosslinking agent is preferably used in the range of 1 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the hydrophilic polymer. Any of the various crosslinking agents described above is preferably used, but a particularly preferred crosslinking agent is an epoxy compound.

親水性層が含有する親水性無機微粒子としては、画像部の接着性を良好にし、かつ非画像部の親水性を高める観点から、コロイダルシリカが好ましく用いられる。本発明に用いられるコロイダルシリカは形状は球形でも良いし、鎖状、或いはパールネックレス状のコロイダルシリカも好ましく用いられる。   As the hydrophilic inorganic fine particles contained in the hydrophilic layer, colloidal silica is preferably used from the viewpoint of improving the adhesiveness of the image area and increasing the hydrophilicity of the non-image area. The colloidal silica used in the present invention may be spherical, or a chain or pearl necklace colloidal silica is also preferably used.

コロイダルシリカはSiO2単体から構成されるものでも良いが、シリカの分散性のpH依存性を変えるためにAl23などで表面を若干修飾したものを用いても良い。又、親水性層の塗液のpHによって、コロイダルシリカのアルカリ分散液、酸性分散液を選択して用いる事が出来る The colloidal silica may be composed of a simple substance of SiO 2 , but it is also possible to use a silica whose surface is slightly modified with Al 2 O 3 or the like in order to change the pH dependency of the dispersibility of silica. Also, depending on the pH of the coating liquid of the hydrophilic layer, an alkali dispersion or an acidic dispersion of colloidal silica can be selected and used.

球状のシリカとしては、例えば日産化学社製の「スノーテックス XS」、スノーテックス S」、「スノーテックス 20」、「MP−2040」、「MP−1040」、「スノーテックス−ZL」などが挙げられる。これらのコロイダルシリカはpHが9以上であるが、酸性の塗液を作成する場合には、Naイオンを脱塩して酸性にした「スノーテックス O」、「スノーテックス−OL」などを用いる事も出来る。鎖状シリカとしては日産化学工業製「スノーテックスUP」、パールネックレス状シリカとしては「スノーテックスPS−S」、「スノーテックスPS−M」が挙げられる。   Examples of the spherical silica include “Snowtex XS”, “Snowtex S”, “Snowtex 20”, “MP-2040”, “MP-1040”, “Snowtex-ZL” manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd. It is done. These colloidal silicas have a pH of 9 or more. However, when creating an acidic coating solution, use “Snowtex O”, “Snowtex-OL”, etc., which is made by demineralizing Na ions to make it acidic. You can also. Examples of the chain silica include “Snowtex UP” manufactured by Nissan Chemical Industries, and examples of the pearl necklace-like silica include “Snowtex PS-S” and “Snowtex PS-M”.

親水性層に含有するコロイダルシリカの量は、親水性ポリマーとコロイダルシリカの質量比が、1:1〜1:4である事が好ましく、更に好ましくは1:1.5〜1:3である。コロイダルシリカは単一の種類を添加しても良いし、2種以上を混合しても良い。混合する場合はコロイダルシリカの全固形分量と本発明のポリマーとの質量比が上記質量比になる事が好ましい。   The amount of colloidal silica contained in the hydrophilic layer is preferably such that the mass ratio of the hydrophilic polymer and colloidal silica is 1: 1 to 1: 4, more preferably 1: 1.5 to 1: 3. . A colloidal silica may add a single kind and may mix two or more sorts. When mixing, it is preferable that the mass ratio of the total solid content of colloidal silica and the polymer of this invention becomes the said mass ratio.

他に、露光時以外の光を遮ったり、ハレーションを防止するために、親水性層は染料や顔料を含有しても良い。更に、酸化チタンや二酸化ケイ素などの無機微粒子を添加する事で表面に凹凸を作り、画像部の密着性を上げたり、非画像部の親水性を改善する事が出来る。   In addition, the hydrophilic layer may contain a dye or a pigment in order to block light other than during exposure or prevent halation. Furthermore, by adding inorganic fine particles such as titanium oxide and silicon dioxide, irregularities can be made on the surface, thereby improving the adhesion of the image area and improving the hydrophilicity of the non-image area.

親水性層は、上述した要素から構成される組成物の塗液を、支持体上に塗布、乾燥して作製される。塗布方法としては、公知の種々の方法を用いる事ができ、例えば、バーコーター塗布、カーテン塗布、ブレード塗布、エアーナイフ塗布、ロール塗布、回転塗布、ディップ塗布等を挙げる事ができる。平版印刷版として使用する場合の感光層自体の厚みに関しては、支持体上に0.3μmから10μmの範囲の乾燥厚みで形成する事が好ましく、更に0.5μmから5μmの範囲である事が好ましい。   The hydrophilic layer is produced by applying and drying a coating liquid of a composition composed of the above-described elements on a support. As the coating method, various known methods can be used, and examples thereof include bar coater coating, curtain coating, blade coating, air knife coating, roll coating, spin coating, and dip coating. Regarding the thickness of the photosensitive layer itself when used as a lithographic printing plate, it is preferably formed on the support with a dry thickness in the range of 0.3 μm to 10 μm, and more preferably in the range of 0.5 μm to 5 μm. .

更に、架橋剤と親水性ポリマーを十分に架橋させるために、感光層を塗設する前に40〜100℃、好ましくは45〜80℃の温度下の条件で12時間〜1週間、好ましくは1日〜5日間保管する事が好ましい。   Further, in order to sufficiently crosslink the cross-linking agent and the hydrophilic polymer, before coating the photosensitive layer, the temperature is 40 to 100 ° C., preferably 45 to 80 ° C. for 12 hours to 1 week, preferably 1 It is preferable to store for 5 days.

本発明の感光層は、側鎖にビニル基が置換したフェニル基を有するカチオン性水溶性重合体(以降、重合体Aと称す)または側鎖にビニル基が置換したフェニル基及びスルホン酸基を含有する水溶性重合体(以降、重合体Bと称す)、及び光重合開始剤又は光酸発生剤を含有する。   The photosensitive layer of the present invention comprises a cationic water-soluble polymer having a phenyl group substituted with a vinyl group in the side chain (hereinafter referred to as polymer A) or a phenyl group and a sulfonic acid group substituted with a vinyl group in the side chain. It contains a water-soluble polymer (hereinafter referred to as polymer B) and a photopolymerization initiator or photoacid generator.

本発明に用いられる重合体Aとは、カチオン性基を有する水溶性ポリマー中の側鎖にビニル基が置換したフェニル基が導入されている重合体を表す。以下に重合体Aについて詳細に説明する。   The polymer A used in the present invention represents a polymer in which a phenyl group substituted with a vinyl group is introduced into a side chain in a water-soluble polymer having a cationic group. Hereinafter, the polymer A will be described in detail.

重合体Aにおけるカチオン性基とは、アンモニウム基、スルホニウム基、ホスホニウム基、ヨードニウム基、オキソニウム基、等の有機オニウム基から選ばれる基であり、これらのうち四級アンモニウム基が最も好ましい。   The cationic group in the polymer A is a group selected from organic onium groups such as an ammonium group, a sulfonium group, a phosphonium group, an iodonium group, and an oxonium group, and among these, a quaternary ammonium group is most preferable.

上述した有機オニウム基を導入した重合体Aは、特公昭55−13020号公報、特開昭55−22766号公報、同平11−153859号公報、同2000−103179号公報、米国特許4,693,958号明細書、同5,512,418号明細書に記載されている従来公知の化学反応を用いて合成する事が出来る。即ち、所望の有機オニウム基を含有するモノマーを重合反応させたり、重合体を構成するポリマー鎖状に導入された三価のN原子、二価のS原子或いは三価のP原子等を、通常のアルキル化反応によって有機オニウム基を導入する方法が挙げられる。更にはアミン類、スルフィド類、ホスフィン類のような求核試薬とポリマー鎖状の脱離基(例えば、スルホン酸エステル類やハロゲン化物)との求核置換反応により、ポリマー主鎖又は側鎖に有機オニウム基を導入する方法も挙げられる。   The above-mentioned polymer A into which an organic onium group has been introduced is disclosed in JP-B-55-13020, JP-A-55-22766, JP-A-11-153859, JP-A-2000-103179, US Pat. No. 4,693. , 958, and 5,512, 418, can be synthesized using a conventionally known chemical reaction. That is, a monomer containing a desired organic onium group is subjected to a polymerization reaction, or a trivalent N atom, a divalent S atom or a trivalent P atom introduced into a polymer chain constituting the polymer is usually used. The method of introduce | transducing an organic onium group by alkylation reaction of these is mentioned. Furthermore, the nucleophilic substitution reaction between a nucleophilic reagent such as amines, sulfides, and phosphines and a polymer chain-like leaving group (for example, sulfonate esters or halides) results in the polymer main chain or side chain. A method of introducing an organic onium group is also mentioned.

重合体Aに於けるビニル基が置換したフェニル基とは、光重合開始剤または光酸発生剤の作用により、光重合反応或いは光り架橋反応に寄与しうる基である。ビニル基が置換したフェニル基は、適当な連結基を介して重合体中に導入されている場合が好ましい。この場合の連結基としては特に限定されず、任意の基、原子またはそれらの複合した基が挙げられる。更に該ビニル基及び該フェニル基は置換基を有していても良い。ビニル基が置換したフェニル基を導入した重合体としては、更に詳細には、下記一般式化(I)で表される基を側鎖に有するものである。   The phenyl group substituted with a vinyl group in the polymer A is a group that can contribute to a photopolymerization reaction or a photocrosslinking reaction by the action of a photopolymerization initiator or a photoacid generator. The phenyl group substituted with a vinyl group is preferably introduced into the polymer via an appropriate linking group. In this case, the linking group is not particularly limited, and includes an arbitrary group, an atom, or a complex group thereof. Further, the vinyl group and the phenyl group may have a substituent. More specifically, the polymer into which a phenyl group substituted with a vinyl group is introduced has a group represented by the following general formula (I) in the side chain.

Figure 2009241300
Figure 2009241300

式中、R1、R2及びR3は、同じであっても異なっていても良く、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基から選ばれる基を表し、これらの基を構成するアルキル基及びアリール基は、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等で置換されていても良い。これらの基の中でも、R1が水素原子もしくは炭素数4以下の低級アルキル基(例えばメチル基、エチル基等)であり、R2、R3が水素原子であるものが特に好ましい。 In the formula, R 1 , R 2 and R 3 may be the same or different, and each is a hydrogen atom, a halogen atom, a carboxyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an amide group, an amino group, an alkyl group. A group selected from a group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an alkylamino group, an arylamino group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group, and an arylsulfonyl group The alkyl group and aryl group constituting these groups are a halogen atom, carboxyl group, sulfo group, nitro group, cyano group, amide group, amino group, alkyl group, aryl group, alkenyl group, hydroxy group, alkoxy group , Aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, alkylamino Group, arylamino group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group and the like. Among these groups, those in which R 1 is a hydrogen atom or a lower alkyl group having 4 or less carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, etc.) and R 2 and R 3 are hydrogen atoms are particularly preferable.

式中、R4は水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基から選ばれる基を表し、これらの基を構成するアルキル基及びアリール基は、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等で置換されていても良い。 In the formula, R 4 is hydrogen atom, halogen atom, carboxyl group, nitro group, cyano group, amide group, amino group, alkyl group, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, alkylamino group, Represents a group selected from an arylamino group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group and an arylsulfonyl group. The alkyl group and aryl group constituting these groups are a halogen atom, a carboxyl group, a sulfo group. Group, nitro group, cyano group, amide group, amino group, alkyl group, aryl group, alkenyl group, alkynyl group, hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, alkylamino group, arylamino group, Acyl group, alkoxycarbonyl , An aryloxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group, may be substituted by an arylsulfonyl group.

式中、m1は1〜4の整数を表し、pは0又は1の整数を表し、q1は1〜4の整数を表す。 In the formula, m 1 represents an integer of 1 to 4, p represents an integer of 0 or 1, and q 1 represents an integer of 1 to 4.

式中、L1は炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子から選ばれる原子又は、水素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子から選ばれる原子群から成る多価の連結基を表す。具体的には下記に例示される構造単位より構成される基及び下記に示す複素環基が挙げられる。これらの基は単独でも任意の2つ以上が組み合わされていても良い。 In the formula, L 1 represents a polyvalent linking group consisting of an atom selected from a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom, or an atomic group selected from a hydrogen atom, a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom. To express. Specific examples include groups composed of the structural units exemplified below and the heterocyclic groups shown below. These groups may be used alone or in any combination of two or more.

Figure 2009241300
Figure 2009241300

1を構成する複素環の例としては、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、イソオキサゾール環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、イソチアゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、チアトリアゾール環、印ドール環、インダゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンズセレナゾール環、ベンゾチアジアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、キノリン環、キノキサリン環、等の含窒素複素環、フラン環、チオフェン環等が挙げられ、これらの複素環は置換基を有していても良い。 Examples of the heterocyclic ring constituting L 1 include pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring, triazole ring, tetrazole ring, isoxazole ring, oxazole ring, oxadiazole ring, isothiazole ring, thiazole ring, thiadiazole ring, thia Triazole ring, mark doll ring, indazole ring, benzimidazole ring, benzotriazole ring, benzoxazole ring, benzthiazole ring, benzselenazole ring, benzothiadiazole ring, pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, triazine ring, Examples thereof include nitrogen-containing heterocycles such as quinoline ring and quinoxaline ring, furan ring, and thiophene ring, and these heterocycles may have a substituent.

上述した多価の連結基が置換基を有する場合、置換基としては、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等が挙げられる。   When the polyvalent linking group described above has a substituent, examples of the substituent include a halogen atom, a carboxyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an amide group, an amino group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, and an alkynyl group. Group, hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, alkylamino group, arylamino group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group and the like.

連結基L1を構成する任意の原子団に於いて、この中にカチオン性基を形成する4級アンモニウム基等の有機オニウム基が含まれている場合が特に好ましく利用される。連結基中に、こうした有機オニウム基が含まれない場合においては主鎖を構成する繰り返し単位中に、別途有機オニウム基を有する繰り返し単位を含む事が必要である。 The case where an organic onium group such as a quaternary ammonium group forming a cationic group is contained in any atomic group constituting the linking group L 1 is particularly preferably used. In the case where such an organic onium group is not contained in the linking group, it is necessary to separately include a repeating unit having an organic onium group in the repeating unit constituting the main chain.

重合体中にビニル基が置換したフェニル基を導入する方法については特に制限は無く、例えば特公昭49−34041号、同平6−105353号公報、特開2000−181062号、同2000−187322号公報等に示されるようないずれの方法を用いても良い。これらの場合には予め前駆体であるポリマーを合成する際に、有機オニウム基を有する繰り返し単位を共重合体の形で導入しておくか、前駆体ポリマーに重合性不飽和結合基を導入した形で、上述した方法等により、有機オニウム基を形成する事が必要である。   The method for introducing a phenyl group substituted with a vinyl group into the polymer is not particularly limited. For example, JP-B-49-34041, JP-A-6-105353, JP-A-2000-181062, and JP-A-2000-187322. Any method as shown in a publication or the like may be used. In these cases, when a polymer as a precursor is synthesized in advance, a repeating unit having an organic onium group is introduced in the form of a copolymer, or a polymerizable unsaturated bonding group is introduced into the precursor polymer. In form, it is necessary to form an organic onium group, such as by the method described above.

重合体Aの前駆体を構成する事ができるモノマーの具体例としては、アリルアミン、ジアリルアミン、2−ジメチルアミノエチルアクリレート、2−ジメチルアミノエチルメタクリレート、2−ジエチルアミノエチルメタクリレート、2−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、3−ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、3−ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、4−アミノスチレン、N,N−ジメチル−N−(4−ビニルベンジル)アミン、N,N−ジエチル−N−(4−ビニルベンジル)アミン等のアミノ基含有モノマー及びこれらの4級アンモニウム塩、4−ビニルピリジン、2−ビニルピリジン、N−ビニルイミダゾール、N−ビニルカルバゾール等の含窒素複素環含有モノマー及びこれらの4級アンモニウム塩、(4−ビニルベンジル)トリメチルホスホニウムブロマイド等の4級ホスホニウム塩モノマー、ジメチル−2−メタクリロイルオキシエチルスルホニウムメトスルフェート等の3級スルホニウム塩モノマー、2−クロロメチルスチレン、4−クロロメチルスチレン、4−ブロモメチルスチレン、2−クロロエチルアクリレート、2−クロロエチルメタクリレート等のハロゲン化アルキル基含有モノマー等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。   Specific examples of monomers that can constitute the precursor of the polymer A include allylamine, diallylamine, 2-dimethylaminoethyl acrylate, 2-dimethylaminoethyl methacrylate, 2-diethylaminoethyl methacrylate, 2-dimethylaminopropyl acrylamide, 3-dimethylaminopropyl methacrylamide, 3-dimethylaminopropyl methacrylamide, 4-aminostyrene, N, N-dimethyl-N- (4-vinylbenzyl) amine, N, N-diethyl-N- (4-vinylbenzyl) ) Amino group-containing monomers such as amines and quaternary ammonium salts thereof, nitrogen-containing heterocycle-containing monomers such as 4-vinylpyridine, 2-vinylpyridine, N-vinylimidazole and N-vinylcarbazole, and quaternary ammonium salts thereof , ( -Vinylbenzyl) Quaternary phosphonium salt monomers such as trimethylphosphonium bromide, Tertiary sulfonium salt monomers such as dimethyl-2-methacryloyloxyethylsulfonium methosulfate, 2-chloromethylstyrene, 4-chloromethylstyrene, 4-bromomethyl Examples include, but are not limited to, halogenated alkyl group-containing monomers such as styrene, 2-chloroethyl acrylate, and 2-chloroethyl methacrylate.

又、重合体Aは、任意の他のモノマーとの共重合体を構成していても良く、これら共重合体を構成するモノマーは水溶性であっても非水溶性であっても良い。水溶性モノマーの具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、2−カルボキシエチルアクリレート、2−カルボキシエチルメタクリレート、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、桂皮酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸モノアルキルエステル、4−カルボキシスチレン、アクリルアミド−N−グリコール酸等のカルボキシル基含有モノマー及びこれらの塩、ビニルホスホン酸等のリン酸基含有モノマー及びこれらの塩、アリルアミン、ジアリルアミン、2−ジメチルアミノエチルアクリレート、2−ジメチルアミノエチルメタクリレート、2−ジエチルアミノエチルアクリレート、2−ジエチルアミノエチルメタクリレート、3−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、3−ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、4−アミノスチレン、4−アミノメチルスチレン、N,N−ジメチル−N−(4−ビニルベンジル)アミン、N,N−ジエチル−N−(4−ベニルベンジル)アミン等のアミノ基含有モノマー及びこれらの4級アンモニウム塩、4−ビニルピリジン、2−ビニルピリジン、N−ビニルイミダゾール、N−ビニルカルバゾール等の含窒素複素環含有モノマー及びこれらの4級アンモニウム塩、アクリルアミド、メタクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジメチルメタクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、N−イソプロピルメタクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド類、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、グリセロールモノメタクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類、メタクリル酸のアルキレンオキシ基含有(メタ)アクリレート類、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。これら水溶性モノマーは1種で用いても良いし、任意の2種類以上を用いても良い。   Further, the polymer A may constitute a copolymer with any other monomer, and the monomer constituting the copolymer may be water-soluble or water-insoluble. Specific examples of water-soluble monomers include acrylic acid, methacrylic acid, 2-carboxyethyl acrylate, 2-carboxyethyl methacrylate, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, cinnamic acid, maleic acid monoalkyl ester, fumaric acid Carboxyl group-containing monomers such as monoalkyl esters, 4-carboxystyrene, acrylamide-N-glycolic acid and their salts, phosphoric acid group-containing monomers such as vinylphosphonic acid and their salts, allylamine, diallylamine, 2-dimethylaminoethyl Acrylate, 2-dimethylaminoethyl methacrylate, 2-diethylaminoethyl acrylate, 2-diethylaminoethyl methacrylate, 3-dimethylaminopropyl acrylamide, 3-dimethylaminopropyl methacryl Amino group-containing monomers such as amide, 4-aminostyrene, 4-aminomethylstyrene, N, N-dimethyl-N- (4-vinylbenzyl) amine, N, N-diethyl-N- (4-benzylbenzyl) amine, and the like; Nitrogen-containing heterocycle-containing monomers such as quaternary ammonium salts, 4-vinylpyridine, 2-vinylpyridine, N-vinylimidazole, N-vinylcarbazole and the like, and quaternary ammonium salts thereof, acrylamide, methacrylamide, N, N -(Meth) acrylamides such as dimethylacrylamide, N, N-dimethylmethacrylamide, N, N-diethylacrylamide, N-isopropylmethacrylamide, diacetoneacrylamide, N-methylolacrylamide, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxy Propyl Examples include hydroxyalkyl (meth) acrylates such as acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, and glycerol monomethacrylate, alkyleneoxy group-containing (meth) acrylates of methacrylic acid, N-vinylpyrrolidone, and N-vinylcaprolactam. It is not limited. These water-soluble monomers may be used alone or in combination of any two or more.

又、水現像性を最適化し、画像部の強度を向上させるために、非水溶性の任意のモノマーとの共重合体を形成する事も好ましく行われ、これらの例としては、スチレン、4−メチルスチレン、4−ヒドロキシスチレン、4−アセトキシスチレン、4−クロロメチルスチレン、4−メトキシスチレン等のスチレン誘導体、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、n−へキシルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、シクロへキシルアクリレート、ドデシルメタクリレート等の、アルキル(メタ)アクリレート類、フェニルメタクリレート、ベンジルメタクリレート等のアリール(メタ)アクリレート類又はアリールアルキル(メタ)アクリレート類、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、フェニルマレイミド、酢酸ビニル、クロロ酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、ステアリン酸ビニル、安息香酸ビニル等のビニルエステル類、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル等のビニルエーテル類、その他、アクリロイルモルホリン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アリルアルコール、ビニルトリメトキシシラン、グリシジルメタクリレート等各種モノマーを挙げる事ができる。これらの任意の組み合わせで構成される共重合体を重合体Aとして使用する事ができる。   In order to optimize water developability and improve the strength of the image area, it is also preferable to form a copolymer with any water-insoluble monomer. Examples of these include styrene, 4- Styrene derivatives such as methylstyrene, 4-hydroxystyrene, 4-acetoxystyrene, 4-chloromethylstyrene, 4-methoxystyrene, methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-butyl methacrylate, n-hexyl methacrylate Alkyl (meth) acrylates such as 2-ethylhexyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, dodecyl methacrylate, aryl (meth) acrylates such as phenyl methacrylate, benzyl methacrylate, or arylalkyl (meth) acrylate , Acrylonitrile, methacrylonitrile, phenylmaleimide, vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl stearate, vinyl benzoate and other vinyl esters, methyl vinyl ether, vinyl ether such as butyl vinyl ether, and others, acryloyl Examples include various monomers such as morpholine, tetrahydrofurfuryl methacrylate, vinyl chloride, vinylidene chloride, allyl alcohol, vinyltrimethoxysilane, and glycidyl methacrylate. A copolymer composed of any combination of these can be used as the polymer A.

本発明の重合体Aは、ビニル基が置換したフェニル基がカチオン性基を介して主鎖と結合している場合が特に好ましい。ビニル基が置換したフェニル基を主鎖に結合するための連結基を構成する任意の原子団に於いて、この中にカチオン性基を形成する4級アンモニウム基等の有機オニウム基が含まれている場合が最も好ましい。この場合に於いては、重合体中に含まれるビニル基が置換したフェニル基の数と有機オニウム基の数が正比例するため、感度を向上させるために重合体中に含まれるビニル基が置換したフェニル基の割合を増加しても水に対する溶解性が低下しない事から感度と水現像性の両方を同時に満足する事が出来る。上述したようなビニル基が置換したフェニル基がカチオン性基を介して主査と結合している場合の重合体の単位構造は、具体的には下記一般式(II)で表す事が出来る。   The polymer A of the present invention is particularly preferably a case where a phenyl group substituted with a vinyl group is bonded to the main chain via a cationic group. Arbitrary atomic groups constituting a linking group for bonding a phenyl group substituted with a vinyl group to the main chain include an organic onium group such as a quaternary ammonium group forming a cationic group. The case is most preferable. In this case, since the number of phenyl groups substituted with vinyl groups contained in the polymer is directly proportional to the number of organic onium groups, the vinyl groups contained in the polymer were substituted in order to improve sensitivity. Since the solubility in water does not decrease even if the proportion of the phenyl group is increased, both sensitivity and water developability can be satisfied at the same time. The unit structure of the polymer in the case where the phenyl group substituted with the vinyl group as described above is bonded to the master through a cationic group can be specifically represented by the following general formula (II).

Figure 2009241300
Figure 2009241300

式中、A1 +はアンモニウム基、スルホニウム基、ホスホニウム基、ヨードニウム基、オキソニウム基等の有機オニウム基から選ばれる有機オニウム基を表し、n1及びn2はそれぞれ0又は1を表す。A1 +がヨードニウム基の場合はn1=n2=0であり、A1 +がスルホニウム基の場合はn1=1かつn2=0であり、A1 +がアンモニウム基又はホスホニウム基の場合はn1=n2=1である。 In the formula, A 1 + represents an organic onium group selected from organic onium groups such as an ammonium group, a sulfonium group, a phosphonium group, an iodonium group, an oxonium group, and n 1 and n 2 each represents 0 or 1. When A 1 + is an iodonium group, n 1 = n 2 = 0, and when A 1 + is a sulfonium group, n 1 = 1 and n 2 = 0, and A 1 + is an ammonium group or a phosphonium group. In this case, n 1 = n 2 = 1.

式中、R5及びR6は、同じであっても異なっていても良く、それぞれアルキル基(例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、シクロへキシル基、ベンジル基等)、又はアリール基(例えばフェニル基、1−ナフチル基等)を表しこれらの基は置換されていても良く、この場合の置換基の例としては、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等が挙げられる。更にR5及びR6は、上記一般式(II)で表されるビニル基が置換したフェニル基を含有する基であっても良い。 In the formula, R 5 and R 6 may be the same or different, and are each an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a cyclohexyl group, a benzyl group, etc.) or an aryl group (for example, These groups may be substituted, and examples of the substituent in this case include a halogen atom, a carboxyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an amide group, Amino group, alkyl group, aryl group, alkenyl group, alkynyl group, hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, alkylamino group, arylamino group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group , Alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group and the like. Further, R 5 and R 6 may be a group containing a phenyl group substituted by a vinyl group represented by the general formula (II).

式中、R7、R8及びR9は、同じであっても異なっていても良く、それぞれ前記一般式(II)におけるR1、R2及びR3と同義である。これらの基の中でもR7が水素原子もしくは炭素数4以下の低級アルキル基(例えばメチル基、エチル基等)であり、R8及びR9が水素原子であるものが特に好ましい。R10は、前記一般式(II)におけるR4と同義である。L2及びL3は、それぞれ独立に炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子から選ばれる原子又は、水素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子から選ばれる原子群からなる多価の連結基を表し、具体的には前記一般式(II)におけるL1と同義である。m2は0〜4の整数を表し、p2は0又は1の整数を表しq2は1〜4の整数を表す。 In the formula, R 7 , R 8 and R 9 may be the same or different and have the same meanings as R 1 , R 2 and R 3 in the general formula (II), respectively. Among these groups, those in which R 7 is a hydrogen atom or a lower alkyl group having 4 or less carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, etc.) and R 8 and R 9 are hydrogen atoms are particularly preferable. R 10 has the same meaning as R 4 in formula (II). L 2 and L 3 are each independently an atom selected from a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom, or a polyvalent group consisting of an atom group selected from a hydrogen atom, a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom. Specifically, it is synonymous with L < 1 > in the said general formula (II). m 2 represents an integer of 0 to 4, p 2 represents an integer of 0 or 1, and q 2 represents an integer of 1 to 4.

また、A1 +で表される有機オニウム基を形成するN原子、S原子及びP原子等と、R5、R6或いはL2、L3から任意に選ばれる基とが組み合わさって環構造(例えば、ピリジニウム環、2−キノリウム環、モルホニウム環、ピペリジニウム環、ピロリジニウム環、テトラヒドロチオフェニウム環等)を形成していても良い。これら環構造は、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等で置換されていても良い。 A ring structure in which an N atom, an S atom, a P atom, or the like forming an organic onium group represented by A 1 + is combined with a group arbitrarily selected from R 5 , R 6, L 2 , and L 3 (For example, a pyridinium ring, 2-quinolium ring, morphonium ring, piperidinium ring, pyrrolidinium ring, tetrahydrothiophenium ring, etc.) may be formed. These ring structures are halogen atoms, carboxyl groups, sulfo groups, nitro groups, cyano groups, amide groups, amino groups, alkyl groups, aryl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, hydroxy groups, alkoxy groups, aryloxy groups, alkylthio groups. , Arylthio group, alkylamino group, arylamino group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group and the like.

又、本発明の重合体Aの中には、上記したようなビニル基が置換したフェニル基がカチオン性基を介して主査と結合した繰り返し単位を有する重合体の他に、ビニル基が置換したフェニル基が直接もしくはカチオン性基を含まない連結基を介して主鎖に結合した繰り返し単位とカチオン性基を有する繰り返し単位とを有する重合体も用いる事が出来る。   Further, in the polymer A of the present invention, a vinyl group is substituted in addition to a polymer having a repeating unit in which a phenyl group substituted with a vinyl group as described above is bonded to a principal group through a cationic group. A polymer having a repeating unit in which a phenyl group is bonded to the main chain directly or via a linking group containing no cationic group and a repeating unit having a cationic group can also be used.

本発明に於ける重合体Aの例を以下に示すが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。例示された構造式の中の数字は共重合体トータル組成100質量%中における各繰り返し単位の質量%を表す。   Examples of the polymer A in the present invention are shown below, but the present invention is not limited to these examples. The numbers in the exemplified structural formulas represent the mass% of each repeating unit in the copolymer total composition of 100 mass%.

Figure 2009241300
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Figure 2009241300
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Figure 2009241300
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Figure 2009241300
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本発明の重合体Aを構成する各繰り返し単位が、全重合体中に占める割合については好ましい範囲が存在する。上述したように側鎖に重合性二重結合がカチオン性基を介して主鎖と結合している場合には、その繰り返し単位が重合体トータル組成10質量%から80質量%の範囲にある事が特に好ましい。   There exists a preferable range about the ratio for which each repeating unit which comprises the polymer A of this invention accounts in all the polymers. As described above, when a polymerizable double bond is bonded to the main chain via a cationic group on the side chain, the repeating unit must be in the range of 10% by mass to 80% by mass of the total polymer composition. Is particularly preferred.

また、ビニル基が置換したフェニル基が直接もしくはカチオン性基を含まない連結基を介して主鎖に結合した繰り返し単位とカチオン性基を有する繰り返し単位とからなる重合体の場合には、ビニル基が置換したフェニル基を有する繰り返し単位の場合は、5質量%から50質量%の範囲にある事が特に好ましい。そして、カチオン性基を有する繰り返し単位が占める割合は、30質量%から95質量%の範囲にある事が好ましく、50質量%から90質量%の範囲にある事が特に好ましい。カチオン性基を有する繰り返し単位が30質量%以上でなければ十分な水溶性が得られない場合があり、90質量%以下でなければ十分な画像形成ができない場合がある。   In the case of a polymer comprising a repeating unit in which a phenyl group substituted by a vinyl group is bonded to the main chain directly or via a linking group not containing a cationic group and a repeating unit having a cationic group, a vinyl group In the case of a repeating unit having a substituted phenyl group, it is particularly preferably in the range of 5% by mass to 50% by mass. The proportion of the repeating unit having a cationic group is preferably in the range of 30% by mass to 95% by mass, and particularly preferably in the range of 50% by mass to 90% by mass. If the repeating unit having a cationic group is not 30% by mass or more, sufficient water solubility may not be obtained, and if it is not 90% by mass or less, sufficient image formation may not be possible.

本発明の重合体Aの分子量については好ましい範囲が存在し、質量平均分子量で1000から100万の範囲である事が好ましく、更に1万から30万の範囲にある事が特に好ましい。本発明に於ける重合体Aは、1種のみの単独で用いても良いし、任意の2種以上を混合して用いても良い。   There is a preferred range for the molecular weight of the polymer A of the present invention, the weight average molecular weight is preferably in the range of 1,000 to 1,000,000, and more preferably in the range of 10,000 to 300,000. The polymer A in this invention may be used individually by 1 type, and may mix and use arbitrary 2 or more types.

次に、側鎖にビニル基が置換したフェニル基を有し及びスルホン酸基を有する水溶性重合体(重合体B)について詳細に説明する。   Next, the water-soluble polymer (polymer B) having a phenyl group substituted with a vinyl group in the side chain and having a sulfonic acid group will be described in detail.

本発明の重合体Bは、ビニル基が置換したフェニル基及びスルホン酸基がそれぞれ直接もしくは任意の連結基を介して主鎖と結合した重合体である。これらの連結基としては特に限定されず、任意の基、原子またはそれらの複合した基が挙げられる。ビニル基が置換したフェニル基及びスルホン酸基は、それぞれ独立して主鎖に結合していても良いし、或いはビニル基が置換したフェニル基とスルホン酸基が連結基の一部又は全部を共有する形で結合していても良い。   The polymer B of the present invention is a polymer in which a phenyl group substituted with a vinyl group and a sulfonic acid group are bonded to the main chain either directly or via an arbitrary linking group. These linking groups are not particularly limited, and include any group, atom, or a combination thereof. The phenyl group and the sulfonic acid group substituted with the vinyl group may be independently bonded to the main chain, or the phenyl group substituted with the vinyl group and the sulfonic acid group share part or all of the linking group. You may combine in the form to do.

上記ビニル基が置換したフェニル基に於いて、該フェニル基は置換されていても良く、また、該ビニル基はハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基等で置換されていても良い。   In the phenyl group substituted by the vinyl group, the phenyl group may be substituted, and the vinyl group is a halogen atom, a carboxyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an amide group, an amino group, It may be substituted with an alkyl group, aryl group, alkoxy group, aryloxy group or the like.

本発明の重合体Bは、更に詳細には、下記一般式(III)及び(IV)で表される基を側鎖に有するものである。   More specifically, the polymer B of the present invention has groups represented by the following general formulas (III) and (IV) in the side chain.

Figure 2009241300
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式中、R11、R12、及びR13は、同じであっても異なっていても良く、それぞれ前記一般式(I)に於けるR1、R2、及びR3と同義であり、R14は前記一般式(I)のR4と同義である。L4は、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子から選ばれる原子又は、水素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子原子群から成る多価の連結基を表し、具体的には前記一般式(I)におけるL1と同義である。m3は0〜4の整数を表し、p3は0または1の整数を表し、q3は1〜4の整数を表す。 In the formula, R 11 , R 12 , and R 13 may be the same or different and are respectively synonymous with R 1 , R 2 , and R 3 in the general formula (I); 14 has the same meaning as R 4 in formula (I). L 4 represents an atom selected from a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom, or a polyvalent linking group consisting of a hydrogen atom, a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom group; Is synonymous with L 1 in formula (I). m 3 represents an integer of 0 to 4, p 3 represents an integer of 0 or 1, and q 3 represents an integer of 1 to 4.

上記一般式で表される基の中でも、R11が水素原子もしくは炭素数4以下の低級アルキル基(メチル基、エチル基等)であり、かつR12及びR13が水素原子であるものが好ましい。又、連結基L4としては複素環を含むものが好ましく、q3は1または2であるものが好ましい。 Among the groups represented by the above general formula, those in which R 11 is a hydrogen atom or a lower alkyl group having 4 or less carbon atoms (methyl group, ethyl group, etc.) and R 12 and R 13 are hydrogen atoms are preferred. . The linking group L 4 preferably contains a heterocyclic ring, and q 3 is preferably 1 or 2.

Figure 2009241300
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式中、L5は、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子から選ばれる原子又は、水素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子原子群からなる多価の連結基を表し、具体的には前記一般式(I)におけるL1と同義である。更にL5は前記一般式(III)のL4の一部又は全部を共有しても良い。 In the formula, L 5 represents an atom selected from a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom, or a polyvalent linking group consisting of a hydrogen atom, a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom group, Specifically, it is synonymous with L < 1 > in the said general formula (I). Further, L 5 may share part or all of L 4 in the general formula (III).

式中、X+はスルホアニオンを中和するのに必要な電荷をもつカチオンを表す。このようなカチオンの具体例としては、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、遷移金属イオン等の無機イオン(例えばナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、バリウム、亜鉛等)、有機アンモニウムイオン(例えばアンモニウム、トリエチルアンモニウム、ピリジニウム、テトラ−n−ブチルアンモニウム等)、ヨードニウムイオン(例えばフェニルヨードニウム等)、スルホニウムイオン(例えばトリフェニルスルホニウム等)ジアゾニウムイオン等が挙げられ、これらの中でもアルカリ金属イオン又は有機アンモニウムイオンが特に好ましい。 In the formula, X + represents a cation having a charge necessary for neutralizing the sulfoanion. Specific examples of such cations include inorganic ions such as alkali metal ions, alkaline earth metal ions and transition metal ions (for example, sodium, potassium, calcium, magnesium, barium and zinc), organic ammonium ions (for example, ammonium, Triethylammonium, pyridinium, tetra-n-butylammonium, etc.), iodonium ions (eg, phenyliodonium, etc.), sulfonium ions (eg, triphenylsulfonium, etc.), diazonium ions, etc. Among these, alkali metal ions or organic ammonium ions are included. Particularly preferred.

重合体中にビニル基が置換したフェニル基を導入する方法については特に制限はないが、該ビニル基が置換したフェニル基を有するモノマーを重合させた場合には、該ビニル基も反応し、ゲル化を起こしてしまう事が予想され好ましくない。このため、ビニル基が置換したフェニル基を有さない前駆体ポリマーを合成しておき、しかる後、従来公知の高分子反応により該ビニル基が置換したフェニル基を導入する方法が特に好ましい。   The method for introducing a phenyl group substituted with a vinyl group in the polymer is not particularly limited. However, when a monomer having a phenyl group substituted with a vinyl group is polymerized, the vinyl group also reacts to form a gel. It is anticipated that this will occur. Therefore, it is particularly preferable to synthesize a precursor polymer having no phenyl group substituted with a vinyl group, and then introduce a phenyl group substituted with the vinyl group by a conventionally known polymer reaction.

重合体中にスルホン酸塩基を導入する方法については特に制限はなく、該スルホン酸塩基を有するモノマーを共重合させても良いし、スルホン酸塩基を有さない前駆体ポリマーを合成しておき、しかる後、従来公知の高分子反応により該スルホン酸塩基を導入しても良い。   The method for introducing the sulfonate group into the polymer is not particularly limited, and a monomer having the sulfonate group may be copolymerized, or a precursor polymer having no sulfonate group is synthesized, Thereafter, the sulfonate group may be introduced by a conventionally known polymer reaction.

本発明の重合体Bは、上述した側鎖にビニル基が置換したフェニル基を有する繰り返し単位、及びスルホン酸基を有する繰り返し単位からのみなる重合体であってもよいし、或いは本発明の効果を妨げない限り、更に他の繰り返し単位を導入した重合体であっても良い。又更に、他のモノマーとの共重合体であっても良く、このようなモノマーの具体例としては、重合体Aで例示した全ての水溶性モノマー及び非水溶性モノマーが挙げられ、これらモノマーは1種で用いても良いし、任意の2種類以上を用いても良い。   The polymer B of the present invention may be a polymer composed only of a repeating unit having a phenyl group substituted with a vinyl group in the side chain and a repeating unit having a sulfonic acid group, or the effect of the present invention. As long as the above is not hindered, a polymer in which another repeating unit is further introduced may be used. Further, it may be a copolymer with another monomer, and specific examples of such a monomer include all the water-soluble monomers and water-insoluble monomers exemplified for the polymer A. One type may be used, or two or more types may be used.

本発明の重合体Bの例を以下に示すが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。例示された構造式の中の数字は共重合体トータル組成100質量%中に於ける各繰り返し単位の質量%を表す。   Examples of the polymer B of the present invention are shown below, but the present invention is not limited to these examples. The numbers in the exemplified structural formulas represent the mass% of each repeating unit in the copolymer total composition of 100 mass%.

Figure 2009241300
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本発明の重合体Bの重量平均分子量は、1000から100万の範囲である事が好ましく、更に1万から30万の範囲にある事が特に好ましい。本発明における重合体Bは1種のみの単独で用いても良いし、任意の2種以上を混合して用いても良い。   The weight average molecular weight of the polymer B of the present invention is preferably in the range of 1,000 to 1,000,000, and more preferably in the range of 10,000 to 300,000. The polymer B in this invention may be used individually by 1 type, and may mix and use arbitrary 2 or more types.

前述した本発明の重合体A及びBの水に対する溶解性については好ましい範囲が存在する。即ち、25℃のイオン交換水100mlに対して前記重合体は0.5g以上溶解する事が好ましく、更に2.0g以上溶解する事が特に好ましい。   There is a preferred range for the solubility of the aforementioned polymers A and B of the present invention in water. That is, 0.5 g or more of the polymer is preferably dissolved in 100 ml of ion-exchanged water at 25 ° C., more preferably 2.0 g or more.

本発明の感光層は、上述した重合体AもしくはBの他に、任意の公知の各種バインダー樹脂を混合して用いる事も出来る。この場合のバインダー樹脂は特に制限されず、具体的には、上記で例示したモノマーから任意に構成される重合体や、ポリビニルフェノール、フェノール樹脂、ポリヒドロキシベンザール、ゼラチン、ポリビニルアルコール、カルボキシメチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリイミド樹脂等を挙げる事が出来る。これらバインダー樹脂としては水溶性である事が好ましく、上記で例示したような水溶性モノマーを少なくとも1種以上用いた水溶性バインダー樹脂やゼラチン、ポリビニルアルコール、カルボキシメチルセルロース等の水溶性バインダー樹脂である事が好ましい。   The photosensitive layer of the present invention can be used by mixing any known various binder resins in addition to the polymer A or B described above. The binder resin in this case is not particularly limited, and specifically, a polymer arbitrarily constituted from the monomers exemplified above, polyvinylphenol, phenol resin, polyhydroxybenzal, gelatin, polyvinyl alcohol, carboxymethylcellulose, etc. Cellulose resin, polyimide resin, and the like. These binder resins are preferably water-soluble, and are water-soluble binder resins using at least one or more water-soluble monomers as exemplified above, and water-soluble binder resins such as gelatin, polyvinyl alcohol, and carboxymethyl cellulose. Is preferred.

本発明の平版印刷版の感光層は、前記した重合体AもしくはBと併せて、光重合開始剤又は光酸発生剤を含有する。本発明に用いられる光重合開始剤としては、光または電子線の照射によりラジカルを発生しうる化合物であれば任意の化合物を用いる事が出来る。   The photosensitive layer of the lithographic printing plate of the present invention contains a photopolymerization initiator or a photoacid generator in combination with the polymer A or B described above. As a photoinitiator used for this invention, arbitrary compounds can be used if it is a compound which can generate | occur | produce a radical by irradiation of light or an electron beam.

本発明に用いる事の出来る光重合開始剤の例としては(a)芳香族ケトン類、(b)芳香族オニウム化合物、(c)有機過酸化物、(d)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(e)ケトオキシムエステル化合物、(f)アジニウム化合物(g)活性エステル化合物(h)メタロセン化合物(i)トリハロアルキル置換化合物(j)有機ホウ素化合物等が挙げられる。   Examples of photopolymerization initiators that can be used in the present invention include (a) aromatic ketones, (b) aromatic onium compounds, (c) organic peroxides, (d) hexaarylbiimidazole compounds, (e Ketoxime ester compounds, (f) azinium compounds (g) active ester compounds (h) metallocene compounds (i) trihaloalkyl-substituted compounds (j) organoboron compounds, and the like.

(a)芳香族ケトン類の好ましい例としては、”RADIATION CURING IN POLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY”J.P.FOUASSIER,J.F.RABEK(1993)、P.77〜177に記載のベンゾフェノン骨格、或いはチオキサントン骨格を有する化合物、特公昭47−6416号公報に記載のα−チオベンゾフェノン化合物、特公昭47−3981号公報に記載のベンゾインエーテル化合物、特公昭47−22326号公報に記載のα−置換ベンゾイン化合物、特公昭47−23664号公報に記載のベンゾイン誘導体、特開昭57−30704号公報に記載のアロイルホスホン酸エステル、特公昭60−26483号公報に記載のジアルコキシベンゾフェノン類、特公昭60−26403号公報、特開昭62−81345号公報に記載のベンゾインエーテル類、特開平2−211452号公報に記載のp−ジ(ジメチルアミノベンゾイル)ベンゼン、特開昭61−194062号公報に記載のチオ置換芳香族ケトン、特公平2−9597号公報に記載のアシルホスフィンスルフィド、特公平2−9596号公報に記載のアシルホスフィン類、特公昭63−61950号公報に記載のチオキサントン類、特公昭59−42864号公報に記載のクマリン類を挙げる事ができる。 (A) Preferred examples of aromatic ketones include “RADIATION CURING IN POLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY” J.P.FOUASSIER, J.F.RABEK (1993), P.A. Compounds having a benzophenone skeleton or thioxanthone skeleton described in 77 to 177, α-thiobenzophenone compounds described in Japanese Patent Publication No. 47-6416, benzoin ether compounds described in Japanese Patent Publication No. 47-3981, and Japanese Patent Publication No. 47- An α-substituted benzoin compound described in Japanese Patent No. 22326, a benzoin derivative described in Japanese Patent Publication No. 47-23664, an aroylphosphonic acid ester described in Japanese Patent Publication No. 57-30704, and Japanese Patent Publication No. 60-26483. Dialkoxybenzophenones described in JP-B-60-26403, benzoin ethers described in JP-A-62-81345, p-di (dimethylaminobenzoyl) benzene described in JP-A-2-211452, A thio-substituted fragrance described in JP-A-61-194062 Group ketones, acylphosphine sulfides described in JP-B-2-9597, acylphosphines described in JP-B-2-9596, thioxanthones described in JP-B-63-61950, JP-B-59-42864 Mention may be made of the coumarins described in the publication.

(b)芳香族オニウム塩の例としては、N、P、As、Sb、Bi、O、S、Se、TeまたはIの芳香族オニウム塩が含まれる。このような芳香族オニウム塩は、特公昭52−14277号公報、同昭52−14278号公報、同昭52−14279号公報等に例示されている化合物を挙げる事ができる。 (B) Examples of aromatic onium salts include N, P, As, Sb, Bi, O, S, Se, Te, or I aromatic onium salts. Examples of such aromatic onium salts include compounds exemplified in Japanese Patent Publication Nos. 52-14277, 52-14278, 52-14279, and the like.

(c)有機過酸化物の例としては、分子中に酸素−酸素結合を1個以上有する有機化合物のほとんど全てが含まれるが、例えば、3,3′,4,4′−テトラ−(tert−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ−(tert−アミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ(tert−ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ(tert−オクチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ(クミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ(p−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、ジ−tert−ブチルジパーオキシイソフタレート等の過酸化エステル系が好ましい。 (C) Examples of the organic peroxide include almost all organic compounds having one or more oxygen-oxygen bonds in the molecule. For example, 3,3 ′, 4,4′-tetra- (tert -Butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ', 4,4'-tetra- (tert-amylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3', 4,4'-tetra (tert-hexylperoxycarbonyl) benzophenone 3,3 ′, 4,4′-tetra (tert-octylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra (cumylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4 ′ -Peracids such as tetra (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, di-tert-butyldiperoxyisophthalate Ester is preferable.

(d)ヘキサアリールビイミダゾールの例としては、特公昭45−37377号公報、同昭44−86516号公報に記載のロフィンダイマー類、例えば2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ブロモフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイミダゾール、2,2′−ビス(o,o′−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−メチルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−トリフルオロメチルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。 (D) Examples of hexaarylbiimidazole include lophine dimers described in JP-B Nos. 45-37377 and 44-86516, such as 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4. ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-bromophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o, p -Dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (m-methoxyphenyl) biimidazole 2,2'-bis (o, o'-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-nitrophenyl) -4,4', 5 , 5'- Traphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-methylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-trifluoromethylphenyl) -4, Examples include 4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole.

(e)ケトオキシムエステルの例としては、3−ベンゾイロキシイミノブタン−2−オン、3−アセトキシイミノブタン−2−オン、3−プロピオニルオキシイミノブタン−2−オン、2−アセトキシイミノペンタン−3−オン、2−アセトキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン、2−ベンゾイロキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン、3−p−トルエンスルホニルオキシイミノブタン−2−オン、2−エトキシカルボニルオキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン等が挙げられる。 (E) Examples of ketoxime esters include 3-benzoyloxyiminobutan-2-one, 3-acetoxyiminobutan-2-one, 3-propionyloxyiminobutan-2-one, 2-acetoxyiminopentane- 3-one, 2-acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, 3-p-toluenesulfonyloxyiminobutan-2-one, 2- And ethoxycarbonyloxyimino-1-phenylpropan-1-one.

(f)アジニウム塩化合物の例としては、特開昭63−138345号公報、同昭63−142345号公報、同昭63−142346号公報、同昭63−143537号公報、特公昭46−42363号公報等に記載のN−O結合を有する化合物群を挙げる事ができる。 (F) Examples of azinium salt compounds include JP-A-63-138345, JP-A-63-142345, JP-A-63-142346, JP-A-63-143537, JP-B-46-42363. The compound group which has NO bond as described in gazettes etc. can be mentioned.

(g)活性エステル化合物の例としては特公昭62−6223号公報等に記載のイミドスルホネート化合物、特公昭63−14340号公報、特開昭59−174831号公報等に記載の活性スルホネート類を挙げる事ができる。 (G) Examples of active ester compounds include imide sulfonate compounds described in JP-B-62-2623, etc., and active sulfonates described in JP-B-63-14340, JP-A-59-174831, etc. I can do things.

(h)メタロセン化合物の例としては、特開昭59−152396号公報、同昭61−151197号公報、同昭63−41484号公報、同平2−249号公報、同平2−4705号公報等に記載のチタノセン化合物ならびに、特開平1−304453号公報、同平1−152109号公報等に記載の鉄−アレーン錯体等を挙げる事ができる。 (H) Examples of metallocene compounds include JP-A-59-152396, JP-A-61-151197, JP-A-63-41484, JP-A-2-249, and JP-A-2-4705. And the iron-arene complexes described in JP-A-1-304453, JP-A-1-152109, and the like.

(i)トリハロアルキル置換化合物の例としては、具体的にはトリクロロメチル基、トリブロモメチル基等のトリハロアルキル基を分子内に少なくとも一個以上有する化合物であり、米国特許第3,954,475号明細書、同第3,987,037号明細書、同第4,189,323号明細書、特開昭61−151644号公報、同昭63−298339号公報、同平4−69661号公報、同平11−153859号公報等に記載のトリハロメチル−s−トリアジン化合物、特開昭54−74728号公報、同昭55−77742号公報、同昭60−138539号公報、同昭61−143748号公報、同平4−362644号公報、同平11−84649号公報等に記載の2−トリハロメチル−1,3,4−オキサジアゾール誘導体等が挙げられる。また、該トリハロアルキル基がスルホニル基を介して芳香族環或いは含窒素複素環に結合した、特開2001−290271号公報等に記載のトリハロアルキルスルホニル化合物が挙げられる。 (I) Specific examples of the trihaloalkyl-substituted compound include compounds having at least one trihaloalkyl group such as a trichloromethyl group and a tribromomethyl group in the molecule. US Pat. No. 3,954,475 No. 3,987,037, No. 4,189,323, JP-A Nos. 61-151644, 63-298339, No. 4-69661, Trihalomethyl-s-triazine compounds described in JP-A-11-153589, etc., JP-A-54-74728, JP-A-55-77742, JP-A-60-138539, JP-A-61-143748 2-trihalomethyl-1,3,4-oxadiazole derivatives described in JP-A-4-362644, JP-A-11-84649, etc. And the like. Moreover, the trihaloalkylsulfonyl compound as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-290271 etc. which this trihaloalkyl group couple | bonded with the aromatic ring or the nitrogen-containing heterocyclic ring through the sulfonyl group is mentioned.

(j)有機ホウ素塩化合物の例としては、特開平8−217813号公報、同平9−106242号公報、同平9−188685号公報、同平9−188686号公報、同平9−188710号公報等に記載の有機ホウ素アンモニウム化合物、特開平6−175561号公報、同平6−175564号公報、同平6−157623号公報等に記載の有機ホウ素スルホニウム化合物及び有機ホウ素オキソスルホニウム化合物、特開平6−175553号公報、同平6−175554号公報等に記載の有機ホウ素ヨードニウム化合物、特開平9−188710号公報等に記載の有機ホウ素ホスホニウム化合物、特開平6−348011号公報、同平7−128785号公報、同平7−140589号公報、同平7−292014号公報、同平7−306527号公報等に記載の有機ホウ素遷移金属配位錯体化合物等が挙げられる。また、特開昭62−143044号公報、同平5−194619号公報等に記載の対アニオンとして有機ホウ素アニオンを含有するカチオン性色素が挙げられる。 (J) Examples of the organic boron salt compound include JP-A-8-217813, JP-A-9-106242, JP-A-9-18885, JP-A-9-188686, and JP-A-9-188710. Organoboron ammonium compounds and organoboron sulfonium compounds and organoboron oxosulfonium compounds described in JP-A-6-175561, JP-A-6-175564, JP-A-6-157623, etc. JP-A-6-175553, JP-A-6-175554, etc., organoboron iodonium compounds, JP-A-9-188710, etc., organoboron phosphonium compounds, JP-A-6-348011, JP-A-7- No. 128785, No. 7-140589, No. 7-292014, No. 7- And organic boron transition metal coordination complex compound described in 06527 JP, and the like. Examples of the counter anion described in JP-A-62-143044 and JP-A-5-194619 include cationic dyes containing an organic boron anion.

本発明に関わる光重合開始剤については特に有機ホウ素塩が好ましく用いられる。更に好ましくは、有機ホウ素塩とトリハロアルキル置換化合物(例えばトリハロアルキル置換された含窒素複素環化合物としてs−トリアジン化合物及びオキサジアゾール誘導体、トリハロアルキルスルホニル化合物)を組み合わせて用いる事である。   As the photopolymerization initiator related to the present invention, an organic boron salt is particularly preferably used. More preferably, an organic boron salt and a trihaloalkyl-substituted compound (for example, an s-triazine compound, an oxadiazole derivative, or a trihaloalkylsulfonyl compound as a trihaloalkyl-substituted nitrogen-containing heterocyclic compound) are used in combination.

有機ホウ素塩を構成する有機ホウ素アニオンは、下記一般式(V)で表される。   The organic boron anion constituting the organic boron salt is represented by the following general formula (V).

Figure 2009241300
Figure 2009241300

式中、R15、R16、R17及びR18は各々同じであっても異なっていてもよく、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、複素環基を表す。これらの内で、R15、R16、R17及びR18の内の一つがアルキル基であり、他の置換基がアリール基である場合が特に好ましい。 In the formula, each of R 15 , R 16 , R 17 and R 18 may be the same or different, and represents an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a cycloalkyl group or a heterocyclic group. To express. Of these, it is particularly preferred that one of R 15 , R 16 , R 17 and R 18 is an alkyl group and the other substituent is an aryl group.

上記の有機ホウ素アニオンは、これと塩を形成するカチオンが同時に存在する。この場合のカチオンとしては、アルカリ金属イオン、オニウムイオン及びカチオン性増感色素が挙げられる。オニウム塩としては、アンモニウム、スルホニウム、ヨードニウム及びホスホニウム化合物が挙げられる。アルカリ金属イオンまたはオニウム化合物と有機ホウ素アニオンとの塩を用いる場合には、別に増感色素を添加する事で色素が吸収する光の波長範囲での感光性を付与する事が行われる。また、カチオン性増感色素の対アニオンとして有機ホウ素アニオンを含有する場合は、該増感色素の吸収波長に応じて感光性が付与される。しかし、後者の場合は更にアルカリ金属もしくはオニウム塩の対アニオンとして有機ホウ素アニオンを併せて含有するのが好ましい。   In the above-mentioned organoboron anion, a cation that forms a salt is simultaneously present. Examples of the cation in this case include alkali metal ions, onium ions, and cationic sensitizing dyes. Examples of onium salts include ammonium, sulfonium, iodonium and phosphonium compounds. When a salt of an alkali metal ion or onium compound and an organic boron anion is used, photosensitivity in the wavelength range of light absorbed by the dye is imparted by adding a sensitizing dye separately. Further, when an organic boron anion is contained as a counter anion of the cationic sensitizing dye, photosensitivity is imparted according to the absorption wavelength of the sensitizing dye. However, in the latter case, it is preferable to further contain an organic boron anion as a counter anion of the alkali metal or onium salt.

本発明に用いられる有機ホウ素塩としては、先に示した一般式(V)で表される有機ホウ素アニオンを含む塩であり、塩を形成するカチオンとしてはアルカリ金属イオン及びオニウム化合物が好ましく使用される。特に好ましい例は、有機ホウ素アニオンとのオニウム塩として、テトラアルキルアンモニウム塩等のアンモニウム塩、トリアリールスルホニウム塩等のスルホニウム塩、トリアリールアルキルホスホニウム塩等のホスホニウム塩が挙げられる。特に好ましい有機ホウ素塩の例を下記に示す。   The organic boron salt used in the present invention is a salt containing the organic boron anion represented by the general formula (V) described above, and alkali metal ions and onium compounds are preferably used as cations forming the salt. The Particularly preferable examples of the onium salt with an organic boron anion include ammonium salts such as tetraalkylammonium salts, sulfonium salts such as triarylsulfonium salts, and phosphonium salts such as triarylalkylphosphonium salts. Examples of particularly preferred organic boron salts are shown below.

Figure 2009241300
Figure 2009241300

Figure 2009241300
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本発明において、有機ホウ素塩とともに用いる事で更に高感度化、硬調化が具現される光重合開始剤としてトリハロアルキル置換化合物が挙げられる。上記トリハロアルキル置換化合物とは、具体的にはトリクロロメチル基、トリブロモメチル基等のトリハロアルキル基を分子内に少なくとも一個以上有する化合物であり、好ましい例としては、該トリハロアルキル基が含窒素複素環基に結合した化合物としてs−トリアジン誘導体及びオキサジアゾール誘導体が挙げられ、或いは、該トリハロアルキル基がスルホニル基を介して芳香族環或いは含窒素複素環に結合したトリハロアルキルスルホニル化合物が挙げられる。   In the present invention, a trihaloalkyl-substituted compound can be used as a photopolymerization initiator that realizes higher sensitivity and higher contrast when used with an organic boron salt. Specifically, the trihaloalkyl-substituted compound is a compound having at least one trihaloalkyl group such as a trichloromethyl group or a tribromomethyl group in the molecule. As a preferable example, the trihaloalkyl group is a nitrogen-containing complex. Examples of the compound bonded to the ring group include s-triazine derivatives and oxadiazole derivatives, or trihaloalkylsulfonyl compounds in which the trihaloalkyl group is bonded to an aromatic ring or a nitrogen-containing heterocycle via a sulfonyl group. .

トリハロアルキル置換した含窒素複素環化合物やトリハロアルキルスルホニル化合物の特に好ましい例を下記に示す。   Particularly preferred examples of trihaloalkyl-substituted nitrogen-containing heterocyclic compounds and trihaloalkylsulfonyl compounds are shown below.

Figure 2009241300
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Figure 2009241300
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本発明に用いられる光酸発生剤としては、光または電子線の照射により分解し、塩酸、スルホン酸等の強酸やルイス酸の如き酸を発生し得る化合物であれば任意の化合物を用いる事ができる。本発明に用いる事のできる光酸発生剤の例としては、(k)芳香族ジアゾニウム塩化合物、(l)ピバリン酸−o−ニトロベンジルエステル、ベンゼンスルホン酸−o−ニトロベンジルエステル等のo−ニトロベンジルエステル類、(m)9,10−ジメトキシアントラセン−2−スルホン酸−4−ニトロベンジルエステル、ピロガロールトリスメタンスルホネート、ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル類等のスルホン酸エステル誘導体、(n)ジベンジルスルホン、4−クロロフェニル−4′−メトキシフェニルジスルホン等のスルホン類、(o)リン酸エステル誘導体及び(p)米国特許第3,332,936号明細書、特開平2−83638号公報、同平11−322707号公報、同2000−1469号公報等に記載のスルホニルジアゾメタン化合物等を挙げる事ができる。   As the photoacid generator used in the present invention, any compound can be used as long as it is a compound that can be decomposed by irradiation with light or electron beam to generate a strong acid such as hydrochloric acid or sulfonic acid or an acid such as Lewis acid. it can. Examples of photoacid generators that can be used in the present invention include (k) aromatic diazonium salt compounds, (l) p-valic acid-o-nitrobenzyl ester, benzenesulfonic acid-o-nitrobenzyl ester, o- Sulfonic acid ester derivatives such as nitrobenzyl esters, (m) 9,10-dimethoxyanthracene-2-sulfonic acid-4-nitrobenzyl ester, pyrogallol trismethanesulfonate, naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid esters, (n) Sulfones such as dibenzylsulfone and 4-chlorophenyl-4'-methoxyphenyldisulfone, (o) phosphate ester derivatives and (p) U.S. Pat. No. 3,332,936, JP-A-2-83638, Described in JP-A-11-322707, 2000-1469, etc. Sulfonyl diazomethane compounds and the like can be exemplified.

上記光重合開始剤及び光酸発生剤は単独で用いても良いし、任意の2種以上の組み合わせで用いても良い。また、任意の光重合開始剤と任意の光酸発生剤を組み合わせて用いる事もできる。光重合開始剤及び光酸発生剤の含有量は、重合体AまたはBのいずれかの量に対して、1〜100質量%の範囲が好ましく、更に1〜40質量%の範囲が特に好ましい。   The photopolymerization initiator and photoacid generator may be used alone or in any combination of two or more. Further, any photopolymerization initiator and any photoacid generator can be used in combination. The content of the photopolymerization initiator and the photoacid generator is preferably in the range of 1 to 100% by mass, more preferably in the range of 1 to 40% by mass, based on the amount of either the polymer A or B.

本発明に於ける感光層を構成する他の好ましい要素として、分子内に重合性不飽和結合基を有する重合性モノマーを挙げる事ができる。重合性不飽和結合基とは、光重合開始剤または光酸発生剤の作用により、光重合反応或いは光架橋反応に寄与しうるエチレン性不飽和二重結合基を表す。特に、分子内に重合性不飽和結合基を2つ以上有する多官能重合性モノマーを使用する事が好ましい。このような重合性モノマーの例としては、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリスアクリロイルオキシエチルイソシアヌレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールグリセロールトリアクリレート、グリセロールエポキシトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート等の多官能アクリレート系モノマー、これら例示化合物のアクリレートをメタクリレートに代えた多官能メタクリレート系モノマー、同様にイタコン酸エステル系モノマー、クロトン酸エステル系モノマー、マレイン酸エステル系モノマー等が挙げられる。   As another preferable element constituting the photosensitive layer in the present invention, a polymerizable monomer having a polymerizable unsaturated bond group in the molecule can be exemplified. The polymerizable unsaturated bond group represents an ethylenically unsaturated double bond group that can contribute to a photopolymerization reaction or a photocrosslinking reaction by the action of a photopolymerization initiator or a photoacid generator. In particular, it is preferable to use a polyfunctional polymerizable monomer having two or more polymerizable unsaturated bond groups in the molecule. Examples of such polymerizable monomers include 1,4-butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, trisacryloyloxyethyl isocyanurate, tripropylene. Polyfunctional acrylate monomers such as glycol diacrylate, ethylene glycol glycerol triacrylate, glycerol epoxy triacrylate, trimethylol propane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, etc. Methacrylate monomers, as well as itaconic acid monomers, crotonic acid monomers , Maleic acid ester monomers.

他の重合性モノマーの例としては、スチレン誘導体が挙げられる。このスチレン誘導体としては、分子内に2つ以上のビニル基が置換したフェニル基を有する化合物が好ましい。例えば、1,4−ジビニルベンゼン、1,4−ジイソプロペニルベンゼン、1,4−ビス(4−ビニルベンジルオキシ)ベンゼン、1,2,3−トリス(4−ビニルベンジルオキシ)ベンゼン、1,3,5−トリス(4−ビニルベンジルオキシ)ベンゼン、2,2−ビス[4−(4−ビニルベンジルオキシ)フェニル]プロパン、1,1,2,2−テトラキス[4−(4−ビニルベンジルオキシ)フェニル]エタン、α,α,α′,α′−テトラキス[4−(4−ビニルベンジルオキシ)]p−キシレン、1,2−ビス(4−ビニルベンジルチオ)エタン、1,4−ビス(4−ビニルベンジルチオ)ブタン、ビス[2−(4−ビニルベンジルチオ)エチル]エーテル、2,5−ビス(4−ビニルベンジルチオ)−1,3,4−チアジアゾール、2,4,6−トリス(4−ビニルベンジルチオ)−1,3,5−トリアジン、N,N−ビス(4−ビニルベンジル)−N−メチルアミン、N,N,N′,N′−テトラキス(4−ビニルベンジル)−1,2−ジアミノエタン、N,N,N′,N′−テトラキス(4−ビニルベンジル)p−フェニレンジアミン、マレイン酸ビス(4−ビニルベンジル)エステル等が挙げられる。   Examples of other polymerizable monomers include styrene derivatives. The styrene derivative is preferably a compound having a phenyl group substituted with two or more vinyl groups in the molecule. For example, 1,4-divinylbenzene, 1,4-diisopropenylbenzene, 1,4-bis (4-vinylbenzyloxy) benzene, 1,2,3-tris (4-vinylbenzyloxy) benzene, 3,5-tris (4-vinylbenzyloxy) benzene, 2,2-bis [4- (4-vinylbenzyloxy) phenyl] propane, 1,1,2,2-tetrakis [4- (4-vinylbenzyl) Oxy) phenyl] ethane, α, α, α ′, α′-tetrakis [4- (4-vinylbenzyloxy)] p-xylene, 1,2-bis (4-vinylbenzylthio) ethane, 1,4- Bis (4-vinylbenzylthio) butane, bis [2- (4-vinylbenzylthio) ethyl] ether, 2,5-bis (4-vinylbenzylthio) -1,3,4-thiadiazole, , 4,6-Tris (4-vinylbenzylthio) -1,3,5-triazine, N, N-bis (4-vinylbenzyl) -N-methylamine, N, N, N ′, N′-tetrakis (4-vinylbenzyl) -1,2-diaminoethane, N, N, N ′, N′-tetrakis (4-vinylbenzyl) p-phenylenediamine, maleic acid bis (4-vinylbenzyl) ester and the like. .

或いは、上記の重合性モノマーに代えてラジカル重合性を有する重合性オリゴマーも好ましく用いる事ができる。例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基を導入した各種オリゴマーとしてポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等を重合性モノマーと同様に用いる事ができる。   Alternatively, a polymerizable oligomer having radical polymerizability can be preferably used instead of the above polymerizable monomer. For example, polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, and the like can be used in the same manner as the polymerizable monomer as various oligomers into which acryloyl group and methacryloyl group are introduced.

上述した重合体A及び重合体Bを用いた感光層の中で、特に、重合体Bを用いた感光性組成物が、画像部の強度が特に優れている点で好ましい。重合体Bからなる感光層をプロセスレス平版印刷版として使用した場合には、現像処理を行わずに印刷機に装着して印刷するのに特に好適であり、且つ耐刷性に優れたプロセスレス平版印刷版を得る事ができる。   Among the photosensitive layers using the polymer A and the polymer B described above, a photosensitive composition using the polymer B is particularly preferable because the strength of the image area is particularly excellent. When the photosensitive layer made of the polymer B is used as a processless lithographic printing plate, it is particularly suitable for printing by being mounted on a printing machine without performing a development process, and a processless having excellent printing durability. A lithographic printing plate can be obtained.

本発明のプロセスレス平版印刷版の感光層は感光層に色素を含有する事で、様々な波長の光に対して感度を持たせる事が出来る。   The photosensitive layer of the processless lithographic printing plate of the present invention can be sensitive to light of various wavelengths by containing a dye in the photosensitive layer.

700〜900nmにおける増感色素として、シアニン、フタロシアニン、メロシアニン、クマリン、ポリフィリン、スピロ化合物、フェロセン、フルオレン、フルギド、イミダゾール、ペリレン、フェナジン、フェノチアジン、ポリエン、アゾ化合物、ジフェニルメタン、トリフェニルメタン、ポリメチンアクリジン、クマリン、ケトクマリン、キナクリドン、インジゴ、スチリル、スクアリリウム化合物、ピリリウム化合物が挙げられ、更に、欧州特許第0,568,993号明細書、米国特許第4,508,811号明細書、同5,227,227号明細書に記載の化合物も用いる事ができる。   As sensitizing dyes at 700 to 900 nm, cyanine, phthalocyanine, merocyanine, coumarin, porphyrin, spiro compound, ferrocene, fluorene, fulgide, imidazole, perylene, phenazine, phenothiazine, polyene, azo compound, diphenylmethane, triphenylmethane, polymethine acridine, And coumarin, ketocoumarin, quinacridone, indigo, styryl, squarylium compound, pyrylium compound, and further, European Patent No. 0,568,993, US Patent No. 4,508,811, No. 5,227, The compounds described in No. 227 can also be used.

好ましく用いる事の出来る増感色素の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。700〜900nm付近の近赤外光に対応する増感色素を下記に示す。   Specific examples of sensitizing dyes that can be preferably used are shown below, but the present invention is not limited thereto. Sensitizing dyes corresponding to near-infrared light in the vicinity of 700 to 900 nm are shown below.

Figure 2009241300
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上記のような増感色素の含有量には好ましい範囲が存在し、感光層1平方メートル当たり1〜300mgの範囲で添加する事が好ましく、更に、感光層1平方メートル当たり5〜200mgの範囲で添加する事が特に好ましい。   There is a preferable range for the content of the sensitizing dye as described above, and it is preferable to add in the range of 1 to 300 mg per square meter of the photosensitive layer, and further in the range of 5 to 200 mg per square meter of the photosensitive layer. This is particularly preferred.

本発明のプロセスレス平版印刷版は、上述した成分以外にも種々の目的で他の成分を添加する事も好ましく行われる。特に、重合性不飽和結合基の熱重合或いは熱架橋を防止し、長期にわたる保存性を向上させる目的で、種々の重合禁止剤を添加する事が好ましく行われる。この場合の重合禁止剤としては、ハイドロキノン類、カテコール類、ナフトール類、クレゾール類等の各種フェノール性水酸基を有する化合物やキノン類化合物等が好ましく使用され、特にハイドロキノンが好ましく使用される。この場合の重合禁止剤の添加量としては、重合体100質量部に対して0.1質量部から10質量部の範囲で使用する事が好ましい。   In the processless lithographic printing plate of the present invention, it is also preferable to add other components for various purposes in addition to the components described above. In particular, it is preferable to add various polymerization inhibitors for the purpose of preventing thermal polymerization or thermal crosslinking of the polymerizable unsaturated bonding group and improving the long-term storage stability. As the polymerization inhibitor in this case, compounds having various phenolic hydroxyl groups such as hydroquinones, catechols, naphthols, and cresols, quinone compounds, and the like are preferably used, and hydroquinone is particularly preferably used. In this case, the addition amount of the polymerization inhibitor is preferably 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer.

プロセスレス平版印刷版の感光層が含有する場合の他の要素として、着色剤の添加も好ましく行う事ができる。着色剤としては、露光及び現像処理後に於いて、画像部の視認性を高める目的で使用されるものであり、カーボンブラック、フタロシアニン系色素、トリアリールメタン系色素、アントラキノン系色素、アゾ系色素等の各種の色素及び顔料を使用する事ができ、重合体1質量部に対して0.005質量部から0.5質量部の範囲で使用する事が好ましい。   As another element when the photosensitive layer of the processless lithographic printing plate contains, a colorant can also be preferably added. As the colorant, it is used for the purpose of enhancing the visibility of the image area after exposure and development processing, such as carbon black, phthalocyanine dye, triarylmethane dye, anthraquinone dye, azo dye, etc. These dyes and pigments can be used, and it is preferably used in the range of 0.005 parts by mass to 0.5 parts by mass with respect to 1 part by mass of the polymer.

プロセスレス平版印刷版の感光層は、上述の要素以外にも種々の目的で他の要素を追加して添加する事もできる。例えば、感光性組成物のブロッキングを防止する目的もしくは現像後の画像のシャープネス性を向上させる等の目的で無機物微粒子或いは有機物微粒子を添加する事も好ましく行われる。   The photosensitive layer of the processless lithographic printing plate can be added with other elements in addition to the above elements for various purposes. For example, inorganic fine particles or organic fine particles are preferably added for the purpose of preventing blocking of the photosensitive composition or improving the sharpness of an image after development.

本発明のプロセスレス平版印刷版の感光層は、上述した要素から構成される感光性組成物の塗液を、支持体上に塗布、乾燥して作製される。塗布方法としては、公知の種々の方法を用いる事ができ、例えば、バーコーター塗布、カーテン塗布、ブレード塗布、エアーナイフ塗布、ロール塗布、回転塗布、ディップ塗布等を挙げる事ができる。平版印刷版として使用する場合の感光層自体の厚みに関しては、支持体上に0.5μmから10μmの範囲の乾燥厚みで形成する事が好ましく、更に1μmから5μmの範囲である事が耐刷性を大幅に向上させるために好ましい。   The photosensitive layer of the processless lithographic printing plate of the present invention is produced by applying a coating liquid of a photosensitive composition comprising the above-described elements onto a support and drying. As the coating method, various known methods can be used, and examples thereof include bar coater coating, curtain coating, blade coating, air knife coating, roll coating, spin coating, and dip coating. Regarding the thickness of the photosensitive layer itself when used as a lithographic printing plate, it is preferably formed on the support with a dry thickness in the range of 0.5 μm to 10 μm, and more preferably in the range of 1 μm to 5 μm. Is preferable in order to greatly improve.

本発明のプロセスレス平版印刷版の支持体として用いられるプラスチックフィルム支持体としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリビニルアセタール、ポリカーボネート、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、硝酸セルロース等が挙げられる。これらプラスチックフィルム支持体の表面は、親水性層との接着性を良好にし、非画像部に保水性を与える目的で、各種親水化処理が施される。このような親水化処理としては、化学的処理、放電処理、グロー放電処理、火焔処理、紫外線処理、高周波処理、活性プラズマ処理、レーザー処理等の表面処理、及び表面に親水性層を塗設する方法等が挙げられ、これらの処理は組み合わせて実施しても良い。   Examples of the plastic film support used as the support for the processless lithographic printing plate of the present invention include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyvinyl acetal, polycarbonate, cellulose diacetate, cellulose triacetate, and propion. Examples include acid cellulose, cellulose butyrate, and cellulose nitrate. The surface of these plastic film supports is subjected to various hydrophilization treatments for the purpose of improving the adhesion with the hydrophilic layer and providing water retention to the non-image area. Such hydrophilic treatment includes chemical treatment, discharge treatment, glow discharge treatment, flame treatment, ultraviolet treatment, high-frequency treatment, active plasma treatment, laser treatment, and other surface treatments, and a hydrophilic layer is coated on the surface. The method etc. are mentioned, You may implement these processes in combination.

上記のようにして親水性層上に形成された感光層は、密着露光或いはレーザー走査露光を行った後、現像液により未露光部を除去する事でパターン形成が行われる。露光された部分は架橋する事で現像液に対する溶解性が低下し、画像部が形成される。   The photosensitive layer formed on the hydrophilic layer as described above is subjected to contact exposure or laser scanning exposure, and then a pattern is formed by removing an unexposed portion with a developer. The exposed portion is cross-linked, so that the solubility in a developing solution is lowered and an image portion is formed.

本発明のプロセスレス感光性平版印刷版における感光性の画像形成層は、水現像できる事が大きな特徴である。水現像に用いられる現像液は、従来から一般に用いられているアルカリ剤を多量に含有する強アルカリの現像液(通常pH10を超える)とは異なり、実質的にアルカリ剤は含まない。従って、本発明の水現像に用いられる現像液のpHは10以下であり、好ましくはpH9.5以下であり、より好ましくはpH9以下である。pHの下限は3程度である。本発明の水現像に用いられる現像液は、水が現像液全体の70質量%以上、更には80質量%以上を占めるものであり、他に添加剤として、エタノール、イソプロパノール、n−ブチルセルソルブ、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、グリセリン、ベンジルアルコール等の各種有機溶剤、或いは、アニオン系、カチオン系、ノニオン系等の界面活性剤等を添加する事もできる。   The photosensitive image forming layer in the processless photosensitive lithographic printing plate of the present invention is characterized in that it can be developed with water. The developer used for water development is substantially free of an alkali agent, unlike a strong alkali developer (usually exceeding pH 10) which contains a large amount of an alkali agent generally used conventionally. Therefore, the pH of the developer used in the water development of the present invention is 10 or less, preferably pH 9.5 or less, and more preferably pH 9 or less. The lower limit of pH is about 3. The developer used in the water development of the present invention is such that water accounts for 70% by mass or more, more preferably 80% by mass or more of the total developer, and other additives include ethanol, isopropanol, and n-butyl cellosolve. Further, various organic solvents such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, glycerin and benzyl alcohol, or anionic, cationic and nonionic surfactants can be added.

合成例1
親水性ポリマー(WP−1)の合成例
攪拌機、温度計、還流冷却管及び窒素導入管を備えた1リッター4つ口フラスコ内に、アクリルアミド80g及びアクリル酸20gを秤量し、エタノール100g及び純水450gを添加して溶解した。60℃に調節した水浴上で、重合開始剤として2,2′−アゾビス(2−アミジノプロパン)二塩酸塩を0.4g添加して重合を開始した。重合開始後、系の温度が上昇するため、冷水を添加して内温を70℃に保ち、この温度で4時間攪拌を続けた。得られた共重合体溶液は精製せず、そのまま評価に用いた。
Synthesis example 1
Example of synthesis of hydrophilic polymer (WP-1) In a 1-liter four-necked flask equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser and nitrogen inlet tube, 80 g of acrylamide and 20 g of acrylic acid were weighed, 100 g of ethanol and pure water 450 g was added and dissolved. On a water bath adjusted to 60 ° C., 0.4 g of 2,2′-azobis (2-amidinopropane) dihydrochloride as a polymerization initiator was added to initiate polymerization. Since the temperature of the system increased after the start of polymerization, cold water was added to keep the internal temperature at 70 ° C., and stirring was continued at this temperature for 4 hours. The obtained copolymer solution was used for evaluation without purification.

下記組成の裏塗り層の塗液を作製した。次いで該塗液を、厚みが0.10mmの、ゼラチン下引き層を有するポリエチレンテレフタレートフィルム支持体上に、乾燥厚みが3.0μmになるよう30m塗布、乾燥した。これを50℃に保たれた恒温機に二日間入れ、架橋させた。   A coating solution for a backing layer having the following composition was prepared. Then, the coating solution was applied to a polyethylene terephthalate film support having a thickness of 0.10 mm and having a gelatin undercoat layer, and dried for 30 m so as to have a dry thickness of 3.0 μm. This was put into a thermostat kept at 50 ° C. for 2 days to be crosslinked.

<裏塗り層塗液1>
ゼラチン 40.0 質量部
デナコールEX614 4.0 質量部
(ナガセケムテックス(株)製;エポキシ化合物)
アロン−T50 0.1 質量部
金属酸化物 A(表1記載) 30.0 質量部
カーボンブラック(Aqua−Black 162(平均粒径100nm):東海カーボン(株)製)
3.0 質量部
水で100質量部に合わせた。
<Backcoat layer coating solution 1>
Gelatin 40.0 parts by mass Denacol EX614 4.0 parts by mass (manufactured by Nagase ChemteX Corporation; epoxy compound)
Aron-T50 0.1 parts by mass metal oxide A (described in Table 1) 30.0 parts by mass carbon black (Aqua-Black 162 (average particle size 100 nm): manufactured by Tokai Carbon Co., Ltd.)
It was adjusted to 100 parts by mass with 3.0 parts by mass of water.

この後に、上記裏塗り層を塗布したポリエチレンテレフタレートフィルムの反対側の面に下記組成の親水性層塗布液を作製し、乾燥厚みが1.5μmになるよう塗布、乾燥した。これを50℃に保たれた恒温機に二日間いれ、架橋させた。   Thereafter, a hydrophilic layer coating solution having the following composition was prepared on the opposite surface of the polyethylene terephthalate film coated with the backing layer, and coated and dried to a dry thickness of 1.5 μm. This was placed in a thermostat kept at 50 ° C. for 2 days to crosslink.

<塗布液>
親水性ポリマー(WP−1) 3.1 質量部
デナコールEX811 0.47 質量部
(ナガセケムテックス(株)製;エポキシ化合物)
PS−M 6.2 質量部
(日産化学(株)製;コロイダルシリカ)
エタノール 10.0 質量部
水で100質量部に合わせた。
<Coating solution>
Hydrophilic polymer (WP-1) 3.1 parts by mass Denacol EX811 0.47 parts by mass (manufactured by Nagase ChemteX Corporation; epoxy compound)
PS-M 6.2 parts by mass (Nissan Chemical Co., Ltd .; colloidal silica)
Ethanol 10.0 parts by mass Water was adjusted to 100 parts by mass.

下記組成の感光性組成物の塗液を作製し、次いで、該塗液を上記親水性層の上に、乾燥膜厚が1μm、70℃で2分間乾燥して試料を作製した。
<塗液A>
重合体A(CP−1) 3.0 質量部
光重合開始剤(BC−6) 0.5 質量部
光重合開始剤(T−4) 0.25質量部
増感色素(S−4) 0.1 質量部
青色顔料 0.1 質量部
1,3−ジオキソラン 25.0 質量部
水 25.0 質量部
A coating solution of a photosensitive composition having the following composition was prepared, and then the coating solution was dried on the hydrophilic layer at a dry film thickness of 1 μm and 70 ° C. for 2 minutes to prepare a sample.
<Coating liquid A>
Polymer A (CP-1) 3.0 parts by mass photopolymerization initiator (BC-6) 0.5 parts by mass photopolymerization initiator (T-4) 0.25 parts by mass sensitizing dye (S-4) 0 .1 part by weight blue pigment 0.1 part by weight 1,3-dioxolane 25.0 parts by weight water 25.0 parts by weight

上記試料を外径80mmの紙コアに30m巻き付け、端をテープ止めして黒ポリ袋に入れて35℃、相対湿度80%の環境下で1週間放置した。この後、袋から出してテープを外し、以下の基準で感光層と裏塗り層とのブロッキングを評価した。○:感光層と裏塗り層が全く付着しない。○△:フィルムのエッジ部分がやや接着している。△:フィルム内部の一部で感光層と裏塗り層が接着している。△×:フィルムの大部分が接着している。×:フィルムが剥がれない程に感光層と裏塗り層が接着している。結果を表1に示した。   The sample was wound around a paper core having an outer diameter of 80 mm for 30 m, the end was taped and placed in a black plastic bag, and allowed to stand for 1 week in an environment of 35 ° C. and relative humidity of 80%. Thereafter, the tape was removed from the bag, and the blocking between the photosensitive layer and the backing layer was evaluated according to the following criteria. ○: The photosensitive layer and the backing layer do not adhere at all. ○: The edge portion of the film is slightly adhered. (Triangle | delta): The photosensitive layer and the backing layer have adhere | attached in a part of film inside. Δ ×: Most of the film is adhered. X: The photosensitive layer and the backing layer are adhered so that the film is not peeled off. The results are shown in Table 1.

また、上記試料の一部を、35℃、相対湿度80%の環境下で放置せずに、深さ0.1mm、幅10mmの溝が掘られている感光ドラムに巻き付け、波長が830nmでスポット径20μmのレーザービームで2400dpi、175線の、50%の平網と80%の平網を露光エネルギー120mJ/cm2で露光を行った後、25℃の水に15秒に漬けてセルローススポンジで感光層を擦って現像し、乾燥した。 In addition, a part of the above sample is not left in an environment of 35 ° C. and a relative humidity of 80%, but is wound around a photosensitive drum in which a groove having a depth of 0.1 mm and a width of 10 mm is dug, and the wavelength is 830 nm. After exposing a 2400 dpi, 175 line 50% flat mesh and 80% flat mesh with an exposure energy of 120 mJ / cm 2 with a laser beam with a diameter of 20 μm, soak it in water at 25 ° C. for 15 seconds and use a cellulose sponge. The photosensitive layer was rubbed to develop and dried.

上記試料の50%平網を露光した箇所の網点面積率を測定した。更に、80%平網を露光した箇所を目視で観察し、ドラムの溝の模様が平網上に現れているか否かを下記基準で目視で評価した。○:画像部に溝の模様が全く見られない。△:薄くドラムの溝の模様が見られる。×:はっきりとドラムの溝の模様が見られる。結果を表1に示した。   The halftone dot area ratio of the portion of the sample exposed to 50% flat screen was measured. Further, the exposed portion of the 80% flat mesh was visually observed, and whether or not the drum groove pattern appeared on the flat mesh was visually evaluated according to the following criteria. ○: No groove pattern is seen in the image area. Δ: Drum groove pattern is seen thinly. X: Drum groove pattern is clearly seen. The results are shown in Table 1.

Figure 2009241300
Figure 2009241300

表1より判るように、比較例の試料は、高湿度条件下でブロッキングを引き起こすのに対して、本発明の試料は起こらなかった。又、カーボンブラックの添加によって、ドラムの溝の影響を防ぐ事が出来た。   As can be seen from Table 1, the sample of the comparative example caused blocking under high humidity conditions, whereas the sample of the present invention did not. Moreover, the addition of carbon black could prevent the influence of the groove of the drum.

実施例1の感光層に用いたポリマーを重合体B(SP−1)に変えた以外は全て実施例1と同じ条件で試料を作製し、実施例1と同じ基準での評価を行ったところ、同様の結果が得られた。   Samples were prepared under the same conditions as in Example 1 except that the polymer used in the photosensitive layer of Example 1 was changed to polymer B (SP-1), and evaluation was performed based on the same criteria as in Example 1. Similar results were obtained.

Claims (1)

プラスチックフィルム支持体上に親水性層と、側鎖にビニル基が置換したフェニル基を有するカチオン性水溶性重合体または側鎖にビニル基が置換したフェニル基及びスルホン酸基を含有する水溶性重合体、及び光重合開始剤又は光酸発生剤を含有する感光層を少なくともこの順に有し、プラスチックフィルム支持体の該感光層を有する側の反対側の面に金属酸化物とカーボンブラックを含有する裏塗り層を有するプロセスレス感光性平版印刷版。   Water-soluble polymer containing a hydrophilic layer on a plastic film support and a cationic water-soluble polymer having a phenyl group substituted with a vinyl group on the side chain or a phenyl group substituted with a vinyl group on the side chain and a sulfonic acid group And a photosensitive layer containing at least a photopolymerization initiator or a photoacid generator in this order, and containing a metal oxide and carbon black on the surface of the plastic film support opposite to the side having the photosensitive layer. Processless photosensitive lithographic printing plate with a backing layer.
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