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JP2009198693A - Imaging apparatus, camera, and method for manufacturing imaging apparatus - Google Patents

Imaging apparatus, camera, and method for manufacturing imaging apparatus Download PDF

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JP2009198693A
JP2009198693A JP2008038890A JP2008038890A JP2009198693A JP 2009198693 A JP2009198693 A JP 2009198693A JP 2008038890 A JP2008038890 A JP 2008038890A JP 2008038890 A JP2008038890 A JP 2008038890A JP 2009198693 A JP2009198693 A JP 2009198693A
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JP
Japan
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layer
imaging
conductive layer
particles
dust
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Application number
JP2008038890A
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Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Irita
丈司 入田
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
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Abstract

【課題】光路中の部材に対する塵埃の付着を防止できる撮像装置等を提供する。
【解決手段】
光学系による像を撮像する撮像部38と、前記撮像部に対向して備えられ光透過性を有する基材36と、前記基材の表面のうち、前記撮像部が配置されている側と反対側の表面に備えられた複数の粒子40aを含む粒子層40と、前記基材と前記粒子層との間に備えられた導電層42とを有する撮像装置。
【選択図】図2
An imaging device and the like that can prevent dust from adhering to members in an optical path.
[Solution]
An imaging unit 38 that captures an image by an optical system, a base material 36 that is provided opposite to the imaging unit and has optical transparency, and a surface of the base material that is opposite to a side where the imaging unit is disposed. The imaging device which has the particle layer 40 containing the some particle | grains 40a with which the surface of the side was equipped, and the electroconductive layer 42 provided between the said base material and the said particle layer.
[Selection] Figure 2

Description

本発明は、撮像装置およびカメラ、ならびに撮像装置の製造方法に関し、より詳細には、光路中の部材に対する塵埃の付着を防止できる撮像装置等に関する。   The present invention relates to an imaging device, a camera, and a manufacturing method of the imaging device, and more particularly to an imaging device that can prevent dust from adhering to members in an optical path.

デジタル一眼レフカメラに代表される撮像装置を有する光学機器では、光路中の透光部材に塵埃が付着し、撮影された像に前記塵埃が写り込むという問題が発生する場合がある。   In an optical apparatus having an imaging device typified by a digital single-lens reflex camera, there may be a problem that dust adheres to a translucent member in an optical path and the dust appears in a photographed image.

このような問題を解決する従来技術としては、被写体側の面に単層の微粒子が配列されており、塵埃の付着を防止した光学素子を有する撮像装置が知られている(特許文献1参照)。   As a conventional technique for solving such a problem, there has been known an imaging apparatus having an optical element in which fine particles of a single layer are arranged on the surface on the object side and dust is prevented from adhering (see Patent Document 1). .

しかしながら、単層の微粒子が配列された光学素子は、例えば清掃作業等による物理的な衝撃によって層の一部が欠損する場合があり、当該膜の欠損部分に塵埃が付着するという問題が発生していた。また、従来技術に関する光学素子では、静電力を主要因とする塵埃の付着を十分に防止することができず、問題となっていた。
特開2007−135005号公報
However, an optical element in which fine particles of a single layer are arranged may cause a part of the layer to be lost due to a physical impact, for example, due to a cleaning operation or the like, which causes a problem that dust adheres to the missing part of the film. It was. Further, the optical elements related to the prior art cannot sufficiently prevent the adhesion of dust mainly due to electrostatic force, which is a problem.
JP 2007-135005 A

本発明は、このような実情に鑑みてなされ、その目的は、光路中の部材に対する塵埃の付着を防止できる撮像装置等を提供することである。   The present invention has been made in view of such circumstances, and an object thereof is to provide an imaging device or the like that can prevent dust from adhering to members in an optical path.

上記課題を解決するために、本発明に係る撮像装置は、
光学系による像を撮像する撮像部(38)と、
前記撮像部に対向して備えられ光透過性を有する基材(36)と、
前記基材の表面のうち、前記撮像部が配置されている側と反対側の表面に備えられた複数の粒子(40a)を含む粒子層(40)と、
前記基材と前記粒子層との間に備えられた導電層(42)とを有することを特徴とする。
In order to solve the above problems, an imaging apparatus according to the present invention provides:
An imaging unit (38) for imaging an image by an optical system;
A base material (36) provided opposite to the imaging unit and having optical transparency;
A particle layer (40) including a plurality of particles (40a) provided on the surface opposite to the side on which the imaging unit is disposed, of the surface of the substrate;
It has the conductive layer (42) provided between the said base material and the said particle layer, It is characterized by the above-mentioned.

また、例えば、前記粒子は、撥水性を有していてもよい。   For example, the particles may have water repellency.

また、例えば、前記粒子層は、前記粒子が多層状に集まった構造を有していてもよい。   Further, for example, the particle layer may have a structure in which the particles are gathered in a multilayer shape.

また、例えば、前記導電層の粒子層側の表面には、当該導電層に前記粒子を固着するための接着層(44)が形成されていてもよい。   Further, for example, an adhesive layer (44) for fixing the particles to the conductive layer may be formed on the surface of the conductive layer on the particle layer side.

また、例えば、前記導電層は、前記粒子を含まないものであってもよい。   For example, the conductive layer may not contain the particles.

また、例えば、前記粒子層の層厚は、前記粒子の平均粒径よりも大きくてもよい。   For example, the layer thickness of the particle layer may be larger than the average particle diameter of the particles.

また、例えば、前記粒子の平均粒径は、5nm以上200nm以下であってもよい。   For example, the average particle diameter of the particles may be 5 nm or more and 200 nm or less.

また、例えば、前記粒子は、シリコン、フッ素のうち、少なくとも一方を含んでいてもよい。   In addition, for example, the particles may contain at least one of silicon and fluorine.

本発明に係るカメラは、上記いずれかの撮像装置を有する。   The camera according to the present invention includes any one of the imaging devices described above.

本発明に係る撮像装置の製造方法は、光を透過する基材(36)の上に導電性を有する導電層(42)を形成し、前記導電層の上に粒子(40a)を層状に形成することを特徴とする。   In the manufacturing method of an imaging device according to the present invention, a conductive layer (42) having conductivity is formed on a base material (36) that transmits light, and particles (40a) are formed in layers on the conductive layer. It is characterized by doing.

また、例えば、本発明に係る撮像装置の製造方法において、前記導電層の上に粒子を層状に形成する工程を複数回行っても良い。   In addition, for example, in the method for manufacturing an imaging device according to the present invention, the step of forming particles in a layer shape on the conductive layer may be performed a plurality of times.

なお上述の説明では、本発明をわかりやすく説明するために実施形態を示す図面の符号に対応づけて説明したが、本発明は、これに限定されるものでない。後述の実施形態の構成を適宜改良してもよく、また、少なくとも一部を他の構成物に代替させてもよい。さらに、その配置について特に限定のない構成要件は、実施形態で開示した配置に限らず、その機能を達成できる位置に配置することができる。   In the above description, in order to explain the present invention in an easy-to-understand manner, the description is made in association with the reference numerals of the drawings showing the embodiments. However, the present invention is not limited to this. The configuration of the embodiment described later may be improved as appropriate, or at least a part of the configuration may be replaced with another component. Further, the configuration requirements that are not particularly limited with respect to the arrangement are not limited to the arrangement disclosed in the embodiment, and can be arranged at a position where the function can be achieved.

以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。なお、各図面に示される部材は、説明の都合上、部分的に大きさを誇張して記載している。
図1は、本発明の第1〜第3実施形態に係る撮像装置を備えるデジタル一眼レフカメラの概略断面図、
図2は、本発明の第1実施形態に係る撮像装置に備えられた防塵フィルタの要部拡大図、
図3は、本発明の第2実施形態に係る撮像装置に備えられた防塵フィルタの要部拡大図、
図4は、本発明の第3実施形態に係る撮像装置に備えられた防塵フィルタの要部拡大図
図5は、本発明の第4実施形態に係る撮像装置を備えるデジタル一眼レフカメラの概略断面図、
図6は、本発明の第5実施形態に係る撮像装置を備えるデジタル一眼レフカメラの概略断面図である。
第1実施形態
Hereinafter, the present invention will be described based on embodiments shown in the drawings. Note that the members shown in each drawing are partially exaggerated for convenience of explanation.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a digital single-lens reflex camera including an imaging device according to first to third embodiments of the present invention.
FIG. 2 is an enlarged view of a main part of a dustproof filter provided in the imaging apparatus according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 3 is an enlarged view of a main part of a dustproof filter provided in an imaging apparatus according to the second embodiment of the present invention.
FIG. 4 is an enlarged view of a main part of a dustproof filter provided in an imaging apparatus according to the third embodiment of the present invention. FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of a digital single lens reflex camera including the imaging apparatus according to the fourth embodiment of the present invention. Figure,
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of a digital single-lens reflex camera including an imaging apparatus according to the fifth embodiment of the present invention.
First embodiment

図1は、本発明の第1実施形態に係る撮像ユニット30を備えたデジタル一眼レフ型カメラに関する概略断面図であり、カメラボディ4の側断面を表している。カメラボディ4の筐体6には開口部8が形成されており、開口部8の周辺にはレンズマウント10が形成されている。撮影時には、開口部8を覆うように交換レンズ(不図示)が設置され、交換レンズによって導かれた撮影光が、筐体6内部に導入される。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a digital single-lens reflex camera equipped with an imaging unit 30 according to the first embodiment of the present invention, and shows a side cross-section of the camera body 4. An opening 8 is formed in the housing 6 of the camera body 4, and a lens mount 10 is formed around the opening 8. At the time of photographing, an interchangeable lens (not shown) is installed so as to cover the opening 8, and photographing light guided by the interchangeable lens is introduced into the housing 6.

カメラボディ4の筐体6内部には、クイックリターンミラー12,ファインダスクリーン14、ペンタプリズム16、接眼レンズ22、シャッタ20および撮像ユニット30等が具備してある。   In the housing 6 of the camera body 4, a quick return mirror 12, a finder screen 14, a pentaprism 16, an eyepiece lens 22, a shutter 20, an imaging unit 30, and the like are provided.

撮像ユニット30は、防塵フィルタ32および撮像素子38を有する。撮像素子38は、交換レンズが取り付けられるレンズマウント10側(X軸負方向側)の表面に、撮影光を受光する受光面を有している。防塵フィルタ32は、撮像素子38の受光面を覆うように、撮像素子38のX軸負方向側に配置されている。したがって、撮影時においてシャッタ20が開放されると、当該シャッタ20を通過した撮影光は、防塵フィルタ32を透過したのち、撮像素子38の受光面に入射し、撮像素子38によって光電交換される。   The imaging unit 30 includes a dustproof filter 32 and an imaging element 38. The image sensor 38 has a light receiving surface for receiving photographing light on the surface on the lens mount 10 side (X-axis negative direction side) to which the interchangeable lens is attached. The dust filter 32 is disposed on the X axis negative direction side of the image sensor 38 so as to cover the light receiving surface of the image sensor 38. Accordingly, when the shutter 20 is opened at the time of photographing, the photographing light that has passed through the shutter 20 passes through the dust filter 32 and then enters the light receiving surface of the image sensor 38 and is photoelectrically exchanged by the image sensor 38.

なお、各部材の配置については、開口部8を覆うように設置される交換レンズによって導入された撮影光が、撮像素子38に向かって、進行する方向をX軸の正方向として説明を行う。また、クイックリターンミラー12で反射された撮影光が、ペンタプリズム16に向かって進行する方向をZ軸の正方向、X軸方向およびZ軸方向に直交する方向をY方向として説明を行う。   Note that the arrangement of each member will be described with the direction in which the imaging light introduced by the interchangeable lens installed so as to cover the opening 8 travels toward the imaging element 38 is the positive direction of the X axis. Further, the description will be made assuming that the direction in which the photographing light reflected by the quick return mirror 12 travels toward the pentaprism 16 is the positive direction of the Z axis, the X axis direction, and the direction perpendicular to the Z axis direction is the Y direction.

防塵フィルタ32は、基材部36と微粒子層40と導電層42とを有する。基材部36は、防塵フィルタ32における撮像素子38側に形成されており、撮像素子38の受光面に対して接着剤層等を介して密着するように固定されている。本実施形態に係る基材部36は、撮像に際して偽色(色モアレ)の発生を防止する光学ローパスフィルタである。   The dust filter 32 has a base material portion 36, a fine particle layer 40, and a conductive layer 42. The base material portion 36 is formed on the image sensor 38 side of the dust filter 32 and is fixed so as to be in close contact with the light receiving surface of the image sensor 38 via an adhesive layer or the like. The base material portion 36 according to the present embodiment is an optical low-pass filter that prevents generation of false colors (color moire) during imaging.

図2は、図1に示す撮像装置に備えられた防塵フィルタ32の要部拡大図である。防塵フィルタ32は、基材部36の表面のうち、撮像素子38が配置されている側と反対側の基材部36表面に、微粒子層40と導電層42とを有している。微粒子層40は、微粒子40aが層状に集まって形成されている。   FIG. 2 is an enlarged view of a main part of the dustproof filter 32 provided in the imaging apparatus shown in FIG. The dustproof filter 32 has a fine particle layer 40 and a conductive layer 42 on the surface of the base material portion 36 opposite to the side on which the imaging element 38 is disposed, of the surface of the base material portion 36. The fine particle layer 40 is formed by collecting fine particles 40a in layers.

微粒子層40の最表面40bには、個々の微粒子40aの表面形状に沿う微細な凹凸が形成されている。ここで、微粒子40aの大きさは特に限定されないが、微粒子40aの平均粒径を5nm〜200nmとすることが好ましい。微粒子40aの粒径を所定の値より大きくすることにより、後述する微粒子40aの特性を得やすくなり、また所定の値より小さくすることにより、撮影光が微粒子40aによって過剰に散乱されることを防止できる。   On the outermost surface 40b of the fine particle layer 40, fine irregularities are formed along the surface shape of the individual fine particles 40a. Here, the size of the fine particles 40a is not particularly limited, but the average particle size of the fine particles 40a is preferably 5 nm to 200 nm. By making the particle size of the fine particles 40a larger than a predetermined value, it becomes easier to obtain the characteristics of the fine particles 40a described later, and by making the particle size smaller than the predetermined value, the photographing light is prevented from being excessively scattered by the fine particles 40a. it can.

また、微粒子層40は、微粒子40aが層状に集まって形成されており、好ましくは図2に示すように、微粒子40aが多層状に集まった構造を有する。微粒子層40が多層構造であれば、物理的な衝撃等により微粒子層40の最表面40bにある微粒子40aが剥離した場合、下層の微粒子40aが最表面40bに露出する。したがって、微粒子層40に欠損部分が発生せず、基材部36の表面が微粒子層40によって覆われた状態が維持される。   The fine particle layer 40 is formed by collecting fine particles 40a in a layered form, and preferably has a structure in which the fine particles 40a are collected in multiple layers as shown in FIG. If the fine particle layer 40 has a multilayer structure, when the fine particles 40a on the outermost surface 40b of the fine particle layer 40 are peeled off due to physical impact or the like, the lower layer fine particles 40a are exposed to the outermost surface 40b. Therefore, a defect portion does not occur in the fine particle layer 40, and the state where the surface of the base material portion 36 is covered with the fine particle layer 40 is maintained.

さらに、防塵フィルタ32は、基材部36と微粒子層40との間に形成された導電層42を有する。導電層42は、導電性を有し、撮影光を透過する材料によって構成されるが、例えば、ITO(酸化インジウムスズ)やZnOなどの透明導電材料によって構成される。微粒子層40の下層に導電層42が形成されていることによって、微粒子層40の最表面40bの表面抵抗が低下するため、当該最表面40bの帯電を防止することができる。なお、導電層42は、最表面40bの帯電を効果的に防止する観点から、微粒子40aを含まないことが好ましい。   Further, the dust filter 32 has a conductive layer 42 formed between the base material portion 36 and the fine particle layer 40. The conductive layer 42 is made of a material that has conductivity and transmits photographing light. For example, the conductive layer 42 is made of a transparent conductive material such as ITO (indium tin oxide) or ZnO. Since the conductive layer 42 is formed in the lower layer of the fine particle layer 40, the surface resistance of the outermost surface 40b of the fine particle layer 40 is reduced, so that charging of the outermost surface 40b can be prevented. The conductive layer 42 preferably does not contain the fine particles 40a from the viewpoint of effectively preventing the charging of the outermost surface 40b.

図2に示す防塵フィルタ32は、上述のような微粒子層40と導電層42とを有することによって、以下に説明するように、防塵フィルタ32におけるX軸負方向側の表面に塵埃が付着することを効果的に防止できる。ここで防塵フィルタ32の周辺に浮遊する塵埃が、防塵フィルタ32へ付着する際に作用する付着力は、主として液架橋力、分子間力、静電力の3種類の力によって構成される。   The dust-proof filter 32 shown in FIG. 2 has the fine particle layer 40 and the conductive layer 42 as described above, so that dust adheres to the surface of the dust-proof filter 32 on the negative side of the X-axis as described below. Can be effectively prevented. Here, the adhesion force that acts when dust floating around the dust filter 32 adheres to the dust filter 32 is mainly composed of three types of forces: liquid bridge force, intermolecular force, and electrostatic force.

微粒子層40の最表面40bと塵埃との間に作用する液架橋力については、最表面40bに形成された微細な凹凸によって、例えば基材部36によって構成される表面のように微細な凹凸がない表面に比べて弱くなる。微細な凹凸によって、最表面40bと塵埃との接触面積が小さくなり、それに伴って、接触面同士を架橋する液架橋力も、全体として弱められるからである。   About the liquid bridge | crosslinking force which acts between the outermost surface 40b of the fine particle layer 40 and dust, fine unevenness | corrugations like the surface comprised by the base material part 36 are carried out by the fine unevenness | corrugation formed in the outermost surface 40b, for example. Not as weak as the surface. This is because the contact area between the outermost surface 40b and dust is reduced by the fine irregularities, and accordingly, the liquid cross-linking force for cross-linking the contact surfaces is weakened as a whole.

また、微粒子層40を構成する微粒子40aを、図2に示すように略球形状とすることによって、最表面40bと塵埃との接触面積をさらに小さくし、これらの間に作用する液架橋力をさらに小さくすることができる。また、微粒子40aは、シリコン、フッ素のうち、少なくとも一方を含んでいてもよい。これら撥水性を有する元素を微粒子40aが含むことにより、塵埃に含まれる水分と微粒子40aの接触角が大きくなるため、最表面40bと塵埃との間に作用する液架橋力をさらに弱めることができる。   Further, by making the fine particles 40a constituting the fine particle layer 40 into a substantially spherical shape as shown in FIG. 2, the contact area between the outermost surface 40b and dust is further reduced, and the liquid bridging force acting between them is increased. It can be further reduced. The fine particles 40a may contain at least one of silicon and fluorine. When the fine particles 40a contain these elements having water repellency, the contact angle between the moisture contained in the dust and the fine particles 40a is increased, so that the liquid bridging force acting between the outermost surface 40b and the dust can be further weakened. .

微粒子層40の最表面40bと塵埃との間に作用する分子間力についても、最表面40bに形成された微細な凹凸によって、例えば基材部36によって構成される表面のように微細な凹凸がない表面に比べて弱くなる。最表面40bと塵埃との接触面積が小さくなるのに伴って、微粒子層40または塵埃を構成する分子間の距離も大きくなり、微粒子層40と塵埃に働く分子間力が全体として弱められるからである。   As for the intermolecular force acting between the outermost surface 40b of the fine particle layer 40 and the dust, the fine irregularities formed on the outermost surface 40b have fine irregularities such as the surface constituted by the base material portion 36, for example. Not as weak as the surface. As the contact area between the outermost surface 40b and the dust decreases, the distance between the molecules constituting the fine particle layer 40 or the dust also increases, and the intermolecular force acting on the fine particle layer 40 and the dust is weakened as a whole. is there.

微粒子層40の最表面40bと塵埃との間に作用する静電力は、微粒子層40の下層に形成された導電層42によって弱められる。導電層42によって、当該導電層42の上層である薄い微粒子層40の最表面40bの表面抵抗が低下し、最表面40bに発生する静電荷が効率的に逃がされ、最表面40bの帯電が防止されるからである。   The electrostatic force acting between the outermost surface 40 b of the fine particle layer 40 and dust is weakened by the conductive layer 42 formed under the fine particle layer 40. The conductive layer 42 lowers the surface resistance of the outermost surface 40b of the thin fine particle layer 40, which is the upper layer of the conductive layer 42, efficiently releases the static charge generated on the outermost surface 40b, and charges the outermost surface 40b. This is because it is prevented.

以上のように、微粒子層40と導電層42とを有する防塵フィルタ32は、塵埃が防塵フィルタ32へ付着する際に作用する液架橋力、分子間力、静電力のすべてを弱めることができる。したがって、本実施形態に係る防塵フィルタ32は、最表面40bへの塵埃の付着を極めて効果的に防止できる。   As described above, the dustproof filter 32 having the fine particle layer 40 and the conductive layer 42 can weaken all of the liquid bridging force, intermolecular force, and electrostatic force that act when dust adheres to the dustproof filter 32. Therefore, the dustproof filter 32 according to the present embodiment can extremely effectively prevent dust from adhering to the outermost surface 40b.

また、本実施形態に係る防塵フィルタ32は、微粒子層40の構造を、微粒子40aの多層構造とすることによって、上述のような塵埃付着防止効果の信頼性を高めることができる。例えば、カメラの組み立て時やユーザーメンテナンスの際に、洗浄液を含ませた洗浄紙を図2に示す最表面40bに押し当てて拭くことによって、防塵フィルタ32に付着した塵埃を除去する清掃作業が行われる場合がある。   Further, the dustproof filter 32 according to the present embodiment can increase the reliability of the dust adhesion preventing effect as described above by making the fine particle layer 40 a multilayer structure of the fine particles 40a. For example, when assembling the camera or performing user maintenance, a cleaning operation is performed to remove dust adhering to the dustproof filter 32 by pressing and wiping the cleaning paper containing the cleaning liquid against the outermost surface 40b shown in FIG. May be.

このため、微粒子層40には、清掃作業等において発生する物理的な衝撃や化学的な作用を受けた場合でも、塵埃付着防止効果を維持する信頼性が求められる。微粒子層40が多層構造であれば、物理的な衝撃等により微粒子層40の最表面40bにある微粒子40aが一部剥離した場合、下層の微粒子40aが最表面40bに露出する。   For this reason, the fine particle layer 40 is required to have a reliability that maintains the effect of preventing the adhesion of dust even when subjected to a physical impact or chemical action generated in a cleaning operation or the like. If the fine particle layer 40 has a multilayer structure, when the fine particles 40a on the outermost surface 40b of the fine particle layer 40 are partially peeled off due to physical impact or the like, the lower fine particles 40a are exposed to the outermost surface 40b.

したがって、微粒子層40に欠損部分が発生せず、基材部36の表面が微粒子層40によって覆われた状態が維持され、防塵フィルタ32の塵埃付着防止効果が保たれる。また、下層の微粒子40aが最表面40bに露出した場合は、表面状態が異なる導電層42または基材部36が露出した場合と比較して、防塵フィルタ32の光学性能の変化も抑制される。なお、微粒子層40の層厚を微粒子40aの平均粒径より大きくするように、微粒子40aを微粒子層40の厚さ方向にずらして配置した場合も、多層に配置した場合と同様の効果を得ることができる。   Therefore, a defect portion does not occur in the fine particle layer 40, the state where the surface of the base material portion 36 is covered with the fine particle layer 40 is maintained, and the dust adhesion preventing effect of the dust filter 32 is maintained. Further, when the lower layer fine particles 40a are exposed on the outermost surface 40b, the change in the optical performance of the dustproof filter 32 is also suppressed as compared with the case where the conductive layer 42 or the base material portion 36 having a different surface state is exposed. Even when the fine particles 40a are shifted in the thickness direction of the fine particle layer 40 so that the layer thickness of the fine particle layer 40 is larger than the average particle diameter of the fine particles 40a, the same effect as the case where the fine particles 40a are arranged in multiple layers is obtained. be able to.

微粒子層40を多層に備え、さらに基材部36と微粒子層40の間に導電層42を備えることの両者によって、塵埃が表面に付着するあらゆる力を弱め(液架橋力と分子間力は微粒子層40によって弱まり、静電力は導電層42の存在によって弱まる)ながら、なおかつ防塵フィルタ32表面が拭き取り清掃可能な機械的強度を有する(微粒子層40が多層であり、かつ導電層42が基材部36と微粒子層40の間にある)、実用性のたいへん高い防塵フィルタ32が実現できる。   By providing the fine particle layer 40 in multiple layers and further providing the conductive layer 42 between the base material portion 36 and the fine particle layer 40, all the forces of dust adhering to the surface are weakened (liquid crosslinking force and intermolecular force are fine particles). The electrostatic force is weakened by the presence of the conductive layer 42 and the surface of the dustproof filter 32 has mechanical strength that can be wiped off and cleaned (the fine particle layer 40 is a multilayer and the conductive layer 42 is a base material portion). 36 and the fine particle layer 40), and the dustproof filter 32 having very high practicality can be realized.

図2に示すような防塵フィルタ32の製造方法は、特に限定されないが、例えば以下に示す製造方法によって作製することができる。まず、基材部36の一方の表面に、ITO等の導電材料を原材料とする導電層42を成膜する。導電層42の成膜方法は、特に限定されないが、スパッタ法、蒸着法、レーザー・デポジション法、イオンプレーティング法、スプレー法、ディップ法、CVD法等を用いることができる。   Although the manufacturing method of the dustproof filter 32 as shown in FIG. 2 is not specifically limited, For example, it can produce with the manufacturing method shown below. First, a conductive layer 42 made of a conductive material such as ITO as a raw material is formed on one surface of the base material portion 36. A method for forming the conductive layer 42 is not particularly limited, and a sputtering method, a vapor deposition method, a laser deposition method, an ion plating method, a spray method, a dipping method, a CVD method, or the like can be used.

導電層42を成膜した後に、SiOもしくはMgFなど可視光を透過する材料で作製された微粒子40aを、導電層42の上に層状に集め、微粒子層40を形成する。微粒子層40の成膜方法としては、特に限定されないが、例えばラングミュア−ブロジェット(Langmuir-Blodgett)法(LB法)、印刷法、レーザー・デポジション法等を用いることができる。 After forming the conductive layer 42, the fine particles 40 a made of a material that transmits visible light, such as SiO 2 or MgF 2, are collected in layers on the conductive layer 42 to form the fine particle layer 40. A method for forming the fine particle layer 40 is not particularly limited, and for example, a Langmuir-Blodgett method (LB method), a printing method, a laser deposition method, or the like can be used.

微粒子40aが多層状に集まった構造を有する微粒子層40は、例えばラングミュア−ブロジェット法を用いて、単層の微粒子層を、導電層42が形成された基材部36表面に複数回形成することによって作製することができる。
第2および第3実施形態
In the fine particle layer 40 having a structure in which the fine particles 40a are gathered in a multilayer shape, a single fine particle layer is formed a plurality of times on the surface of the base material portion 36 on which the conductive layer 42 is formed using, for example, the Langmuir-Blodgett method. Can be produced.
Second and third embodiments

図3および図4は、第2および第3実施形態に係る撮像ユニットに備えられた防塵フィルタ32の要部拡大図である。防塵フィルタ32以外の部分については、図1に示す第1実施形態と同様である。   3 and 4 are enlarged views of main parts of the dustproof filter 32 provided in the imaging units according to the second and third embodiments. The parts other than the dust filter 32 are the same as those in the first embodiment shown in FIG.

図3に示す第2実施形態に係る防塵フィルタ32は、基材部36、導電層42、微粒子層40に加えて、接着層44を有している。接着層44は、導電層42の微粒子層40側の表面に形成されており、導電層42に微粒子40aを固着している。   The dust filter 32 according to the second embodiment shown in FIG. 3 includes an adhesive layer 44 in addition to the base material portion 36, the conductive layer 42, and the fine particle layer 40. The adhesive layer 44 is formed on the surface of the conductive layer 42 on the fine particle layer 40 side, and the fine particles 40 a are fixed to the conductive layer 42.

接着層44の形成方法としては、特に限定されないが、導電層42の表面に、テトラエトキシシラン(TEOS[Si(OC2H5)4)])等のアルキル基を含む化合物を含む材料を成膜することによって形成することができる。第2実施形態に係る防塵フィルタ32では、基材部36の表面に導電層42を形成し、導電層42の表面に接着層44を形成し、接着層44の表面に微粒子40aを層状に形成した微粒子層40を形成する。接着層44は、微粒子層40と導電層42とをより強固に固定するため、図3に示す防塵フィルタ32は、最表面40b近傍の機械的強度が高く、物理的な衝撃等受けた場合でも、微粒子40aが剥離しにくい。   A method for forming the adhesive layer 44 is not particularly limited, and a film containing a compound containing an alkyl group such as tetraethoxysilane (TEOS [Si (OC2H5) 4)]) is formed on the surface of the conductive layer 42. Can be formed. In the dustproof filter 32 according to the second embodiment, the conductive layer 42 is formed on the surface of the base material portion 36, the adhesive layer 44 is formed on the surface of the conductive layer 42, and the fine particles 40 a are formed in layers on the surface of the adhesive layer 44. The fine particle layer 40 is formed. Since the adhesive layer 44 more firmly fixes the fine particle layer 40 and the conductive layer 42, the dustproof filter 32 shown in FIG. 3 has high mechanical strength in the vicinity of the outermost surface 40b, and even when subjected to a physical impact or the like. The fine particles 40a are difficult to peel off.

図4に示す防塵フィルタ32は、微粒子層40の微粒子40aが、接着層44に埋め込まれた状態となっている混合層46を有する。ただし、混合層46の最表面40bには、微粒子40aが露出しており、個々の微粒子40aの表面形状に沿う微細な凹凸が形成されている。   The dustproof filter 32 shown in FIG. 4 has a mixed layer 46 in which the fine particles 40 a of the fine particle layer 40 are embedded in the adhesive layer 44. However, the fine particles 40a are exposed on the outermost surface 40b of the mixed layer 46, and fine irregularities are formed along the surface shape of the individual fine particles 40a.

混合層46の形成方法としては、特に限定されないが、例えばゾルゲル法等を用いることができる。ゾルゲル法では、例えば微粒子状のコロイダルシリカとテトラエトキシシランとを所定の溶媒に均一に分散させた材料液を作製する。作製した材料液を、導電層42または接着層44表面にスピンコートするか、もしくはディッピング等により塗布し、所定の熱処理を施すことによって混合層46を形成する。   A method for forming the mixed layer 46 is not particularly limited, and for example, a sol-gel method or the like can be used. In the sol-gel method, for example, a material liquid is prepared in which fine colloidal silica and tetraethoxysilane are uniformly dispersed in a predetermined solvent. The prepared material liquid is spin-coated on the surface of the conductive layer 42 or the adhesive layer 44, or is applied by dipping or the like, and a predetermined heat treatment is performed to form the mixed layer 46.

混合層46の形成中に実施される熱処理によって、テトラエトキシシランが加水分解し、SiO2の連続膜が微粒子40aの周辺に形成さるため、この連続膜が微粒子40aを強固に固定する。したがって、第3実施形態に係る撮像ユニットに備えられた防塵フィルタ32は、機械的強度の高い微粒子層40を有し、防塵フィルタ32が物理的な衝撃や化学的な作用を受けた場合でも、塵埃付着防止効果を維持することができる。このように、第3および第4実施形態に係る撮像ユニットに備えられた防塵フィルタ32は、第1実施形態において説明した防塵フィルタ32が有する効果に加えて、耐久性および信頼性に優れているという効果を有する。
第4実施形態
By the heat treatment performed during the formation of the mixed layer 46, tetraethoxysilane is hydrolyzed and a continuous film of SiO2 is formed around the fine particles 40a, so that the continuous film firmly fixes the fine particles 40a. Therefore, the dustproof filter 32 provided in the imaging unit according to the third embodiment has the fine particle layer 40 with high mechanical strength, and even when the dustproof filter 32 is subjected to physical impact or chemical action, The effect of preventing dust adhesion can be maintained. Thus, the dustproof filter 32 provided in the imaging units according to the third and fourth embodiments is excellent in durability and reliability in addition to the effects of the dustproof filter 32 described in the first embodiment. It has the effect.
Fourth embodiment

図5は第4実施形態に係る撮像ユニットを備えたデジタル一眼レフカメラに関する概略断面図であり、カメラボディ4の側断面を表している。第4実施形態に係る撮像ユニット30では、防塵フィルタ32が、撮像素子38および光学ローパスフィルタ37に対して密封空間を挟んで配置されている。図5に示すデジタル一眼レフカメラは、撮像ユニット30を除き、図1に示すデジタル一眼レフカメラと同様である。   FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of a digital single-lens reflex camera provided with an imaging unit according to the fourth embodiment, and shows a side cross-section of the camera body 4. In the imaging unit 30 according to the fourth embodiment, the dustproof filter 32 is disposed with respect to the imaging element 38 and the optical low-pass filter 37 with a sealed space interposed therebetween. The digital single lens reflex camera shown in FIG. 5 is the same as the digital single lens reflex camera shown in FIG.

また、第4実施形態に係る防塵フィルタ32の基材部36は、光学ローパスフィルタ37および撮像素子38が配置されている密封空間内部への塵埃の侵入を防止するためのカバー部材である。カバー部材は、ガラスまたは樹脂等の可視光を透過する材料によって形成されている。防塵フィルタ32のX負方向側の表面に形成された微粒子層40および導電層42の形状および、これらの層の形成方法は、第1実施形態と同様である。   In addition, the base portion 36 of the dust filter 32 according to the fourth embodiment is a cover member for preventing dust from entering the sealed space in which the optical low-pass filter 37 and the image sensor 38 are disposed. The cover member is formed of a material that transmits visible light, such as glass or resin. The shape of the fine particle layer 40 and the conductive layer 42 formed on the surface on the X negative direction side of the dustproof filter 32 and the method of forming these layers are the same as in the first embodiment.

第4実施形態に係る撮像ユニット30では、光学ローパスフィルタ37および撮像素子38が、防塵フィルタ32に対して密封空間を挟んで配置されている。したがって撮像ユニット30は、光学ローパスフィルタ37および撮像素子38が防塵されているだけでなく、物理的な衝撃等からも保護されており、耐久性が高い。なお、第4実施形態に係る撮像ユニット30に備えられる防塵フィルタ32は、第1実施形態と同様に、防塵フィルタ32の表面に対する塵埃の付着を効果的に防止できる。
第5実施形態
In the imaging unit 30 according to the fourth embodiment, the optical low-pass filter 37 and the imaging element 38 are disposed with respect to the dust-proof filter 32 with a sealed space interposed therebetween. Therefore, the image pickup unit 30 is not only protected from dust by the optical low-pass filter 37 and the image pickup element 38, but also protected from physical impacts, and has high durability. Note that the dustproof filter 32 provided in the imaging unit 30 according to the fourth embodiment can effectively prevent dust from adhering to the surface of the dustproof filter 32 as in the first embodiment.
Fifth embodiment

図6は第5実施形態に係る撮像ユニット30を備えたデジタル一眼レフカメラに関する概略断面図であり、カメラボディ4の側断面を表している。第5実施形態に係る撮像ユニット30は、塵埃捕獲部材48を有している点と、防塵フィルタ32の導電層42に配線50が接続されている点とを除き、第1実施形態に係る撮像ユニットと同様である。   FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of a digital single-lens reflex camera including the imaging unit 30 according to the fifth embodiment, and shows a side cross-section of the camera body 4. The imaging unit 30 according to the fifth embodiment has the dust capturing member 48 and the imaging according to the first embodiment except that the wiring 50 is connected to the conductive layer 42 of the dust filter 32. Same as unit.

防塵フィルタ32の導電層42は、図6に示すように、配線50を介してカメラボディ4の筐体6と電気的に接続されている。防塵フィルタ32の導電層42は、筐体6と同電位に保たれるため、図6に示す防塵フィルタ32は微粒子層40の最表面が帯電することをより効果的に防止することができる。このように、第5実施形態に係る撮像ユニット30に備えられた防塵フィルタ32は、第1実施形態において説明した防塵フィルタ32が有する効果に加えて、静電力が作用する塵埃の付着をさらに効果的に防止するという効果を有する。   As shown in FIG. 6, the conductive layer 42 of the dust filter 32 is electrically connected to the housing 6 of the camera body 4 via the wiring 50. Since the conductive layer 42 of the dustproof filter 32 is kept at the same potential as the housing 6, the dustproof filter 32 shown in FIG. 6 can more effectively prevent the outermost surface of the particulate layer 40 from being charged. Thus, in addition to the effect which the dustproof filter 32 demonstrated in 1st Embodiment has in the dustproof filter 32 with which the imaging unit 30 which concerns on 5th Embodiment was equipped, the adhesion of the dust which an electrostatic force acts on is further effective. Has the effect of preventing.

また、塵埃捕獲部材48は、図6に示すように、防塵フィルタ32の周辺を囲うように配置されている。塵埃捕獲部材48は、たとえば粘着テープを有しており、粘着テープの粘着面によって、防塵フィルタ32近傍の空間に浮遊する塵埃を捕獲できるようになっている。このように第5実施形態では、塵埃捕獲部材48によって防塵フィルタ32に接近する塵埃を減少させることができるため、防塵フィルタ32への塵埃の付着をより効果的に防止することができる。なお、塵埃捕獲部材48としては、粘着テープを有するものに限られず、集塵フィルタを有するものや、静電力によって塵埃を捕獲するものであっても良い。
その他の実施形態
Further, as shown in FIG. 6, the dust capturing member 48 is arranged so as to surround the periphery of the dustproof filter 32. The dust trapping member 48 has, for example, an adhesive tape, and the dust floating in the space near the dustproof filter 32 can be captured by the adhesive surface of the adhesive tape. As described above, in the fifth embodiment, dust that approaches the dustproof filter 32 can be reduced by the dust trapping member 48, so that dust can be more effectively prevented from adhering to the dustproof filter 32. The dust capturing member 48 is not limited to one having an adhesive tape, and may be one having a dust collection filter or one that captures dust by electrostatic force.
Other embodiments

上述の実施形態では、デジタル一眼レフカメラに備えられた撮像ユニット30を用いて説明を行ったが、本発明に係る撮像ユニット30はこれに限られず、フィルム式一眼レフカメラ等、その他のカメラに備えられるものであってもよい。また、表面に導電層42および微粒子層40等を形成される基材部36は、光学ローパスフィルタやカバー部材に限られず、赤外線カットフィルタやその他の光学部品であってもよい。   In the above-described embodiment, the description has been made using the imaging unit 30 provided in the digital single-lens reflex camera. It may be provided. In addition, the base material portion 36 on which the conductive layer 42 and the fine particle layer 40 are formed on the surface is not limited to the optical low-pass filter or the cover member, but may be an infrared cut filter or other optical components.

図1は、本発明の第1〜第3実施形態に係る撮像装置を備えるデジタル一眼レフカメラの概略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a digital single-lens reflex camera including an imaging apparatus according to first to third embodiments of the present invention. 図2は、本発明の第1実施形態に係る撮像装置に備えられた防塵フィルタの要部拡大図である。FIG. 2 is an enlarged view of a main part of the dustproof filter provided in the imaging apparatus according to the first embodiment of the present invention. 図3は、本発明の第2実施形態に係る撮像装置に備えられた防塵フィルタの要部拡大図である。FIG. 3 is an enlarged view of a main part of the dustproof filter provided in the imaging apparatus according to the second embodiment of the present invention. 図4は、本発明の第3実施形態に係る撮像装置に備えられた防塵フィルタの要部拡大図である。FIG. 4 is an enlarged view of a main part of the dustproof filter provided in the imaging apparatus according to the third embodiment of the present invention. 図5は、本発明の第4実施形態に係る撮像装置を備えるデジタル一眼レフカメラの概略断面図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of a digital single-lens reflex camera including an imaging apparatus according to the fourth embodiment of the present invention. 図6は、本発明の第5実施形態に係る撮像装置を備えるデジタル一眼レフカメラの概略断面図である。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of a digital single-lens reflex camera including an imaging apparatus according to the fifth embodiment of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

6… 筐体
30… 撮像ユニット
32… 防塵フィルタ
36… 基材部
38… 撮像素子
40… 微粒子層
40a… 微粒子
40b… 最表面
42… 導電層
44… 接着層
46… 混合層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 6 ... Case 30 ... Imaging unit 32 ... Dust-proof filter 36 ... Base material part 38 ... Imaging element 40 ... Fine particle layer 40a ... Fine particle 40b ... Outermost surface 42 ... Conductive layer 44 ... Adhesive layer 46 ... Mixed layer

Claims (11)

光学系による像を撮像する撮像部と、
前記撮像部に対向して備えられ光透過性を有する基材と、
前記基材の表面のうち、前記撮像部が配置されている側と反対側の表面に備えられた複数の粒子を含む粒子層と、
前記基材と前記粒子層との間に備えられた導電層とを有することを特徴とする撮像装置。
An imaging unit for imaging an image by an optical system;
A base material that is provided opposite to the imaging unit and has optical transparency;
Of the surface of the base material, a particle layer including a plurality of particles provided on the surface opposite to the side where the imaging unit is disposed;
An imaging apparatus comprising: a conductive layer provided between the base material and the particle layer.
請求項1に記載された撮像装置であって、
前記粒子は、撥水性を有することを特徴とする撮像装置。
The imaging apparatus according to claim 1,
The image pickup apparatus, wherein the particles have water repellency.
請求項1又は請求項2に記載された撮像装置であって、
前記粒子層は、前記粒子が多層状に集まった構造を有することを特徴とする撮像装置。
The imaging apparatus according to claim 1 or 2,
The image pickup apparatus, wherein the particle layer has a structure in which the particles are gathered in a multilayer shape.
請求項1から3のいずれか1項に記載された撮像装置であって、
前記導電層の粒子層側の表面には、当該導電層に前記粒子を固着するための接着層が形成されていることを特徴とする撮像装置。
The imaging apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein
An image pickup apparatus, wherein an adhesive layer for fixing the particles to the conductive layer is formed on a surface of the conductive layer on the particle layer side.
請求項1から4のいずれか1項に記載された撮像装置であって、
前記導電層は、前記粒子を含まないことを特徴とする撮像装置。
The imaging apparatus according to any one of claims 1 to 4, wherein:
The imaging device, wherein the conductive layer does not include the particles.
請求項1から5のいずれか1項に記載された撮像装置であって、
前記粒子層の層厚は、前記粒子の平均粒径よりも大きいことを特徴とする撮像装置。
An imaging apparatus according to any one of claims 1 to 5, wherein
The imaging apparatus according to claim 1, wherein a thickness of the particle layer is larger than an average particle diameter of the particles.
請求項1から6のいずれか1項に記載された撮像装置であって、
前記粒子の平均粒径は、5nm以上200nm以下であることを特徴とする撮像装置。
The imaging apparatus according to any one of claims 1 to 6,
The average particle size of the particles is 5 nm to 200 nm.
請求項1から7のいずれか1項に記載された撮像装置であって、
前記粒子は、シリコン、フッ素のうち、少なくとも一方を含むことを特徴とする撮像装置。
The imaging apparatus according to any one of claims 1 to 7,
The imaging device, wherein the particles include at least one of silicon and fluorine.
請求項1から8のいずれかに記載の撮像装置を有するカメラ。   A camera comprising the imaging device according to claim 1. 光を透過する基材の上に導電性を有する導電層を形成し、前記導電層の上に粒子を層状に形成することを特徴とする撮像装置の製造方法。   A method for manufacturing an imaging device, comprising: forming a conductive layer having conductivity on a base material that transmits light; and forming particles in layers on the conductive layer. 請求項10に記載された製造方法であって、
前記導電層の上に粒子を層状に形成する工程を複数回行うことを特徴とする撮像装置の製造方法。
The manufacturing method according to claim 10, comprising:
A method of manufacturing an imaging device, wherein the step of forming particles in a layered form on the conductive layer is performed a plurality of times.
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JP2017010060A (en) * 2011-06-30 2017-01-12 キヤノン株式会社 Imaging apparatus and image forming apparatus

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013033225A (en) * 2011-06-30 2013-02-14 Canon Inc Imaging apparatus and image forming apparatus
JP2017010060A (en) * 2011-06-30 2017-01-12 キヤノン株式会社 Imaging apparatus and image forming apparatus

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