JP2009182184A - Manufacturing method of ceramic multilayer substrate - Google Patents
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- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
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Abstract
【課題】液滴を用いて形成したパターンの加工精度を向上させたセラミック多層基板の製造方法を提供する。
【解決手段】減圧包装工程において、積層体32の上側面に上側弾性板EP2を、積層体32の下側面に下側弾性板EP1を配置して、上側及び下側弾性板EP2,EP1を介して積層体32を真空封入するようにした。従って、乾燥パターンPDからの反力は、下側弾性板EP1と上側弾性板EP2にて吸収するため、乾燥パターンPDに係る押圧力は低減される。その結果、減圧包装工程において、グリーンシート23に形成された乾燥パターンPDの潰れや変形は防止でき、精度の高いパターンを形成することができる。
【選択図】図6A method for manufacturing a ceramic multilayer substrate with improved processing accuracy of a pattern formed using droplets is provided.
In a decompression packaging process, an upper elastic plate EP2 is disposed on an upper surface of a laminate 32, and a lower elastic plate EP1 is disposed on a lower surface of the laminate 32, and the upper and lower elastic plates EP2 and EP1 are interposed therebetween. Thus, the laminate 32 was vacuum-sealed. Therefore, since the reaction force from the dry pattern PD is absorbed by the lower elastic plate EP1 and the upper elastic plate EP2, the pressing force related to the dry pattern PD is reduced. As a result, in the vacuum packaging process, the dry pattern PD formed on the green sheet 23 can be prevented from being crushed and deformed, and a highly accurate pattern can be formed.
[Selection] Figure 6
Description
本発明は、セラミック多層基板の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a ceramic multilayer substrate.
低温焼成セラミック(LTCC:Low Temperature Co-fired Ceramics )技術は、グリーンシートと金属との一括焼成を可能にすることから、セラミックの層間に各種の受動素子を組み込んだ素子内蔵基板を具現できる。システム・オン・パッケージ(SOP)の実装技術においては、電子部品の複合化や表面実装部品に発生する寄生効果の最小化を図るため、この素子内蔵基板(以下単に、LTCC多層基板という。)に関わる製造方法が鋭意開発されている。 Low temperature co-fired ceramics (LTCC) technology enables the simultaneous firing of green sheets and metals, and thus can implement a device-embedded substrate incorporating various passive elements between ceramic layers. In the system-on-package (SOP) mounting technology, this element-embedded substrate (hereinafter simply referred to as an LTCC multilayer substrate) is used in order to reduce the parasitic effects that occur in the combination of electronic components and surface-mounted components. The manufacturing method involved has been intensively developed.
LTCC多層基板の製造方法では、複数のグリーンシートの各々に受動素子や配線等のパターンを描画する描画工程と、該パターンを有する複数のグリーンシートを積層して圧着する圧着工程と、圧着体を一括焼成する焼成工程とが順に実施される。 In the manufacturing method of the LTCC multilayer substrate, a drawing process for drawing a pattern such as a passive element or a wiring on each of a plurality of green sheets, a crimping process for laminating a plurality of green sheets having the pattern, and a crimping body, A firing step of batch firing is sequentially performed.
描画工程には、各種パターンの高密度化を図るため、導電性インクを微小な液滴にして吐出する、いわゆるインクジェット法が提案されている(例えば、特許文献1)。インクジェット法は、数ピコリットル〜数十ピコリットルの液滴を用い、該液滴の吐出位置の変更によってパターンの微細化や狭ピッチ化を可能にする。 In order to increase the density of various patterns in the drawing process, a so-called ink jet method is proposed in which conductive ink is discharged as fine droplets (for example, Patent Document 1). The ink-jet method uses droplets of several picoliters to several tens of picoliters, and enables pattern miniaturization and narrow pitch by changing the ejection position of the droplets.
前記圧着工程には、各グリーンシートの積層状態の安定化を図るため、該積層体に静水圧を加える、いわゆる静水圧成型法が提案されている(例えば、特許文献2〜4)。静水圧成型法は、積層体を減圧包装し、加熱した液体中に該積層体を静置して液体の静圧を上昇させる。これによって、積層体への等方的な加圧を可能にする。
図7(a)は描画工程によるパターンの平面図であり、図7(b)は図7(a)のA−A断面図である。図8(a)は圧着工程によるパターンの平面図であり、図8(b)は図8(a)のA−A断面図である。 Fig.7 (a) is a top view of the pattern by a drawing process, FIG.7 (b) is AA sectional drawing of Fig.7 (a). Fig.8 (a) is a top view of the pattern by a crimping | compression-bonding process, FIG.8 (b) is AA sectional drawing of Fig.8 (a).
インクジェット法に利用される導電性インクは、導電性微粒子の分散系であり、導電性粒子の粒径としては、一般的に、数nm〜数十nmが用いられる。図7(a)、(b)に示すように、描画工程を経てグリーンシート100に形成されたパターン101は、導電性微粒子102の集合体であり、焼成工程によって焼成されるまで、その状態を維持し続ける。
The conductive ink used in the inkjet method is a dispersion system of conductive fine particles, and the particle diameter of the conductive particles is generally several nm to several tens of nm. As shown in FIGS. 7A and 7B, the
ところで、上記圧着工程においては、パターン101を挟むグリーンシート100を真空包装袋に収容して、大気圧によって押圧する(減圧包装工程)した後、前記積層体に静水圧を加えて前記圧着体を形成する。この時、焼成前の導電性微粒子は、グリーンシート100との密着力や粒子間の結合力が弱いため、図8(a)、(b)に示すように、減圧包装時の大気圧によって容易に押し潰されてしまう。この結果、上記圧着工程では、パターン101がグリーンシート100の主面100aに沿って延びるように変形し、所望の
パターン領域104(図7及び図8における二点鎖線)から食み出し、隣のパターン101と接触しショートしてしまう問題があった。
By the way, in the said crimping | compression-bonding process, after accommodating the
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、その目的は、液滴を用いて形成したパターンの加工精度を向上させたセラミック多層基板の製造方法を提供することである。 The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a ceramic multilayer substrate with improved processing accuracy of a pattern formed using droplets.
本発明のセラミック多層基板の製造方法は、導電性微粒子を含んだ液状体を吐出手段にて液滴にしてグリーンシートに吐出して、前記グリーンシートに液状パターンを描画する描画工程と、前記液状パターンを乾燥させて前記グリーンシートに乾燥パターンを形成する乾燥工程と、前記乾燥パターンを形成した複数の前記グリーンシートを積層して積層体を形成する積層工程と、前記積層体を真空包装袋に収容して、前記真空包装袋内を減圧して前記積層体を減圧包装する減圧包装工程と、前記真空包装袋内にて減圧包装された前記積層体に、静水圧を加えて圧着体を形成する圧着工程と、前記圧着体を焼成する焼成工程とを有したセラミック多層基板の製造方法であって、前記減圧包装工程において、前記積層体の両側面に、前記グリーンシートより低い弾性率からなる弾性板を配設し、両弾性板を挟んで前記積層体を減圧包装させる。 The method for producing a ceramic multilayer substrate of the present invention includes a drawing step of drawing a liquid pattern on the green sheet by discharging a liquid containing conductive fine particles into droplets by a discharge means and discharging the liquid onto the green sheet; A drying step of drying a pattern to form a dry pattern on the green sheet, a laminating step of laminating a plurality of the green sheets on which the dry pattern is formed to form a laminate, and the laminate to a vacuum packaging bag The pressure-reducing packaging step of accommodating and depressurizing the inside of the vacuum packaging bag to decompress-wrap the laminate, and forming a pressure-bonded body by applying hydrostatic pressure to the laminate packaged under reduced pressure in the vacuum packaging bag And a firing process for firing the crimped body, wherein the green laminate is formed on both sides of the laminate in the vacuum packaging process. Arranged an elastic plate formed of a low elastic modulus than over preparative, the laminate is vacuum packaged across the both resilient plate.
本発明のセラミック多層基板の製造方法によれば、減圧包装工程において、積層体の両側面に、前記グリーンシートより低い弾性率からなる弾性板を配設し、両弾性板を挟んで前記積層体を減圧包装させるようにしたので、乾燥パターンに加えられる押圧力に対する乾燥パターンPDからの反力は、両弾性板にて吸収される。従って、減圧包装工程時にグリーンシーに形成された乾燥パターンに加わる押圧力は低減される。その結果、減圧包装工程時にグリーンシートに形成された乾燥パターンの潰れや変形は防止され、精度の高いパターンを形成することができる。 According to the method for producing a ceramic multilayer substrate of the present invention, in the decompression packaging step, elastic plates having an elastic modulus lower than that of the green sheet are disposed on both side surfaces of the laminate, and the laminate is sandwiched between both elastic plates. Since the packaging is decompressed, the reaction force from the drying pattern PD to the pressing force applied to the drying pattern is absorbed by both elastic plates. Therefore, the pressing force applied to the dry pattern formed on the green sea during the vacuum packaging process is reduced. As a result, the dry pattern formed on the green sheet during the decompression packaging process is prevented from being crushed and deformed, and a highly accurate pattern can be formed.
このセラミック多層基板の製造方法において、前記圧着工程において、前記弾性板を挟んだ状態で減圧包装された状態の前記積層体に静水圧を加えて前記圧着体を形成してもよい。 In the method for manufacturing a ceramic multilayer substrate, in the crimping step, the crimped body may be formed by applying hydrostatic pressure to the laminated body in a state where the elastic plate is sandwiched under reduced pressure.
このセラミック多層基板の製造方法によれば、圧着工程において、積層体の両側面に、グリーンシートより低い弾性率からなる弾性板を配設した状態で、積層体を圧着させるようにしたので、乾燥パターンに加えられる押圧力に対する乾燥パターンからの反力は、両側の弾性板にて吸収される。従って、圧着工程時に乾燥パターンに加わる押圧力も低減される。その結果、圧着工程時に、グリーンシートに形成された乾燥パターンの潰れや変形は防止され、精度の高いパターンを形成することができる。 According to this method for producing a ceramic multilayer substrate, in the crimping step, the laminated body is crimped in a state in which elastic plates having an elastic modulus lower than that of the green sheet are disposed on both side surfaces of the laminated body. The reaction force from the drying pattern against the pressing force applied to the pattern is absorbed by the elastic plates on both sides. Therefore, the pressing force applied to the dry pattern during the crimping process is also reduced. As a result, the dry pattern formed on the green sheet is prevented from being crushed and deformed during the crimping process, and a highly accurate pattern can be formed.
このセラミック多層基板の製造方法において、前記弾性板は、合成ゴムであってもよい。
このセラミック多層基板の製造方法によれば、合成ゴムで形成された弾性板は、乾燥パターンからの反力を、吸収することができる。
In this method for producing a ceramic multilayer substrate, the elastic plate may be a synthetic rubber.
According to this method for producing a ceramic multilayer substrate, the elastic plate formed of synthetic rubber can absorb the reaction force from the dry pattern.
このセラミック多層基板の製造方法において、前記真空包装袋内で減圧するとき、前記グリーンシートを加熱しながら減圧にしてもよい。
このセラミック多層基板の製造方法によれば、グリーンシートが軟化され、乾燥パターンからの反力は、あわせて該軟化されたグリーンシートが変形して吸収される。その結果、減圧包装行程時におけるパターンの潰れや変形は防止され、精度の高いパターンを形成することができる。
In this method for producing a ceramic multilayer substrate, when the pressure is reduced in the vacuum packaging bag, the pressure may be reduced while heating the green sheet.
According to this method for manufacturing a ceramic multilayer substrate, the green sheet is softened, and the reaction force from the dry pattern is also absorbed by the softened green sheet being deformed. As a result, the pattern is prevented from being crushed and deformed during the decompression packaging process, and a highly accurate pattern can be formed.
このセラミック多層基板の製造方法において、前記静水圧を加えて前記圧着体を形成するとき、前記グリーンシートを加熱しながら前記静水圧を加えてもよい。
このセラミック多層基板の製造方法によれば、グリーンシートが軟化され、乾燥パターンからの反力は、あわせて該軟化されたグリーンシートが変形して吸収される。その結果、圧着行程時におけるパターンの潰れや変形は防止され、精度の高いパターンを形成することができる。
In this method for producing a ceramic multilayer substrate, when the hydrostatic pressure is applied to form the crimped body, the hydrostatic pressure may be applied while heating the green sheet.
According to this method for manufacturing a ceramic multilayer substrate, the green sheet is softened, and the reaction force from the dry pattern is also absorbed by the softened green sheet being deformed. As a result, the pattern is prevented from being crushed and deformed during the crimping process, and a highly accurate pattern can be formed.
以下、本発明を具体化した第一実施形態を図1〜図6に従って説明する。図1は、本発明の製造方法を用いて製造したセラミック多層基板からなる回路モジュールの断面図である。 Hereinafter, a first embodiment embodying the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a cross-sectional view of a circuit module comprising a ceramic multilayer substrate manufactured using the manufacturing method of the present invention.
図1において、回路モジュール10は、セラミック多層基板としての低温焼成セラミック(LTCC:Low Temperature Co-fired Ceramics )多層基板11と、LTCC多層基板11に接続された半導体チップ12とを有する。
In FIG. 1, a
LTCC多層基板11は、積層された複数のLTCC基板13を有する。各LTCC基板13は、それぞれグリーンシートの焼結体であって、厚みが数十μ〜数百μmで形成されている。各LTCC基板13には、それぞれ抵抗素子、容量素子、コイル素子等の各種の内部素子14と、各内部素子14に電気的に接続する内部配線15とが形成されるとともに、それぞれスタックビア構造やサーマルビア構造を成すビア配線16が形成されている。
The
そして、内部素子14、内部配線15、及びビア配線16は、それぞれ導電性微粒子の焼結体であり、導電性インクを用いるインクジェット法によって形成される。
次に、上記LTCC多層基板11の製造方法を図2〜図6に従って説明する。図2はLTCC多層基板11の製造方法を示すフローチャートであり、図3〜図6はそれぞれLTCC多層基板11の製造方法を示す工程図である。
The
Next, a method for manufacturing the
図2において、LTCC多層基板11の製造方法では、LTCC基板13の前駆体であるグリーンシートに液状パターンを描画する描画工程(ステップS11)と、該液状パターンを乾燥し導電性微粒子の集合体よりなる乾燥パターンを形成する乾燥工程(ステップS12)とが順に実行される。次に、LTCC多層基板11の製造方法では、複数のグリーンシートを積層して積層体を形成する積層工程(ステップS13)と、該積層体を減圧包装する減圧包装工程(ステップS14)と、該積層体を圧着して圧着体を形成する圧着工程(ステップS15)と、該圧着体を焼成する焼成工程(ステップS16)とが順に実行される。
(描画工程)
図3において、描画工程では、積層シート20と、液滴吐出装置21とが用いられる。積層シート20は、キャリアフィルム22と、キャリアフィルム22上に形成されたグリーンシート23とからなる。
2, in the manufacturing method of the
(Drawing process)
In FIG. 3, in the drawing process, a laminated
キャリアフィルム22は、描画工程や乾燥工程においてグリーンシート23を支持するためのフィルムであり、例えばグリーンシート23との剥離性や各工程における機械的耐性に優れたプラスチックフィルムを用いることができる。キャリアフィルム22には、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルムを用いることができる。
The
グリーンシート23は、ガラスセラミック粉末やバインダ等を含むガラスセラミック組成物からなる層である。グリーンシート23の膜厚は、内部素子14としてコンデンサ素
子を形成する場合に数十μmで形成され、他の層においては100μm〜200μmで形成される。このグリーンシート23は、ドクターブレード法やリバースロールコータ法等のシート成形法を用い、分散媒でスラリー化したガラスセラミック組成物をキャリアフィルム22の上に塗布し、該塗布膜をハンドリング可能な状態に乾燥することによって得られる。
The
分散媒としては、例えば界面活性剤やシランカップリング剤等を用いることができ、ガラスセラミック粉末を均一に分散させるものであれば良い。
ガラスセラミック粉末は、0.1μm〜5μmの平均粒径を有する粉末であり、例えばアルミナやフォルステライト等のセラミック粉末にホウ珪酸系ガラスを混合したガラス複合セラミックを用いることができる。また、ガラスセラミック粉末としては、ZnO−MgO−Al2O3−SiO2系の結晶化ガラスを用いた結晶化ガラスセラミック、BaO−Al2O3−SiO2系セラミック粉末やAl2O3−CaO−SiO2−MgO−B2O3系セラミック粉末等を用いた非ガラス系セラミックを用いても良い。
As the dispersion medium, for example, a surfactant, a silane coupling agent, or the like can be used as long as it can uniformly disperse the glass ceramic powder.
The glass ceramic powder is a powder having an average particle diameter of 0.1 μm to 5 μm. For example, a glass composite ceramic obtained by mixing borosilicate glass with ceramic powder such as alumina or forsterite can be used. Further, as the glass ceramic powder, a crystallized glass ceramic using a ZnO—MgO—Al 2 O 3 —SiO 2 type crystallized glass, a BaO—Al 2 O 3 —SiO 2 type ceramic powder, an Al 2 O 3 —CaO—SiO 2 —MgO—B 2 O 3 type ceramic powder, etc. Non-glass-based ceramics using may be used.
バインダは、ガラスセラミック粉末の結合剤としての機能を有し、後工程の焼成工程で分解して容易に除去できる有機高分子である。バインダとしては、例えばブチラール系、アクリル系、セルロース系等のバインダ樹脂を用いることができる。アクリル系のバインダ樹脂としては、例えばアルキル(メタ)アクリレート、アルコキシアルキル(メタ)アクリレート、ポリアルキレングリコール(メタ)アクリレート、シクロアルキル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート化合物の単独重合体を用いることができる。また、アクリル系のバインダ樹脂としては、該(メタ)アクリレート化合物の2種以上から得られる共重合体、あるいは(メタ)アクリレート化合物と不飽和カルボン酸類等の他の共重合性単量体から得られる共重合体を用いることができる。 The binder is an organic polymer that functions as a binder for the glass ceramic powder and can be easily decomposed and removed in a subsequent firing step. As the binder, for example, a binder resin such as butyral, acrylic or cellulose can be used. As the acrylic binder resin, for example, a homopolymer of a (meth) acrylate compound such as alkyl (meth) acrylate, alkoxyalkyl (meth) acrylate, polyalkylene glycol (meth) acrylate, cycloalkyl (meth) acrylate, or the like is used. Can do. Moreover, as an acrylic binder resin, it can be obtained from a copolymer obtained from two or more of the (meth) acrylate compounds, or from other copolymerizable monomers such as (meth) acrylate compounds and unsaturated carboxylic acids. Can be used.
なお、バインダは、例えばアジピン酸エステル系可塑剤、ジオクチルフタレート(DOP)、ジブチルフタレート(DBP)フタル酸エステル系可塑剤、グリコールエステル系可塑剤等の可塑剤を含有しても良い。 The binder may contain a plasticizer such as an adipate ester plasticizer, dioctyl phthalate (DOP), dibutyl phthalate (DBP) phthalate ester plasticizer, or a glycol ester plasticizer.
積層シート20の縁には、所定孔径からなる円形孔(以下単に、位置決め孔Hという。)が打ち抜き加工によって形成されている。各位置決め孔Hには、載置プレート24の位置決めピン24Pが挿入され、積層シート20の描画面20aの各位置が液滴吐出装置21に対して位置決めされる。
A circular hole having a predetermined hole diameter (hereinafter simply referred to as a positioning hole H) is formed on the edge of the
グリーンシート23には、打ち抜き加工やレーザ加工によって、数十μm〜数百μmの孔径からなる円形孔や円錐孔(以下単に、ビアホール23hという。)が貫通形成されている。ビアホール23hには、導体性ペーストを用いたスキージ法や導電性インクを用いたインクジェット法等によって、銀、金、銅、パラジウム等の導電材料が前工程で充填されている。
The
液滴吐出装置21は、積層シート20を載置するための載置プレート24と、液状体としての導電性インクIkを貯留するインクタンク25と、インクタンク25の導電性インクIkを描画面20aに吐出する吐出手段としての液滴吐出ヘッド26とを有する。
The
載置プレート24は、積層シート20と略同じサイズの剛性材料からなる板材であって、積層シート20を位置決めするための位置決めピン24Pと、積層シート20を加熱するためのヒータ24Hとを有する。そして、積層シート20が載置プレート24に載置されるとき、位置決めピン24Pを位置決め孔Hに挿通させることにより、載置プレート24は描画面20aの各位置を液滴吐出ヘッド26に対して位置決めする。
The mounting plate 24 is a plate made of a rigid material having substantially the same size as the
また、載置プレート24に積層シート20を載置しているとき、載置プレート24は、ヒータ24Hを駆動し、積層シート20を予め定めた描画温度に加熱するようになっている。
Further, when the
導電性インクIkは、導電性微粒子Iaを分散媒Ibに分散させた導電性微粒子Iaの分散系であり、微小な液滴Dを吐出可能にするために、その粘度が20cP以下に調整されている。 The conductive ink Ik is a dispersion system of the conductive fine particles Ia in which the conductive fine particles Ia are dispersed in the dispersion medium Ib. The viscosity of the conductive ink Ik is adjusted to 20 cP or less in order to enable discharge of minute droplets D. Yes.
導電性微粒子Iaは、数nm〜数十nmの粒径を有する微粒子であり、例えば金、銀、銅、白金、パラジウム、ロジウム、オスミウム、ルテニウム、イリジウム、鉄、錫、コバルト、ニッケル、クロム、チタン、タンタル、タングステン、インジウム等の金属、あるいはこれらの合金を用いることができる。そして、本実施形態では、導電性微粒子Iaとして銀微粒子を用いている。 The conductive fine particles Ia are fine particles having a particle diameter of several nm to several tens of nm, such as gold, silver, copper, platinum, palladium, rhodium, osmium, ruthenium, iridium, iron, tin, cobalt, nickel, chromium, A metal such as titanium, tantalum, tungsten, indium, or an alloy thereof can be used. In this embodiment, silver fine particles are used as the conductive fine particles Ia.
分散媒Ibは、導電性微粒子Iaを均一に分散させるものであれば良く、例えば水や水を主成分とする水溶液系、あるいはテトラデカン等の有機溶剤を主成分とする有機系を用いることができる。 The dispersion medium Ib may be any dispersion medium that uniformly disperses the conductive fine particles Ia. For example, water or an aqueous solution mainly containing water, or an organic solvent mainly containing an organic solvent such as tetradecane can be used. .
液滴吐出ヘッド26は、インクタンク25に連通するキャビティ27と、キャビティ27に連通するノズル28と、キャビティ27に連結される圧力発生素子29とを備えている。キャビティ27は、インクタンク25からの導電性インクIkを収容し、インクタンク25からの該導電性インクIkをノズル28に供給する。ノズル28は、数十μmの開口を有するノズルである。圧力発生素子29は、キャビティ27の容積を変更する圧電素子や静電容量素子、あるいはキャビティ27の温度を変更する抵抗加熱素子であり、キャビティ27の内部に所定圧力を発生させる。圧力発生素子29が駆動するとき、ノズル28は、導電性インクIkの気液界面(メニスカス)を振動させ、該導電性インクIkを数ピコリットル〜数十ピコリットルの液滴Dにして吐出する。
The
描画工程では、積層シート20と液滴吐出ヘッド26とが描画面20aの面方向に相対移動し、ノズル28からの複数の液滴Dがそれぞれ描画面20aに着弾して該描画面20aの上で合一する。これによって、所定方向に連続する液状パターンPLが描画面20aの上に形成される。この際、積層シート20の温度が予め定めた描画温度であることから、液状パターンPLは、分散媒Ibの一部の蒸発によって増粘して描画面20aに沿う濡れ広がりが抑えられるようになっている。
In the drawing process, the
なお、予め定めた描画温度が過剰に高くなると、キャリアフィルム22とグリーンシート23が熱変形を来たし、液滴Dの着弾精度が損なわれてしまう。そこで、予め定めた描画温度は例えば40℃〜80℃であって、液滴Dの着弾精度を十分に確保できるように、積層シート20の組成や導電性インクIkの組成に応じて適宜選択される。
(乾燥工程)
図4において、乾燥工程では、描画工程後の積層シート20が乾燥炉等の乾燥装置に搬入され、液状パターンPLを有する状態で予め定められた乾燥温度に加熱される。積層シート20の温度が予め定められた乾燥温度で加熱されていることから、液状パターンPLは、その乾燥をさらに促進させる。これによって、液状パターンPLの分散媒Ibの殆どが蒸発し、導電性微粒子Iaの集合体からなる乾燥パターンPDが描画面20aの上に形成される。
Note that if the predetermined drawing temperature becomes excessively high, the
(Drying process)
In FIG. 4, in the drying process, the
なお、予め定めた乾燥温度が過剰に高くなると、キャリアフィルム22とグリーンシート23が熱変形を来たし、積層工程時における他の積層シート20との位置精度が損なわれてしまう。そこで、乾燥温度は例えば40℃〜80℃であり、積層工程時の位置精度を
確保できるように、積層シート20の組成や導電性インクIkの組成に応じて適宜選択される。
If the predetermined drying temperature is excessively high, the
このように、乾燥装置にて、積層シート20(グリーンシート23)に描画された液状パターンPLが乾燥されて乾燥パターンPDになると、次に積層工程に移る。
(積層工程)
図5において、積層工程では、複数のグリーンシート23を積層するためのベースプレート31が用いられる。ベースプレート31は、積層シート20と略同じサイズの剛性材料からなる板材であって、複数のグリーンシート23を位置決めする位置決めピン31Pを有する。
As described above, when the liquid pattern PL drawn on the laminated sheet 20 (green sheet 23) is dried to become the dried pattern PD by the drying device, the process proceeds to the lamination step.
(Lamination process)
In FIG. 5, a
積層工程では、まず、ベースプレート31に対して、下側弾性板EP1が載置される。下側弾性板EP1は、前記グリーンシート23より低い弾性率からなる合成ゴムよりにて形成され外形はグリーンシート23と同一形状で形成されている。下側弾性板EP1に形成した位置決め孔H1に位置決めピン31Pが挿通されることによって、下側弾性板EP1がベースプレート31に位置決めされる。
In the stacking step, first, the lower elastic plate EP1 is placed on the
続いて、1層目の積層シート20が、グリーンシート23を上にした状態で下側弾性板EP1に載置される。位置決めピン31Pが積層シート20の位置決め孔Hに挿通されることによって、1層目の積層シート20がベースプレート31に位置決めされる。次いで、2層目の積層シート20が、グリーンシート23を下にした状態でベースプレート31に載置される。2層目の積層シート20は、位置決めピン31Pが位置決め孔Hに挿通されることによって位置決めされ、キャリアフィルム22が剥離されることによって、2層目のグリーンシート23のみが1層目のグリーンシート23の上に積層される。
Subsequently, the first
以後同様に、所定層数のグリーンシート23が順に積層され、乾燥パターンPDを形成したグリーンシート23の積層体(以下単に、積層体32という。)が形成される。
(減圧包装工程)
図6において、減圧包装工程では、ベースプレート31に積層された積層体32に加えて、上側弾性板EP2と真空包装袋35とが用いられる。上側弾性板EP2は、下側弾性板EP1と同じ材料で形成された合成ゴムからなる板材であって、ベースプレート31の各位置決めピン31Pを挿通可能にする複数の挿通孔H2を有する。真空包装袋35は、ベースプレート31、下側弾性板EP1、上側弾性板EP2、及び積層体32を封入可能な柔軟性を有する包装袋である。
Thereafter, similarly, a predetermined number of
(Decompression packaging process)
In FIG. 6, in the reduced pressure packaging process, in addition to the
減圧包装工程では、まず、位置決めピン31Pが上側弾性板EP2の挿通孔H2に挿通され、ベースプレート31(下側弾性板EP1)と上側弾性板EP2とによって積層体32が挟持される。ベースプレート31(下側弾性板EP1)と上側弾性板EP2は、積層体32を挟持した状態で真空包装袋35に収容され、シーラ等を用いた吸引によって真空包装袋35の内部に真空封入される。真空封入された積層体32は、下側弾性板EP1と上側弾性板EP2を介して大気圧を受けて圧着される。
In the decompression packaging step, first, the
積層体32を真空封入する間、乾燥パターンPDはグリーンシート23を介して大気圧が加えられる。この時、乾燥パターンPDからの反力が、グリーンシート23を介して最外側の下側弾性板EP1と上側弾性板EP2に伝達される。本実施形態では、下側弾性板EP1と上側弾性板EP2の弾性率が前記グリーンシート23より低いため、下側弾性板EP1と上側弾性板EP2は乾燥パターンPD部分のグリーンシート23を包み込むように変形する。
While the laminate 32 is vacuum-sealed, atmospheric pressure is applied to the dry pattern PD via the
つまり、乾燥パターンPDからの反力は、下側弾性板EP1と上側弾性板EP2にて吸
収されるため、乾燥パターンPDに係る押圧力は低減して乾燥パターンPDの潰れや変形は抑制される。
(圧着工程)
圧着工程では、減圧包装後の積層体32が静水圧プレス装置に搬入され、真空包装袋35に真空封入された該積層体32に静水圧が加えられることによって圧着体が形成される。積層体32は、静水圧を加えられる間、乾燥パターンPDはグリーンシート23を介して押圧される。このとき、前記と同様に、乾燥パターンPDからの反力は、下側弾性板EP1と上側弾性板EP2にて吸収されるため、乾燥パターンPDに係る押圧力は低減して、この圧着工程においても、乾燥パターンPDの潰れや変形は抑制される。
(焼成工程)
焼成工程では、圧着工程で得られる圧着体がベースプレート31から取り出され、該圧着体が所定の焼成炉に搬入されて焼成される。焼成温度は、例えば800℃〜1000℃であって、グリーンシート23の組成に応じて適宜変更される。
That is, since the reaction force from the dry pattern PD is absorbed by the lower elastic plate EP1 and the upper elastic plate EP2, the pressing force related to the dry pattern PD is reduced and the crushing and deformation of the dry pattern PD are suppressed. .
(Crimping process)
In the crimping step, the
(Baking process)
In the firing step, the pressure-bonded body obtained in the pressure-bonding step is taken out from the
なお、乾燥パターンPDとしてCuを用いる場合には、酸化防止のため還元雰囲気中で焼成するのが好ましい。銀、金、白金、パラジウム等を用いる場合には大気中で焼成しても良い。焼成工程では、圧着工程における静水圧よりも小さい圧力で圧着体を加圧しながら焼成しても良い。これによれば、LTCC多層基板11の平坦性が向上され、グリーンシート23の反りや剥離を防止できる。
In addition, when using Cu as dry pattern PD, it is preferable to bake in a reducing atmosphere to prevent oxidation. When silver, gold, platinum, palladium or the like is used, it may be fired in the air. In the firing step, the pressure-bonded body may be fired while being pressed at a pressure smaller than the hydrostatic pressure in the pressure-bonding step. According to this, the flatness of the
次に、上記のように構成した実施形態の効果を以下に記載する。
(1)上記実施形態によれば、減圧包装工程において、積層体32の上側面に上側弾性板EP2を、積層体32の下側面に下側弾性板EP1を配置して、上側及び下側弾性板EP2,EP1を介して積層体32を真空封入するようにした。
Next, effects of the embodiment configured as described above will be described below.
(1) According to the above embodiment, in the decompression packaging step, the upper elastic plate EP2 is arranged on the upper side surface of the laminate 32, and the lower elastic plate EP1 is arranged on the lower side surface of the laminate 32, so The laminate 32 was vacuum-sealed through the plates EP2 and EP1.
従って、乾燥パターンPDからの反力は、下側弾性板EP1と上側弾性板EP2にて吸収するため、乾燥パターンPDに係る押圧力は低減される。その結果、減圧包装工程において、グリーンシート23に形成された乾燥パターンPDの潰れや変形は防止でき、精度の高いパターンを形成することができる。
Therefore, since the reaction force from the dry pattern PD is absorbed by the lower elastic plate EP1 and the upper elastic plate EP2, the pressing force related to the dry pattern PD is reduced. As a result, in the vacuum packaging process, the dry pattern PD formed on the
(2)上記実施形態によれば、静水圧での圧着工程において、積層体32の上側面に上側弾性板EP2を、積層体32の下側面に下側弾性板EP1を配置して、上側及び下側弾性板EP2,EP1を介して積層体32を真空封入するようにした。
(2) According to the above embodiment, in the pressure bonding step with hydrostatic pressure, the upper elastic plate EP2 is disposed on the upper side surface of the
従って、乾燥パターンPDからの反力は、下側弾性板EP1と上側弾性板EP2にて吸収するため、乾燥パターンPDに係る押圧力は低減される。その結果、静水圧での圧着工程においても、グリーンシート23に形成された乾燥パターンPDの潰れや変形は防止でき、精度の高いパターンを形成することができる。
Therefore, since the reaction force from the dry pattern PD is absorbed by the lower elastic plate EP1 and the upper elastic plate EP2, the pressing force related to the dry pattern PD is reduced. As a result, even in the pressure bonding step with hydrostatic pressure, the dry pattern PD formed on the
尚、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
・上記実施形態では、積層工程において、グリーンシート23の温度を加熱してグリーンシート23の硬度を軟化させてもよい。
In addition, you may change the said embodiment as follows.
In the above embodiment, in the laminating step, the temperature of the
これによって、減圧包装時にグリーンシート23が軟化する分だけ、大気圧による乾燥パターンPDにかかる負荷は低減し変形等が抑えられる。この結果、LTCC基板13に形成するパターンの加工精度を向上できる。
As a result, the load on the dry pattern PD due to atmospheric pressure is reduced and deformation and the like are suppressed by the amount that the
・上記実施形態によれば、圧着工程において、グリーンシート23の温度を加熱してグリーンシート23を軟化させてもよい。
これによって、グリーンシート23が軟化する分だけ、静水圧による乾燥パターンPD
にかかる負荷は低減し変形等が抑えられる。この結果、LTCC基板13に形成するパターンの加工精度を向上できる。
-According to the said embodiment, in the crimping | compression-bonding process, the temperature of the
Accordingly, the dry pattern PD by hydrostatic pressure is as much as the
This reduces the load applied and reduces deformation and the like. As a result, the processing accuracy of the pattern formed on the
D…液滴、EP1…下側弾性板、EP2…上側弾性板、Ik…導電性インク、Ia…導電性微粒子、PL…液状パターン、PD…乾燥パターン、11…セラミック多層基板、21…液滴吐出装置、23…グリーンシート、26…液滴吐出ヘッド、32…積層体、35…真空包装袋。 D ... droplet, EP1 ... lower elastic plate, EP2 ... upper elastic plate, Ik ... conductive ink, Ia ... conductive fine particle, PL ... liquid pattern, PD ... dry pattern, 11 ... ceramic multilayer substrate, 21 ... droplet Discharge device, 23 ... green sheet, 26 ... droplet discharge head, 32 ... laminated body, 35 ... vacuum packaging bag.
Claims (5)
前記液状パターンを乾燥させて前記グリーンシートに乾燥パターンを形成する乾燥工程と、
前記乾燥パターンを形成した複数の前記グリーンシートを積層して積層体を形成する積層工程と、
前記積層体を真空包装袋に収容して、前記真空包装袋内を減圧して前記積層体を減圧包装する減圧包装工程と、
前記真空包装袋内にて減圧包装された前記積層体に、静水圧を加えて圧着体を形成する圧着工程と、
前記圧着体を焼成する焼成工程と
を有したセラミック多層基板の製造方法であって、
前記減圧包装工程において、前記積層体の両側面に、前記グリーンシートより低い弾性率からなる弾性板を配設し、両弾性板を挟んで前記積層体を減圧包装させることを特徴とするセラミック多層基板の製造方法。 A drawing step of drawing a liquid pattern on the green sheet by discharging a liquid containing conductive fine particles into a droplet by a discharge unit and discharging the liquid onto the green sheet;
A drying step of drying the liquid pattern to form a dry pattern on the green sheet;
A stacking step of stacking a plurality of the green sheets on which the dry pattern is formed to form a stack;
A vacuum packaging step of accommodating the laminated body in a vacuum packaging bag, decompressing the inside of the vacuum packaging bag and decompressing the laminated body, and
A pressure-bonding step of forming a pressure-bonded body by applying hydrostatic pressure to the laminate packaged under reduced pressure in the vacuum-packaging bag; and
A method for producing a ceramic multilayer substrate having a firing step of firing the pressure-bonded body,
In the decompression packaging step, an elastic plate having an elastic modulus lower than that of the green sheet is disposed on both side surfaces of the laminate, and the laminate is subjected to decompression packaging with both elastic plates interposed therebetween. A method for manufacturing a substrate.
前記圧着工程において、前記弾性板を挟んだ状態で減圧包装された状態の前記積層体に静水圧を加えて前記圧着体を形成することを特徴とするセラミック多層基板の製造方法。 In the manufacturing method of the ceramic multilayer substrate of Claim 1,
A method for producing a ceramic multilayer substrate, wherein, in the crimping step, hydrostatic pressure is applied to the laminated body that is packaged under reduced pressure with the elastic plate in between, to form the crimped body.
前記弾性板は、合成ゴムであることを特徴とするセラミック多層基板の製造方法。 In the manufacturing method of the ceramic multilayer substrate according to claim 1 or 2,
The method for manufacturing a ceramic multilayer substrate, wherein the elastic plate is a synthetic rubber.
前記真空包装袋内で減圧するとき、前記グリーンシートを加熱しながら減圧にすることを特徴とするセラミック多層基板の製造方法。 In the manufacturing method of the ceramic multilayer substrate of any one of Claims 1-3,
A method for producing a ceramic multilayer substrate, wherein when the pressure is reduced in the vacuum packaging bag, the pressure is reduced while heating the green sheet.
前記静水圧を加えて前記圧着体を形成するとき、前記グリーンシートを加熱しながら前記静水圧を加えることを特徴とするセラミック多層基板の製造方法。 In the manufacturing method of the ceramic multilayer substrate according to any one of claims 1 to 4,
A method for producing a ceramic multilayer substrate, wherein the hydrostatic pressure is applied while heating the green sheet when the hydrostatic pressure is applied to form the crimped body.
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Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04152107A (en) * | 1990-10-16 | 1992-05-26 | Fujitsu Ltd | Lamination molding method of ceramic sheet |
| JPH07176449A (en) * | 1993-12-20 | 1995-07-14 | Murata Mfg Co Ltd | Manufacture of laminated ceramic electronic component |
| JPH08222475A (en) * | 1995-02-10 | 1996-08-30 | Rohm Co Ltd | Manufacture of thick film-type electronic component |
| JPH09320363A (en) * | 1996-06-03 | 1997-12-12 | Canon Inc | Transparent conductive circuit forming device |
| WO1999038176A1 (en) * | 1998-01-22 | 1999-07-29 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Ink for electronic component, method for producing electronic component by using the ink for electronic component, and ink-jet device |
| JP2000196239A (en) * | 1998-12-24 | 2000-07-14 | Hitachi Ltd | Manufacturing method of ceramic multilayer wiring board |
| JP2003264119A (en) * | 2002-03-08 | 2003-09-19 | Tdk Corp | Multilayer ceramic electronic component, its manufacturing method and its manufacturing equipment |
| JP2003289119A (en) * | 2002-03-28 | 2003-10-10 | Sanyo Electric Co Ltd | Manufacturing method of ceramic multilayer wiring board |
| JP2007081357A (en) * | 2005-08-17 | 2007-03-29 | Tdk Corp | Method of manufacturinig multilayer ceramic substrate |
-
2008
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Patent Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04152107A (en) * | 1990-10-16 | 1992-05-26 | Fujitsu Ltd | Lamination molding method of ceramic sheet |
| JPH07176449A (en) * | 1993-12-20 | 1995-07-14 | Murata Mfg Co Ltd | Manufacture of laminated ceramic electronic component |
| JPH08222475A (en) * | 1995-02-10 | 1996-08-30 | Rohm Co Ltd | Manufacture of thick film-type electronic component |
| JPH09320363A (en) * | 1996-06-03 | 1997-12-12 | Canon Inc | Transparent conductive circuit forming device |
| WO1999038176A1 (en) * | 1998-01-22 | 1999-07-29 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Ink for electronic component, method for producing electronic component by using the ink for electronic component, and ink-jet device |
| JP2000196239A (en) * | 1998-12-24 | 2000-07-14 | Hitachi Ltd | Manufacturing method of ceramic multilayer wiring board |
| JP2003264119A (en) * | 2002-03-08 | 2003-09-19 | Tdk Corp | Multilayer ceramic electronic component, its manufacturing method and its manufacturing equipment |
| JP2003289119A (en) * | 2002-03-28 | 2003-10-10 | Sanyo Electric Co Ltd | Manufacturing method of ceramic multilayer wiring board |
| JP2007081357A (en) * | 2005-08-17 | 2007-03-29 | Tdk Corp | Method of manufacturinig multilayer ceramic substrate |
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