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JP2009172965A - Photosensitive web peeling apparatus and peeling method - Google Patents

Photosensitive web peeling apparatus and peeling method Download PDF

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JP2009172965A
JP2009172965A JP2008016632A JP2008016632A JP2009172965A JP 2009172965 A JP2009172965 A JP 2009172965A JP 2008016632 A JP2008016632 A JP 2008016632A JP 2008016632 A JP2008016632 A JP 2008016632A JP 2009172965 A JP2009172965 A JP 2009172965A
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JP
Japan
Prior art keywords
substrate
peeling
photosensitive
roller
support layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2008016632A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Makoto Shimizu
誠 清水
Hideyuki Morimoto
秀幸 森元
Hirokazu Akiyoshi
寛和 秋好
Kazuyoshi Suehara
和芳 末原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Priority to JP2008016632A priority Critical patent/JP2009172965A/en
Publication of JP2009172965A publication Critical patent/JP2009172965A/en
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Abstract

【課題】簡単な構成で、基板が剥離ローラから離間する際の衝撃を可及的に阻止し、支持層を前記基板から良好且つ高精度に剥離させることを可能にする。
【解決手段】ベース自動剥離装置100は、ベースフイルム26をガラス基板24から連続的に剥離する剥離ローラ104と、前記ガラス基板24側に前記剥離ローラ104の軸方向に沿って配置され、前記ベースフイルム26を剥離する際に前記ガラス基板24を保持可能な複数のガイドローラ106とを備える。剥離ローラ104の軸方向両端側に配置されるガイドローラ106は、前記剥離ローラ104の軸方向中央側に配置されるガイドローラ106よりも高い位置に配置される。
【選択図】図5
An object of the present invention is to prevent a shock when a substrate is separated from a peeling roller as much as possible with a simple configuration and to peel a support layer from the substrate with good accuracy.
An automatic base peeling apparatus includes a peeling roller that continuously peels a base film from a glass substrate, and an axial direction of the peeling roller that is disposed on the side of the glass substrate. And a plurality of guide rollers 106 capable of holding the glass substrate 24 when the film 26 is peeled off. The guide rollers 106 disposed on both ends in the axial direction of the peeling roller 104 are disposed at positions higher than the guide rollers 106 disposed on the central side in the axial direction of the peeling roller 104.
[Selection] Figure 5

Description

本発明は、支持層と少なくとも感光材料層とが積層された感光性ウエブを、前記感光材料層側が基板に向かうようにして前記基板に接着して貼り付け基板を得た後、前記支持層を前記基板から剥離させる感光性ウエブの剥離装置及び剥離方法に関する。   In the present invention, a photosensitive web in which a support layer and at least a photosensitive material layer are laminated is adhered to the substrate so that the photosensitive material layer side faces the substrate to obtain a bonded substrate. The present invention relates to a peeling apparatus and a peeling method for a photosensitive web to be peeled from the substrate.

例えば、液晶パネル用基板、プリント配線用基板、PDPパネル用基板では、感光材料(感光性樹脂)層を有する感光性シート体(感光性ウエブ)を基板表面に貼り付けて構成されている。感光性シート体は、可撓性プラスチック支持体上に感光材料層と保護フイルムとが、順次、積層されている。   For example, a liquid crystal panel substrate, a printed wiring substrate, and a PDP panel substrate are configured by attaching a photosensitive sheet (photosensitive web) having a photosensitive material (photosensitive resin) layer to the substrate surface. In the photosensitive sheet body, a photosensitive material layer and a protective film are sequentially laminated on a flexible plastic support.

そこで、この種の感光性シート体の貼り付けに使用される貼り付け装置(ラミネート装置)は、通常、ガラス基板や樹脂基板等の基板を所定の間隔ずつ離間させて搬送するとともに、前記基板に貼り付けられる感光材料層の範囲に対応して、前記感光性シート体から保護フイルムを剥離する方式が採用されている。   Therefore, a pasting device (laminating device) used for pasting this type of photosensitive sheet body normally transports substrates such as a glass substrate and a resin substrate spaced apart from each other by a predetermined interval, and to the substrate. In accordance with the range of the photosensitive material layer to be pasted, a method of removing the protective film from the photosensitive sheet body is employed.

例えば、特許文献1に開示されているフイルム張付方法及び装置では、図11に示すように、フイルムロール1から繰り出される積層体フイルム1aは、ガイドロール2a、2bに巻き付けられて水平のフイルム搬送面に沿って延在されている。このガイドロール2bには、積層体フイルム1aの送り量に応じた数のパルス信号を出力するロータリエンコーダ3が取り付けられている。   For example, in the film sticking method and apparatus disclosed in Patent Document 1, as shown in FIG. 11, the laminated film 1a fed out from the film roll 1 is wound around the guide rolls 2a and 2b and is transported horizontally. It extends along the surface. A rotary encoder 3 that outputs a number of pulse signals corresponding to the feed amount of the laminated film 1a is attached to the guide roll 2b.

水平のフイルム搬送面に沿って延在する積層体フイルム1aは、サクションロール4に巻き掛けられるとともに、前記ガイドロール2bと前記サクションロール4との間には、ハーフカッタ5とカバーフイルム剥離装置6とが設けられている。   A laminate film 1a extending along a horizontal film transport surface is wound around a suction roll 4, and a half cutter 5 and a cover film peeling device 6 are interposed between the guide roll 2b and the suction roll 4. And are provided.

ハーフカッタ5は、一対のディスクカッタ5a、5bを備えている。ディスクカッタ5a、5bは、積層体フイルム1aのフイルム幅方向に沿って移動することにより、前記積層体フイルム1aのカバーフイルム1bをその裏側の感光性樹脂層(図示せず)と一体に切断する。   The half cutter 5 includes a pair of disk cutters 5a and 5b. The disc cutters 5a and 5b move along the film width direction of the laminated film 1a, thereby cutting the cover film 1b of the laminated film 1a integrally with the photosensitive resin layer (not shown) on the back side thereof. .

カバーフイルム剥離装置6は、粘着テープロール7から繰り出される粘着テープ7aを押圧ロール8a、8b間でカバーフイルム1bに強く圧着させた後、巻き取りロール9によって巻き取る。これにより、カバーフイルム1bは、感光性樹脂層から剥離されて粘着テープ7aと共に巻き取りロール9に巻き取られる。   The cover film peeling apparatus 6 winds the adhesive tape 7a fed from the adhesive tape roll 7 to the cover film 1b strongly between the pressing rolls 8a and 8b, and then winds it by the take-up roll 9. Thereby, the cover film 1b is peeled off from the photosensitive resin layer and wound around the winding roll 9 together with the adhesive tape 7a.

サクションロール4の下流には、基板搬送装置10によって、順次、間欠的に搬送される複数の基板11の上面に、積層体フイルム1aを重ねて圧着するラミネーションロール12a、12bが配設されている。このラミネーションロール12a、12bの下流側には、支持フイルム巻き取りロール13が配置されている。基板11に貼り付けられている透光性支持フイルム1cは、搬送ローラ14上に配置されている剥離ローラ15の周面に沿って移動することにより前記基板11から剥離され、支持フイルム巻き取りロール13に巻き取られている。   Downstream of the suction roll 4, lamination rolls 12 a and 12 b are provided for laminating and laminating the laminate film 1 a on the upper surfaces of a plurality of substrates 11 that are sequentially and intermittently conveyed by the substrate conveying device 10. . A support film take-up roll 13 is disposed downstream of the lamination rolls 12a and 12b. The translucent support film 1c affixed to the substrate 11 is peeled off from the substrate 11 by moving along the peripheral surface of the peeling roller 15 disposed on the transport roller 14, and the support film take-up roll 13 is wound up.

特開平11−34280号公報JP-A-11-34280

ところで、剥離ローラ15は、基板11の幅方向(図12中、矢印L方向)の寸法に対応して、軸長が設定されている。このため、特に、幅広な基板11が用いられる際には、相当に軸方向に長尺な剥離ローラ15が採用されている。このため、剥離ローラ15には、自重により撓みが発生し易く、前記剥離ローラ15と搬送ローラ14との間には、該剥離ローラ15の中央部分では、1枚の基板11に対応する隙間が形成される一方、該剥離ローラ15の両端部では、相当に大きな間隙Gが形成されてしまう。   By the way, the axial length of the peeling roller 15 is set corresponding to the dimension of the substrate 11 in the width direction (the direction of arrow L in FIG. 12). For this reason, particularly when a wide substrate 11 is used, a peeling roller 15 that is considerably long in the axial direction is employed. For this reason, the peeling roller 15 is likely to be bent due to its own weight, and a gap corresponding to one substrate 11 is formed between the peeling roller 15 and the conveying roller 14 in the central portion of the peeling roller 15. On the other hand, a considerably large gap G is formed at both ends of the peeling roller 15.

従って、基板11から透光性支持フイルム1cを剥離する際には、この透光性支持フイルム1cが引張されて前記基板11は、剥離ローラ15の外周面に密着している。このため、基板11の幅方向両端は、搬送ローラ14から離間した状態で、前記剥離ローラ15に密着保持されている。   Therefore, when the translucent support film 1 c is peeled from the substrate 11, the translucent support film 1 c is pulled and the substrate 11 is in close contact with the outer peripheral surface of the peeling roller 15. For this reason, both ends in the width direction of the substrate 11 are held in close contact with the peeling roller 15 while being separated from the conveying roller 14.

しかしながら、基板11の後端側が剥離ローラ15に近接した際に、前記基板11の幅方向両端部は、前記剥離ローラ15から離間して搬送ローラ14上に落下するおそれがある。これにより、感光性樹脂層の一部(又は、クッション層の一部)が、透光性支持フイルム1cに付着して基板11側から剥離し易くなるとともに、前記基板11に損傷が惹起するという問題がある。   However, when the rear end side of the substrate 11 comes close to the peeling roller 15, both end portions in the width direction of the substrate 11 may be separated from the peeling roller 15 and fall onto the conveying roller 14. Thereby, a part of the photosensitive resin layer (or a part of the cushion layer) adheres to the translucent support film 1c and is easily peeled off from the substrate 11 side, and damage to the substrate 11 is caused. There's a problem.

本発明はこの種の問題を解決するものであり、簡単な構成で、基板が剥離ローラから離間する際の衝撃を可及的に阻止し、支持層を前記基板から良好且つ高精度に剥離させることが可能な感光性ウエブの剥離装置及び剥離方法を提供することを目的とする。   The present invention solves this type of problem, and with a simple configuration, the impact when the substrate is separated from the peeling roller is prevented as much as possible, and the support layer is peeled off from the substrate with good accuracy. An object of the present invention is to provide a peeling apparatus and a peeling method for a photosensitive web.

本発明は、支持層と少なくとも感光材料層とが積層された感光性ウエブを、前記感光材料層側が基板に向かうようにして前記基板に接着して貼り付け基板を得た後、前記支持層を前記基板から剥離させる感光性ウエブの剥離装置に関するものである。   In the present invention, a photosensitive web in which a support layer and at least a photosensitive material layer are laminated is adhered to the substrate so that the photosensitive material layer side faces the substrate to obtain a bonded substrate. The present invention relates to a photosensitive web peeling apparatus for peeling from a substrate.

この剥離装置は、基板に摺接して貼り付け基板を搬送する搬送機構と、支持層側に配置され、該支持層を前記基板から剥離する剥離ローラと、前記基板側に前記剥離ローラの軸方向に沿って配置され、前記支持層を剥離する際に前記基板を保持可能な複数のガイドローラとを備えている。   The peeling device includes a transport mechanism that slides in contact with the substrate and transports the attached substrate, a peeling roller that is disposed on the support layer side and peels the support layer from the substrate, and an axial direction of the peeling roller on the substrate side. And a plurality of guide rollers that can hold the substrate when the support layer is peeled off.

そして、複数のガイドローラは、剥離ローラの自重による軸方向の変形に対応し、軸方向両端側と軸方向中央側とで異なる高さ位置に配置されている。   The plurality of guide rollers correspond to axial deformation due to the weight of the peeling roller, and are arranged at different height positions on the both axial ends and the axial center.

また、貼り付け基板は、基板を下方に向けて搬送されるとともに、複数のガイドローラは、剥離ローラの下方に配置され、且つ、軸方向両端側の配置位置が軸方向中央側の配置位置よりも高い位置に設定されることが好ましい。   Further, the pasted substrate is conveyed with the substrate facing downward, and the plurality of guide rollers are arranged below the peeling roller, and the arrangement positions on both ends in the axial direction are more than the arrangement positions on the central side in the axial direction. Is preferably set at a higher position.

さらに、この剥離装置は、複数のガイドローラを基板側に押圧するためのスプリングを設けることが好ましい。   Furthermore, it is preferable that the peeling device is provided with a spring for pressing the plurality of guide rollers toward the substrate.

さらに、この剥離装置は、複数のガイドローラを基板に対して進退可能なアクチュエータを備えることが好ましい。   Furthermore, this peeling apparatus preferably includes an actuator capable of moving a plurality of guide rollers back and forth with respect to the substrate.

さらにまた、貼り付け基板は、複数の基板が感光性ウエブに一体に接着されるとともに、剥離ローラは、支持層を前記基板間に露呈する前記感光性ウエブの一部と一体に前記基板から剥離させることが好ましい。   Furthermore, a plurality of substrates are integrally bonded to the photosensitive web, and the peeling roller is peeled off from the substrate integrally with a part of the photosensitive web exposing the support layer between the substrates. It is preferable to make it.

また、本発明は、支持層と少なくとも感光材料層とが積層された感光性ウエブを、前記感光材料層側が基板に向かうようにして前記基板に接着して貼り付け基板を得た後、前記支持層を前記基板から剥離させる感光性ウエブの剥離方法に関するものである。   The present invention also provides a bonded substrate obtained by adhering a photosensitive web in which a supporting layer and at least a photosensitive material layer are laminated to the substrate so that the photosensitive material layer side faces the substrate, and then supporting the supporting web. The present invention relates to a photosensitive web peeling method for peeling a layer from the substrate.

この剥離方法は、支持層を基板から剥離する剥離ローラの軸方向に沿って複数のガイドローラが配置されるとともに、複数の前記ガイドローラは、前記剥離ローラの自重による軸方向の変形に対応して軸方向両端側と軸方向中央側とで異なる高さ位置に配置されており、貼り付け基板を搬送しながら、前記剥離ローラを介して前記支持層が前記基板から剥離される際に、複数の前記ガイドローラを介し、少なくとも前記支持層の剥離処理が施されている前記基板を保持している。   In this peeling method, a plurality of guide rollers are arranged along the axial direction of the peeling roller that peels the support layer from the substrate, and the plurality of guide rollers correspond to axial deformation due to the weight of the peeling roller. When the support layer is peeled off from the substrate via the peeling roller while being transported to the attached substrate, the plurality of support layers are disposed at different height positions on the axially opposite ends and the axially central side. The substrate on which at least the support layer is peeled off is held via the guide roller.

さらに、貼り付け基板は、複数の基板が感光性ウエブに一体に接着されるとともに、剥離ローラは、支持層を前記基板間に露呈する前記感光性ウエブの一部と一体に前記基板から剥離させることが好ましい。   Further, the plurality of substrates are integrally bonded to the photosensitive web, and the peeling roller is configured to peel the support layer from the substrate integrally with a part of the photosensitive web exposed between the substrates. It is preferable.

本発明では、複数のガイドローラは、剥離ローラの自重による軸方向の変形に対応し、軸方向両端側と軸方向中央側とで異なる高さ位置に配置されている。このため、基板は、支持層の剥離処理が施されている間、ガイドローラを介して剥離ローラの外周面に密着保持されている。これにより、基板が剥離ローラから離脱することによる衝撃を、可及的に抑制することができ、支持層以外の必要部位の剥がれや、前記基板の損傷等を良好に阻止することが可能になる。   In the present invention, the plurality of guide rollers correspond to the deformation in the axial direction due to the weight of the peeling roller, and are arranged at different height positions on the both axial ends and the axial central side. For this reason, the substrate is held in close contact with the outer peripheral surface of the peeling roller via the guide roller while the support layer is peeled off. Thereby, it is possible to suppress as much as possible the impact caused by the separation of the substrate from the peeling roller, and it is possible to satisfactorily prevent peeling of necessary portions other than the support layer, damage to the substrate, and the like. .

図1は、本発明の第1の実施形態に係る剥離装置を組み込む感光性積層体の製造装置20の概略構成図である。   FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a photosensitive laminate manufacturing apparatus 20 incorporating a peeling apparatus according to the first embodiment of the present invention.

この製造装置20は、液晶又は有機EL用カラーフィルタの製作工程で、長尺状感光性ウエブ22a、22bの各感光性樹脂層28(後述する)を並列してガラス基板24に熱転写する作業を行う。以下、感光性ウエブ22a、22bがラミネートされたガラス基板24を貼り付け基板24aともいう。感光性ウエブ22a、22bは、それぞれ所定の幅寸法に設定されており、例えば、前記感光性ウエブ22aが前記感光性ウエブ22bよりも幅広に構成されている。   In the manufacturing process of the color filter for liquid crystal or organic EL, the manufacturing apparatus 20 performs an operation of thermally transferring the photosensitive resin layers 28 (described later) of the long photosensitive webs 22a and 22b in parallel to the glass substrate 24. Do. Hereinafter, the glass substrate 24 on which the photosensitive webs 22a and 22b are laminated is also referred to as a bonded substrate 24a. The photosensitive webs 22a and 22b are each set to a predetermined width dimension. For example, the photosensitive web 22a is configured to be wider than the photosensitive web 22b.

図2は、製造装置20に使用される感光性ウエブ22a、22bの断面図である。この感光性ウエブ22a、22bは、基本的には、可撓性ベースフイルム(支持体)26と、感光性樹脂層(感光材料層)28と、保護フイルム30とを積層して構成される。   FIG. 2 is a cross-sectional view of the photosensitive webs 22 a and 22 b used in the manufacturing apparatus 20. The photosensitive webs 22a and 22b are basically configured by laminating a flexible base film (support) 26, a photosensitive resin layer (photosensitive material layer) 28, and a protective film 30.

図1に示すように、製造装置20は、感光性ウエブ22a、22bをロール状に巻回した2本(2本以上であればよい)の感光性ウエブロール23a、23bを収容し、各感光性ウエブロール23a、23bから前記感光性ウエブ22a、22bを同期して送り出し可能な第1及び第2ウエブ送り出し機構32a、32bと、送り出された各感光性ウエブ22a、22bの保護フイルム30に幅方向に切断可能な境界位置であるハーフカット部位34を形成する第1及び第2加工機構36a、36bと、一部に非接着部38aを有する接着ラベル38(図3参照)を各保護フイルム30に接着させる第1及び第2ラベル接着機構40a、40bとを備える。   As shown in FIG. 1, the manufacturing apparatus 20 accommodates two (or more than two) photosensitive web rolls 23a and 23b obtained by winding photosensitive webs 22a and 22b in a roll shape. Width of the first and second web feed mechanisms 32a and 32b capable of synchronously feeding the photosensitive webs 22a and 22b from the photosensitive web rolls 23a and 23b, and the protective film 30 of each of the fed photosensitive webs 22a and 22b. Each protective film 30 includes first and second processing mechanisms 36a and 36b that form a half-cut portion 34 that is a boundary position that can be cut in the direction, and an adhesive label 38 (see FIG. 3) that partially includes a non-adhesive portion 38a. First and second label adhesion mechanisms 40a and 40b to be adhered to each other.

第1及び第2ラベル接着機構40a、40bの下流には、各感光性ウエブ22a、22bをタクト送りから連続送りに変更するための第1及び第2リザーバ機構42a、42bと、各感光性ウエブ22a、22bから保護フイルム30を所定の長さ間隔で剥離させる第1及び第2剥離機構44a、44bと、ガラス基板24を所定の温度に加熱した状態で貼り付け位置に搬送する基板搬送機構45と、前記保護フイルム30の剥離により露出した感光性樹脂層28を前記ガラス基板24に一体的且つ並列に貼り付ける貼り付け機構46とが配設される。   Downstream of the first and second label adhering mechanisms 40a and 40b are first and second reservoir mechanisms 42a and 42b for changing the photosensitive webs 22a and 22b from tact feed to continuous feed, and the respective photosensitive webs. First and second peeling mechanisms 44a and 44b for peeling the protective film 30 from the 22a and 22b at a predetermined length interval, and a substrate transport mechanism 45 for transporting the glass substrate 24 to a pasting position while being heated to a predetermined temperature. And an affixing mechanism 46 for adhering the photosensitive resin layer 28 exposed by peeling off the protective film 30 to the glass substrate 24 integrally and in parallel.

貼り付け機構46における貼り付け位置の上流近傍には、各感光性ウエブ22a、22bの境界位置であるそれぞれのハーフカット部位34を直接検出する第1及び第2検出機構47a、47bが配設される。   First and second detection mechanisms 47a and 47b that directly detect the respective half-cut portions 34, which are the boundary positions of the photosensitive webs 22a and 22b, are disposed in the vicinity of the attachment position in the attachment mechanism 46. The

第1及び第2ウエブ送り出し機構32a、32bの下流近傍には、略使用済みの感光性ウエブ22a、22bの後端と、新たに使用される感光性ウエブ22a、22bの先端とを貼り付けるそれぞれの貼り付け台49が配設される。貼り付け台49の下流には、感光性ウエブロール23a、23bの巻きずれによる幅方向のずれを制御するために、フイルム端末位置検出器51が配設される。   In the vicinity of the downstream of the first and second web feed mechanisms 32a and 32b, the rear ends of the substantially used photosensitive webs 22a and 22b and the tips of the newly used photosensitive webs 22a and 22b are pasted, respectively. Is attached. A film terminal position detector 51 is disposed downstream of the attachment table 49 in order to control the displacement in the width direction due to the winding displacement of the photosensitive web rolls 23a and 23b.

第1及び第2加工機構36a、36bは、第1及び第2ウエブ送り出し機構32a、32bに収容巻回されている各感光性ウエブロール23a、23bのロール径を算出するためのローラ対50の下流に配置される。第1及び第2加工機構36a、36bは、それぞれ単一の丸刃52を備え、この丸刃52は、感光性ウエブ22a、22bの幅方向に走行して前記感光性ウエブ22a、22bの所定の位置にハーフカット部位34を形成する。   The first and second processing mechanisms 36a and 36b are provided with a roller pair 50 for calculating the roll diameter of each photosensitive web roll 23a and 23b accommodated and wound in the first and second web feed mechanisms 32a and 32b. Arranged downstream. Each of the first and second processing mechanisms 36a and 36b includes a single round blade 52. The round blade 52 travels in the width direction of the photosensitive webs 22a and 22b, and the photosensitive webs 22a and 22b are predetermined. A half-cut portion 34 is formed at the position.

図2に示すように、ハーフカット部位34は、少なくとも保護フイルム30を切断する必要があり、実際上、この保護フイルム30を確実に切断するために感光性樹脂層28乃至ベースフイルム26まで切り込むように丸刃52の切り込み深さが設定される。このハーフカット部位34は、丸刃52に代替して、例えば、レーザ光や超音波を用いたカット方式の他、ナイフ刃、押し切り刃(トムソン刃)等で形成する方式を採用してもよい。   As shown in FIG. 2, the half-cut portion 34 needs to cut at least the protective film 30. In practice, in order to cut the protective film 30 with certainty, the photosensitive resin layer 28 to the base film 26 are cut. The cutting depth of the round blade 52 is set. In place of the round blade 52, the half-cut portion 34 may employ, for example, a method of forming with a knife blade, a push cutting blade (Thomson blade) or the like in addition to a cutting method using laser light or ultrasonic waves. .

なお、第1及び第2加工機構36a、36bは、それぞれ感光性ウエブ22a、22bの搬送方向(矢印A方向)に所定の距離だけ離間して2台配設し、残存部分30bを挟んで2つのハーフカット部位34を同時に形成してもよい。   Two first and second processing mechanisms 36a and 36b are disposed at a predetermined distance apart in the conveying direction of the photosensitive webs 22a and 22b (in the direction of arrow A), respectively, and two are placed with the remaining portion 30b interposed therebetween. Two half-cut portions 34 may be formed simultaneously.

ハーフカット部位34は、例えば、両側のガラス基板24にそれぞれ10mmずつ入り込んだ位置に設定される。ガラス基板24間のハーフカット部位34で挟まれた部分は、後述する貼り付け機構46において感光性樹脂層28を前記ガラス基板24に額縁状に貼り付ける際のマスクとして機能するものである。   The half-cut part 34 is set, for example, at a position where it enters the glass substrates 24 on both sides by 10 mm. A portion sandwiched between the half cut portions 34 between the glass substrates 24 functions as a mask when the photosensitive resin layer 28 is attached to the glass substrate 24 in a frame shape in an attaching mechanism 46 described later.

第1及び第2ラベル接着機構40a、40bは、ガラス基板24間に対応して保護フイルム30の残存部分30bを残すため、剥離側前方の剥離部分30aaと剥離側後方の剥離部分30abとを連結する接着ラベル38を供給する。図2に示すように、保護フイルム30は、残存部分30bを挟んで、先に剥離される部分を前方の剥離部分30aaとする一方、後に剥離される部分を後方の剥離部分30abとする。   The first and second label bonding mechanisms 40a and 40b connect the peeling portion 30aa at the front side of the peeling side and the peeling portion 30ab at the back side of the peeling side in order to leave the remaining portion 30b of the protective film 30 correspondingly between the glass substrates 24. An adhesive label 38 is supplied. As shown in FIG. 2, the protective film 30 has a remaining portion 30 b sandwiched between the first peeled portion 30 aa and the later peeled portion 30 ab.

図3に示すように、接着ラベル38は、短冊状に構成されており、例えば、保護フイルム30と同一の樹脂材で形成される。接着ラベル38は、中央部に粘着剤が塗布されない非接着部(微粘着を含む)38aを有するとともに、この非接着部38aの両側、すなわち、前記接着ラベル38の長手方向両端部に、前方の剥離部分30aaに接着される第1接着部38bと、後方の剥離部分30abに接着される第2接着部38cとを有する。   As shown in FIG. 3, the adhesive label 38 is formed in a strip shape, and is formed of, for example, the same resin material as the protective film 30. The adhesive label 38 has a non-adhesive portion (including a slight adhesion) 38a to which a pressure-sensitive adhesive is not applied at the center, and the front side of the non-adhesive portion 38a, that is, both ends in the longitudinal direction of the adhesive label 38 It has the 1st adhesion part 38b adhered to exfoliation part 30aa, and the 2nd adhesion part 38c adhered to back exfoliation part 30ab.

図1に示すように、第1及び第2ラベル接着機構40a、40bは、それぞれ最大7枚の接着ラベル38を所定間隔ずつ離間して貼り付け可能な吸着パッド54a〜54gを備えるとともに、前記吸着パッド54a〜54gによる前記接着ラベル38の貼り付け位置には、感光性ウエブ22a、22bを下方から保持するための受け台56が昇降自在に配置される。   As shown in FIG. 1, each of the first and second label bonding mechanisms 40a and 40b includes suction pads 54a to 54g, each of which can attach a maximum of seven adhesive labels 38 with a predetermined interval between them. A pedestal 56 for holding the photosensitive webs 22a and 22b from below is disposed so as to be movable up and down at the position where the adhesive label 38 is attached by the pads 54a to 54g.

第1及び第2リザーバ機構42a、42bは、上流側の感光性ウエブ22a、22bのタクト搬送と、下流側の前記感光性ウエブ22a、22bの連続搬送との速度差を吸収するために、揺動自在なダンサーローラ60を備える。第2リザーバ機構42bには、第1及び第2ウエブ送り出し機構32a、32bから送り出される各感光性ウエブ22a、22bが貼り付け機構46に至るまでの各搬送路長を同一に調整するためのダンサーローラ61が配設される。   The first and second reservoir mechanisms 42a and 42b are configured to absorb the speed difference between the tact conveyance of the upstream photosensitive webs 22a and 22b and the continuous conveyance of the downstream photosensitive webs 22a and 22b. A movable dancer roller 60 is provided. The second reservoir mechanism 42b includes a dancer for adjusting the lengths of the conveyance paths until the photosensitive webs 22a and 22b sent from the first and second web delivery mechanisms 32a and 32b reach the attaching mechanism 46. A roller 61 is provided.

第1及び第2リザーバ機構42a、42bの下流に配置される第1及び第2剥離機構44a、44bは、それぞれ感光性ウエブ22a、22bの送り出し側のテンション変動を遮断し、ラミネート時のテンションを安定化させるためのサクションドラム62を備える。各サクションドラム62の近傍には、剥離ローラ63が配置されるとともに、この剥離ローラ63を介して感光性ウエブ22a、22bから剥離される保護フイルム30は、残存部分30bを除いてそれぞれ保護フイルム巻き取り部64に巻き取られる。   The first and second peeling mechanisms 44a and 44b arranged downstream of the first and second reservoir mechanisms 42a and 42b block the tension fluctuation on the delivery side of the photosensitive webs 22a and 22b, respectively, and the tension at the time of lamination is reduced. A suction drum 62 is provided for stabilization. In the vicinity of each suction drum 62, a peeling roller 63 is disposed, and the protective film 30 peeled off from the photosensitive webs 22a and 22b via the peeling roller 63 is respectively wound on the protective film except for the remaining portion 30b. It is wound around the take-up portion 64.

第1及び第2剥離機構44a、44bの下流側には、感光性ウエブ22a、22bにテンションを付与可能な第1及び第2テンション制御機構66a、66bが配設される。第1及び第2テンション制御機構66a、66bは、それぞれシリンダ68を備え、前記シリンダ68の駆動作用下に、それぞれテンションダンサー70が揺動変位することにより、各テンションダンサー70が摺接する感光性ウエブ22a、22bのテンションが調整可能である。   On the downstream side of the first and second peeling mechanisms 44a and 44b, first and second tension control mechanisms 66a and 66b capable of applying tension to the photosensitive webs 22a and 22b are disposed. Each of the first and second tension control mechanisms 66a and 66b includes a cylinder 68, and the tension dancer 70 swings and displaces under the driving action of the cylinder 68. The tension of 22a, 22b can be adjusted.

第1及び第2検出機構47a、47bは、レーザセンサやフォトセンサ等の光電センサ72a、72bを備えており、前記光電センサ72a、72bは、ハーフカット部位34の楔状の溝形状部や、保護フイルム30の厚さによる段差、あるいは、これらの組み合わせによる変化を直接検出し、この検出信号を境界位置信号とする。光電センサ72a、72bは、バックアップローラ73a、73bに対向して配置される。なお、光電センサ72a、72bに代えて、非接触変位計やCCDカメラ等の画像検査手段等を用いてもよい。また、CCDカメラは、バックアップローラ73a、73bに対向しない位置に配置してもよい。   The first and second detection mechanisms 47a and 47b are provided with photoelectric sensors 72a and 72b such as laser sensors and photosensors. The photoelectric sensors 72a and 72b are wedge-shaped groove-shaped portions of the half-cut portion 34, and are protected. A step due to the thickness of the film 30 or a change due to a combination thereof is directly detected, and this detection signal is used as a boundary position signal. The photoelectric sensors 72a and 72b are disposed to face the backup rollers 73a and 73b. In place of the photoelectric sensors 72a and 72b, an image inspection means such as a non-contact displacement meter or a CCD camera may be used. Further, the CCD camera may be disposed at a position not facing the backup rollers 73a and 73b.

基板搬送機構45は、ガラス基板24を挟持するように配設される複数組の基板加熱部(例えば、ヒータ)74と、このガラス基板24を矢印C方向に搬送する搬送部76とを備える。基板加熱部74では、ガラス基板24の温度を常時監視し、異常時には、搬送部76の停止や警報を発生するとともに、異常情報を発信して異常なガラス基板24を後工程でNG排出、品質管理又は生産管理等に活用することができる。搬送部76には、図示しないエア浮上プレートが配設され、ガラス基板24が浮上されて矢印C方向に搬送される。ガラス基板24の搬送は、ローラコンベアでも行える。   The substrate transport mechanism 45 includes a plurality of sets of substrate heating units (for example, heaters) 74 disposed so as to sandwich the glass substrate 24 and a transport unit 76 that transports the glass substrate 24 in the direction of arrow C. The substrate heating unit 74 constantly monitors the temperature of the glass substrate 24. When an abnormality occurs, the conveyance unit 76 is stopped or alarmed, and the abnormal information is transmitted to cause the abnormal glass substrate 24 to be discharged NG in the subsequent process. It can be used for management or production management. An air levitation plate (not shown) is disposed in the conveyance unit 76, and the glass substrate 24 is levitated and conveyed in the direction of arrow C. The glass substrate 24 can be transported by a roller conveyor.

基板加熱部74の上流には、複数のガラス基板24が収容される基板ストッカー71が設けられる。この基板ストッカー71に収容されている各ガラス基板24は、ロボット75のハンド部75aに設けられた吸着パッド79に吸着されて取り出され、基板加熱部74に挿入される。   A substrate stocker 71 that accommodates a plurality of glass substrates 24 is provided upstream of the substrate heating unit 74. Each glass substrate 24 accommodated in the substrate stocker 71 is sucked and taken out by a suction pad 79 provided in the hand portion 75 a of the robot 75 and inserted into the substrate heating portion 74.

貼り付け機構46は、上下に配設されるとともに、所定温度に加熱されるゴムローラ80a、80bを備える。ゴムローラ80a、80bには、バックアップローラ82a、82bが摺接するとともに、前記バックアップローラ82bは、ローラクランプ部83を構成する加圧シリンダ84a、84bによりゴムローラ80b側に押圧される。   The affixing mechanism 46 includes rubber rollers 80a and 80b that are arranged vertically and are heated to a predetermined temperature. The backup rollers 82a and 82b are in sliding contact with the rubber rollers 80a and 80b, and the backup roller 82b is pressed toward the rubber roller 80b by the pressure cylinders 84a and 84b constituting the roller clamp portion 83.

ゴムローラ80aの近傍には、感光性ウエブ22a、22bが前記ゴムローラ80aに接触することを防止するための接触防止ローラ86が移動可能に配設される。貼り付け機構46の上流近傍には、感光性ウエブ22a、22bを予め所定温度に予備加熱するための予備加熱部87が配設される。この予備加熱部87は、例えば、赤外線バーヒータ等の加熱手段を備える。   In the vicinity of the rubber roller 80a, a contact prevention roller 86 for preventing the photosensitive webs 22a and 22b from contacting the rubber roller 80a is movably disposed. In the vicinity of the upstream of the attaching mechanism 46, a preheating unit 87 for preheating the photosensitive webs 22a and 22b to a predetermined temperature is disposed. This preheating part 87 is provided with heating means, such as an infrared bar heater, for example.

ガラス基板24は、貼り付け機構46から搬送路88を介して矢印C方向に搬送される。この搬送路88には、フイルム搬送ローラ90a、90bと基板搬送ローラ92とが配設される。ゴムローラ80a、80bと基板搬送ローラ92との間隔は、ガラス基板24の一枚分の長さ以下に設定されることが好ましい。   The glass substrate 24 is transported in the direction of arrow C from the pasting mechanism 46 via the transport path 88. In the transport path 88, film transport rollers 90a and 90b and a substrate transport roller 92 are disposed. The distance between the rubber rollers 80 a and 80 b and the substrate transport roller 92 is preferably set to be equal to or less than the length of one glass substrate 24.

貼り付け機構46の下流に、搬送機構94を構成する複数の搬送ローラ96が、矢印C方向に配列される。搬送機構94に沿って、冷却機構98と第1の実施形態に係る剥離装置であるベース自動剥離装置100が設けられる。   A plurality of transport rollers 96 constituting the transport mechanism 94 are arranged in the arrow C direction downstream of the attaching mechanism 46. A cooling mechanism 98 and a base automatic peeling device 100 that is a peeling device according to the first embodiment are provided along the transport mechanism 94.

ベース自動剥離装置100は、ガラス基板24間に露呈する保護フイルム30の残存部分30bを押圧して前記残存部分30bをハーフカット部位34に対応する感光性樹脂層28と一体に前記ガラス基板24から剥離させるプレ剥離部102と、前記プレ剥離部102の下流に配置され、ベースフイルム26を前記ガラス基板24から連続的に剥離する剥離ローラ104と、前記ガラス基板24側に前記剥離ローラ104の軸方向に沿って配置され、前記ベースフイルム26を剥離する際に前記ガラス基板24を保持可能な複数のガイドローラ106とを備える。   The base automatic peeling apparatus 100 presses the remaining portion 30b of the protective film 30 exposed between the glass substrates 24 so that the remaining portion 30b is integrated with the photosensitive resin layer 28 corresponding to the half-cut portion 34 from the glass substrate 24. A pre-peeling portion 102 to be peeled, a peeling roller 104 which is disposed downstream of the pre-peeling portion 102 and continuously peels the base film 26 from the glass substrate 24, and a shaft of the peeling roller 104 on the glass substrate 24 side. A plurality of guide rollers 106 arranged along the direction and capable of holding the glass substrate 24 when the base film 26 is peeled off.

プレ剥離部102は、図4に示すように、ガラス基板24間に露呈する保護フイルム30の残存部分30bを押圧して前記残存部分30bを前記ガラス基板24から剥離させる剥離部材108と、前記剥離部材108を前記残存部分30bに対して進退させる昇降シリンダ110とを備える。   As shown in FIG. 4, the pre-peeling portion 102 presses the remaining portion 30 b of the protective film 30 exposed between the glass substrates 24 to peel the remaining portion 30 b from the glass substrate 24, and the peeling An elevating cylinder 110 is provided for advancing and retracting the member 108 relative to the remaining portion 30b.

図5に示すように、搬送ローラ96は、剥離ローラ104の軸方向(矢印L方向)に配列される複数のローラ部96aと、複数の前記ローラ部96aを一体に支持する軸部96bとを有する。   As shown in FIG. 5, the conveying roller 96 includes a plurality of roller portions 96a arranged in the axial direction of the peeling roller 104 (in the direction of arrow L), and a shaft portion 96b that integrally supports the plurality of roller portions 96a. Have.

剥離ローラ104は、ガラス基板24の搬送方向に交差する幅方向(図5中、矢印L方向)の寸法に対応する軸長に設定される。この剥離ローラ104は、比較的長尺に構成されており、自重によって軸方向中央部が下方に湾曲する。複数のガイドローラ106は、矢印L方向両側に支持台111a、111bを介して所定の数ずつ配置されるとともに、剥離ローラ104の自重による軸方向の変形に対応し、軸方向両端側と軸方向中央側とで異なる高さ位置に配置される。   The peeling roller 104 is set to have an axial length corresponding to the dimension in the width direction (direction of arrow L in FIG. 5) intersecting with the conveyance direction of the glass substrate 24. The peeling roller 104 is configured to be relatively long, and a central portion in the axial direction is bent downward by its own weight. A plurality of guide rollers 106 are arranged on both sides in the direction of the arrow L via support bases 111a and 111b, and correspond to the axial deformation caused by the weight of the peeling roller 104. Arranged at different heights on the center side.

具体的には、剥離ローラ104の軸方向両端側に配置されるガイドローラ106は、前記剥離ローラ104の軸方向中央側に配置されるガイドローラ106よりも高い位置に配置される。各ガイドローラ106は、好ましくは、個別に回転自在に構成され、例えば、ポリアミド系樹脂、PEEK(ポリエーテルエーテルケトン)樹脂又はポリエチレン樹脂で形成される。   Specifically, the guide rollers 106 arranged on both axial sides of the peeling roller 104 are arranged at positions higher than the guide rollers 106 arranged on the axially central side of the peeling roller 104. Each guide roller 106 is preferably configured to be individually rotatable, and is formed of, for example, a polyamide-based resin, a PEEK (polyether ether ketone) resin, or a polyethylene resin.

図1に示すように、剥離ローラ104で剥離されるベースフイルム26は、巻き取り軸112により巻き取られる。この巻き取り軸112は、駆動時にトルク制御してベースフイルム26に張力を付与する。   As shown in FIG. 1, the base film 26 peeled off by the peeling roller 104 is taken up by a take-up shaft 112. The take-up shaft 112 applies torque to the base film 26 by controlling the torque during driving.

ベース自動剥離装置100の下流には、ガラス基板24に実際に貼り付けられた感光性樹脂層28のエリア位置を測定する測定器130が配設される。この測定器130は、例えば、CCD等のカメラ132を備え、感光性樹脂層28が貼り付けられたガラス基板24を撮影するために前記カメラ132が配設される。   A measuring instrument 130 for measuring the area position of the photosensitive resin layer 28 actually attached to the glass substrate 24 is disposed downstream of the automatic base peeling apparatus 100. The measuring instrument 130 includes a camera 132 such as a CCD, for example, and the camera 132 is disposed for photographing the glass substrate 24 on which the photosensitive resin layer 28 is attached.

測定器130の下流には、複数の感光性積層体134が収容される感光性積層体ストッカー136が設けられる。ベース自動剥離装置100で貼り付け基板24aからベースフイルム26及び残存部分30bが剥離された感光性積層体134は、ロボット138のハンド部138aに設けられた吸着パッド140に吸着されて取り出され、感光性積層体ストッカー136に収容される。   A photosensitive laminate stocker 136 that houses a plurality of photosensitive laminates 134 is provided downstream of the measuring device 130. The photosensitive laminate 134 from which the base film 26 and the remaining portion 30b have been peeled off from the attachment substrate 24a by the automatic base peeling apparatus 100 is sucked and taken out by the suction pad 140 provided on the hand portion 138a of the robot 138, and is exposed to light. Is accommodated in the conductive laminate stocker 136.

製造装置20では、第1及び第2ウエブ送り出し機構32a、32b、第1及び第2加工機構36a、36b、第1及び第2ラベル接着機構40a、40b、第1及び第2リザーバ機構42a、42b、第1及び第2剥離機構44a、44b、第1及び第2テンション制御機構66a、66b並びに第1及び第2検出機構47a、47bが、貼り付け機構46の上方に配置されているが、これとは逆に、前記第1及び第2ウエブ送り出し機構32a、32bから前記第1及び第2検出機構47a、47bまでを前記貼り付け機構46の下方に配置し、感光性ウエブ22a、22bの上下が逆になって感光性樹脂層28がガラス基板24の下側に貼り付けてもよく、また、前記製造装置20全体を直線上に構成してもよい。   In the manufacturing apparatus 20, the first and second web feed mechanisms 32a and 32b, the first and second processing mechanisms 36a and 36b, the first and second label adhesion mechanisms 40a and 40b, and the first and second reservoir mechanisms 42a and 42b. The first and second peeling mechanisms 44a and 44b, the first and second tension control mechanisms 66a and 66b, and the first and second detection mechanisms 47a and 47b are arranged above the attaching mechanism 46. On the contrary, the first and second web feed mechanisms 32a and 32b to the first and second detection mechanisms 47a and 47b are arranged below the affixing mechanism 46, and the photosensitive webs 22a and 22b are moved up and down. However, the photosensitive resin layer 28 may be attached to the lower side of the glass substrate 24, or the entire manufacturing apparatus 20 may be configured in a straight line.

製造装置20は、ラミネート工程制御部200を介して全体制御されており、この製造装置20の各機能部毎に、例えば、ラミネート制御部202、基板加熱制御部204及びベース剥離制御部206等が設けられ、これらが工程内ネットワークにより繋がっている。ラミネート工程制御部200は、工場ネットワークに繋がっており、図示しない工場CPUからの指示情報(条件設定や生産情報)の生産管理や稼動管理等、生産のための情報処理を行う。   The manufacturing apparatus 20 is entirely controlled via a laminating process control unit 200. For each functional unit of the manufacturing apparatus 20, for example, a laminating control unit 202, a substrate heating control unit 204, a base peeling control unit 206, and the like are provided. Provided, and these are connected by an in-process network. The laminating process control unit 200 is connected to a factory network, and performs information processing for production such as production management and operation management of instruction information (condition setting and production information) from a factory CPU (not shown).

基板加熱制御部204は、上流工程からガラス基板24を受け入れ、このガラス基板24を所望の温度まで加熱して貼り付け機構46に供給する動作及び該ガラス基板24の情報のハンドリング等を制御する。   The substrate heating control unit 204 receives the glass substrate 24 from the upstream process, controls the operation of heating the glass substrate 24 to a desired temperature and supplying the glass substrate 24 to the pasting mechanism 46, the handling of information on the glass substrate 24, and the like.

ラミネート制御部202は、工程全体のマスターとして、各機能部の制御を行うものであり、第1及び第2検出機構47a、47bにより検出された感光性ウエブ22a、22bのハーフカット部位34の位置情報に基づいて、貼り付け位置における各境界位置とガラス基板24との相対位置及び各境界位置同士の相対位置を制御可能な制御機構を構成している。   The laminating control unit 202 controls each functional unit as a master of the entire process, and the position of the half-cut portion 34 of the photosensitive webs 22a and 22b detected by the first and second detection mechanisms 47a and 47b. Based on the information, a control mechanism capable of controlling the relative position between each boundary position and the glass substrate 24 at the pasting position and the relative position between the respective boundary positions is configured.

ベース剥離制御部206は、貼り付け機構46から供給される貼り付け基板24aからベースフイルム26を剥離し、さらに下流工程に感光性積層体134を排出する動作の制御を行うとともに、前記貼り付け基板24a及び前記感光性積層体134の情報をハンドリング制御する。   The base peeling control unit 206 controls the operation of peeling the base film 26 from the sticking substrate 24a supplied from the sticking mechanism 46, and discharging the photosensitive laminate 134 to the downstream process, and the sticking substrate. 24a and information on the photosensitive laminate 134 are controlled.

製造装置20内は、仕切り壁210を介して第1クリーンルーム212aと第2クリーンルーム212bとに仕切られる。第1クリーンルーム212aには、第1及び第2ウエブ送り出し機構32a、32bから第1及び第2テンション制御機構66a、66bまでが収容されるとともに、第2クリーンルーム212bには、第1及び第2検出機構47a、47b以降が収容される。第1クリーンルーム212aと第2クリーンルーム212bとは、貫通部214を介して連通する。   The interior of the manufacturing apparatus 20 is partitioned into a first clean room 212a and a second clean room 212b through a partition wall 210. The first clean room 212a accommodates the first and second web feed mechanisms 32a and 32b to the first and second tension control mechanisms 66a and 66b, and the second clean room 212b includes the first and second detections. The mechanisms 47a and 47b and thereafter are accommodated. The first clean room 212a and the second clean room 212b communicate with each other through the penetration part 214.

このように構成される製造装置20の動作について、第1の実施形態に係る剥離方法との関連で、以下に説明する。   The operation of the manufacturing apparatus 20 configured as described above will be described below in relation to the peeling method according to the first embodiment.

先ず、第1及び第2ウエブ送り出し機構32a、32bに取り付けられている各感光性ウエブロール23a、23bから感光性ウエブ22a、22bが送り出される。感光性ウエブ22a、22bは、第1及び第2加工機構36a、36bに搬送される。   First, the photosensitive webs 22a and 22b are sent out from the respective photosensitive web rolls 23a and 23b attached to the first and second web delivery mechanisms 32a and 32b. The photosensitive webs 22a and 22b are conveyed to the first and second processing mechanisms 36a and 36b.

第1及び第2加工機構36a、36bでは、丸刃52が感光性ウエブ22a、22bの幅方向に移動して、前記感光性ウエブ22a、22bを保護フイルム30から感光性樹脂層28乃至ベースフイルム26まで切り込んでハーフカット部位34を形成する(図2参照)。   In the first and second processing mechanisms 36a and 36b, the round blade 52 moves in the width direction of the photosensitive webs 22a and 22b, and the photosensitive webs 22a and 22b are moved from the protective film 30 to the photosensitive resin layer 28 to the base film. Cut to 26 to form a half-cut portion 34 (see FIG. 2).

さらに、感光性ウエブ22a、22bは、図1に示すように、保護フイルム30の残存部分30bの寸法に対応して矢印A方向に搬送された後に停止され、丸刃52の走行作用下にハーフカット部位34が形成される。これにより、感光性ウエブ22a、22bには、残存部分30bを挟んで前方の剥離部分30aaと後方の剥離部分30abとが設けられる(図2参照)。   Further, as shown in FIG. 1, the photosensitive webs 22a and 22b are stopped after being transported in the direction of the arrow A corresponding to the dimension of the remaining portion 30b of the protective film 30, and the half-blade 52 is halfway under the traveling action. A cut site 34 is formed. Thus, the photosensitive webs 22a and 22b are provided with a front peeling portion 30aa and a rear peeling portion 30ab with the remaining portion 30b interposed therebetween (see FIG. 2).

次いで、各感光性ウエブ22a、22bは、第1及び第2ラベル接着機構40a、40bに搬送されて、保護フイルム30の所定の貼り付け部位が受け台56上に配置される。第1及び第2ラベル接着機構40a、40bでは、所定枚数の接着ラベル38が吸着パッド54a〜54gにより吸着保持され、各接着ラベル38が保護フイルム30の残存部分30bを跨いで、前方の剥離部分30aaと後方の剥離部分30abとに一体的に接着される(図3参照)。   Next, the respective photosensitive webs 22 a and 22 b are conveyed to the first and second label adhering mechanisms 40 a and 40 b, and a predetermined application site of the protective film 30 is arranged on the cradle 56. In the first and second label adhering mechanisms 40a and 40b, a predetermined number of adhesive labels 38 are adsorbed and held by the adsorbing pads 54a to 54g, and each adhering label 38 straddles the remaining portion 30b of the protective film 30, and a front peeling portion. 30aa and the rear peeling portion 30ab are integrally bonded (see FIG. 3).

例えば、7本の接着ラベル38が接着された感光性ウエブ22a、22bは、図1に示すように、第1及び第2リザーバ機構42a、42bを介して送り出し側のテンション変動を防いだ後、第1及び第2剥離機構44a、44bに連続的に搬送される。第1及び第2剥離機構44a、44bでは、図6に示すように、感光性ウエブ22a、22bのベースフイルム26がサクションドラム62に吸着保持されるとともに、保護フイルム30が残存部分30bを残して前記感光性ウエブ22a、22bから剥離される。この保護フイルム30は、剥離ローラ63を介して剥離されて保護フイルム巻き取り部64に巻き取られる(図1参照)。   For example, the photosensitive webs 22a and 22b to which the seven adhesive labels 38 are bonded, as shown in FIG. 1, after the first and second reservoir mechanisms 42a and 42b are prevented from changing the tension on the delivery side, It is continuously conveyed to the first and second peeling mechanisms 44a and 44b. In the first and second peeling mechanisms 44a and 44b, as shown in FIG. 6, the base film 26 of the photosensitive webs 22a and 22b is adsorbed and held by the suction drum 62, and the protective film 30 leaves the remaining portion 30b. It peels from the said photosensitive webs 22a and 22b. The protective film 30 is peeled off via the peeling roller 63 and wound around the protective film take-up portion 64 (see FIG. 1).

第1及び第2剥離機構44a、44bの作用下に、保護フイルム30が残存部分30bを残してベースフイルム26から剥離された後、感光性ウエブ22a、22bは、第1及び第2テンション制御機構66a、66bによってテンション調整が行われ、さらに第1及び第2検出機構47a、47bで光電センサ72a、72bによりハーフカット部位34の検出が行われる。   Under the action of the first and second peeling mechanisms 44a and 44b, after the protective film 30 is peeled from the base film 26 leaving the remaining portion 30b, the photosensitive webs 22a and 22b are moved to the first and second tension control mechanisms. The tension is adjusted by 66a and 66b, and the half-cut portion 34 is detected by the photoelectric sensors 72a and 72b by the first and second detection mechanisms 47a and 47b.

各感光性ウエブ22a、22bは、ハーフカット部位34の検出情報に基づいて、フイルム搬送ローラ90a、90bの回転作用下に、それぞれ貼り付け機構46に定量搬送される。一方、ガラス基板24は、基板搬送機構45の作用下に、予め加熱された状態で貼り付け位置に搬送される。このガラス基板24は、並列されている感光性ウエブ22a、22bの感光性樹脂層28の貼り付け部分に対応してゴムローラ80a、80b間に一旦配置される。   Each photosensitive web 22a, 22b is quantitatively transported to the affixing mechanism 46 under the rotational action of the film transport rollers 90a, 90b based on the detection information of the half-cut region 34, respectively. On the other hand, the glass substrate 24 is transported to the affixing position in a heated state under the action of the substrate transport mechanism 45. The glass substrate 24 is temporarily disposed between the rubber rollers 80a and 80b corresponding to the portion where the photosensitive resin layer 28 of the photosensitive webs 22a and 22b arranged in parallel is attached.

この状態で、バックアップローラ82b及びゴムローラ80bを上昇させることにより、ゴムローラ80a、80b間にガラス基板24が所定のプレス圧力で挟み込まれる。さらに、ゴムローラ80aの回転作用下に、このガラス基板24には、並列されている各感光性樹脂層28が転写(ラミネート)される。   In this state, by raising the backup roller 82b and the rubber roller 80b, the glass substrate 24 is sandwiched between the rubber rollers 80a and 80b with a predetermined pressing pressure. Further, the photosensitive resin layers 28 arranged in parallel are transferred (laminated) to the glass substrate 24 under the rotating action of the rubber roller 80a.

ここで、ラミネート条件としては、速度が1.0m/min〜10.0m/min、ゴムローラ80a、80bの温度が80℃〜150℃、前記ゴムローラ80a、80bのゴム硬度が40度〜90度、該ゴムローラ80a、80bのプレス圧(線圧)が50N/cm〜400N/cmである。   Here, as the lamination conditions, the speed is 1.0 m / min to 10.0 m / min, the temperature of the rubber rollers 80a and 80b is 80 ° C to 150 ° C, the rubber hardness of the rubber rollers 80a and 80b is 40 degrees to 90 degrees, The pressing pressure (linear pressure) of the rubber rollers 80a and 80b is 50 N / cm to 400 N / cm.

ゴムローラ80a、80bを介してガラス基板24に感光性ウエブ22a、22bの一枚分のラミネートが終了すると、前記ゴムローラ80aの回転が停止される一方、前記感光性ウエブ22a、22bがラミネートされた前記ガラス基板24、すなわち、貼り付け基板24aが基板搬送ローラ92によりクランプされる。   When the lamination of one photosensitive web 22a, 22b is completed on the glass substrate 24 via the rubber rollers 80a, 80b, the rotation of the rubber roller 80a is stopped, while the photosensitive webs 22a, 22b are laminated. The glass substrate 24, that is, the attached substrate 24 a is clamped by the substrate transport roller 92.

そして、ゴムローラ80bが、ゴムローラ80aから離間する方向に退避してクランプが解除されるとともに、基板搬送ローラ92の回転が開始されて、貼り付け基板24aが矢印C方向に定量搬送され、感光性ウエブ22a、22bの基板間位置がゴムローラ80aの下方付近の所定位置に移動する。一方、基板搬送機構45を介して次なるガラス基板24が貼り付け位置に向かって搬送される。   Then, the rubber roller 80b is retracted in the direction away from the rubber roller 80a to release the clamp, and the rotation of the substrate transport roller 92 is started, so that the bonded substrate 24a is quantitatively transported in the direction of arrow C, and the photosensitive web. The position between the substrates 22a and 22b moves to a predetermined position near the lower side of the rubber roller 80a. On the other hand, the next glass substrate 24 is transported toward the attaching position via the substrate transport mechanism 45.

この次なるガラス基板24の先端がゴムローラ80a、80b間に配置されると、前記ゴムローラ80bが上昇して、前記ゴムローラ80a、80bにより前記次なるガラス基板24と感光性ウエブ22a、22bとがクランプされる。そして、ゴムローラ80a、80b及び基板搬送ローラ92の回転作用下にラミネートが開始されるとともに、貼り付け基板24aが矢印C方向に搬送される。   When the tip of the next glass substrate 24 is disposed between the rubber rollers 80a and 80b, the rubber roller 80b is raised, and the next glass substrate 24 and the photosensitive webs 22a and 22b are clamped by the rubber rollers 80a and 80b. Is done. Lamination is started under the rotational action of the rubber rollers 80a and 80b and the substrate transport roller 92, and the bonded substrate 24a is transported in the direction of arrow C.

貼り付け基板24aは、冷却機構98を通って冷却された後、ベース自動剥離装置100に移送される。このベース自動剥離装置100では、先ず、剥離ローラ104の上流側に配置されているプレ剥離部102を構成する昇降シリンダ110が駆動される。このため、剥離部材108は、上昇してガラス基板24間に挿入され、残存部分30bを鉛直上方向に押圧する。従って、ガラス基板24間に露呈する残存部分30bは、ハーフカット部位34に対応して前記ガラス基板24に接着し易い感光性樹脂層28と一体に、前記ガラス基板24の端部から剥離される。   The bonded substrate 24 a is cooled through the cooling mechanism 98 and then transferred to the base automatic peeling apparatus 100. In this base automatic peeling apparatus 100, first, the elevating cylinder 110 constituting the pre-peeling portion 102 disposed on the upstream side of the peeling roller 104 is driven. For this reason, the peeling member 108 rises and is inserted between the glass substrates 24, and presses the remaining portion 30b vertically upward. Accordingly, the remaining portion 30b exposed between the glass substrates 24 is peeled off from the end of the glass substrate 24 together with the photosensitive resin layer 28 that easily adheres to the glass substrate 24 corresponding to the half-cut portion 34. .

一方、プレ剥離部102の下流側では、巻き取り軸112の回転作用下に、剥離ローラ104を介して貼り付け基板24aからベースフイルム26が連続して巻き取られている(図1参照)。その際、図5に示すように、剥離ローラ104は、軸線方向に対して自重により変形しており、この剥離ローラ104の軸方向中央部が下方に湾曲している。   On the other hand, on the downstream side of the pre-peeling portion 102, the base film 26 is continuously wound from the pasting substrate 24a via the peeling roller 104 under the rotating action of the winding shaft 112 (see FIG. 1). At that time, as shown in FIG. 5, the peeling roller 104 is deformed by its own weight with respect to the axial direction, and a central portion in the axial direction of the peeling roller 104 is curved downward.

この場合、第1の実施形態では、複数のガイドローラ106は、剥離ローラ104の自重による軸方向の変形に対応して配置されている。具体的には、剥離ローラ104の軸方向両端側に配置されるガイドローラ106は、前記剥離ローラ104の軸方向中央側に配置される該ガイドローラ106よりも高い位置に配置されている。従って、ガラス基板24は、先端部がプレ剥離部102から剥離ローラ104側に移動する際、複数のガイドローラ106に案内されて、前記剥離ローラ104の外周面形状に対応して湾曲された状態で、ベースフイルム26の剥離が行われる(図5参照)。   In this case, in the first embodiment, the plurality of guide rollers 106 are arranged corresponding to the axial deformation caused by the weight of the peeling roller 104. Specifically, the guide rollers 106 arranged at both axial ends of the peeling roller 104 are arranged at positions higher than the guide rollers 106 arranged at the axial center side of the peeling roller 104. Accordingly, the glass substrate 24 is guided by the plurality of guide rollers 106 when the tip portion moves from the pre-peeling portion 102 to the peeling roller 104 side, and is curved according to the outer peripheral surface shape of the peeling roller 104. The base film 26 is peeled off (see FIG. 5).

次いで、ガラス基板24の搬送方向後端側が、剥離ローラ104から離脱する際には、このガラス基板24の後端部は、複数のガイドローラ106に保持されている。これにより、ガラス基板24が剥離ローラ104から離脱することによる衝撃を可及的に抑制することができる。   Next, when the rear end side in the transport direction of the glass substrate 24 is separated from the peeling roller 104, the rear end portion of the glass substrate 24 is held by a plurality of guide rollers 106. Thereby, the impact caused by the separation of the glass substrate 24 from the peeling roller 104 can be suppressed as much as possible.

このため、ガラス基板24からベースフイルム26以外の必要部分、例えば、感光性樹脂層28(又は、感光性樹脂層28上に形成される図示しないクッション層)の剥がれや、前記ガラス基板24の損傷等を良好に阻止することが可能になるという効果が得られる。   For this reason, a necessary part other than the base film 26 from the glass substrate 24, for example, the photosensitive resin layer 28 (or a cushion layer (not shown) formed on the photosensitive resin layer 28) is peeled off or the glass substrate 24 is damaged. The effect that it becomes possible to prevent etc. favorably is acquired.

上記のように、ベースフイルム26が剥離されたガラス基板24は、図1に示すように、測定器130に対応する検査ステーションに配置される。この検査ステーションでは、図1に示すように、ガラス基板24が位置決め固定された状態で、カメラ132によりガラス基板24と感光性樹脂層28の画像を取り込む。そして、画像処理が施されることにより、貼り付け位置が演算される。その後、感光性積層体134は、ロボット138を介して感光性積層体ストッカー136に収容される。   As described above, the glass substrate 24 from which the base film 26 has been peeled is disposed at an inspection station corresponding to the measuring instrument 130 as shown in FIG. In this inspection station, as shown in FIG. 1, images of the glass substrate 24 and the photosensitive resin layer 28 are captured by the camera 132 with the glass substrate 24 positioned and fixed. Then, by applying image processing, the pasting position is calculated. Thereafter, the photosensitive laminate 134 is accommodated in the photosensitive laminate stocker 136 via the robot 138.

図7は、本発明の第2の実施形態に係る剥離装置であるベース自動剥離装置220の概略正面説明図であり、図8は、前記ベース自動剥離装置220の概略側面説明図である。   FIG. 7 is a schematic front explanatory view of a base automatic peeling apparatus 220 which is a peeling apparatus according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 8 is a schematic side explanatory view of the base automatic peeling apparatus 220.

なお、第1の実施形態に係るベース自動剥離装置100と同一の構成要素には同一の参照符号を付して、その詳細な説明は省略する。また、以下に説明する第3及び第4の実施形態においても同様に、その詳細な説明は省略する。   In addition, the same referential mark is attached | subjected to the component same as the base automatic peeling apparatus 100 which concerns on 1st Embodiment, and the detailed description is abbreviate | omitted. Similarly, in the third and fourth embodiments described below, detailed description thereof is omitted.

ベース自動剥離装置220は、複数のガイドローラ106を剥離ローラ104の外周面に対して進退させる移動機構222を備える。この移動機構222は、例えば、2つのシリンダ224a、224bを備え、前記シリンダ224a、224bは、昇降可能な昇降台226a、226bが連結される。昇降台226a、226bには、それぞれ所定数のガイドローラ106が、回転自在に且つ剥離ローラ104の自重による変形形状に対応する高さ位置に支持される。   The automatic base peeling device 220 includes a moving mechanism 222 that moves the plurality of guide rollers 106 forward and backward with respect to the outer peripheral surface of the peeling roller 104. The moving mechanism 222 includes, for example, two cylinders 224a and 224b, and the cylinders 224a and 224b are connected to elevating platforms 226a and 226b that can move up and down. A predetermined number of guide rollers 106 are supported on the lifts 226 a and 226 b at height positions corresponding to the deformed shape caused by the weight of the peeling roller 104, respectively, in a freely rotatable manner.

このように構成される第2の実施形態では、図8に示すように、ガラス基板24の先端が、剥離ローラ104に移送される際には、複数のガイドローラ106は、シリンダ224a、224bを介して下降されており、前記ガラス基板24の先端が前記ガイドローラ106に当接することがない。   In the second embodiment configured as described above, as shown in FIG. 8, when the tip of the glass substrate 24 is transferred to the peeling roller 104, the plurality of guide rollers 106 include cylinders 224 a and 224 b. The tip of the glass substrate 24 does not come into contact with the guide roller 106.

そして、ガラス基板24が矢印C方向に搬送されながら、このガラス基板24からベースフイルム26の剥離処理が行われると、前記ガラス基板24の幅方向両端は、剥離ローラ104の外周面形状に沿って湾曲し、前記剥離ローラ104の外周面に密着保持される(図7参照)。この状態で、シリンダ224a、224bが駆動され、昇降台226a、226bが上昇する。   When the base film 26 is peeled off from the glass substrate 24 while the glass substrate 24 is conveyed in the direction of arrow C, both ends in the width direction of the glass substrate 24 follow the shape of the outer peripheral surface of the peeling roller 104. It bends and is held in close contact with the outer peripheral surface of the peeling roller 104 (see FIG. 7). In this state, the cylinders 224a and 224b are driven, and the lifting platforms 226a and 226b are raised.

このため、各昇降台226a、226bに支持されている複数のガイドローラ106が上昇し、ガラス基板24を保持する(図7及び図8中、二点鎖線参照)。従って、ガラス基板24の後端部が剥離ローラ104から離脱する際、前記ガラス基板24の幅方向両端部を、ガイドローラ106により湾曲形状に保持することができる。これにより、ガラス基板24が剥離ローラ104から離脱することによる衝撃を可及的に抑制することが可能になり、上記の第1の実施形態と同様の効果が得られる。   For this reason, the plurality of guide rollers 106 supported by the elevators 226a and 226b are raised and hold the glass substrate 24 (see the two-dot chain line in FIGS. 7 and 8). Therefore, when the rear end portion of the glass substrate 24 is detached from the peeling roller 104, both end portions in the width direction of the glass substrate 24 can be held in a curved shape by the guide roller 106. Thereby, it becomes possible to suppress as much as possible the impact caused by the separation of the glass substrate 24 from the peeling roller 104, and the same effect as in the first embodiment can be obtained.

しかも、第2の実施形態では、特に、ガラス基板24の先端は、剥離ローラ104に移送される際、ガイドローラ106に当接することがない。このため、ガラス基板24を一層円滑に矢印C方向に向かって搬送することができるという利点がある。   Moreover, particularly in the second embodiment, the tip of the glass substrate 24 does not come into contact with the guide roller 106 when being transferred to the peeling roller 104. For this reason, there exists an advantage that the glass substrate 24 can be conveyed toward the arrow C direction more smoothly.

図9は、本発明の第3の実施形態に係る剥離装置であるベース自動剥離装置240の概略正面説明図である。   FIG. 9 is a schematic front explanatory view of a base automatic peeling apparatus 240 which is a peeling apparatus according to the third embodiment of the present invention.

このベース自動剥離装置240は、移動機構242を備えるとともに、前記移動機構242は、カム手段244a、244bを有する。カム手段244a、244bは、それぞれモータ246a、246bに軸着されて回転自在なカム部材248a、248bを有し、前記カム部材248a、248bは、支軸250a、250bを支点にして揺動可能な揺動台252a、252bに係合する。揺動台252a、252bには、それぞれ所定数のガイドローラ106が回転自在に支持される。   The automatic base peeling device 240 includes a moving mechanism 242 and the moving mechanism 242 includes cam means 244a and 244b. The cam means 244a and 244b have cam members 248a and 248b that are rotatably mounted on shafts of motors 246a and 246b, respectively, and the cam members 248a and 248b can swing around the support shafts 250a and 250b. Engage with the swing bases 252a and 252b. A predetermined number of guide rollers 106 are rotatably supported on the swing bases 252a and 252b, respectively.

カム部材248a、248bの頂部が揺動台252a、252bに係合する際に、各ガイドローラ106は、剥離ローラ104の外周面形状に沿って配列され、ガラス基板24をこの剥離ローラ104の外周面に保持可能である(図9中、二点鎖線参照)。   When the tops of the cam members 248 a and 248 b are engaged with the swing bases 252 a and 252 b, the guide rollers 106 are arranged along the outer peripheral surface shape of the peeling roller 104, and the glass substrate 24 is arranged on the outer periphery of the peeling roller 104. It can be held on the surface (see the two-dot chain line in FIG. 9).

このように構成される第3の実施形態では、上記の第2の実施形態と同様の効果が得られる。   In the third embodiment configured as described above, the same effect as in the second embodiment can be obtained.

図10は、本発明の第4の実施形態に係る剥離装置であるベース自動剥離装置260の概略正面説明図である。   FIG. 10 is a schematic front explanatory view of a base automatic peeling apparatus 260 which is a peeling apparatus according to the fourth embodiment of the present invention.

このベース自動剥離装置260は、移動機構262を備えるとともに、前記移動機構262は、支持台264a、264bを有する。支持台264a、264bには、複数の係止筒体266が固着されるとともに、前記係止筒体266には、昇降柱体268が昇降自在に配設される。昇降柱体268の上部には、ガイドローラ106が回転自在に支持される一方、前記昇降柱体268の下部には、スプリング270が設けられる。昇降柱体268は、スプリング270の押圧作用下に、剥離ローラ104の外周面に摺接可能である。   The automatic base peeling device 260 includes a moving mechanism 262, and the moving mechanism 262 includes support bases 264a and 264b. A plurality of locking cylinders 266 are fixed to the support bases 264a, 264b, and a lifting column 268 is disposed on the locking cylinders 266 so as to be movable up and down. A guide roller 106 is rotatably supported at the upper part of the elevating column body 268, and a spring 270 is provided at the lower part of the elevating column body 268. The elevating column body 268 can be slidably contacted with the outer peripheral surface of the peeling roller 104 under the pressing action of the spring 270.

このように構成される第4の実施形態では、上記の第1〜第3の実施形態と同様の効果が得られる。   In the fourth embodiment configured as described above, the same effect as in the first to third embodiments can be obtained.

なお、第1〜第4の実施形態では、2本の感光性ウエブロール23a、23bを用いているが、これに限定されるものではなく、1本の感光性ウエブロールや、3本以上の感光性ウエブロールを採用してもよい。   In the first to fourth embodiments, the two photosensitive web rolls 23a and 23b are used. However, the present invention is not limited to this, and one photosensitive web roll or three or more photosensitive web rolls are used. A photosensitive web roll may be employed.

本発明の第1の実施形態に係る剥離装置を組み込む感光性積層体の製造装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the manufacturing apparatus of the photosensitive laminated body incorporating the peeling apparatus which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 前記製造装置に使用される長尺状感光性ウエブの断面図である。It is sectional drawing of the elongate photosensitive web used for the said manufacturing apparatus. 前記長尺状感光性ウエブに接着ラベルが接着された状態の説明図である。It is explanatory drawing of the state by which the adhesive label was adhere | attached on the said elongate photosensitive web. ベース自動剥離装置の概略正面説明図である。It is a schematic front explanatory drawing of a base automatic peeling apparatus. 前記ベース自動剥離装置の概略側面説明図である。It is a schematic side surface explanatory view of the base automatic peeling device. 前記感光性ウエブから保護フイルムを剥離する際の説明図である。It is explanatory drawing at the time of peeling a protective film from the said photosensitive web. 本発明の第2の実施形態に係る剥離装置であるベース自動剥離装置の概略正面説明図である。It is a schematic front explanatory drawing of the base automatic peeling apparatus which is a peeling apparatus which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 前記ベース自動剥離装置の概略側面説明図である。It is a schematic side surface explanatory view of the base automatic peeling device. 本発明の第3の実施形態に係る剥離装置であるベース自動剥離装置の概略正面説明図である。It is a schematic front explanatory drawing of the base automatic peeling apparatus which is a peeling apparatus which concerns on the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4の実施形態に係る剥離装置であるベース自動剥離装置の概略正面説明図である。It is a schematic front explanatory drawing of the base automatic peeling apparatus which is a peeling apparatus which concerns on the 4th Embodiment of this invention. 特許文献1に開示されているフイルム張付装置の説明図である。It is explanatory drawing of the film sticking apparatus currently disclosed by patent document 1. FIG. 前記フイルム張付装置を構成する剥離ローラの説明図である。It is explanatory drawing of the peeling roller which comprises the said film sticking apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

20…製造装置 22a、22b…感光性ウエブ
23a、23b…感光性ウエブロール
24…ガラス基板 26…ベースフイルム
28…感光性樹脂層 30…保護フイルム
32a、32b…ウエブ送り出し機構
40a、40b…ラベル接着機構 44a、44b…剥離機構
45…基板搬送機構 46…貼り付け機構
63…剥離ローラ 80a、80b…ゴムローラ
100、220、240、260…ベース自動剥離装置
102…プレ剥離部 104…剥離ローラ
106…ガイドローラ 222、242、262…移動機構
224a、224b…シリンダ 244a、244b…カム手段
246a、246b…モータ 268…昇降柱体
270…スプリング
DESCRIPTION OF SYMBOLS 20 ... Manufacturing apparatus 22a, 22b ... Photosensitive web 23a, 23b ... Photosensitive web roll 24 ... Glass substrate 26 ... Base film 28 ... Photosensitive resin layer 30 ... Protective film 32a, 32b ... Web delivery mechanism 40a, 40b ... Label adhesion Mechanism 44a, 44b ... Peeling mechanism 45 ... Substrate transport mechanism 46 ... Paste mechanism 63 ... Peeling roller 80a, 80b ... Rubber rollers 100, 220, 240, 260 ... Base automatic peeling device 102 ... Pre-peeling unit 104 ... Peeling roller 106 ... Guide Rollers 222, 242 and 262 ... moving mechanisms 224a and 224b ... cylinders 244a and 244b ... cam means 246a and 246b ... motors 268 ... lifting column 270 ... springs

Claims (7)

支持層と少なくとも感光材料層とが積層された感光性ウエブを、前記感光材料層側が基板に向かうようにして前記基板に接着して貼り付け基板を得た後、前記支持層を前記基板から剥離させる感光性ウエブの剥離装置であって、
前記基板に摺接して前記貼り付け基板を搬送する搬送機構と、
前記支持層側に配置され、該支持層を前記基板から剥離する剥離ローラと、
前記基板側に前記剥離ローラの軸方向に沿って配置され、前記支持層を剥離する際に前記基板を保持可能な複数のガイドローラと、
を備えるとともに、
複数の前記ガイドローラは、剥離ローラの自重による前記軸方向の変形に対応し、軸方向両端側と軸方向中央側とで異なる高さ位置に配置されることを特徴とする感光性ウエブの剥離装置。
A photosensitive web in which a support layer and at least a photosensitive material layer are laminated is adhered to the substrate with the photosensitive material layer side facing the substrate to obtain a bonded substrate, and then the support layer is peeled from the substrate A photosensitive web peeling device,
A transport mechanism that slidably contacts the substrate and transports the attached substrate;
A peeling roller that is disposed on the support layer side and peels the support layer from the substrate;
A plurality of guide rollers arranged on the substrate side along the axial direction of the peeling roller, and capable of holding the substrate when peeling the support layer;
With
The plurality of guide rollers correspond to the deformation in the axial direction due to the weight of the peeling roller, and are arranged at different height positions on the both axial ends and the axial central side. apparatus.
請求項1記載の剥離装置において、前記貼り付け基板は、前記基板を下方に向けて搬送されるとともに、
複数の前記ガイドローラは、前記剥離ローラの下方に配置され、且つ、前記軸方向両端側の配置位置が前記軸方向中央側の配置位置よりも高い位置に設定されることを特徴とする感光性ウエブの剥離装置。
The peeling apparatus according to claim 1, wherein the attachment substrate is conveyed with the substrate facing downward,
The plurality of guide rollers are arranged below the peeling roller, and the arrangement positions on both ends in the axial direction are set higher than the arrangement positions on the central side in the axial direction. Web peeling device.
請求項1又は2記載の剥離装置において、複数の前記ガイドローラを前記基板側に押圧するためのスプリングが設けられることを特徴とする感光性ウエブの剥離装置。   3. The peeling apparatus according to claim 1, further comprising a spring for pressing the plurality of guide rollers toward the substrate. 請求項1〜3のいずれか1項に記載の剥離装置において、複数の前記ガイドローラを前記基板に対して進退可能なアクチュエータを備えることを特徴とする感光性ウエブの剥離装置。   The peeling apparatus of any one of Claims 1-3 WHEREIN: The actuator which can advance / retreat the some said guide roller with respect to the said board | substrate is provided, The peeling apparatus of the photosensitive web characterized by the above-mentioned. 請求項1〜4のいずれか1項に記載の剥離装置において、前記貼り付け基板は、複数の前記基板が前記感光性ウエブに一体に接着されるとともに、
前記剥離ローラは、前記支持層を前記基板間に露呈する前記感光性ウエブの一部と一体に前記基板から剥離させることを特徴とする感光性ウエブの剥離装置。
5. The peeling apparatus according to claim 1, wherein a plurality of the substrates are integrally bonded to the photosensitive web.
The photosensitive web peeling apparatus, wherein the peeling roller peels the support layer from the substrate together with a part of the photosensitive web exposed between the substrates.
支持層と少なくとも感光材料層とが積層された感光性ウエブを、前記感光材料層側が基板に向かうようにして前記基板に接着して貼り付け基板を得た後、前記支持層を前記基板から剥離させる感光性ウエブの剥離方法であって、
前記支持層を前記基板から剥離する剥離ローラの軸方向に沿って複数のガイドローラが配置されるとともに、複数の前記ガイドローラは、前記剥離ローラの自重による軸方向の変形に対応して軸方向両端側と軸方向中央側とで異なる高さ位置に配置されており、
前記貼り付け基板を搬送しながら、前記剥離ローラを介して前記支持層が前記基板から剥離される際に、複数の前記ガイドローラを介し、少なくとも前記支持層の剥離処理が施されている前記基板を保持することを特徴とする感光性ウエブの剥離方法。
A photosensitive web in which a support layer and at least a photosensitive material layer are laminated is adhered to the substrate with the photosensitive material layer side facing the substrate to obtain a bonded substrate, and then the support layer is peeled from the substrate A method for peeling a photosensitive web,
A plurality of guide rollers are arranged along an axial direction of a peeling roller for peeling the support layer from the substrate, and the plurality of guide rollers are axially adapted to deformation in the axial direction due to the weight of the peeling roller. It is arranged at different height positions on both ends and the axial center.
When the support layer is peeled from the substrate via the peeling roller while transporting the bonded substrate, at least the support layer is peeled off via the plurality of guide rollers. A method for peeling off a photosensitive web, characterized in that:
請求項6記載の剥離方法において、前記貼り付け基板は、複数の前記基板が前記感光性ウエブに一体に接着されるとともに、
前記剥離ローラは、前記支持層を前記基板間に露呈する前記感光性ウエブの一部と一体に前記基板から剥離させることを特徴とする感光性ウエブの剥離方法。
7. The peeling method according to claim 6, wherein a plurality of the substrates are integrally bonded to the photosensitive web.
The method for peeling a photosensitive web, wherein the peeling roller peels the support layer from the substrate together with a part of the photosensitive web exposed between the substrates.
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