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JP2009166955A - Separation apparatus and substrate inspection apparatus - Google Patents

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JP2009166955A
JP2009166955A JP2008006844A JP2008006844A JP2009166955A JP 2009166955 A JP2009166955 A JP 2009166955A JP 2008006844 A JP2008006844 A JP 2008006844A JP 2008006844 A JP2008006844 A JP 2008006844A JP 2009166955 A JP2009166955 A JP 2009166955A
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JP
Japan
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substrate
substrates
stacked
support
silicon substrate
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP2008006844A
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Japanese (ja)
Inventor
Shoji Matsuo
昭二 松尾
Takahiro Sato
隆寛 佐藤
Kenji Fujimoto
憲司 藤本
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Mitsubishi Materials Techno Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Techno Corp
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Publication date
Application filed by Mitsubishi Materials Techno Corp filed Critical Mitsubishi Materials Techno Corp
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Abstract

【課題】複数の基板が積層状態で支持された支持体から基板を1枚ずつ確実に搬出することが可能な分離装置及びこの分離装置を備え、基板の検査を容易に行うことが可能な基板の検査装置を提供する。
【解決手段】複数の基板Wを積層状態で支持する支持体20から、基板Wを1枚ずつ分離して搬出する分離装置10であって、支持体20に対して基板Wの積層方向に相対移動可能とされるとともに、基板Wの表面に吸着して基板Wを保持する吸着ヘッド30と、積層された基板Wに向けてエアを噴出して積層された複数の基板Wのうちの一部を浮上させて分離するエア分離機構40と、支持体20に積層された基板Wのうち最表面にある基板Wの位置を検出する位置センサ46と、位置センサ46によって検出された基板Wの位置に応じて、エア分離機構40と積層された基板Wとの相対位置を変化させてエア分離機構40の噴出位置を調整する噴出位置制御部11と、を備えている。
【選択図】図1
A separation device capable of reliably carrying out substrates one by one from a support body in which a plurality of substrates are supported in a stacked state, and a substrate having the separation device and capable of easily inspecting a substrate. An inspection apparatus is provided.
A separation apparatus 10 for separating and unloading a substrate W one by one from a support 20 that supports a plurality of substrates W in a stacked state, relative to the support 20 in the stacking direction of the substrates W. A suction head 30 that is movable and sucks onto the surface of the substrate W to hold the substrate W, and a part of the plurality of substrates W stacked by jetting air toward the stacked substrates W An air separation mechanism 40 that floats and separates the substrate W, a position sensor 46 that detects the position of the substrate W on the outermost surface of the substrates W stacked on the support 20, and the position of the substrate W detected by the position sensor 46 The ejection position control unit 11 adjusts the ejection position of the air separation mechanism 40 by changing the relative position between the air separation mechanism 40 and the stacked substrates W.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、複数の基板を積層状態で支持する支持体から、基板を1枚ずつ分離して搬出する分離装置及びこれを用いた基板の検査装置に関する。   The present invention relates to a separation apparatus that separates and carries out substrates one by one from a support that supports a plurality of substrates in a stacked state, and a substrate inspection apparatus using the same.

一般に、太陽電池として使用されるシリコン基板等は、シリコン鋳塊を薄く切断(スライス)することにより作製されており、切断された基板は積層状態で収納カセット等の支持体に支持されて搬送されている。
このようなシリコン基板においては、JIS H 0613の規定により、クラック、クロートラック、かけ、くずれ、エッジチップ、ピンホール、汚れ及びソーマーク等の検査を行うことが求められている。
In general, a silicon substrate or the like used as a solar cell is manufactured by thinly slicing (slicing) a silicon ingot, and the cut substrate is conveyed by being supported by a support such as a storage cassette in a stacked state. ing.
Such a silicon substrate is required to be inspected for cracks, claw tracks, hooks, cracks, edge chips, pinholes, dirt, saw marks, and the like according to JIS H 0613.

従来、このような検査は作業者の目視によって行われており、多大な労力と時間とを必要としていた。このため、これらの検査を自動で行うことが可能な検査装置が求められている。検査を自動で行うためには、積層された基板(薄板)を支持体から1枚ずつ搬出する必要がある。ところで、前述のシリコン基板等は、その表面が比較的平滑なため、積層された基板同士が密着し、単に最表面にある基板を保持しても基板を1枚ずつ搬出することは困難であった。   Conventionally, such an inspection is performed by visual inspection of an operator, and requires a lot of labor and time. Therefore, an inspection apparatus capable of automatically performing these inspections is required. In order to perform inspection automatically, it is necessary to carry out the laminated substrates (thin plates) one by one from the support. By the way, the above-mentioned silicon substrates and the like have a relatively smooth surface, so that the stacked substrates are in close contact with each other, and it is difficult to carry out the substrates one by one even if the substrate on the outermost surface is simply held. It was.

そこで、積層された基板を1枚ずつ分離して搬出する分離装置として、例えば特許文献1〜3に開示されたものが提案されている。
特許文献1に開示された分離装置は、対向する基板側に向けて凸曲した吸着部を有し、基板表面の中央部を押圧することで基板を湾曲させて基板の裏面に密着した他の基板を分離し、基板の端部を吸着して搬出する構成とされている。
また、特許文献2に開示された分離装置は、基板の4つの角部に吸着する吸着パッドを有し、やはり、基板表面の中央部を押圧することで基板を湾曲させて基板の裏面に密着した他の基板を分離し、基板の角部を吸着して搬出する構成とされている。
Therefore, for example, those disclosed in Patent Documents 1 to 3 have been proposed as separation apparatuses that separate and carry out stacked substrates one by one.
The separation device disclosed in Patent Document 1 has an adsorbing portion that is curved toward the opposite substrate side, and presses the central portion of the substrate surface to bend the substrate and adhere to the back surface of the substrate. The substrate is separated, and an end portion of the substrate is sucked and carried out.
In addition, the separation device disclosed in Patent Document 2 has a suction pad that sucks at the four corners of the substrate, and also presses the center of the substrate surface to bend the substrate and adhere to the back surface of the substrate. The other substrate is separated, and the corner portion of the substrate is sucked and carried out.

さらに、特許文献3に開示された分離装置は、多数の吸着孔を有する吸着パッドを有し、この吸着パッドで基板を吸着して保持するとともに、エアナイフ部からエアを噴出して基板の裏面に密着した他の基板を分離する構成とされている。
特開平02−095633号公報 特開2001−114434号公報 特開2005−179032号公報
Further, the separation device disclosed in Patent Document 3 has a suction pad having a number of suction holes, and sucks and holds the substrate with the suction pad, and blows air from the air knife portion to the back surface of the substrate. It is configured to separate another substrate that is in close contact.
Japanese Patent Laid-Open No. 02-095633 JP 2001-114434 A JP-A-2005-179032

ところで、太陽電池用のシリコン基板は厚さが例えば150〜400μm程度と非常に薄く、かつ、脆性材料であるため、特許文献1,2に記載されているように基板を湾曲させた場合には、基板にクラック、欠け及び割れ等の欠陥が発生するおそれがあった。これらの欠陥を防止するために基板の湾曲を抑えた場合には、密着した基板を確実に分離することができなくなってしまう。   By the way, since the silicon substrate for solar cells has a very thin thickness of, for example, about 150 to 400 μm and is a brittle material, when the substrate is curved as described in Patent Documents 1 and 2, There is a risk that defects such as cracks, chips and cracks may occur in the substrate. If the curvature of the substrate is suppressed to prevent these defects, the adhered substrate cannot be reliably separated.

さらに、特許文献3においては、エアナイフ部を用いて密着した基板を分離するものが開示されているが、積層されている基板の厚さにはばらつきが生じるため、最表面の基板の裏面に密着した基板を分離するようにエアを吹きかけることができず基板を分離することができないことがあった。また、エアが吸着パッドによって保持された基板に向けられた場合でも、基板が落下しないように吸着力を大きくする必要があった。このように吸着力を大きくした際には、基板に必要以上の力が作用して、やはり、クラック、欠け及び割れといった欠陥が発生するおそれがあった。   Further, Patent Document 3 discloses a method for separating a substrate that is in close contact using an air knife portion, but the thickness of the stacked substrates varies, so that it adheres to the back surface of the outermost substrate. In some cases, air could not be blown so as to separate the substrate, and the substrate could not be separated. Further, even when air is directed to the substrate held by the suction pad, it is necessary to increase the suction force so that the substrate does not fall. When the adsorption force is increased as described above, an excessive force is applied to the substrate, and there is a possibility that defects such as cracks, chips and cracks may occur.

この発明は、前述した事情に鑑みてなされたものであって、複数の基板が積層状態で支持された支持体から基板を1枚ずつ確実に搬出することが可能な分離装置及びこの分離装置を備え、基板の検査を容易に行うことが可能な基板の検査装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and includes a separation device capable of reliably carrying out substrates one by one from a support in which a plurality of substrates are supported in a stacked state, and the separation device. An object of the present invention is to provide a substrate inspection apparatus that can easily inspect a substrate.

前述の課題を解決するために、本発明の分離装置は、複数の基板を積層状態で支持する支持体から、前記基板を1枚ずつ分離して搬出する分離装置であって、前記支持体に対して前記基板の積層方向に相対移動可能とされるとともに、前記基板の表面に吸着して前記基板を保持する吸着ヘッドと、積層された前記基板に向けてエアを噴出して積層された複数の基板のうちの一部を浮上させて分離するエア分離機構と、前記支持体に積層された前記基板のうち最表面にある基板の位置を検出する位置センサと、前記位置センサによって検出された前記基板の位置に応じて、前記エア分離機構と積層された前記基板との相対位置を変化させて前記エア分離機構の噴出位置を調整する噴出位置制御部と、を備えていることを特徴としている。   In order to solve the above-described problems, a separation apparatus according to the present invention is a separation apparatus that separates and transports a plurality of substrates one by one from a support that supports a plurality of substrates in a stacked state. On the other hand, the substrate can be relatively moved in the stacking direction of the substrate, and a suction head that holds the substrate by sucking it on the surface of the substrate, and a plurality of layers stacked by ejecting air toward the stacked substrates An air separation mechanism for levitating and separating a part of the substrate, a position sensor for detecting a position of the outermost substrate among the substrates stacked on the support, and a position sensor detected by the position sensor An ejection position control unit that adjusts an ejection position of the air separation mechanism by changing a relative position between the air separation mechanism and the stacked substrates according to the position of the substrate. Yes.

この構成の分離装置においては、支持体に積層された基板のうち最表面にある、つまり、吸着ヘッドに最も近接した基板の位置を検出する位置センサと、位置センサによって検出された前記基板の位置に応じてエア分離機構の噴出位置を調整する噴出位置制御部とを備えているので、吸着ヘッドによって保持される基板とこの基板の裏面に密着した基板とを分離するように、噴出位置制御部によってエア分離機構の噴出位置を調整することができ、基板を確実に分離して1枚ずつ搬出することが可能となる。また、エアが適切な位置に向けられるので、吸着ヘッドの吸着力を大きくする必要がなく、基板の割れや欠けを防止することが可能となる。   In the separation apparatus having this configuration, the position sensor that detects the position of the substrate that is on the outermost surface among the substrates stacked on the support, that is, the closest position to the suction head, and the position of the substrate that is detected by the position sensor And an ejection position control unit that adjusts the ejection position of the air separation mechanism according to the ejection position control unit, so that the substrate held by the suction head and the substrate that is in close contact with the back surface of the substrate are separated from each other. Thus, the ejection position of the air separation mechanism can be adjusted, and the substrates can be reliably separated and carried out one by one. Further, since the air is directed to an appropriate position, it is not necessary to increase the suction force of the suction head, and it is possible to prevent the substrate from being cracked or chipped.

ここで、前記エア分離機構が設けられるとともに前記支持体に対して前記基板の積層方向に移動可能とされた分離機構保持部材を有し、この前記分離機構保持部材に前記位置センサを設けるように構成することが好ましい。
この場合、エア分離機構と位置センサとが分離機構保持部材に設けられているので、位置センサで検知した最表面にある基板の位置に応じてエア分離機構の噴出位置を確実に調整することが可能となる。また、エア分離機構及び位置センサを支持体から近接・離間可能な分離機構保持部材に設けているので、支持体を交換したり、積層された基板を支持体に収容したりする際の作業性を大幅に向上させることができる。
Here, the air separation mechanism is provided, and a separation mechanism holding member that is movable in the stacking direction of the substrate with respect to the support is provided, and the position sensor is provided on the separation mechanism holding member. It is preferable to configure.
In this case, since the air separation mechanism and the position sensor are provided on the separation mechanism holding member, the ejection position of the air separation mechanism can be reliably adjusted according to the position of the substrate on the outermost surface detected by the position sensor. It becomes possible. In addition, since the air separation mechanism and the position sensor are provided on the separation mechanism holding member that can approach and separate from the support body, workability when replacing the support body or accommodating the stacked substrates in the support body Can be greatly improved.

また、前記位置センサを、前記支持体に設けてもよい。
この場合、基板に近接した場所に位置センサを設けることが可能となり、支持体に積層された基板のうち最表面にある基板の位置を確実に検知することができる。
The position sensor may be provided on the support.
In this case, a position sensor can be provided at a location close to the substrate, and the position of the substrate on the outermost surface among the substrates stacked on the support can be reliably detected.

さらに、積層された基板のうち最表面にある基板の位置と、前記吸着ヘッドによって前記基板を搬出後の最表面にある新たな基板の位置と、を比較して2枚以上の前記基板が搬出されたか否かを検知する搬出枚数検知部を備えるものとすることが好ましい。
この場合、搬出枚数検知部において、位置センサによって検知される吸着ヘッドで基板を保持する前の最表面にある基板の位置と基板を保持した後の最表面にある新たな基板の位置とを比較することで、吸着ヘッドによって保持されている基板の厚さが推定され、この厚さが所定値を超えた場合に2枚以上の基板が搬出されたと判断することが可能となる。これにより、2枚以上の基板が密着した状態で後工程に搬送されることを防止することができる。
Furthermore, the position of the substrate on the outermost surface of the stacked substrates is compared with the position of the new substrate on the outermost surface after the substrate is unloaded by the suction head, and two or more substrates are unloaded. It is preferable to provide a carry-out number detection unit that detects whether or not it has been done.
In this case, the unloading number detection unit compares the position of the substrate on the outermost surface before holding the substrate with the suction head detected by the position sensor and the position of the new substrate on the outermost surface after holding the substrate. Thus, the thickness of the substrate held by the suction head is estimated, and when the thickness exceeds a predetermined value, it can be determined that two or more substrates have been carried out. Thereby, it can prevent that two or more board | substrates are conveyed by the back process in the state which contact | adhered.

また、本発明の基板の検査装置は、前述の分離装置を有し、複数の基板を積層状態で支持する支持体から前記基板を1枚ずつ分離して搬出し、前記基板のクラック、クロートラック、かけ、くずれ、エッジチップ、ピンホール、汚れ及びソーマークのうち少なくとも1つを検査する検査部を備えていることを特徴としている。   Further, the substrate inspection apparatus of the present invention includes the above-described separation device, and separates and transports the substrates one by one from a support that supports a plurality of substrates in a stacked state. , And an inspection part for inspecting at least one of hook, breakage, edge chip, pinhole, dirt and saw mark.

この構成の基板の検査装置においては、前述の分離装置によって支持体から基板を1枚ずつ分離して搬出されるので、基板の検査を1枚ずつ確実に行うことができる。これにより、JIS H 0613の規定される基板の検査を自動で行うことが可能となり、検査作業の効率を飛躍的に向上させることができる。   In the substrate inspection apparatus having this configuration, the substrates are separated and carried out from the support one by one by the above-described separation apparatus, so that the substrates can be inspected one by one. As a result, it is possible to automatically inspect a substrate defined in JIS H 0613, and the efficiency of inspection work can be dramatically improved.

本発明によれば、複数の基板が積層状態で支持された支持体から基板を1枚ずつ確実に搬出することが可能な分離装置及びこの分離装置を備え、基板の検査を容易に行うことが可能な基板の検査装置を提供することができる。   According to the present invention, the separation apparatus capable of reliably carrying out the substrates one by one from the support body in which the plurality of substrates are supported in a stacked state, and the separation apparatus are provided, and the substrate can be easily inspected. A possible substrate inspection apparatus can be provided.

以下に、本発明の実施の形態について添付した図面を参照して説明する。
図1から図4に本発明の第1の実施形態である分離装置の概略図を示す。また、図5に、この分離装置を備えた基板の検査装置を示す。
本発明の第1の実施形態である分離装置10は、太陽電池用のシリコン基板Wが複数積層されたカセット容器20からシリコン基板Wを1枚ずつ分離して搬出するものである。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
1 to 4 show schematic views of a separation apparatus according to a first embodiment of the present invention. FIG. 5 shows a substrate inspection apparatus provided with this separation apparatus.
The separation device 10 according to the first embodiment of the present invention separates and carries out silicon substrates W one by one from a cassette container 20 in which a plurality of silicon substrates W for solar cells are stacked.

本実施形態である分離装置10は、図1に示すように、シリコン基板Wを積層状態で収容するカセット容器20と、カセット容器20に対してシリコン基板Wの積層方向(上下方向)に移動可能とされるとともにシリコン基板Wに対して対向するように位置する吸着ヘッド30と、カセット容器20に対してシリコン基板Wの積層方向(上下方向)に移動可能とされるとともにシリコン基板Wの側方部に位置するエアノズル40と、を備えている。   As shown in FIG. 1, the separation apparatus 10 according to the present embodiment can move in the stacking direction (vertical direction) of the silicon substrate W with respect to the cassette container 20 that stores the silicon substrates W in a stacked state and the cassette container 20. The suction head 30 positioned so as to face the silicon substrate W and the cassette container 20 can be moved in the stacking direction (vertical direction) of the silicon substrate W and the side of the silicon substrate W And an air nozzle 40 located in the section.

カセット容器20は、積層されたシリコン基板Wを支持するものであり、図1及び図2に示すように、底部21と4つの支持壁22とを備えている。カセット容器20の4つの支持壁22は、底部21から垂直に延びるように立設されており、それぞれの支持壁22の幅方向中央部分には下方に向けて凹んだ切欠部23が形成されている。
また、カセット容器20の底部21には、収容されたシリコン基板Wを上下動させる駆動部24を備えた載置台25が配設されており、載置台25を上昇することにより、積層されたシリコン基板Wを上方へと送り出すことができるように構成されている。また、この載置台25には、カセット容器20内にシリコン基板Wが残存しているが否かを検知するための在荷センサ26が配設されている。
The cassette container 20 supports the stacked silicon substrates W, and includes a bottom portion 21 and four support walls 22 as shown in FIGS. 1 and 2. The four support walls 22 of the cassette container 20 are erected so as to extend vertically from the bottom portion 21, and a notch 23 that is recessed downward is formed at the center in the width direction of each support wall 22. Yes.
In addition, on the bottom portion 21 of the cassette container 20, a mounting table 25 having a driving unit 24 that moves the accommodated silicon substrate W up and down is disposed. It is comprised so that the board | substrate W can be sent out upwards. The loading table 25 is provided with a stock sensor 26 for detecting whether or not the silicon substrate W remains in the cassette container 20.

カセット容器20に収容されるシリコン基板Wは、シリコン鋳塊を薄く切断することで作製されるものであり、本実施形態では、単結晶シリコンロッドから切断されたものである。ここで、シリコン基板Wは、図1及び図2に示すように、100〜200mm角で厚さが150〜400μmの概略正方形平板状をなしている。なお、本実施形態では、150mm角で厚さが180μmに設定されたシリコン基板Wを対象としている。   The silicon substrate W accommodated in the cassette container 20 is manufactured by thinly cutting a silicon ingot. In this embodiment, the silicon substrate W is cut from a single crystal silicon rod. Here, as shown in FIGS. 1 and 2, the silicon substrate W has a substantially square plate shape with a 100 to 200 mm square and a thickness of 150 to 400 μm. In the present embodiment, a silicon substrate W having a 150 mm square and a thickness of 180 μm is targeted.

このようなシリコン基板Wは、カセット容器20内に積層状態で収容されており、積層状態での厚さが約150mm程度とされ、800枚前後のシリコン基板Wが積層されている。ここで、シリコン基板Wの厚さにはばらつきが生じているため、正確な枚数についてはこの時点では把握できない状態である。なお、厚さを180μmに設定したものであるため、厚さが300μmを超えるようなシリコン基板Wはカセット容器20内に混在していない。   Such silicon substrates W are accommodated in the cassette container 20 in a stacked state, the thickness in the stacked state is about 150 mm, and about 800 silicon substrates W are stacked. Here, since the thickness of the silicon substrate W varies, the exact number cannot be grasped at this time. Since the thickness is set to 180 μm, silicon substrates W having a thickness exceeding 300 μm are not mixed in the cassette container 20.

吸着ヘッド30は、上下動可能な駆動軸部31の先端(図1において下端)に設けられており、カセット容器20内に収容されたシリコン基板Wの表面中央部に対向するように配置されている。この吸着ヘッド30は、その先端外周部からエアを噴出することで先端中央部が負圧となるように構成されており、この負圧を利用してシリコン基板Wを吸着して保持するものである。なお、本実施形態では、シリコン基板Wは吸着ヘッド30と非接触の状態で保持されるように構成されている。
また、吸着ヘッド30の後端側(図1において上端側)には、駆動軸部31に対して直交する方向に延在する支持プレート32が設けられている。この支持プレート32には、載置台25に配設された在荷センサ26に対応する在荷センサ33が配設されている。
The suction head 30 is provided at the front end (lower end in FIG. 1) of the drive shaft portion 31 that can move up and down, and is disposed so as to face the center of the surface of the silicon substrate W accommodated in the cassette container 20. Yes. The suction head 30 is configured such that air is blown from the outer peripheral portion of the tip so that the central portion of the tip becomes a negative pressure, and the silicon substrate W is sucked and held using the negative pressure. is there. In the present embodiment, the silicon substrate W is configured to be held in a non-contact state with the suction head 30.
Further, a support plate 32 extending in a direction orthogonal to the drive shaft portion 31 is provided on the rear end side (upper end side in FIG. 1) of the suction head 30. A load sensor 33 corresponding to the load sensor 26 provided on the mounting table 25 is provided on the support plate 32.

エアノズル40は、カセット容器20に対してシリコン基板Wの積層方向(上下方向)に移動可能とされたノズル固定部41に固定されている。
ノズル固定部41は、吸着ヘッド30の駆動軸部31と同軸状に配設された第2駆動軸部42と、この第2駆動軸部42に対して直交する方向に延在する第2支持プレート43と、この第2支持プレート43から第2駆動軸部42に対して直交する方向に延びる4つのアーム部44と、アーム部44の先端から下方に向けて延びる爪部45と、を備えている。なお、このノズル固定部41は、吸着ヘッド30とは独立して上下動可能な構成とされている。
The air nozzle 40 is fixed to a nozzle fixing portion 41 that is movable in the stacking direction (vertical direction) of the silicon substrate W with respect to the cassette container 20.
The nozzle fixing portion 41 includes a second drive shaft portion 42 disposed coaxially with the drive shaft portion 31 of the suction head 30 and a second support extending in a direction orthogonal to the second drive shaft portion 42. A plate 43; four arm portions 44 extending from the second support plate 43 in a direction perpendicular to the second drive shaft portion 42; and a claw portion 45 extending downward from the tip of the arm portion 44. ing. The nozzle fixing portion 41 is configured to be movable up and down independently of the suction head 30.

アーム部44は、その先端がカセット容器20の支持壁22の上方に位置するように延設されており、爪部45の一部が支持壁22の切欠部23に対応するような構成とされている。
そして、爪部45の先端には、カセット容器20に積層されたシリコン基板Wの最表面(最上面)の位置を検出する位置センサ46と、エアノズル40とが配設されている。エアノズル40には、水平方向に対して角度−30°〜30°の範囲に向けてエアが噴出されるように噴出口が設けられており、本実施形態においては、水平方向に対して斜め下方(角度−5°)に向けてエアが噴出されるように構成されている。
The arm portion 44 extends so that the tip thereof is positioned above the support wall 22 of the cassette container 20, and a part of the claw portion 45 corresponds to the cutout portion 23 of the support wall 22. ing.
A position sensor 46 that detects the position of the outermost surface (uppermost surface) of the silicon substrate W stacked on the cassette container 20 and an air nozzle 40 are disposed at the tip of the claw portion 45. The air nozzle 40 is provided with a spout so that air is spouted in a range of an angle of −30 ° to 30 ° with respect to the horizontal direction. Air is jetted toward (angle -5 °).

位置センサ46は、積層されたシリコン基板Wのうち最も上側(最表面)にあるシリコン基板Wの位置を検知し、検知結果を第2駆動軸部42の動作を制御する噴出位置制御部11に送信する。本実施形態では、積層されたシリコン基板Wのうち最も上側(最表面)にあるシリコン基板Wの表面位置、つまり、積層されたシリコン基板Wの最表面(最上面)の位置を検知している。
また、この位置センサ46は、積層されたシリコン基板Wの最表面(最上面)の位置と、吸着ヘッド30によってシリコン基板Wを搬出した後の新たなシリコン基板Wの最表面(最上面)の位置と、を検知し、この信号を搬出枚数検知部12に送信する。
The position sensor 46 detects the position of the uppermost (outermost surface) silicon substrate W among the stacked silicon substrates W, and outputs the detection result to the ejection position control unit 11 that controls the operation of the second drive shaft unit 42. Send. In the present embodiment, the surface position of the uppermost (outermost surface) silicon substrate W among the stacked silicon substrates W, that is, the position of the outermost surface (uppermost surface) of the stacked silicon substrates W is detected. .
The position sensor 46 also includes the position of the outermost surface (uppermost surface) of the stacked silicon substrates W and the outermost surface (uppermost surface) of the new silicon substrate W after the silicon substrate W is unloaded by the suction head 30. The position is detected, and this signal is transmitted to the unloading number detection unit 12.

この搬出枚数検知部12においては、位置センサ46によって検知される吸着ヘッド30でシリコン基板Wを保持する前の最表面(最上面)の位置と基板を保持した後の新たな基板の最表面(最上面)の位置とを比較することで、吸着ヘッド30によって保持されているシリコン基板Wの厚さを推定し、この厚さが所定値を超えた場合に2枚以上のシリコン基板Wが搬出されたと判断する。   In the unloading number detection unit 12, the position of the outermost surface (uppermost surface) before holding the silicon substrate W by the suction head 30 detected by the position sensor 46 and the outermost surface of a new substrate after holding the substrate ( By comparing the position with the position of the uppermost surface, the thickness of the silicon substrate W held by the suction head 30 is estimated, and when this thickness exceeds a predetermined value, two or more silicon substrates W are carried out. Judge that it was done.

このような構成とされた本実施形態である分離装置10による基板の搬出方法について説明する。
まず、カセット容器20の載置台25が上下動することで、積層されたシリコン基板Wの最表面(最上面)が支持壁22の切欠部23の下端よりも上方に位置するように調整される。
次に、図3に示すように、駆動軸部31及び第2駆動軸部42が駆動して吸着ヘッド30及びノズル固定部41とが下方に移動し、吸着ヘッド30がシリコン基板Wに近接される。このとき、ノズル固定部41に配設された位置センサ46によって、積層されたシリコン基板Wのうち最も上側(最表面)にあるシリコン基板Wの位置が検知され、この検知結果に基づいて噴出位置制御部11によってノズル固定部41の位置が調整され、エアノズル40の噴出位置が調整される。
A method for carrying out a substrate by the separation apparatus 10 according to the present embodiment having such a configuration will be described.
First, the mounting table 25 of the cassette container 20 is moved up and down so that the outermost surface (uppermost surface) of the stacked silicon substrates W is adjusted to be positioned above the lower end of the notch 23 of the support wall 22. .
Next, as shown in FIG. 3, the drive shaft portion 31 and the second drive shaft portion 42 are driven to move the suction head 30 and the nozzle fixing portion 41 downward, so that the suction head 30 is brought close to the silicon substrate W. The At this time, the position sensor 46 disposed in the nozzle fixing portion 41 detects the position of the uppermost (outermost surface) silicon substrate W among the stacked silicon substrates W, and the ejection position based on the detection result. The position of the nozzle fixing portion 41 is adjusted by the control unit 11 and the ejection position of the air nozzle 40 is adjusted.

そして、エアノズル40から斜め下方に向けてエアが噴出される。これにより、積層されたシリコン基板Wうちの一部が浮上することになる。
また、このとき、吸着ヘッド30の先端外周部からもエアが噴出され、吸着ヘッド30の先端中央部が負圧状態となり、最も上に位置するシリコン基板Wが吸着ヘッド30に吸着されて保持されることになる。ここで、吸着ヘッド30に吸着されたシリコン基板W以外はエアノズル40から噴出されるエアによって下方側に押圧され、1枚のシリコン基板Wのみが吸着ヘッド30によって保持されることになる。この状態で、図4に示すように、駆動軸部31及び第2駆動軸部42が上方に移動し、シリコン基板Wが1枚ずつ搬出される。そして、全てのシリコン基板Wが搬出された時点で在荷センサ26、33が反応し、カセット容器20が交換される。
Then, air is ejected from the air nozzle 40 obliquely downward. As a result, a part of the stacked silicon substrates W is levitated.
At this time, air is also ejected from the outer peripheral portion of the tip of the suction head 30, the central portion of the tip of the suction head 30 is in a negative pressure state, and the uppermost silicon substrate W is sucked and held by the suction head 30. Will be. Here, the silicon substrate W other than the silicon substrate W adsorbed by the adsorption head 30 is pressed downward by the air ejected from the air nozzle 40, and only one silicon substrate W is held by the adsorption head 30. In this state, as shown in FIG. 4, the drive shaft portion 31 and the second drive shaft portion 42 move upward, and the silicon substrates W are unloaded one by one. And when all the silicon substrates W are carried out, the stock sensors 26 and 33 react, and the cassette container 20 is replaced.

次に、この分離装置10を備えたシリコン基板Wの検査装置50について説明する。
図5に示すように、この検査装置50は、前述の分離装置10と、分離装置10によって1枚ずつに分離して搬出されたシリコン基板Wを検査する検査部51と、分離装置10から受け渡されたシリコン基板Wを搬送する搬送手段52と、を備えている。
本実施形態では、検査部51は、分離装置10の吸着ヘッド30によって保持された状態でシリコン基板Wの裏面を検査する裏面検査部53と、吸着ヘッド30から受け渡されたシリコン基板Wの表面を検査する表面検査部54とを備えており、シリコン基板Wの両面を検査可能な構成とされている。なお、この検査部51においては、シリコン基板Wのクラック、クロートラック、かけ、くずれ、エッジチップ、ピンホール、汚れ及びソーマークのうち少なくとも1つを検査するものとされている。
Next, the inspection apparatus 50 for the silicon substrate W provided with the separation apparatus 10 will be described.
As shown in FIG. 5, the inspection apparatus 50 receives from the separation apparatus 10 described above, an inspection section 51 that inspects the silicon substrates W separated and carried out one by one by the separation apparatus 10, and the separation apparatus 10. Transporting means 52 for transporting the transferred silicon substrate W.
In the present embodiment, the inspection unit 51 includes a back surface inspection unit 53 that inspects the back surface of the silicon substrate W while being held by the suction head 30 of the separation apparatus 10, and the surface of the silicon substrate W that is transferred from the suction head 30. And a surface inspection unit 54 that inspects both sides of the silicon substrate W. The inspection unit 51 inspects at least one of cracks, claw tracks, hooks, breaks, edge chips, pinholes, dirt, and saw marks on the silicon substrate W.

このような構成とされた本実施形態である分離装置10によれば、カセット容器20内に積層されたシリコン基板Wのうち最も上側にあるシリコン基板Wの位置を検出する位置センサ46と、この位置センサ46によって検知されたシリコン基板Wの位置に応じてエアノズル40の噴出位置を調整する噴出位置制御部11とを備えているので、吸着ヘッド30によって保持されたシリコン基板Wとこのシリコン基板Wの裏面に密着した他のシリコン基板Wとを分離するように、エアノズル40の噴出位置を調整することが可能となり、シリコン基板Wを確実に分離して1枚ずつ搬出することができる。また、シリコン基板Wの厚さが異なっている場合でも、エアを適切な位置に向けることが可能となり、吸着ヘッド30の吸着力を大きくする必要がない。よって、シリコン基板Wに必要以上の力が加わることがなくなり、シリコン基板Wの割れや欠けを防止することができる。   According to the separation apparatus 10 of this embodiment having such a configuration, the position sensor 46 that detects the position of the uppermost silicon substrate W among the silicon substrates W stacked in the cassette container 20, and this Since the ejection position control unit 11 adjusts the ejection position of the air nozzle 40 according to the position of the silicon substrate W detected by the position sensor 46, the silicon substrate W held by the suction head 30 and the silicon substrate W are provided. The ejection position of the air nozzle 40 can be adjusted so as to separate the other silicon substrate W that is in close contact with the back surface of the substrate, and the silicon substrates W can be reliably separated and carried out one by one. Further, even when the thickness of the silicon substrate W is different, the air can be directed to an appropriate position, and it is not necessary to increase the suction force of the suction head 30. Therefore, an unnecessary force is not applied to the silicon substrate W, and the silicon substrate W can be prevented from being cracked or chipped.

また、エアノズル40と位置センサ46とがカセット容器20に対して上下方向に移動するノズル固定部41に配設されているので、位置センサ46で検知したシリコン基板Wの位置に応じてエアノズル40の噴出位置を確実に調整することが可能となる。また、ノズル固定部41がカセット容器20から離間可能なように構成されているので、カセット容器20の交換作業の作業性を大幅に向上させることができる。   In addition, since the air nozzle 40 and the position sensor 46 are disposed in the nozzle fixing portion 41 that moves in the vertical direction with respect to the cassette container 20, the air nozzle 40 has a position corresponding to the position of the silicon substrate W detected by the position sensor 46. It is possible to reliably adjust the ejection position. Further, since the nozzle fixing portion 41 is configured to be separable from the cassette container 20, the workability of the replacement operation of the cassette container 20 can be greatly improved.

さらに、位置センサ46によって、積層されたシリコン基板Wの最表面(最上面)の位置と、吸着ヘッド30によってシリコン基板Wを搬出した後の新たなシリコン基板Wの最表面(最上面)の位置とを検知し、これらを比較して2枚以上のシリコン基板Wが搬出されたか否かを検知する搬出枚数検知部12を備えているので、2枚以上のシリコン基板Wが同時に搬出されることがなくなり、シリコン基板Wを1枚ずつ確実に検査することができる。   Further, the position sensor 46 positions the outermost surface (uppermost surface) of the stacked silicon substrates W, and the position of the outermost surface (uppermost surface) of the new silicon substrate W after the silicon substrate W is unloaded by the suction head 30. , And comparing them to detect whether or not two or more silicon substrates W have been unloaded, so that two or more silicon substrates W are simultaneously unloaded. Thus, the silicon substrates W can be reliably inspected one by one.

また、本実施形態である基板の検査装置50は、前述の分離装置10によってカセット容器20からシリコン基板Wを1枚ずつ分離して搬出するとともに、このシリコン基板Wの裏面及び表面を検査することが可能となり、シリコン基板Wのクラック、クロートラック、かけ、くずれ、エッジチップ、ピンホール、汚れ及びソーマーク等の検査を自動で行うことができる。これにより、JIS H 0613の規定される検査作業の効率を飛躍的に向上させることができる。   Further, the substrate inspection apparatus 50 according to the present embodiment separates and carries out the silicon substrates W one by one from the cassette container 20 by the above-described separating apparatus 10 and also inspects the back surface and the front surface of the silicon substrate W. It is possible to automatically inspect the silicon substrate W for cracks, claw tracks, hooks, breaks, edge chips, pinholes, dirt, saw marks, and the like. Thereby, the efficiency of the inspection work specified by JIS H 0613 can be dramatically improved.

さらに、本実施形態では、吸着ヘッド30とシリコン基板Wとが非接触状態とされているので、シリコン基板W表面の汚染等を防止することができる。また、吸着ヘッド30の外周側にノズル固定部41の爪部45が位置しているので、この爪部45がシリコン基板Wのガイドの役割をなし、吸着したシリコン基板Wの水平方向の位置ズレを防止して、確実に搬出することができる。   Furthermore, in this embodiment, since the suction head 30 and the silicon substrate W are not in contact with each other, contamination of the surface of the silicon substrate W can be prevented. Further, since the claw portion 45 of the nozzle fixing portion 41 is located on the outer peripheral side of the suction head 30, the claw portion 45 serves as a guide for the silicon substrate W, and the horizontal displacement of the sucked silicon substrate W is shifted. Can be reliably carried out.

次に、本発明の第2の実施形態について説明する。図6及び図7に第2の実施形態である分離装置を示す。
本実施形態である分離装置110では、位置センサ146がカセット容器120に設けられている。この分離装置110においては、位置センサ146の信号が載置台125の駆動部124に送信され、シリコン基板Wの最表面(最上面)の位置が所定位置となるように構成されている。このようにしてシリコン基板Wの最表面(最上面)の位置が調整された後に、駆動軸部131及び第2駆動軸部142が下方に移動してエアノズル140によってシリコン基板Wが浮上分離されるとともに、吸着ヘッド130によってシリコン基板Wが吸着・保持されることになる。つまり、載置台125の駆動部124によってシリコン基板Wとエアノズル140との相対位置が変化し、エアノズル140の噴出位置が調整されるように構成されているのである。
Next, a second embodiment of the present invention will be described. 6 and 7 show a separation apparatus according to the second embodiment.
In the separation device 110 according to the present embodiment, a position sensor 146 is provided in the cassette container 120. The separation device 110 is configured such that a signal from the position sensor 146 is transmitted to the driving unit 124 of the mounting table 125 so that the position of the outermost surface (uppermost surface) of the silicon substrate W becomes a predetermined position. After the position of the outermost surface (uppermost surface) of the silicon substrate W is adjusted in this way, the drive shaft portion 131 and the second drive shaft portion 142 move downward, and the silicon substrate W is floated and separated by the air nozzle 140. At the same time, the silicon substrate W is sucked and held by the suction head 130. That is, the relative position between the silicon substrate W and the air nozzle 140 is changed by the drive unit 124 of the mounting table 125, and the ejection position of the air nozzle 140 is adjusted.

このような構成とされた本実施形態である分離装置110によれば、シリコン基板Wに近接した場所に位置センサ146を設けることができ、カセット容器120内に積層されたシリコン基板Wの最表面(最上面)の位置を精度良く検知することができる。
また、載置台125を上下動させてシリコン基板Wの最表面(最上面)の位置を制御しているので、駆動軸部131及び第2駆動軸部142の動作を簡略化することができる。また、位置センサ146が駆動しないカセット容器120の支持壁122に固定されているので、位置センサ146の配設を容易に行うことができる。
According to the separation apparatus 110 according to the present embodiment having such a configuration, the position sensor 146 can be provided at a location close to the silicon substrate W, and the outermost surface of the silicon substrate W stacked in the cassette container 120. The position of the (top surface) can be detected with high accuracy.
Moreover, since the position of the outermost surface (uppermost surface) of the silicon substrate W is controlled by moving the mounting table 125 up and down, the operations of the drive shaft portion 131 and the second drive shaft portion 142 can be simplified. Further, since the position sensor 146 is fixed to the support wall 122 of the cassette container 120 that is not driven, the position sensor 146 can be easily arranged.

次に、本発明の第3の実施形態について説明する。図8及び図9に第3の実施形態である分離装置を示す。
本実施形態である分離装置210においては、位置センサ246がカセット容器220に設けられているとともに、エアノズル240がカセット容器220の外周側に配設されている。
この分離装置210では、位置センサ246の信号が載置台225の駆動部224に送信され、シリコン基板Wの最表面(最上面)の位置が所定位置となるように構成されている。また、エアノズル240は支持壁222同士が交差する角部からシリコン基板Wの中心部に向けてエアを噴出するように配設されている。
Next, a third embodiment of the present invention will be described. 8 and 9 show a separation apparatus according to the third embodiment.
In the separation device 210 according to the present embodiment, the position sensor 246 is provided in the cassette container 220, and the air nozzle 240 is provided on the outer peripheral side of the cassette container 220.
The separation device 210 is configured such that a signal from the position sensor 246 is transmitted to the driving unit 224 of the mounting table 225 so that the position of the outermost surface (uppermost surface) of the silicon substrate W becomes a predetermined position. In addition, the air nozzle 240 is disposed so as to eject air from the corner portion where the support walls 222 intersect with each other toward the center portion of the silicon substrate W.

さらに、本実施形態においては、吸着ヘッド230の先端にゴム部材234が配設されている。このゴム部材234はシリコン基板Wの表面に接触してシリコン基板Wの水平方向の位置ズレを防止するものである。ここで、ゴム部材234の断面積は、シリコン基板W表面の面積の0.25%以下、好ましくは0.2%以下とされている。つまり、ゴム部材234とシリコン基板Wの表面との接触面積がシリコン基板Wの表面の面積の0.25%以下とされているのである。   Furthermore, in this embodiment, a rubber member 234 is disposed at the tip of the suction head 230. This rubber member 234 is in contact with the surface of the silicon substrate W to prevent the horizontal displacement of the silicon substrate W. Here, the cross-sectional area of the rubber member 234 is 0.25% or less, preferably 0.2% or less, of the area of the surface of the silicon substrate W. That is, the contact area between the rubber member 234 and the surface of the silicon substrate W is 0.25% or less of the surface area of the silicon substrate W.

この構成の分離装置210においては、エアノズル240がカセット容器220の外周側に配設されているので、カセット容器220に対して上下動する吸着ヘッド230の周辺構造が簡素化され、吸着ヘッド230によるシリコン基板Wの搬出動作を簡易に行うことができる。
また、ゴム部材234がシリコン基板Wの表面に接触しているものの、その接触面積がシリコン基板Wの表面の面積の0.25%以下となっており、シリコン基板Wの汚染等を抑制することができる。また、吸着時におけるゴム部材234との接触によるシリコン基板Wの曲げ変形を抑えて割れの発生を抑制することができる。
In the separation device 210 having this configuration, since the air nozzle 240 is disposed on the outer peripheral side of the cassette container 220, the peripheral structure of the suction head 230 that moves up and down with respect to the cassette container 220 is simplified. The unloading operation of the silicon substrate W can be easily performed.
In addition, although the rubber member 234 is in contact with the surface of the silicon substrate W, the contact area is 0.25% or less of the surface area of the silicon substrate W, so that contamination of the silicon substrate W is suppressed. Can do. Further, it is possible to suppress the occurrence of cracks by suppressing the bending deformation of the silicon substrate W due to the contact with the rubber member 234 during the adsorption.

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明はこれに限定されることはなく、その発明の技術的思想を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
例えば、本実施形態では、単結晶シリコンからなるシリコン基板を搬出するものとして説明したが、これに限定されることはなく、多結晶シリコンからなるシリコン基板やその他の材質からなる基板であってもよく、薄板状をなして積層状態で取り扱いされるものであればよい。
As mentioned above, although embodiment of this invention was described, this invention is not limited to this, It can change suitably in the range which does not deviate from the technical idea of the invention.
For example, in the present embodiment, the silicon substrate made of single crystal silicon has been described as being carried out. However, the present invention is not limited to this, and a silicon substrate made of polycrystalline silicon or a substrate made of other materials may be used. Any material that is thin and can be handled in a laminated state may be used.

また、第1、第2の実施形態において、ノズル固定部が4つのアーム部を備えたものとして説明したが、これに限定されることはなく、アーム部の数は4つ以外であってもよい。ただし、基板の水平方向位置のガイド部としての役割を考慮した場合には、アーム部及び爪部は3つ以上あることが好ましい。   In the first and second embodiments, the nozzle fixing portion has been described as including four arm portions. However, the present invention is not limited to this, and the number of arm portions may be other than four. Good. However, when considering the role as the guide portion of the horizontal position of the substrate, it is preferable that there are three or more arm portions and claw portions.

さらに、検査装置において吸着ヘッドに保持された状態でシリコン基板の裏面を検査するように構成したもので説明したが、検査部の構成は特に限定はない。基板の表面検査を行うことが可能であればよい。   Furthermore, although the inspection apparatus is described as being configured to inspect the back surface of the silicon substrate while being held by the suction head, the configuration of the inspection unit is not particularly limited. It is only necessary that the surface inspection of the substrate can be performed.

本発明の第1の実施形態である分離装置の概略図である。It is the schematic of the separation apparatus which is the 1st Embodiment of this invention. 図1に示す分離装置の上面図である。It is a top view of the separation apparatus shown in FIG. 図1に示す分離装置の吸着動作を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the adsorption | suction operation | movement of the separation apparatus shown in FIG. 図1に示す分離装置の搬出動作を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the carrying-out operation | movement of the separation apparatus shown in FIG. 本発明の実施形態である基板の検査装置を示す概略説明図である。It is a schematic explanatory drawing which shows the inspection apparatus of the board | substrate which is embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態である分離装置の概略図である。It is the schematic of the separation apparatus which is the 2nd Embodiment of this invention. 図6に示す分離装置が備えるカセット容器周辺の上面図である。It is a top view of the cassette container periphery with which the separation apparatus shown in FIG. 6 is provided. 本発明の第3の実施形態である分離装置の概略図である。It is the schematic of the separation apparatus which is the 3rd Embodiment of this invention. 図8に示す分離装置が備えるカセット容器周辺の上面図である。It is a top view of the cassette container periphery with which the separation apparatus shown in FIG. 8 is provided.

符号の説明Explanation of symbols

10、110、210 分離装置
11、111、211 噴出位置制御部
12、112、212 搬出枚数検知部
20、120、220 カセット容器(支持体)
30、130、230 吸着ヘッド
40、140、240 エアノズル(エア分離機構)
41、141 ノズル固定部(分離機構保持部材)
46、146、246 位置センサ
50 検査装置(基板の検査装置)
51 検査部
W シリコン基板(基板)
10, 110, 210 Separation device 11, 111, 211 Ejection position control unit 12, 112, 212 Unloading number detection unit 20, 120, 220 Cassette container (support)
30, 130, 230 Suction head 40, 140, 240 Air nozzle (air separation mechanism)
41, 141 Nozzle fixing part (separation mechanism holding member)
46, 146, 246 Position sensor 50 Inspection device (board inspection device)
51 Inspection Unit W Silicon Substrate (Substrate)

Claims (5)

複数の基板を積層状態で支持する支持体から、前記基板を1枚ずつ分離して搬出する分離装置であって、
前記支持体に対して前記基板の積層方向に相対移動可能とされるとともに、前記基板の表面に吸着して前記基板を保持する吸着ヘッドと、
積層された前記基板に向けてエアを噴出して積層された複数の基板のうちの一部を浮上させて分離するエア分離機構と、
前記支持体に積層された前記基板のうち最表面にある基板の位置を検出する位置センサと、
前記位置センサによって検出された前記基板の位置に応じて、前記エア分離機構と積層された前記基板との相対位置を変化させて前記エア分離機構の噴出位置を調整する噴出位置制御部と、を備えていることを特徴とする分離装置。
A separation apparatus for separating and carrying out the substrates one by one from a support that supports a plurality of substrates in a stacked state,
A suction head that is movable relative to the support in the stacking direction of the substrate, and that holds the substrate by suction on the surface of the substrate;
An air separation mechanism that floats and separates some of the plurality of stacked substrates by ejecting air toward the stacked substrates;
A position sensor for detecting the position of the outermost substrate among the substrates laminated on the support;
An ejection position control unit that adjusts an ejection position of the air separation mechanism by changing a relative position between the air separation mechanism and the stacked substrates according to the position of the substrate detected by the position sensor; Separation device characterized by comprising.
前記エア分離機構が設けられるとともに前記支持体に対して前記基板の積層方向に移動可能とされた分離機構保持部材を有し、
前記位置センサが前記分離機構保持部材に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の分離装置。
A separation mechanism holding member provided with the air separation mechanism and movable in the stacking direction of the substrate with respect to the support;
The separation apparatus according to claim 1, wherein the position sensor is provided on the separation mechanism holding member.
前記位置センサが、前記支持体に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の分離装置。   The separation apparatus according to claim 1, wherein the position sensor is provided on the support. 積層された基板のうち最表面にある基板の位置と、前記吸着ヘッドによって前記基板を搬出後の最表面にある新たな基板の位置と、を比較して2枚以上の前記基板が搬出されたか否かを検知する搬出枚数検知部を備えていることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の分離装置。   Compared the position of the substrate on the outermost surface of the stacked substrates with the position of a new substrate on the outermost surface after unloading the substrate by the suction head, and whether two or more substrates were unloaded The separation apparatus according to any one of claims 1 to 3, further comprising a carry-out number detection unit that detects whether or not the discharge is performed. 請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の分離装置を有し、複数の基板を積層状態で支持する支持体から前記基板を1枚ずつ分離して搬出し、
前記基板のクラック、クロートラック、かけ、くずれ、エッジチップ、ピンホール、汚れ及びソーマークのうち少なくとも1つを検査する検査部を備えていることを特徴とする基板の検査装置。
The separation apparatus according to any one of claims 1 to 4, wherein the substrates are separated one by one from a support that supports a plurality of substrates in a stacked state, and are carried out.
An inspection apparatus for a substrate, comprising: an inspection unit that inspects at least one of cracks, claw tracks, hooks, breaks, edge chips, pinholes, dirt, and saw marks on the substrate.
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