JP2009164410A - Electromagnetic shielding member and its production process - Google Patents
Electromagnetic shielding member and its production process Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009164410A JP2009164410A JP2008001433A JP2008001433A JP2009164410A JP 2009164410 A JP2009164410 A JP 2009164410A JP 2008001433 A JP2008001433 A JP 2008001433A JP 2008001433 A JP2008001433 A JP 2008001433A JP 2009164410 A JP2009164410 A JP 2009164410A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- plastic substrate
- conductive
- powder
- shielding member
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 20
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 69
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 63
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims abstract description 49
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims abstract description 49
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 44
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 24
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 abstract 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 101700004678 SLIT3 Proteins 0.000 description 1
- 102100027339 Slit homolog 3 protein Human genes 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
Abstract
Description
本発明はプラスチック基板上に導電性パターンが形成されてなる電磁波シールド部材及びその製造方法に関する。 The present invention relates to an electromagnetic wave shielding member in which a conductive pattern is formed on a plastic substrate and a manufacturing method thereof.
従来、プラスチック基板上に導電性パターンが形成されてなる電磁波シールド部材を製造する方法として、種々のものが知られている。
I. 例えば、特開2003−318593号には、透明基板上に、導電性微粒子分散液をインクジェットヘッドからメッシュパターン状に噴霧することにより、メッシュパターン状の導電層を形成することが記載されている。
II. また、特開平9−148780号には、フォトリソグラフィ法によって電磁波シールド部材を製造することが記載されている。同号公報では、プラスチックフィルムに金属薄膜を蒸着させた金属蒸着フィルムにおいて、金属薄膜の表面全面に感光性エッチングレジストを塗布した後、パターンマスクを密着させて露光し、その後現像液で露光部分と未露光部分の溶解度差を利用してレジストパターンを形成し、次いでエッチング液でパターン部以外の金属を溶出させて金属パターンを形成させる。
I. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-318593 describes that a conductive layer having a mesh pattern is formed on a transparent substrate by spraying a conductive fine particle dispersion in a mesh pattern from an inkjet head.
II. Japanese Patent Laid-Open No. 9-148780 describes that an electromagnetic wave shielding member is manufactured by a photolithography method. In the same publication, in a metal vapor-deposited film in which a metal thin film is vapor-deposited on a plastic film, a photosensitive etching resist is applied to the entire surface of the metal thin film, and then exposed with a pattern mask in contact with the exposed portion. A resist pattern is formed using the solubility difference of the unexposed portion, and then a metal pattern is formed by eluting metal other than the pattern portion with an etching solution.
特開2003−318593号のようにインクジェット法によって電磁波シールド部材を製造する場合、導電性微粒子分散液には有機溶剤や界面活性剤等が含まれるため、環境への負荷が高いという問題がある。また、厚膜の微細パターンを形成させるには長時間を要し、生産効率に乏しいという問題がある。 When an electromagnetic wave shielding member is manufactured by an ink jet method as in JP-A-2003-318593, there is a problem that the load on the environment is high because the conductive fine particle dispersion contains an organic solvent, a surfactant and the like. In addition, it takes a long time to form a thick fine pattern, resulting in poor production efficiency.
また、特開平9−148780号のようにフォトリソグラフィ法によって電磁波シールド部材を製造する場合、製造工程が複雑であるため製造コストが高くつくと共に、レジスト材料及びその洗浄液を使用するため、環境への負荷が高いという問題がある。 In addition, when manufacturing an electromagnetic wave shielding member by photolithography as disclosed in JP-A-9-148780, the manufacturing process is complicated and the manufacturing cost is high, and the resist material and its cleaning liquid are used. There is a problem that the load is high.
本発明は、電磁波シールド部材を簡易かつ環境への付加を小さくして製造することを目的とする。 An object of the present invention is to manufacture an electromagnetic wave shielding member simply and with a small addition to the environment.
本発明(請求項1)の電磁波シールド部材は、プラスチック基板上に導電性パターンが形成されてなる電磁波シールド部材において、該導電性パターンは、導電性粉末をノズルから該プラスチック基板の表面に向けて吹き付け、該プラスチック基板の表面に固着させたものであることを特徴とするものである。 The electromagnetic wave shielding member of the present invention (Claim 1) is an electromagnetic wave shielding member in which a conductive pattern is formed on a plastic substrate. The conductive pattern is formed by directing conductive powder from a nozzle toward the surface of the plastic substrate. It is characterized by being sprayed and fixed to the surface of the plastic substrate.
請求項2の電磁波シールド部材は、請求項1において、前記導電性粉末がCu粉末、ZnO粉末、Ag粉末、Ni粉末、Pd粉末よりなる群から選択される少なくとも1種であることを特徴とする。
An electromagnetic wave shielding member according to claim 2 is characterized in that, in
本発明(請求項3)の電磁波シールド部材の製造方法は、プラスチック基板上に導電性パターンが形成されてなる電磁波シールド部材を製造する方法において、導電性粉末をノズルから該プラスチック基板の表面に向けて吹き付け、該プラスチック基板の表面に固着させる吹付工程を有することを特徴とするものである。 The method for producing an electromagnetic wave shielding member of the present invention (Claim 3) is the method for producing an electromagnetic wave shielding member in which a conductive pattern is formed on a plastic substrate, wherein the conductive powder is directed from the nozzle to the surface of the plastic substrate. And a spraying step of fixing to the surface of the plastic substrate.
請求項4の電磁波シールド部材の製造方法は、請求項3において、前記吹付工程において、スリットを有するマスクで前記プラスチック基板の表面を覆い、該マスクの上から前記導電性粉末を吹き付けて、該スリットと同一形状の導電性パターンを該表面に形成することを特徴とする。 According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method for producing an electromagnetic wave shielding member according to the third aspect, wherein in the spraying step, the surface of the plastic substrate is covered with a mask having a slit, and the conductive powder is sprayed from above the mask. And a conductive pattern having the same shape as that on the surface.
請求項5の電磁波シールド部材の製造方法は、請求項4において、前記吹付工程は、第1の吹付工程と第2の吹付工程を含んでおり、第1の吹付工程において、互いに平行に設けられた複数条のスリットを有する第1のマスクで前記プラスチック基板の表面を覆い、該第1のマスクの上から前記導電性粉末を吹き付けて、複数条の線よりなる第1の導電性パターンを形成し、第2の工程において、互いに平行かつ該第1のマスクのスリットとは角度をなしている複数条のスリットを有する第2のマスクで前記プラスチック基板の表面を覆い、該第2のマスクの上から前記導電性粉末を吹き付けて、複数条の線よりなる第2の導電性パターンを形成し、これら第1の吹付工程及び第2の吹付工程によって、格子状の導電性パターンを該プラスチック基板の表面に形成することを特徴とする。 According to a fifth aspect of the present invention, there is provided the method for manufacturing an electromagnetic wave shielding member according to the fourth aspect, wherein the spraying step includes a first spraying step and a second spraying step, and the first spraying step is provided in parallel to each other. The surface of the plastic substrate is covered with a first mask having a plurality of slits, and the conductive powder is sprayed from above the first mask to form a first conductive pattern composed of a plurality of lines. In the second step, the surface of the plastic substrate is covered with a second mask having a plurality of slits parallel to each other and at an angle with respect to the slits of the first mask. The conductive powder is sprayed from above to form a second conductive pattern composed of a plurality of lines, and the lattice-shaped conductive pattern is formed by the first spraying process and the second spraying process. And forming on the surface of the click board.
請求項6の電磁波シールド部材の製造方法は、請求項4において、前記吹付工程は、第1の吹付工程と第2の吹付工程を含んでおり、第1の吹付工程において、互いに平行に設けられた複数条のスリットを有するマスクで前記プラスチック基板の表面を覆い、該第1のマスクの上から前記導電性粉末を吹き付けて、複数条の線よりなる第1の導電性パターンを形成し、第2の工程において、該スリットの延在方向を該第1の工程のときとは異ならせるようにして該マスクで該プラスチック基板の表面を覆い、該マスクの上から前記導電性粉末を吹き付けて、複数条の線よりなる第2の導電性パターンを形成し、これら第1の吹付工程及び第2の吹付工程によって、格子状の導電性パターンを該プラスチック基板の表面に形成することを特徴とする。 The method for manufacturing an electromagnetic wave shielding member according to claim 6 is the method according to claim 4, wherein the spraying step includes a first spraying step and a second spraying step, and the first spraying step is provided in parallel to each other. Covering the surface of the plastic substrate with a mask having a plurality of slits, spraying the conductive powder on the first mask to form a first conductive pattern composed of a plurality of lines, In step 2, the surface of the plastic substrate is covered with the mask so that the extending direction of the slit is different from that in the first step, and the conductive powder is sprayed on the mask, A second conductive pattern comprising a plurality of lines is formed, and a grid-like conductive pattern is formed on the surface of the plastic substrate by the first spraying step and the second spraying step. That.
本発明の電磁波シールド部材及びその製造方法では、導電性粉末をノズルからプラスチック基板の表面に向けて吹き付け、該プラスチック基板の表面に該導電性粉末を固着させている。このように、導電性粉末を、インクジェット法のように有機溶剤等に分散させることなく基板に吹き付けるため、簡易かつ環境への付加を小さくして電磁波シールド部材を製造することができると共に、厚みの大きい導電性パターンを容易に製造することができる。 In the electromagnetic wave shielding member and the manufacturing method thereof according to the present invention, the conductive powder is sprayed from the nozzle toward the surface of the plastic substrate, and the conductive powder is fixed to the surface of the plastic substrate. As described above, since the conductive powder is sprayed on the substrate without being dispersed in an organic solvent or the like as in the ink jet method, the electromagnetic shielding member can be manufactured easily and with a small addition to the environment. A large conductive pattern can be easily manufactured.
この導電性粉末としては、Cu粉末、ZnO粉末、Ag粉末、Ni粉末、Pd粉末よりなる群から選択される少なくとも1種であることが好ましい。Cu粉末を用いる場合、電磁波シールド性能の高い電磁波シールド部材が得られる。ZnO粉末を用いる場合、透明な導電性パターンを得ることができる。 The conductive powder is preferably at least one selected from the group consisting of Cu powder, ZnO powder, Ag powder, Ni powder, and Pd powder. When Cu powder is used, an electromagnetic wave shielding member having high electromagnetic wave shielding performance is obtained. When using ZnO powder, a transparent conductive pattern can be obtained.
本発明において、吹付工程において、スリットを有するマスクでプラスチック基板の表面を覆い、該マスクの上から導電性粉末を吹き付けて、該スリットと同一形状の導電性パターンを該表面に形成することが好ましい。この場合、高効率にて電磁波シールド部材を製造することができる。 In the present invention, in the spraying step, it is preferable to cover the surface of the plastic substrate with a mask having a slit and spray conductive powder from above the mask to form a conductive pattern having the same shape as the slit on the surface. . In this case, the electromagnetic wave shielding member can be manufactured with high efficiency.
このようにマスクを用いる場合、第1の吹付工程において、互いに平行に設けられた複数条のスリットを有する第1のマスクでプラスチック基板の表面を覆い、該第1のマスクの上から前記導電性粉末を吹き付け、第2の工程において、互いに平行かつ該第1のマスクのスリットとは角度をなしている複数条のスリットを有する第2のマスクで前記プラスチック基板の表面を覆い、該第2のマスクの上から前記導電性粉末を吹き付けてもよい。これにより、格子状の導電性パターンを製造することができる。 In the case of using the mask in this way, in the first spraying step, the surface of the plastic substrate is covered with a first mask having a plurality of slits provided in parallel to each other, and the conductive material is applied from above the first mask. In the second step, the surface of the plastic substrate is covered with a second mask having a plurality of slits parallel to each other and forming an angle with the slits of the first mask. The conductive powder may be sprayed from above the mask. Thereby, a grid | lattice-like electroconductive pattern can be manufactured.
また、第1の吹付工程において、互いに平行に設けられた複数条のスリットを有するマスクでプラスチック基板の表面を覆い、該第1のマスクの上から前記導電性粉末を吹き付け、第2の工程において、該スリットの延在方向を該第1の工程のときとは異ならせるようにして該マスクで該プラスチック基板の表面を覆い、該マスクの上から前記導電性粉末を吹き付けてもよい。この場合、1種類のマスクによって格子状の導電性パターンを製造することができる。 Further, in the first spraying step, the surface of the plastic substrate is covered with a mask having a plurality of slits provided in parallel to each other, and the conductive powder is sprayed from above the first mask. In the second step, The surface of the plastic substrate may be covered with the mask so that the extending direction of the slit is different from that in the first step, and the conductive powder may be sprayed from above the mask. In this case, a grid-like conductive pattern can be manufactured with one kind of mask.
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
図1は第1の吹付工程を説明する模式図、図2は第2の吹付工程を説明する模式図、図3は製造された電磁波シールド部材の平面図である。 FIG. 1 is a schematic diagram for explaining the first spraying step, FIG. 2 is a schematic diagram for explaining the second spraying step, and FIG. 3 is a plan view of the manufactured electromagnetic wave shielding member.
図1の通り、ノズル3の上端が、ホース4を介して、導電性粉末6を貯留する貯留容器5に接続されている。この貯留容器5には、高圧ガス用配管7を介して空気等の高圧ガスを供給可能となっている。 As shown in FIG. 1, the upper end of the nozzle 3 is connected via a hose 4 to a storage container 5 that stores the conductive powder 6. A high pressure gas such as air can be supplied to the storage container 5 through a high pressure gas pipe 7.
このノズル3の下端部3aには、複数個の噴射孔が設けられている。このノズル3は図1の矢印A方向及びその逆方向に移動可能となっている。
A plurality of injection holes are provided in the
上記の導電性粉末6としては、Cu粉末、ZnO粉末、Ag粉末、Ni粉末、Pd粉末よりなる群から選択される少なくとも1種が用いられる。Cu粉末を用いる場合、電磁波シールド性能の高い電磁波シールド部材が得られる。ZnO粉末を用いる場合、透明な導電性パターンを得ることができる。 As said electroconductive powder 6, at least 1 sort (s) selected from the group which consists of Cu powder, ZnO powder, Ag powder, Ni powder, and Pd powder is used. When Cu powder is used, an electromagnetic wave shielding member having high electromagnetic wave shielding performance is obtained. When using ZnO powder, a transparent conductive pattern can be obtained.
この導電性粉末6は、平均粒径3〜30μm特に5〜10μmであることが好ましい。30μm以下であると、導電性パターンの細線化を図ることができる。3μm以上であると、ノズル3やホース4などに導電性粉末6が詰まることが防止されると共に、衝突エネルギーを大きくして、プラスチック基板1上に強固に固着させることができる。ここで、平均粒径とは、ふるい分け法による体積平均径のことをいう。
The conductive powder 6 preferably has an average particle size of 3 to 30 μm, particularly 5 to 10 μm. When the thickness is 30 μm or less, the conductive pattern can be thinned. When the thickness is 3 μm or more, the conductive powder 6 is prevented from clogging the nozzle 3 and the hose 4 and the like, and the collision energy can be increased to firmly adhere to the
このように構成された装置を用いて電磁波シールド部材を製造する際には、該ノズル3の下方にプラスチック基板1を配置すると共に、これらノズル3とプラスチック基板1との間に、プラスチック基板1を覆うようにしてマスク2を配置する。このマスク2には、矢印A方向に延在するスリット2aが、該矢印Aと直角方向に間隔をあけて複数条設けられている。
When the electromagnetic shielding member is manufactured using the apparatus configured as described above, the
このプラスチック基板1の材質としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリイミド(PI)等が用いられる。
As the material of the
このマスク2の材質としては、例えば、SiC、Al2O3、Y2O3などの各種セラミックス、更には、チタン、タングステンなどの各種高硬度金属等が用いられる。 Examples of the material of the mask 2 include various ceramics such as SiC, Al 2 O 3 , and Y 2 O 3, and various high-hardness metals such as titanium and tungsten.
このマスク2の厚みは、100〜500μm特に200〜300μmであることが好ましい。100μm以上であると、導電性粉末6の衝突等の衝撃によって損傷することが防止される。500μm以下であると、導電性粉末6の通過率が向上する。 The thickness of the mask 2 is preferably 100 to 500 μm, particularly 200 to 300 μm. When it is 100 μm or more, damage due to impact such as collision of the conductive powder 6 is prevented. When it is 500 μm or less, the passing rate of the conductive powder 6 is improved.
このマスク2に設けられたスリット2aの幅は、10〜100μm、特に10〜30μmであることが好ましい。100μm以下であると、導電性パターンの細線化が図られる。10μm以上であると、断線が防止される。
The width of the
このスリット2a同士の間隔は、50〜1000μm、特に100〜500μmであることが好ましい。1000μm以下であると、電磁波シールド性が向上する。50μm以上であると、得られる電磁波シールド部材の透過率が向上する。
The interval between the
次いで、高圧ガス用配管7から容器5内に高圧ガスを供給すると共に、図1の矢印A方向にノズル3を移動させる。これにより、該容器5内の導電性粉末6は、ホース4を介してノズル3まで供給され、高圧ガスと共に噴射孔から吹き付けられる。吹き付けられた導電性粉末6は、マスク2のスリット2aを通ってプラスチック基板1の表面に衝突し、衝突エネルギーによって基板1上に固着される。このようにして、プラスチック基板1の表面に、互いに平行な複数の導電性直線パターン1aが形成される(第1の吹付工程)。
Next, the high pressure gas is supplied into the container 5 from the high pressure gas pipe 7 and the nozzle 3 is moved in the direction of arrow A in FIG. Thereby, the conductive powder 6 in the container 5 is supplied to the nozzle 3 through the hose 4 and sprayed from the injection hole together with the high-pressure gas. The sprayed conductive powder 6 collides with the surface of the
上記のようにして、このプラスチック基板1上に導電性直線パターン1aを形成させた後、図2に示す通り、マスク2に代えてマスク2Aを配置する。このマスク2Aには、矢印A方向と直交方向に延在するスリット2bが、該矢印Aと同一方向に間隔をあけて複数条設けられている。
After the conductive
なお、このマスク2Aの材質、マスク2の厚み、スリット2bの幅及びスリット2b同士の間隔は、上記のマスク2と同程度であることが好ましい。
The material of the mask 2A, the thickness of the mask 2, the width of the
次いで、高圧ガス用配管7から容器5内に高圧ガスを供給すると共に、図1の矢印A方向にノズル3を移動させる。これにより、該容器5内の導電性粉末6は、ホース4を介してノズル3まで供給され、高圧ガスと共に噴射孔から吹き付けられる。吹き付けられた導電性粉末6は、マスク2Aのスリット2bを通ってプラスチック基板1の表面に衝突し、衝突エネルギーによって基板1上に固着される。このようにして、プラスチック基板1の表面に、互いに平行な複数の導電性直線パターン1bが形成される(第2の吹付工程)。
Next, the high pressure gas is supplied into the container 5 from the high pressure gas pipe 7 and the nozzle 3 is moved in the direction of arrow A in FIG. Thereby, the conductive powder 6 in the container 5 is supplied to the nozzle 3 through the hose 4 and sprayed from the injection hole together with the high-pressure gas. The sprayed conductive powder 6 collides with the surface of the
このようにして、図3に示す通り、プラスチック基板1の表面に導電性直線パターン1a及び導電性直線パターン1bよりなる格子状の導電性パターンが形成された電磁波シールド部材10が製造される。
In this way, as shown in FIG. 3, the electromagnetic wave shielding member 10 in which the lattice-like conductive pattern composed of the conductive
この導電性直線パターン1aの幅は、10〜40μm、特に20〜30μmであることが好ましい。30μm以下であると、導電性パターンの細線化が図られる。20μm以上であると、断線が防止される。
The width of the conductive
この導電性直線パターン1a同士の間隔は、50〜1000μm、特に100〜500μmであることが好ましい。1000μm以下であると、電磁波シールド性が向上する。50μm以上であると、得られる電磁波シールド部材の透過率が向上する。
The interval between the conductive
この導電性直線パターン1aの厚みは、2〜20μm、特に5〜10μmであることが好ましい。2μm以上であると、電磁波シールド性が向上する。20μm以下であると、得られる電磁波シールド部材を斜めから見たときの視認性が向上する。
The thickness of the conductive
また、この導電性直線パターン1bの幅、導電性直線パターン1b同士の間隔及び導電性直線パターン1aの厚みも、上記の導電性直線パターン1aと同程度であることが好ましい。
Moreover, it is preferable that the width | variety of this electroconductive
本実施の形態に係る電磁波シールド部材10の製造方法によると、導電性粉末6を、インクジェット法のように有機溶剤等に分散させることなく基板1に吹き付けるため、簡易かつ環境への付加を小さくして電磁波シールド部材10を製造することができると共に、厚みの大きい導電性パターンを容易に製造することができる。
According to the manufacturing method of the electromagnetic wave shielding member 10 according to the present embodiment, since the conductive powder 6 is sprayed on the
また、マスク2,2Aの上から導電性粉末6を吹き付けるため、マスク2,2Aを用いずに導電性直線パターン1a,1bを1本ずつ形成させる場合と比べ、高効率にて電磁波シールド部材10を製造することができる。
In addition, since the conductive powder 6 is sprayed from above the masks 2 and 2A, the electromagnetic wave shielding member 10 is more efficient than when the conductive
さらに、スリットの延在方向が異なる2種類のマスク2,2Aを用いることにより、格子状の導電性パターンを効率よく形成させることができる。 Furthermore, by using two types of masks 2 and 2A having different slit extending directions, a grid-like conductive pattern can be efficiently formed.
上記の実施の形態は本発明の一例であり、本発明は上記の実施の形態に限定されるものではない。例えば、上記実施の形態では、第1の吹付工程と第2の吹付工程とで、スリットの延在方向の異なる2種類のマスクを用いたが、同一のマスクを用いても良い。この場合、第1の吹付工程の終了後、マスクを回転させてスリットの延在方向を図1の矢印方向Aに対して角度を付けるようにしてから、吹き付けを行うようにすればよい。 The above embodiment is an example of the present invention, and the present invention is not limited to the above embodiment. For example, in the above embodiment, two types of masks having different slit extending directions are used in the first spraying step and the second spraying step, but the same mask may be used. In this case, after completion of the first spraying process, the mask is rotated so that the extending direction of the slit is angled with respect to the arrow direction A in FIG.
上記実施の形態では、導電性直線パターン1aと導電性直線パターン1bとが直交しているが、これらが直角以外の角度で交叉するようにしてもよく、その他の形状の導電性パターンとしてもよい。
In the above embodiment, the conductive
以下に、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples.
実施例1
基板、マスク及び導電性粉末として、以下のものを用意した。
Example 1
The following were prepared as the substrate, mask and conductive powder.
基板:ポリエステル基板(厚み125μm)
マスク:SiC製マスク
スリット幅10μm、隣接するスリット同士の間のスペース100μm
導電性粉末:Cu粉末(平均粒径5μm)
Substrate: Polyester substrate (thickness 125 μm)
Mask: SiC mask
Slit width 10μm, space between adjacent slits 100μm
Conductive powder: Cu powder (average particle size 5 μm)
図1の装置を用いて電磁波シールド部材を製造した。具体的には、ノズルの下方に基板を配置し、これらノズルと基板の間にマスクを配置した。そして、ノズルを矢印Aの方向に移動させながらノズルから導電性粒子を吹き付けた。次いで、マスク2を90°回転させてスリットが矢印A方向と直交するようにし、ノズルを矢印Aの方向に移動させながらノズルから導電性粒子を吹き付けた。 An electromagnetic wave shielding member was manufactured using the apparatus shown in FIG. Specifically, a substrate was disposed below the nozzles, and a mask was disposed between these nozzles and the substrate. Then, conductive particles were sprayed from the nozzle while moving the nozzle in the direction of arrow A. Next, the mask 2 was rotated 90 ° so that the slits were orthogonal to the direction of arrow A, and conductive particles were sprayed from the nozzle while moving the nozzle in the direction of arrow A.
その結果、基板上に、厚み5μm、幅10μm、隣接する線同士の間のスペース100μmの格子状導電性パターンを形成することができた。 As a result, a grid-like conductive pattern having a thickness of 5 μm, a width of 10 μm, and a space of 100 μm between adjacent lines could be formed on the substrate.
1 基板
1a、1b 導電性直線パターン
2 マスク
2a、2b スリット
3 ノズル
3a 下端
4 ホース
5 容器
6 導電性粉末
7 高圧ガス用配管
DESCRIPTION OF
Claims (6)
該導電性パターンは、導電性粉末をノズルから該プラスチック基板の表面に向けて吹き付け、該プラスチック基板の表面に固着させたものであることを特徴とする電磁波シールド部材。 In an electromagnetic wave shielding member in which a conductive pattern is formed on a plastic substrate,
The electromagnetic wave shielding member, wherein the conductive pattern is formed by spraying conductive powder from a nozzle toward the surface of the plastic substrate and fixing the conductive powder to the surface of the plastic substrate.
導電性粉末をノズルから該プラスチック基板の表面に向けて吹き付け、該プラスチック基板の表面に固着させる吹付工程を有することを特徴とする電磁波シールド部材の製造方法。 In a method of manufacturing an electromagnetic wave shielding member in which a conductive pattern is formed on a plastic substrate,
A method for producing an electromagnetic wave shielding member, comprising: a step of spraying conductive powder from a nozzle toward the surface of the plastic substrate and fixing the conductive powder to the surface of the plastic substrate.
第1の吹付工程において、互いに平行に設けられた複数条のスリットを有する第1のマスクで前記プラスチック基板の表面を覆い、該第1のマスクの上から前記導電性粉末を吹き付けて、複数条の線よりなる第1の導電性パターンを形成し、
第2の工程において、互いに平行かつ該第1のマスクのスリットとは角度をなしている複数条のスリットを有する第2のマスクで前記プラスチック基板の表面を覆い、該第2のマスクの上から前記導電性粉末を吹き付けて、複数条の線よりなる第2の導電性パターンを形成し、
これら第1の吹付工程及び第2の吹付工程によって、格子状の導電性パターンを該プラスチック基板の表面に形成することを特徴とする電磁波シールド部材の製造方法。 In Claim 4, the said spraying process contains the 1st spraying process and the 2nd spraying process,
In the first spraying step, the surface of the plastic substrate is covered with a first mask having a plurality of slits provided in parallel to each other, and the conductive powder is sprayed from above the first mask, so that a plurality of strips are formed. Forming a first conductive pattern consisting of
In the second step, the surface of the plastic substrate is covered with a second mask having a plurality of slits parallel to each other and forming an angle with the slits of the first mask, and from above the second mask. Spraying the conductive powder to form a second conductive pattern consisting of a plurality of lines,
A grid-like conductive pattern is formed on the surface of the plastic substrate by the first spraying step and the second spraying step.
第1の吹付工程において、互いに平行に設けられた複数条のスリットを有するマスクで前記プラスチック基板の表面を覆い、該第1のマスクの上から前記導電性粉末を吹き付けて、複数条の線よりなる第1の導電性パターンを形成し、
第2の工程において、該スリットの延在方向を該第1の工程のときとは異ならせるようにして該マスクで該プラスチック基板の表面を覆い、該マスクの上から前記導電性粉末を吹き付けて、複数条の線よりなる第2の導電性パターンを形成し、
これら第1の吹付工程及び第2の吹付工程によって、格子状の導電性パターンを該プラスチック基板の表面に形成することを特徴とする電磁波シールド部材の製造方法。 In Claim 4, the said spraying process contains the 1st spraying process and the 2nd spraying process,
In the first spraying step, the surface of the plastic substrate is covered with a mask having a plurality of slits provided in parallel to each other, and the conductive powder is sprayed from above the first mask. Forming a first conductive pattern comprising:
In the second step, the surface of the plastic substrate is covered with the mask so that the extending direction of the slit is different from that in the first step, and the conductive powder is sprayed on the mask. Forming a second conductive pattern comprising a plurality of lines,
A grid-like conductive pattern is formed on the surface of the plastic substrate by the first spraying process and the second spraying process.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008001433A JP2009164410A (en) | 2008-01-08 | 2008-01-08 | Electromagnetic shielding member and its production process |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008001433A JP2009164410A (en) | 2008-01-08 | 2008-01-08 | Electromagnetic shielding member and its production process |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2009164410A true JP2009164410A (en) | 2009-07-23 |
Family
ID=40966670
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008001433A Pending JP2009164410A (en) | 2008-01-08 | 2008-01-08 | Electromagnetic shielding member and its production process |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2009164410A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20160020128A (en) * | 2014-08-13 | 2016-02-23 | 주식회사 이엠따블유 | Method for forming metal pattern, metal powder spraying apparatus for forming metal pattern and metal powder for use in such method or such apparatus |
-
2008
- 2008-01-08 JP JP2008001433A patent/JP2009164410A/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20160020128A (en) * | 2014-08-13 | 2016-02-23 | 주식회사 이엠따블유 | Method for forming metal pattern, metal powder spraying apparatus for forming metal pattern and metal powder for use in such method or such apparatus |
| WO2016024749A3 (en) * | 2014-08-13 | 2016-03-31 | 주식회사 이엠따블유 | Conductive pattern formation method, conductive powder spray device for conductive pattern formation, and conductive powder to be used in method or device |
| KR101721898B1 (en) * | 2014-08-13 | 2017-03-31 | 주식회사 이엠따블유 | Metal powder spraying apparatus for forming metal pattern |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6725890B2 (en) | Method for manufacturing vapor deposition mask, method for manufacturing pattern, and method for manufacturing organic semiconductor element | |
| JP6123301B2 (en) | Method for manufacturing vapor deposition mask, resin layer with metal mask, and method for manufacturing organic semiconductor element | |
| KR101701620B1 (en) | Methods and apparatus for conductive element deposition and formation | |
| KR930011603B1 (en) | Stripping method for removing resist from printed circuit board | |
| KR20110120223A (en) | Conductive element, manufacturing method of conductive element, wiring element, information input device, display device and electronic device | |
| JP6167526B2 (en) | Method for manufacturing vapor deposition mask and method for manufacturing organic semiconductor element | |
| JP2009164410A (en) | Electromagnetic shielding member and its production process | |
| TWI590260B (en) | Nano-scale conductive film manufacturing method and touch device having the same | |
| JP2009164343A (en) | Wiring substrate and its production process | |
| US11304303B2 (en) | Methods and processes for forming electrical circuitries on three-dimensional geometries | |
| CN109927413B (en) | Film forming apparatus and film forming method | |
| JP6197423B2 (en) | Vapor deposition mask, vapor deposition mask manufacturing method, and organic semiconductor element manufacturing method | |
| JP6566065B2 (en) | Method for manufacturing vapor deposition mask, resin layer with metal mask, and method for manufacturing organic semiconductor element | |
| JP6304425B2 (en) | Method for manufacturing vapor deposition mask, resin layer with metal mask, and method for manufacturing organic semiconductor element | |
| JP6521003B2 (en) | Vapor deposition mask, method of manufacturing vapor deposition mask, and method of manufacturing organic semiconductor device | |
| US11613802B2 (en) | Additively manufactured shadow masks for material deposition control | |
| CN111180328B (en) | Substrate etching method for making mask | |
| CN110783493A (en) | Mask structure, method of manufacturing the same, and workpiece processing system | |
| JP4355965B2 (en) | Wiring board manufacturing method | |
| US20120141734A1 (en) | Matte-surface substrate and manufacturing method thereof | |
| KR20210084135A (en) | Coating method of base material by solution masking manner | |
| US20110232089A1 (en) | Method of manufacturing inkjet print head | |
| JP2002302648A5 (en) | ||
| JP6315140B2 (en) | Method for manufacturing vapor deposition mask and method for manufacturing organic semiconductor element | |
| JP6620831B2 (en) | Method for manufacturing vapor deposition mask and method for manufacturing organic semiconductor element |