JP2009160915A - Exposure head, exposure head control method, and image forming apparatus - Google Patents
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Abstract
【課題】発光素子に接続される配線の自由度を向上させる技術を提供する。
【解決手段】結像光学系LSと、結像光学系LSにより結像される光を発光する第1の発光素子Ea1〜Ea4、Eb1〜Eb4と、結像光学系LSにより結像される光を発光する第2の発光素子Ec5〜Ec8、Ed5〜Ed8と、第1の発光素子Ea1〜Ea4、Eb1〜Eb4に配線WLを介して接続される第1のTFT回路TCa1〜TCa4、TCb1〜TCb4と、第2の発光素子Ec5〜Ec8、Ed5〜Ed8に配線WLを介して接続される第2のTFT回路TCc5〜TCc8、TCd5〜TCd8とを備え、第1のTFT回路TCa1〜TCa4、TCb1〜TCb4と第2のTFT回路TCc5〜TCc8、TCd5〜TCd8との間に、第1の発光素子Ea1〜Ea4、Eb1〜Eb4および第2の発光素子Ec5〜Ec8、Ed5〜Ed8が配設されてる。
【選択図】図17A technique for improving the degree of freedom of wiring connected to a light emitting element is provided.
An imaging optical system LS, first light emitting elements Ea1 to Ea4 and Eb1 to Eb4 that emit light that is imaged by the imaging optical system LS, and light that is imaged by the imaging optical system LS Light emitting elements Ec5 to Ec8, Ed5 to Ed8, and first TFT circuits TCa1 to TCa4, TCb1 to TCb4 connected to the first light emitting elements Ea1 to Ea4 and Eb1 to Eb4 via the wiring WL And second TFT circuits TCc5 to TCc8 and TCd5 to TCd8 connected to the second light emitting elements Ec5 to Ec8 and Ed5 to Ed8 via the wiring WL, and the first TFT circuits TCa1 to TCa4, TCb1 to Between the TCb4 and the second TFT circuits TCc5 to TCc8, TCd5 to TCd8, the first light emitting elements Ea1 to Ea4, Eb1 to Eb4 and the second light emitting elements Ec5 to Ec8, Ed5 to Ed8 are arranged.
[Selection] Figure 17
Description
この発明は、発光素子から射出された光を結像光学系により結像する露光ヘッド、該露光ヘッドの制御方法および該露光ヘッドを用いた画像形成装置に関するものである。 The present invention relates to an exposure head that forms an image of light emitted from a light emitting element by an imaging optical system, a method for controlling the exposure head, and an image forming apparatus using the exposure head.
このような露光ヘッドとしては、例えば特許文献1に記載のように、LED(Light Emitting Diode)等の発光素子を、基板上に複数並べたラインヘッドが知られている。これらの発光素子の駆動は、いわゆるTFT(Thin film transistor)と称される薄膜トランジスタで構成された回路により制御することができる。つまり、発光素子は、TFT回路による駆動を受けて、光ビームを射出する。こうして発光素子から射出された光ビームはレンズにより結像されて、感光体等の潜像担持体の表面が露光される。 As such an exposure head, a line head in which a plurality of light emitting elements such as LEDs (Light Emitting Diodes) are arranged on a substrate is known, as described in Patent Document 1, for example. The driving of these light emitting elements can be controlled by a circuit composed of a thin film transistor called a so-called TFT (Thin Film Transistor). That is, the light emitting element is driven by the TFT circuit and emits a light beam. The light beam thus emitted from the light emitting element is imaged by the lens, and the surface of the latent image carrier such as a photoconductor is exposed.
ところで、上述のようなラインヘッドでは、TFT回路からの信号を発光素子に与えるために、発光素子とTFT回路とが配線により接続される。しかしながら、このTFT回路の配設態様が適切でないことに起因して、各発光素子に接続される配線の全部を、同じ側に引き出す必要がある場合があり、その結果、配線の自由度が低下してしまう場合があった。 By the way, in the above line head, in order to give a signal from the TFT circuit to the light emitting element, the light emitting element and the TFT circuit are connected by wiring. However, due to the inadequate arrangement of the TFT circuit, it may be necessary to draw all of the wiring connected to each light emitting element to the same side, resulting in a reduction in the degree of freedom of wiring. There was a case.
この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、発光素子に接続される配線の自由度を向上させる技術の提供を目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a technique for improving the degree of freedom of wiring connected to a light emitting element.
この発明にかかる露光ヘッドは、上記目的を達成するために、結像光学系と、結像光学系により結像される光を射出する第1の発光素子と、結像光学系により結像される光を射出する第2の発光素子と、第1の発光素子に配線を介して接続される第1のTFT回路と、第2の発光素子に配線を介して接続される第2のTFT回路とを備え、第1のTFT回路と第2のTFT回路との間に、第1の発光素子および第2の発光素子が配設されていることを特徴としている。 In order to achieve the above object, an exposure head according to the present invention forms an image by an imaging optical system, a first light emitting element that emits light imaged by the imaging optical system, and an imaging optical system. Second light emitting element that emits light, a first TFT circuit connected to the first light emitting element via a wiring, and a second TFT circuit connected to the second light emitting element via a wiring The first light emitting element and the second light emitting element are disposed between the first TFT circuit and the second TFT circuit.
また、この発明にかかる露光ヘッドの制御方法は、上記目的を達成するために、結像光学系、結像光学系により被露光面に結像される光を射出する第1の発光素子、結像光学系により被露光面に結像される光を射出する第2の発光素子、第1の発光素子に配線を介して接続される第1のTFT回路、および、第2の発光素子に配線を介して接続される第2のTFT回路とを有し、第1のTFT回路と第2のTFT回路との間に、第1の発光素子および第2の発光素子が配設されている露光ヘッドにより、被露光面を露光する露光工程を備えることを特徴としている。 In order to achieve the above object, the exposure head control method according to the present invention includes an imaging optical system, a first light emitting element that emits light imaged on an exposed surface by the imaging optical system, A second light emitting element that emits light imaged on an exposed surface by the image optical system, a first TFT circuit connected to the first light emitting element via a wiring, and a wiring to the second light emitting element And a second TFT circuit connected via the first TFT circuit, and the first light emitting element and the second light emitting element are disposed between the first TFT circuit and the second TFT circuit. An exposure step of exposing a surface to be exposed by a head is provided.
また、この発明にかかる画像形成装置は、上記目的を達成するために、潜像担持体と、結像光学系、結像光学系により潜像担持体に結像される光を射出する第1の発光素子、結像光学系により潜像担持体に結像される光を射出する第2の発光素子、第1の発光素子に配線を介して接続される第1のTFT回路、および、第2の発光素子に配線を介して接続される第2のTFT回路を有し、第1のTFT回路と第2のTFT回路との間に第1の発光素子および第2の発光素子が配設されている露光ヘッドとを備えたことを特徴としている。 In order to achieve the above object, the image forming apparatus according to the present invention emits a latent image carrier, an imaging optical system, and light that is imaged on the latent image carrier by the imaging optical system. A light emitting element, a second light emitting element that emits light imaged on the latent image carrier by the imaging optical system, a first TFT circuit connected to the first light emitting element via a wiring, and A second TFT circuit connected to the two light emitting elements via a wiring, and the first light emitting element and the second light emitting element are disposed between the first TFT circuit and the second TFT circuit. The exposure head is provided.
このように構成された発明(露光ヘッド、露光ヘッドの制御方法、画像形成装置)では、第1の発光素子に配線を介して接続される第1のTFT回路と、第2の発光素子に配線を介して接続される第2のTFT回路とが設けられている。そして、第1のTFT回路と第2のTFT回路との間に第1の発光素子および第2の発光素子が配設されている。したがって、配線を第1の発光素子および第2の発光素子の両側に引き出すことが可能となっており、配線の自由度の向上が図られている。 In the invention thus configured (exposure head, exposure head control method, image forming apparatus), the first TFT circuit connected to the first light emitting element via the wiring and the wiring to the second light emitting element And a second TFT circuit connected through the first TFT circuit. A first light emitting element and a second light emitting element are disposed between the first TFT circuit and the second TFT circuit. Therefore, the wiring can be drawn out to both sides of the first light emitting element and the second light emitting element, and the degree of freedom of wiring is improved.
なお、第1の発光素子、第2の発光素子、第1のTFT回路および第2のTFT回路が基板の第1の面に設けることができる。さらに、第1の発光素子および第2の発光素子からの光は、第1の面から第1の面と異なる第2の面に基板を透過して結像光学系に入射するように構成することができる。 Note that the first light-emitting element, the second light-emitting element, the first TFT circuit, and the second TFT circuit can be provided on the first surface of the substrate. Further, the light from the first light-emitting element and the second light-emitting element is configured to pass through the substrate from the first surface to a second surface different from the first surface and enter the imaging optical system. be able to.
ところで、第1の発光素子および第2の発光素子からの光を検知する検知部を備えるように露光ヘッドを構成することができる。この際、検知部を基板に配設することで次のような効果が奏される。つまり、発光素子が射出した光のうち基板の内部で反射された光を検知部により検知することが可能となる。しかも、本発明では基板にTFT回路が設けられており、このTFT回路が発光素子からの光を反射するため、より多くの光量を検知部により検知することができ、検知結果の精度を向上させることができる。 By the way, an exposure head can be comprised so that the detection part which detects the light from a 1st light emitting element and a 2nd light emitting element may be provided. In this case, the following effects can be achieved by arranging the detection unit on the substrate. That is, it is possible to detect the light reflected from the inside of the substrate out of the light emitted from the light emitting element. In addition, in the present invention, a TFT circuit is provided on the substrate, and since this TFT circuit reflects light from the light emitting element, a larger amount of light can be detected by the detection unit, and the accuracy of the detection result is improved. be able to.
検知部は複数配設されているように構成しても良い。これにより、多くの光量を検知することが可能となり、検知結果の精度を向上させることができる。 A plurality of detection units may be arranged. This makes it possible to detect a large amount of light and improve the accuracy of the detection result.
また、検知部として受光面で光を検知する光センサを用いることができる。この際、受光面を光学接着剤により基板に接着しても良い。このような構成では、基板と受光面との界面が光学接着剤により取り除かれるため、基板と受光面での不要な光の反射を抑制することが可能となる。その結果、受光面に入射する光が増大して、検知結果の精度を向上させることができる。 Moreover, the optical sensor which detects light with a light-receiving surface can be used as a detection part. At this time, the light receiving surface may be bonded to the substrate with an optical adhesive. In such a configuration, since the interface between the substrate and the light receiving surface is removed by the optical adhesive, unnecessary light reflection between the substrate and the light receiving surface can be suppressed. As a result, the light incident on the light receiving surface increases, and the accuracy of the detection result can be improved.
また、第1のTFT回路は検知部の検知結果に基づいて第1の発光素子を駆動し、第2のTFT回路は検知部の検知結果に基づいて第2の発光素子を駆動するように構成しても良い。このように構成することで、適切な光量で発光素子を駆動することができ、良好な露光動作が可能となる。 Further, the first TFT circuit is configured to drive the first light emitting element based on the detection result of the detection unit, and the second TFT circuit is configured to drive the second light emitting element based on the detection result of the detection unit. You may do it. With this configuration, the light emitting element can be driven with an appropriate amount of light, and a favorable exposure operation can be performed.
また、第1の発光素子および第2の発光素子は有機EL素子である露光ヘッドに対しては、検知部の検知結果に基づいて発光素子を駆動するように構成することが特に好適である。つまり、有機EL素子は比較的寿命が短いため、各有機EL素子間で発光頻度にばらつきがあると、各有機EL素子の光量にもばらつきが発生する場合がある。したがって、有機EL素子を用いた構成に対しては、検知部を備えた本発明を適用して、適切な光量で発光素子を駆動することが好適である。 The first light emitting element and the second light emitting element are particularly preferably configured to drive the light emitting element based on the detection result of the detection unit for the exposure head which is an organic EL element. That is, since the organic EL element has a relatively short life, if the light emission frequency varies among the organic EL elements, the light amount of each organic EL element may also vary. Therefore, for a configuration using an organic EL element, it is preferable to drive the light emitting element with an appropriate amount of light by applying the present invention including the detection unit.
また、第1の発光素子および第2の発光素子から結像光学系に向けて導光孔を設けた遮光部材を備えるように構成しても良い。後述するように、このような構成では、遮光部材によりゴースト光の結像光学系への入射が抑制されて、良好な露光が可能となる。 Moreover, you may comprise so that the light-shielding member which provided the light guide hole toward the imaging optical system from the 1st light emitting element and the 2nd light emitting element may be provided. As will be described later, in such a configuration, incidence of ghost light to the imaging optical system is suppressed by the light shielding member, and good exposure is possible.
また、上述した露光ヘッドの制御方法においては、第1の発光素子および第2の発光素子の光量を検知する検知工程を備え、露光工程は検知工程の検知結果に基づいて第1の発光素子および第2の発光素子を駆動するように構成しても良い。このように構成することで、適切な光量で発光素子を駆動することができ、良好な露光動作が可能となる。 Further, the above-described exposure head control method includes a detection step of detecting the light amounts of the first light-emitting element and the second light-emitting element, and the exposure step includes the first light-emitting element and the first light-emitting element based on the detection result of the detection step. You may comprise so that a 2nd light emitting element may be driven. With this configuration, the light emitting element can be driven with an appropriate amount of light, and a favorable exposure operation can be performed.
この発明にかかるラインヘッドは、上記目的を達成するために、複数の発光素子をグループ化した発光素子グループを一方面に複数配するとともに、発光素子から射出された光が一方面から他方面へ向けて透過可能であるヘッド基板と、ヘッド基板に配されるとともに、発光素子が射出した光を検知する検知手段とを備え、ヘッド基板の一方面には、発光素子の駆動を制御するTFT回路と、発光素子とTFT回路とを接続する配線とが配され、発光素子グループでは、複数の発光素子を第1方向に並べた発光素子行が設けられており、第1方向に直交もしくは略直交する第2方向における発光素子グループの両側にTFT回路が配されていることを特徴としている。 In the line head according to the present invention, in order to achieve the above object, a plurality of light emitting element groups in which a plurality of light emitting elements are grouped are arranged on one side, and light emitted from the light emitting elements is transferred from one side to the other side. A TFT circuit for controlling the driving of the light emitting element on one surface of the head substrate. The TFT circuit is provided with a head substrate that can be transmitted toward the head substrate and a detecting unit that is disposed on the head substrate and detects light emitted from the light emitting element. And a wiring for connecting the light emitting element and the TFT circuit, and in the light emitting element group, a light emitting element row in which a plurality of light emitting elements are arranged in the first direction is provided, and is orthogonal or substantially orthogonal to the first direction. The TFT circuit is arranged on both sides of the light emitting element group in the second direction.
また、この発明にかかる画像形成装置は、上記目的を達成するために、複数の発光素子をグループ化した発光素子グループを一方面に複数配するとともに、発光素子から射出された光が一方面から他方面へ向けて透過可能であるヘッド基板と、ヘッド基板に配されるとともに、発光素子が射出した光を検知する検知手段とを有するラインヘッドと、ラインヘッドにより露光される潜像担持体とを備え、ヘッド基板の一方面には、発光素子の駆動を制御するTFT回路と、発光素子とTFT回路とを接続する配線とが配され、発光素子グループでは、複数の発光素子を第1方向に並べた発光素子行が設けられており、第1方向に直交もしくは略直交する第2方向における発光素子グループの両側にTFT回路が配されていることを特徴としている。 In order to achieve the above object, the image forming apparatus according to the present invention has a plurality of light emitting element groups each having a plurality of light emitting elements grouped on one surface, and light emitted from the light emitting elements is emitted from the one surface. A head substrate that is transmissive to the other surface; a line head that is disposed on the head substrate and that has a detection means that detects light emitted from the light emitting element; and a latent image carrier that is exposed by the line head; And a wiring for connecting the light emitting element and the TFT circuit is arranged on one surface of the head substrate, and in the light emitting element group, the plurality of light emitting elements are arranged in the first direction. Are arranged, and TFT circuits are arranged on both sides of the light emitting element group in the second direction orthogonal or substantially orthogonal to the first direction. .
このように構成された発明(ラインヘッド、画像形成装置)では、第2方向における発光素子グループの両側にTFT回路が配されている。したがって、発光素子グループの各発光素子に接続される配線を、第2方向の両側に引き出すことが可能となっており、配線の自由度の向上が実現されている。 In the invention thus configured (line head, image forming apparatus), TFT circuits are arranged on both sides of the light emitting element group in the second direction. Therefore, the wiring connected to each light emitting element of the light emitting element group can be drawn out to both sides in the second direction, and improvement in the degree of freedom of the wiring is realized.
また、この発明では、発光素子が射出した光を検知する検知手段が、ヘッド基板に配されている。かかる検知手段は、主として、各発光素子の光量を制御する目的で設けられたものである。つまり、例えば、この検知手段の検知結果に基づいて、TFT回路が発光素子を駆動制御することで、高精度の発光駆動制御が可能となる。ところで、このような発光駆動制御を高精度に行うという観点からは、検知手段に入射する光量はなるべく多いことが望ましい。これに対して、本発明では、ヘッド基板の一方面にTFT回路が配されている。したがって、後述するように、このTFT回路が、光を反射する反射膜として機能するため、検知手段に入射する光量の増大が可能となる。よって、この発明は、発光駆動制御を高精度に実行することができ、好適である。 In the present invention, the detecting means for detecting the light emitted from the light emitting element is arranged on the head substrate. Such detection means is provided mainly for the purpose of controlling the light quantity of each light emitting element. That is, for example, the TFT circuit performs drive control of the light emitting element based on the detection result of the detection means, thereby enabling light emission drive control with high accuracy. By the way, from the viewpoint of performing such light emission drive control with high accuracy, it is desirable that the amount of light incident on the detection means is as large as possible. On the other hand, in the present invention, a TFT circuit is arranged on one surface of the head substrate. Therefore, as will be described later, since this TFT circuit functions as a reflective film that reflects light, the amount of light incident on the detection means can be increased. Therefore, the present invention is preferable because the light emission drive control can be executed with high accuracy.
また、TFT回路は、検知手段の検知結果に基づいて、各発光素子が射出する光の光量が均一となるように、発光素子の駆動を制御するように構成しても良い。このように構成した場合、各発光素子が射出する光の光量が均一となり、良好な露光が可能となる。 Further, the TFT circuit may be configured to control the driving of the light emitting elements based on the detection result of the detecting means so that the amount of light emitted from each light emitting element is uniform. When configured in this manner, the amount of light emitted from each light emitting element is uniform, and good exposure is possible.
また、検知手段は、ヘッド基板に複数配されるように構成しても良い。このように構成することで、高精度に発光素子の光量を検知することが可能となる。 Further, a plurality of detection means may be arranged on the head substrate. With this configuration, it is possible to detect the light amount of the light emitting element with high accuracy.
また、発光素子は、有機EL素子であるように構成しても良い。つまり、かかる有機EL素子は比較的寿命が短いため、複数の有機EL素子間で発光頻度にばらつきがあると、各有機EL素子の光量にもばらつきが発生する場合がある。したがって、有機EL素子を用いた構成に対しては、検知手段を備えた本発明を適用して、高精度の発光駆動制御を行なうことが好適である。 Moreover, you may comprise a light emitting element so that it may be an organic EL element. That is, since such an organic EL element has a relatively short lifetime, if the emission frequency varies among a plurality of organic EL elements, the amount of light of each organic EL element may also vary. Therefore, it is preferable to apply high-precision light emission drive control to the configuration using the organic EL element by applying the present invention having the detection means.
また、検知手段は受光面で光を検知する光センサであり、受光面が光学接着剤によりヘッド基板に取り付けられているように構成しても良い。このように構成することで、ヘッド基板と受光面との界面を取り除いて、ヘッド基板と受光面での不要な反射を抑制することが可能となる。その結果、受光面に入射する光が増大して、より高精度な発光駆動制御が可能となる。 The detecting means is an optical sensor that detects light on the light receiving surface, and the light receiving surface may be attached to the head substrate by an optical adhesive. With this configuration, it is possible to remove the interface between the head substrate and the light receiving surface and suppress unnecessary reflection on the head substrate and the light receiving surface. As a result, the light incident on the light receiving surface is increased, and more accurate light emission drive control is possible.
また、ヘッド基板の他方面側から発光素子グループに対向するレンズを、発光素子グループ毎に設けたレンズアレイと、ヘッド基板とレンズアレイとの間に設けられた遮光部材とを備え、遮光部材は、発光素子グループからレンズに向う導光孔を発光素子グループ毎に有するように構成しても良い。つまり、このようなレンズアレイを備える構成では、発光素子グループから射出された光ビームが、この発光素子グループに対応して設けられたレンズにより結像されることで、露光動作が実行される。したがって、良好な露光動作を実行するとの観点からは、各レンズに対しては、該レンズに対応する発光素子グループから射出された光ビームのみが入射することが望ましく、これ以外の光ビーム(ゴースト光)の入射は極力抑制されることが望ましい。これに対して、上記構成では、発光素子グループからレンズに向う導光孔を発光素子グループ毎に有する遮光部材が設けられている。したがって、このようなゴースト光は、遮光部材により遮光することが可能である。その結果、ゴースト光のレンズへの入射が抑制されて、良好な露光動作が可能となっている。 In addition, a lens array provided with a lens facing the light emitting element group from the other surface side of the head substrate for each light emitting element group, and a light shielding member provided between the head substrate and the lens array, A light guide hole from the light emitting element group to the lens may be provided for each light emitting element group. That is, in the configuration including such a lens array, the light beam emitted from the light emitting element group is imaged by the lens provided corresponding to the light emitting element group, so that the exposure operation is executed. Therefore, from the viewpoint of performing a good exposure operation, it is desirable that only the light beam emitted from the light emitting element group corresponding to the lens is incident on each lens. The incidence of light) is preferably suppressed as much as possible. On the other hand, in the said structure, the light shielding member which has the light guide hole which goes to a lens from a light emitting element group for every light emitting element group is provided. Therefore, such ghost light can be shielded by the light shielding member. As a result, the ghost light is prevented from entering the lens, and a good exposure operation is possible.
A.用語の説明
本発明の実施形態を説明する前に、本明細書で用いる用語について説明する。
A. Explanation of Terms Before explaining embodiments of the present invention, terms used in this specification will be explained.
図1および図2は、本明細書で用いる用語の説明図である。ここで、これらの図を用いて本明細書において用いる用語について整理する。本明細書では、感光体ドラム21の表面(像面IP)の搬送方向を副走査方向SDと定義し、該副走査方向SDに直交あるいは略直交する方向を主走査方向MDと定義している。また、ラインヘッド29は、その長手方向LGDが主走査方向MDに対応し、その幅方向LTDが副走査方向SDに対応するように、感光体ドラム21の表面(像面IP)に対して配置されている。
1 and 2 are explanatory diagrams of terms used in this specification. Here, the terms used in this specification will be organized using these drawings. In this specification, the transport direction of the surface (image surface IP) of the photosensitive drum 21 is defined as a sub-scanning direction SD, and a direction orthogonal or substantially orthogonal to the sub-scanning direction SD is defined as a main scanning direction MD. . The
レンズアレイ299が有する複数のレンズLSに一対一の対応関係でヘッド基板293に配置された、複数(図1および図2においては8個)の発光素子2951の集合を、発光素子グループ295と定義する。つまり、ヘッド基板293において、複数の発光素子2951からなる発光素子グループ295は、複数のレンズLSのそれぞれに対して配置されている。また、発光素子グループ295からの光ビームを該発光素子グループ295に対応するレンズLSにより像面IPに向けて結像することで、像面IPに形成される複数のスポットSPの集合を、スポットグループSGと定義する。つまり、複数の発光素子グループ295に一対一で対応して、複数のスポットグループSGを形成することができる。また、各スポットグループSGにおいて、主走査方向MDおよび副走査方向SDに最上流のスポットを、特に第1のスポットと定義する。そして、第1のスポットに対応する発光素子2951を、特に第1の発光素子と定義する。
A set of a plurality of (eight in FIG. 1 and FIG. 2)
また、図2の「像面上」の欄に示すように、スポットグループ行SGR、スポットグループ列SGCを定義する。つまり、主走査方向MDに並ぶ複数のスポットグループSGをスポットグループ行SGRと定義する。そして、複数行のスポットグループ行SGRは、所定のスポットグループ行ピッチPsgrで副走査方向SDに並んで配置される。また、副走査方向SDにスポットグループ行ピッチPsgrで且つ主走査方向MDにスポットグループピッチPsgで並ぶ複数(同図においては3個)のスポットグループSGをスポットグループ列SGCと定義する。なお、スポットグループ行ピッチPsgrは、副走査方向SDに互いに隣接する2つのスポットグループ行SGRそれぞれの幾何重心の、副走査方向SDにおける距離である。また、スポットグループピッチPsgは、主走査方向MDに互いに隣接する2つのスポットグループSGそれぞれの幾何重心の、主走査方向MDにおける距離である。 Further, as shown in the column “on image plane” in FIG. 2, a spot group row SGR and a spot group column SGC are defined. That is, a plurality of spot groups SG arranged in the main scanning direction MD are defined as spot group rows SGR. The plurality of spot group rows SGR are arranged side by side in the sub-scanning direction SD at a predetermined spot group row pitch Psgr. A plurality (three in the figure) of spot groups SG arranged at the spot group row pitch Psgr in the sub-scanning direction SD and at the spot group pitch Psg in the main scanning direction MD are defined as a spot group column SGC. The spot group row pitch Psgr is a distance in the sub-scanning direction SD between the geometric centroids of two spot group rows SGR adjacent to each other in the sub-scanning direction SD. The spot group pitch Psg is the distance in the main scanning direction MD of the geometric centroids of two spot groups SG adjacent to each other in the main scanning direction MD.
同図の「レンズアレイ」の欄に示すように、レンズ行LSR、レンズ列LSCを定義する。つまり、長手方向LGDに並ぶ複数のレンズLSをレンズ行LSRと定義する。そして、複数行のレンズ行LSRは、所定のレンズ行ピッチPlsrで幅方向LTDに並んで配置される。また、幅方向LTDにレンズ行ピッチPlsrで且つ長手方向LGDにレンズピッチPlsで並ぶ複数(同図においては3個)のレンズLSをレンズ列LSCと定義する。なお、レンズ行ピッチPlsrは、幅方向LTDに互いに隣接する2つのレンズ行LSRそれぞれの幾何重心の、幅方向LTDにおける距離である。また、レンズピッチPlsは、長手方向LGDに互いに隣接する2つのレンズLSそれぞれの幾何重心の、長手方向LGDにおける距離である。 Lens rows LSR and lens columns LSC are defined as shown in the “lens array” column of FIG. That is, a plurality of lenses LS arranged in the longitudinal direction LGD are defined as a lens row LSR. The plurality of lens rows LSR are arranged side by side in the width direction LTD at a predetermined lens row pitch Plsr. A plurality (three in the figure) of lenses LS arranged at the lens row pitch Plsr in the width direction LTD and at the lens pitch Pls in the longitudinal direction LGD are defined as a lens row LSC. The lens row pitch Plsr is a distance in the width direction LTD of the geometric centroids of two lens rows LSR adjacent to each other in the width direction LTD. The lens pitch Pls is a distance in the longitudinal direction LGD between the geometric centroids of the two lenses LS adjacent to each other in the longitudinal direction LGD.
同図の「ヘッド基板」の欄に示すように、発光素子グループ行295R、発光素子グループ列295Cを定義する。つまり、長手方向LGDに並ぶ複数の発光素子グループ295を発光素子グループ行295Rと定義する。そして、複数行の発光素子グループ行295Rは、所定の発光素子グループ行ピッチPegrで幅方向LTDに並んで配置される。また、幅方向LTDに発光素子グループ行ピッチPegrで且つ長手方向LGDに発光素子グループピッチPegで並ぶ複数(同図においては3個)の発光素子グループ295を発光素子グループ列295Cと定義する。なお、発光素子グループ行ピッチPegrは、幅方向LTDに互いに隣接する2つの発光素子グループ行295Rそれぞれの幾何重心の、幅方向LTDにおける距離である。また、発光素子グループピッチPegは、長手方向LGDに互いに隣接する2つの発光素子グループ295それぞれの幾何重心の、長手方向LGDにおける距離である。
As shown in the column “Head Substrate” in the drawing, a light emitting
同図の「発光素子グループ」の欄に示すように、発光素子行2951R、発光素子列2951Cを定義する。つまり、各発光素子グループ295において、長手方向LGDに並ぶ複数の発光素子2951を発光素子行2951Rと定義する。そして、複数行の発光素子行2951Rは、所定の発光素子行ピッチPelrで幅方向LTDに並んで配置される。また、幅方向LTDに発光素子行ピッチPelrで且つ長手方向LGDに発光素子ピッチPelで並ぶ複数(同図においては2個)の発光素子2951を発光素子列2951Cと定義する。なお、発光素子行ピッチPelrは、幅方向LTDに互いに隣接する2つの発光素子行2951Rそれぞれの幾何重心の、幅方向LTDにおける距離である。また、発光素子ピッチPelは、長手方向LGDに互いに隣接する2つの発光素子2951それぞれの幾何重心の、長手方向LGDにおける距離である。
As shown in the “light emitting element group” column of FIG. 2, a light emitting
同図の「スポットグループ」の欄に示すように、スポット行SPR、スポット列SPCを定義する。つまり、各スポットグループSGにおいて、長手方向LGDに並ぶ複数のスポットSPをスポット行SPRと定義する。そして、複数行のスポット行SPRは、所定のスポット行ピッチPsprで幅方向LTDに並んで配置される。また、幅方向LTDにスポットピッチPsprで且つ長手方向LGDにスポットピッチPspで並ぶ複数(同図においては2個)のスポットをスポット列SPCと定義する。なお、スポット行ピッチPsprは、副走査方向SDに互いに隣接する2つのスポット行SPRそれぞれの幾何重心の、副走査方向SDにおける距離である。また、スポットピッチPspは、主走査方向MDに互いに隣接する2つのスポットSPそれぞれの幾何重心の、長手方向LGDにおける距離である。 As shown in the column “Spot Group” in the figure, a spot row SPR and a spot column SPC are defined. That is, in each spot group SG, a plurality of spots SP arranged in the longitudinal direction LGD are defined as spot rows SPR. The plurality of spot rows SPR are arranged side by side in the width direction LTD at a predetermined spot row pitch Pspr. Further, a plurality of (two in the figure) spots arranged at the spot pitch Pspr in the width direction LTD and at the spot pitch Psp in the longitudinal direction LGD are defined as a spot row SPC. The spot row pitch Pspr is a distance in the sub-scanning direction SD between the geometric centroids of two spot rows SPR adjacent to each other in the sub-scanning direction SD. The spot pitch Psp is a distance in the longitudinal direction LGD between the geometric centroids of two spots SP adjacent to each other in the main scanning direction MD.
B.第1実施形態
図3は本発明にかかる画像形成装置の一例を示す図である。また、図4は図3の画像形成装置の電気的構成を示す図である。この装置は、ブラック(K)、シアン(C)、マゼンダ(M)、イエロー(Y)の4色のトナーを重ね合わせてカラー画像を形成するカラーモードと、ブラック(K)のトナーのみを用いてモノクロ画像を形成するモノクロモードとを選択的に実行可能な画像形成装置である。なお図3は、カラーモード実行時に対応する図面である。この画像形成装置では、ホストコンピューターなどの外部装置から画像形成指令がCPUやメモリなどを有するメインコントローラMCに与えられると、このメインコントローラMCはエンジンコントローラECに制御信号などを与えるとともに画像形成指令に対応するビデオデータVDをヘッドコントローラHCに与える。また、このヘッドコントローラHCは、メインコントローラMCからのビデオデータVDとエンジンコントローラECからの垂直同期信号Vsyncおよびパラメータ値とに基づき各色のラインヘッド29を制御する。これによって、エンジン部EGが所定の画像形成動作を実行し、複写紙、転写紙、用紙およびOHP用透明シートなどのシートに画像形成指令に対応する画像を形成する。
B. First Embodiment FIG. 3 is a diagram showing an example of an image forming apparatus according to the present invention. FIG. 4 is a diagram showing an electrical configuration of the image forming apparatus of FIG. This apparatus uses a color mode in which four color toners of black (K), cyan (C), magenta (M), and yellow (Y) are superimposed to form a color image, and only black (K) toner. Thus, the image forming apparatus can selectively execute a monochrome mode for forming a monochrome image. FIG. 3 is a diagram corresponding to the execution of the color mode. In this image forming apparatus, when an image forming command is given from an external device such as a host computer to a main controller MC having a CPU, a memory, etc., the main controller MC gives a control signal to the engine controller EC and also outputs an image forming command. Corresponding video data VD is supplied to the head controller HC. The head controller HC controls the
画像形成装置が有するハウジング本体3内には、電源回路基板、メインコントローラMC、エンジンコントローラECおよびヘッドコントローラHCを内蔵する電装品ボックス5が設けられている。また、画像形成ユニット7、転写ベルトユニット8および給紙ユニット11もハウジング本体3内に配設されている。また、図3においてハウジング本体3内右側には、2次転写ユニット12、定着ユニット13、シート案内部材15が配設されている。なお、給紙ユニット11は、装置本体1に対して着脱自在に構成されている。そして、該給紙ユニット11および転写ベルトユニット8については、それぞれ取り外して修理または交換を行うことが可能な構成になっている。
An electrical component box 5 containing a power circuit board, a main controller MC, an engine controller EC, and a head controller HC is provided in the housing
画像形成ユニット7は、複数の異なる色の画像を形成する4個の画像形成ステーションY(イエロー用)、M(マゼンダ用)、C(シアン用)、K(ブラック用)を備えている。また、各画像形成ステーションY,M,C,Kは、主走査方向MDに所定長さの表面を有する円筒形の感光体ドラム21を設けている。そして、各画像形成ステーションY,M,C,Kそれぞれは、対応する色のトナー像を、感光体ドラム21の表面に形成する。感光体ドラムは、軸方向が主走査方向MDに略平行となるように配置されている。また、各感光体ドラム21はそれぞれ専用の駆動モータに接続され図中矢印D21の方向に所定速度で回転駆動される。これにより感光体ドラム21の表面が、主走査方向MDに直交もしくは略直交する副走査方向SDに搬送されることとなる。また、感光体ドラム21の周囲には、回転方向に沿って帯電部23、ラインヘッド29、現像部25および感光体クリーナ27が配設されている。そして、これらの機能部によって帯電動作、潜像形成動作及びトナー現像動作が実行される。したがって、カラーモード実行時は、全ての画像形成ステーションY,M,C,Kで形成されたトナー像を転写ベルトユニット8が有する転写ベルト81に重ね合わせてカラー画像を形成するとともに、モノクロモード実行時は、画像形成ステーションKで形成されたトナー像のみを用いてモノクロ画像を形成する。なお、図3において、画像形成ユニット7の各画像形成ステーションは構成が互いに同一のため、図示の便宜上一部の画像形成ステーションのみに符号をつけて、他の画像形成ステーションについては符号を省略する。
The image forming unit 7 includes four image forming stations Y (for yellow), M (for magenta), C (for cyan), and K (for black) that form a plurality of images of different colors. Each of the image forming stations Y, M, C, and K is provided with a cylindrical photosensitive drum 21 having a surface with a predetermined length in the main scanning direction MD. Each of the image forming stations Y, M, C, and K forms a corresponding color toner image on the surface of the photosensitive drum 21. The photosensitive drum is arranged so that the axial direction is substantially parallel to the main scanning direction MD. Each photosensitive drum 21 is connected to a dedicated drive motor and is driven to rotate at a predetermined speed in the direction of arrow D21 in the figure. As a result, the surface of the photosensitive drum 21 is conveyed in the sub-scanning direction SD that is orthogonal or substantially orthogonal to the main scanning direction MD. A charging
帯電部23は、その表面が弾性ゴムで構成された帯電ローラを備えている。この帯電ローラは帯電位置で感光体ドラム21の表面と当接して従動回転するように構成されており、感光体ドラム21の回転動作に伴って感光体ドラム21に対して従動方向に周速で従動回転する。また、この帯電ローラは帯電バイアス発生部(図示省略)に接続されており、帯電バイアス発生部からの帯電バイアスの給電を受けて帯電部23と感光体ドラム21が当接する帯電位置で感光体ドラム21の表面を帯電させる。
The charging
ラインヘッド29は、その長手方向が主走査方向MDに対応するとともに、その幅方向が副走査方向SDに対応するように、感光体ドラム21に対して配置されており、ラインヘッド29の長手方向は主走査方向MDと略平行となっている。ラインヘッド29は、長手方向に並べて配置された複数の発光素子を備えるとともに、感光体ドラム21から離間配置されている。そして、これらの発光素子から、帯電部23により帯電された感光体ドラム21の表面に対して光が照射されて、該表面に静電潜像が形成される。
The
現像部25は、その表面にトナーが担持する現像ローラ251を有する。そして、現像ローラ251と電気的に接続された現像バイアス発生部(図示省略)から現像ローラ251に印加される現像バイアスによって、現像ローラ251と感光体ドラム21とが当接する現像位置において、帯電トナーが現像ローラ251から感光体ドラム21に移動してラインヘッド29により形成された静電潜像が顕在化される。
The developing
このように上記現像位置において顕在化されたトナー像は、感光体ドラム21の回転方向D21に搬送された後、後に詳述する転写ベルト81と各感光体ドラム21が当接する1次転写位置TR1において転写ベルト81に1次転写される。
The toner image that has been made visible at the developing position in this way is conveyed in the rotational direction D21 of the photosensitive drum 21, and then a primary transfer position TR1 at which each of the photosensitive drums 21 comes into contact with the
また、この実施形態では、感光体ドラム21の回転方向D21の1次転写位置TR1の下流側で且つ帯電部23の上流側に、感光体ドラム21の表面に当接して感光体クリーナ27が設けられている。この感光体クリーナ27は、感光体ドラムの表面に当接することで1次転写後に感光体ドラム21の表面に残留するトナーをクリーニング除去する。
In this embodiment, the
転写ベルトユニット8は、駆動ローラ82と、図3において駆動ローラ82の左側に配設される従動ローラ83(ブレード対向ローラ)と、これらのローラに張架され図示矢印D81の方向(搬送方向)へ循環駆動される転写ベルト81とを備えている。また、転写ベルトユニット8は、転写ベルト81の内側に、感光体カートリッジ装着時において各画像形成ステーションY,M,C,Kが有する感光体ドラム21各々に対して一対一で対向配置される、4個の1次転写ローラ85Y,85M,85C,85Kを備えている。これらの1次転写ローラ85は、それぞれ1次転写バイアス発生部(図示省略)と電気的に接続される。そして、後に詳述するように、カラーモード実行時は、図3に示すように全ての1次転写ローラ85Y,85M,85C,85Kを画像形成ステーションY,M,C,K側に位置決めすることで、転写ベルト81を画像形成ステーションY,M,C,Kそれぞれが有する感光体ドラム21に押し遣り当接させて、各感光体ドラム21と転写ベルト81との間に1次転写位置TR1を形成する。そして、適当なタイミングで上記1次転写バイアス発生部から1次転写ローラ85に1次転写バイアスを印加することで、各感光体ドラム21の表面上に形成されたトナー像を、それぞれに対応する1次転写位置TR1において転写ベルト81表面に転写してカラー画像を形成する。
The
一方、モノクロモード実行時は、4個の1次転写ローラ85のうち、カラー1次転写ローラ85Y,85M,85Cをそれぞれが対向する画像形成ステーションY,M,Cから離間させるとともにモノクロ1次転写ローラ85Kのみを画像形成ステーションKに当接させることで、モノクロ画像形成ステーションKのみを転写ベルト81に当接させる。その結果、モノクロ1次転写ローラ85Kと画像形成ステーションKとの間にのみ1次転写位置TR1が形成される。そして、適当なタイミングで前記1次転写バイアス発生部からモノクロ1次転写ローラ85Kに1次転写バイアスを印加することで、各感光体ドラム21の表面上に形成されたトナー像を、1次転写位置TR1において転写ベルト81表面に転写してモノクロ画像を形成する。
On the other hand, when the monochrome mode is executed, among the four primary transfer rollers 85, the color
さらに、転写ベルトユニット8は、モノクロ1次転写ローラ85Kの下流側で且つ駆動ローラ82の上流側に配設された下流ガイドローラ86を備える。また、この下流ガイドローラ86は、モノクロ1次転写ローラ85Kが画像形成ステーションKの感光体ドラム21に当接して形成する1次転写位置TR1での1次転写ローラ85Kと感光体ドラム21との共通内接線上において、転写ベルト81に当接するように構成されている。
Further, the
駆動ローラ82は、転写ベルト81を図示矢印D81の方向に循環駆動するとともに、2次転写ローラ121のバックアップローラを兼ねている。駆動ローラ82の周面には、厚さ3mm程度、体積抵抗率が1000kΩ・cm以下のゴム層が形成されており、金属製の軸を介して接地することにより、図示を省略する2次転写バイアス発生部から2次転写ローラ121を介して供給される2次転写バイアスの導電経路としている。このように駆動ローラ82に高摩擦かつ衝撃吸収性を有するゴム層を設けることにより、駆動ローラ82と2次転写ローラ121との当接部分(2次転写位置TR2)へのシートが進入する際の衝撃が転写ベルト81に伝達しにくく、画質の劣化を防止することができる。
The driving
給紙ユニット11は、シートを積層保持可能である給紙カセット77と、給紙カセット77からシートを一枚ずつ給紙するピックアップローラ79とを有する給紙部を備えている。ピックアップローラ79により給紙部から給紙されたシートは、レジストローラ対80において給紙タイミングが調整された後、シート案内部材15に沿って2次転写位置TR2に給紙される。
The
2次転写ローラ121は、転写ベルト81に対して離当接自在に設けられ、2次転写ローラ駆動機構(図示省略)により離当接駆動される。定着ユニット13は、ハロゲンヒータ等の発熱体を内蔵して回転自在な加熱ローラ131と、この加熱ローラ131を押圧付勢する加圧部132とを有している。そして、その表面に画像が2次転写されたシートは、シート案内部材15により、加熱ローラ131と加圧部132の加圧ベルト1323とで形成するニップ部に案内され、該ニップ部において所定の温度で画像が熱定着される。加圧部132は、2つのローラ1321,1322と、これらに張架される加圧ベルト1323とで構成されている。そして、加圧ベルト1323の表面のうち、2つのローラ1321,1322により張られたベルト張面を加熱ローラ131の周面に押し付けることで、加熱ローラ131と加圧ベルト1323とで形成するニップ部が広くとれるように構成されている。また、こうして定着処理を受けたシートはハウジング本体3の上面部に設けられた排紙トレイ4に搬送される。
The
また、この装置では、ブレード対向ローラ83に対向してクリーナ部71が配設されている。クリーナ部71は、クリーナブレード711と廃トナーボックス713とを有する。クリーナブレード711は、その先端部を転写ベルト81を介してブレード対向ローラ83に当接することで、2次転写後に転写ベルトに残留するトナーや紙粉等の異物を除去する。そして、このように除去された異物は、廃トナーボックス713に回収される。また、クリーナブレード711及び廃トナーボックス713は、ブレード対向ローラ83と一体的に構成されている。したがって、次に説明するようにブレード対向ローラ83が移動する場合は、ブレード対向ローラ83と一緒にクリーナブレード711及び廃トナーボックス713も移動することとなる。
Further, in this apparatus, a cleaner portion 71 is disposed to face the
図5は、本発明にかかるラインヘッドの概略を示す斜視図である。また、図6は、図5に示したラインヘッドの幅方向断面図である。上述の通り、その長手方向LGDが主走査方向MDに対応するとともに、その幅方向LTDが副走査方向SDに対応するように、ラインヘッド29は感光体ドラム21に対して配置されている。なお、長手方向LGDと幅方向LTDは、互いに略直交する。ラインヘッド29は、ケース291を備えるとともに、かかるケース291の長手方向LGDの両端には、位置決めピン2911とねじ挿入孔2912が設けられている。そして、かかる位置決めピン2911を、感光体ドラム21を覆うとともに感光体ドラム21に対して位置決めされた感光体カバー(図示省略)に穿設された位置決め孔(図示省略)に嵌め込むことで、ラインヘッド29が感光体ドラム21に対して位置決めされる。そして更に、ねじ挿入孔2912を介して固定ねじを感光体カバーのねじ孔(図示省略)にねじ込んで固定することで、ラインヘッド29が感光体ドラム21に対して位置決め固定される。
FIG. 5 is a perspective view showing an outline of the line head according to the present invention. FIG. 6 is a cross-sectional view in the width direction of the line head shown in FIG. As described above, the
ケース291は、感光体ドラム21の表面に対向する位置にレンズアレイ299を保持するとともに、その内部に、該レンズアレイ299に近い順番で、遮光部材297及びヘッド基板293を備えている。ヘッド基板293は、光ビームを透過可能な材料(例えばガラス)により形成されている。また、ヘッド基板293の裏面(ヘッド基板293が有する2つの面のうちレンズアレイ299と逆側の面)には、複数の発光素子をグループ化した発光素子グループ295が複数並んで配置されており、各発光素子グループ295を構成する発光素子は、いわゆるボトムエミッション型の有機EL(Electro-Luminescence)素子である。また、詳細は後述するが、ヘッド基板293の裏面には、発光素子グループ295の発光素子の駆動を制御するTFT回路TCが設けられている。そして、各発光素子グループ295から射出された光ビームは、ヘッド基板293の裏面から表面へと透過して、遮光部材297へ向う。
The
遮光部材297には、複数の発光素子グループ295に対して一対一で複数の導光孔2971が穿設されている。また、後述するように、レンズアレイ299では、発光素子グループ295毎にレンズLSが対応して設けられており、各導光孔2971は、発光素子グループ295からレンズLSに向けて穿設して形成されている。このように、ヘッド基板293とレンズアレイ299との間に遮光部材297が設けられているため、発光素子グループ295から射出された光ビームのうち、該発光素子グループ295に対応する導光孔2971以外に向う光ビームは、遮光部材297により遮光される。こうして、1つの発光素子グループ295から出た光は全て同一の導光孔2971を介してレンズアレイ299へ向うとともに、異なる発光素子グループ295から出た光ビーム同士の干渉が遮光部材297により防止される。そして、遮光部材297に穿設された導光孔2971を通過した光ビームは、レンズアレイ299により、感光体ドラム21の表面にスポットとして結像されることとなる。
A plurality of
図6に示すように、固定器具2914によって、裏蓋2913がヘッド基板293を介してケース291に押圧されている。つまり、固定器具2914は、裏蓋2913をケース291側に押圧する弾性力を有するとともに、かかる弾性力により裏蓋を押圧することで、ケース291の内部を光密に(つまり、ケース291内部から光が漏れないように、及び、ケース291の外部から光が侵入しないように)密閉している。なお、固定器具2914は、ケース291の長手方向に複数箇所設けられている。また、発光素子グループ295は、封止部材294により覆われている。
As shown in FIG. 6, the
図7はレンズアレイの概略を示す平面図であり、像面側(つまり、感光体ドラム21表面側)からレンズアレイを見た場合に相当する。同図に示すように、このレンズアレイ299では、長手方向LGDに沿って複数のレンズLSが並んでレンズ行LSRが構成されるとともに、このレンズ行LSRが幅方向LTDに3行並んでいる。これら3行のレンズ行LSRは、各レンズLSの位置が長手方向LGDにおいて互いに異なるように、長手方向LGDに互いにずれている。その結果、各レンズLSの長手方向LGDにおける位置は互いに異なっている。
FIG. 7 is a plan view schematically showing the lens array, and corresponds to the case where the lens array is viewed from the image plane side (that is, the surface side of the photosensitive drum 21). As shown in the figure, in this
図8はレンズアレイの長手方向の断面図であり、各レンズの光軸OAを含む断面でレンズアレイを見た場合に相当する。同図において、上側が像面側であり、下側が発光素子グループ側である。レンズアレイ299では、ガラスにより形成されたレンズ基板LBが1枚設けられており、このレンズ基板LBを挟むようにして光軸OA方向に並ぶ2枚のレンズ面LSF1、LSF2によりレンズLSが構成されている。これらのレンズ面LSF1、LSF2は例えば光硬化性樹脂により形成できる。2枚のレンズ面のうちレンズ面LSF1はレンズ基板LBの裏面LBF1に形成されており、レンズ面LSF2はレンズ基板LBの表面LBF2に形成されている。そして、このレンズLSが長手方向LGDに並んで、上述のレンズ行LSRが構成されている。
FIG. 8 is a cross-sectional view of the lens array in the longitudinal direction, and corresponds to a case where the lens array is viewed in a cross section including the optical axis OA of each lens. In the figure, the upper side is the image plane side, and the lower side is the light emitting element group side. In the
図9はヘッド基板の裏面の構成を示す図であり、ヘッド基板の表面から裏面を見た場合に相当する。なお、図9において、レンズLSが二点鎖線で示されているが、これはレンズLSに対して発光素子グループ295が一対一で設けられていることを示すためのものであり、レンズLSがヘッド基板裏面に配置されていることを示すものではない。図9に示すように、ヘッド基板293裏面には、複数の発光素子2951をグループ化した発光素子グループ295が設けられている。より詳しく説明すると、長手方向LGDに沿って複数の発光素子グループ295を並べた発光素子グループ行295Rが、幅方向LTDに3行(295R_A,295R_B,295R_C)並んでいる。各発光素子グループ行295R_A〜295R_Cでは、複数の発光素子グループ295が並んでいる。また、各発光素子グループ行295Rは長手方向LGDに相互にずれており、各発光素子グループ295の位置は長手方向LGDにおいて互いに異なる。具体的に説明すると、発光素子グループ295A1,295B1,295C1の長手方向LGDにおける位置LCA,LCB,LCCは、互いに異なっている。なお、同図において、位置LCA,LCB,LCCは、各発光素子グループ295A1,295B1,295C1の重心位置から長手方向LGD軸に下ろした垂線の足で代表して示されている。
FIG. 9 is a diagram showing the configuration of the back surface of the head substrate, which corresponds to the case where the back surface is viewed from the front surface of the head substrate. In FIG. 9, the lens LS is indicated by a two-dot chain line. This is for indicating that the light emitting
各発光素子グループ295では、4個の発光素子2951を長手方向LGDに並べた発光素子行2951Rが、幅方向LTDに並んで配置されている。また、これらの発光素子行2951Rは長手方向LGDに発光素子ピッチPelだけずらして配置されており、各発光素子2951の位置は長手方向LGDにおいて互いに異なる。このように、発光素子グループ295において、2列の発光素子行2951Rが千鳥状に配置されている。
In each light emitting
図10は、第1実施形態における、発光素子グループとTFT回路との配置関係を示す図であり、ヘッド基板293の裏面を表している。なお、同図においても、レンズLSが二点鎖線で示されているが、これはレンズLSに対して発光素子グループ295が一対一で設けられていることを示すためのものであり、レンズLSがヘッド基板裏面に配置されていることを示すものではない。同図が示すように、ヘッド基板293の裏面には、発光素子グループ295以外に、TFT回路および配線WLが形成されている。つまり、幅方向LTDにおいて各発光素子グループ295の両側には、TFT回路TCが形成されている。換言すれば、発光素子グループ295を幅方向LTDから挟むようにして、2つのTFT回路TCが配置されており、これら2つのTFT回路は発光素子グループ295に隣接して設けられている。
FIG. 10 is a diagram showing the positional relationship between the light emitting element group and the TFT circuit in the first embodiment, and shows the back surface of the
そして、発光素子グループ295と、該発光素子グループ295に対して設けられたTFT回路TCは配線WLにより接続されている。発光素子グループ295A1で代表して、詳述すると、発光素子グループ295A1を構成する発光素子行2951Rのうち、幅方向LTDの一方側の発光素子行2951R_aに接続される配線WL_aは、該発光素子行2951R_aの一方側に引き出される。このように引き出された配線WL_aは、発光素子グループ295A1の一方側に設けられたTFT回路TC_aに接続される。また、発光素子グループ295A1を構成する発光素子行2951Rのうち、幅方向LTDの他方側の発光素子行2951R_bに接続される配線WL_bは、該発光素子行2951R_bの一方側に引き出される。このように引き出された配線WL_bは、発光素子グループ295A1の一方側に設けられたTFT回路TC_bに接続される。
The light emitting
TFT回路TCは、発光素子2951の発光駆動を制御可能に構成されている。つまり、各TFT回路TCは、対応する発光素子グループ295の各発光素子2951に対して、ビデオデータVDに応じた駆動信号を与える。駆動信号が与えられた各発光素子2951は互いに等しい波長の光ビームを射出する。この発光素子2951の発光面はいわゆる完全拡散面光源であり、発光面から射出される光ビームはランバートの余弦則に従う。そして、かかる光ビームがレンズLSによりスポットとして形成されて、感光体ドラム21の表面に潜像が形成される。
The TFT circuit TC is configured to be able to control light emission driving of the
図11は、上述のラインヘッドによるスポット形成動作を示す図である。以下に、図9〜図11を用いて本実施形態におけるラインヘッドによるスポット形成動作を説明する。また、発明の理解を容易にするため、ここでは主走査方向MDに伸びる直線状に複数のスポットを並べてライン潜像を形成する場合について説明する。概略としては、かかる潜像形成動作では、感光体ドラム21の表面を副走査方向SD(幅方向LTD)に搬送しながら、ヘッドコントローラHCより出力されるビデオデータVDに従って、複数の発光素子を所定のタイミングで発光させることで、主走査方向MD(長手方向LGD)に伸びる直線状に複数のスポットが並べて形成される。以下に、詳細について説明する。 FIG. 11 is a diagram showing a spot forming operation by the above-described line head. The spot forming operation by the line head in this embodiment will be described below with reference to FIGS. In order to facilitate understanding of the invention, a case where a line latent image is formed by arranging a plurality of spots in a straight line extending in the main scanning direction MD will be described here. In general, in such a latent image forming operation, a plurality of light emitting elements are set in a predetermined manner according to video data VD output from the head controller HC while conveying the surface of the photosensitive drum 21 in the sub-scanning direction SD (width direction LTD). By emitting light at this timing, a plurality of spots are formed side by side in a straight line extending in the main scanning direction MD (longitudinal direction LGD). Details will be described below.
まず、幅方向LTDに最上流の発光素子グループ295A1,295A2,…に属する発光素子行2951Rのうち、幅方向LTDの下流側の発光素子行2951Rを発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光ビームは、レンズLSにより、感光体ドラム表面に結像される。なお、本実施形態では、レンズLSは倒立特性を有し、発光素子2951からの光ビームは倒立して結像される。こうして、図11の「1回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。なお、同図において、白抜きの丸印は、未だ形成されておらず今後形成される予定のスポットを表す。また、同図において、符号295C1,295B1,295A1,295C2でラベルされたスポットは、それぞれに付された符号に対応する発光素子グループ295により形成されるスポットであることを示す。
First, among the light emitting
次に、同発光素子グループ295A1,295A2,…に属する発光素子行2951Rのうち、幅方向LTDの上流側の発光素子行2951Rを発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光ビームは、レンズLSにより感光体ドラム表面に結像される。こうして、図11の「2回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。ここで、幅方向LTDの下流側の発光素子行2951Rから順番に発光させたのは、レンズLSが倒立特性を有することに対応するためである。
Next, among the light emitting
次に、幅方向上流側から2番目の発光素子グループ295B1,…に属する発光素子行2951Rのうち幅方向LTDの下流側の発光素子行2951Rを発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光ビームは、レンズLSにより感光体ドラム表面に結像される。こうして、図11の「3回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。
Next, among the light emitting
次に、幅方向上流側から2番目の発光素子グループ295B1,…に属する発光素子行2951Rのうち幅方向LTDの上流側の発光素子行2951Rを発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光ビームは、レンズLSにより感光体ドラム表面に結像される。こうして、図11の「4回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。
Next, among the light emitting
次に、幅方向上流側から3番目の発光素子グループ295C1,…に属する発光素子行2951Rのうち幅方向LTDの下流側の発光素子行2951Rを発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光ビームは、レンズLSにより感光体ドラム表面に結像される。こうして、図11の「5回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。
Next, among the light emitting
そして最後に、幅方向上流側から3番目の発光素子グループ295C1,…に属する発光素子行2951Rのうち幅方向LTDの上流側の発光素子行2951Rを発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光ビームは、レンズLSにより感光体ドラム表面に結像される。こうして、図11の「6回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。このように、1〜6回目までの発光動作を実行することで、長手方向LGD(主走査方向MD)に伸びる直線状に複数のスポットが並べて形成される。
Finally, among the light emitting
ところで、上述のようなラインヘッド29では、複数の発光素子2951の間で光量がばらつくとの問題が発生する場合がある。かかる光量ばらつきの原因としては、例えば、複数の発光素子2951の間における発光頻度のばらつきが挙げられる。つまり、複数の発光素子2951の間で発光頻度にばらつきがあると、一部の発光素子2951が比較的早く寿命に達して、他の発光素子2951に比べてその光量が低下してしまう場合がある。特に、有機EL素子はLED素子等と比べて寿命が短いため、上記実施形態のように発光素子2951として有機ELを用いたような場合、かかる問題が顕著となる。これに対して、本実施形態のラインヘッド29は、発光素子2951から射出される光ビームの光量を検出する光センサを備える。
Incidentally, in the
図12及び図13は、第1実施形態での光センサの配置を示す図である。なお、図12は長手方向LGDからラインヘッド29を見た図であり、図13はヘッド基板293の斜視図である。図13が示すように、ヘッド基板293は、主走査方向MDに対応する長手方向LGDを長軸方向と、副走査方向SDに対応する幅方向LTDを短軸方向としている。上述の通り、ヘッド基板293の裏面293Bには、複数の発光素子グループ295と、各発光素子グループ295の発光駆動を制御するTFT回路TCとが設けられている。なお、図13において、TFT回路TCの記載は省略されている。
12 and 13 are diagrams showing the arrangement of the photosensors in the first embodiment. 12 is a view of the
また、同図に示すように、ヘッド基板293の表面293Aには、長手方向LGDに等ピッチで並んで、複数の光センサSCが設けられている。各光センサSCは、幅方向LTDにおいて遮光部材297の下流側に設けられている。この光センサSCの受光面SCFは、ヘッド基板293の表面293Aに対向するとともに、透明な光学接着剤によりヘッド基板表面293Aに接着されている。そして、このように設けられた光センサSCにより、各発光素子2951から射出された光ビームが検出可能である。つまり、発光素子2951から射出された光ビームの全てがヘッド基板293の表面293Aから射出するわけでなく、該光ビームの一部は表面293Aで裏面293B側に向けて反射される。更に、かかる反射光ビームの一部は、再び裏面293Bで表面293Aに向けて反射される。特に、第1実施形態では、ヘッド基板裏面293BにTFT回路TCが設けられているため、このTFT回路TCが反射膜として機能する。したがって、ヘッド基板裏面293Bでは、高い反射率でもって光ビームを反射することが可能となっている。
Further, as shown in the figure, a plurality of photosensors SC are provided on the
このように、発光素子2951から射出された光ビームの一部は、ヘッド基板293の表面293Aと裏面293Bとの間で反射を繰り返しながら、ヘッド基板293の内部を進行して光センサSCに入射する(図12の破線で示す光ビームLB)。こうして受光面SCFに入射した光ビームが光センサSCにより検出され、この検出値は光センサSCからエンジンコントローラECへと出力される。
In this way, a part of the light beam emitted from the
そして、第1実施形態では、光センサSCの検出結果に基づいて、各発光素子2951の光量が均一となるように、各発光素子2951の駆動が制御される。そこで、この駆動制御動作の具体的内容について以下に説明するが、駆動制御動作は、予め求められた補正係数に基づいて実行される。なお、この補正係数は、例えばラインヘッド29の組立時や出荷時等のタイミングで予め求められる。したがって、以下の説明では、まず、補正係数の求め方について説明した後に、駆動制御動作について説明する。
In the first embodiment, based on the detection result of the optical sensor SC, the driving of each light emitting
補正係数を求めるために、例えばラインヘッド29の組立時や出荷時等のタイミングで、発光素子2951から光ビームが射出されて、感光体ドラム21の表面に相当する位置に形成されるスポットの光量が測定される。この光量測定は、各発光素子2951について実行される。具体的には、ラインヘッド29が検査ジグに取り付けられる。検査ジグには、ラインヘッド29の各発光素子2951から射出された光ビームの光量を、感光体ドラム21の表面に対応する像面位置で検出する光量検出器が装備されている。この光量検出器は、1個の検出器を移動させつつ各発光素子2951からの光ビームの光量を検出するものでも良いし、発光素子2951毎に検出器を配置したものでも良い。そして、各発光素子2951が順次発光されながら、検査ジグの光量検出器の検出値Pgnと、ラインヘッド29の光センサSCの検出値Phn(nはn番目の発光素子を表す)とが得られる。こうして、各発光素子2951について補正係数Pgn/Phnが算出することができる。このようにして求めた補正係数Pgn/Phnは、例えば図4に示すエンジンコントローラECに記憶される。そして、次に説明するように、補正係数Pgn/Phnに基づいて駆動制御動作が実行される。
In order to obtain the correction coefficient, for example, when the
駆動制御動作では、まず発光素子2951の光量ばらつきが検出される。かかる光量ばらつき検出は、画像形成装置の電源投入時、画像形成動作開始前、或いは紙間等の、通常の画像形成動作が実行されていない間に行なわれる。具体的には、各発光素子2951が順番に発光されながら、光センサSCの検出値が測定される。そして、このときの測定値に補正係数Pgn/Phnを乗じることによって、各発光素子2951により感光体ドラム21の表面で形成されるスポットの光量が算出される。
In the drive control operation, first, the light amount variation of the
そして、算出された光量がばらついており、所望の光量が実現されていない場合は、所望の光量が得られるように発光素子2951の駆動を制御する。つまり、所望の光量と算出された光量とを比較して、算出された光量が所望の光量となるように、発光素子2951に流す駆動電流を調整する。そして、TFT回路TCがこのようにして調整された駆動電流を各発光素子2951に供給する。このようにTFT回路TCが発光素子2951を駆動することで、各発光素子2951から射出される光ビームの光量が均一となる。なお、所望の光量に関する情報や、駆動制御動作を実行させるプログラム等は、例えばエンジンコントローラECに予め記憶しておいても良い。
Then, when the calculated light amount varies and the desired light amount is not realized, the driving of the
図10を用いて説明したとおり、第1実施形態では、幅方向LTDにおける発光素子グループ295の両側にTFT回路TCが配されている。したがって、発光素子グループ295の各発光素子2951に接続される配線WLを、幅方向LTDの両側に引き出すことが可能となっており、配線WLの自由度の向上が実現されている。
As described with reference to FIG. 10, in the first embodiment, the TFT circuits TC are arranged on both sides of the light emitting
また、第1実施形態では、TFT回路は発光素子グループ295に隣接して設けられている(図10)。したがって、TFT回路から発光素子グループ295に繋がる配線WLの長さを短くすることが可能となり、浮遊容量等に起因した鈍りの少ない駆動信号を、発光素子2951に供給することが可能となっている。
In the first embodiment, the TFT circuit is provided adjacent to the light emitting element group 295 (FIG. 10). Therefore, the length of the wiring WL that connects the TFT circuit to the light emitting
また、第1実施形態では、ヘッド基板293の一方面にTFT回路TCが配置されている。したがってこのTFT回路TCが光を反射する反射膜として機能するため、光センサSCに入射する光量の増大が可能となる。よって、第1実施形態では、発光駆動制御を高精度に実行することが可能となっている。
In the first embodiment, the TFT circuit TC is disposed on one surface of the
また、第1実施形態では、発光素子グループ295からレンズに向う導光孔2971を発光素子グループ295毎に有する遮光部材297が設けられており(図5、図6)、良好な露光動作が実現されている。つまり、第1実施形態では、発光素子グループ295から射出された光ビームが、この発光素子グループ295に対応して設けられたレンズLSにより結像されることで、露光動作が実行される。したがって、良好な露光動作を実行するとの観点からは、各レンズLSに対しては、該レンズLSに対応する発光素子グループ295から射出された光ビームのみが入射することが望ましく、これ以外の光ビーム(ゴースト光)の入射は極力抑制されることが望ましい。これに対して、第1実施形態では、このようなゴースト光は、遮光部材297により遮光することが可能である。その結果、ゴースト光のレンズLSへの入射が抑制されて、良好な露光動作が実行可能となっている。
In the first embodiment, a
また、第1実施形態では、光センサSCの受光面SCFは、ヘッド基板表面293Aに対向するとともに、ヘッド基板表面293Aに対して、透明な光学接着剤により接着されている。したがって、ヘッド基板表面293Aから受光面SCFに向って出た光ビームは、光学接着剤を介して受光面SCFに入射できる。このように光学接着剤により接着することでヘッド基板表面293Aと光センサSCとの界面を取り除き、ヘッド基板表面293Aと光センサSCとの間での不要な光ビームの反射が抑制される。その結果、受光面SCFに入射する光が増大して、より高精度な発光駆動制御が可能となっている。
In the first embodiment, the light receiving surface SCF of the optical sensor SC faces the
また、第1実施形態では、複数の光センサSCが、ヘッド基板293に配置されている。したがって、高精度に発光素子の光量を検知することが可能となっている。
In the first embodiment, a plurality of optical sensors SC are arranged on the
C.第2実施形態
図14は、第2実施形態におけるラインヘッドの構成を示す図である。また、図15は、図14における右側からラインヘッドを見た場合に相当する部分側面図である。なお、以下では、第1実施形態との差異点について主に説明することとし、第1実施形態と同一部分については相当符号を付して説明を省略する。同図が示すように、第2実施形態においても、ヘッド基板293の裏面には、発光素子グループ295が形成されるとともに、幅方向における各発光素子グループ295の両側には、TFT回路TCが配置されている。したがって、第1実施形態と同様に、発光素子グループ295の各発光素子2951に接続される配線を、幅方向LTDの両側に引き出すことが可能となっており、配線WLの自由度の向上が実現されている。
C. Second Embodiment FIG. 14 is a diagram illustrating a configuration of a line head in a second embodiment. FIG. 15 is a partial side view corresponding to the line head viewed from the right side in FIG. In the following description, differences from the first embodiment will be mainly described, and the same parts as those in the first embodiment will be denoted by the same reference numerals and description thereof will be omitted. As shown in the figure, also in the second embodiment, the light emitting
第2実施形態で注目すべきは、光センサSCの配置である。図14、図15に示すように、第2実施形態では、遮光部材297の幅方向LTDの一端側に、貫通孔2979が形成されている。この貫通孔2979は、遮光部材297の外側から導光孔2971に向けて貫通形成されており、光センサSCはこの貫通孔2979の内部に配置されている。しかも、光センサSCは、一部が導光孔2971の内部に位置するように配置されている(図14)。したがって、光センサSCは導光孔2971を通過する光ビームを直接検知することができる。その結果、第2実施形態では、光ビームの検出精度が向上しており、より高精度の光量検出が可能となっている。
What should be noted in the second embodiment is the arrangement of the optical sensors SC. As shown in FIGS. 14 and 15, in the second embodiment, a through
D. 第3実施形態
図16は第3実施形態でのヘッド基板裏面の構成を示す部分平面図であり、図17は図16の発光素子グループ近傍の構成を拡大した構成を示す部分平面図である。これらの図では、レンズLSが一点鎖線で示されているが、これは発光素子グループ295とレンズLSとが一対一の対応関係で設けられていることを示すものであり、ヘッド基板裏面にレンズLSが配されていることを示すものではない。
D. Third Embodiment FIG. 16 is a partial plan view showing the configuration of the back surface of the head substrate in the third embodiment, and FIG. 17 is a partial plan view showing an enlarged configuration in the vicinity of the light emitting element group in FIG. In these drawings, the lens LS is indicated by a one-dot chain line, which indicates that the light emitting
図17に示すように、16個の発光素子Ea1〜Ea4、Eb1〜Eb4、Ec5〜Ec8、Ed5〜Ed8から1個の発光素子グループ295が構成されている。そして、これら16個の発光素子は次のように配置されている。つまり、4個の発光素子(例えば、発光素子Ea1〜Ea4)が長手方向LGDに直線状に並んで1行の発光素子行(例えば、発光素子行2951R_a)が構成されている。そして、4行の発光素子行2951R_a〜2951R_dがこの順番で幅方向LTDに並んでいる。しかも、発光素子行2951R_a〜2951R_dは長手方向LGDに互いにシフトしており、各発光素子の位置は長手方向LGDにおいて互いに異なっている。
As shown in FIG. 17, one light emitting
また、第3実施形態では、1個の発光素子に対して1個のTFT回路(例えば、発光素子Ea1に対してTFT回路TCa1)が設けられている。図示は省略するが、このTFT回路には電源ラインが接続されている。また、同じ発光素子行(例えば、発光素子行2951R_a)に対して設けられたTFT回路(例えば、TFT回路TCa1〜TCa2)は、長手方向LGDに直線状に並んでいる。発光素子行2951R_a、2951R_bの各発光素子に対して設けられたTFT回路TCa1〜TCa4、TCb1〜TCb4は、発光素子グループ295対して幅方向LTDの一方側に設けられている。発光素子行2951R_c、2951R_dの各発光素子に対して設けられたTFT回路TCc5〜TCa8、TCd5〜TCd8は、発光素子グループ295対して幅方向LTDの他方側に設けられている。このように、TFT回路TCa1〜TCa4、TCb1〜TCb4と、TFT回路TCc5〜TCa8、TCd5〜TCd8との間に、発光素子グループ295が配置されている。
In the third embodiment, one TFT circuit (for example, a TFT circuit TCa1 for the light emitting element Ea1) is provided for one light emitting element. Although not shown, a power supply line is connected to the TFT circuit. In addition, TFT circuits (for example, TFT circuits TCa1 to TCa2) provided for the same light emitting element row (for example, light emitting element row 2951R_a) are arranged linearly in the longitudinal direction LGD. The TFT circuits TCa1 to TCa4 and TCb1 to TCb4 provided for the light emitting elements in the light emitting element rows 2951R_a and 2951R_b are provided on one side in the width direction LTD with respect to the light emitting
そして、互いに対応する発光素子とTFT回路(例えば、発光素子Ea1とTFT回路TCa1)が配線WLにより接続されている。つまり、発光素子行2951R_a、2951R_bの各発光素子から幅方向LTDの一方側に引き出された配線WLが、TFT回路TCa1〜TCa4、TCb1〜TCb4に接続されている。また、発光素子行2951R_c、2951R_dの各発光素子から幅方向LTDの他方側に引き出された配線WLが、TFT回路TCa5〜TCa8、TCb5〜TCb8に接続されている。 The light emitting element and the TFT circuit (for example, the light emitting element Ea1 and the TFT circuit TCa1) corresponding to each other are connected by the wiring WL. That is, the wiring WL led out from each light emitting element of the light emitting element rows 2951R_a and 2951R_b to one side in the width direction LTD is connected to the TFT circuits TCa1 to TCa4 and TCb1 to TCb4. Further, the wiring WL drawn from the light emitting elements of the light emitting element rows 2951R_c and 2951R_d to the other side in the width direction LTD is connected to the TFT circuits TCa5 to TCa8 and TCb5 to TCb8.
このように本実施形態では、TFT回路TCa1〜TCa4、TCb1〜TCb4と、TFT回路TCc5〜TCa8、TCd5〜TCd8との間に、発光素子グループ295が配置されている。したがって、配線WLを幅方向LTDの両側(一方側および他方側)に引き出すことが可能となっており、配線の自由度の向上が図られている。
As described above, in the present embodiment, the light emitting
TFT回路には、データ線とセレクト線とが接続されている。つまり、長手方向LGDに平行もしくは略平行である8本のデータ線Ld1〜Ld8が、発光素子およびTFT回路の形成領域の幅方向LTD両側に設けられている(図16)。また、2個のTFT回路が1本のデータ線を共用しており、例えば、TFT回路TCa1およびTFT回路TCb1の両方がデータLd1に配線により接続されている。また、発光素子グループ295に対して4本のセレクト線Lsa〜Lsdが設けられている。これらのセレクト線Lsa〜Lsdは発光素子行2951R_a〜2951R_dに対応して設けられており、例えば、セレクト線Lsaは発行素子行2951Raに対応するTFT回路TCa1からTCa4のそれぞれに接続されている。
A data line and a select line are connected to the TFT circuit. That is, eight data lines Ld1 to Ld8 that are parallel or substantially parallel to the longitudinal direction LGD are provided on both sides in the width direction LTD of the light emitting element and TFT circuit formation region (FIG. 16). Two TFT circuits share one data line. For example, both the TFT circuit TCa1 and the TFT circuit TCb1 are connected to the data Ld1 by wiring. Further, four select lines Lsa to Lsd are provided for the light emitting
これらデータ線Ld1〜Ld8とセレクト線Lsa〜Lsbとを用いた発光素子の駆動制御を、発光素子Ea1を駆動する場合を例示して説明する。まず、データ線Ld1には、ビデオデータVDに対応するデータ情報が入力される。そして、セレクト線Lsaをアクティブにすることでデータ情報がTFT回路TCa1に書き込まれる。また、TFT回路TCa1は書き込まれた情報を保持し、この情報に基づいて発光素子Ea1を駆動する。 The drive control of the light emitting element using the data lines Ld1 to Ld8 and the select lines Lsa to Lsb will be described by exemplifying a case where the light emitting element Ea1 is driven. First, data information corresponding to the video data VD is input to the data line Ld1. Then, data information is written in the TFT circuit TCa1 by activating the select line Lsa. The TFT circuit TCa1 holds the written information, and drives the light emitting element Ea1 based on this information.
E. 第4実施形態
図18は第4実施形態での発光素子と光センサとの関係を示す幅方向部分断面図である。図19は第4実施形態での発光素子と光センサとの関係を示す平面図であり、ヘッド基板裏面の構成を示している。なお、図19では、レンズLSが一点鎖線で示されているが、これは発光素子グループ295とレンズLSとが一対一の対応関係で設けられていることを示すものであり、ヘッド基板裏面にレンズLSが配されていることを示すものではない。
E. Fourth Embodiment FIG. 18 is a partial cross-sectional view in the width direction showing the relationship between a light emitting element and an optical sensor in a fourth embodiment. FIG. 19 is a plan view showing the relationship between the light emitting element and the optical sensor in the fourth embodiment, and shows the configuration of the back surface of the head substrate. In FIG. 19, the lens LS is indicated by a one-dot chain line, which indicates that the light emitting
ヘッド基板293の裏面293−tには、ITO(Indium
Tin Oxide)から成る陽極ADと、TFTとが幅方向LTDに隣接して形成されている。TFTにはスイッチング電極SWが積層して形成されている。また、TFT、スイッチング電極SWおよび陽極ANに積層して絶縁層ILが形成されている。絶縁層ILには陽極ANに対向して開口部APが形成されている。この開口部APでは、正孔輸送層HILが陽極ANに積層して形成され、さらに、有機EL材料からなる発光層EMが陽極ANに積層して形成されている。そして、発光層EMおよび絶縁層ILの略全面に積層して、陰極CAが形成されている。このように形成された有機EL素子は、次のようにして発光する。つまり、スイッチング電極SWにオン電圧が印加されると、TFTがONして、正孔輸送層ANから発光層EMに正孔が注入される。これと同時に、陰極CAから発光層EMに電子が注入される。そして、発光層EMにおいて正孔と電子が結合することで、発光層EMが発光する。発光層EMからの光LBは、絶縁層ILの開口部APを介してヘッド基板裏面293−tに入射した後、光透過性部材であるヘッド基板293を透過して、ヘッド基板表面293−hから射出する。このように有機EL材料からなる発光層EMが、発光素子として機能する。
On the back surface 293-t of the
An anode AD made of Tin Oxide) and a TFT are formed adjacent to each other in the width direction LTD. A switching electrode SW is laminated on the TFT. Further, the insulating layer IL is formed by being laminated on the TFT, the switching electrode SW, and the anode AN. An opening AP is formed in the insulating layer IL so as to face the anode AN. In the opening AP, a hole transport layer HIL is formed by laminating on the anode AN, and further, a light emitting layer EM made of an organic EL material is formed on the anode AN. Then, the cathode CA is formed by being laminated on substantially the entire surface of the light emitting layer EM and the insulating layer IL. The organic EL element thus formed emits light as follows. That is, when an on voltage is applied to the switching electrode SW, the TFT is turned on and holes are injected from the hole transport layer AN into the light emitting layer EM. At the same time, electrons are injected from the cathode CA into the light emitting layer EM. The light emitting layer EM emits light by combining holes and electrons in the light emitting layer EM. The light LB from the light emitting layer EM enters the head substrate back surface 293-t through the opening AP of the insulating layer IL, and then passes through the
陰極CAの形成領域の幅方向LTD両側のそれぞれに、複数の光センサSCが長手方向LGDに並んで配置されている。光センサは受光面SCFに入射する光を検知する。この受光面SCFはヘッド基板裏面293−tに光学接着剤で固定されている。図19に示すように、1列の発光素子グループ列295Cに対して、当該発光素子グループ列295Cを幅方向LTDから挟むように2個の光センサSCが設けられている。この光センサSCにはセンサ用配線Wscが接続されており、光センサSCの検知信号は、センサ用配線Wscを介してヘッドコントローラHCに出力される。これらの光センサSCは発光素子の光量補正に用いられるものであるが、この点については上述と同様であるので説明を省略する。
A plurality of photosensors SC are arranged in the longitudinal direction LGD on both sides in the width direction LTD of the formation area of the cathode CA. The optical sensor detects light incident on the light receiving surface SCF. The light receiving surface SCF is fixed to the head substrate back surface 293-t with an optical adhesive. As shown in FIG. 19, two photosensors SC are provided for one light emitting
このように、この実施形態では、ヘッド基板293に光センサSCが設けられている。したがって、発光層EMからの光のうち、ヘッド基板293の内部で反射した光LBr(図18)を光センサSCにより検知することが可能となる。しかも、本実施形態では、ヘッド基板293にTFTが設けられており、このTFTが発光層EMからの光を反射するため、より多くの光量を光センサSCにより検知することができ、検知結果の精度を向上させることができる。
Thus, in this embodiment, the optical sensor SC is provided on the
また、この実施形態では、複数の光センサSCが設けられている。したがって、多くの光量を検知することが可能となり、検知結果の精度を向上させることが可能となっている。 In this embodiment, a plurality of photosensors SC are provided. Therefore, it is possible to detect a large amount of light and improve the accuracy of the detection result.
また、この実施形態では、光センサSCの受光面SCFが光学接着剤によりヘッド基板293に接着されている。したがって、ヘッド基板293と受光面SCFとの界面が光学接着剤により取り除かれて、ヘッド基板293と受光面SCFとの境界での不要な光の反射を抑制することが可能となっている。その結果、受光面SCFに入射する光量が増大して、検知結果の精度を向上させることができる。
In this embodiment, the light receiving surface SCF of the optical sensor SC is bonded to the
F.その他
このように上記第1・第2実施形態では、ヘッド基板293の裏面293Bが本発明の「一方面」に相当し、ヘッド基板293の表面293Aが本発明の「他方面」に相当する。また、光センサSCが本発明の「検知部」または「検知手段」に相当する。長手方向LGDが本発明の「第1方向」に相当し、幅方向LTDが本発明の「第2方向」に相当し、感光体ドラム21が本発明の「潜像担持体」に相当している。
F. Others As described above, in the first and second embodiments, the
また、上記第3・第4実施形態では、ラインヘッド29が本発明の「露光ヘッド」に相当している。発光素子行2951R_a、2951R_bが、本発明の「第1の発光素子」に相当し、発光素子行2951R_c、2951R_dが、本発明の「第2の発光素子」に相当している。また、TFT回路TCa1〜TCa4、TCb1〜TCb4が本発明の「第1のTFT回路」に相当し、TFT回路TCc5〜TCc8、TCd5〜TCd8が本発明の「第2のTFT回路」に相当している。また、レンズLSが本発明の「結像光学系」に相当している。また、ヘッド基板293が本発明の「基板」に相当し、ヘッド基板裏面293−tが本発明の「基板の第1の面」に相当し、ヘッド基板293表面293−hが本発明の「基板の第2の面」に相当する。また、光センサSCが本発明の「検知手段」に相当している。
In the third and fourth embodiments, the
なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、上記第1・第2実施形態では、光センサSCはヘッド基板293の表面293Aに配置されているが、光センサSCの配置位置はこれに限られず、次のように光センサSCを配置することもできる。なお、以下の説明では、既に上述した実施形態と共通する部分については、相当符号を付して説明を省略する。図20は光センサの別の配置態様を示す図である。図20が示す例では、光センサSCはヘッド基板293の裏面293Bに配置されている。また、図21は光センサの更に別の配置態様を示す図である。図21に示す例では、ヘッド基板293の幅方向LTDにおける端部面293Cに配置されている。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications other than those described above can be made without departing from the spirit of the present invention. For example, in the first and second embodiments, the optical sensor SC is arranged on the
また、上記第1・第2実施形態では、光センサSCは、幅方向LTDの一方側にのみ設けられている。しかしながら、例えば、図22に示すように、幅方向LTDの両側に光センサSCを設けても良い。ここで、図22は、光センサを幅方向の両側に配置した場合を示す図である。 In the first and second embodiments, the optical sensor SC is provided only on one side in the width direction LTD. However, for example, as shown in FIG. 22, photosensors SC may be provided on both sides in the width direction LTD. Here, FIG. 22 is a diagram illustrating a case where the optical sensors are arranged on both sides in the width direction.
また、上記第1・第2実施形態では、長手方向LGDに並ぶ4個の発光素子2951から発光素子行2951Rが構成されているが(図10)、発光素子行2951Rを構成する発光素子2951の個数は4個に限られない。また、発光素子グループ295は2個の発光素子行2951Rから構成されているが(図10)、発光素子グループ295を構成する発光素子行2951Rの個数はこれに限られない。つまり、次のように発光素子行2951Rおよび発光素子グループ295を構成することもできる。
In the first and second embodiments, the four
図23は、発光素子グループの別の構成を示す図である。同図が示すように、発光素子行2951Rは、長手方向LGDに並ぶ16個の発光素子2951から構成されている。発光素子グループ295は、幅方向に並ぶ4個の発光素子行2951Rから構成されている。また、発光素子グループ295において、長手方向LGDにおいて各発光素子2951の位置が異なるように、各発光素子行2951Rは相互にずれている。そして、同図に示す例においても、幅方向LTDにおける発光素子グループ295の両側にTFT回路TCが配されている。したがって、発光素子グループ295の各発光素子2951に接続される配線WLを、幅方向LTDの両側に引き出すことが可能となっており、配線WLの自由度の向上が実現されている。
FIG. 23 is a diagram showing another configuration of the light emitting element group. As shown in the figure, the light emitting
また、上記実施形態では、3個の発光素子グループ行295Rが幅方向LTDに並んでいるが、発光素子グループ行295Rの個数は3個に限られない。
In the above embodiment, three light emitting
また、上記実施形態では、発光素子2951として有機EL素子を用いた場合について説明した。しかしながら、発光素子2951の構成はこれに限られず、例えばLED(Light Emitting Diode)を用いても良い。
In the above embodiment, the case where an organic EL element is used as the
21Y、21K…感光体ドラム(潜像担持体)、 29…ラインヘッド、 293…ヘッド基板、 295…発光素子グループ、 295R…発光素子グループ行、 2951…発光素子、 2951R…発光素子行、 299…レンズアレイ、 LS…レンズ、 MD…主走査方向、 SD…副走査方向、 LGD…長手方向(第1方向)、 LTD…幅方向(第2方向)、 WL…配線、 TC…TFT回路、 SC…光センサ(検知手段)、Ea1〜Ea4,Eb1〜Eb4…発光素子(第1の発光素子)、Ec5〜Ec8,Ed5〜Ed8…発光素子(第2の発光素子)、 TCa1〜TCa4,TCb1〜TCb4…TFT回路(第1のTFT回路)、 TCc5〜TCc8、TCd5〜TCd8…TFT回路(第2のTFT回路) 21Y, 21K ... photosensitive drum (latent image carrier), 29 ... line head, 293 ... head substrate, 295 ... light emitting element group, 295R ... light emitting element group row, 2951 ... light emitting element, 2951R ... light emitting element row, 299 ... Lens array, LS ... lens, MD ... main scanning direction, SD ... sub-scanning direction, LGD: longitudinal direction (first direction), LTD ... width direction (second direction), WL ... wiring, TC ... TFT circuit, SC ... Light sensor (detection means), Ea1 to Ea4, Eb1 to Eb4 ... Light emitting element (first light emitting element), Ec5 to Ec8, Ed5 to Ed8 ... Light emitting element (second light emitting element), TCa1 to TCa4, TCb1 to TCb4 ... TFT circuit (first TFT circuit), TCc5 to TCc8, TCd5 to TCd8 ... TFT circuit (second TFT circuit)
Claims (14)
前記結像光学系により結像される光を発光する第1の発光素子と、
前記結像光学系により結像される光を発光する第2の発光素子と、
前記第1の発光素子に配線を介して接続される第1のTFT回路と、
前記第2の発光素子に配線を介して接続される第2のTFT回路と
を備え、
前記第1のTFT回路と前記第2のTFT回路との間に、前記第1の発光素子および前記第2の発光素子が配設されることを特徴とする露光ヘッド。 An imaging optical system;
A first light emitting element that emits light imaged by the imaging optical system;
A second light emitting element that emits light imaged by the imaging optical system;
A first TFT circuit connected to the first light emitting element via a wiring;
A second TFT circuit connected to the second light emitting element via a wiring,
An exposure head, wherein the first light emitting element and the second light emitting element are disposed between the first TFT circuit and the second TFT circuit.
前記第1の発光素子および前記第2の発光素子からの光は、前記第1の面から前記第1の面と異なる第2の面に前記基板を透過して前記結像光学系に入射する請求項2に記載の露光ヘッド。 The substrate is a light transmissive member;
Light from the first light emitting element and the second light emitting element passes through the substrate from the first surface to a second surface different from the first surface and enters the imaging optical system. The exposure head according to claim 2.
前記第1のTFT回路と前記第2のTFT回路との間に、前記第1の発光素子および前記第2の発光素子が配されている露光ヘッドにより、前記被露光面を露光する露光工程を備える露光ヘッドの制御方法。 An imaging optical system, a first light emitting element that emits light imaged on the exposed surface by the imaging optical system, and a second light source that emits light imaged on the exposed surface by the imaging optical system A light emitting element, a first TFT circuit connected to the first light emitting element via a wiring, and a second TFT circuit connected to the second light emitting element via a wiring ,
An exposure step of exposing the surface to be exposed by an exposure head in which the first light emitting element and the second light emitting element are arranged between the first TFT circuit and the second TFT circuit; A method of controlling an exposure head provided.
結像光学系、前記結像光学系により前記潜像担持体に結像される光を発光する第1の発光素子、前記結像光学系により前記潜像担持体に結像される光を発光する第2の発光素子、前記第1の発光素子に配線を介して接続される第1のTFT回路、および前記第2の発光素子に配線を介して接続される第2のTFT回路を有し、前記第1のTFT回路と前記第2のTFT回路との間に前記第1の発光素子および前記第2の発光素子が配設される露光ヘッドと
を備えたことを特徴とする画像形成装置。 A latent image carrier;
An imaging optical system, a first light emitting element for emitting light imaged on the latent image carrier by the imaging optical system, and a light imaged on the latent image carrier by the imaging optical system A second light emitting element, a first TFT circuit connected to the first light emitting element via a wiring, and a second TFT circuit connected to the second light emitting element via a wiring An image forming apparatus comprising: an exposure head in which the first light emitting element and the second light emitting element are disposed between the first TFT circuit and the second TFT circuit. .
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