JP2009160755A

JP2009160755A - 透明被膜付基材

Info

Publication number: JP2009160755A
Application number: JP2007339798A
Authority: JP
Inventors: Masayuki Matsuda; 政幸松田; Toshiharu Hirai; 俊晴平井; Michio Komatsu; 通郎小松
Original assignee: JGC Catalysts and Chemicals Ltd
Current assignee: JGC Catalysts and Chemicals Ltd
Priority date: 2007-12-28
Filing date: 2007-12-28
Publication date: 2009-07-23

Abstract

【課題】防眩性および耐擦傷性、強度（スチールウール強度）、鉛筆硬度等に優れた透明被膜付基材を提供する。
【解決手段】基材上に、平均粒子径(Ｄ_P)が０．１〜５μｍの範囲にある無機酸化物粒子
とマトリックスとからなり、該無機酸化物粒子の屈折率（ｎ_P）とマトリックスの屈折率
（ｎ_M）との差（ｎ_P）−（ｎ_M）が０．０５〜０．８の範囲にあり、表面に凹凸を有する
第１透明被膜、および、該第１透明被膜上に、表面が平坦な第２透明被膜が形成されてなることを特徴とする透明被膜付基材。前記無機酸化物粒子の屈折率（ｎ_P）が１．２０〜
２．５０の範囲にある。
【選択図】図１

Description

本発明は、防眩性および耐擦傷性、強度（スチールウール強度）、鉛筆硬度等に優れた透明被膜付基材に関する。

従来、基材の表面に種々の目的で被膜が形成された被膜付基材が知られている。
例えば、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）や液晶デュスプレー（ＬＣＤ）等の画像表示装置の表示面に基材の屈折率より屈折率の低い透明被膜を設け、反射を抑制して視認性などの表示性能を向上させることが知られている（特開平７−１３３１０５号公報（特許文献１）、特開２００２−７９６１６号公報（特許文献２））。

また、耐擦傷性を向上させるためにシリカ微粒子と有機ケイ素化合物の加水分解物あるいは塗料用樹脂とからなる塗布液を塗布して透明なハードコート膜を設けることも知られている（特開平５−８３５０号公報、特許文献３）。

さらに、反射防止膜とハードコート膜を併用したり、帯電防止膜、電磁波遮蔽膜等と併用したり、防眩性を付与するために表面に凹凸を形成したりすることも知られている。
特開平７−１３３１０５号公報特開２００２−７９６１６号公報特開平５−８３５０号公報

しかしながら、表面に凹凸を有する透明被膜は防眩性を有するものの耐擦傷性、スクラッチ強度、鉛筆硬度等に欠点があった。
本発明者らは、このような従来技術にともなう問題点を解決すべく鋭意検討した結果、鋭意検討した結果、特定範囲の粒子径を有する無機酸化物粒子を分散させた表面に凹凸を有する第１透明被膜において、所定範囲粒子径の無機酸化物粒子の屈折率とマトリックスの屈折率とに所定の屈折率差を持たせることによって防眩性を発現することを見出して本発明を完成するに至った。

本発明の構成は以下の通りである。
[1]基材上に、平均粒子径(Ｄ_P)が０．１〜５μｍの範囲にある無機酸化物粒子とマトリックスとからなり、該無機酸化物粒子の屈折率（ｎ_P）とマトリックスの屈折率（ｎ_M）との差（ｎ_P）−（ｎ_M）が０．０５〜０．８の範囲にあり、表面に凹凸を有する第１透明被膜、および、該第１透明被膜上に、表面が平坦な第２透明被膜が形成されてなる透明被膜付基材。
[2]前記無機酸化物粒子の屈折率（ｎ_P）が１．２０〜２．５０の範囲にある[1]の透明被
膜付基材。
[3]前記第１透明被膜の平均膜厚が１〜１０μｍの範囲にあり、凸部の高さ(Ｔ凸)と凹部
の高さ(Ｔ凹)との差(Ｔ凸)−(Ｔ凹)が２０〜３００ｎｍの範囲にある[1]または[2]の透明被膜付基材。
[4]前記第１透明被膜の屈折率（ｎ₁）と第２透明被膜の屈折率（ｎ₂）との差（ｎ₁）−（ｎ₂）が０．０５〜０．５の範囲にある[1]〜[3]の透明被膜付基材。
[5]前記第１透明被膜中の無機酸化物粒子の含有量が５〜８０重量％の範囲にある[1]〜[4]の透明被膜付基材。
[6]前記第２透明被膜の平均膜厚が５０〜３００ｎｍの範囲にあり、該平均膜厚が前記凸
部の高さ(Ｔ凸)と凹部の高さ(Ｔ凹)との差(Ｔ凸)−(Ｔ凹)より大きい[1]〜[5]の被膜付基材。

本発明によれば、基材上に、無機酸化物粒子とマトリックスとからなり、該無機酸化物粒子の平均粒子径が０．１〜５μｍの範囲にあり、表面に凹凸を有する第１透明被膜上に、第１透明被膜より屈折率が低く表面が平坦な第２透明被膜が形成されているので耐擦傷性、スクラッチ強度、鉛筆硬度等に優れた反射防止性能および防眩性を有する透明被膜付基材を提供することができる。

さらに、無機酸化物粒子として導電性を有する粒子を用いると帯電防止性能、電磁波遮蔽性能を有する透明被膜付基材を提供することができる。

以下、本発明に係る透明被膜付基材について具体的に説明する。
透明被膜付基材
本発明に係る透明被膜付基材は、基材上に、表面に凹凸を有する第１透明被膜およびその表面の平滑な表面を有する第２透明被膜が順次積層されてなる。かかる本発明の透明被膜付基材の該略図を図１に示す。

基材
本発明に用いる基材としては、ガラス、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ＰＥＴ、ＴＡＣ等のプラスチックシート、プラスチックフィルム、プラスチックレンズ、プラスチックパネル等の基材、偏光フィルム、陰極線管、蛍光表示管、液晶ディスプレイ、プロジェクションディスプレイ、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイ等の基材が挙げられる。

第１透明被膜
本発明の第１透明被膜は、無機酸化物粒子とマトリックスとからなり、表面に凹凸を有している。

(i)無機酸化物粒子
本発明に用いる無機酸化物粒子としてはシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、シリカ・アルミナ、シリカ・チタニア、シリカ・ジルコニア、酸化スズ、Ｓｂ、ＦまたはＰがドーピングされた酸化スズ、酸化インジウム、ＳｎまたはＦがドーピングされた酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、低次酸化チタン等の無機酸化物粒子あるいはこれらの混合物が好適に用いられる。これらのなかでも、酸化スズ、Ｓｂ、ＦまたはＰがドーピングされた酸化スズ、酸化インジウム、ＳｎまたはＦがドーピングされた酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、低次酸化チタン等の導電性を有する無機酸化物粒子を用いると耐擦傷性に優れた反射防止性能、防眩性を有する透明被膜付基材が得られるだけでなく、帯電防止性能、電磁波遮蔽性能を有する透明被膜付基材が得られる。

無機酸化物微粒子の平均粒子径(Ｄ_P)は０．１〜５μｍ、さらには０．２〜３μｍの範
囲にあることが好ましい。第１透明被膜の凹凸は無機酸化物粒子によりものであり、無機酸化物粒子の平均粒子径が小さいと、内部散乱による防眩性が充分得られない場合がある。無機酸化物粒子の平均粒子径が大きすぎると、後述する凸部の高さ(Ｔ凸)と凹部の高さ(Ｔ凹)との差が３００ｎｍを超えることがあり、充分な防眩性が得られない場合がある。

本発明で使用される無機酸化物粒子は球状であることが好ましい。無機酸化物粒子が球
状であると、規則的な凹凸を有し、膜強度、基材との密着性等に優れた透明被膜が得られる。

また、無機酸化物粒子は、屈折率が１．２０〜２．５０、さらには１．２５〜２．２０の範囲にあることが好ましい。無機酸化物粒子の屈折率（ｎ_P）と後述するマトリックス
の屈折率（ｎ_M）との差（ｎ_P）−（ｎ_M）が０．０５〜０．８、さらには０．１〜０．６
の範囲にあることが好ましい。屈折率差が小さいと、散乱が起こりにくくなり防眩性が充分得られない場合がある。屈折率差が大きすぎると、散乱が大きくなりすぎるためヘーズが高くなり、透過した像がぼけて見える。

無機酸化物粒子の屈折率が前記範囲を外れると、後述する使用可能なマトリックスの屈折率が概ね１．４０〜１．７０の範囲にあることから、マトリックスの屈折率との差を所定範囲とすることができず、このため充分な防眩性が得られない場合や表示性能が不十分となることがある。

なお、第１透明被膜に用いる無機酸化物粒子の選択は、無機酸化物粒子の屈折率のみでなく、最終的に得られる第１透明被膜の屈折率（ｎ₁）と第２透明被膜の屈折率（ｎ₂）との差（ｎ₁）−（ｎ₂）が０．１〜０．５、さらには０．２〜０．５の範囲となるようにすることが重要であり、従って、マトリックスの屈折率、無機酸化物粒子の配合量等を考慮して行うことが好ましい。透明第１被膜と透明第２被膜との屈折率差が小さいと、反射防止性能が不充分となることがある。屈折率差が大きすぎると、反射カーブがＶ字型のカーブとなり、最低反射率を示すボトム波長を５５０ｎｍ付近に合わせることが難しくなるため、ボトム波長がずれると赤色や青色の着色が大きくなる。さらに、第１透明被膜と第２透明被膜との界面で光が散乱するため像が暈けたり変形することがある。

なお、反射防止性能の点から、前記屈折率は（ｎ₁）＞（ｎ₂）の関係にある。
第１透明被膜中の無機酸化物微粒子の含有量は５〜８０重量％、さらには１０〜７０重量％の範囲にあることが好ましい。第１透明被膜中の無機酸化物微粒子の含有量が少ない場合、内部散乱による防眩性が充分得られない場合がある。また、含有量が多すぎても、基材との密着性が不充分となることがある。

(ii)マトリックス
本発明に用いるマトリックスとしては、基材の表面に被膜を形成し得る成分が用いられ、基材との密着性や硬度、塗工性等の条件に適合する樹脂等から選択して用いることができ、例えば、従来から用いられているポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フッ素樹脂、シリコン樹脂、ブチラール樹脂、フェノール樹脂、酢酸ビニル樹脂、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂、エマルジョン樹脂、水溶性樹脂、親水性樹脂、これら樹脂の混合物、さらにはこれら樹脂の共重合体や変性体などの塗料用樹脂を用いることができる。

第１透明被膜中のマトリックスの含有量は２０〜９５重量％、さらには３０〜９０重量％の範囲にあることが好ましい。マトリックスの含有量が少ないと基材との密着性が不充分となることがあり、さらに内部散乱による防眩性が充分得られない場合がある。マトリックスの含有量が多すぎると、無機酸化物粒子が少ないために内部散乱による防眩性が充分得られない場合がある。

上記した本発明に用いるマトリックスの屈折率は概ね１．４０〜１．７０の範囲にある。
第１透明被膜の平均膜厚は１〜１０μｍ、さらには２〜８μｍの範囲にあることが好ましい。ここで、平均膜厚とは透明被膜の凸部の平均高さ（Ｔ凸）と凹部の平均高さ（Ｔ凹）
との平均値をいう。

第１透明被膜の凸部の高さ(Ｔ凸)と凹部の高さ(Ｔ凹)との差(Ｔ凸)−(Ｔ凹)が２０〜３００ｎｍ、さらには３０〜２００ｎｍの範囲にあることが好ましい。
第１透明被膜の平均膜厚が薄ければ、(Ｔ凸)と(Ｔ凹)との差(Ｔ凸)−(Ｔ凹)が２０ｎｍ未満となることがあり、充分な防眩性が得られない場合があり、また、耐擦傷性、スチールウール強度、鉛筆硬度等が不充分となることがある。第１透明被膜の平均膜厚が厚すぎると、前記(Ｔ凸)−(Ｔ凹)が２００ｎｍを越えることがあり、このため充分な防眩性が得られない場合があり、さらに透明被膜にクラックを生じたり、基材がプラスチック等の場合はカーリング（湾曲あるいは反り）を生じる場合がある。

なお、本発明における平均膜厚、凸部の高さ(Ｔ凸)と凹部の高さ(Ｔ凹)は、透明被膜の一部を垂直に切断し、被膜の断面について透過型電子顕微鏡によって撮影し平均膜厚を測定した。また、レーザー顕微鏡（キーエンス株式会社製：ＶＥ−３０００）を用いて透明被膜の表面をスキャンして凹凸を測定することができる。

つぎに、第１透明被膜の形成方法について説明する。
本発明に用いる第１透明被膜の形成には第１透明被膜形成用塗布液を用いる。
（第１透明被膜形成用塗布液）
本発明に用いる第１透明被膜形成用塗布液は、平均粒子径が０．１〜５μｍの範囲にある無機酸化物粒子と第１透明被膜形成用マトリックス前駆体とを含む。

無機酸化物粒子としては前記したと同様の無機酸化物粒子を用いることができる。
第１透明被膜形成用マトリックス前駆体とは、基材の表面に被膜を形成し得る成分であって、硬化してマトリックスとなるものをいい、基材との密着性や硬度、塗工性等の条件に適合する樹脂等から選択して用いることができ、例えば、従来から用いられているポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フッ素樹脂、シリコン樹脂、ブチラール樹脂、フェノール樹脂、酢酸ビニル樹脂、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂、エマルジョン樹脂、水溶性樹脂、親水性樹脂、これら樹脂の混合物、さらにはこれら樹脂の共重合体や変性体などの塗料用樹脂を用いることができる。

第１透明被膜形成用塗布液は、このような無機酸化物粒子と被膜形成用マトリックス
前駆体とが分散媒に分散している。分散媒としては水および／またはアルコール等の有機溶媒が用いられる。第１透明被膜形成用塗布液中の無機酸化物粒子の濃度は固形分として０．５〜４５重量％の範囲にあり、マトリックス前駆体の濃度が固形分として５〜４５重量％の範囲にあり、両者合計の濃度が固形分として５．５〜５０重量％の範囲にあることが好ましい。

無機酸化物粒子が少ないと、内部散乱による防眩性が充分得られない場合がある。無機酸化物粒子が多すぎると、規則性のある表面凹凸の形成ができにくいために充分な防眩性が得られない場合があり、また、透明被膜の内部に空気を含んだり、表面粗さが大きくなったりするため、耐擦傷性、スクラッチ強度、鉛筆硬度等の性能が不充分となることがある。

マトリックス前駆体が少なすぎると、外観に異常が起こらない量の塗布液を塗工した場合、第１透明被膜の平均膜厚が１μｍを超えにくくなり、膜厚が薄いために基材の柔らかい性質がそのまま残り透明被膜の硬度向上が不十分となり、耐擦傷性、スチールウール強度、鉛筆硬度等の機能が得られにくくなる。マトリックス前駆体が大すぎると、塗工後のレベリング特性が悪くなるため印刷版の形状が残り易くなりムラやヘーズが発生し、規則
性がある凹凸の形成ができにくい。また、このムラやヘーズが原因で、耐擦傷性、スチールウール強度、鉛筆硬度等の特性が悪くなることがある。

さらに塗布液中の無機酸化物粒子と透明被膜形成用マトリックス前駆体の量が少なければ。凹凸の形成が難しく界面での散乱による防眩性が得られにくく、また無機酸化物粒子が少ない場合は内部散乱による防眩性が不十分となることがある。また、かかる量が多すぎても、レベリング特性が悪くなるため表面粗さが大きくなり、耐擦傷性、スチールウール強度、鉛筆硬度等の特性が低下することがある。

第１透明被膜形成用塗布液の分散媒としては、水、メタノール、エタノール、プロパノール、2-プロパノール（ＩＰＡ）、ブタノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、イソプロピルグリコールなどのアルコール類；酢酸メチルエステル、酢酸エチルエステル、酢酸ブチルなどのエステル類；ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトン、アセト酢酸エステルなどのケトン類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、トルエン、シクロヘキサノン、イソホロン等が挙げられる。また、これらは単独で使用してもよく、また２種以上混合して使用することもできる。

以上の各成分を含む塗布液をディップ法、スプレー法、スピナー法、ロールコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、スリットコート法、バーコート法等の周知の方法で基材上に塗布し、乾燥し、熱硬化性樹脂の場合は硬化させた後、熱可塑性樹脂の場合は、さらに必要に応じて基材の軟化点未満の温度で加熱処理することによって第１透明被膜を形成することができる。本発明では、第１透明被膜上に第２透明被膜（反射防止膜）を形成するが、この際、一旦、第１透明被膜を硬化処理して得られた後、第２透明被膜を形成してもよいが、第１透明被膜形成用塗布液を塗布し、乾燥した後、後述する第２透明被膜形成用塗布液を塗布し、乾燥し、硬化して形成してもよい。

本発明では、上記塗布法のうち、ロールコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法は均質に膜厚を制御することが可能なので、本発明の第１透明被膜の形成に好適に用いることができる。

第２透明被膜
本発明に係る被膜付基材では、第１透明被膜上に該被膜より屈折率の低い第２透明被膜（以下、反射防止膜ということがある。）が設けられている。

第２透明被膜の表面は、第１透明被膜と異なり平坦である。第２透明被膜の表面が平坦化されているため、耐擦傷性、スチールウール硬度、鉛筆硬度等に優れた透明被膜付基材が得られる。

第２透明被膜表面の平坦性は、前記した第１透明被膜の表面凹凸と同様に、レーザー顕微鏡（キーエンス株式会社製：ＶＥ−３０００）を用いて測定することができる。
第２透明被膜は、第２透明被膜形成用マトリックスからなり、必要に応じて低屈折率成分を含んでいてもよい。

第２透明被膜形成用マトリックスとしては、前記したと同様の塗料用樹脂、または、前記アルコキシシラン等の加水分解性有機珪素化合物およびこれらの部分加水分解物等が用
いられる。

低屈折率成分としては、本願出願人らの出願による特開平２００２−７９６１６号公報に開示した内部に空洞を有するシリカ系微粒子は低屈折率であるので好適である。また、このような内部に空洞を有するシリカ系微粒子の表面に酸化アンチモン被覆層等の導電性を有する被覆層を形成した粒子を用いてもよく、この粒子を用いると、反射防止性能、防眩性能に加えて帯電防止性能、電磁波遮蔽性能を有する被膜付基材が得られる。

第１透明被膜上に該被膜より屈折率の低い第２透明被膜が設けられているので透明被膜付基材は反射防止性能を有している。
本発明の第２透明被膜の屈折率は１．１５〜１．４６、さらには１．１５〜１．４０の範囲にあることが好ましい。

また、第２透明被膜の平均膜厚は５０〜３００ｎｍ、さらには８０〜２００ｎｍの範囲にあることが好ましい。第２透明被膜の平均膜厚が薄いと、被膜の膜厚がフレネルノ原理からはずれ、光学膜厚を下まわるため反射率が上昇するほか、第２透明被膜の表面が第１透明被膜の凹凸の影響を受けて平坦にならない場合があり、このため、充分な耐擦傷性、スクラッチ強度、鉛筆硬度等が得られない場合がある。

第２透明被膜の平均膜厚が厚すぎれば、反射防止性能が不充分となることがある。
このような第２透明被膜の形成方法は、前記した表面が平坦で低屈折率の第２透明被膜が得られれば特に制限はないが、例えば、本願出願人らの出願による特開平２００２−７９６１６号公報に開示した内部に空洞を有するシリカ系微粒子を含む透明被膜形成用塗布液は低屈折率の被膜が得られるので好適に採用することができる。また前記したように、塗布液は、内部に空洞を有するシリカ系微粒子を含んでいてもよく、さらに、このシリカ微粒子表面に酸化アンチモン被覆層等の導電性を有する被覆層を形成した粒子を含んでいてもよい。

このような第２透明被膜は、塗布液をディップ法、スプレー法、スピナー法、ロールコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、スリットコート法、バーコート法等の周知の方法で基材に塗布し、乾燥し、更に必要に応じて、加熱あるいは紫外線照射等により硬化して得ることができる。

本発明では後述する塗布液の種類や濃度によっても異なるが、グラビアコート法、マイクログラビアコート法が推奨される。これらの方法を用いると前記した表面が平坦な第２透明被膜の形成が容易である。

（第２透明被膜形成用塗布液）
本発明の第２透明被膜の形成に用いる塗布液は、前記した透明被膜形成用マトリックス前駆体と、必要に応じて前記した低屈折率成分とが分散媒に分散されている。

透明被膜形成用マトリックス前駆体としては、前記したと同様の塗料用樹脂、または、下記式(1)に示す加水分解性有機珪素化合物およびこれらの部分加水分解物等が用いられ
る。
Ｒ_nＳｉＸ_4-n ・・・（１）
〔但し、Ｒ：炭素数１〜１０の非置換または置換炭化水素基、Ｘ：炭素数１〜４のアルコキシ基、シラノール基、ハロゲンまたは水素、ｎ：０〜３の整数〕

加水分解性有機珪素化合物としては、具体的に、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキ
シシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（βメトキシエトキシ）シラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル−３，３，３−トリフルオロプロピルジメトキシシラン、β−（３，４エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシトリプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、トリメチルシラノール、メチルトリクロロシラン、メチルジクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、ビニルトリクロルシラン、トリメチルブロモシラン、ジエチルシラン等が挙げられる。

上記有機珪素化合物で、特にｎが１〜３の化合物は親水性に乏しいので、予め加水分解しておくことにより、反応系に均一に混合できるようにすることが好ましい。加水分解には、これら有機珪素化合物の加水分解法として周知の方法を採用することができる。加水分解触媒として、アルカリ金属の水酸化物や、アンモニア水、アミン等の塩基性のものを用いた場合、加水分解後これらの塩基性触媒を除去して、酸性溶液にして用いることもできる。また、有機酸や無機酸などの酸性触媒を用いて加水分解物を調製した場合、加水分解後、イオン交換等によって酸性触媒を除去することが好ましい。なお、得られた有機珪素化合物の加水分解物は、水溶液の形態で使用することが望ましい。ここで水溶液とは加水分解物がゲルとして白濁した状態になく透明性を有している状態を意味する。

マトリックス前駆体として塗料用樹脂を用いる場合には、例えば、前記酸化アンチモン被覆シリカ系微粒子分散液の分散媒としての水をアルコール等の有機溶媒で置換した有機溶媒分散液、好ましくは酸化アンチモン被覆シリカ系微粒子を公知のカップリング剤で処理した後、有機溶媒に分散させた有機溶媒分散液と塗料用樹脂とを適当な有機溶剤で希釈して、塗布液とすることができる。

一方、マトリックス前駆体として加水分解性有機珪素化合物を用いる場合には、例えば、アルコキシシランとアルコールの混合液に、水および触媒としての酸またはアルカリを加えることにより、アルコキシシランの部分加水分解物を得、これに前記酸化アンチモン被覆シリカ系微粒子分散液を混合し、必要に応じて有機溶剤で希釈して、塗布液とすることができる。

第２透明被膜形成用塗布液の分散媒としては、前記第１透明被膜形成用塗布液の分散媒と同様の分散媒を用いることができるが、沸点の異なる２種以上の分散媒を混合して用いることが好ましい。

具体的には、５０〜１００℃に沸点有する分散媒（A-1）と、１００〜２００℃に沸点
を有する分散媒(A-2)との混合分散媒が望ましく、混合分散媒中の分散媒(A-1)の割合が５０〜８０重量％の範囲にあり、分散媒(A-2)の割合が２０〜５０重量％の範囲にあることが望ましい。

具体的には、分散媒(A-1)としては、水；メタノール、エタノール、プロパノール、2-
プロパノール（ＩＰＡ）、などのアルコール類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプルピルなどのエステル類；アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、トルエン等が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、また２種以上混合して使用してもよい。

分散媒(A-2)としては、ブタノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、
テトラヒドロフルフリルアルコールなどのアルコール類；エチレングリコール、ヘキシレングリコールなどのグリコール類；ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールイソプルピルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プルピレングリコールものエチルエーテルなどのエーテル類、酢酸プルピル、酢酸イソブチル、酢酸ブチル、酢酸イソペンチル、酢酸ペンチル、酢酸３−メトキシブチル、酢酸２−エチルブチル、酢酸シクロヘキシル、エチレングリコールものアセタートなどのエステル類；メチルイソブチルケトン、ブチルメチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、ジプロピルケトン、メチルペンチルケトン、ジイソブチルケトンなどのケトン類、等が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、また２種以上混合して使用してもよい。

混合分散媒中の分散媒(A-1)の割合が多いと、塗膜の乾燥が速すぎて表面が平滑になり
にくく、また透明被膜が緻密にならないことがあり硬度や耐擦傷性が不充分となることがある。混合分散媒中の分散媒(A-1)の割合が少ないと、一方で溶媒(A-2)が５０重量％を超えることとなり、塗膜の乾燥が遅くなり、溶剤の残留で硬化不良が起こり硬度や耐擦傷性が不充分となることがある。

混合分散媒中の分散媒(A-2)のさらに好ましい割合は２５〜４０重量％の範囲の範囲で
ある。第２透明被膜形成用塗布液の濃度は、固形分として０．５〜１０重量％、さらには１〜７重量％の範囲にあることが好ましい。第２透明被膜形成用塗布液中の固形分濃度が少なければ、一回の塗布で前記第２透明被膜に必要な膜厚が得られない場合があり、また、第２透明被膜の表面が第１透明被膜の凹凸の影響を受けて平坦にならない場合があり、このため、充分な耐擦傷性、スクラッチ強度、鉛筆硬度等が得られない場合がある。また固形分濃度が多すぎても、塗布液の粘度が高くなるとともに、乾燥速度が速くなるために第２透明被膜表面が平坦にならない場合があり、このため、充分な耐擦傷性、スクラッチ強度、鉛筆硬度等が得られない場合がある。

なお、第２透明被膜の表面を平坦にするためには、基本的には第２透明被膜形成用塗布液を塗布した後、第２透明被膜の表面が塗布液の自重により平坦になった後、乾燥、加熱硬化を行う。このとき、必要に応じて、前記範囲で塗布液の濃度、分散媒の種類等を選択することができる。

このようにして形成される第２透明被膜の屈折率は、概ね１．１５〜１．４６、さらには１．１５〜１．４０の範囲にあることが好ましい。
以上の透明被膜形成用マトリックス前駆体、分散媒および必要に応じて用いる低屈折率成分を含む第二透明被膜形成用塗布液をディップ法、スプレー法、スピナー法、ロールコート法、バーコート法、グラビア印刷法、マイクログラビア印刷法等の周知の方法で基材に塗布し、乾燥し、紫外線照射、加熱処理等常法によって硬化させることによって透明被膜を形成することができる。

［実施例］
以下に実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例により限定さ
れるものではない。

［実施例1］
第１透明被膜形成用塗布液(1)の調製
無機酸化物粒子として酸化チタン粒子（触媒化成工業(株)製：チタンマイクロビード、平均粒子径１．５μｍ、粒子屈折率２．１０）を用いた。エチルアルコール７９．５ｇの中に、この酸化チタン粒子２０．５ｇを分散させ、これに正珪酸エチル７．１２ｇ（多摩化学(株)製：エチルシリケート２８、ＳｉＯ₂成分２８．８重量％）を混合し、超純水を
１０ｇ添加し、５０℃で５時間攪拌して表面処理をした酸化チタン粒子分散液を得た（固形分濃度：１９．３重量％）。この表面処理した酸化チタン粒子分散液５９．９ｇと、ＵＶ樹脂：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（共栄社化学(株)製：ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ）２４．３ｇとＵＶ樹脂：１．６-ヘキサンジオールジアクリレート
（共栄社化学(株)製：ライトアクリレート１．６ＨＸ-Ａ）２．７ｇに、光重合開始剤（
ビ−エ−エスエフジャパン（株））製：ルシリンＴＰＯ：ＩＰＡで固形分濃度１０％に溶解）１１ｇおよび溶剤としてイソプロパノ−ル１０．７ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテル１５ｇ、エチレングリコールモノブチルエーテル５ｇとを充分に混合して第１透明被膜形成用塗布液(1)を調製した。

第２透明被膜形成用塗布液(1)の調製
低屈折率成分として、シリカ系中空微粒子分散ゾル（触媒化成工業(株)製：スルーリア１４２０、平均粒子径６０ｎｍ、濃度２０．５重量％、分散媒：イソプロパノ−ル、粒子屈折率１．３０）を用いた。このゾル１００ｇにγ-メタクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン２．５０ｇ（信越化学(株)製：ＫＢＭ−５０３、ＳｉＯ₂成分８１．９重量％）
と０．１％アンモニア水４ｇを混合し５０℃で５時間攪拌し表面処理したシリカ系中空微粒子分散ゾルを得た（固形分濃度：２１．２重量％）。この表面処理したシリカ系中空微粒子分散ゾル７．０８ｇとＵＶ樹脂：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（共栄社化学(株)製：ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ）０．９ｇとＵＶ樹脂：１．６-ヘキサ
ンジオールジアクリレート（共栄社化学(株)製：ライトアクリレート１．６ＨＸ-Ａ）０
．１ｇと反応性シリコンオイル（信越化学製：Ｘ−２２−１７４ＤＸ、ＩＰＡで１０％に希釈）０．１３ｇに、光重合開始剤（チバスプシャリティ(株)製イルガキュア１８４、ＩＰＡで１０％に希釈）０．４ｇおよび溶媒イソプロパノ−ル６１．４ｇ、メチルイソブチルケトン１５ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテル７．５ｇ、エチレングリコールモノブチルエーテル７．５ｇとを充分に混合して第２透明被膜形成用塗布液(1)を調製
した。

透明被膜付基材(1)の調製
第１透明被膜形成用塗布液(1)をＰＥＴフィルム（東洋紡(株)製：コスモシャインＡ４１００、厚さ：１８８μｍ、屈折率：１.６７、基材ヘーズ０．８％）にバ−コ−タ−で
塗布し、７０℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯（８０Ｗ/cm）で６００ｍJ/ｃｍ²照射し
て硬化させて第１透明被膜付基材(1)を調製した。

得られた第１透明被膜の屈折率、平均膜厚、凹凸差を求め、結果を表に示した。
屈折率の測定は、被膜の屈折率を分光エリプソメーター（ソプラ社製）で測定した。
平均膜厚および凹凸差の測定は、透明被膜の一部を垂直に切断し、被膜の断面について透過型電子顕微鏡によって撮影し測定した。またレーザー顕微鏡（キーエンス株式会社製：ＶＥ−３０００）を用いて透明被膜の表面をスキャンして凹凸を測定した。

ついで、第１透明被膜付基材(1)に、第２透明被膜形成用塗布液(1)をバ−コ−タ−で塗布し、室温で３分間放置した後、７０℃で1分間乾燥し、ついで、高圧水銀灯（８０Ｗ/cm）で６００ｍJ/ｃｍ²照射して硬化させて第２透明被膜を形成した透明被膜付基材(1)を調
製した。

得られた第２透明被膜の平均膜厚、屈折率および第１透明被膜との屈折率差を求め、結果を表に示した。
また、透明被膜付基材(1)の全光線透過率、ヘ−ズ、波長５５０ｎｍの光線の反射率を
測定し、結果を表に示す。

全光線透過率およびヘ−ズはヘ−ズメ−タ−（日本電色(株)製：ＮＤＨ２０００）により、反射率は分光光度計（日本分光(株)製：Ｕｂｅｓｔ−５５）により夫々測定した。
また、防眩性、密着性、鉛筆硬度、表面平坦性およびスチールウール強度を以下の方法および評価基準で評価し、結果を表に示した。

防眩性
ハードコート機能付き反射防止膜付基材（1）の防眩性を基材の裏面を黒スプレーで均
一に塗り、30Wの蛍光灯から2ｍはなれ蛍光灯の映り込みを目視に確認し防眩性を評価した。結果を表に示す。
蛍光灯が全く見えない：◎
蛍光灯がわずかに見える：○
蛍光灯は見えるが輪郭がぼける：△
蛍光灯がはっきり見える：×

密着性
ハードコート機能付き反射防止膜付基材（1）の表面にナイフで縦横１ｍｍの間隔で１
１本の平行な傷を付け１００個の升目を作り、これにセロハンテ−プを接着し、ついで、セロハンテ−プを剥離したときに被膜が剥離せず残存している升目の数を、以下の４段階に分類することにより密着性を評価した。結果を表に示す。
残存升目の数１００個：◎
残存升目の数９０〜９９個：○
残存升目の数８５〜８９個：△
残存升目の数８４個以下：×

鉛筆硬度
ＪＩＳ−Ｋ−５４００に準じて鉛筆硬度試験器により測定した。

スチールウール強度の測定
＃００００スチールウールを用い、荷重５００ｇ／ｃｍ2で１０回摺動し、膜の表面を
目視観察し、以下の基準で評価し、結果を表に示した。
評価基準：
筋条の傷が認められない：◎
筋条に傷が僅かに認められる：○
筋条に傷が多数認められる：△
面が全体的に削られている：×

表面平坦性
レーザー顕微鏡（キーエンス株式会社製：ＶＥ−３０００）を用いて透明被膜の表面をスキャンして凹凸を測定した。

［実施例２］
第１透明被膜形成用塗布液(2)の調製
実施例１おいて、平均粒子径１．５μｍの酸化チタン粒子の代わりに酸化チタン粒子（
触媒化成工業(株)製：チタンマイクロビード、平均粒子径０．５μｍ、粒子屈折率２．１０）
を用いた以外は同様にして第１透明被膜形成用塗布液(2)を調製した。

透明被膜付基材(2)の調製
実施例１において、第１透明被膜形成用塗布液(2)を用いた以外は同様にして透明被膜
付基材(2)を調製した。

第１透明被膜の屈折率、平均膜厚、凹凸差を求め、結果を表に示した。
また、第２透明被膜の平均膜厚、屈折率および第１透明被膜との屈折率差を求め、結果を表に示した。

さらに、透明被膜付基材(2)の全光線透過率、ヘ−ズ、波長５５０ｎｍの光線の反射率
防眩性、密着性、鉛筆硬度、スチールウール強度および表面平坦性を評価し、結果を表に示した。

［実施例３］
第１透明被膜形成用塗布液(3)の調製
実施例１おいて、平均粒子径１．５μｍの酸化チタン粒子の代わりに酸化チタン粒子（触媒化成工業(株)製：チタンマイクロビード、平均粒子径３．０μｍ、粒子屈折率２．１０）
を用いた以外は同様にして第１透明被膜形成用塗布液(3)を調製した。

透明被膜付基材(3)の調製
実施例１において、第１透明被膜形成用塗布液(3)を用いた以外は同様にして透明被膜
付基材(3)を調製した。

第１透明被膜の屈折率、平均膜厚、凹凸差を求め、結果を表に示した。
また、第２透明被膜の、平均膜厚、屈折率および第１透明被膜との屈折率差を求め、結果を表に示した。

さらに、透明被膜付基材(3)の全光線透過率、ヘ−ズ、波長５５０ｎｍの光線の反射率
防眩性、密着性、鉛筆硬度、スチールウール強度および表面平坦性を評価し、結果を表に示した。

［実施例４］
第１透明被膜形成用塗布液(4)の調製
実施例１おいて、平均粒子径１．５μｍの酸化チタン粒子の代わりにシリカ粒子（触媒化成工業(株)製：シリカマイクロビードＰ−５００、平均粒子径１．５μｍ、粒子屈折率１．４５）を用いた以外は同様にして第１透明被膜形成用塗布液(4)を調製した。

透明被膜付基材(4)の調製
実施例１において、第１透明被膜形成用塗布液(4)を用いた以外は同様にして透明被膜
付基材(4)を調製した。
第１透明被膜の屈折率、平均膜厚、凹凸差を求め、結果を表に示した。
また、第２透明被膜の平均膜厚、屈折率および第１透明被膜との屈折率差を求め、結果を表に示した。

さらに、透明被膜付基材(4)の全光線透過率、ヘ−ズ、波長５５０ｎｍの光線の反射率
防眩性、密着性、鉛筆硬度、スチールウール強度および表面平坦性を評価し、結果を表に
示した。

［実施例５］
第１透明被膜形成用塗布液(5)の調製
実施例１おいて、平均粒子径１．５μｍの酸化チタン粒子の代わりに酸化チタン粒子（触媒化成工業(株)製：チタンマイクロビード、平均粒子径１．５μｍ、粒子屈折率２．４０）
を用いた以外は同様にして第１透明被膜形成用塗布液(5)を調製した。

透明被膜付基材(5)の調製
実施例１において、第１透明被膜形成用塗布液(5)を用いた以外は同様にして透明被膜
付基材(5)を調製した。第１透明被膜の屈折率、平均膜厚、凹凸差を求め、結果を表に示
した。
また、第２透明被膜の、平均膜厚、屈折率および第１透明被膜との屈折率差を求め、結果を表に示した。

さらに、透明被膜付基材(5)の全光線透過率、ヘ−ズ、波長５５０ｎｍの光線の反射率
防眩性、密着性、鉛筆硬度、スチールウール強度および表面平坦性を評価し、結果を表に示した。

［実施例６］
第１透明被膜形成用塗布液(6)の調製
実施例１おいて、平均粒子径１．５μｍの酸化チタン粒子の代わりにシリカ系中空微粒子分散ゾル（触媒化成工業(株)製：スルーリア、平均粒子径２００ｎｍ、濃度２０．５重量％、分散媒：イソプロパノ−ル、粒子屈折率１．３０）を用いた以外は同様にして第１透明被膜形成用塗布液(6)を調製した。

透明被膜付基材(6)の調製
実施例１において、第１透明被膜形成用塗布液(6)を用いた以外は同様にして透明被膜
付基材(6)を調製した。第１透明被膜の屈折率、平均膜厚、凹凸差を求め、結果を表に示
した。
また、第２透明被膜の平均膜厚、屈折率および第１透明被膜との屈折率差を求め、結果を表に示した。

さらに、透明被膜付基材(6)の全光線透過率、ヘ−ズ、波長５５０ｎｍの光線の反射率
防眩性、密着性、鉛筆硬度、スチールウール強度および表面平坦性を評価し、結果を表に示した。

［実施例７］
第２透明被膜形成用塗布液(2)の調製
シリコン系ＵＶ硬化樹脂（信越化学(株)製：Ｘ−１２−２４００、固形分濃度２８．５重量％）７．９ｇとＵＶ硬化樹脂１．６-ヘキサンジオールジアクリレート（共栄社化学(株)製：ライトアクリレート１．６ＨＸ-Ａ）０．２５ｇと反応性シリコンオイル（信越化学（株）；Ｘ−２２−１７４ＤＸ、ＩＰＡで固形分濃度１０％に希釈）０．３２ｇと光重合開始剤（ビ−エ−エスエフジャパン（株））製：ルシリンＴＰＯ：ＩＰＡで固形分濃度１０％に溶解）１．０ｇおよび溶媒イソプロパノ−ル６０．５ｇ、メチルイソブチルケトン１５ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテル７．５ｇ、エチレングリコールモノブチルエーテル７．５ｇとを充分に混合して第２透明被膜形成用塗布液(7)を調製した。

透明被膜付基材(7)の調製
実施例１において、第２透明被膜形成用塗布液(7)を用いた以外は同様にして透明被膜
付基材(7)を調製した。
第１透明被膜の屈折率、平均膜厚、凹凸差を求め、結果を表に示した。（実１と同）
また、第２透明被膜の、平均膜厚、屈折率および第１透明被膜との屈折率差を求め、結果を表に示した。

さらに、透明被膜付基材(7)の全光線透過率、ヘ−ズ、波長５５０ｎｍの光線の反射率
防眩性、密着性、鉛筆硬度、スチールウール強度および表面平坦性を評価し、結果を表に示した。

［実施例８］
第１透明被膜形成用塗布液(8)の調製
無機酸化物粒子として酸化チタン粒子（触媒化成工業(株)製：チタンマイクロビード、平均粒子径１．５μｍ、粒子屈折率２．１０）を用いた。エチルアルコール７９．５ｇの中に、この酸化チタン粒子２０．５ｇを入れ、正珪酸エチル３．５６ｇ（多摩化学(株)製：エチルシリケート２８、ＳｉＯ₂成分２８．８重量％）とγ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１．２５ｇ（信越化学(株)製：ＫＢＭ−５０３、ＳｉO₂成分８１．９重量％）を混合し超純水を１０ｇ添加し５０℃で１５時間攪拌して表面処理をした酸化チタン粒子分散液を得た（固形分濃度：１９．６重量％）。

この表面処理した酸化チタン粒子分散液２３．１ｇとＵＶ樹脂ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（共栄社化学(株)製：ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ）９．４５ｇとＵＶ樹脂ペンタエリスリトールトリアクリレート（共栄社化学(株)製：ライトアクリレートＰＥ−３Ａ）１．０５ｇに、光重合開始剤（チバスプシャリティ(株)製イルガキュア１８４）０．４２ｇおよび溶剤としてイソプロパノ−ル４４ｇ、エチレングリコールイソピルエーテル１２ｇ、エチレングリコールモノブチルエーテル１０ｇとを充分に混合して第１透明被膜形成用塗布液(8)を調製した。

透明被膜付基材(8)の調製
実施例１において、第１透明被膜形成用塗布液(8)を用いた以外は同様にして透明被膜
付基材(8)を調製した。

さらに、透明被膜付基材(8)の全光線透過率、ヘ−ズ、波長５５０ｎｍの光線の反射率
防眩性、密着性、鉛筆硬度、スチールウール強度および表面平坦性を評価し、結果を表に示した。

［実施例９］
第１透明被膜形成用塗布液(9)の調製
無機酸化物粒子として酸化チタン粒子（触媒化成工業(株)製：チタンマイクロビード、平均粒子径１．５μｍ、粒子屈折率２．１０）を用いた。エチルアルコール７９．５ｇの中に、この酸化チタン粒子２０．５ｇを入れ、正珪酸エチル３．５６ｇ（多摩化学(株)製：エチルシリケート２８、ＳｉＯ₂成分２８．８重量％）とγ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１．２５ｇ（信越化学(株)製：ＫＢＭ−５０３、ＳｉO₂成分８１．９重量％）を混合し超純水を１０ｇ添加し５０℃で１５時間攪拌して表面処理をした酸化チタン粒子分散液を得た（固形分濃度：１９．６重量％）。

この表面処理した酸化チタン粒子分散液６１．２ｇと、ＵＶ樹脂ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（共栄社化学(株)製：ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ）２５．２ｇとＵＶ樹脂１．６-ヘキサンジオールジアクリレート（共栄社化学(株)製：ライトアク
リレート１．６ＨＸ-Ａ）２．８ｇに、光重合開始剤（ビ−エ−エスエフジャパン（株）
）製：ルシリンＴＰＯ：ＩＰＡで固形分濃度３０％に溶解）３．７ｇおよび溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル１０．３ｇ、エチレングリコールモノブチルエーテル５ｇとを充分に混合して第１透明被膜形成用塗布液(9)を調製した。

透明被膜付基材(9)の調製
実施例１において、第１透明被膜形成用塗布液(9)を用いた以外は同様にして透明被膜
付基材(9)を調製した。

第１透明被膜の屈折率、平均膜厚、凹凸差を求め、結果を表に示した。
また、第２透明被膜の、平均膜厚、屈折率および第１透明被膜との屈折率差を求め、結果を表に示した。さらに、透明被膜付基材(9)の全光線透過率、ヘ−ズ、波長５５０ｎｍの
光線の反射率防眩性、密着性、鉛筆硬度、スチールウール強度および表面平坦性を評価し、結果を表に示した。

［比較例１］
第１透明被膜形成用塗布液(R1)の調製
無機酸化物粒子としてシリカジルコニア粒子（触媒化成工業(株)製：シリカジルコニアマイクロビード、平均粒子径１．５μｍ、粒子屈折率１．５１）を用いた。エチルアルコール７９．５ｇの中に、このシリカジルコニア粒子２０．５ｇを入れ、正珪酸エチル７．１２ｇ（多摩化学(株)製：エチルシリケート２８、ＳｉＯ₂成分２８．８重量％）を混合し超純水を１０ｇ添加し５０℃で５時間攪拌して表面処理をした酸化チタン粒子分散液を得た（固形分濃度：１９．３重量％）。この表面処理したシリカジルコニア粒子分散液５９．９ｇと、ＵＶ樹脂ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（共栄社化学(株)製：ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ）２４．３ｇとＵＶ樹脂１．６-ヘキサンジオールジアクリレート（共栄社化学(株)製：ライトアクリレート１．６ＨＸ-Ａ）２．７ｇに、光重合開始剤（ビ−エ−エスエフジャパン（株））製：ルシリンＴＰＯ：ＩＰＡで固形分濃度１０％に溶解）１１ｇおよび溶剤としてイソプロパノ−ル１０．７ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテル１５ｇ、エチレングリコールモノブチルエーテル５ｇとを充分に混合して第１透明被膜形成用塗布液(R1)を調製した。

透明被膜付基材(R1)の調製
実施例１において、第１透明被膜形成用塗布液(R1)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(R1)を調製した。第１透明被膜の屈折率、平均膜厚、凹凸差を求め、結果を表に示した。

ついで、第１透明被膜付基材(1)に、第２透明被膜形成用塗布液(1)をバ−コ−タ−で塗布し、室温放置をすることなく直ちに７０℃で1分間乾燥し、高圧水銀灯（８０Ｗ/cm）で６００ｍJ/ｃｍ²照射して硬化させて第２透明被膜を形成した透明被膜付基材(R1)を調製
した。また、第２透明被膜の平均膜厚、屈折率および第１透明被膜との屈折率差を求め、結果を表に示した。

さらに、透明被膜付基材(R1)の全光線透過率、ヘ−ズ、波長５５０ｎｍの光線の反射率防眩性、密着性、鉛筆硬度、スチールウール強度および表面平坦性を評価し、結果を表に示した。

［比較例２］
第１透明被膜形成用塗布液(R2)の調製
無機酸化物粒子として酸化チタン粒子（触媒化成工業(株)製：チタンマイクロビード、平均粒子径１．５μｍ、粒子屈折率２．５５）を用いた。エチルアルコール７９．５ｇの中に、この酸化チタン粒子２０．５ｇを入れ、正珪酸エチル２．１４ｇ（多摩化学(株)製：エチルシリケート２８、ＳｉＯ₂成分２８．８重量％）を混合し超純水を１０ｇ添加し５
０℃で５時間攪拌して表面処理をした酸化チタン粒子分散液を得た（固形分濃度：１８．８重量％）。この表面処理した酸化チタン粒子分散液１２０ｇと、ＵＶ樹脂ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（共栄社化学(株)製：ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ）２４．３ｇとＵＶ樹脂１．６-ヘキサンジオールジアクリレート（共栄社化学(株)製：ライトアクリレート１．６ＨＸ-Ａ）２．７ｇに、光重合開始剤（ビ−エ−エスエフジャパン（株））製：ルシリンＴＰＯ：ＩＰＡで固形分濃度１０％に溶解）１１ｇおよび溶剤としてイソプロパノ−ル１０．７ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテル１５ｇ、エチレングリコールモノブチルエーテル５ｇとを充分に混合して第１透明被膜形成用塗布液(R2)を調製した。

透明被膜付基材(R2)の調製
実施例１において、第１透明被膜形成用塗布液(R2)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(R2)を調製した。

第１透明被膜の屈折率、平均膜厚、凹凸差を求め、結果を表に示した。
ついで、第１透明被膜付基材(1)に、第２透明被膜形成用塗布液(1)をバ−コ−タ−で塗布し、室温放置することなく直ちに７０℃で1分間乾燥し、高圧水銀灯（８０Ｗ/cm）で６００ｍJ/ｃｍ²照射して硬化させて第２透明被膜を形成した透明被膜付基材(R2)を調製した。

また、第２透明被膜の、平均膜厚、屈折率および第１透明被膜との屈折率差を求め、結果を表に示した。さらに、透明被膜付基材(R2)の全光線透過率、ヘ−ズ、波長５５０ｎｍの光線の反射率防眩性、密着性、鉛筆硬度、スチールウール強度および表面平坦性を評価し、結果を表に示した。

［比較例３］
第１透明被膜形成用塗布液(R3)の調製
無機酸化物粒子として酸化チタン粒子分散液（触媒化成工業(株)製：オプトレイク１１３０Ｚ（Ｓ７・Ａ８）、平均粒子径２０ｎｍ、粒子屈折率２．１０、溶媒メタノール、固形分濃度３０％）を用いた。この酸化チタン粒子分散液１００ｇに、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン３．６６ｇ（信越化学(株)製：ＫＢＭ−５０３、ＳｉＯ₂成分８１．９重量％）を混合し５０℃で５時間攪拌して表面処理をした酸化チタン粒子分散液を得た（固形分濃度：３１．８重量％）。この表面処理した酸化チタン粒子分散液３６．３５ｇと、ＵＶ樹脂ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（共栄社化学(株)製：ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ）２４．３ｇとＵＶ樹脂１．６-ヘキサンジオールジアクリレート（共栄社化学(株)製：ライトアクリレート１．６ＨＸ-Ａ）２．７ｇに、光重合開始剤（ビ−エ−エスエフジャパン（株））製：ルシリンＴＰＯ：ＩＰＡで固形分濃度１０％に溶解）１１ｇおよび溶剤としてイソプロパノ−ル３４．２５ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテル１５ｇ、エチレングリコールモノブチルエーテル５ｇとを充分に混合して第１透明被膜形成用塗布液(R4)を調製した。

この表面処理した酸化チタン粒子分散液３０ｇ樹脂２−ヒドロキ−３アクリロイロキシプロピルメタクレート（共栄社化学(株)製：ライトエステルＧ−２０１Ｐ）２．７ｇと疎水性の樹脂ヘキサエリスリトールトリペンタアクリレート（日本化薬(株)：KAYARAD DPHA）２４．３ｇに、光開始剤（チバスプシャリティ(株)製イルガキュア１８４）１．６ｇおよび溶剤としてイソプロパノ−ル１３．２ｇ、メチルイソブチルケトン２．７ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテル１０ｇとを充分に混合して第１透明被膜形成用塗布液(R3)を調製した。

透明被膜付基材(R3)の調製
実施例１において、第１透明被膜形成用塗布液(R3)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(R3)を調製した。

第１透明被膜の屈折率、平均膜厚、凹凸差を求め、結果を表に示した。
ついで、第１透明被膜付基材(1)に、第２透明被膜形成用塗布液(1)をバ−コ−タ−で塗布し、室温放置をすることなく直ちに７０℃で1分間乾燥し、高圧水銀灯（８０Ｗ/cm）で６００ｍJ/ｃｍ²照射して硬化させて第２透明被膜を形成した透明被膜付基材(R4)を調製した。また、第２透明被膜の平均膜厚、屈折率および第１透明被膜との屈折率差を求め、結果を表に示した。

さらに、透明被膜付基材(R3)の全光線透過率、ヘ−ズ、波長５５０ｎｍの光線の反射率防眩性、密着性、鉛筆硬度、スチールウール強度および表面平坦性を評価し、結果を表に示した。

［比較例４］
第１透明被膜形成用塗布液(R4)の調製
無機酸化物粒子として酸化チタン粒子（触媒化成工業(株)製：チタンマイクロビード、平均粒子径６．０μｍ、粒子屈折率２．４０）を用いた。エチルアルコール７９．５ｇの中に、この酸化チタン粒子２０．５ｇを入れ、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシ
シラン３．７５ｇ（信越化学(株)製：ＫＢＭ−５０３、ＳｉＯ₂成分８１．９重量％）を
混合し超純水を１０ｇ添加し５０℃で５時間攪拌して表面処理をした酸化チタン粒子分散液を得た（固形分濃度：２０．７重量％）。この表面処理した酸化チタン粒子分散液５９．９ｇと、ＵＶ樹脂ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（共栄社化学(株)製：ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ）２４．３ｇとＵＶ樹脂１．６-ヘキサンジオールジアクリレート（共栄社化学(株)製：ライトアクリレート１．６ＨＸ-Ａ）２．７ｇに、光重合開始剤（ビ−エ−エスエフジャパン（株））製：ルシリンＴＰＯ：ＩＰＡで固形分濃度１０％に溶解）１１ｇおよび溶剤としてイソプロパノ−ル１０．７ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテル１５ｇ、エチレングリコールモノブチルエーテル５ｇとを充分に混合して第１透明被膜形成用塗布液(R4)を調製した。

透明被膜付基材(R4)の調製
実施例１において、第１透明被膜形成用塗布液(R4)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(R4)を調製した。

第１透明被膜の屈折率、平均膜厚、凹凸差を求め、結果を表に示した。
ついで、第１透明被膜付基材(1)に、第２透明被膜形成用塗布液(1)をバ−コ−タ−で塗布し、室温放置をすることなく直ちに７０℃で1分間乾燥し、高圧水銀灯（８０Ｗ/cm）で６００ｍJ/ｃｍ²照射して硬化させて第２透明被膜を形成した透明被膜付基材(R4)を調製した。

また、第２透明被膜の平均膜厚、屈折率および第１透明被膜との屈折率差を求め、結果を表に示した。さらに、透明被膜付基材(R4)の全光線透過率、ヘ−ズ、波長５５０ｎｍの光線の反射率防眩性、密着性、鉛筆硬度、スチールウール強度および表面平坦性を評価し、結果を表に示した。

本発明の透明被膜付き基材の概略断面図を示す。

Claims

基材上に、平均粒子径(Ｄ_P)が０．１〜５μｍの範囲にある無機酸化物粒子とマトリッ
クスとからなり、該無機酸化物粒子の屈折率（ｎ_P）とマトリックスの屈折率（ｎ_M）との差（ｎ_P）−（ｎ_M）が０．０５〜０．８の範囲にあり、表面に凹凸を有する第１透明被膜、および、該第１透明被膜上に、表面が平坦な第２透明被膜が形成されてなることを特徴とする透明被膜付基材。
前記無機酸化物粒子の屈折率（ｎ_P）が１．２０〜２．５０の範囲にあることを特徴と
する請求項１に記載の透明被膜付基材。
前記第１透明被膜の平均膜厚が１〜１０μｍの範囲にあり、凸部の高さ(Ｔ凸)と凹部の高さ(Ｔ凹)との差(Ｔ凸)−(Ｔ凹)が２０〜３００ｎｍの範囲にあることを特徴とする請求項１または２に記載の透明被膜付基材。
前記第１透明被膜の屈折率（ｎ₁）と第２透明被膜の屈折率（ｎ₂）との差（ｎ₁）−（
ｎ₂）が０．０５〜０．５の範囲にあることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載
の透明被膜付基材。
前記第１透明被膜中の無機酸化物粒子の含有量が５〜８０重量％の範囲にあることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の透明被膜付基材。
前記第２透明被膜の平均膜厚が５０〜３００ｎｍの範囲にあり、該平均膜厚が前記凸部の高さ(Ｔ凸)と凹部の高さ(Ｔ凹)との差(Ｔ凸)−(Ｔ凹)より大きいことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の被膜付基材。