JP2009160575A - 描画装置およびそれを備えた描画修正装置 - Google Patents

Abstract

【課題】描画時における主走査回数を少なくしてタクトタイムの短縮を図る。
【解決手段】描画制御装置２に、使用ノズル数‐登録パターン数テーブル１３を設ける。描画座標入力部６によって入力されたワーク上における各描画座標に基づいて、描画可能幅算出部７〜描画条件判定部１１によって、使用ノズル数‐登録パターン数テーブル１３を参照して、１回の主走査を行うのに必要な全ての描画パターンが描画ユニット３のＲＡＭ１７に登録可能になる最大使用ノズル数を求め、この使用ノズル数とこの使用ノズル数での走査範囲内における描画対象座標とに基づいて、上記描画パターンを生成する。そして、こうして得られた描画パターンに従って、描画ユニット３によって描画を行うようにしている。こうすることによって、主走査方向への走査回数の増加を抑制し、タクトタイムを短縮可能になる。
【選択図】図１

Description

この発明は、機能液滴吐出ヘッドをワークに対して相対的に走査しながら機能液滴を吐出して描画を行う描画装置、および、それを備えた描画修正装置に関する。

従来、インクジェットヘッド(機能液滴吐出ヘッド)に同じピッチで配列されたノズル列から、インク(機能液滴)を吐出することによってドットを形成するインクジェットプリンタ等の描画装置においては、上記インクジェットヘッドを主走査方向および副走査方向にワークに対して相対的に移動することにより、描画を行っている。

インクジェット技術は、民生用のプリンタ以外にも、有機ＥＬ(エレクトロルミネセンス)装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、ＰＤＰ(プラズマディスプレイパネル)装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機ＥＬの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レジスト形成方法、および、光拡散体形成方法等に、幅広く活用されている(特開２００３‐２５１２４３号公報(特許文献１))。

このような描画装置においては、主走査方向に移動するノズルの数に比例した描画データを生成し、描画ユニットに転送する方式が一般的である。ところが、液晶パネルのマザーガラスのようにワークサイズが大きく且つ高分解能が必要になる場合には、生成される描画データ量が、上記描画ユニットに搭載されるメモリ容量を超過してしまう。例えば、２５６個のノズルを持つインクジェットヘッドによって０.１μmのピッチで３ｍ分の領域を描画するためには、９６０ＭＢのメモリが必要になる。このような描画ユニットのメモリ容量の課題を解決するために、同じ描画データを規則的に繰り返し描画する場合には、図１７に示すような繰り返しモードでの描画方法を用いている。さらに、描画ポイントが点在する場合には、図１８に示すような散在モードでの描画方法を用いることによって問題を解決している。

図１７に示す描画方法では、例えば、文字「Ｈ」を連続して描画する場合には、インクジェットヘッドは、当該インクジェットヘッドの傾きとワークの動作速度および分解能とによって、描き始め部の描画パターン(描画データ)と、繰り返し部の描画パターンと、描き終わり部の描画パターンとを予め準備し、ヘッド制御部に上記各描画パターンを送信する。そうすると、ヘッド制御部では、主走査方向のエンコーダ出力をモニタすることによって、主走査方向の所定の位置で、予め転送されている描画パターンに従って描画(印刷)するのである。また、図１８に示すような繰り返し規則が存在しない描画パターンに関しては、上記散在モードで描画することが可能になっている。

しかしながら、上記繰り返しモードのみであれば問題は無いのであるが、繰り返しモードと上記散在モードとが混在している場合には、上記繰り返しモード用の登録パターンと上記散在モード用の登録パターンとの両方の登録パターンを登録する必要がある。そのため、上記ヘッド制御部におけるメモリ容量の制約によって、１回の主走査方向の移動で必要な描画パターンを登録することができないため、複数回の走査によって描画を行う必要がある。

図１７に示すように上記繰り返しモード用の登録パターン(描画パターン)として１パターン当り３個必要であるとする。そして、例えば、「Ａ」,「Ｂ」および「Ｃ」の３種類の異なるパターンを描画する場合には、最大９種類(３種類とも繰り返しモード用の登録パターンの場合)の描画データが必要となり、６種類の登録パターンしか登録できない場合には、２回の走査に分けて、描画しなければならないのである。

上記ヘッド制御部におけるメモリ容量を増加させることによって、より多くの描画パターン(登録パターン)を登録できるようにはなるが、メモリ増によるコストアップや機器の大型化という問題が新たに発生する。

一方において、基板の修正装置では、上記インクジェットヘッドの全ノズルを使用して描画するのではなく、一部のノズルを使用して描画する場合が多い。その場合、修正に使用するノズルだけで描画データを生成すれば、１つの描画データのサイズは修正に使用するノズルの数に比例して小さくなり、より多くの描画パターン(登録パターン)を登録できるようになる。

また、描画に使用するノズルを可変させて描画する方法として、特開平５‐１６７８３８号公報(特許文献２)に開示されているようなインクジェット記録装置がある。このインクジェット記録装置においては、互いに記録色が異なる複数の記録ヘッドに関して、記録領域を複数のブロックに分割し、この複数の記録ヘッドを記録材に対して往動および復動させ、その各々で主走査を行い、複数回の主走査で且つ記録ヘッドの異なる記録領域を用いて、記録材の同一領域に順次間引き画像を記録するようにしている。

この上記特許文献２に開示されたインクジェット記録装置による描画方法は、各主走査で記録されるドット数を画像データに拘らず略同一にして、着弾精度や吐出量に起因する濃度ムラを防ぎ、インクの打込み順による規則的な色ムラの発生を防止することを主眼においたものである。

しかしながら、上記従来の描画装置や基板の修正装置においては、以下のような問題がある。すなわち、上記特許文献１および特許文献２のように、使用ノズル数を固定して描画を行う描画方法では、描画パターンの登録数がメモリの記憶容量を超過すれば、１回の走査では描画できなくなり、超過分の描画データに関しては次走査で再度描画データを上記ヘッド制御部に送信し、描画することが必要である。したがって、結果的にタクトタイムが増加するという問題がある。
特開２００３‐２５１２４３号公報 特開平５‐１６７８３８号公報

そこで、この発明の課題は、描画時における主走査回数を少なくしてタクトタイムの短縮を図ることができる描画装置、および、それを備えた描画修正装置を提供することにある。

上記課題を解決するため、この発明の描画装置は、
描画部と、
上記描画部によるワークに対する描画動作を制御する描画制御部と
を備え、
上記描画部は、
機能液滴を吐出する複数のノズルを有するノズルヘッドと、
上記ノズルヘッドを、上記ワークに対して相対的に、主走査方向に移動させる主走査部と、
上記ノズルヘッドを、上記ワークに対して相対的に、上記主走査方向と交差する副走査方向に移動させる副走査部と
を含み、
上記描画制御部は、
使用ノズル数と登録可能な描画パターン数とを対応付けたテーブルと、
上記ワーク上に設定された座標空間における描画座標を取得する描画座標取得部と
を含むと共に、
上記描画座標取得部によって取得されたワーク上の描画座標に基づいて、上記テーブルを参照して、１回の主走査を行うのに必要な全ての描画パターンの数が上記登録可能な描画パターン数を超過しない最大の使用ノズル数を求め、この求められた使用ノズル数とこの使用ノズル数での上記主走査方向への走査範囲内における描画対象座標とに基づいて、上記主走査方向への１回の走査で必要な描画パターンを生成して上記描画部に送出するようになっている
ことを特徴としている。

上記構成によれば、ワーク上の描画座標に基づいて、使用ノズル数と登録可能な描画パターン数とを対応付けたテーブルを参照して、１回の主走査を行うのに必要な全ての描画パターンを描画部に登録可能な最大の使用ノズル数とこの使用ノズル数での走査範囲内における描画対象座標とに基づいて、上記描画パターンを生成する。そして、上記描画部によって、上記生成された描画パターンに従って上記ワークに対する描画動作を行うようにしている。

したがって、１回の主走査を行うのに必要な全ての描画パターンを上記描画部に登録可能な最大の使用ノズル数で描画処理を行うことができ、主走査方向への走査回数の増加を抑制することができる。その結果、タクトタイムの短縮が可能となる。

また、１実施の形態の描画装置では、
上記描画制御部は、
上記テーブルを参照して上記ノズルヘッドにおける使用ノズル数を設定すると共に、この設定したノズル数と上記ノズルヘッドの上記主走査方向あるいは上記副走査方向に対する傾きとから、上記ノズルヘッドによる上記副走査方向への描画可能幅を算出する描画可能幅算出部と、
上記描画座標取得部によって取得された上記ワーク上の描画座標に基づいて描画開始位置を算出する描画開始位置算出部と、
上記描画開始位置算出部によって算出された上記描画開始位置と上記描画可能幅算出部によって算出された上記描画可能幅とに基づいて上記主走査方向への走査範囲を求めると共に、この走査範囲内における描画対象座標を算出する描画対象画像データ算出部と、
上記描画対象画像データ算出部によって算出された上記描画対象座標に基づいて、上記主走査方向への１回の走査で必要な描画パターン数を求める描画パターン数算出部と、
上記描画パターン数算出部によって算出された上記描画パターン数が、上記設定されたノズル数に基づいて上記テーブルを参照して求めた登録可能な描画パターン数を超過しているか否かを判定すると共に、超過していない場合には、上記設定された使用ノズル数と上記描画対象座標とに基づいて描画パターンを生成して上記描画部に送出する描画条件判定部と
を含み、
上記描画条件判定部によって、上記描画パターン数が上記登録可能な描画パターン数を超過していると判定された場合には、上記描画可能幅算出部によって、上記テーブルを参照してさらに少ない使用ノズル数を設定するようになっている。

この実施の形態によれば、１回の主走査を行うのに必要な全ての描画パターンを上記描画部に登録可能な最大の使用ノズル数を、上記ワーク上の描画座標と上記テーブルと上記ノズルヘッドの傾きとから、容易に且つ正確に求めることができる。

したがって、上記描画制御部による簡単な処理によって、１回の主走査を行うのに必要な全ての描画パターンを上記描画部に登録可能な最大の使用ノズル数で描画処理を行うことができ、主走査方向への走査回数の増加を抑制することができる。

また、１実施の形態の描画装置では、
上記描画パターンは、同一ノズルによる描画領域に関して、描き始め用の描画パターンと、繰り返し用の描画パターンと、描き終わり用の描画パターンとを含んでおり、
上記描画部は、先ず上記描き始め用の描画パターンに従って描画動作を行い、次に上記繰り返し用の描画パターンに従った描画動作を必要回数だけ繰り返し行い、最後に上記描き終わり用の描画パターンに従って描画動作を行うことによって、当該描画領域に対する描画動作を行う。

この実施の形態によれば、上記描画条件判定部によって生成された描画パターンを、繰り返し部分と、この繰り返し部分の前に描画される描き始め部分と、上記繰り返し部分の後に描画される描き終わり部分とに分けると共に、この繰り返し部分の繰り返しの単位を繰り返し用の描画パターンとする。そして、上記描画部による上記繰り返し部分の描画動作の際には、上記繰り返し用の描画パターンに従った描画動作を必要回数だけ繰り返し行うようにしている。したがって、上記描画パターンにおける上記繰り返し部分の描画パターンを上記繰り返し用の描画パターンの１つに圧縮して、上記描画パターンの個数を削減することによって更なるタクトタイムの短縮が可能となる。

また、１実施の形態の描画装置では、
上記描画制御部に、上記描画座標取得部によって取得されたワーク上の描画座標を、副走査方向への座標が同一であって主走査方向への座標が連続している描画座標を一つのグループとし、上記各グループのうち主走査方向への座標の最小値が上記ワーク上に設定された描画可能範囲の主走査方向への座標の最小値と同一であるグループを第１走査グループとする一方、主走査方向への座標の最大値が上記描画可能範囲の主走査方向への座標の最大値と同一であるグループを第２走査グループとする走査グループ分類部を備え、
上記描画部は、上記描画対象座標のうち、上記第１走査グループに属する描画対象座標に関して描画を行う場合には、上記ノズルヘッドが主走査方向に１往復移動する際において、上記描画可能範囲の主走査方向への座標の最小値側からの移動時に描画を行う一方、上記第２走査グループに属する描画対象座標に対して描画を行う場合には、上記描画可能範囲の主走査方向への座標の最大値側からの移動時に描画を行う。

この実施の形態によれば、上記主走査方向への座標の最小値が上記ワーク上に設定された描画可能範囲の主走査方向への座標の最小値と同一である第１走査グループは、上記描画可能範囲の主走査方向への座標の最小値側から上記ノズルヘッドが移動する際に描画される。一方、主走査方向への座標の最大値が上記描画可能範囲の主走査方向への座標の最大値と同一である第２走査グループは、上記描画可能範囲の主走査方向への座標の最大値側から上記ノズルヘッドが移動する際に描画される。したがって、第１,第２の何れの走査グループに関する描画を行う場合も、上記描画可能範囲の外枠部での捨て吐出を行った直後に吐出を開始でき、上記ノズルの不吐出による描画ミスを無くすことができる。

すなわち、この実施の形態によれば、上記不吐出に伴う着弾位置ズレや液滴量の不安定化を防止することが可能になる。

また、この発明の描画修正装置は、
上記描画制御部と上記描画部とを備え、
上記描画部に、既に描画動作が行われたワーク上における実際には描画されなかった箇所の座標を修正座標として検出する修正座標検出部を設け、
上記描画制御部における上記描画座標取得部は、上記修正座標検出部によって検出された修正座標を、上記ワーク上の描画座標として取得するようになっており、
上記描画部は、上記描画制御部による制御の下に上記ワークに対する描画動作を行うことによって、上記ワーク上における実際には描画されなかった箇所に描画を行う描画修正を行う
ことを特徴としている。

上記構成によれば、上記描画部の修正座標検出部によって、既に描画動作が行われたワーク上における実際には描画されなかった箇所の座標を修正座標として検出し、上記描画制御部の上記描画座標取得部によって、上記検出された修正座標を上記ワーク上の描画座標として取得するようにしている。したがって、描画済みのワークをセットするだけで、自動的に上記修正座標を求めて上記ワーク上における実際には描画されなかった箇所に追加の描画を行うことができる。

その場合にも、１回の主走査を行うのに必要な全ての描画パターンを上記描画部に登録可能な最大の使用ノズル数を求め、この使用ノズル数とこの使用ノズル数での走査範囲内における修正用の描画対象座標とに基づいて修正用の上記描画パターンを生成するようにしている。したがって、主走査方向への走査回数の増加を抑制することができ、タクトタイムの短縮が可能となる。

また、１実施の形態の描画修正装置では、
上記修正座標検出部は、
既に描画動作が行われたワークの表面を撮像して画像信号を出力するカメラと、
上記カメラの動作を制御すると共に、上記カメラからの画像信号に基づいて上記ワーク上における実際に描画されている座標を求め、この求められた実際に描画されている座標と当該ワーク上における正規の描画座標とに基づいて上記修正座標を検出するカメラ制御回路と
を含んでいる。

この実施の形態によれば、上記修正座標検出部をカメラとカメラ制御回路とで構成するので、上記カメラからの画像信号に基づいて、既に描画動作が行われたワーク上における実際には描画されなかった箇所を表す修正座標を、簡単に且つ正確に検出することができる。

また、１実施の形態の描画修正装置では、
上記描画制御部に、上記描画座標取得部によって取得された上記修正座標を、副走査方向への座標が同一であって主走査方向への座標が連続している修正座標を一つのグループとし、上記各グループのうち主走査方向への座標の最小値が上記ワーク上に設定された描画可能範囲の主走査方向への座標の最小値と同一であるグループを第１走査グループとする一方、主走査方向への座標の最大値が上記描画可能範囲の主走査方向への座標の最大値と同一であるグループを第２走査グループとする走査グループ分類部を備え、
上記描画部は、上記描画対象座標のうち、上記第１走査グループに属する描画対象座標に関して描画を行う場合には、上記ノズルヘッドが主走査方向に１往復移動する際において、上記描画可能範囲の主走査方向への座標の最小値側からの移動時に描画を行う一方、上記第２走査グループに属する描画対象座標に対して描画を行う場合には、上記描画可能範囲の主走査方向への座標の最大値側からの移動時に描画を行う。

この実施の形態によれば、上記主走査方向への座標の最小値が上記ワーク上に設定された描画可能範囲の主走査方向への座標の最小値と同一である第１走査グループは、上記描画可能範囲の主走査方向への座標の最小値側から上記ノズルヘッドが移動する際に描画される。一方、主走査方向への座標の最大値が上記描画可能範囲の主走査方向への座標の最大値と同一である第２走査グループは、上記描画可能範囲の主走査方向への座標の最大値側から上記ノズルヘッドが移動する際に描画される。したがって、第１,第２の何れの走査グループに関する描画を行う場合も、上記描画可能範囲の外枠部での捨て吐出を行った直後に吐出を開始でき、上記ノズルの不吐出による修正ミスを無くすことができる。

すなわち、この実施の形態によれば、上記不吐出に伴う着弾位置ズレや液滴量の不安定化を防止することが可能になる。特に、不吐出が発生し易いインクを使用するスペーサの修正には有効である。

また、この発明の描画方法は、
複数のノズルを有するノズルヘッドと、上記ノズルヘッドをワークに対して相対的に主走査方向に移動させる主走査部と、上記ノズルヘッドを上記ワークに対して相対的に上記主走査方向と交差する副走査方向に移動させる副走査部と、使用ノズル数とこのノズル数で描画を行った際に登録可能な描画パターン数とを対応付けて登録されたテーブルと、を用いる描画方法であって、
描画座標を入力する描画座標入力ステップと、
上記副走査方向に対する上記ノズルヘッドの傾きと、上記テーブルのインデックスＩに登録されている使用ノズル数Ｎ(Ｉ)とから、上記ノズルヘッドによる上記副走査方向への描画可能幅Ｗ(Ｉ)を求める描画可能幅算出ステップと、
上記入力された描画座標に基づいて、上記描画座標の上記副走査方向の最小値を求め、この最小値と上記ワークの上記主走査方向の最小座標とに基づいて、描画開始位置ＰＳ１(Ｉ)を求める描画開始位置算出ステップと、
上記描画開始位置ＰＳ１(Ｉ)と上記描画可能幅Ｗ(Ｉ)とに基づく上記ノズルヘッドによる上記主走査方向への走査範囲内にある上記描画座標の列を、描画対象座標データＰＤＴ(Ｉ)として求める描画対象座標算出ステップと、
上記描画対象座標データＰＤＴ(Ｉ)に基づいて、上記描画対象座標データＰＤＴ(Ｉ)に描画するのに必要な描画パターン数ＰＮ２(Ｉ)を求める描画パターン数算出ステップと、
上記テーブルのインデックスＩに登録されている描画パターン数ＰＮ１(Ｉ)が、上記描画パターン数算出ステップで求められた描画パターン数ＰＮ２(Ｉ)以上である場合には、上記描画対象座標算出ステップで求められた上記描画対象座標データＰＤＴ(Ｉ)に描画を行う描画ステップと
を備え、
上記テーブルのインデックスＩに登録されている描画パターン数ＰＮ１(Ｉ)が、上記描画パターン数算出ステップで求められた描画パターン数ＰＮ２(Ｉ)よりも小さい場合は、上記テーブルのインデックスを変更しながら、描画パターン数ＰＮ１(Ｉ)が上記描画パターン数ＰＮ２(Ｉ)以上になるまで、上記描画可能幅算出ステップ,上記描画開始位置算出ステップ,上記描画対象座標算出ステップおよび上記描画パターン数算出ステップを繰り返して行う
ことを特徴としている。

上記構成によれば、ワーク上の描画座標に基づいて、使用ノズル数と登録可能な描画パターン数とを対応付けたテーブルを参照して、１回の主走査を行うのに必要な全ての描画パターンを登録可能な最大の使用ノズル数を求め、最大幅で描画処理を行うので、主走査方向の走査増加を削減することが可能になり、タクトタイムの短縮が可能になる。

また、この発明の描画修正方法は、
複数のノズルを有するノズルヘッドと、上記ノズルヘッドをワークに対して相対的に主走査方向に移動させる主走査部と、上記ノズルヘッドを上記ワークに対して相対的に上記主走査方向と交差する副走査方向に移動させる副走査部と、使用ノズル数とこのノズル数で描画を行った際に登録可能な描画パターン数とを対応付けて登録されたテーブルと、を用いる描画修正方法であって、
修正座標を取得する修正座標取得ステップと、
上記副走査方向に対する上記ノズルヘッドの傾きと、上記テーブルのインデックスＩに登録されている使用ノズル数Ｎ(Ｉ)とから、上記ノズルヘッドによる上記副走査方向への修正可能幅Ｗ(Ｉ)を求める修正可能幅算出ステップと、
上記取得された修正座標に基づいて、上記修正座標の上記副走査方向の最小値を求め、この最小値と上記ワークの上記主走査方向の最小座標とに基づいて、修正開始位置ＰＳ１(Ｉ)を求める修正開始位置算出ステップと、
上記修正開始位置ＰＳ１(Ｉ)と上記修正可能幅Ｗ(Ｉ)とに基づく上記ノズルヘッドによる上記主走査方向への走査範囲内にある上記修正座標の列を、修正対象座標データＰＤＴ(Ｉ)として求める修正対象座標算出ステップと、
上記修正対象座標データＰＤＴ(Ｉ)に基づいて、上記修正対象座標データＰＤＴ(Ｉ)を修正するのに必要な修正パターン数ＰＮ２(Ｉ)を求める修正パターン数算出ステップと、
上記テーブルのインデックスＩに登録されている描画パターン数ＰＮ１(Ｉ)が、上記描画パターン数算出ステップで求められた修正パターン数ＰＮ２(Ｉ)以上である場合には、上記修正対象座標算出ステップで求められた上記修正対象座標データＰＤＴ(Ｉ)に修正を行う修正ステップと
を備え、
上記テーブルのインデックスＩに登録されている描画パターン数ＰＮ１(Ｉ)が、上記修正パターン数算出ステップで求められた修正パターン数ＰＮ２(Ｉ)よりも小さい場合は、上記テーブルのインデックスを変更しながら、描画パターン数ＰＮ１(Ｉ)が上記修正パターン数ＰＮ２(Ｉ)以上になるまで、上記修正可能幅算出ステップ,上記修正開始位置算出ステップ,上記修正対象座標算出ステップおよび上記修正パターン数算出ステップを繰り返して行う
ことを特徴としている。

上記構成によれば、ワーク上の修正座標に基づいて、使用ノズル数と登録可能な描画パターン数とを対応付けたテーブルを参照して、１回の主走査を行うのに必要な全ての修正パターンを登録可能な最大の使用ノズル数を求め、最大幅で描画修正処理を行うので、主走査方向の走査増加を削減することが可能になり、タクトタイムの短縮が可能となる。

また、１実施の形態の描画修正方法では、
上記修正座標取得ステップと上記修正可能幅算出ステップとの間に、
上記取得された修正座標を、主走査方向に関して、奇数走査で修正すべき修正座標と偶数走査で修正すべき修正座標とに分類する奇数走査・偶数走査分類ステップと、
上記ノズルヘッドにおける次の主走査が奇数走査である場合には、修正対象の修正座標を、奇数走査で修正すべき修正座標に分類された修正座標に設定する一方、次の主走査が偶数走査である場合には、修正対象の修正座標を、偶数走査で修正すべき修正座標に分類された修正座標に設定する修正対象座標設定ステップと
を備え、
上記修正可能幅算出ステップ以降の各ステップでは、上記修正対象座標設定ステップで設定された修正座標に対して処理を行う。

この実施の形態によれば、ワーク上の複数の修正箇所を奇数走査での修正および偶数走査での修正に分類することによって、ワーク外で行った捨て吐出に引き続き描画を行うことができるので、不吐出の問題が発生しにくくなり、着弾位置ズレ、液滴量の安定化を図ることが可能になる。特に、不吐出が発生しやすいインクを使用するスペーサの修正には有効となる。

また、１実施の形態の描画修正方法では、
上記修正座標取得ステップにおいてＪ番目の主走査によって修正されるべき上記修正座標が取得されている場合であっても、下記条件を満たす場合には、(Ｊ＋１)番目の主走査によって修正されるべき上記修正座標に対して上記修正座標取得ステップ,上記修正可能幅算出ステップ,上記修正開始位置算出ステップ,上記修正対象座標算出ステップおよび上記修正パターン数算出ステップを行って、(Ｊ＋１)番目の主走査によって修正されるべき上記修正座標に対しても、Ｊ番目の主走査によって修正を行うことを特徴とする描画修正方法。
条件１：Ｊ番目の主走査時における修正パターンと、(Ｊ＋１)番目の主走査時における修正パターンとを、登録できる。
条件２：Ｊ番目の主走査時における修正終了時から(Ｊ＋１)番目の主走査時における修正開始までの時間が、上記ノズルヘッドを副走査方向に移動させる時間と上記ノズルヘッドの副走査方向の位置が確定する時間との和よりも長い。

この実施の形態によれば、修正箇所が点在している場合でも、上記ノズルヘッドを、Ｊ番目の主走査方向の移動途中に副走査方向に移動させることで、修正処理点数を増やすことができる。したがって、主走査方向の走査増加を削減することが可能になり、タクトタイムの短縮が可能になる。

また、この発明のプログラム記録媒体は、
この発明の描画方法、あるいは、この発明の描画修正方法を記録したことを特徴としている。

以上より明らかなように、この発明の描画装置は、使用ノズル数と登録可能な描画パターン数を対応付けたテーブルを備えて、描画座標取得部によって取得されたワーク上の描画座標に基づいて、上記テーブルを参照して、１回の主走査を行うのに必要な全ての描画パターンの数が上記登録可能な描画パターン数を超過しない最大の使用ノズル数を求め、この使用ノズル数とこの使用ノズル数での上記主走査方向への走査範囲内における描画対象座標とに基づいて上記描画パターンを生成して描画部に送出し、上記描画部によって、上記生成された描画パターンに従って上記ワークに対する描画動作を行うので、１回の主走査を行うのに必要な全ての描画パターンを上記描画部に登録可能な最大の使用ノズル数で描画処理を行うことができる。

したがって、上記主走査方向への走査回数の増加を抑制することができ、描画動作時のタクトタイムを短縮することが可能になる。

また、この発明の描画修正装置は、上記描画部の修正座標検出部によって、既に描画動作が行われたワーク上における実際には描画されなかった箇所の座標を修正座標として検出し、描画制御部の描画座標取得部によって、上記検出された修正座標を上記ワーク上の描画座標として取得するので、描画済みのワークをセットするだけで、自動的に上記修正座標を求めて上記ワーク上における実際には描画されなかった箇所に追加の描画を行うことができる。

その場合にも、１回の主走査を行うのに必要な全ての描画パターンを描画部に登録可能な最大の使用ノズル数を求め、この求められた使用ノズル数とこの使用ノズル数での走査範囲内における描画対象座標とに基づいて上記描画パターンを生成するようにしている。したがって、主走査方向への走査回数の増加を抑制することができ、タクトタイムの短縮が可能となる。

また、この発明の描画方法は、ワーク上の描画座標に基づいて、使用ノズル数と登録可能な描画パターン数とを対応付けたテーブルを参照して、１回の主走査を行うのに必要な全ての描画パターンを登録可能な最大の使用ノズル数を求め、最大幅で描画処理を行うので、主走査方向の走査増加を削減することが可能になり、タクトタイムの短縮が可能になる。

また、この発明の描画修正方法は、ワーク上の修正座標に基づいて、使用ノズル数と登録可能な描画パターン数とを対応付けたテーブルを参照して、１回の主走査を行うのに必要な全ての修正パターンを登録可能な最大の使用ノズル数を求め、最大幅で描画修正処理を行うので、主走査方向の走査増加を削減することが可能になり、タクトタイムの短縮が可能となる。

以下、この発明を図示の実施の形態により詳細に説明する。

・第１実施の形態
図１は、本実施の形態の描画装置における構成を示す機能ブロック図である。以下、図１に従って、本描画装置について詳細に説明する。

本描画装置１は、コンピュータによって実現される描画制御装置２と、描画制御装置２による制御の下に描画動作を行う描画ユニット３とを、備えている。

上記描画制御装置２には、所定のオペレーティングシステムの下で動作するＣＰＵ(中央演算処理装置)で実現される制御処理部４および駆動処理部５が設けられている。この駆動処理部５にはビデオドライバ(図示せず)や描画ドライバ１４が設けられており、制御処理部４からは、描画ドライバ１４を介して、描画ユニット３に転送するための描画データが出力されることになる。さらに、制御処理部４は、上記描画座標取得部としての描画座標入力部６,描画可能幅算出部７,描画開始位置算出部８,描画対象座標データ算出部９,描画パターン数算出部１０,描画条件判定部１１および描画データ有無確認部１２を有しており、処理対象の描画データに対して以下に述べるような各種の処理を行う。

上記構成を有する描画制御装置２は、以下のように動作する。

上記制御処理部４が描画開始命令を受けると、描画座標入力部６によって、描画の対象となるワーク上に設定された座標空間における各描画座標が、描画データとして入力される。そうすると、描画可能幅算出部７によって、使用ノズル数と登録パターン数とを対応付けたテーブルである使用ノズル数‐登録パターン数テーブル１３を参照して、後に詳述するヘッドユニット２１に搭載されたインクジェットヘッドの使用ノズル数と傾きθとから、上記ワークの搬送方向である主走査方向に直交する副走査方向への描画幅が描画可能幅として算出される。そして、描画開始位置算出部８によって、描画座標入力部６により入力された上記描画座標の最小座標が、描画開始位置として算出される。

さらに、上記描画対象座標データ算出部９によって、描画開始位置算出部８で算出された描画開始位置と描画可能幅算出部７で求められた描画可能幅とに基づいて、上記ワークに対する上記主走査方向への走査範囲が求められ、この走査範囲内における描画対象座標が求められる。そして、描画パターン数算出部１０によって、上記求められた描画対象座標に基づいて、上記主走査方向への１回の走査で必要な描画パターン数が求められる。そうすると、描画条件判定部１１によって、描画パターン数算出部１０で求められた上記描画パターン数が使用ノズル数‐登録パターン数テーブル１３から求めた登録パターン数を超過しているか否かが判定されることによって、１回の主走査で描画が可能であるか否かが判定される。その結果、超過していない場合には、当該使用ノズル数とこの使用ノズル数での走査範囲内における描画対象座標とに基づいて上記描画パターンが生成され、駆動処理部５の描画ドライバ１４に上記生成された描画パターン(描画データ)が送出される。描画データ有無確認部１２は、描画座標入力部６によって入力された全ての描画データに基づく描画パターンが描画ドライバ１４に送出されたか否かを確認する。

上記描画ドライバ１４は、専用回線を用いて上記描画データを含む描画情報を、描画ユニット３に送信する。

上記描画部としての描画ユニット３は、描画制御装置２との情報のやり取りを仲介するＩ/Ｆ(インターフェース)専用回路１５、ＣＰＵ１６、ＲＡＭ(ランダムアクセスメモリ)１７、ＲＯＭ(リードオンリメモリ)１８、モータ制御回路１９、ヘッド制御回路２０、ヘッドユニット２１、主走査方向モータ２２、および、副操作方向モータ２３から構成されている。

そして、上記モータ制御回路１９は、上記ＣＰＵ１６による制御の下に、Ｉ/Ｆ専用回路１５を介して受け取った上記描画データ(各描画パターン)に基づいて、上記インクジェットヘッドが搭載されているヘッドユニット２１を副走査方向に移動させる副走査方向モータ２３と、上記ワークを主走査方向に移動させる主走査方向モータ２２との駆動を制御して、ヘッドユニット２１を上記ワーク上の描画位置に移動させる。

また、上記ヘッド制御回路２０は、上記ＲＯＭ１８に格納されたプログラムに従って、ＣＰＵ１６による制御の下に、Ｉ/Ｆ専用回路１５を介して受け取った上記描画データ(各描画パターン)に基づいて、ヘッドユニット２１の動作を制御する。すなわち、ヘッドユニット２１に搭載された上記インクジェットヘッドの各ノズルには、インクを吐出させるためのピエゾ素子(図示せず)が設けられている。描画時には、ＣＰＵ１６およびヘッド制御回路２０によって、主走査方向モータ２２の回転に応じて、つまり上記ワークの主走査方向の位置に応じて上記画像データに応じた上記ピエゾ素子が駆動されて、各ノズルからインク滴が吐出されるのである。

以下、具体的な描画座標データを用いて、本描画装置１の動作についてさらに詳細に説明する。

図２は、描画の対象となるワークとインクジェットヘッドとの関係を示す。図２において、ワーク２５上に「・」で示した位置の座標が上記描画座標であり、描画座標入力部６によって入力される。ワーク２５は、座標(Ｘ１,Ｙ１)と座標(Ｘ２,Ｙ２)とで示される矩形の印刷可能領域を有するメディアであり、インクジェットヘッド２６のノズル数は１６である。

図３は、上記使用ノズル数‐登録パターン数テーブル１３の概念を示す。この使用ノズル数‐登録パターン数テーブル１３には、使用ノズルの数が１６,８,４の場合に登録可能な描画パターンの数「６,１２,２４」が登録されている。

先ず、最初に、上記描画制御装置２のＲＡＭ(図示せず)等に設定される使用ノズル数‐登録パターン数テーブル１３のインデックスＩが「１」に初期化される。そうした後に、描画座標入力部６によって、描画制御装置２の外部から与えられる図２におけるワーク２５上の「・」の座標が全て読み込まれる。次に、描画可能幅算出部７によって、インデックスＩ＝１に基づいて使用ノズル数‐登録パターン数テーブル１３が検索されて、使用ノズル数が「１６」に設定される。さらに、図２に示すように、インクジェットヘッド２６の傾き「θ」と使用ノズル数「１６」の場合のノズル幅「Ｌ」とを用いて、描画可能幅Ｗ(１)が算出される。

次に、上記描画開始位置算出部８によって、描画座標入力部６によって入力された上記描画座標のうち副走査方向(Ｙ方向)の最小値「Ｙmin」が求められる。そして、ワーク２５における主走査方向の最小座標「Ｘ０」と上記座標「Ｙmin」とから、描画開始位置ＰＳ(Ｘ０,Ｙmin)が算出される。そして、描画対象座標データ算出部９によって、描画可能幅Ｗ(１)でインクジェットヘッド２６がワーク２５に対して主走査方向に相対的に走査を行った場合の走査終了位置ＰＥ(Ｘ２,Ｙmin＋Ｗ１(１))が求められ、上記描画開始位置ＰＳ(Ｘ０,Ｙmin)と上記走査終了位置ＰＥ(Ｘ２,Ｙmin＋Ｗ１(１))とで設定される走査範囲内に、「Ａ」,「Ｂ」,「Ｃ」,「Ｄ」で示される主走査方向への描画座標の列でなる描画対象座標データＰＤＴ(１)が求められる。ここで、上記「Ａ」〜「Ｄ」は個々の描画対象座標データを示し、上記「ＰＤＴ(１)」は描画対象座標データの総称である。

この場合、図４に示すように、上記描画対象座標データＡ〜Ｄの変化点から、インクジェットヘッド２６における使用ノズルが変化しない領域が、Ｐ１,Ｐ２,Ｐ３,Ｐ４の４つの領域として得られる。そして、本実施の形態においては、描画ユニット３におけるＲＡＭ１７に記憶させる描画データの容量を削減するために、上記「使用ノズルが変化しない領域」に関して、「描き始め」用の描画パターンと「繰り返し」用の描画パターンと「描き終わり」用の描画パターンとの３つの描画パターンを用意するものとする。図５に、領域Ｐ１における「描き始め」用と「繰り返し」用と「描き終わり」用との描画パターンを例示する。

そして、上記描画パターン数算出部１０によって、個々の上記「使用ノズルが変化しない領域」に対して必要な描画パターンの数「３」と上記「使用ノズルが変化しない領域」の数「４」とから、登録する必要がある全体の描画パターンの数ＰＮ２(１)＝１２が算出される。

そうすると、上記描画条件判定部１１によって、インデックスＩ＝１に基づいて使用ノズル数‐登録パターン数テーブル１３が検索されて登録パターン数ＰＮ１(１)＝６が読み出され、この登録パターン数ＰＮ１(１)＝６は描画パターン数算出部１０で算出された全体の描画パターンの数ＰＮ２(１)＝１２よりも小さいので、１回の主走査方向への走査で必要な描画パターンを描画ユニット３におけるＲＡＭ１７に登録しきれないと判定する。そして、以下のような描画に使用するノズルを削減する処理に移行する。

上記使用ノズル数‐登録パターン数テーブル１３のインデックスＩが「２」にインクリメントされる。そして、描画可能幅算出部７によって、インデックスＩ＝２に基づいて使用ノズル数‐登録パターン数テーブル１３が検索されて、使用ノズル数が「８」に設定される。さらに、図６に示すように、インクジェットヘッド２６の傾き「θ」と使用ノズル数「８」の場合のノズル幅「Ｌ/２」とを用いて、描画可能幅Ｗ(２)が算出される。

以下、インデックスＩ＝１の場合と同様にして、上記描画開始位置算出部８によって描画開始位置ＰＳ(Ｘ０,Ｙmin)が算出され、描画対象座標データ算出部９によって主走査範囲内に「Ａ」,「Ｂ」,「Ｃ」,「Ｄ」で示される描画対象座標データＰＤＴ(２)が求められる。

そして、上記描画パターン数算出部１０によって、個々の上記「使用ノズルが変化しない領域」に対して必要な描画パターンの数「３」と上記「使用ノズルが変化しない領域」の数「４」とから、登録する必要がある全体の描画パターンの数ＰＮ２(２)＝１２が算出される。

そうすると、インデックスＩ＝１の場合と同様にして、上記描画条件判定部１１によって、インデックスＩ＝２に基づいて使用ノズル数‐登録パターン数テーブル１３から登録パターン数ＰＮ１(２)＝１２が読み出され、この登録パターン数ＰＮ１(２)＝１２が全体の描画パターンの数ＰＮ２(２)＝１２に等しいので、１回の主走査方向への走査で必要な描画パターンを登録できると判定される。さらに、上記インクジェットヘッド２６の傾き「θ」と使用するノズルの数「８」とノズルの数８での上記主走査範囲内における上記描画対象座標とから４つの上記「使用ノズルが変化しない領域」に関する描画データが生成される。例えば、領域Ｐ１の場合には、図５に示すような３種類の描画パターンからなる描画データが生成される。そして、駆動処理部５の描画ドライバ１４に、４つの上記「使用ノズルが変化しない領域」に関する「描き始め」用と「繰り返し」用と「描き終わり」用との３つの描画データ(描画パターン)が送出される。その場合に、描画データの描画位置と描画方向の情報をも合わせて送出する。

そして、上記描画ドライバ１４に送出された上記１２個の描画パターンに基づいて、描画ユニット３によって、図７に示すように描画が行われるのである。

尚、上述した処理を、上記描画データ有無確認部１２によって、描画座標入力部６で入力された全ての描画データに基づく描画パターンが描画ドライバ１４に送出されたと判定されるまで繰り返すことによって、描画対象座標データ「Ｆ」に関しても、描画が可能であることは言うまでもない。

以上のごとく、本実施の形態においては、使用ノズル数と登録パターン数とを対応付けたテーブルである使用ノズル数‐登録パターン数テーブル１３を設けている。そして、描画座標入力部６によって入力されたワーク２５上における各描画座標に基づいて、使用ノズル数‐登録パターン数テーブル１３を参照して、１回の主走査を行うのに必要な全ての描画パターンが描画ユニット３のＲＡＭ１７に登録可能になる最大使用ノズル数を求め、この使用ノズル数とこの使用ノズル数での主走査範囲内における上記描画対象座標とに基づいて上記描画パターンを生成する。そして、こうして得られた描画パターンに従って、描画ユニット３によって描画を行うようにしている。

したがって、１回の主走査を行うのに必要な全ての描画パターンを描画ユニット３のＲＡＭ１７に登録可能な最大幅のノズルで描画処理を行うことができ、主走査方向への走査回数の増加を抑制することができる。その結果、タクトタイムの短縮が可能となるのである。

尚、上記実施の形態においては、上記インクジェットヘッド２６の最大ノズル数は「１６」であるとして説明しているが、上記最大ノズル数は「１６」に限定されるものではない。使用ノズル数‐登録パターン数テーブル１３を、インクジェットヘッド２６の使用可能なノズル数に応じて作成することによって、任意の最大ノズル数に対応することが可能である。

・第２実施の形態
図８は、本実施の形態の描画修正装置における概略構成を示す機能ブロック図である。上記第１実施の形態の描画装置によって描画を行う場合に、例えばノズルの詰まり等によって、入力された描画座標の位置に描画できない場合が生ずる。本実施の形態における描画修正装置は、そのような描画抜けを修正するものである。以下、図８に従って、本描画修正装置について詳細に説明する。

本描画修正装置３１は、コンピュータによって実現される描画制御装置３２と、この描画制御装置３２による制御の下に修正動作を行う修正ユニット３３とを、備えている。そして、例えば、上記第１実施の形態における描画装置１によって描画されたワークに対して修正を施すのである。

上記描画制御装置３２には、所定のオペレーティングシステムの下で動作するＣＰＵで実現される制御処理部３４および駆動処理部３５と、例えばＲＯＭ(図示せず)やハードディスク(図示せず)等に登録された使用ノズル数‐登録パターン数テーブル４３とが設けられている。

上記制御処理部３４は、修正座標生成部５６,描画可能幅算出部３７,描画開始位置算出部３８,描画対象座標データ算出部３９,描画パターン数算出部４０,描画条件判定部４１および描画データ有無確認部４２を有している。そのうち、描画可能幅算出部３７,描画開始位置算出部３８,描画対象座標データ算出部３９,描画パターン数算出部４０,描画条件判定部４１および描画データ有無確認部４２は、上記第１実施の形態における描画可能幅算出部７,描画開始位置算出部８,描画対象座標データ算出部９,描画パターン数算出部１０,描画条件判定部１１および描画データ有無確認部１２と同様に動作する。

また、上記駆動処理部３５は、描画ドライバ４４を有しており、この描画ドライバ４４は上記第１実施の形態における描画ドライバ１４と同様に動作する。また、使用ノズル数‐登録パターン数テーブル４３には、使用ノズル数と登録パターン数とが対応付けられて記憶されている。

上記描画部としての上記修正ユニット３３には、Ｉ/Ｆ専用回路４５,ＣＰＵ４６,ＲＡＭ４７,ＲＯＭ４８,モータ制御回路４９,ヘッド制御回路５０,ヘッドユニット５１,主走査方向モータ５２,副操作方向モータ５３,カメラユニット５４およびカメラ制御回路５５が設けられている。そのうち、Ｉ/Ｆ専用回路４５,ＣＰＵ４６,ＲＡＭ４７,ＲＯＭ４８,モータ制御回路４９,ヘッド制御回路５０,ヘッドユニット５１,主走査方向モータ５２および副操作方向モータ５３は、上記第１実施の形態におけるＩ/Ｆ専用回路１５,ＣＰＵ１６,ＲＡＭ１７,ＲＯＭ１８,モータ制御回路１９,ヘッド制御回路２０,ヘッドユニット２１,主走査方向モータ２２および副操作方向モータ２３と同様に動作する。

上記修正ユニット３３におけるカメラユニット５４は、カメラ制御回路５５の制御の下に、例えば上記第１実施の形態の場合のようにして既に描画が行われているワークの表面を撮像し、得られた画像信号をカメラ制御回路５５に送出する。そうすると、カメラ制御回路５５は、入力された画像信号に対して画像処理を行って、図２に示すようにワークの表面に描画がされている「・」における上記ワーク上の座標を求め、ＲＡＭ４７あるいはＲＯＭ４８等に予め格納されている上記ワーク上の正規の描画座標と上記画像処理によって求めた座標とを比較し、ノズルの詰まり等によって実際に描画されていない描画座標を修正座標として求める。こうして得られた上記修正座標が、Ｉ/Ｆ専用回路４５から専用通信回路(図示せず)を介して制御処理部３４に転送され、修正座標生成部５６に入力される。

すなわち、本実施の形態においては、上記カメラユニット５４およびカメラ制御回路５５で、上記修正座標検出部を構成しているのである。

そうすると、上記修正座標生成部５６は、入力された上記修正座標を、制御処理部３４の描画可能幅算出部３７,描画開始位置算出部３８,描画対象座標データ算出部３９,描画パターン数算出部４０,描画条件判定部４１および描画データ有無確認部４２によって処理可能な形式に変換する。

すなわち、本実施の形態においては、上記修正座標生成部５６で、上記描画座標取得部を構成しているのである。

以後、上記変換後の修正座標に基づいて、上記描画可能幅算出部３７,描画開始位置算出部３８,描画対象座標データ算出部３９,描画パターン数算出部４０,描画条件判定部４１および描画データ有無確認部４２が、上記第１実施の形態における描画可能幅算出部７,描画開始位置算出部８,描画対象座標データ算出部９,描画パターン数算出部１０,描画条件判定部１１および描画データ有無確認部１２と同様に動作して、１回の主走査を行うのに必要な全ての描画パターンが修正ユニット３３のＲＡＭ４７に登録可能になる最大使用ノズル数を求め、この使用ノズル数とこの使用ノズル数での主走査範囲内における上記描画対象座標とに基づいて描画パターンを生成し、駆動処理部３５の描画ドライバ４４に送出する。

そして、上記修正ユニット３３のＩ/Ｆ専用回路４５,ＣＰＵ４６,ＲＡＭ４７,ＲＯＭ４８,モータ制御回路４９,ヘッド制御回路５０,ヘッドユニット５１,主走査方向モータ５２および副操作方向モータ５３が、上記第１実施の形態におけるＩ/Ｆ専用回路１５,ＣＰＵ１６,ＲＡＭ１７,ＲＯＭ１８,モータ制御回路１９,ヘッド制御回路２０,ヘッドユニット２１,主走査方向モータ２２および副操作方向モータ２３と同様に動作して、上記ワーク上における描画されていない位置に描画が行われるのである。

このように、上記カメラ制御回路５５によって、予め記憶されている上記ワーク上の正規の描画座標と上記画像信号から求めた実際に描画されている座標とを比較して、実際に描画されていない描画座標を修正座標として求めるので、描画済みのワークをセットするだけで自動的に上記修正座標を求めて追加の描画を行うことができる。

その場合にも、１回の主走査を行うのに必要な全ての描画パターンが修正ユニット３３のＲＡＭ４７に登録可能になる最大使用ノズル数を求め、この使用ノズル数とこの使用ノズル数での主走査範囲内における上記描画対象座標とに基づいて描画パターンを生成するようにしている。したがって、主走査方向への走査回数の増加を抑制することができ、タクトタイムの短縮が可能となる。

尚、本実施の形態においては、上記第１実施の形態の描画装置１によって描画されたワークに対して修正を施す場合を例に説明しているが、他の描画装置によって描画されたワークであっても、当該ワーク上の正規の描画座標が予め分かっていれば修正可能であることは言うまでもない。

また、本実施の形態においては、本描画修正装置３１を、上記第１実施の形態の描画装置１とは異なる装置として説明している。しかしながら、上記第１実施の形態の描画装置１における描画ユニット３に、本描画修正装置３１の修正ユニット３３におけるカメラユニット５４およびカメラ制御回路５５に相当するカメラユニットおよびカメラ制御回路を設けると共に、描画制御装置２の描画座標入力部６に、本描画修正装置３１の修正座標生成部５６の場合と同様に、上記カメラ制御回路で求められた上記修正座標の変換機能を持たせることによって、上記第１実施の形態の描画装置１を描画修正装置として機能させることも可能である。

また、本実施の形態においては、上記修正座標検出装置をカメラユニット５４およびカメラ制御回路５５によって構成しているが、この発明はこれに限定されるものではない。例えば、ＣＣＤ(電荷結合素子)あるいはＭＯＳ(Metal Oxide Semiconductor)センサをライン状に配置したラインセンサで構成しても差し支えない。

・第３実施の形態
図９は、本実施の形態の描画修正装置における概略構成を示す機能ブロック図である。以下、図９に従って、本描画修正装置について詳細に説明する。

上記第２実施の形態の場合には、上記修正座標に基づく使用ノズルが変化しない領域が上記第１実施の形態の場合と同様に領域Ｐ１〜Ｐ４である場合、インクジェットヘッドが描画対象座標データＰＤＴ(２)に対して描画動作を行うに際して、インクジェットヘッドが領域Ｐ２に対して描画を行ってから領域Ｐ４で描画を再開するまで描画対象座標データ「Ｂ」,「Ｄ」を描画するノズルは動作を停止することになり、その間にノズルが詰まってしまって領域Ｐ４において不吐出状態となる場合がある。本実施の形態は、このような場合に対処可能とするものである。

本描画修正装置６１は、コンピュータによって実現される描画制御装置６２と、この描画制御装置６２による制御の下に修正動作を行う修正ユニット６３とを、備えている。そして、上記第１実施の形態における描画装置１によって描画されたワークに対して修正を施すものである。

上記描画制御装置６２には、所定のオペレーティングシステムの下で動作するＣＰＵで実現される制御処理部６４および駆動処理部６５と、ＲＡＭ(図示せず)やハードディスク(図示せず)等に設定された使用ノズル数‐登録パターン数テーブル７３とが設けられている。

上記制御処理部６４は、修正座標生成部８６,奇数・偶数走査グループ分類部８７,描画可能幅算出部６７,描画開始位置算出部６８,描画対象座標データ算出部６９,描画パターン数算出部７０,描画条件判定部７１および描画データ有無確認部７２を有している。そのうち、修正座標生成部８６,描画可能幅算出部６７,描画開始位置算出部６８,描画対象座標データ算出部６９,描画パターン数算出部７０,描画条件判定部７１および描画データ有無確認部７２は、上記第２実施の形態における修正座標生成部５６,描画可能幅算出部３７,描画開始位置算出部３８,描画対象座標データ算出部３９,描画パターン数算出部４０,描画条件判定部４１および描画データ有無確認部４２と同様に動作する。

また、上記駆動処理部６５は、描画ドライバ７４を有しており、この描画ドライバ７４は上記第２実施の形態における描画ドライバ４４と同様に動作する。また、使用ノズル数‐登録パターン数テーブル７３には、使用ノズル数と登録パターン数とが対応付けられて記憶されている。

上記修正ユニット６３には、Ｉ/Ｆ専用回路７５,ＣＰＵ７６,ＲＡＭ７７,ＲＯＭ７８,モータ制御回路７９,ヘッド制御回路８０,ヘッドユニット８１,主走査方向モータ８２,副操作方向モータ８３,カメラユニット８４およびカメラ制御回路８５が設けられており、上記第２実施の形態におけるＩ/Ｆ専用回路４５,ＣＰＵ４６,ＲＡＭ４７,ＲＯＭ４８,モータ制御回路４９,ヘッド制御回路５０,ヘッドユニット５１,主走査方向モータ５２,副操作方向モータ５３,カメラユニット５４およびカメラ制御回路５５と同様に動作する。

上記制御処理部３４の奇数・偶数走査グループ分類部８７は、修正座標生成部８６によって上記変換が行われた修正座標を、以下のようにして奇数走査グループと偶数走査グループとに分類する。

すなわち、上記修正座標生成部８６からの修正座標のうち、副走査方向へのＹ座標が同一であって主走査方向へのＸ座標が連続している修正座標を一つのグループとする。つまり、図２における描画座標が上記修正座標であると仮定した場合には、描画対象座標データ「Ａ」,「Ｂ」,「Ｃ」,「Ｄ」,「Ｆ」が互いに異なるグループに分類される。さらに、上記分類された各グループのうち、Ｘ座標の最小値(Ｘmin)がワーク上に設定された描画可能範囲の最小値Ｘstartであるグループを、奇数走査グループに分類する。つまり、グループ「Ａ」,「Ｂ」,「Ｃ」が奇数走査グループに分類される。さらに、Ｘ座標の最大値(Ｘmax)が上記描画可能範囲の最大値Ｘendであるグループを、偶数走査グループに分類する。つまり、グループ「Ｄ」,「Ｆ」が偶数走査グループに分類される。

これに伴って、上記描画対象座標データ算出部６９は、上記奇数走査グループ「Ａ」,「Ｂ」,「Ｃ」に基づく使用ノズルが変化しない領域Ｐ１,Ｐ２,Ｐ３を奇数走査グループとし、上記偶数走査グループ「Ｄ」に基づく使用ノズルが変化しない領域Ｐ４を偶数走査グループとする。同様に、描画条件判定部７１は、奇数走査グループの領域Ｐ１,Ｐ２,Ｐ３に関する描画データ(描画パターン)に上記描画方向の情報として奇数走査情報を付加する一方、偶数走査グループの領域Ｐ４に関する描画データ(描画パターン)に上記描画方向の情報として偶数走査情報を付加する。

そうすると、上記修正ユニット６３のヘッド制御回路８０は、モータ制御回路７９が上記ワークを主走査方向(Ｘ方向)に１往復動作させる際に、先ず往動作時には、ヘッドユニット８１を制御して、上記奇数走査情報が付加された奇数走査グループの領域Ｐ１,Ｐ２,Ｐ３に関する描画を行う。次に、復動作時には、上記偶数走査情報が付加された偶数走査グループの領域Ｐ４に関する描画を行うのである。

ところで、通常、上記ヘッドユニット８１におけるノズルの不吐出を防止するために、ヘッドユニット８１が相対的に１回の主走査を行うに際して、ヘッドユニット８１が上記描画可能範囲に差し掛かって上記描画可能範囲内で吐出(本吐出)を行う前に、ヘッドユニット８１が上記ワークの描画可能範囲の外枠部に位置している際に、試しの吐出(捨て吐出)を行うようにしている。

したがって、本実施の形態のように、上記描画対象座標データ「Ａ」,「Ｂ」,「Ｃ」,「Ｄ」,「Ｆ」を、Ｘ座標の最小値(Ｘmin)が上記描画可能範囲の最小値Ｘstartである奇数走査グループ「Ａ」,「Ｂ」,「Ｃ」と、Ｘ座標の最大値(Ｘmax)が上記描画可能範囲の最大値Ｘendである偶数走査グループ「Ｄ」,「Ｆ」とに分類し、奇数走査グループをヘッドユニット８１の相対的な１往復動作における往動作時に描画する一方、偶数走査グループをヘッドユニット８１の復動作時に描画することによって、奇数走査グループを描画する場合には上記描画可能範囲の最小座標Ｘstartに最も近い外枠部で上記捨て吐出を行う一方、偶数走査グループを描画する場合には上記描画可能範囲の最大座標Ｘendに最も近い外枠部で上記捨て吐出を行うことができ、何れの走査グループの場合も本吐出の直前に捨て吐出を行ってノズルの不吐出を防止することができる。

したがって、本実施の形態によれば、上記不吐出に伴う着弾位置ズレや液滴量の不安定化を防止することが可能になる。特に、不吐出が発生し易いインクを使用する液晶パネルのガラス基板間におけるスペーサの修正には有効である。

尚、上記第３実施の形態においては、上記描画対象座標データを、Ｘ座標の最小値が上記描画可能範囲の最小値Ｘstartである奇数走査グループと、Ｘ座標の最大値が上記描画可能範囲の最大値Ｘendである偶数走査グループとの２つの走査グループに分類しているが、Ｘ座標の最小値が上記最小値Ｘstartよりも大きく且つ最大値が上記最大値Ｘendよりも小さい走査グループが存在する場合には、ヘッドユニット８１の上記往動作時に上記奇数走査グループと共にあるいは上記復動作時に上記偶数走査グループと共に描画を行えばよい。

また、上記第３実施の形態においては、「奇数走査グループと偶数走査グループとに分類し、奇数走査グループを１回の主走査の往路で描画する一方、偶数走査グループを復路で描画する」機能を、描画修正装置に搭載している。しかしながら、描画装置による描画の対象となる描画パターンが、「上記奇数走査グループと上記偶数走査グループとに分類した場合に、上記奇数走査グループを１回の主走査の往路で描画する一方、上記偶数走査グループを復路で描画することが可能なパターン」である場合には、上記機能を当該描画装置に搭載して、描画動作時において、ノズルの不吐出に伴う着弾位置ズレや液滴量の不安定化を防止することができる。

以下、上記第１実施の形態における描画装置による描画方法、上記第２実施の形態および上記第３実施の形態における描画修正装置による描画修正方法について説明する。

・第４実施の形態
図１０は、上記第１実施の形態における描画装置による描画方法を示すフローチャートである。以下、図１０に従って、具体的な描画処理動作を説明する。

以下において、Ｔ１は、使用ノズル数Ｎ(Ｉ)と、この使用ノズル数Ｎ(Ｉ)で描画を行った際に登録可能な描画パターンの数を表すパターン登録数ＰＮ１(Ｉ)とを対応付けたテーブルである。また、Ｉは、テーブルＴ１を参照する際のインデックスである。

ステップＳ1で、上記インデックスＩが初期化される。

ステップＳ2で、描画するポイントの主走査方向と副走査方向との座標である描画座標が入力される。

ステップＳ3で、図３に例示されたテーブルＴ１のインデックスＩから読み出されたノズル数Ｎ(Ｉ)とインクジェットヘッド２６の傾きθとに基づいて、主走査方向の１回の移動で描画可能な幅である描画可能幅Ｗ(Ｉ)が算出される。ここで、最大ノズル間幅(両端ノズル間隔)をＬとし、総ノズル数をＮ(０)とすると、描画可能幅Ｗ(Ｉ)は、
Ｗ(Ｉ)＝Ｌ・ＣＯＳ(θ)・Ｎ(Ｉ)/Ｎ(０)
となる。

ステップＳ4で、上記ステップＳ2において入力された上記描画座標から副走査方向の最小値「Ｙmin」が求められ、ワーク２５における主走査方向の最小座標「Ｘ０」と上記座標「Ｙmin」とから、描画開始位置ＰＳ(Ｘ０,Ｙmin)が求められる。

ステップＳ5で、上記ステップＳ4において求められた描画開始位置ＰＳ(Ｘ０,Ｙmin)と上記ステップＳ3において求められた副走査方向の描画可能幅Ｗ(Ｉ)とによって、１回の主走査方向への移動で印字可能な領域である走査範囲、すなわち、ＰＳ(Ｘ０,Ｙmin)とＰＥ(Ｘ２,Ｙmin＋Ｗ(Ｉ))とを頂点とする矩形領域の中に、上記ステップＳ2において求められた描画座標が存在する場合に、上記描画対象座標データＰＤＴ(Ｉ)に加えられる。

ステップＳ6で、上記ステップＳ5において求められた描画対象座標データＰＤＴ(Ｉ)が主走査方向の座標で並べ換えられ、副走査方向の座標で、使用ノズルの割付が一次元配列に格納され、繰り返し処理の有無が求められて、描画パターン数ＰＮ２(Ｉ)が求められる。

ステップＳ7で、上記ステップＳ6において求められた描画パターン数ＰＮ２(Ｉ)と、上記テーブルＴ１に格納されている描画パターン数ＰＮ１(Ｉ)とが比較される。その結果、ＰＮ１(Ｉ)≧ＰＮ２(Ｉ)の場合には、ステップＳ8に進み、そうでなければステップＳ12に進む。

ステップＳ8で、上記ステップＳ5において求められた描画対象座標データＰＤＴ(Ｉ)に基づいて、描画パターンおよび描画座標の情報が描画ユニット３へ転送される。そして、描画ユニット３によって、副走査方向にインクジェットヘッド２６が移動されて、主走査方向への移動に連動して、描画データ(描画パターン)に応じた吐出処理が行われる。

ステップＳ9で、上記ステップＳ2において入力された描画座標から、描画対象座標データＰＤＴ(Ｉ)が取り除かれる。

ステップＳ10で、上記ステップＳ9において上記描画座標が残っているか否かが判別される。その結果、描画座標が残っていない場合には、描画処理動作を終了する。一方、描画座標が残っている場合には、ステップＳ11に進む。

ステップＳ11で、参照するテーブルＴ１のインデックスＩが初期化される。そうした後に、ステップＳ3にリターンして描画可能幅Ｗ(Ｉ)の算出が行われる。

ステップＳ12で、参照するテーブルＴ１のインデックスＩがインクリメントされる。そうした後、ステップＳ3にリターンして描画可能幅Ｗ(Ｉ)の算出が行われる。

以下、上記描画処理動作を、具体的な描画座標を用いてさらに詳細に説明する。図２のワーク２５に“・”で示したポイントが描画ポイントである。ワーク２５は(Ｘ０,Ｙ０)と(Ｘ１,Ｙ１)とで示される矩形の印刷可能領域を示すメディアであり、インクジェットヘッド２６のノズル数が１６の例である。

図３に示すテーブ１３(Ｔ１)は、使用ノズルが１６,８,４夫々の場合に登録可能な描画パターン数を示している。上述のデータを用いて、図１０に示すフローチャートの各ステップでの処理を、以下に説明する。「Ｓ１−＊」は「Ｉ＝１」での処理、「Ｓ２−＊」は「Ｉ＝２」での処理を示す。

Ｓ１−１：テーブルＴ１のインデックスＩが「１」に初期化される。

Ｓ１−２：図２に表示された“・”の座標を、全て読み込む。

Ｓ１−３：インデックスＩ＝１で、使用ノズル数「１６」が読み出され、図２に示すようにインクジェットヘッド２６の傾きθと使用ノズル数「１６」より描画可能幅Ｗ(１)が決定される。

Ｓ１−４：副走査方向の最小値「Ｙmin」を求め、主走査方向のワーク２５の最小座標「Ｘ０」から、描画開始位置ＰＳ(Ｘ０,Ｙmin)を求める。

Ｓ１−５：描画開始位置ＰＳ(Ｘ０,Ｙmin)と操作終了位置ＰＥ(Ｘ２,Ｙmin＋Ｗ１(１))とを含む矩形領域の中に含まれる“Ａ”,“Ｂ”,“Ｃ”,“Ｄ”で示される描画対象座標データＰＤＴ(１)を求める。

Ｓ１−６：図４に示すように、描画対象座標データＰＤＴ(１)の変化点から、インクジェットヘッド２６における使用ノズルは、Ｐ１,Ｐ２,Ｐ３,Ｐ４,Ｐ５の５種への変化が必要となる。また、夫々の変化点で、描き始め、繰り返し、描き終わるためには、「描き始め」,「繰り返し」,「描き終わり」用の３つの描画パターンが必要になる。その結果、５つの変化点に対応するには１５(＝５×３)個の描画パターンの登録が必要になることになり、ＰＮ２(１)＝１５となる。

Ｓ１−７：ＰＮ１(１)＝６、ＰＮ２(１)＝１５より、１回の主走査方向の移動で必要な描画パターンを登録できないので、描画に使用するノズルを削減するために、以下のＳ１−１２の処理を行う。

Ｓ１−１２：テーブルＴ１のインデックスＩがインクリメントされ、Ｉ＝２になる。

Ｓ２−３：テーブルＴ１のインデックスＩがインクリメントされたことで、図６に示すように８ノズルを使用した描画可能幅Ｗ(２)が求まる。

Ｓ２−４：上記Ｓ１−４と同様である。但し、描画開始位置ＰＳは、ＰＳ(Ｘ０,Ｙmin)である。

Ｓ２−５：描画開始位置ＰＳ(Ｘ０,Ｙmin)と操作終了位置ＰＥ(Ｘ２,Ｙmin＋Ｗ２(１))とを含む矩形領域の中に含まれる“Ａ”,“Ｂ”,“Ｃ”,“Ｄ”で示される描画対象座標データＰＤＴ(２)を求める。

Ｓ２−６：上記Ｓ１−５と同じ方法で、ＰＮ２(２)＝１２を得る。

Ｓ２−７：ＰＮ１(２)＝１２、ＰＮ２(２)＝１２より、１回の主走査方向の移動で必要な描画パターンを登録が可能となり、Ｓ２−８の描画処理を行う。

Ｓ２−８：インクジェットヘッド２６の傾きθと使用するノズルとから、描画データを生成する。例えば領域Ｐ１に関しては、図５に示すように３種類の描画データを生成し、合わせて描画データの描画位置および印字方向の情報も転送する。

上述の処理を繰り返すことで、描画対象座標データＦに関しても描画が可能になる。また、最大ノズル数が「１６」の場合を例に説明したが、最大ノズル数は「１６」に限定されるものではなく、使用するインクジェットヘッド２６のノズル数に応じてテーブルＴ１を作成することにより、任意のノズル数に対応できることは明らかである。

上述したように、各描画座標に基づいて、使用ノズル数‐登録パターン数テーブル１３を参照して、１回の主走査を行うのに必要な全ての描画パターンが描画ユニット３のＲＡＭ１７に登録可能になる最大使用ノズル数を求め、最大幅で描画処理を行うので、主走査方向の走査増加を削減することが可能になり、タクトタイムの短縮が可能となる。

・第５実施の形態
図１１は、上記第２実施の形態における描画修正装置による描画修正方法を示すフローチャートである。以下、図１１に従って具体的な描画修正処理動作を説明する。

ステップＳ21で、上記テーブルＴ１を参照する際のインデックスＩが初期化される。

ステップＳ22で、修正するポイントの主走査方向と副走査方向との座標である修正座標が入力される。修正ポイントの座標は、カメラユニット５４によって上記ワークを走査して撮像した際の画像信号から検出された座標である。

ステップＳ23で、図３に例示されたテーブルＴ１のインデックスＩから読み出されたノズル数Ｎ(Ｉ)とインクジェットヘッド２６の傾きθとに基づいて、主走査方向の１回の移動で修正可能な幅である修正可能幅Ｗ(Ｉ)が算出される。ここで、最大ノズル間幅(両端ノズル間隔)をＬとし、総ノズル数をＮ(０)とすると、修正可能幅Ｗ(Ｉ)は、
Ｗ(Ｉ)＝Ｌ・ＣＯＳ(θ)・Ｎ(Ｉ)/Ｎ(０)
となる。

ステップＳ24で、上記ステップＳ22において入力された上記修正座標から副走査方向の最小値「Ｙmin」が求められ、ワークにおける主走査方向の最小座標「Ｘ０」と上記座標「Ｙmin」とから、修正開始位置ＰＳ(Ｘ０,Ｙmin)が求められる。

ステップＳ25で、上記ステップＳ24において求められた修正開始位置ＰＳ(Ｘ０,Ｙmin)と上記ステップＳ23において求められた副走査方向の修正可能幅Ｗ(Ｉ)とによって、１回の主走査方向への移動で修正可能な領域である走査範囲、すなわち、ＰＳ(Ｘ０,Ｙmin)とＰＥ(Ｘ２,Ｙmin＋Ｗ(Ｉ))とを頂角とする矩形領域の中に、上記ステップＳ22において求められた修正座標が存在する場合に、修正対象座標データＰＤＴ(Ｉ)に加えられる。

ステップＳ26で、上記ステップＳ25において求められた修正対象座標データＰＤＴ(Ｉ)が、主走査方向の座標で並べ換えられ、副走査方向の座標で、使用ノズルの割付が一次元配列に格納され、繰り返し処理の有無が求められて、修正パターン数ＰＮ２(Ｉ)が求められる。

ステップＳ27で、上記ステップＳ26において求められた修正パターン数ＰＮ２(Ｉ)と、上記テーブルＴ１に格納された修正パターン数ＰＮ１(Ｉ)とが比較される。その結果、ＰＮ１(Ｉ)≧ＰＮ２(Ｉ)の場合には、ステップＳ28に進み、そうでなければステップＳ32に進む。

ステップＳ28で、上記ステップＳ25において求められた修正対象座標データＰＤＴ(Ｉ)に基づいて、描画パターンおよび描画座標の情報が描画ユニット３３へ転送される。そして、描画ユニット３３によって、副走査方向にインクジェットヘッドが移動されて、主走査方向への移動に連動して、描画データ(描画パターン)に応じた吐出処理が行われる。

ステップＳ29で、上記ステップＳ22において入力された修正座標から、修正対象座標データＰＤＴ(Ｉ)が取り除かれる。

ステップＳ30で、上記ステップＳ29において上記修正座標が残っているか否かが判別される。その結果、修正座標が残っていない場合は、描画修正処理動作を終了する。一方、修正座標が残っている場合には、ステップＳ31に進む。

ステップＳ31で、参照するテーブルＴ１のインデックスＩが初期化される。そうした後に、ステップＳ23にリターンして修正可能幅Ｗ(Ｉ)の算出が行われる。

ステップＳ32で、参照するテーブルＴ１のインデックスＩがインクリメントされる。そうした後、ステップＳ23にリターンして描画可能幅Ｗ(Ｉ)の算出が行われる。

上述したように、入力された各修正座標に基づいて、使用ノズル数‐登録パターン数テーブル１３を参照して、１回の主走査を行うのに必要な全ての描画パターンが描画ユニット３のＲＡＭ１７に登録可能になる最大使用ノズル数を求め、最大幅で描画修正処理を行うので、主走査方向の走査増加を削減することが可能になり、タクトタイムの短縮が可能となる。

・第６実施の形態
図１２は、上記第３実施の形態における描画修正装置による描画修正方法を示すフローチャートである。以下、図１２に従って具体的な描画修正処理動作を説明する。

ステップＳ41で、上記テーブルＴ１を参照する際のインデックスＩと、主走査方向への走査が奇数走査であるか偶数走査であるかを識別する走査フラグＪとが初期化される。

ステップＳ42で、修正するポイントの主走査方向と副走査方向との座標である修正座標が入力される。修正ポイントの座標は、カメラユニット８４によって上記ワークを走査して撮像した際の画像信号から検出された座標である。

ステップＳ43で、上記入力された修正座標が、偶数走査で修正する修正座標と奇数走査で修正する修正座標とに、後に詳述する奇数走査・偶数走査分類処理動作によって分類される。

ステップＳ44で、変数Ｊに基づいて奇数走査(変数Ｊを２で割った場合の余りが１)であるか偶数走査(変数Ｊを２で割った場合の余りが０)が判別される。その結果、奇数走査の場合にはステップＳ45に進み、偶数走査の場合にはステップＳ46に進む。

ステップＳ45で、修正の対象となる修正座標が、上記ステップＳ43において求められた奇数走査の修正座標とされる。

ステップＳ46で、修正の対象となる修正座標が、上記ステップＳ43において求められた偶数走査の修正座標とされる。

ステップＳ47で、図３に例示されたテーブルＴ１のインデックスＩから読み出されたノズル数Ｎ(Ｉ)とインクジェットヘッド２６の傾きθとに基づいて、主走査方向の１回の移動で修正可能な幅である修正可能幅Ｗ(Ｉ)が算出される。ここで、最大ノズル間幅(両端ノズル間隔)をＬとし、総ノズル数をＮ(０)とすると、修正可能幅Ｗ(Ｉ)は、
Ｗ(Ｉ)＝Ｌ・ＣＯＳ(θ)・Ｎ(Ｉ)/Ｎ(０)
となる。

ステップＳ48で、上記ステップＳ45において設定された上記奇数走査の修正座標、または、上記ステップＳ46において設定された上記偶数走査の修正座標から、副走査方向の最小値「Ｙmin」が求められ、上記ワークにおける主走査方向の最小座標「Ｘ０」と上記座標「Ｙmin」とから、修正開始位置ＰＳ(Ｘ０,Ｙmin)が求められる。

ステップＳ49で、上記ステップＳ48において求められた修正開始位置ＰＳ(Ｘ０,Ｙmin)と上記ステップＳ47において求められた副走査方向の修正可能幅Ｗ(Ｉ)とによって、１回の主走査方向への移動で修正可能な領域である走査範囲、すなわち、ＰＳ(Ｘ０,Ｙmin)とＰＥ(Ｘ２,Ｙmin＋Ｗ(Ｉ))とを頂角とする矩形領域の中に、上記ステップＳ42において求められた修正座標が存在する場合に、修正対象座標データＰＤＴ(Ｉ)に加えられる。

ステップＳ50で、上記ステップＳ49において求められた修正対象座標データＰＤＴ(Ｉ)が、主走査方向の座標で並べ換えられ、副走査方向の座標で、使用ノズルの割付が一次元配列に格納され、繰り返し処理の有無が求められて、修正パターン数ＰＮ２(Ｉ)が求められる。

ステップＳ51で、上記ステップＳ50において求められた修正パターン数ＰＮ２(Ｉ)と、上記テーブルＴ１に格納された修正パターン数ＰＮ１(Ｉ)とが比較される。その結果、ＰＮ１(Ｉ)≧ＰＮ２(Ｉ)の場合には、ステップＳ52に進み、そうでなければステップＳ56に進む。

ステップＳ52で、上記ステップＳ49において求められた修正対象座標データＰＤＴ(Ｉ)に基づいて、描画パターンおよび描画座標の情報が描画ユニット６３へ転送される。そして、描画ユニット６３によって、副走査方向にインクジェットヘッドが移動されて、主走査方向への移動に連動して、描画データ(描画パターン)に応じた吐出処理が行われる。

ステップＳ53で、上記ステップＳ42において入力された修正座標から、修正対象座標データＰＤＴ(Ｉ)が取り除かれる。

ステップＳ54で、上記ステップＳ53において上記修正座標が残っているか否かが判別される。その結果、修正座標が残っていない場合は、描画修正処理動作を終了する。一方、修正座標が残っている場合には、ステップＳ55に進む。

ステップＳ55で、参照するテーブルＴ１のインデックスＩおよび走査フラグＪが初期化される。そうした後に、ステップＳ43にリターンして、偶数走査で修正する修正座標と奇数走査で修正する修正座標とへの分類が行われる。

ステップＳ56で、参照するテーブルＴ１のインデックスＩがインクリメントされる。そうした後、ステップＳ47にリターンして描画可能幅Ｗ(Ｉ)の算出が行われる。

図１３は、図１２に示す描画修正処理動作のフローチャートの上記ステップＳ43において実行される奇数走査・偶数走査分類処理動作のフローチャートである。以下、図１３に従って、奇数走査・偶数走査分類処理動作について説明する。

ステップＳ61で、副走査方向の座標が同じ修正座標が一つのグループＨ(Ｋ)にまとめられる。そして、ステップＳ62で、グループ番号Ｋが初期設定される。

ステップＳ63で、同一グループＨ(Ｋ)内において、主走査方向の最小値ＭＩＮおよび最大値ＭＡＸが求められる。

ステップＳ64で、上記ステップＳ63において求められた最小値ＭＩＮが、奇数走査で修正すべき修正座標「Ｘ０」と一致するか否かが判別され、一致する場合にはステップＳ65に進み、一致しない場合にはステップＳ66に進む。

ステップＳ65で、グループＨ(Ｋ)が、奇数走査で修正すべき修正座標のグループに追加される。そうした後、ステップＳ68に進む。

ステップＳ66で、上記ステップＳ63において求められた最大値ＭＡＸが、偶数走査で修正すべき修正座標「Ｘ１」と一致するか否かが判別され、一致する場合にはステップＳ67に進み、一致しない場合にはステップＳ68に進む。

ステップＳ67で、グループＨ(Ｋ)が、偶数走査で修正すべき修正座標のグループに追加される。

ステップＳ68で、全てのグループＨ(Ｋ)に関する処理が終了したか否かが判別される。その結果、終了していなければステップＳ69に進んでグループ番号Ｋがインクリメントされ、上記ステップＳ63にリターンする。一方、終了していれば偶数走査・奇数走査分類処理動作を終了する。

上述したように、上記第２実施の形態の場合と比較して、ワーク上の複数の修正箇所を奇数走査での修正および偶数走査での修正に分類することによって、ワーク外で行った捨て吐出に引き続き描画を行うことができるので、不吐出の問題が発生しにくくなり、着弾位置ズレ、液滴量の安定化を図ることが可能になる。特に、不吐出が発生しやすいインクを使用するスペーサの修正には有効である。

・第７実施の形態
図１４は、図１１および図１２とは異なる描画修正方法を示すフローチャートである。以下、図１４に従って本描画修正処理動作について説明する。

ステップＳ71で、第Ｊ番目の主走査方向への移動に関し、上記テーブルＴ１を参照する際のインデックスＩが初期化される。

ステップＳ72で、第Ｊ番目の主走査方向への移動に関し、修正するポイントの主走査方向と副走査方向との座標である修正座標が入力される。修正ポイントの座標は、上記カメラユニットによって上記ワークを走査して撮像した際の画像信号から検出された座標である。

ステップＳ73で、第Ｊ番目の主走査方向への移動に関し、図３に例示されたテーブルＴ１のインデックスＩから読み出されたノズル数Ｎ(Ｉ)と上記インクジェットヘッドの傾きθとに基づいて、上記主走査方向の１回の移動で修正可能な幅である修正可能幅Ｗ(Ｉ)が算出される。ここで、最大ノズル間幅(両端ノズル間隔)をＬとし、総ノズル数をＮ(０)とすると、修正可能幅Ｗ(Ｉ)は、
Ｗ(Ｉ)＝Ｌ・ＣＯＳ(θ)・Ｎ(Ｉ)/Ｎ(０)
となる。

ステップＳ74で、第Ｊ番目の主走査方向への移動に関し、上記ステップＳ72において入力された上記修正座標から副走査方向の最小値「Ｙmin」が求められ、上記ワークにおける主走査方向の最小座標「Ｘ０」と上記座標「Ｙmin」とから、修正開始位置ＰＳ(Ｘ０,Ｙmin)が算出される。

ステップＳ75で、第Ｊ番目の主走査方向への移動に関し、上記ステップＳ74において求められた修正開始位置ＰＳ(Ｘ０,Ｙmin)と上記ステップＳ73において求められた副走査方向の修正可能幅Ｗ(Ｉ)とによって、１回の主走査方向への移動で修正可能な領域である走査範囲、すなわち、ＰＳ(Ｘ０,Ｙmin)とＰＥ(Ｘ２,Ｙmin＋Ｗ（Ｉ))とを頂角とする矩形領域の中に、上記ステップＳ72において求められた修正座標が存在する場合に、修正対象座標データＰＤＴ(Ｉ)に加えられる。

ステップＳ76で、第Ｊ番目の主走査方向への移動に関し、上記ステップＳ75において求められた修正対象座標データＰＤＴ(Ｉ)が、主走査方向の座標で並べ換えられ、副走査方向の座標で、使用ノズルの割付が一次元配列に格納され、繰り返し処理の有無が求められて、修正パターン数ＰＮ２(Ｉ)が求められる。

ステップＳ77で、第Ｊ番目の主走査方向への移動に関し、上記ステップＳ76において求められた修正パターン数ＰＮ２(Ｉ)と、上記テーブルＴ１に格納された修正パターン数ＰＮ１(Ｉ)とが比較される。その結果、ＰＮ１(Ｉ)≧ＰＮ２(Ｉ)の場合には、ステップＳ79に進み、そうでなければステップＳ78に進む。

ステップＳ78で、参照するテーブルＴ１のインデックスＩがインクリメントされる。そうした後、ステップＳ73にリターンして、第Ｊ番目の主走査方向への移動に関する修正可能幅Ｗ(Ｉ)の算出が行われる。

ステップＳ79で、第(Ｊ＋１)番目の主走査方向への移動に関し、上記ステップＳ71から上記ステップＳ78までの処理を実行することにより、上記ステップＳ76において求められた修正パターン数ＰＮ２(Ｉ')と、テーブルＴ１に格納された修正パターン数ＰＮ１(Ｉ')とが比較される。こうして、第(Ｊ＋１)番目の主走査に関する修正パターンが登録可能な否かが判別される。その結果、ＰＮ１(Ｉ')≧ＰＮ２(Ｉ')であって登録可能な場合には、ステップＳ80に進み、そうでなければステップＳ86に進む。ここで、ＰＮ２(Ｉ)＋ＰＮ２(Ｉ')の合計は、登録パターン数を超過してはならない。

ステップＳ80で、上記ステップＳ78までによって求められた第Ｊ番目の主走査方向への移動終了位置と第(Ｊ＋１)番目の描画開始位置情報とから、主走査方向の到達時間Ｔ０が計算によって求められる。また、副走査方向にインジェクションヘッドが移動され、インジェクションヘッドの振動が指定範囲以内に収まるまでの副走査方向移動時間Ｔ１が計算によって求められる。そして、Ｔ１≦Ｔ０の場合には、ステップＳ81に進み、そうでなければステップＳ86に進む。

ステップＳ81で、第Ｊ番目と第(Ｊ＋１)番目との描画パターン情報および描画座標情報が上記描画ユニットに転送される。

ステップＳ82で、上記描画ユニットによって、副走査方向にインクジェットヘッドが移動されて、主走査方向への移動に連動して、描画データ(描画パターン)に応じた吐出処理が行われる。さらに、第Ｊ番目の描画パターンの描画が終了したタイミングで、副走査方向にインクジェットヘッドが移動される。

ステップＳ83で、上記ステップＳ81あるいは後に詳述するステップＳ86において入力された修正座標から、修正対象座標データが取り除かれる。

ステップＳ84で、上記ステップＳ83において上記修正座標が残っているか否かが判別される。その結果、修正座標が残っていない場合は、描画修正処理動作を終了する。一方、修正座標が残っている場合には、ステップＳ85に進む。

ステップＳ85で、参照するテーブルＴ１のインデックスＩが初期化される。そうした後に、ステップＳ73にリターンして、第Ｊ番目の主走査方向への移動に関する修正可能幅Ｗ(Ｉ)の算出が行われる。

ステップＳ86で、第Ｊ番目の描画パターン情報および描画座標情報が上記描画ユニットに転送される。

ステップＳ87で、上記描画ユニットによって、副走査方向にインクジェットヘッドが移動されて、主走査方向への移動に連動して、描画データに応じた吐出処理が行われる。そうした後に、上記ステップＳ83に移行する。

以下、図１５および図１６に従って、第７実施の形態における１回の主走査方向へのインクジェットヘッドの移動中における副走査方向への移動について、具体的に説明する。

第１番目の主走査方向への移動によって描画対象座標データＡと描画対象座標データＢが選ばれ、第２番目の主走査方向への移動によって描画対象座標データＣが選ばれたとする。この場合、描画対象座標データＡ,Ｂ,Ｃの全ての修正パターン数ＰＮ２(Ｉ)は６以下となり、第１番目と第２番目の修正パターンが登録可能になる。

さらに、主走査方向への移動距離(ＸＳ２−ＸＥ１)の移動に必要な時間(主走査方向の到達時間)をＴ０とし、副走査方向への移動距離(Ｙ２min−Ｙ１min)の移動時間と振動が基準値以内になる時間との和(走査方向移動時間)をＴ１としたとき、Ｔ１≦Ｔ０の場合には、第１番目の描画終了時に、図１６のごとくＹ２minの位置に副走査方向にインクジェットヘッドを移動させることで、当初第２番目の主走査方向の修正予定であったデータに関しても第１番目の主走査方向描画で修正が可能になるのである。

上述したように、修正箇所が点在している場合には、主走査方向の移動途中に副走査方向を移動させることで、修正処理点数が増え、主走査方向の走査増加を削減することが可能になり、タクトタイムの短縮が可能となる。

この発明の描画装置における機能ブロック図である。 ワークとインクジェットヘッドとの関係を示す図である。 図１における「使用ノズル数‐登録パターン数テーブル」の概念を示す図である。 図２のワーク上における使用ノズルが変化しない領域の説明図である。 図４における領域Ｐ１に関する描画パターンを例示する図である。 図２とは異なるワークとインクジェットヘッドとの関係を示す図である。 図６のワーク上における使用ノズルが変化しない領域の説明図である。 この発明の描画修正装置における機能ブロック図である。 図８とは異なる描画修正装置における機能ブロック図である。 図１に示す描画装置による描画方法のフローチャートである。 図８に示す描画修正装置による描画修正方法のフローチャートである。 図９に示す描画修正装置による描画修正方法のフローチャートである。 図１２における偶数走査・奇数走査分類処理のフローチャートである。 図１１および図１２とは異なる描画修正方法のフローチャートである。 図２および図６とは異なるワークとインクジェットヘッドとの関係を示す図である。 図２,図６および図１５とは異なるワークとインクジェットヘッドとの関係を示す図である。 繰り返しモードでの描画方法の説明図である。 散在モードでの描画方法の説明図である。

符号の説明

１…描画装置、
２,３２,６２…描画制御装置、
３…描画ユニット、
４,３４,６４…制御処理部、
５,３５,６５…駆動処理部、
６…描画座標入力部、
７,３７,６７…描画可能幅算出部、
８,３８,６８…描画開始位置算出部、
９,３９,６９…描画対象座標データ算出部、
１０,４０,７０…描画パターン数算出部、
１１,４１,７１…描画条件判定部、
１２,４２,７２…描画データ有無確認部、
１３,４３,７３…使用ノズル数‐登録パターン数テーブル、
１４,４４,７４…描画ドライバ、
１５,４５,７５…Ｉ/Ｆ専用回路、
１６,４６,７６…ＣＰＵ、
１７,４７,７７…ＲＡＭ、
１８,４８,７８…ＲＯＭ、
１９,４９,７９…モータ制御回路、
２０,５０,８０…ヘッド制御回路、
２１,５１,８１…ヘッドユニット、
２２,５２,８２…主走査方向モータ、
２３,５３,８３…副操作方向モータ、
２５…ワーク、
２６…インクジェットヘッド、
３１,６１…描画修正装置、
３３,６３…修正ユニット、
５４,８４…カメラユニット、
５５,８５…カメラ制御回路、
５６,８６…修正座標生成部、
８７…奇数・偶数走査グループ分類部。

Claims (12)

1. 描画部と、
   上記描画部によるワークに対する描画動作を制御する描画制御部と
   を備え、
   上記描画部は、
   機能液滴を吐出する複数のノズルを有するノズルヘッドと、
   上記ノズルヘッドを、上記ワークに対して相対的に、主走査方向に移動させる主走査部と、
   上記ノズルヘッドを、上記ワークに対して相対的に、上記主走査方向と交差する副走査方向に移動させる副走査部と
   を含み、
   上記描画制御部は、
   使用ノズル数と登録可能な描画パターン数とを対応付けたテーブルと、
   上記ワーク上に設定された座標空間における描画座標を取得する描画座標取得部と
   を含むと共に、
   上記描画座標取得部によって取得されたワーク上の描画座標に基づいて、上記テーブルを参照して、１回の主走査を行うのに必要な全ての描画パターンの数が上記登録可能な描画パターン数を超過しない最大の使用ノズル数を求め、この求められた使用ノズル数とこの使用ノズル数での上記主走査方向への走査範囲内における描画対象座標とに基づいて、上記主走査方向への１回の走査で必要な描画パターンを生成して上記描画部に送出するようになっている
   ことを特徴とする描画装置。
2. 請求項１に記載の描画装置において、
   上記描画制御部は、
   上記テーブルを参照して上記ノズルヘッドにおける使用ノズル数を設定すると共に、この設定したノズル数と上記ノズルヘッドの上記主走査方向あるいは上記副走査方向に対する傾きとから、上記ノズルヘッドによる上記副走査方向への描画可能幅を算出する描画可能幅算出部と、
   上記描画座標取得部によって取得された上記ワーク上の描画座標に基づいて描画開始位置を算出する描画開始位置算出部と、
   上記描画開始位置算出部によって算出された上記描画開始位置と上記描画可能幅算出部によって算出された上記描画可能幅とに基づいて上記主走査方向への走査範囲を求めると共に、この走査範囲内における描画対象座標を算出する描画対象画像データ算出部と、
   上記描画対象画像データ算出部によって算出された上記描画対象座標に基づいて、上記主走査方向への１回の走査で必要な描画パターン数を求める描画パターン数算出部と、
   上記描画パターン数算出部によって算出された上記描画パターン数が、上記設定されたノズル数に基づいて上記テーブルを参照して求めた登録可能な描画パターン数を超過しているか否かを判定すると共に、超過していない場合には、上記設定された使用ノズル数と上記描画対象座標とに基づいて描画パターンを生成して上記描画部に送出する描画条件判定部と
   を含み、
   上記描画条件判定部によって、上記描画パターン数が上記登録可能な描画パターン数を超過していると判定された場合には、上記描画可能幅算出部によって、上記テーブルを参照してさらに少ない使用ノズル数を設定するようになっている
   ことを特徴とする描画装置。
3. 請求項１あるいは請求項２に記載の描画装置において、
   上記描画パターンは、同一ノズルによる描画領域に関して、描き始め用の描画パターンと、繰り返し用の描画パターンと、描き終わり用の描画パターンとを含んでおり、
   上記描画部は、先ず上記描き始め用の描画パターンに従って描画動作を行い、次に上記繰り返し用の描画パターンに従った描画動作を必要回数だけ繰り返し行い、最後に上記描き終わり用の描画パターンに従って描画動作を行うことによって、当該描画領域に対する描画動作を行う
   ことを特徴とする描画装置。
4. 請求項１あるいは請求項２に記載の描画装置において、
   上記描画制御部に、上記描画座標取得部によって取得されたワーク上の描画座標を、副走査方向への座標が同一であって主走査方向への座標が連続している描画座標を一つのグループとし、上記各グループのうち主走査方向への座標の最小値が上記ワーク上に設定された描画可能範囲の主走査方向への座標の最小値と同一であるグループを第１走査グループとする一方、主走査方向への座標の最大値が上記描画可能範囲の主走査方向への座標の最大値と同一であるグループを第２走査グループとする走査グループ分類部を備え、
   上記描画部は、上記描画対象座標のうち、上記第１走査グループに属する描画対象座標に関して描画を行う場合には、上記ノズルヘッドが主走査方向に１往復移動する際において、上記描画可能範囲の主走査方向への座標の最小値側からの移動時に描画を行う一方、上記第２走査グループに属する描画対象座標に対して描画を行う場合には、上記描画可能範囲の主走査方向への座標の最大値側からの移動時に描画を行う
   ことを特徴とする描画装置。
5. 請求項１あるいは請求項２における上記描画制御部と上記描画部とを備え、
   上記描画部に、既に描画動作が行われたワーク上における実際には描画されなかった箇所の座標を修正座標として検出する修正座標検出部を設け、
   上記描画制御部における上記描画座標取得部は、上記修正座標検出部によって検出された修正座標を、上記ワーク上の描画座標として取得するようになっており、
   上記描画部は、上記描画制御部による制御の下に上記ワークに対する描画動作を行うことによって、上記ワーク上における実際には描画されなかった箇所に描画を行う描画修正を行う
   ことを特徴とする描画修正装置。
6. 請求項５に記載の描画修正装置において、
   上記修正座標検出部は、
   既に描画動作が行われたワークの表面を撮像して画像信号を出力するカメラと、
   上記カメラの動作を制御すると共に、上記カメラからの画像信号に基づいて上記ワーク上における実際に描画されている座標を求め、この求められた実際に描画されている座標と当該ワーク上における正規の描画座標とに基づいて上記修正座標を検出するカメラ制御回路と
   を含んでいる
   ことを特徴とする描画修正装置。
7. 請求項５あるいは請求項６に記載の描画修正装置において、
   上記描画制御部に、上記描画座標取得部によって取得された上記修正座標を、副走査方向への座標が同一であって主走査方向への座標が連続している修正座標を一つのグループとし、上記各グループのうち主走査方向への座標の最小値が上記ワーク上に設定された描画可能範囲の主走査方向への座標の最小値と同一であるグループを第１走査グループとする一方、主走査方向への座標の最大値が上記描画可能範囲の主走査方向への座標の最大値と同一であるグループを第２走査グループとする走査グループ分類部を備え、
   上記描画部は、上記描画対象座標のうち、上記第１走査グループに属する描画対象座標に関して描画を行う場合には、上記ノズルヘッドが主走査方向に１往復移動する際において、上記描画可能範囲の主走査方向への座標の最小値側からの移動時に描画を行う一方、上記第２走査グループに属する描画対象座標に対して描画を行う場合には、上記描画可能範囲の主走査方向への座標の最大値側からの移動時に描画を行う
   ことを特徴とする描画修正装置。
8. 複数のノズルを有するノズルヘッドと、上記ノズルヘッドをワークに対して相対的に主走査方向に移動させる主走査部と、上記ノズルヘッドを上記ワークに対して相対的に上記主走査方向と交差する副走査方向に移動させる副走査部と、使用ノズル数とこのノズル数で描画を行った際に登録可能な描画パターン数とを対応付けて登録されたテーブルと、を用いる描画方法であって、
   描画座標を入力する描画座標入力ステップと、
   上記副走査方向に対する上記ノズルヘッドの傾きと、上記テーブルのインデックスＩに登録されている使用ノズル数Ｎ(Ｉ)とから、上記ノズルヘッドによる上記副走査方向への描画可能幅Ｗ(Ｉ)を求める描画可能幅算出ステップと、
   上記入力された描画座標に基づいて、上記描画座標の上記副走査方向の最小値を求め、この最小値と上記ワークの上記主走査方向の最小座標とに基づいて、描画開始位置ＰＳ１(Ｉ)を求める描画開始位置算出ステップと、
   上記描画開始位置ＰＳ１(Ｉ)と上記描画可能幅Ｗ(Ｉ)とに基づく上記ノズルヘッドによる上記主走査方向への走査範囲内にある上記描画座標の列を、描画対象座標データＰＤＴ(Ｉ)として求める描画対象座標算出ステップと、
   上記描画対象座標データＰＤＴ(Ｉ)に基づいて、上記描画対象座標データＰＤＴ(Ｉ)に描画するのに必要な描画パターン数ＰＮ２(Ｉ)を求める描画パターン数算出ステップと、
   上記テーブルのインデックスＩに登録されている描画パターン数ＰＮ１(Ｉ)が、上記描画パターン数算出ステップで求められた描画パターン数ＰＮ２(Ｉ)以上である場合には、上記描画対象座標算出ステップで求められた上記描画対象座標データＰＤＴ(Ｉ)に描画を行う描画ステップと
   を備え、
   上記テーブルのインデックスＩに登録されている描画パターン数ＰＮ１(Ｉ)が、上記描画パターン数算出ステップで求められた描画パターン数ＰＮ２(Ｉ)よりも小さい場合は、上記テーブルのインデックスを変更しながら、描画パターン数ＰＮ１(Ｉ)が上記描画パターン数ＰＮ２(Ｉ)以上になるまで、上記描画可能幅算出ステップ,上記描画開始位置算出ステップ,上記描画対象座標算出ステップおよび上記描画パターン数算出ステップを繰り返して行う
   ことを特徴とする描画方法。
9. 複数のノズルを有するノズルヘッドと、上記ノズルヘッドをワークに対して相対的に主走査方向に移動させる主走査部と、上記ノズルヘッドを上記ワークに対して相対的に上記主走査方向と交差する副走査方向に移動させる副走査部と、使用ノズル数とこのノズル数で描画を行った際に登録可能な描画パターン数とを対応付けて登録されたテーブルと、を用いる描画修正方法であって、
   修正座標を取得する修正座標取得ステップと、
   上記副走査方向に対する上記ノズルヘッドの傾きと、上記テーブルのインデックスＩに登録されている使用ノズル数Ｎ(Ｉ)とから、上記ノズルヘッドによる上記副走査方向への修正可能幅Ｗ(Ｉ)を求める修正可能幅算出ステップと、
   上記取得された修正座標に基づいて、上記修正座標の上記副走査方向の最小値を求め、この最小値と上記ワークの上記主走査方向の最小座標とに基づいて、修正開始位置ＰＳ１(Ｉ)を求める修正開始位置算出ステップと、
   上記修正開始位置ＰＳ１(Ｉ)と上記修正可能幅Ｗ(Ｉ)とに基づく上記ノズルヘッドによる上記主走査方向への走査範囲内にある上記修正座標の列を、修正対象座標データＰＤＴ(Ｉ)として求める修正対象座標算出ステップと、
   上記修正対象座標データＰＤＴ(Ｉ)に基づいて、上記修正対象座標データＰＤＴ(Ｉ)を修正するのに必要な修正パターン数ＰＮ２(Ｉ)を求める修正パターン数算出ステップと、
   上記テーブルのインデックスＩに登録されている描画パターン数ＰＮ１(Ｉ)が、上記描画パターン数算出ステップで求められた修正パターン数ＰＮ２(Ｉ)以上である場合には、上記修正対象座標算出ステップで求められた上記修正対象座標データＰＤＴ(Ｉ)に修正を行う修正ステップと
   を備え、
   上記テーブルのインデックスＩに登録されている描画パターン数ＰＮ１(Ｉ)が、上記修正パターン数算出ステップで求められた修正パターン数ＰＮ２(Ｉ)よりも小さい場合は、上記テーブルのインデックスを変更しながら、描画パターン数ＰＮ１(Ｉ)が上記修正パターン数ＰＮ２(Ｉ)以上になるまで、上記修正可能幅算出ステップ,上記修正開始位置算出ステップ,上記修正対象座標算出ステップおよび上記修正パターン数算出ステップを繰り返して行う
   ことを特徴とする描画修正方法。
10. 請求項９に記載の描画修正方法において、
    上記修正座標取得ステップと上記修正可能幅算出ステップとの間に、
    上記取得された修正座標を、主走査方向に関して、奇数走査で修正すべき修正座標と偶数走査で修正すべき修正座標とに分類する奇数走査・偶数走査分類ステップと、
    上記ノズルヘッドにおける次の主走査が奇数走査である場合には、修正対象の修正座標を、奇数走査で修正すべき修正座標に分類された修正座標に設定する一方、次の主走査が偶数走査である場合には、修正対象の修正座標を、偶数走査で修正すべき修正座標に分類された修正座標に設定する修正対象座標設定ステップと
    を備え、
    上記修正可能幅算出ステップ以降の各ステップでは、上記修正対象座標設定ステップで設定された修正座標に対して処理を行う
    ことを特徴とする描画修正方法。
11. 請求項９に記載の描画修正方法において、
    上記修正座標取得ステップにおいてＪ番目の主走査によって修正されるべき上記修正座標が取得されている場合であっても、下記条件を満たす場合には、(Ｊ＋１)番目の主走査によって修正されるべき上記修正座標に対して上記修正座標取得ステップ,上記修正可能幅算出ステップ,上記修正開始位置算出ステップ,上記修正対象座標算出ステップおよび上記修正パターン数算出ステップを行って、(Ｊ＋１)番目の主走査によって修正されるべき上記修正座標に対しても、Ｊ番目の主走査によって修正を行うことを特徴とする描画修正方法。
    条件１：Ｊ番目の主走査時における修正パターンと、(Ｊ＋１)番目の主走査時における修正パターンとを、修正パターン登録部に登録できる。
    条件２：Ｊ番目の主走査時における修正終了時から(Ｊ＋１)番目の主走査時における修正開始までの時間が、上記ノズルヘッドを副走査方向に移動させる時間と上記ノズルヘッドの副走査方向の位置が確定する時間との和よりも長い場合。
12. 請求項８に記載の描画方法、あるいは、請求項９から請求項１１までの何れか一つに記載の描画修正方法を記録したことを特徴とするコンピュータ読み出し可能なプログラム記録媒体。

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