JP2009151062A - Plastic microstructure manufacturing method and plastic microstructure - Google Patents
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Abstract
【課題】特殊の形状をなす構造体の所定の部位に金属製薄膜を密着・固定したプラスチックス製微細構造体を容易に製造することができるプラスチックス製微細構造体製造方法とそのプラスチック製構造体を提供する。
【解決手段】微細凹凸パターン13を備え凸部13a及びその近傍にのみ金属薄膜17が付着している転写・転移用モールド15を用意し、モールドを加熱したプラスチック製基板3に押し付けて微細凹凸パターンをプラスチック製基板に転写すると共に、金属薄膜7をプラスチック製基板側に転移させるようにした。
【選択図】図7A plastics microstructure manufacturing method capable of easily manufacturing a plastics microstructure in which a metal thin film is adhered and fixed to a predetermined part of a structure having a special shape, and the plastic structure thereof Provide the body.
A transfer / transfer mold 15 having a fine concavo-convex pattern 13 and having a metal thin film 17 attached only to and near the convex portion 13a is prepared, and the mold is pressed against a heated plastic substrate 3. Was transferred to the plastic substrate, and the metal thin film 7 was transferred to the plastic substrate side.
[Selection] Figure 7
Description
本発明は、例えば、高機能偏光子或いは回析格子等の各種光学素子として使用可能なプラスチック製微細構造体を製造するためのプラスチック製微細構造体製造方法とプラスチック製微細構造体に係り、特に、特殊の形状をなす構造体の所定の部位に金属製薄膜を密着・固定したものを容易に提供できるように工夫したものに関する。 The present invention relates to a plastic microstructure manufacturing method and a plastic microstructure for manufacturing a plastic microstructure that can be used, for example, as various optical elements such as a high-performance polarizer or a diffraction grating. Further, the present invention relates to a device that is devised so that a metal thin film that is closely attached and fixed to a predetermined part of a structure having a special shape can be easily provided.
従来の微細構造体製造方法を図8を参照して説明する。図8は従来の微細構造体製造方法を工程順に示す図であり、まず、図8(a)に示すように、リソグラフィーが実行される。それによって、シリコン(Si)製基板101上にレジスト103が設置された状態となる。次に、図8(b)に示すように、エッチングが実行される。それによって、レジスト103が設置されていない箇所に溝105が形成されることになる。次に、図8(c)に示すように、蒸着が実行される。それによって、上記レジスト103の上及び溝105の底部に金属薄膜107が蒸着されることになる。次に、図8(d)に示すように、リフトオフが実行される。それによって、レジスト103とその上に設置された金属薄膜107が除去される。そして、最終的には図8(d)に示すように、シリコン(Si)製基板101の溝105の底部のみに金属薄膜107が設置された構成の微細構造体を得ることができるものである。
A conventional microstructure manufacturing method will be described with reference to FIG. FIG. 8 is a diagram showing a conventional microstructure manufacturing method in the order of steps. First, as shown in FIG. 8A, lithography is performed. As a result, the
上記構成の場合には、確かに、シリコン(Si)製基板101の溝105の底部のみに金属薄膜107が設置された構成の微細構造体を得ることができるが、上記金属薄膜107は溝105の底部に堆積しているだけであり溝105の底部に対する密着性が悪いという問題があった。これは、基板がプラスチック製の場合に特に顕著であった。 又、基板がプラスチック製の場合には、有機溶剤を含むレジスト溶液や現像液、或いはリフトオフ時に使用するレジスト剥離液によってプラスチックの表面が侵食されてしまうという問題もあった。
In the case of the above-described configuration, it is possible to obtain a fine structure having a configuration in which the metal
そこで、そのような問題点を解決するものとして、例えば、特許文献1に開示されているような微細構造体製造方法が提案されている。
上記特許文献1に開示されている微細構造体製造方法を図9を参照して説明する。まず、図9(a)に示すように、プラスチック製基板201があり、このプラスチック製基板201の上には金属薄膜203が設置されている。次に、図9(b)に示すように、押し込み処理が実行される。すなわち、微細パターンが刻印された原盤205を用意して、この原盤205を使用して金属薄膜203をプラスチック製基板201内に部分的に押し込むものである。次に、図9(c)に示すように、押し込まれなかった金属薄膜203を除去するものである。以上の工程を経ることにより、プラスチック製基板201に金属薄膜203を所定のパターンで埋め込んだ微細構造体を得ることができるものである。
The microstructure manufacturing method disclosed in
上記従来の構成によると次のような問題があった。 まず、図9(b)に示す押し込み工程に際しては、プラスチック製基板201を加熱した状態で金属薄膜203を変形させるために、金属薄膜203にクラックが入ってしまうことがあった。これは、金属薄膜203の機械的特性や金属薄膜203とプラスチック製基板201の熱膨張率の違いに起因する。 又、別の問題として、図9(b)に示す状態から埋め込まれなかった金属薄膜203を除去する作業が面倒であるという問題があった。すなわち、この種の作業は切削刃を使用した機械的処理によって行われるものであるが、埋め込まれなかった金属薄膜203を精度良く除去することは極めて困難であった。
The conventional configuration has the following problems. First, in the pressing step shown in FIG. 9B, the metal
本発明はこのような点に基づいてなされたものでその目的とするところは、特殊の形状をなす構造体の所定の部位に金属製薄膜を密着・固定したプラスチック製微細構造体を容易に製造することができるプラスチック製微細構造体製造方法とそのプラスチック製構造体を提供することにある。 The present invention has been made on the basis of these points, and the object of the present invention is to easily manufacture a plastic microstructure in which a metal thin film is closely attached and fixed to a predetermined portion of a structure having a special shape. Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing a plastic microstructure and a plastic structure.
上記課題を解決するべく本願発明の請求項1によるプラスチック製微細構造製造体製造方法は、微細凹凸パターンを備え凸部及びその近傍にのみ金属薄膜が付着している転写・転移用モールドを用意し、上記転写・転移用モールドを加熱したプラスチック製基板に押し付けて上記微細凹凸パターンを上記プラスチック製基板に転写すると共に上記金属薄膜を上記プラスチック製基板側に転移させるようにしたことを特徴とするものである。又、請求項2によるプラスチック製微細構造体製造方法は、請求項1記載のプラスチック製微細構造体製造方法において、微細凹凸パターンを備えたモールドを真空蒸着源に対向・配置させ、その際、上記微細凹凸パターンの凹部が蒸着されないように上記モールドを上記真空蒸着源に対して所定角度だけ傾斜させた状態とし、その状態で真空蒸着することにより上記転写・転移用モールドを得るようにしたものであることを特徴とするものである。又、請求項3によるプラスチック製微細構造体製造方法は、請求項2記載のプラスチック製微細構造体製造方法において、上記モールドは未蒸着部分が最も多く得られる方向に沿って上記真空蒸着源に対向・配置されていることを特徴とするものである。又、請求項4によるプラスチック製微細構造体製造方法は、請求項1〜請求項3の何れかに記載のプラスチック製微細構造体製造方法において、上記モールドは表面が疎水性を示す材料又は表面を疎水処理した材料から構成されていることを特徴とするものである。又、請求項5によるプラスチック製微細構造体製造方法は、請求項1〜請求項4の何れかに記載のプラスチック製微細構造体製造方法において、上記プラスチック製基板は熱可塑性樹脂製であることを特徴とするものである。又、請求項6によるプラスチック製微細構造体は、微細凹凸パターンを備えたプラスチック製基板と、上記微細凹凸パターンの凹部のみに密着された状態で設置された金属薄膜と、を具備したことを特徴とするものである。
In order to solve the above-mentioned problem, a manufacturing method for a plastic microstructured structure according to
以上述べたように本願発明の請求項1によるプラスチック製微細構造体製造方法は、微細凹凸パターンを備え凸部及びその近傍にのみ金属薄膜が付着している転写・転移用モールドを用意し、上記転写・転移モールドを加熱したプラスチック製基板に押し付けて上記微細凹凸パターンを上記プラスチック製基板に転写すると共に上記金属薄膜を上記プラスチック製基板側に転移させるようにしたものであり、それによって、所望の構成をなすプラスチック製微細構造体を容易に製造することができるものである。又、請求項2によるプラスチック製微細構造体製造方法は、請求項1記載のプラスチック製微細構造体製造方法において、微細凹凸パターンを備えたモールドを真空蒸着源に対向・配置させ、その際、上記微細凹凸パターンの凹部が蒸着されないように上記モールドを上記真空蒸着源に対して所定角度だけ傾斜させた状態とし、その状態で真空蒸着することにより上記転写・転移用モールドを得るようにしたものであるので、凸部及びその近傍にのみ金属薄膜が付着した転写・転移用モールドを容易に得ることができる。又、請求項3によるプラスチック製微細構造体製造方法は、請求項2記載のプラスチック製微細構造体製造方法において、上記モールドは未蒸着部分が最も多く得られる方向に沿って上記真空蒸着源に対向・配置されていることを特徴とするものであり、それによって、上記効果をより確実なものとすることができる。又、請求項4によるプラスチック製微細構造体製造方法は、請求項1〜請求項3の何れかに記載のプラスチック製微細構造体製造方法において、上記モールドは表面が疎水性を示す材料又は表面を疎水処理した材料から構成されているので、それによっても、上記効果をより確実なものとすることができる。又、請求項5によるプラスチック製微細構造体製造方法は、請求項1〜請求項4の何れかに記載のプラスチック製微細構造体製造方法において、上記プラスチック製基板は熱可塑性樹脂製であるので、それによっても、上記効果をより確実なものとすることができる。又、請求項6によるプラスチック製微細構造体は、微細凹凸パターンを備えたプラスチック製基板と、上記微細凹凸パターンの凹部のみに密着された状態で設置された金属薄膜と、を具備したものであり、例えば、高機能偏光子或いは回析格子等の各種光学素子等として有効に利用することができる。
As described above, the method for producing a plastic microstructure according to
以下、図1乃至図7を参照して本発明の一実施の形態を説明する。まず、本実施の形態において最終的に得ようとするプラスチック製微細構造体1は図1に示すような構成をなしている。まず、プラスチック製基板3があり、このプラスチック製基板3の表面には微細パターンを構成する溝5が形成されている。上記溝5の底部には金属薄膜7
が密着した状態で設置されている。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. First, the
Is installed in close contact.
次に、上記プラスチック製微細構造体1の製造方法について説明する。まず、図2に示すように、真空蒸着処理が実行される。すなわち、金属蒸着源11があり、そこに微細パターン13が刻印された転写・転移用モールド15を所定の傾斜角度(θ°)にて設置する。それによって、真空蒸着が行われ、上記微細パターン13側に金属薄膜17が堆積することになる。その様子を図2(b)に示す。
Next, a method for manufacturing the
図2(b)に示すように、上記微細パターン13の凸部13a及びその付近にのみ金属薄膜17が堆積していて、微細パターン13の底部13bには金属薄膜17は堆積されていないものである。
As shown in FIG. 2B, the metal
上記微細パターン13が刻まれている部分の材質としては、金属薄膜17がプラスチック製基板3側に転移され易いもの、つまり、蒸着時に密着性が低くなるものが好ましい。具体的には、疎水性の樹脂材料、表面が剥離処理された無機材料、例えば、ガラス、シリコン(Si)、金属等が好ましい。
As a material of the portion where the
又、上記転移・転写用モールド15としては、耐久性の面からシリコン(Si)等のマスターモールドからパターン転写によって複製されるものであって、高耐熱性、高強度、表面疎水性に優れた材質が好ましい。具体的には、エポキシ樹脂やフッ素樹脂が考えられる。
The transfer /
又、上記金属薄膜7としては、蒸着可能なものであればこれを特に限定するものではないが、蒸着時に密着性が比較的低い金やアルミニウム等が好ましい。但し、真空蒸着可能な材料であれば、非金属のSiO2、SiN等の無機材料でもよい。 The metal thin film 7 is not particularly limited as long as it can be vapor-deposited, but gold, aluminum, or the like, which has relatively low adhesion during vapor deposition, is preferable. However, inorganic materials such as non-metallic SiO 2 and SiN may be used as long as they can be vacuum deposited.
又、上記プラスチック製基板5の材料としては、パターン転写が可能な熱可塑性樹脂であって、透明な樹脂であるPMMA(ポリメチルメタクリレート)、PC(ポリカーボネイト)、PET(ポリエチレンテレフタレート)、シクロオレフィン樹脂等が好ましい。又、プラスチック製基板5の形態としては、板状は勿論のこと、シート状、フィルム状であってもよい。又、その厚みとしては、例えば、1μm〜1mm程度が想定される。又、上記プラスチック製基板5の概念の中にはシリコン(Si)やガラス製の基板上に樹脂膜を塗布したようなものも含むものである。
The material of the
尚、上記微細パターン13としては、例えば、図5に示すように、周期ドットパターン状のものや、図6に示すように、周期ラインパターン状のものがある。尚、既に述べた真空蒸着時の傾斜角度(θ°)であるが、上記微細パターン13の周期や形状に応じて、パターンに対する蒸着方向や蒸着角度を設定し、適切な未蒸着部分が得られるようにすることになる。例えば、図5に示した周期ドットパターン状の場合には、ある方向のドットに沿った方向で斜め蒸着を行うことが望ましい。又、図6に示す周期ラインパターン状の場合には、図6中矢印で示す方向から斜め蒸着を行うことが望ましい。 勿論上記以外にも様々なパターンが想定される。
Examples of the
次に、図3に示すように、斜め蒸着された上記転写・転移用モールド15を使用してプラスチック製基板3に対して転写・転移を行う。すなわち、プラスチック製基板3と転写・転移用モールド15を樹脂のガラス転移温度付近まで加熱し、樹脂が柔らかくなったところで上記転写・転移用モールド15を上記プラスチック製基板3に押し付ける。そして、一定時間経過後に押し付けたままの状態でガラス転移温度以下まで冷却する。そして、図4に示すように、転写・転移用モールド15を剥離する。
Next, as shown in FIG. 3, transfer / transfer is performed on the plastic substrate 3 using the transfer /
尚、転写・転移の方法としては上記したような加熱プレスが好ましく、又、プラスチック製基板3の温度は、過剰な熱変形による金属膜のクラック等を防止すると共に、金属薄膜17の転移性のために、樹脂のガラス転移温度より若干低い温度であることが望ましい。 以上の工程を経ることにより、微細パターンの転写と金属薄膜17の転移を同時に実行して、所望のプラスチック製微細構造体1を得ることができるものである。 尚、上記転写・転移モールド15に関しては繰り返し使用することができるものである。
As a transfer / transfer method, the above-described heating press is preferable, and the temperature of the plastic substrate 3 prevents the metal film from cracking due to excessive thermal deformation, and the transfer property of the metal
次に、より具体的な例を図7を参照して説明する。まず、図7(a)に示すように、転写・転移モールド15の微細凹凸パターン13に対して金の斜め蒸着を施す。上記微細凹凸パターン13はラインとスペースが1μmのラインパターンとなっている。又、上記転写・転移モールド15は表面が疎水性のエポキシモールドである。又、傾斜角度(θ°)は、微細凹凸パターン13の凸部13a及びその近傍にのみ蒸着されて凹部13bには蒸着されないように、最低でも傾斜角度(θ°)が45°に設定されている。その状態で真空蒸着を行うことにより、図7(b)に示すように、凸部13a及びその近傍にのみ金属薄膜17が付着した転写・転移用モールド15を得ることができる。
Next, a more specific example will be described with reference to FIG. First, as shown in FIG. 7A, oblique deposition of gold is performed on the fine concavo-
次に、上記転写・転移モールド15を130℃に加熱し、一方、プラスチック製基板3側を100℃に加熱し、5MPaの圧力で上記転写・転移モールド15を上記プラスチック製基板3に押し付ける。それによって、微細凹凸パターン13の上記プラスチック製基板3側への転写と蒸着された金の金属薄膜17の上記プラスチック製基板3側への転移が実行される。その様子を図7(c)に示す。図7(c)は転写・転移後の状態を示している。 尚、転写・転移後の上記転写・転移用モールド15は繰り返し使用されることになる。
Next, the transfer /
以上本実施の形態によると次のような効果を奏することができる。まず、所望の構成をなすプラスチック製微細構造体1を容易に製造することができるものである。転写・転移用モールド15をプラスチック製基板1に押し付けることにより微細パターンの転写と金属薄膜17の転移を行っているので、金属薄膜17の プラスチック製基板3に対する密着度も高いものである。 又、金属薄膜17を変形させているわけではないので、クラックが発生するようなこともない。 又、余計な金属薄膜17を切削・除去するような工程もないので作業も簡単であると共に、高い精度のプラスチック製微細構造体1を得ることができる。又、転写・転移モールド15に蒸着した金属薄膜17を完全にプラスチック製基板1側に転移させるために、転写された微細パターンは忠実に転写・転移モールド15のパターンを再現できる。
As described above, according to the present embodiment, the following effects can be obtained. First, a
尚、本発明は前記一実施の形態に限定されるものではない。 例えば、微細パターンとしては、図5に示した周期ドットパターンや図6に示した周期ラインパターンに限定されるものではなく、様々なパターンが想定される。又、真空蒸着時の傾斜角度(θ°)については45°に限定されるものでなく、様々な傾斜角度の使用が想定される。その他、図示した構成はあくまで一例である。 The present invention is not limited to the one embodiment. For example, the fine pattern is not limited to the periodic dot pattern shown in FIG. 5 or the periodic line pattern shown in FIG. 6, and various patterns are assumed. Further, the inclination angle (θ °) at the time of vacuum deposition is not limited to 45 °, and use of various inclination angles is assumed. In addition, the illustrated configuration is merely an example.
本発明はプラスチック製微細構造体製造方法とプラスチック製微細構造体に係り、特に、特殊の形状をなす構造体の所定の部位に金属製薄膜を密着・固定したものを容易な方法で提供できるように工夫したものに関し、例えば、高機能偏光子或いは回析格子等の各種光学素子、バイオチップ、各種センサー等及びその製造に好適である。 The present invention relates to a plastic microstructure manufacturing method and a plastic microstructure, and in particular, an easy method can be provided in which a metal thin film is adhered and fixed to a predetermined portion of a structure having a special shape. For example, it is suitable for various optical elements such as high-performance polarizers or diffraction gratings, biochips, various sensors, and the like, and the production thereof.
1 プラスチック製微細構造体3 プラスチック製基板5 溝7 金属薄膜11 真空蒸着源13 微細パターン13a 凸部13b 凹部15 転写・転移用モールド17 金属薄膜
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