JP2009037772A - 偏向制御回路、及び電子線走査装置 - Google Patents
偏向制御回路、及び電子線走査装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009037772A JP2009037772A JP2007199242A JP2007199242A JP2009037772A JP 2009037772 A JP2009037772 A JP 2009037772A JP 2007199242 A JP2007199242 A JP 2007199242A JP 2007199242 A JP2007199242 A JP 2007199242A JP 2009037772 A JP2009037772 A JP 2009037772A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- deflection
- deflection data
- data
- electron beam
- correction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
【解決手段】X及びY方向の偏向データ(Vx、Vy)に任意の係数(±α、±β)を乗じた偏向データを記憶素子101に格納しておく。補正データは記憶素子102に格納しておき、偏向動作をしていないときに偏向データに補正データを演算しておく。各々の偏向データはDA変換回路103よりアナログ値に変換される。アナログ値に変換された偏向データは、アナログ演算増幅回路104により、8極静電偏向器110の各電極に与える偏向電圧に演算・増幅され出力される。
【選択図】図4
Description
図3は、本発明の偏向制御回路を備えた電子線走査装置の概略構成を示す図である。図1において、電子銃120から発せられた電子線は、8極静電偏向器110により偏向されて試料130上に走査される。8極静電偏向器110の制御は偏向制御回路によって行われる。この偏向制御回路は、電圧の補正データを記憶する補正データ格納部(記憶素子)102と、偏向データ(電圧値)を格納する偏向データ格納部(記憶素子)101と、ディジタルの偏向データをアナログに変換するDA変換回路103と、アナログの偏向データを増幅するアナログ演算増幅回路104と、を備えている。本発明においては、偏向動作前に、記憶素子101に格納した偏向データに記憶素子102に格納した補正データを演算しておく。この補正後の偏向データ(補正偏向データ)は、偏向動作をしていないときに定期的にメンテナンス(更新)されて、偏向データ格納部に格納される。補正後の偏向データはDA変換回路103に送られ、DA変換された後、アナログ演算増幅回路104により8極静電偏向器110の電極ごとの偏向電圧に演算増幅され、8極静電偏向器110に与えられる。
図6は、第2の実施形態に係る偏向制御回路の詳細な構成であって、図4の偏向データを変えたときの応用例を示す図である。なお、電子線走査装置の構成は図3と同様であるので、その説明はここでは省略する。
102:補正データ格納部(記憶素子)
103:DA変換回路
104:アナログ演算増幅回路
105:アナログ増幅回路
110:8極静電偏向器
120:電子銃
130:試料
201:アナログもしくはディジタル補正演算回路
202:アナログもしくはディジタル8極演算回路
Claims (5)
- 電子線走査装置内で照射される電子線を偏向する8極静電偏向器に供給する電圧を制御する偏向制御回路であって、
前記8極静電偏向器に供給される電圧を生成するための偏向データを格納する偏向データ格納部と、
前記偏向データを補正するための補正データを格納する補正データ格納部と、
前記偏向データをアナログ電圧に変換するためのDA変換回路と、
前記アナログ電圧を演算・増幅するためのアナログ演算増幅回路と、を備え、
前記偏向データ格納部は、X及びY方向の偏向データに任意の係数を乗じた生成した補正偏向データを格納することを特徴とする偏向制御回路。 - 前記偏向データ格納部に格納された前記補正偏向データは、偏向動作をしていないときに生成されて前記偏向データ格納部に格納されることを特徴とした請求項1に記載の偏向制御回路。
- 前記偏向データ格納部は、X方向及びY方向における補正偏向データをそれぞれ独立して保持し、
前記アナログ演算増幅回路は、前記X方向の補正偏向データと前記Y方向の補正偏向データを加算して、その加算結果を増幅することを特徴とする請求項1又は2に記載の偏向制御回路。 - 前記偏向データ格納部は、X方向及びY方向における補正偏向データを加算した結果を保持し、
前記アナログ演算増幅回路は、前記加算した結果を増幅することを特徴とする請求項1又は2に記載の偏向制御回路。 - 試料に電子線を照射して試料観察をするための電子線走査装置であって、
請求項1乃至4の何れか1項の偏向制御回路を備えることを特徴とする電子線走査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007199242A JP5107629B2 (ja) | 2007-07-31 | 2007-07-31 | 偏向制御回路、及び電子線走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007199242A JP5107629B2 (ja) | 2007-07-31 | 2007-07-31 | 偏向制御回路、及び電子線走査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2009037772A true JP2009037772A (ja) | 2009-02-19 |
| JP5107629B2 JP5107629B2 (ja) | 2012-12-26 |
Family
ID=40439515
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007199242A Active JP5107629B2 (ja) | 2007-07-31 | 2007-07-31 | 偏向制御回路、及び電子線走査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5107629B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010272398A (ja) * | 2009-05-22 | 2010-12-02 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線応用装置 |
| JP2023146461A (ja) * | 2022-03-29 | 2023-10-12 | 日本電子株式会社 | 電子顕微鏡および収差測定方法 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62125616A (ja) * | 1985-11-26 | 1987-06-06 | Toshiba Corp | 荷電ビ−ム露光装置 |
| JPH08335547A (ja) * | 1995-06-08 | 1996-12-17 | Fujitsu Ltd | 荷電粒子ビーム露光方法及び装置 |
| JPH09159800A (ja) * | 1995-12-05 | 1997-06-20 | Toshiba Corp | 荷電ビーム描画制御装置 |
| WO2001069643A1 (en) * | 2000-03-13 | 2001-09-20 | Hitachi, Ltd. | Charged particle beam scanning device |
| JP2003109886A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-11 | Hitachi Ltd | 電子ビーム描画装置 |
| JP2004006464A (ja) * | 2002-05-31 | 2004-01-08 | Hitachi Ltd | 電子線装置の偏向制御方法およびその偏向校正方法 |
-
2007
- 2007-07-31 JP JP2007199242A patent/JP5107629B2/ja active Active
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62125616A (ja) * | 1985-11-26 | 1987-06-06 | Toshiba Corp | 荷電ビ−ム露光装置 |
| JPH08335547A (ja) * | 1995-06-08 | 1996-12-17 | Fujitsu Ltd | 荷電粒子ビーム露光方法及び装置 |
| JPH09159800A (ja) * | 1995-12-05 | 1997-06-20 | Toshiba Corp | 荷電ビーム描画制御装置 |
| WO2001069643A1 (en) * | 2000-03-13 | 2001-09-20 | Hitachi, Ltd. | Charged particle beam scanning device |
| JP2003109886A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-11 | Hitachi Ltd | 電子ビーム描画装置 |
| JP2004006464A (ja) * | 2002-05-31 | 2004-01-08 | Hitachi Ltd | 電子線装置の偏向制御方法およびその偏向校正方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010272398A (ja) * | 2009-05-22 | 2010-12-02 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線応用装置 |
| JP2023146461A (ja) * | 2022-03-29 | 2023-10-12 | 日本電子株式会社 | 電子顕微鏡および収差測定方法 |
| JP7498212B2 (ja) | 2022-03-29 | 2024-06-11 | 日本電子株式会社 | 電子顕微鏡および収差測定方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP5107629B2 (ja) | 2012-12-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8148702B2 (en) | Arrangement for the illumination of a substrate with a plurality of individually shaped particle beams for high-resolution lithography of structure patterns | |
| US6184526B1 (en) | Apparatus and method for inspecting predetermined region on surface of specimen using electron beam | |
| JP5927067B2 (ja) | 計測検査装置、及び計測検査方法 | |
| EP1351272A2 (en) | Electron beam exposure method and apparatus and device manufacturing method using the same | |
| JP5107629B2 (ja) | 偏向制御回路、及び電子線走査装置 | |
| JP3983238B2 (ja) | 電子ビーム描画装置 | |
| US8044369B2 (en) | Electrostatic deflection control circuit and method of electronic beam measuring apparatus | |
| US7518383B2 (en) | Inspection apparatus and inspection method using electron beam | |
| JP2004311472A (ja) | 電子線描画装置 | |
| JP5022719B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
| JP7155393B2 (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
| JP5107812B2 (ja) | 検査装置 | |
| JP2000113848A (ja) | 電子ビーム検査装置 | |
| JP5462569B2 (ja) | 電子ビーム露光装置 | |
| JP2006294962A (ja) | 電子ビーム描画装置および描画方法 | |
| JP3577487B2 (ja) | 電子ビーム描画装置 | |
| KR102857831B1 (ko) | 멀티 전자 빔 검사 장치, 다극자 어레이의 제어 방법, 및 멀티 전자 빔 검사 방법 | |
| JP2870894B2 (ja) | 走査型電子顕微鏡 | |
| KR20140070452A (ko) | 묘화 장치, 및 물품의 제조 방법 | |
| US20250391628A1 (en) | Calibration of digital analog converter to control deflectors in charged particle beam system | |
| JPS63150842A (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
| JP2023021705A (ja) | 荷電粒子ビーム走査モジュール、荷電粒子ビーム装置およびコンピュータ | |
| JP5244003B2 (ja) | Sem−fib複合装置におけるビーム照射位置の補正方法及び装置 | |
| JP2008171610A (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
| JPH10289845A (ja) | 荷電粒子ビーム露光方法及び装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100714 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120515 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120522 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120720 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120904 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121004 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5107629 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151012 Year of fee payment: 3 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |