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JP2009035531A - ヒドラジド体、および1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体インドール化合物の製造方法並びにヒドラジド体、および1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体 - Google Patents

ヒドラジド体、および1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体インドール化合物の製造方法並びにヒドラジド体、および1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体 Download PDF

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JP2009035531A
JP2009035531A JP2008145672A JP2008145672A JP2009035531A JP 2009035531 A JP2009035531 A JP 2009035531A JP 2008145672 A JP2008145672 A JP 2008145672A JP 2008145672 A JP2008145672 A JP 2008145672A JP 2009035531 A JP2009035531 A JP 2009035531A
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hydrazide
sulfino
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Application number
JP2008145672A
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English (en)
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Shinji Tanimori
紳治 谷森
Yuka Ozaki
由佳 尾崎
Yasukazu Iesaki
泰和 家崎
Mitsumune Kirihata
光統 切畑
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Osaka Metropolitan University
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Osaka Prefecture University PUC
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Publication date
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Abstract

【課題】 医薬品や、農薬などに用いられうる新規なヒドラジド体および1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体の製造方法、並びにヒドラジド体および1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体を提供する。
【解決手段】 本発明は、(1)2−ハロアリール酸塩化物と、ヒドラジンとから、ヒドラジド体を製造し、(2)ヒドラジド体を分子内カップリングして、1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体を製造する。
【選択図】 なし

Description

本発明は、新規なヒドラジド体および1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体の製造方法、並びにヒドラジド体および1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体に関する。
下記化学式に示す、1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オンは、1−インダノンの2位および3位がそれぞれ−NH、−NR(Rは、アルキル基、アリール基などの種々の置換基を意味する。)で置換された二環性ヘテロ環化合物である。
Figure 2009035531
1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体は、医薬品の母核としての利用が期待されている。このため、近年多くの研究がなされている。
例えば、下記化学式に示す1,2−ジヒドロインダゾール−3−オンとその誘導体は、酵素5−LPO(5−lipoxygenase)の強い阻害剤となることが知られている。
Figure 2009035531
この1,2−ジヒドロインダゾール−3−オンとその誘導体が5−LPOを阻害することで、生体内ロイコトリエンの合成が阻害される。このため、1,2−ジヒドロインダゾール−3−オンとその誘導体は、生体内ロイコトリエンの合成と深く関係する、関節リウマチ、ぜんそく、炎症性大腸炎などの新しい治療薬となる可能性がある。1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体の中では、下記化学式に示す2位置換体である化合物が最も強い活性を示す。このように、1,2−ジヒドロインダゾール−3−オンとその誘導体において置換基を変えることで、異なる作用を有する。
Figure 2009035531

1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体は、例えば以下のように合成することができる。
下記反応式に示すように、アクリル酸エチルエステルと1,5−ジメチル−3−オキソ−2−フェニル−2,3−ジヒドロ−1H−ピラゾール−4−カルボアルデヒドとをロビンソン環化反応させて合成する例が知られている(例えば、非特許文献1参照)。
Figure 2009035531
また、下記反応式に示すように、5−置換−2−ヨード安息香酸の2位のヨウ素をヒドラジンによって5−置換2−ヒドラジノ安息香酸とし、脱水縮合して、インダゾール−3−オン誘導体にする方法が知られている(例えば、特許文献1参照)。
Figure 2009035531
また、下記反応式に示すように、4−ブロモアニリンの存在下で、アンスラニル酸メチルのアミノ分解を行い、2−メチルアミノ安息香酸メチルエステルとし、次に酸化的環化反応を行って、インダゾール−3−オン誘導体を得る方法が知られている(例えば、非特許文献2参照)。
Figure 2009035531

ロイ エイ.(Roy,A.)、他2名、ジャーナル オブ ザ ケミカル ソサイティ(Journal of the Chemical Society)、英国、ロイヤル ソサイエティ オブ ケミストリー(Royal Society of Chemistry)、1999年、第20巻、p.3001−3004 アルカイツ, シー.(Arkaitz,C.)、他3名、ジャーナル オブ オーガニック ケミストリー(Journal of Organic Chemistry)、米国、アメリカン ケミカル ソサイティ(American Chemical Society)、2006年、第71巻、p.3501−3505 国際公開第200/5121096号パンフレット
しかし、上記非特許文献1〜3に記載の方法では、(1)多工程を要する、(2)また、製造工程を、高温や低温にする必要があるものがあり、温度制御が必要である、(3)誘導体を合成する目的に適さないものもある、などの問題がある。
すなわち、本発明は、上記問題に鑑みなされたものであり、その目的は、比較的温和な条件で簡便に、1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体を合成する方法、およびこれを用いた新規誘導体を提供することにある。
また、本発明の別の目的は、1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体の反応原料である、ヒドラジド体の製造方法、およびこれを用いた新規なヒドラジド体を提供することにある。
すなわち、本発明は、以下のとおりである。
本発明のヒドラジド体は、
下記一般式(I)で表される2−ハロアリール酸(誘導体)酸塩化物と、
Figure 2009035531

(式中、Aは酸性官能基を、Hrは、ハロゲンを、R〜Rは水素原子、置換されていてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、複素環基、アシル基、シアノ基、カルボキシル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、スルフィノ基、ハロゲンを意味する。RとR、RとR、RとRとは、それぞれ結合して環を形成していてもよい。)
下記一般式(II)で表されるヒドラジンと、
Figure 2009035531

(式中、Rは、置換基や分岐を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、複素環基、アシル基、スルフィノ基、オキシカルボニル基を示す。)
を、反応させて、下記一般式(III)で表されるヒドラジド体を製造する。
Figure 2009035531

(式中、R〜Rは、水素原子、置換されていてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、複素環基、アシル基、シアノ基、カルボキシル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、スルフィノ基、ハロゲンを意味する。RとR、RとR、RとRとは、それぞれ結合して環を形成していてもよい。Aは、酸性官能基を示す。Rは、置換基や分岐を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、複素環基、アシル基、スルフィノ基、オキシカルボニル基を示す。)
本発明の1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体の製造方法は、
下記一般式(III)で表されるヒドラジド体を触媒存在下で分子内カップリングさせ、
Figure 2009035531

(式中、R〜Rは、水素原子、置換されていてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、複素環基、アシル基、シアノ基、カルボキシル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、スルフィノ基、ハロゲンを意味する。RとR、RとR、RとRとは、それぞれ結合して環を形成していてもよい。Aは、酸性官能基を示す。Rは、置換基や分岐を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、複素環基、アシル基、スルフィノ基、オキシカルボニル基を示す。)
下記一般式(IV)で表される1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体を製造する。
Figure 2009035531

(式中、R〜Rは、水素原子、置換されていてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、複素環基、アシル基、シアノ基、カルボキシル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、スルフィノ基、ハロゲンを意味する。RとR、RとR、RとRとは、それぞれ結合して環を形成していてもよい。Aは、酸性官能基を示す。Rは、置換基や分岐を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、複素環基、アシル基、スルフィノ基、オキシカルボニル基を示す。)
本発明のヒドラジド体は、下記一般式(III)で表される。
Figure 2009035531

(式中、R〜Rは、水素原子、置換されていてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、複素環基、アシル基、シアノ基、カルボキシル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、スルフィノ基、ハロゲンを意味する。RとR、RとR、RとRとは、それぞれ結合して環を形成していてもよい。Aは、酸性官能基を示す。Rは、置換基や分岐を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、複素環基、アシル基、スルフィノ基、オキシカルボニル基を示す。)
本発明の1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体は下記一般式(IV)で表される。
Figure 2009035531

(式中、R〜Rは、水素原子、置換されていてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、複素環基、アシル基、シアノ基、カルボキシル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、スルフィノ基、ハロゲンを意味する。RとR、RとR、RとRとは、それぞれ結合して環を形成していてもよい。Aは、酸性官能基を示す。Rは、置換基や分岐を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、複素環基、アシル基、スルフィノ基、オキシカルボニル基を示す。)
本発明の方法を用いれば、比較的温和な条件で簡便に、ヒドラジド体および1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体を合成することができ、これらを用いた新規誘導体を提供することができる。
以下に、本発明を詳細に説明する。本発明では、(1)2−ハロアリール酸塩化物と、ヒドラジンとから、ヒドラジド体を製造し、(2)ヒドラジド体を分子内カップリングして、1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体を製造する。
[ヒドラジド体]
本発明のヒドラジド体は、2−ハロアリール酸塩化物とヒドラジンとを反応させて、製造する。
(2−ハロアリール酸塩化物)
2−ハロアリール酸塩化物は、例えば、2−ハロアリール酸に、塩化チオニルを反応させて製造する。
Figure 2009035531
式中、Aは酸性官能基を、Hrは、ハロゲンを、R〜Rは水素原子、置換されていてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、複素環基、アシル基、シアノ基、カルボキシル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、スルフィノ基、ハロゲンを意味する。RとR、RとR、RとRとは、それぞれ結合して環を形成していてもよい。
Aである酸性官能基としては、例えばカルボニル基(−CO−)、スルフィノ基(−SO−)などの2価の酸性官能基が挙げられる。
Hrであるハロゲンとしては、ヨード、臭素、塩素が挙げられ、より好ましくはヨード、臭素である。上記の方法では、2−ハロアリール酸を塩化チオニルで処理して、塩化物にするので、ハロゲンとして塩素を用いる場合には、反応温度を高め(例えば、70℃)にするなど、最適な反応条件を選択する必要がある。また、ヨードを用いると、同一条件では収率は向上する。一方、同一条件では臭素はヨードより収率は悪い。しかし、臭素はヨードに比べ安価なので、製造コストを低下させることができる。
〜Rは水素原子、置換されていてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、複素環基、アシル基、シアノ基、カルボキシル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、スルフィノ基、ハロゲンを意味する。
〜Rを構成するアルキル基としては、炭素数が1〜20の、より好ましくは1以上6以下の飽和脂肪族炭化水素基が挙げられる。具体的には、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基などのアルキル基、さらに好ましくは、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、tert−ブチル基が例示される。また、これらのアルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、特に制限はなく、例えばアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン、ニトロ基、スルフィノ基、アミノ基などが挙げられる。
〜Rを構成するシクロアルキル基としては、炭素数が3〜20の飽和脂環式炭化水素基が挙げられる。具体的には、シクロプロピル、シクロヘキシル、ノルボルニル、アダマンチルなどのシクロアルキル基が例示される。これらのシクロアルキル基においても、上記アルキル基と同様に、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン、ニトロ基、スルフィノ基、アミノ基などの置換基を有していてもよい。
〜Rを構成するアルケニル基としては、炭素数が2〜20の不飽和脂肪族炭化水素基が挙げられる。具体的には、ビニル基、アリル基、ブタジエニル基などの二重結合を含む不飽和脂肪族炭化水素基が例示される。上記アルキル基と同様に、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン、ニトロ基、スルフィノ基、アミノ基などの置換基を有していてもよい。
〜Rを構成するシクロアルケニル基としては、炭素数が2〜20の二重結合を含む不飽和脂環式炭化水素基が挙げられる。具体的には、シクロペンテニル基、シクロペンタジエニル基、シクロヘキセニル基などが例示される。上記アルキル基と同様に、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン、ニトロ基、スルフィノ基、アミノ基などの置換基を有していてもよい。
〜Rを構成するアルキニル基としては、炭素数が2〜20の三重結合を含む不飽和脂肪族炭化水素基が挙げられる。具体的には、エチニル基などが例示される。上記アルキル基と同様に、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン、ニトロ基、スルフィノ基、アミノ基などの置換基を有していてもよい。
〜Rを構成するアルコキシ基としては、炭素数が1〜20のエーテル結合を介した脂肪族炭化水素基が挙げられる。具体的には、メトキシ基などが例示される。脂肪族炭化水素基は、上記アルキル基と同様に、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン、ニトロ基、スルフィノ基、アミノ基などの置換基を有していてもよい。
〜Rを構成するアルキルチオ基としては、上記アルコキシ基のエーテル結合の酸素原子が硫黄原子に置換されたものである。上記アルキル基と同様に、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン、ニトロ基、スルフィノ基、アミノ基などの置換基を有していてもよい。
〜Rを構成するアリール基としては、炭素数が6〜40の芳香族炭化水素基が挙げられる。具体的には、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、フェナントリル基、ターフェニル基、ピレニル基などが例示される。上記アルキル基と同様に、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン、ニトロ基、スルフィノ基、アミノ基などの置換基を有していてもよい。
〜Rを構成するアリールエーテル基としては、炭素数が6〜40のエーテル結合を介した芳香族炭化水素基が挙げられる。具体的には、フェノキシ基などが例示される。上記アルキル基と同様に、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン、ニトロ基、スルフィノ基、アミノ基などの置換基を有していてもよい。
〜Rを構成するアリールチオエーテル基としては、上記アリールエーテル基のエーテル結合の酸素原子が硫黄原子に置換されたものである。上記アルキル基と同様に、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン、ニトロ基、スルフィノ基、アミノ基などの置換基を有していてもよい。
〜Rを構成する複素環基としては、炭素数が3〜20であり、炭素以外の原子を環内に有する脂肪族環または芳香族環からなる基が挙げられる。具体的には、ピラン環、ピペリジン環、環状アミド、フラニル基、チオフェニル基、オキサゾリル基、ピリジル基、キノリニル基からなる基が例示される。これらの複素環基においても、上記アルキル基と同様に、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン、ニトロ基、スルフィノ基、アミノ基などの置換基を有していてもよい。
〜Rを構成するアシル基としては、水素、炭素数が1〜20の炭化水素などとカルボニル基が結合した基をいう。具体的には、アセチル基、ベンゾイル基からなる基が例示される。これらのアシル基においても、上記アルキル基と同様に、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン、ニトロ基、スルフィノ基、アミノ基などの置換基を有していてもよい。
〜Rを構成するオキシカルボニル基には、炭素数が1〜20の炭化水素などが結合していてもよい。例えば、t−ブチル−オキシカルボニル基などである。
シアノ基、カルボキシル基、カルバモイル基、アミノ基、スルフィノ基、ハロゲン(フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)などもR〜Rを構成することができる。
[ヒドラジド体の合成]
2−ハロアリール酸塩化物と反応させるのは、ヒドラジンである。ヒドラジンとは、下記一般式(II)で表すようにNH−NHの水素原子を有機基Rで置換した化合物のことをいう。
Figure 2009035531
式中、Rは、置換基や分岐を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、複素環基、アシル基、スルフィノ基、オキシカルボニル基を示す。これらの基は、上記R〜Rを構成する基と同じである。スルフィノ基としては、例えば上記のようなアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基などが結合したものが挙げられる。
ヒドラジンは、単独で用いてもよく、ヒドラジン・塩酸塩のように塩を形成したものを用いてもよい。
ヒドラジド体は、下記反応式に示すように、2−ハロアリール酸(誘導体)酸塩化物とヒドラジンまたはヒドラジン塩を溶媒と共に、室温で、所定時間反応させて、合成する。反応時間は、1時間〜6時間程度である。式中、R〜R、A、Rは、上記と同様である。
Figure 2009035531
使用する溶媒は、公知の有機溶媒が使用できる。例えば、無水テトラヒドロフラン(THF)、ジクロロメタン(DCM)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、アセトニトリル、ジクロロエタンなどが挙げられる。これらの溶媒には、水素化ナトリウム溶液などを加えて使用してもよい。反応に用いるヒドラジンまたはヒドラジン塩に応じて、使用する有機溶媒、水素化ナトリウム溶液の使用などを適宜変更できる。使用できるアルカリとしては、水素化ナトリウムのほか、水酸化カリウム、水酸化リチウム、トリエチルアミン、ピリジンが挙げられる。
本発明の方法により、例えば、2−ヨード安息香酸 N’−フェニル−ヒドラジド、2−ヨード安息香酸 N’−tert−ブチル−ヒドラジド、2−ヨード安息香酸 N’−(4−ニトロフェニル)−ヒドラジド、2−ヨード安息香酸 N’−ナフタレン−1−イル−ヒドラジド、2−ヨード安息香酸 N’−シクロヘキシル−ヒドラジド、2−ヨード安息香酸 N’−(2−メトキシ−フェニル)−ヒドラジド、2−ヨード安息香酸 N’−キノリン−2−イル−ヒドラジド、2−ヨード安息香酸 N’’−(2,4,6−トリクロロフェニル)−ヒドラジドなどの新規なヒドラジド体が製造できる。使用する2−ハロアリール酸、ヒドラジンを替えることで、新規なヒドラジド体を製造することができる。
(ヒドラジド体の別の製造方法)
本発明のヒドラジド体は、2−ハロ安息香酸とヒドラジンとを、脱水縮合剤を用いて直接反応させても得ることができる。この方法によると、Rに置換基を有する場合など、使用する2−ハロ安息香酸が置換基を有する場合は、高効率でヒドラジド体を製造することができる。また、2−ハロ安息香酸の塩化物を作る必要がないので、反応工程を短縮できる。
脱水縮合剤としては、公知の脱水縮合剤を利用することができる。例えば、ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)や、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド(EDC)、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール(HOBt)、ジフェニルリン酸アジド(DPPA)などである。
[1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体の合成]
下記反応式に示すように、上記得られたヒドラジド体は、触媒を用いて分子内環化させ、1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体を合成する。式中、R〜R、A、Rは、上記と同様である。
Figure 2009035531
(触媒)
本発明では触媒として、銅触媒を用いる。銅触媒は、公知の銅触媒を用いることができ、銅(0価)、銅(1価)、銅(2価)のいずれの状態のものであってもよい。例えば、ヨウ化第1銅、臭化第1銅のように、ハロゲン化しているものを用いてもよい。
また、銅触媒と共に、アミノ酸を併用してもよい。アミノ酸を併用することにより、得られる1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体の収率を高くし、副生物の生成が少なくすることができる。
使用できるアミノ酸としては、特に制限はなく、公知のアミノ酸が使用できる。具体的には、中性アミノ酸、酸性アミノ酸、塩基性アミノ酸のいずれでもよい。好ましいアミノ酸は、中性アミノ酸である。中性アミノ酸としては、例えばL−プロリンが例示できるが、これに限定されるものではない。また、複数のアミノ酸を使用してもよい。
使用する触媒量は、基質に対し、銅触媒は1〜10モル%、アミノ酸は10〜30モル%である。特に、銅触媒とアミノ酸との併用触媒を用いる場合には、ヨウ化銅が1〜5モル%と少なくとも、1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体が合成できる。
(反応温度)
反応は、室温〜80℃程度まで加温して行うことができる。本発明では、室温で反応を行っても、加温して反応を行っても、同程度の収率が得られる。したがって、反応条件が穏やかな室温で反応を行うのが好ましい。
(1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体の製造)
本発明のインドール化合物は、例えば以下のようにして製造される。
反応容器に、アルカリを入れ、ジメチルスルホキシド(DMSO)などの有機溶媒を添加する。
アルカリを入れるのは、生成するヨウ化水素等の酸性物質をトラップ(中和)するためである。使用できるアルカリとしては、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸セシウム、リン酸カリウム、トリエチルアミン、テトラメチルグアニジン、ジアザビシクロウンデセン(DBU)等が挙げられる。
使用できる有機溶媒としては、DMSOに限られず、テトラヒドロフラン(THF)、ジクロロメタン、アセトニトリル、ジクロロエタンなどの公知の有機溶媒が挙げられる。この製造過程では、有機溶媒は、無水化する必要はなく、貯蔵容器から取り出した含水溶媒をそのまま使用できる。
それぞれ所定量のヒドラジン体、触媒(銅触媒、アミノ酸)、アルカリ、有機溶媒を反応容器に入れ、反応容器に窒素気流下で室温〜加温しながらで攪拌しながら反応させる。反応の完了は、酸ヒドラジンの消失を確認することにより行う。反応混合液に、蒸留水を加えて、反応を停止させる。この液を酢酸エチルなどの有機溶媒を用いて抽出し、有機層を得る。有機層は、蒸留水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムなどの乾燥剤を用いて乾燥させる。得られた有機層は、溶媒を減圧留去して、所望の1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体を得る。あるいは、シリカゲル分取薄層クロマトグラフィー、カラムクロマトグラフィーにより目的物を分取する。展開溶媒の種類、混合比などは、得られる1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体により異なる。また、クロマトグラフの回数は、1回に限らず、複数回行ってもよい。
本発明の製造方法を用いると、1−フェニル−1,2−ジヒドロインダゾール3−オンのような公知の1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体を穏やかな条件で、収率よく製造できる。また、1−tert−ブチル−1,2−ジヒドロインダゾール3−オン、1−(4−ニトロフェニル)−1,2−ジヒドロインダゾール3−オン、1−ナフタレン−1−イル−1,2−ジヒドロインダゾール3−オン、1−シクロヘキシル−1,2−ジヒドロインダゾール3−オン、1−(2−メトキシフェニル)−1,2−ジヒドロインダゾール3−オン、1−キノリン−2−イル−1,2−ジヒドロインダゾール3−オンなどの新規な1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体を穏やかな条件で、収率よく製造できる。
このように、本発明の製造方法を用いると、種々の1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体を合成することができる。また得られた1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体を原料とすると、種々のさらに進んだ化合物を得ることができる。
以下、実施例により本発明を説明するが、本発明はかかる実施例に限定されるものではない。
化合物の分析及び分離精製には以下の測定装置を用いて行った。
赤外線吸収(IR)スペクトル:JASCO FT/IR−460 plus(吸収波長は、cm−1で示した。)
核磁気共鳴(NMR)スペクトル:日本電子 JMTC−400/54/SS 400MHz (文中のケミカルシフトはδ値で示した。)
融点測定装置:BUCHI Melting point B−545
FAB−MS:高分解能マススペクトル−高速原子衝撃(High resolution mass spectrometer−Fast Atom Bombardment(HRMS−FAB):JEOL JMS−700 spectrometer と記載する。)
HRMS(ESI):高分解能マススペクトロメトリー(High resolution mass spectrometry)(エレクトロスプレーイオン化(Electrospray ionization)):日立ナノフロンティアL
カラムクロマトグラフィー用シリカゲル:BW−200(富士シリシア製)
薄層クロマトグラフィー(TLC):MACHEREY−NAGEL DC−Fertigplatten SIL G−25 UV254プレート
[2−ハロカルボン酸の合成]
(合成例1−1)
(2−ヨード安息香酸の酸塩化物(2−Iodo−benzoyl−chloride(1))の合成)
50mlのナス型フラスコに2−ヨード安息香酸(1.98g,8.0mmol)、塩化チオニル(10ml)を加え、攪拌子を入れてセプタムキャップした。2時間還流させ、反応を止めたのち、反応混合物を濃縮し、ベンゼンで2回共沸させることで、黄色油状物である化合物1(2.2g,全量)を得た。
薄層クロマトグラフ:Rf=0.63(ヘキサン:酢酸エチル=4:1(体積比));
H−NMR (400MHz,CDCl) δ:8.07(d,1H,J=7.3Hz,one of Ar),8.04(d,1H,J=7.6Hz,one of
Ar),7.50(t,1H,J=7.3Hz,one of Ar),7.25(dd,1H,J=7.3,7.6Hz,one of Ar).
13C‐NMR (136 MHz, CDCl) δ:166.8,141.8,137.7,134.1,133.3,128.2,93.7.
Figure 2009035531
(合成例1−2)
(2−ブロモ安息香酸の酸塩化物(2−Bromo−benzoyl−chloride(29))の合成)
50mlのナス型フラスコに2−ブロモ安息香酸(2.01g,10.0mmol)、塩化チオニル(10ml)を加え、攪拌子を入れたのち、塩化カルシウム環を備えたジムロート冷却環を付した。2時間還流させ、反応を止めたのち、反応混合物を濃縮し、ベンゼンで2回共沸させることで、無色油状物である化合物29(2.20g,全量)を得た。
薄層クロマトグラフ:Rf=0.51(ヘキサン:酢酸エチル=9:1(体積比));
H−NMR (400MHz,CDCl) δ:7.95(dd,2H,J=12.7,7.8Hz,Ar),7.40(t,1H,J=7.8Hz Ar),7.09‐7.18(m,1H,Ar);
13C−NMR(136 MHz,CDCl)δ:166.8,141.8,137.7,134.1,133.3,128.2,93.7.
Figure 2009035531
(合成例1−3)
(4−メチル−2−ブロモ安息香酸の酸塩化物(4−Methyl−2−Bromo−benzoyl−chloride(30))の合成)
50mlのナス型フラスコに4−メチル−2−ブロモ安息香酸(0.22g,1.0mmol)、塩化チオニル(10ml)を加え、攪拌子を入れたのち、塩化カルシウム環を備えたジムロート冷却環を付した。2時間還流させ、反応を止めたのち、反応混合物を濃縮し、ベンゼンで2回共沸させることで、無色油状物である新規化合物30(0.23g,全量)を得た。
薄層クロマトグラフ:Rf=0.57(ヘキサン:酢酸エチル=9:1(体積比));
H−NMR(400 MHz,CDCl) δ:7.94(d,1H,J=8.0Hz,Ar),7.46(s,1H,Ar),7.17(d,1H,J=8.5,Ar),2.33(s,3H,Me);
13C−NMR(136 MHz,CDCl)δ:165.3,134.2,131.3,134.2,128.3,128.2,122.0,21.2.

Figure 2009035531
(合成例1−4)
(5−フルオロ−2−ブロモ安息香酸の酸塩化物(5−Fluoro−2−Bromo−benzoyl−chloride(31))の合成)
50mlのナス型フラスコに5−フルオロ−2−ブロモ安息香酸(0.22g,1.0mmol)、塩化チオニル(10ml)を加え、攪拌子を入れたのち、塩化カルシウム環を備えたジムロート冷却環を付した。2時間還流させ、反応を止めたのち、反応混合物を濃縮し、ベンゼンで2回共沸させることで、無色油状物である化合物31(0.23g,全量)を得た。
薄層クロマトグラフ:Rf=0.57(ヘキサン:酢酸エチル=9:1(体積比));
H−NMR(400 MHz,CDCl) δ:7.68(dd,1H,J=8.5,2.7Hz,Ar),7.59(dd,1H,J=8.5,4.9Hz Ar),7.09(dt,1H,J=8.3,2.7Hz,Ar);
13C−NMR(136 MHz,CDCl)δ:164.8,162.3,159.8,136.2,128.2,121.7,120.3,115.7.
Figure 2009035531
(合成例1−5)
(5−メトキシ−2−ブロモ安息香酸の酸塩化物(5−Methoxy−2−Bromo−benzoyl−chloride(32))の合成)
50mlのナス型フラスコに5−メトキシ−2−ブロモ安息香酸(0.23g,1.0mmol)、塩化チオニル(10ml)を加え、攪拌子を入れたのち、塩化カルシウム環を備えたジムロート冷却環を付した。2時間還流させ、反応を止めたのち、反応混合物を濃縮し、ベンゼンで2回共沸させることで、無色油状物である化合物32(0.24g,全量)を得た。
薄層クロマトグラフ:Rf=0.38(ヘキサン:酢酸エチル=1:1(体積比));
H−NMR(400MHz,CDCl) δ:7.40−7.54(m,2H,Ar),6.87−6.92(m,1H,Ar),3.78(s,3H,OMe);
13C−NMR(136MHz,CDCl) δ:166.7,158.6,135.4,128.2,120.5,118.3,111.5,55.8.

Figure 2009035531
(合成例1−6)
(2−クロロ−クロロ安息香酸の酸塩化物(2−Chloro−benzoyl−chloride(33))の合成)
50mlのナス型フラスコに2−クロロ安息香酸(0.16g,1.0mmol)、塩化チオニル(10ml)を加え、攪拌子を入れたのち、塩化カルシウム環を備えたジムロート冷却環を付した。2時間還流させ、反応を止めたのち、反応混合物を濃縮し、ベンゼンで2回共沸させることで、無色油状物である化合物33(0.17g,全量)を得た。
薄層クロマトグラフ:Rf=0.54(ヘキサン:酢酸エチル=9:1(体積比));
H−NMR(400 MHz,CDCl) δ:7.96(dd,1H,J=8.0,1.7Hz,Ar),7.34−7.41(m,2H,Ar),7.25−7.30(m,1H,Ar);
13C−NMR(136 MHz,CDCl)δ:165.0,134.4,133.4,131.4,128.2(2C),127.0.

Figure 2009035531
[酸ヒドラジンの合成]
(合成例2−1) 2−ヨード安息香酸 N’−フェニル−ヒドラジド(2−Iodo−benzoic acid N’−phenyl−hydrazide(2)の合成
フェニルヒドラジン(0.17g,1.6mmol)を6mlのジクロロメタン(以下、「DCM」という)に溶かし、その溶液に10%NaOH溶液を2ml加えた。さらに、DCM4mlに溶かした酸塩化物1(0.45g,1.7mmol)を加え、室温で1時間激しく攪拌した。TLCにより反応の終結を確認した後、DCM層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾過し、溶媒を減圧留去したのち、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(stepwise条件:100%hexane〜50%EtOAc in hexane)に供することで、白色結晶であるヒドラジド体2(0.38g、収率:67%)を得た。
薄層クロマトグラフ:Rf=0.73(hexane:EtOAc=1:1(体積比));
H−NMR(核磁気共鳴)(400MHz,CDOD)δ:7.94(d,1H,J=7.8Hz,one of Ar),7.46−7.50(m,2H,Ar),7.17−7.24(m,3H,Ar),6.96−7.01(m,2H,Ar),6.83(t,1H,J=7.3Hz,one of Ar);
13C−NMR(核磁気共鳴)(136MHz,CD3OD)δ:172.3,149.8,142.2,141.1,132.5,130.0,129.5,129.3,121.3,114.5,93.5;
IR(赤外線スペクトル)(neat):3244(NH),1654(C=O),1494(C−N),1315,913,750,689cm−1
m.p.(融点)199℃−201℃.
Figure 2009035531
(合成例2−2) 2−ヨード安息香酸 N’−tert−ブチル−ヒドラジド(2−Iodo−benzoic acid N’−tert−butyl−hydrazide (3))の合成
tert−ブチルヒドラジン塩酸塩(0.78g,6.3mmol)を18mlのDCMに溶かし、その溶液に10%NaOH溶液を12ml加えた。さらに、DCM4mlに溶かした酸塩化物1(1.67g,6.3mmol)を加え、室温で2時間激しく攪拌した。TLCにより反応の終結を確認した後、DCM層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾過し、溶媒を減圧留去したのち、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(stepwise条件:100%hexane〜50%EtOAc in hexane)に供することで、白色結晶であるヒドラジド体3(1.72 g、収率:86%)を得た。
薄層クロマトグラフ:Rf=0.36(hexane:EtOAc=1:1);
H−NMR(400MHz,(CDCO)δ:8.87(br s,1H,NH),7.89(dd,1H,J=1.0,8.0Hz,one of Ar),7.44(ddd,1H,J=1.0,1.2,7.3Hz,one of Ar),7.37(dd,1H,J=2.0,7.6Hz,one of Ar),7.17(ddd,1H,J=1.2,2.0,7.3Hz,one of Ar),1.16(s,9H,t−Bu);
13C−NMR(136MHz,(CDCO)δ:168.8,142.7,140.4,131.7,129.4,128.8,93.6,55.7,27.8(3C).
Figure 2009035531
(合成例2−3) 2−ヨード安息香酸 N’−(4−ニトロフェニル)−ヒドラジド(2−Iodo−benzoic acid N’−(4−nitro−phenyl)−hydrazide (4))の合成
100mlの三つ口フラスコに4−ニトロフェニルヒドラジン(1.16g,7.6mmol)入れ、窒素ガスで置換してセプタムキャップした。次に、dry THF40mlに溶かした酸塩化物1(2.02g,7.6mmol)を加えた。2時間還流させ、TLCによって出発物質の消失を確認し、反応を止めた。溶媒を減圧留去し、シリカゲルクロマトグラフィー(stepwise条件:100% hexane〜50% EtOAc in hexane)に供することで、クリーム色結晶であるヒドラジド体4(1.73g,収率:60%)を得た。
薄層クロマトグラフ:Rf=0.26(hexane:EtOAc=1:1(体積比));
H−NMR(400MHz,DMSO)δ:10.51(s,1H,NH),9.33(s,1H,NH),8.10(d,2H,J=9.3Hz,Ar),7.95(d,1H,J=7.8Hz,one of Ar),7.52(d,2H,J=4.4Hz,Ar),7.22−7.28(m,1H,one of Ar),6.95(d,2H,J=9.0Hz,Ar);
13C−NMR(136MHz,DMSO)δ:168.6,154.7,140.6,139.4,138.2,131.6,128.6,128.2,125.9,110.9,93.7.
Figure 2009035531
(合成例2−4) 2−ヨード安息香酸 N’−ナフタレン−1−イル−ヒドラジド(5−Iodo−benzoic acid N’−naphthalen−1−yl−hydrazide(5))の合成
1−ナフチルヒドラジン塩酸塩(1.22g,6.3mmol)を18mlのDCMに懸濁させ、その溶液に10% NaOH溶液を12ml加えた。さらに、DCM 4mlに溶かした酸塩化物1(1.67g,6.3mmol)を加え、室温で6時間激しく攪拌した。TLCにより反応の終結を確認した後、DCM層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾過し、溶媒を減圧留去したのち、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(stepwise条件:100%hexane〜50%EtOAc in hexane)に供することで、薄茶色結晶であるヒドラジド体5(1.80g,収率:74%)を得た。
薄層クロマトグラフ:Rf=0.60(hexane:EtOAc=1:1(体積比));
H−NMR(400MHz,DMSO)δ:10.34(s,1H,NH),8.47(br s,1H,NH),8.28(d,1H,J=6.8Hz,one of Ar),7.97(d,1H,J=7.0Hz,one of Ar),7.84(dd,1H,J=1.7,6.8Hz,one of Ar),7.22−7.58(m,7H,naphthalen),7.04(dd,1H,J=1.7,7.0Hz,one of Ar);
13C−NMR(136MHz,DMSO)δ:168.6,143.8,141.0,139.6,133.8,131.4,128.7,128.1,128.0,126.3,125.8,124.6,122.3,121.9,118.6,105.6,93.7;
IR(neat):3332,3248(NH),1655(C=O),1516,767cm−1
HRMS(高分解能質量分析)(FAB(+)):calcd for C1713ONI 388.0073;found,388.0058;
m.p. 196℃−197℃.
Figure 2009035531
(合成例2−5) 2−ヨード安息香酸 N’−シクロヘキシル−ヒドラジド(2−Iodo−benzoic acid N’−cyclohexyl−hydrazide(6))の合成
シクロヘキシルヒドラジン塩酸塩(0.51g,3.4mmol)を9mlのDCMに懸濁させ、その溶液に10% NaOH溶液を6ml加えた。さらに、DCM 2mlに溶かした酸塩化物1(0.90g,3.4mmol)を加え、室温で5時間激しく攪拌した。TLCにより反応の終結を確認した後、DCM層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾過し、溶媒を減圧留去したのち、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(stepwise条件:100% hexane〜50% EtOAc in hexane)に供し、さらに分取TLC(hexane:EtOAc=1:1)を行い、無色油状物であるヒドラジド体6(0.12g,収率11%)を71:29のアミド回転異性体の混合物として得た。
薄層クロマトグラフ:Rf=0.36(hexane:EtOAc=1:1(体積比));
H−NMR(400MHz,CDCl)δ:7.85(d,0.7H,J=7.8Hz,Ar),7.78(d,0.3H,J=7.8Hz,Ar)7.32−7.47(m,1H,one of Ar),7.20−7.27(m,2H,Ar),7.07(ddd,1H,J=7.6,7.8,23.4Hz,one
of Ar),4.60(t,0.3H,J=10.9Hz,Ar),4.22(br s,1.4H,NH),3.60(br s,0.6H,NH),3.14(t,0.7H,J=10.7Hz)0.90−2.02(m,11H,cyclohexane);
13C−NMR(136MHz,CDCl)δ:171.6,144.0,139.3,138.4,130.3,129.5,128.2,128.1,126.7,126.6,92.6,92.4,59.5,53.9,30.0,28.5,25.3,25.1,24.9;
IR(neat):2929(NH),2856,1629(C=O),1424(cyclohexane),1018,752cm−1
Figure 2009035531
(合成例2−6) 2−ヨード安息香酸 N’−(2−メトキシ−フェニル)−ヒドラジド(2−Iodo−benzoic acid N’−(2−methoxy−phenyl)−hydrazide (7))の合成
2−メトキシフェニルヒドラジン塩酸塩(0.59g,3.4mmol)を9mlのDCMに懸濁させ、その溶液に10% NaOH溶液を6ml加えた。さらに、DCM 2mlに溶かした酸塩化物1(0.90g,3.4mmol)を加え、室温で5時間激しく攪拌した。TLCにより反応の終結を確認した後、DCM層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。次いで、乾燥剤を濾過し、溶媒を減圧留去したのち、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(stepwise条件:100%hexane〜50%EtOAc in hexane)に供することで、薄オレンジ色結晶であるヒドラジド体7(0.80g,収率:65%)を得た。
薄層クロマトグラフ:Rf=0.56(hexane:EtOAc=1:1(体積比));
H−NMR(400MHz,DMSO)δ:10.29(s,1H,NH),7.92(d,1H,J=8.0Hz,one of Ar),7.42−7.52(m,2H,Ar),7.22(dt,1H,J=1.7,7.3Hz,one of Ar),6.95(dd,1H,J=1.5,7.6Hz,one of Ar),6.91(d,1H,J=8.0Hz,one of Ar),6.83(ddd,1H,J=1.5,7.3,7.6Hz,one of Ar),6.77(dt,1H,J=1.5,7.6Hz,one of Ar),3.83(s,1H,OMe);
13C−NMR(136MHz,CDCl)δ:168.4,146.5,140.9,139.3,137.8,131.3,128.6,128.1,120.7,119.3,112.0,110.4,93.8,55.5;
m.p. 154℃−155℃.
Figure 2009035531
(合成例2−7) 2−ヨード安息香酸 N’−キノリン−2−イル−ヒドラジド(2−Iodo−benzoic acid N’−quinolin−2−yl−hydrazide(8))の合成
30mlの三つ口フラスコに2−ヒドラジノキノリン(1.5mmol,0.24g)を入れ、窒素ガスで置換してセプタムキャップした。次にdry THF 12mlに溶かした酸塩化物1(1.5mmol,0.40g)を加えた。2時間還流させ、TLCによって出発物質の消失を確認し、反応を止めた。そして、THF層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。次いで、乾燥剤を濾過し、溶媒を減圧留去したのち、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(stepwise条件:100% hexane〜50% EtOAc in hexane)に供することで、クリーム色結晶であるヒドラジド体8(0.16g,収率:28%)を得た。
薄層クロマトグラフRf=0.62(hexane:EtOAc=1:1(体積比));
H−NMR(400MHz,CDCl)δ:8.61(s,1H,NH),8.40(s,1H,NH),8.19(d,1H,J=8.8Hz,one of Ar),7.92(d,1H,J=7.6Hz,one of Ar),7.79(dd,2H,J=8.0,9.0Hz,Ar),7.45−7.75(m,2H,Ar),7.02−7.40(m,4H,Ar);
13C−NMR(136MHz,CDCl)δ:168.7,146.1,142.0,140.2,138.7,138.5,138.2,131.9,130.7,129.9,128.6,128.3,128.1,127.9,127.5,126.9,126.2,116.3,92.3.
Figure 2009035531
(合成例2−8) 2−ヨード安息香酸 N’’−(2,4,6−トリクロロフェニル)−ヒドラジド(2−Iodo−benzoic acid N’’−(2,4,6−trichloro−phenyl)−hydrazide(9))の合成
50mlの三つ口フラスコに2,4,6−トリクロロフェニルヒドラジン(0.48g,2.3mmol)入れ、窒素ガスで置換してセプタムキャップした。次に、dry THF 20 mlに溶かした酸塩化物1(0.61g,2.3mmol)を加えた。2時間還流させ、TLCによって出発物質の消失を確認し、反応を止めた。そして、THF層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。次いで、乾燥剤を濾過し、溶媒を減圧留去したのち、溶媒を減圧留去し、残渣を酢酸エチルに溶かして再結晶させ、白色結晶である新規なヒドラジド体9(0.69g,69%)を得た。
薄層クロマトグラフRf=0.72(hexane:EtOAc=4:1(体積比));
H−NMR(400MHz,DMSO)δ:10.53(s,1H,NH),7.89(d,1H,J=7.8Hz,one of Ar),7.38−7.49(m,3H,Ar),7.19(t,1H,J=6.6Hz,one of Ar);
13C−NMR(136MHz,DMSO)δ:167.9,140.9,139.9,139.6,131.4,128.8,128.5,127.9,125.4,124.8,93.9.
m.p. 204℃−205℃.
Figure 2009035531
(合成例2−9) 2−ブロモ安息香酸 N’−tert−ブチル−ヒドラジド(2−Bromo−benzoic acid N’−tert−butyl−hydrazide(34))の合成
tert−ブチルヒドラジン塩酸塩(0.37g,3.0mmol)を18mlのDCMに溶かし、その溶液に10% NaOH溶液を12ml加えた。さらに、DCM 4mlに溶かした酸塩化物29(0.66g,3.0mmol)を加え、室温で2時間激しく攪拌した。TLCにより反応の終結を確認した後、DCM層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾過し、溶媒を減圧留去したのち、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(stepwise:100% hexane〜50% EtOAc in hexane)に供することで、白色結晶であるヒドラジド体34(0.53 g、65%)を得た。
薄層クロマトグラフRf=0.46(hexane:EtOAc=1:1(体積比));
H−NMR(400MHz,DMSO) δ:8.12(br s, 1H, NH),7.41(dd,1H,J=1.0,7.7Hz,one of Ar),7.27(dd,1H,J=1.7,7.6Hz,one of Ar),7.18(dt,1H,J=7.3,1.2Hz,one of Ar),7.12(dt,1H,J=7.8,2.0Hz,one of Ar),4.63(br s,1H,NH),1.04(s,9H,t−Bu);
13C−NMR(136MHz,DMSO) δ:166.5,136.0,132.9,130.9,129.3,127.0,119.3,55.2,26.9(3C);
IR(neat):3382(NH),2969(Ar),2878(t−Bu),1648(C=O),1561,1473,1434,1338,853,735cm−1
HRMS(FAB):calcd for C1116Br NO 271.0419;found,271.0449;
m.p.:85−87℃.
Figure 2009035531
(合成例2−10) 2−ブロモ−安息香酸 N’−フェニル−ヒドラジド(2−Bromo−benzoic acid N’−phenyl−hydrazide(35))の合成
フェニルヒドラジン(0.48g,4.4mmol)を6mlのDCMに溶かし、その溶液に10% NaOH溶液を2ml加えた。さらに、DCM 4mlに溶かした酸塩化物29(0.96g,4.4mmol)を加え、室温で2時間激しく攪拌した。TLCにより反応の終結を確認した後、DCM層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾過し、溶媒を減圧留去したのち、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(stepwise:100% hexane〜50% EtOAc in hexane)に供することで、白色結晶であるヒドラジド体35(0.52g、40%)を得た。
薄層クロマトグラフRf=0.73(hexane:EtOAc=1:1(体積比));
H−NMR(400MHz,DMSO) δ:10.20(s,1H,NH),8.00(br s,1H,NH),7.70(d, 1H,J=7.5Hz,one of Ar),7.44−7.53(m,2H,Ar),7.36−7.45(m,1H,one of Ar),7.17(t,2H,J=7.9,Ar),6.86(d,2H,J=7.7Hz,Ar),6.73(t,1H,J=7.2Hz,Ar);
13C−NMR(136MHz,DMSO) δ:167.2,149.1,137.4,133.0,131.5,129.2,128.8(2C),127.8,119.3,118.7(2C),112.4;
IR(neat):3242(NH),3009(Ar),2920(Me),1656(C=O),1495(Ar),1317,915,752cm−1
m.p.:170−172℃.
Figure 2009035531
(合成例2−11) 2−ブロモ安息香酸 N’−(4−ニトロ−フェニル)−ヒドラジド(2−Bromo−benzoic acid N’−(4−nitoro−phenyl)−hydrazide(36))の合成
ジムロート冷却管を付した100mlの三つ口フラスコに4−ニトロフェニルヒドラジン(0.46g,3.0mmol)を入れ、窒素ガスで置換してセプタムキャップした。次に、dry THF 40 mlに溶かした酸塩化物29(0.66g,3.0mmol)を加えた。2時間還流させ、TLCによって出発物質の消失を確認し、反応を止めた。溶媒を減圧留去し、シリカゲルクロマトグラフィー(stepwise:100% hexane〜50% EtOAc in hexane)に供することで、茶褐色結晶であるヒドラジド体36(0.74g,74%)を得た。
薄層クロマトグラフRf=0.44(hexane:EtOAc=1:1(体積比));
H−NMR(400MHz,DMSO) δ:10.57(s,1H,NH),9.35(s,1H,NH),8.10(d,2H,J=9.3Hz,Ar),7.73(dd,1H,J=7.8,1.0Hz,one of Ar),7.58(dd,2H,J=7.3,1.8Hz,Ar),7.51(dt,1H,J=7.6,1.2Hz,1H,one of Ar),7.44(dt,1H,J=7.6,1.7Hz,one of Ar),6.93(d,2H,J=7.3Hz,one of Ar);
13C−NMR(136MHz,DMSO) δ:167.1,154.7,138.2,136.8,133.0,131.8,129.3,127.8,126.0,119.2,110.9;
IR(neat):3277(NH),1630(C=O),1596,1505(Ar),1330,1271,1109,839,749,687,597cm−1
m.p.:213−215℃.

Figure 2009035531
(合成例2−12) 2−ブロモ−4−メチル−安息香酸 N’−フェニル−ヒドラジド(2−Bromo−4−methyl−benzoic acid N’−phenyl−hydrazide(37))の合成
フェニルヒドラジン(0.11g,1.0mmol)を6mlのDCMに溶かし、その溶液に10% NaOH溶液を2ml加えた。さらに、DCM 4mlに溶かした酸塩化物30(0.23g,1.0mmol)を加え、室温で2時間激しく攪拌した。TLCにより反応の終結を確認した後、DCM層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾過し、溶媒を減圧留去したのち、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(stepwise:100% hexane〜50% EtOAc in hexane)に供することで、白色結晶である新規なヒドラジド体37(0.17g、54%)を得た。
薄層クロマトグラフRf=0.39(hexane:EtOAc=1:1(体積比));
H−NMR(400MHz,DMSO) δ:10.11(d,1H,J=2.7,NH),7.96(d,1H,J=2.4,NH),7.54(s,1H,Ar),7.39(d,1H,J=7.8Hz,one of Ar),7.29(d,1H,J=7.8Hz,Ar),7.16(t,2H,J=7.3Hz,one of Ar),6.85(d,2H,J=7.6Hz,Ar),6.72(t,1H,J=7.3Hz,Ar),2.34(s,1H,Me);
13C−NMR(136MHz,DMSO) δ:167.1,149.1,141.5,134.4,133.2,129.0,128.7,128.2,119.1,118.6,112.3,20.4;
IR(neat):3242(NH),3029(Ar),2920(Me),1653(C=O),1496(Ar),1321,1039,917,827,760,692cm−1
FAB(+)−MS(NBA):m/z(%) 306(49)[MH],289(13),199(52),197(54),136(66);
m.p.:134−135℃.

Figure 2009035531
(合成例2−13) 2−ブロモ−5−フルオロ−安息香酸 N’−フェニル−ヒドラジド(2−Bromo−5−fluoro−benzoic acid N’−phenyl−hydrazide(38))の合成
フェニルヒドラジン(0.11g,1.0mmol)を6mlのDCMに溶かし、その溶液に10% NaOH溶液を2ml加えた。さらに、DCM 4mlに溶かした酸塩化物31(0.24g,1.0mmol)を加え、室温で2時間激しく攪拌した。TLCにより反応の終結を確認した後、DCM層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾過し、溶媒を減圧留去したのち、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(stepwise:100% hexane〜50% EtOAc in hexane)に供することで、白色結晶である新規なヒドラジド体38(0.09g、29%)を得た。
薄層クロマトグラフRf=0.26(hexane:EtOAc=7:3(体積比));
H−NMR(400MHz,DMSO) δ:10.57(s,1H,NH),7.99(s,1H,NH),7.74(dd,J=8.8,4.9Hz,1H,one of Ar),7.43(dd,1H,J=8.5,3.2Hz,one of Ar),7.31(dt,1H,J=8.5,3.2Hz,one of Ar),7.17(t,2H,J=8.5Hz, 1H, Ar),6.88(d,2H,J=7.8Hz,Ar),6.73(t,1H,J=7.3Hz,Ar);
13C−NMR(136MHz,DMSO) δ:195.9,162.2,159.7,148.4,139.0,138.9,134.9,134.8,128.7,118.7,118.6,118.4,116.5,116.3,114.1,114.0,112.4;
IR(neat):3271(NH),3049(Ar),1656(C=O),1515(Ar),1465,1262,753cm−1
FAB(+)−MS(NBA):m/z(%) 310(10)[MH],290[5],176[9],136[68],107[21],89[15],77[12];
m.p.:170−172℃.

Figure 2009035531
(合成例2−14) 2−ブロモ−5−メトキシ−安息香酸 N’−フェニル−ヒドラジド(2−Bromo−5−methoxy−benzoic acid N’−phenyl−hydrazide(39))の合成
フェニルヒドラジン(0.30g,2.8mmol)を6mlのDCMに溶かし、その溶液に10% NaOH溶液を2ml加えた。さらに、DCM 4mlに溶かした酸塩化物32(0.70g,2.8mmol)を加え、室温で2時間激しく攪拌した。TLCにより反応の終結を確認した後、DCM層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾過し、溶媒を減圧留去したのち、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(stepwise:100% hexane〜50% EtOAc in hexane)に供することで、白色結晶である新規なヒドラジド体39(0.50g、56%)を得た。
薄層クロマトグラフRf=0.51(hexane:EtOAc=1:1(体積比));
H−NMR(400MHz,DMSO) δ:10.17(s,1H,NH),7.96(s,1H,NH),7.58(dd,1H,J=8.0,0.73Hz,one of Ar),7.17(t,2H,J=7.6Hz,Ar),7.02(s,1H,one of Ar),6.99(d,1H,J=3.2Hz,one of Ar),6.86(d,2H,J=7.8Hz,Ar),6.72(t,1H,J=7.3Hz,Ar),3.11(s,3H,MeO);
13C−NMR(136MHz,DMSO) δ:166.7,158.4,149.0,138.0,133.9,128.7,118.6,117.0,114.9,112.4,109.4,55.7;
IR(neat):3238(NH),3006(Ar),1649(C=O),1598,1493(Ar),1242,1239cm−1
FAB(+)−MS(NBA):m/z(%) 322(12)[MH],238(14),213(8),176(9),136(65),107(21),85(42);
m.p.:153−155℃.
Figure 2009035531
(合成例2−14) 2−クロロ−安息香酸 N’−フェニル−ヒドラジド(2−Chloro benzoic acid N’−phenyl−hydrazide(40))の合成
フェニルヒドラジン(0.32g,3.0mmol)を6mlのDCMに溶かし、その溶液に10% NaOH溶液を2ml加えた。さらに、DCM 4mlに溶かした酸塩化物33(0.53g,3.0mmol)を加え、室温で2時間激しく攪拌した。TLCにより反応の終結を確認した後、DCM層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾過し、溶媒を減圧留去したのち、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(stepwise:100% hexane〜50% EtOAc in hexane)に供することで、白色結晶であるヒドラジド体40(0.25g、34%)を得た。
薄層クロマトグラフRf=0.36(hexane:EtOAc=1:1(体積比));
H−NMR(400MHz,DMSO) δ:10.20(d,1H,J=2.0Hz,NH),8.00(d,1H,J=2.0Hz,NH),7.37−7.57(m,4H,Ar),7.17(t,2H,J=7.8Hz,Ar),6.84(d,2H,J=8.5Hz,Ar),6.73(t,1H,J=7.3Hz,one of Ar);
13C−NMR(136MHz,DMSO) δ:166.2,149.1,135.3,131.2,130.2,129.7,129.2,128.7,127.2,118.6,112.3;
IR(neat):3265(NH),3007(Ar),1653(C=O),1598,1494(Ar),1318,1239,916,742cm−1
m.p.:152−154℃.

Figure 2009035531
(合成例2−15) N’−(2−ヨード−ベンゾイル)−ヒドラジンカルボン酸 tert−ブチルエステル(N’−(2−Iodo−benzoyl)−hydrazinecarboxylic acid tert−butyl ester(41))の合成
ジムロート冷却管を付した20mlの三つ口フラスコにtert−ブチルカーバゼート(0.13g,1.0mmol)を入れ、窒素ガスで置換してセプタムキャップした。次に、dry THF 6mlに溶かした酸塩化物28(0.61g,2.3mmol)を加えた。2時間還流させ、TLCによって出発物質の消失を確認し、反応を止めた。そして、THF層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。次いで、乾燥剤を濾過し、溶媒を減圧留去したのち、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(stepwise:100% hexane〜50% EtOAc in hexane)に供することで、白色固体である新規なヒドラジド体41(0.27g,59%)を得た。
薄層クロマトグラフRf=0.68(hexane:EtOAc=1:1(体積比));
H−NMR(400MHz,DMSO) δ:7.88(d,2H,J=8.0Hz,two of Ar),7.50(d,1H,J=6.6Hz,one of Ar),7.39(dt,1H,J=7.6,1.0Hz,one of Ar),7.14(dt,1H,J=6.1,1.7Hz,one of Ar),6.90(s,1H,NH),1.50(s,9H,t−Bu);
13C−NMR(136MHz,DMSO) δ:168.2,155.2,140.1,138.9,131.9,28.8,128.1,92.8,82.1,28.1(3C);
IR(neat):3333(NH),3262,2976(t−Bu),1723,1670(C=0),1517(Ar),1498,1367,1253,1157,1013,914,860,748cm−1
m.p.:111−113℃.

Figure 2009035531
(合成例2−16) 安息香酸 N’−(2−ヨード−ベンゾイル)−ヒドラジド(Benzoic acid N’(2−Iodo−benzoyl)−hydrazide(42))の合成
ジムロート冷却管を付した20mlの三つ口フラスコにベンゾイルヒドラジン(0.27g,2.0mmol)を入れ、窒素ガスで置換してセプタムキャップした。次に、dry THF 10mlに溶かした酸塩化物28(0.54g,2.0mmol)を加えた。2時間還流させ、TLCによって出発物質の消失を確認し、反応を止めた。そして、THF層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。次いで、乾燥剤を濾過し、溶媒を減圧留去したのち、残渣を酢酸エチルに溶かして再結晶させ、白色結晶であるヒドラジド体42(0.26g,72%)を得た。
薄層クロマトグラフRf=0.45(hexane:EtOAc=1:1(体積比));
H−NMR(400MHz,DMSO)δ:10.62(s,1H,NH),10.34(s,1H,NH),7.93(d,J=3H,7.6Hz,Ar),7.60(t,1H,J=7.1Hz,Ar),7.47−7.55(m,4H,Ar),7.20−7.27(m,1H,Ar);
13C−NMR(136MHz,DMSO) δ:168.1,165.6,140.4,139.6,132.4,131.9,131.6,128.9,128.5,128.0,127.6,93.8;
IR(neat):3241(NH),3057(Ar),1639(C=0),1516(Ar),1486,1287,711cm−1
m.p.:185−187℃.
Figure 2009035531
(合成例2−17) 2−ヨード−安息香酸 N’−[(4−メチルフェニル)スルホニル]ヒドラジド(2−Iodo−benzoic acid N’−[(4−methylphenyl)sulfonyl]hydrazide(43))の合成
ジムロート冷却管を付した20mlの三つ口フラスコにp−トルエンスルフォニルヒドラジン(0.09g,0.5mmol)を入れ、窒素ガスで置換してセプタムキャップした。次に、dry THF 5mlに溶かした酸塩化物28(0.14g,0.5mmol)を加えた。2時間還流させ、TLCによって出発物質の消失を確認し、反応を止めた。そして、THF層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。次いで、乾燥剤を濾過し、溶媒を減圧留去したのち、残渣を酢酸エチルに溶かして再結晶させ、白色結晶であるヒドラジド体43(0.19g,92%)を得た。
薄層クロマトグラフRf=0.21(hexane:EtOAc=7:3(体積比));
H−NMR(400MHz,DMSO) δ:10.5(d,1H,J=3.2Hz,NH),10.1(d,1H,J=3.4Hz,NH),7.84(d,1H,J=7.8Hz,one of Ar),7.79(d,2H,J=8.3Hz,Ar),7.43(t,1H,J=7.3Hz,one of Ar),7.36(d,2H,J=8.0Hz,Ar),7.17(d,2H,J=7.3Hz,one of Ar),2.36(s,3H,Me);
13C−NMR(136MHz,DMSO) δ:167.2,143.3,139.7,139.5,136.2,131.5,129.3,128.6,128.0,93.6,21.1;
IR(neat):3285(NH),3153(Ar),1647(C=0),1529,1373,1342,1171,733,695cm−1
m.p.:200−201℃.
Figure 2009035531
(合成例2−18) 2−ヨード−安息香酸 N’−ベンジル−ヒドラジド(2−Iodo−benzoic acid N’−benzyl−hydrazide(44))の合成
ベンジルヒドラジン塩酸塩(0.16g,1.0mmol)を4mlのDCMに懸濁させ、その溶液に10% NaOH溶液を3ml加えた。さらに、DCM 2mlに溶かした酸塩化物28(0.27g,1.0mmol)を加え、室温で5時間激しく攪拌した。TLCにより反応の終結を確認した後、DCM層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。次いで、乾燥剤を濾過し、溶媒を減圧留去したのち、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(stepwise:100% hexane〜50% EtOAc in hexane)に供することで、茶色粘性固体である新規なヒドラジド体44(0.21g,59%)を得た。
薄層クロマトグラフRf=0.45(hexane:EtOAc=1:1(体積比));
H−NMR(400MHz,DMSO) δ:7,86(dd,1H,J=8.0,3.7Hz,NH),7,77(dd,1H,J=8.0,3.2Hz,NH),7.16−7.47(m,5H,Ar),6.99−7.13(m,1H,Ar),4.90(d,1H,J=5.1Hz,Ar),4.46(d,1H,J=2.0Hz,CH),3.67(s,1H,NH);
13C−NMR(136MHz,DMSO) δ:171.9,168.9,143.3,141.0,139.2,138.3,135.2,134.8,130.6,129.5,129.0,128.7,128.6,128.2,128.0,127.8,127.6,127.5,127.0,93.0,92.4,55.2,53.2;
IR(neat):3320(NH),3212(Ar),3059(CH),3029,2921,1648(C=0),1424,1250,1016,736cm−1
Figure 2009035531
(実施例1)
合成例2−5で合成したヒドラジド体6を10ppmになるように、溶媒に溶解させたものを線虫に与えたところ、線虫に対して殺虫効果が認められた。これから、合成例5−1で合成したヒドラジド体6は、殺虫剤として用いられる可能性があることがわかった。
[酸ヒドラジンの直接合成]
(合成例3−1) 2−ブロモ−安息香酸 N’−フェニル−ヒドラジド(2−Bromo−benzoic acid N’−phenyl−hydrazide(35)の合成
アルゴン置換したナス型フラスコにフェニルヒドラジン(0.11mg,1.0mmol)を無水DMF(10ml)に溶解させ、2−ブロモ安息香酸(201.0mg,1.0mmol)、HOBt(ブタノール)・H2O(0.15g,1.1mmol)、トリエチルアミン(0.11g,1.1mmol)、DCC(0.21g,1.1mmol)を加えた後、40℃で12時間撹拌した。出発物質の消失をTLCにより確認し、蒸留水を加え、反応を停止させた。次いで、反応混合液を酢酸エチルで抽出し、有機層を蒸留水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾過し、溶媒を減圧留去したのち、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(stepwise:100% hexane〜50% EtOAc in hexane)に供することで、(合成例2−10)と同一の化合物である、白色であるヒドラジド体35(0.23g,78%)を得た。(合成例2−10)に比べ、ヒドラジド体の収率が良かった。ただし、副生物として多量の尿素が発生し、分離操作が困難だった。
Figure 2009035531
(合成例3−2) 2−ブロモ−安息香酸 N’−フェニル−ヒドラジド(2−Bromo−benzoic acid N’−phenyl−hydrazide(35)の合成
アルゴン置換したナス型フラスコにフェニルヒドラジン(0.11g,1.0mmol)を無水DMF(10ml)に溶解させ、2−ブロモ安息香酸(0.20g,1.0mmol)、HOBt(ブタノール)・HO(0.15g,1.1mmol)、DMAP(6.1mg,5mol%)、EDC・HCl(0.21g,1.1mmol)を加えた後、40℃で12時間撹拌した。出発物質の消失をTLCにより確認し、蒸留水を加え、反応を停止させた。次いで、反応混合液を酢酸エチルで抽出し、有機層を蒸留水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾過し、溶媒を減圧留去したのち、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(stepwise:100% hexane〜50% EtOAc in hexane)に供することで、(合成例2−10)と同一の化合物である、白色であるヒドラジド体35(0.23g,80%)を得た。(合成例2−10)に比べ、ヒドラジド体の収率が良かった。また、副生物はほとんど発生しなかった。
Figure 2009035531
(合成例3−3) 2−ブロモ−5−フルオロ−安息香酸 N’−フェニル−ヒドラジド(2−Bromo−5−fluoro−benzoic acid N’−phenyl−hydrazide(38))の合成
アルゴン置換したナス型フラスコにフェニルヒドラジン(0.11g,1.0mmol)を無水DMF(10ml)に溶解させ、2−ブロモ−5−フルオロ安息香酸(0.22g,1.0mmol)、HOBt・HO(0.15mg,1.1mmol)、DMAP(6.1mg,5mol%)、EDC・HCl(0.21g,1.1mmol)を加えた後、40℃で12時間撹拌した。出発物質の消失をTLCにより確認し、蒸留水を加え、反応を停止させた。次いで、反応混合液を酢酸エチルで抽出し、有機層を蒸留水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾過し、溶媒を減圧留去したのち、残渣を酢酸エチルに溶かして再結晶させ、(合成例2−13)と同一の化合物である、白色結晶であるヒドラジド体38(0.50g、98%)を得た。(合成例2−13)に比べて、極めて収率がよかった。
Figure 2009035531
(合成例3−4) 2−ブロモ−5−メトキシ−安息香酸 N’−フェニル−ヒドラジド(2−Bromo−5−methoxy−benzoic acid N’−phenyl−hydrazide(39))の合成
アルゴン置換したナス型フラスコにフェニルヒドラジン(0.11g,1.0mmol)を無水DMF(10ml)に溶解させ、2−ブロモ−5−フルオロ安息香酸(0.22g,1.0mmol)、HOBt・HO(0.15mg,1.1mmol)、DMAP(6.1mg,5mol%)、EDC・HCl(0.21g,1.1mmol)を加えた後、40℃で12時間撹拌した。出発物質の消失をTLCにより確認し、蒸留水を加え、反応を停止させた。次いで、反応混合液を酢酸エチルで抽出し、有機層を蒸留水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾過し、溶媒を減圧留去したのち、残渣を酢酸エチルに溶かして再結晶させ、(合成例2−14)と同一の化合物である、白色結晶であるヒドラジド体39(0.50g、98%)を得た。(合成例2−14)に比べて、極めて収率がよかった。
Figure 2009035531
(合成例3−1)〜(合成例3−4)から、脱水縮合剤を用いると、塩酸化物を用いず、2−ハロ安息香酸とヒドラジンとから、酸ヒドラジドが直接合成できることがわかった。塩酸化物には、不安定なものが多く、酸ヒドラジドの収率を低下させる原因となるものがある。脱水縮合剤を用いると、工程を短縮できるとともに、酸ヒドラジドの収率を向上させることができる可能性があることがわかった。
[1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体の合成]
(合成例4−1) 1−フェニル−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン(1−Phenyl−1,2−dihydro−indazole−3−one (10))の合成
30mlの三つ口フラスコにヒドラジド体2(0.17g,0.5mmol)、CuI(10mg,0.05mmol,10mol%)、L−プロリン(12mg,0.10mmol,20mol%)、KCO(0.14g,1.0mmol)、dry DMSO(5ml)を加え、窒素気流下、70℃で3時間反応させた。出発物質の消失をTLCにより確認し、蒸留水を加え、反応を停止させた。次いで、反応混合液を酢酸エチルで抽出し、有機層を蒸留水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾過し、溶媒を減圧留去して、紫色結晶であるインダゾール誘導体10(0.096g,収率:91%)を得た。
薄層クロマトグラフ:Rf=0.73(hexane:EtOAc=1:1);
H−NMR(400MHz,DMSO)δ:11.28(s,1H,NH),7.76(d,2H,J=8.5Hz,Ar),7.68(d,2H,J=8.3Hz,Ar),7.51(dd,2H,J=7.8,8.1Hz,Ar),7.44(t,1H,J=7.8Hz,one of Ar),7.25(t,1H,J=7.3Hz,one of Ar),7.15(dd,1H,J=7.1,7.8Hz,one of Ar);
13C−NMR(136MHz,DMSO)δ:156.3,140.2,139.2.129.5(2C),128.4,124.8,120.6(2C),120.5,120.3,114.8,110.3;
上記H−NMRと13C−NMRとのスペクトルデータは、文献値のH−NMR(300MHz,DMSO)δ:11.25(br s,1H),7.77(m,2H),7.69(br d,2H,J=7.4Hz),7.49(m,3H),7.26(br t,1H,J=7.4Hz),7.16(br t,1H,J=7.5Hz)、13C−NMR(67.8MHz,CDCl)δ:156.6,140.6,139.6.129.9(2C),128.7,125.1,121.0(2C),120.9,120.7,115.1,110.7.)と一致した。

Figure 2009035531
(合成例4−2) 1−tert−ブチル−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン(1−tert−Butyl−1,2−dihydro−indazol−3−one (11))の合成
30mlの三つ口フラスコにヒドラジド体3(0.32g,1.0mmol)、CuI(19mg,0.10mmol,10mol%)、L−プロリン(23mg,0.20mmol,20mol%)、KCO(0.28g,2.0mmol)、dry DMSO(10ml)を加え、窒素気流下、70℃で3時間反応させた。出発物質の消失をTLCにより確認し、蒸留水を加え、反応を停止させた。次いで、反応混合液を酢酸エチルで抽出し、有機層を蒸留水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾過し、溶媒を減圧留去することで、乳白色結晶であるインダゾール誘導体11(0.16g,収率:83%)を得た。
薄層クロマトグラフ:Rf=0.36(hexane:EtOAc=1:1(体積比));
H−NMR(400MHz,DMSO)δ:10.50(s,1H,NH),7.59(d,1H,J=8.1Hz,one of Ar),7.52(d,1H,J=8.8Hz,one of Ar),7.20(ddd,1H,J=1.0,1.2,8.1Hz,one of Ar),6.92(dd,1H,J=7.3,7.6Hz,one of Ar),1.54(s,9H,t−Bu);
H−NMR(400MHz,CDCl)δ:7.81(d,1H,J=8.0Hz,one of Ar),7.54(d,1H,J=8.4Hz,one of Ar),7.38(dd,1H,J=6.3,8.5Hz,one of Ar),7.80(dd,1H,J=6.6,8.0Hz,one of Ar),1.51(s,9H,t−Bu);
13C−NMR(136MHz,DMSO)δ:153.0,139.6,126.4,120.2,118.2,114.1,111.9,58.3,29.3(3C);
IR(neat):2979(NH),1648(C=O),1538,1209,748cm−1
HRMS(ES1):calcd for C1114O 191.1179;found,191.1182;
m.p. 115℃−117℃.
Figure 2009035531
(合成例4−3) 1−(4−ニトロフェニル)−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン(1−(4−Nitro−phenyl)−1,2−dihydro−indazol−3−one(12))の合成
30mlの三つ口フラスコにヒドラジド体4(0.21g,0.55mmol)、CuI(11mg,0.055mmol,10mol%)、L−プロリン(13mg,0.11mmol,20mol%)、KCO(0.15g,1.1mmol)、dry DMSO(10ml)を加え、窒素気流下、70℃で3時間反応させた。出発物質の消失をTLCにより確認し、蒸留水を加え、反応を停止させた。次いで、反応混合液を酢酸エチルで抽出し、有機層を蒸留水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾過し、溶媒を減圧留去したのち、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(stepwise条件:100% hexane〜50% EtOAc in hexane)に供することで、黄色結晶であるインダゾール誘導体12(0.070g,50%)を得た。
薄層クロマトグラフ:Rf=0.63(hexane:EtOAc=1:1(体積比));
H−NMR(400MHz,DMSO)δ:11.88(br s,1H,NH),8.39(d,2H,J=7.6Hz,Ar),8.04(dd,3H,J=9.2Hz,10.4Hz,Ar),7.87(d,1H,J=7.6Hz,one of Ar),7.63(dd,1H,J=7.6,8.0Hz,one of Ar),7.33(dd,1H,J=7.2,7.6Hz,one of Ar);
13C−NMR(136MHz,DMSO)δ:158.0,145.5,142.6,139.3,129.4,125.5(2C),122.0,120.9,119.0(2C),116.6,111.5;
m.p. 285℃−287℃.
Figure 2009035531
(合成例4−4) 1−ナフタレン−1−イル−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン(1−Naphthalen−1−yl−1,2−dihydro−indazole−3−one(13))の合成
30mlの三つ口フラスコにヒドラジド体5(0.16g,0.41mmol)、CuI(8mg,0.041mmol,10mol%)、L−プロリン(9mg,0.081mmol,20mol%)、KCO(0.11g,0.82mmol)、dry DMSO(10ml)を加え、窒素気流下、70℃で3時間反応させた。出発物質の消失をTLCにより確認し、蒸留水を加え、反応を停止させた。次いで、反応混合液を酢酸エチルで抽出し、有機層を蒸留水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾過し、溶媒を減圧留去したのち、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(stepwise条件:100%hexane〜50%EtOAc in hexane)に供し(ワンスポットカラム)、薄黄色結晶であるインダゾール誘導体13(0.10g,収率:96%)を得た。
薄層クロマトグラフ:Rf=0.48(hexane:EtOAc=4:1(体積比));
H−NMR(400MHz,DMSO)δ:11.22(br s,1H,NH),8.05(d,J=8.3Hz,1H,one of Ar),8.02(dd,J=2.0,7.3Hz,1H,one of Ar),7.80(d,1H,J=7.8Hz,one of Ar),7.72(d,1H,J=8.3Hz,one of Ar),7.56−7.67(m,3H,Ar),7.51(dd,1H,J=7.1,7.3Hz,one of Ar),7.33(dd,1H,J=7.3,7.8Hz,one of Ar),7.12(dd,1H,J=7.3,7.8Hz,one of Ar),7.07(d,1H,J=8.5Hz,one of Ar);
13C−NMR(136MHz,CDCl)δ:156.3,142.1,135.7
134.3,129.2,128.3,128.0,128.0,126.7,126.6,125.8,123.9,123.5,120.4,119.9,113.7,109.8;
m.p. 235℃−237℃.
Figure 2009035531
(合成例4−5) 1−シクロヘキシル−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン(1−Cyclohexyl−1,2−dihdro−indazol−3−one(14))の合成
30mlの三つ口フラスコにヒドラジド体6(0.070g,0.20mmol)、CuI(4mg,0.020mmol,10mol%)、L−プロリン(5mg,0.040mmol,20mol%)、KCO(0.056g,0.40mmol)、dry DMSO(10ml)を加え、窒素気流下、70℃で3時間反応させた。出発物質の消失をTLCにより確認し、蒸留水を加え、反応を停止させた。次いで、反応混合液を酢酸エチルで抽出し、有機層を蒸留水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾過し、溶媒を減圧留去し、分取TLC(hexane:EtOAc=1:1)を4回繰り返して精製を行い、白色結晶であるインダゾール誘導体14(0.027g,収率:60%)を得た。
薄層クロマトグラフ:Rf=0.34(hexane:EtOAc=1:4(体積比));
H−NMR(400MHz,DMSO)δ:9.97(s,1H,NH),7.61(d,1H,J=8.0Hz,one of Ar),7.48(ddd,1H,J=1.2,7.2,8.0Hz,one of Ar),7.22(d,1H,J=8.3Hz,one of Ar),7.07(dd,1H,J=7.2,7.6Hz,one of Ar),4.19(ddt,1H,J=,3.7,3.9,11.7Hz,one of cyclohexane)1.59−1.85(m,6H,cyclohexane),1.30−1.44(m,2H,cyclohexane),1.06−1.24(m,2H,cyclohexane);
13C−NMR(136MHz,DMSO)δ:160.3,146.3,131.1,122.8,120.8,117.7,112.3,52.6,30.6(2C),25.1,25.0.
Figure 2009035531

(合成例4−6) 1−(2−メトキシフェニル)−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン(1−(2−Methoxy−phenyl)−1,2−dihydro−indazol−3−one(15))の合成
30mlの三つ口フラスコにヒドラジド体7(0.26g,0.70mmol)、CuI(13mg,0.070mmol,10mol%)、L−プロリン(16mg,0.14mmol,20mol%)、KCO(0.19g,1.4mmol,2eg)、dry DMSO(10ml)を加え、窒素気流下、70℃で3時間反応させた。出発物質の消失をTLCにより確認し、蒸留水を加え、反応を停止させた。次いで、反応混合液を酢酸エチルで抽出し、有機層を蒸留水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾過し、溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(stepwise条件:100% hexane〜50% EtOAc in hexane)に供することで、黄色結晶であるインダゾール誘導体15(0.038g,収率:23%)を得た。
薄層クロマトグラフ:Rf=0.49(hexane:EtOAc=1:1(体積比));
H−NMR(400MHz,DMSO)δ:11.0(br s,1H,NH),7.70(d,1H,J=8.0Hz,one of Ar),7.29−7.42(m,3H,Ar),7.24(d,1H,J=8.3Hz,one of Ar),7.01−7.09(m,3H,Ar),3.77(s,3H,OMe);
13C−NMR(136MHz,DMSO)δ:156.0,153.4,141.3,128.5,128.3,127.6,127.3,120.8,119.9,119.3,113.6,112.8,110.9,55.5.
Figure 2009035531
(合成例4−7) 1−キノリン−2−イル−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン(1−Quinolin−2−yl−1,2−dihydro−indazol−3−one(16))の合成
50mlの三つ口フラスコにヒドラジド体8(0.14g,0.36mmol)、CuI(7mg,0.36mmol,10mol%)、L−プロリン(8mg,0.73mmol,20mol%)、KCO(0.10g,0.72mmol,2eg)、dry DMSO(20ml)を加え、窒素気流下、室温で3時間反応させた。出発物質の消失をTLCにより確認し、蒸留水を加え、反応を停止させた。次いで、反応混合液を酢酸エチルで抽出し、有機層を蒸留水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾過し、溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(stepwise条件:100% hexane〜50% EtOAc in hexane)に供することで、インダゾール誘導体16(0.043g,収率:45%)を得た。
薄層クロマトグラフ:Rf=0.75(hexane:EtOAc=1:1(体積比));
H−NMR(400MHz,DMSO)δ:11.5(br s,1H,NH),8.43(br s,1H,NH),8.30−8.40(m,1H,one of Ar),7.25−8.10(m,9H,Ar);
13C−NMR(136MHz,DMSO)δ:148.9,145.6,138.5,130.5,130.2,130.2,128.1,127.8,127.7,127.6,126.5,126.2,124.9,119.3,117.3,116.1.
Figure 2009035531
(合成例4−8) 1−tert−ブチル−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン(1−tert−Butyl−1,2−dihydro−indazol−3−one (11))の合成
30mlの三つ口フラスコにヒドラジド体34(0.027g,0.1mmol)、CuI(1.9mg,0.10mmol,10mol%)、L−プロリン(2.3mg,0.020mmol,20mol%)、KCO(0.028g,2.0mmol)、dry DMSO(10ml)を加え、窒素気流下、室温で12時間反応させた。出発物質の消失をTLCにより確認し、蒸留水を加え、反応を停止させた。次いで、反応混合液を酢酸エチルで抽出し、有機層を蒸留水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾過し、溶媒を減圧留去することで、(合成例4−2)と同一の化合物である、乳白色結晶であるインダゾール誘導体11(0.012g,65%)を得た。TLC上で見る限り副生成物はなく純度が高いと判断し、精製は行わなかった。(合成例4−2)より収率は悪かったが、純度の高いインダゾール誘導体11が得られた。
Figure 2009035531
(合成例4−9) 1−フェニル−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン(1−Phenyl−1,2−dihydro−indazole−3−one (10))の合成
30mlの三つ口フラスコにヒドラジド体35(0.12g,0.4mmol)、CuI(7.6mg,0.04mmol,10mol%)、L−プロリン(9.2mg,0.08mmol,20mol%)、KCO(0.055g,0.4mmol)、dry DMSO(3ml)を加え、窒素気流下、室温で12時間反応させた。出発物質の消失をTLCにより確認し、蒸留水を加え、反応を停止させた。次いで、反応混合液を酢酸エチルで抽出し、有機層を蒸留水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾過し、溶媒を減圧留去することで、(合成例4−1)と同一の化合物である、紫色結晶であるインダゾール誘導体10(0.052g,62%)を得た。TLC上で見る限り副生成物はなく純度が高いと判断し、精製は行わなかった。(合成例4−1)より収率は悪かったが、純度の高いインダゾール誘導体10が得られた。
Figure 2009035531
(合成例4−10) 1−(4−ニトロフェニル)−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン(1−(4−Nitro−phenyl)−1,2−dihydro−indazol−3−one(12))の合成
30mlの三つ口フラスコにヒドラジド体36(0.13g,0.5mmol)、CuI(10mg,0.05mmol,10mol%)、L−プロリン(13mg,0.1mmol,20mol%)、KCO(0.14g,1.0mmol)、dry DMSO(5ml)を加え、窒素気流下、室温で12時間反応させた。出発物質の消失をTLCにより確認し、蒸留水を加え、反応を停止させた。次いで、反応混合液を酢酸エチルで抽出し、有機層を蒸留水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾過し、溶媒を減圧留去したのち、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(stepwise:100% hexane〜50% EtOAc in hexane)に供することで、(合成例4−3)と同一の化合物である、黄色結晶であるインダゾール誘導体12(0.065g,51%)を得た。(合成例4−3)とほぼ同等の収率であった。
Figure 2009035531
(合成例4−11) 1−フェニル−6−メチル−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン(1−Phenyl−6−methyl−1,2−dihydro−indazol−3−one(45))の合成
30mlの三つ口フラスコにヒドラジド体37(0.03g,0.1mmol)、CuI(1.9mg,0.02mmol,10mol%)、L−プロリン(2.3mg,0.02mmol,20mol%)、KCO(0.03g,0.2mmol)、dry DMSO(3ml)を加え、窒素気流下、室温で12時間反応させた。出発物質の消失をTLCにより確認し、蒸留水を加え、反応を停止させた。次いで、反応混合液を酢酸エチルで抽出し、有機層を蒸留水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾過し、溶媒を減圧留去したのちシリカゲルカラムクロマトグラフィー(stepwise:100% hexane〜50% EtOAc in hexane)に供することで、乳白色結晶であるインダゾール誘導体45(14mg,63%)を得た。
薄層クロマトグラフ:Rf=0.56(hexane:EtOAc=3:2(体積比));
H−NMR(400MHz,DMSO) δ:11.15(s,1H,NH),7.67(dd,2H,J=8.8,1.2Hz,Ar),7.61(d,1H,J=7.3Hz,one of Ar),7.56(s,1H,one of Ar),7.50(t,2H,J=8.0Hz,Ar),7.24(t,1H,J=7.3Hz,Ar),6.98(d,1H,J=8.0Hz,one of Ar),2.44(s,1H,Me);
13C−NMR(136MHz,DMSO) δ:156.2,140.3,139.8,138.4,124.6,122.3,120.6,120.1,113.0,109.8;
IR(neat):3477(NH),2961(Ar),2920(Me),1551(C=O),1499(Ar),1310,1262,1097,1030,802cm−1
HRMS(ES1):calcd for C1412O 225.1028;found,225.1009;
m.p.170−172℃.
Figure 2009035531
(合成例4−12) 1−フェニル−5−フルオロ−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン(1−Phenyl−5−fluoro−1,2−dihydro−indazol−3−one(46))の合成
30mlの三つ口フラスコにヒドラジド体38(0.03g,0.1mmol)、CuI(1.9mg,0.02mmol,10mol%)、L−プロリン(2.3mg,0.02mmol,20mol%)、KCO(0.03g,0.2mmol)、dry DMSO(3ml)を加え、窒素気流下、室温で12時間反応させた。出発物質の消失をTLCにより確認し、蒸留水を加え、反応を停止させた。次いで、反応混合液を酢酸エチルで抽出し、有機層を蒸留水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾過し、溶媒を減圧留去したのちシリカゲルカラムクロマトグラフィー(stepwise:100% hexane〜50% EtOAc in hexane)に供することで、乳白色結晶である新規なインダゾール誘導体46(14mg,63%)を得た。
薄層クロマトグラフ:Rf=0.46(hexane:EtOAc=7:3(体積比));
H−NMR(400MHz,DMSO) δ:11.34(s,1H,NH),7.77(dd,1H,J=9.3,1.5Hz,Ar),7.66(d,2H,J=8.0Hz Ar),7.51(t,3H,J=7.6Hz,Ar),7.33(t,1H,J=9.0Hz,one of Ar),7.26(t,1H,J=7.3Hz,Ar);
13C−NMR(136MHz,DMSO) δ:157.8,156.0,155.5,139.9,136.3,136.2,129.5,125.0,120.6,117.4,117.1,112.0,104.9,104.6;
FAB(+)−MS(NBA):m/z(%) 229(12) [MH],173(8),151(32),120(12),107(27),85(43),79(29);
IR(neat):3062(Ar),2665,1659,1561(C=O),1499(Ar),1276,1072,793,757,693cm−1
m.p.:195−197℃.
Figure 2009035531
(合成例4−13) 1−フェニル−5−メトキシ−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン(1−Phenyl−5−methoxy−1,2−dihydro−indazol−3−one(47))の合成
30mlの三つ口フラスコにヒドラジド体39(0.11g,0.3mmol)、CuI(6.3mg,0.03mmol,10mol%)、L−プロリン(7.7mg,0.06mmol,20mol%)、KCO(0.09g,0.6mmol)、dry DMSO(3ml)を加え、窒素気流下、室温で12時間反応させた。出発物質の消失をTLCにより確認し、蒸留水を加え、反応を停止させた。次いで、反応混合液を酢酸エチルで抽出し、有機層を蒸留水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾過し、溶媒を減圧留去したのちシリカゲルカラムクロマトグラフィー(stepwise:100% hexane〜50% EtOAc in hexane)に供することで、黄色結晶である新規なインダゾール誘導体47(44mg,56%)を得た。
薄層クロマトグラフ:Rf=0.46(hexane:EtOAc=7:3(体積比));
H−NMR(400MHz,DMSO) δ:7.70(d,1H,J=9.7Hz,one of Ar),7.65(d,2H,J=7.6Hz,Ar),7.49(t,2H,J=7.3Hz,Ar),7.21(t,1H,J=7.3Hz,Ar),7.15(s,1H,one of Ar),7.09(dd,1H,J=9.0,2.4Hz,one of Ar),3.80(s,3H,OMe);
13C−NMR(136MHz,DMSO) δ:156.0,153.8,140.4,134.9,129.5,124.4,120.0,119.4,115.0,111.6,100.3,55.5;
FAB(+)−MS(NBA):m/z(%) 241(12)[MH],169(14),136(71),107(27),85(85),77(16);
IR(neat):2938(Ar),2835(Me),1595(C=O),1498(Ar),1286,1264,1158,1028,755,694cm−1
m.p.:158−160℃.
Figure 2009035531
(合成例4−14) 1−フェニル−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン(1−Phenyl−1,2−dihydro−indazol−3−one(10))の合成
30mlの三つ口フラスコにヒドラジド体40(0.05g,0.2mmol)、CuI(4mg,0.02mmol,10mol%)、L−プロリン(5mg,0.04mmol,20mol%)、KCO(0.06g,0.4mmol)、dry DMSO(3 ml)を加え、窒素気流下、70℃で12時間反応させた。出発物質の消失をTLCにより確認し、蒸留水を加え、反応を停止させた。次いで、反応混合液を酢酸エチルで抽出し、有機層を蒸留水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥剤を濾過し、溶媒を減圧留去したのち、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(stepwise:100% hexane〜50% EtOAc in hexane)に供することで、(合成例4−1)、(合成例4−9)と同一の化合物である、紫色結晶であるインダゾール誘導体10(27mg,66%)を得た。(合成例4−1)、(合成例4−9)の場合より、収率は悪かった。
Figure 2009035531
以上の合成例から、本発明の方法を用いると、1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体が容易に、高収率で製造できることがわかった。
[反応温度の検討]
上記1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体11を室温で3時間反応させた以外は、合成例2−2と同様に行った。1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体11の収率は82%と、70℃で加熱した合成例2−2における収率83%と、大差がないことがわかった。また、合成例4−9からわかるように、臭素化体であるヒドラジド体を用いた場合でも、同様に室温において反応が進行することがわかった。これにより、本発明の方法は、室温においても進行することがわかった。
[反応溶媒の検討]
上記1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体11を無水DMSOでなく、未精製の缶出しDMSOを用いて反応させた以外は、合成例2−2と同様に行った。1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体11の収率は97%と、無水DMSOを用いた合成例2−2における収率83%より、はるかに高収率であった。これにより、本発明の方法は、未精製の有機溶媒を用いてもよいことがわかった。
[触媒量の検討]
上記1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体11の合成において、CuIを5mol%と1mol%にした以外は、合成例2−2と同様に行った。1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体11の収率は、5mol%の場合:79%、1mol%の場合:63%と、CuIを10mol%用いた合成例2−2における収率83%よりも収率は低下するが、高収率であることがわかった。これにより、本発明の方法は、CuIを減らしてもよいことがわかった。
[L−プロリンの検討]
上記1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体11の合成において、L−プロリンを用いなかった以外は、合成例2−2と同様に行った。1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体11の収率は94%と、L−プロリンを用いないで合成しても、合成例2−2における収率83%よりも収率は高かった。しかし、この方法で得られる1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体は、純度が低いので、精製を要した。精製後の収率は82%であった。一方、合成例2−2で得られる1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体は、分液操作を行うだけで単離できる。これにより、本発明の方法において、L−プロリンを併用するほうが、反応の特異性が向上することがわかった。
[パラジウム触媒の検討]
上記1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体11の合成において、CuIとL−プロリンの代わりにパラジウム触媒[Pd(η−C)Cl]を用いた以外は、合成例2−2と同様に行った。1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体11の生成は確認できたが、多数の副生物が生成したため、単離できなかった。


Claims (5)

  1. 下記一般式(I)で表される2−ハロアリール酸塩化物と、
    Figure 2009035531

    (式中、Aは酸性官能基を、Hrは、ハロゲンを、R〜Rは水素原子、置換されていてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、複素環基、アシル基、シアノ基、カルボキシル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、スルフィノ基、ハロゲンを意味する。RとR、RとR、RとRとは、それぞれ結合して環を形成していてもよい。)
    下記一般式(II)で表されるヒドラジンと、
    Figure 2009035531

    (式中、Rは、置換基や分岐を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、複素環基、アシル基、スルフィノ基、オキシカルボニル基を示す。)
    を、反応させて、下記一般式(III)で表されるヒドラジド体を製造する、ヒドラジド体の製造方法。
    Figure 2009035531

    (式中、R〜Rは、水素原子、置換されていてもよい、水素原子、置換されていてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、複素環基、シアノ基、カルボニル基、カルボキシル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、スルフィノ基、ハロゲンを意味する。RとR、RとR、RとRとは、それぞれ結合して環を形成していてもよい。Aは、酸性官能基を示す。Rは、置換基や分岐を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、複素環基、アシル基、スルフィノ基、オキシカルボニル基を示す。)
  2. 下記一般式(III)で表されるヒドラジド体を触媒存在下で分子内カップリングさせ、
    Figure 2009035531

    (式中、R〜Rは、水素原子、置換されていてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、複素環基、アシル基、シアノ基、カルボキシル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、スルフィノ基、ハロゲンを意味する。RとR、RとR、RとRとは、それぞれ結合して環を形成していてもよい。Aは、酸性官能基を示す。Rは、置換基や分岐を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、複素環基、アシル基、スルフィノ基、オキシカルボニル基を示す。)
    下記一般式(IV)で表される1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体の製造方法。
    Figure 2009035531

    (式中、R〜Rは、水素原子、置換されていてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、複素環基、アシル基、シアノ基、カルボキシル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、スルフィノ基、ハロゲンを意味する。RとR、RとR、RとRとは、それぞれ結合して環を形成していてもよい。Aは、酸性官能基を示す。Rは、置換基や分岐を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、複素環基、アシル基、スルフィノ基、オキシカルボニル基を示す。)
  3. 下記一般式(I)で表される2−ハロカルボン酸塩化物と、
    Figure 2009035531

    (式中、Aは酸性官能基を、Hrは、ハロゲンを、R〜Rは水素原子、置換されていてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、複素環基、アシル基、シアノ基、カルボキシル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、スルフィノ基、ハロゲンを意味する。RとR、RとR、RとRとは、それぞれ結合して環を形成していてもよい。)
    下記一般式(II)で表されるヒドラジンと、
    Figure 2009035531

    (式中、Rは、置換基や分岐を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、複素環基、アシル基、スルフィノ基、オキシカルボニル基を示す。)
    を、反応させて、下記一般式(III)で表されるヒドラジド体を製造し、
    Figure 2009035531

    (式中、R〜Rは、水素原子、置換されていてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、複素環基、アシル基、シアノ基、カルボキシル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、スルフィノ基、ハロゲンを意味する。RとR、RとR、RとRとは、それぞれ結合して環を形成していてもよい。Aは、酸性官能基を示す。Rは、置換基や分岐を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、複素環基、アシル基、スルフィノ基、オキシカルボニル基を示す。)
    得られたヒドラジド体を触媒存在下で分子内カップリングさせ、
    下記一般式(IV)で表される1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体の製造方法。
    Figure 2009035531

    (式中、R〜Rは、水素原子、置換されていてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、複素環基、アシル基、シアノ基、カルボキシル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、スルフィノ基、ハロゲンを意味する。RとR、RとR、RとRとは、それぞれ結合して環を形成していてもよい。Aは、酸性官能基を示す。Rは、置換基や分岐を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、複素環基、アシル基、スルフィノ基、オキシカルボニル基を示す。)
  4. 下記一般式(III)で表されるヒドラジド体。
    Figure 2009035531

    (式中、R〜Rは、水素原子、置換されていてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、複素環基、アシル基、シアノ基、カルボキシル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、スルフィノ基、ハロゲンを意味する。RとR、RとR、RとRとは、それぞれ結合して環を形成していてもよい。Aは、酸性官能基を示す。Rは、置換基や分岐を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、複素環基、アシル基、スルフィノ基、オキシカルボニル基を示す。)
  5. 下記一般式(IV)で表される1−置換−1,2−ジヒドロインダゾール−3−オン誘導体。
    Figure 2009035531

    (式中、R〜Rは、水素原子、置換されていてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、複素環基、アシル基、シアノ基、カルボキシル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、スルフィノ基、ハロゲンを意味する。RとR、RとR、RとRとは、それぞれ結合して環を形成していてもよい。Aは、酸性官能基を示す。Rは、置換基や分岐を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アリール基、複素環基、アシル基、スルフィノ基、オキシカルボニル基を示す。)
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