JP2009034671A5 - - Google Patents

Claims (13)

1. ＰＦＣ含有ガスを処理するＰＦＣ処理装置であって、
   棒状の内部ヒーターと、該内部ヒーターから所定間隔をおいて、筒状に配された外部ヒーターとを具備する装置本体からなり、
   該内部ヒーター及び該外部ヒーターとの間にＰＦＣ分解処理剤を充填する処理剤配置部が形成されている
   ことを特徴とするＰＦＣ処理装置。
2. ＰＦＣ処理装置内に被処理ガスを導入するガス導入部にアルカリ剤が配されてアルカリ剤配置部が形成されていることを特徴とする請求項１記載のＰＦＣ処理装置。
3. 上記装置本体に充填される上記ＰＦＣ分解処理剤が、平均粒子径６０μｍ以上１６０μｍ以下のAl（OH）₃と、Ca（OH）₂とのモル比が３：７〜５：５である混合物を４３０℃よりも高く８９０℃以下の温度範囲、窒素流又は空気流の対向流中で焼成して得られるＰＦＣ分解処理剤である請求項１又は２に記載のＰＦＣ処理装置。
4. 上記内部ヒーターがその長手方向に２分割されて第１及び第２の内部ヒーターが形成されており、また、上記外部ヒーターが２分割されて第１及び第２の外部ヒーターが形成されており、第１及び第２の内部ヒーター並びに第１及び第２の外部ヒーターそれぞれの温度が独立して制御可能になされていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のＰＦＣ処理装置。
5. ＰＦＣ処理装置内に被処理ガスを導入するガス導入部側に、上部ヒーターがさらに設けられていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のＰＦＣ処理装置。
6. ＰＦＣ処理装置内に被処理ガスを導入するガス導入部側に整流板が配されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のＰＦＣ処理装置。
7. 上記整流板は、上記内部ヒーターの上方に、小径の板状部材と、中心部に通気用孔を有する大径の板状部材とが、上下に一定の間隔を空けて交互に積層されてなることを特徴とする請求項６に記載のＰＦＣ処理装置。
8. ＰＦＣ含有ガスを処理するＰＦＣ処理装置であって、
   被処理ガスを分解処理する反応槽と、
   当該反応槽内に被処理ガスを導入するガス導入部側に設けられている上部ヒーターと、
   当該反応槽の外周に設けられた筒状の外部ヒーターと、
   を具備する装置本体からなり、
   当該反応槽内にＰＦＣ分解処理剤を充填する処理剤配置部が形成されている
   ことを特徴とするＰＦＣ処理装置。
9. ＰＦＣ処理装置内に被処理ガスを導入するガス導入部にアルカリ剤が配されてアルカリ剤配置部が形成されていることを特徴とする請求項８記載のＰＦＣ処理装置。
10. 上記装置本体に充填される上記ＰＦＣ分解処理剤が、平均粒子径６０μｍ以上１６０μｍ以下のAl（OH） ₃ と、Ca（OH） ₂ とのモル比が３：７〜５：５である混合物を４３０℃よりも高く８９０℃以下の温度範囲、窒素流又は空気流の対向流中で焼成して得られるＰＦＣ分解処理剤である請求項８又は９に記載のＰＦＣ処理装置。
11. 被処理ガス流れの上流から順に請求項１〜１０の何れかに記載のＰＦＣ処理装置を２個直列接続してなるＰＦＣ処理システムであって、
    ２つの該ＰＦＣ処理装置には、各ＰＦＣ処理装置に被処理ガスを導入する導入配管、及び、各ＰＦＣ処理装置から処理後の処理済みガスを導出する導出配管が連結されており、第１のＰＦＣ処理装置の導入配管と第２のＰＦＣ処理装置の導出配管とを連結する連絡配管と、第２のＰＦＣ処理装置の導入配管と第１のＰＦＣ処理装置の導出配管とを連結する連絡配管とが設けられており、各配管にはそれぞれ開閉用バルブが設けられているＰＦＣ処理システム。
12. 請求項１〜１０のいずれかに記載のＰＦＣ処理装置又は請求項１１に記載のＰＦＣ処理システムを用いて行うＰＦＣ含有ガスの処理方法であって、
    上記処理剤配置部に、別に製造したＰＦＣ分解処理剤を充填し、ＰＦＣを含有するガスを装置本体に導入し、処理温度５５０〜８５０℃で処理することを特徴とするＰＦＣ含有ガスの処理方法。
13. 請求項１１に記載のＰＦＣ処理システムを用いるＰＦＣ含有ガスの処理方法であって、
    第１のＰＦＣ処理装置からの処理済みガスを第２のＰＦＣ処理装置に導入し、
    排ガスの除去率が所定値を下回った時点を検出して第１のＰＦＣ処理装置の稼働を停止し、新しいＰＦＣ分解処理剤に交換し、この交換の間、第２のＰＦＣ処理装置のみを稼働させ、
    交換完了後は、第２のＰＦＣ処理装置が上流側となり、新しいＰＦＣ分解処理剤を充填したＰＦＣ処理装置が下流側となるように各配管のバルブを切り替えて、続けて二段直列運転を行うことを特徴とするＰＦＣ含有ガスの処理方法。